電子線描画装置（でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置、EB(electronbeam)露光装置、ElectronBeamLithographyExposure）は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。
带电粒子束（Chargedparticlebeam（英语：Chargedparticlebeam））阴极射线（Cathoderay），或称电子射束（Electronbeam）离子射束（Ionbeam（英语：Ionbeam））在流体中的光射束（Lightbeam（英语：Lightbeam）），使用激光或同步辐射制出。