化学気相成長（CVD:chemicalvapordeposition、化学蒸着）の一種であり、熱エネルギーによる原料ガスの分解生成物や化学反応を利用することが特徴である。
混合物理化学气相沉积（HybridPhysical-ChemicalVaporDeposition，HPCVD）：一种气相沉积技术，包含化学分解前驱气体及蒸发固体源两种技术。