„ZAŁĄCZNIK I

Wykaz, o którym mowa w art. 3 niniejszego rozporządzenia

WYKAZ PRODUKTÓW PODWÓJNEGO-ZASTOSOWANIA

Niniejszy wykaz wprowadza kontrolę podwójnego zastosowania uzgodnioną na szczeblu międzynarodowym, w tym w ramach porozumienia z Wassenaar, Reżimu Kontrolnego Technologii Rakietowych, Grupy Dostawców Jądrowych, Grupy Australijskiej oraz Konwencji o zakazie prowadzenia badań, produkcji, składowania i użycia broni chemicznej oraz o zniszczeniu jej zapasów.

SPIS TREŚCI

Uwagi

Akronimy i skróty

Definicje

Kategoria 0 Materiały, instalacje i urządzenia jądrowe

Kategoria 1 Materiały specjalne i związane z nimi urządzenia

Kategoria 2 Przetwarzanie materiałów

Kategoria 3 Elektronika

Kategoria 4 Komputery

Kategoria 5 Telekomunikacja i „ochrona informacji”

Kategoria 6 Czujniki i lasery

Kategoria 7 Nawigacja i awionika

Kategoria 8 Urządzenia okrętowe

Kategoria 9 Kosmonautyka, aeronautyka, napęd

UWAGI OGÓLNE DO ZAŁĄCZNIKA I

1. W przypadku towarów, które są zaprojektowane lub zmodyfikowane do zastosowań wojskowych, należy sprawdzić także odpowiedni wykaz kontrolny uzbrojenia publikowany w danym państwie członkowskim. Odsyłacz, który mówi „ZOB. TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA”, odnosi się do tych wykazów.

2. Cel kontroli przewidzianej w niniejszym załączniku nie może być omijany przez eksportowanie jakichkolwiek towarów niepodlegających kontroli (łącznie z instalacjami) zawierających jeden lub więcej składników podlegających kontroli, gdy kontrolowany składnik lub składniki są zasadniczymi elementami tych towarów i możliwe jest ich wydzielenie lub zastosowanie do innych celów N.B. Przy rozstrzyganiu, czy kontrolowany składnik lub składniki mają być uważane za elementy zasadnicze, konieczne jest rozważenie czynników: ilości, wartości, zawartości technologicznego know-how i innych szczególnych okoliczności, które mogą zdecydować, że kontrolowany składnik lub składniki są zasadniczymi elementami dostarczanych towarów.

3. Towary wymienione w niniejszym załączniku obejmują zarówno towary nowe, jak i używane

4. W niektórych przypadkach podana jest nazwa i numer CAS chemikaliów. Wykaz ma zastosowanie do chemikaliów o tym samym wzorze strukturalnym (w tym do hydratów), niezależnie od nazwy i numeru CAS. Numery CAS są podane, by ułatwiać identyfikację danych chemikaliów lub mieszanin, bez względu na nomenklaturę. Numery CAS nie mogą być stosowane jako jedyne źródło informacji służące do identyfikacji chemikaliów, gdyż niektóre postacie wymienionych chemikaliów mają różne numery CAS, a mieszaniny zawierające chemikalia wymienione w wykazie mogą także mieć różne numery CAS.

UWAGA DO TECHNOLOGII JĄDROWEJ (UdTJ)

(Czytać łącznie z grupą E kategorii 0)

„Technologia” bezpośrednio związana z którymikolwiek towarami wymienionymi w kategorii 0 objęta jest kontrolą zgodnie z postanowieniami kategorii 0.

„Technologia” służąca „rozwojowi”, „produkcji” lub „użytkowaniu” towarów objętych kontrolą pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów nieobjętych taką kontrolą.

Zgoda na wywóz określonych towarów upoważnia również do wywozu do tego samego użytkownika minimalnej „technologii” wymaganej dla zainstalowania, eksploatacji, utrzymania i naprawy tych towarów.

Kontrole transferu „technologii” nie mają zastosowania do informacji „będących własnością publiczną” lub związanych z „podstawowymi badaniami naukowymi”.

UWAGA OGÓLNA DO TECHNOLOGII (UOdT)

(Czytać łącznie z grupą E kategorii od 1 do 9)

Wywóz „technologii”, która jest „niezbędna” do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów wymienionych w kategoriach od 1 do 9, podlega kontroli na warunkach podanych w każdej z tych kategorii.

„Technologia”, która jest „niezbędna” do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów objętych kontrolą pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów nieobjętych taką kontrolą.

Kontrolą nie obejmuje się minimalnej „technologii” wymaganej do zainstalowania, eksploatacji, utrzymania lub naprawy towarów niekontrolowanych lub takich, które uzyskały odrębnie zgodę na wywóz.

N.B. Powyższe nie zwalnia od kontroli „technologii” wymienionych w pozycjach 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a i 8E002.b.

Kontrola transferu „technologii” nie ma zastosowania do informacji „będących własnością publiczną”, związanych z „podstawowymi badaniami naukowymi” lub minimum informacji koniecznych przy składaniu wniosków patentowych.

UWAGA OGÓLNA DO OPROGRAMOWANIA (UOdO)

(Niniejsza uwaga jest nadrzędna w stosunku do kontroli określonych w grupie D kategorii od 0 do 9)

Kategorie 0 do 9 niniejszego wykazu nie obejmują kontrolą „oprogramowania”, będącego którymkolwiek z poniższych:

a. oprogramowanie jest ogólnie dostępne poprzez: 1. sprzedaż gotowego oprogramowania w punktach sprzedaży detalicznej bez żadnych ograniczeń w wyniku: a. bezpośrednich transakcji sprzedaży; b. transakcji realizowanych na zamówienie pocztowe; c. transakcji zawieranych drogą elektroniczną; lub d. transakcji zawieranych telefonicznie; oraz 2. przygotowanie do samodzielnej instalacji przez użytkownika bez konieczności dalszej znacznej pomocy ze strony sprzedawcy; N.B. Punkt a uwagi ogólnej do oprogramowania nie zwalnia od kontroli „oprogramowania” wymienionego w kategorii 5 – część 2 („Ochrona informacji”).

b. oprogramowanie jest uznawane za „będące własnością publiczną”; lub

c. jest minimalnym „kodem obiektu” wymaganym do zainstalowania, eksploatacji, utrzymania lub naprawy towarów, które uzyskały odrębnie zgodę na wywóz.

N.B. Punkt c uwagi ogólnej do oprogramowania nie zwalnia od kontroli „oprogramowania” wymienionego w kategorii 5 – część 2 („Ochrona informacji”).

UWAGA OGÓLNA DO „OCHRONY INFORMACJI” (UOdOI)

Elementy lub funkcje „ochrony informacji” należy rozpatrywać w kontekście postanowień kategorii 5 - część 2, nawet jeżeli stanowią one składniki, „oprogramowanie” lub funkcje innych obiektów.

PRAKTYKA REDAKCYJNA W DZIENNIKU URZĘDOWYM UNII EUROPEJSKIEJ

Zgodnie z zasadami określonymi w pkt 6.5 na str. 108 Międzyinstytucjonalnego przewodnika redakcyjnego (wydanie z 2015 r.) w tekstach w języku angielskim publikowanych w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej:

— do oddzielenia liczby całkowitej od wartości dziesiętnych używa się przecinka,

— liczby całkowite przedstawione są w seriach po trzy cyfry, przy czym serie oddzielone są spacją. W tekście zamieszczonym w niniejszym załączniku stosowane są wyżej wymienione zasady.

AKRONIMY I SKRÓTY UŻYWANE W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKU

Akronimy lub skróty użyte jako zdefiniowany termin znajdują się w „Definicjach terminów używanych w niniejszym załączniku”.

Akronim lub skrót znaczenie ABEC Komitet Inżynierów Łożysk Pierścieniowych ADC przetwornik analogowo-cyfrowy AGMA Amerykańskie Stowarzyszenie Producentów Przekładni AHRS układy informujące o położeniu i kursie AISI Amerykański Instytut Żelaza i Stali ALE epitaksja warstw atomowych ALU jednostka arytmetyczno-logiczna ANSI Amerykański Narodowy Instytut Normalizacji APP skorygowana wydajność szczytowa APU pomocnicze źródło zasilania ASTM Amerykańskie Towarzystwo Materiałoznawcze ATC kontrola ruchu lotniczego BJT bipolarne tranzystory mocy BPP iloczyn parametrów wiązki BSC sterownik stacji bazowych CAD projektowanie wspomagane komputerowo CAS Serwis Dokumentacji Chemicznej CCD matryca CCD CDU jednostka sterowania i wyświetlania CEP krąg równego prawdopodobieństwa CMM urządzenie do pomiaru współrzędnych CMOS uzupełniająca struktura metal-tlenek-półprzewodnik CNTD rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem CPLD złożone programowalne urządzenie logiczne CPU jednostka centralna (procesor) CVD osadzanie chemiczne z pary CW wojna chemiczna CW fala ciągła (w laserach) DAC przetwornik cyfrowo-analogowy DANL średni wyświetlany poziom szumu DBRN nawigacja oparta na informacjach z bazy danych DDS bezpośredni syntezer cyfrowy DMA dynamiczna analiza mechaniczna DME radiodalmierz DMOSFET dyfuzyjny tranzystor polowy o strukturze metal-tlenek-półprzewodnik DS ukierunkowane krzepnięcie EB eksplodujący zapłonnik mostkowy EB-PVD fizyczne osadzanie pary z wiązką elektronów EBW eksplodujące zapłonniki połączeń mostkowych ECM elektromechaniczne techniki obróbki EDM elektroiskrowe obrabiarki EEPROMS elektronicznie wymazywalna programowana pamięć tylko do odczytu EFI eksplodujące zapłonniki foliowe EIRP efektywna moc wypromieniowana izotropowo ERF elektroreologiczna obróbka wykańczająca ERP skuteczna moc promieniowania ETO tyrystor wyłączalny emiterem ETT tyrystor wyzwalany elektrycznie FADEC całkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami FFT szybka transformata Fouriera FPGA macierz bramek programowalna przez użytkownika FPIC połączenie wewnętrzne programowalne przez użytkownika FPLA matryca logiczna programowalna przez użytkownika FPO operacja zmiennoprzecinkowa FWHM szerokość pliku w połowie jego wysokości GSM globalny system łączności ruchomej GLONASS globalny system nawigacji satelitarnej GPS globalny system lokalizacji GNSS globalny system nawigacji satelitarnej GTO tyrystor wyłączalny prądem bramki HBT tranzystory heterobipolarne HEMT tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów ICAO Międzynarodowa Organizacja Lotnictwa Cywilnego IEC Międzynarodowa Komisja Elektrotechniczna IED improwizowane urządzenie wybuchowe IEEE Instytut Inżynierów Elektryki i Elektroniki IFOV chwilowe pole widzenia IGBT tranzystor bipolarny z izolowaną bramką IGCT tyrystor o komutowanej bramce IHO Międzynarodowa Organizacja Hydrograficzna ILS system lądowania na przyrządy IMU inercyjna jednostka pomiarowa INS inercyjny system nawigacyjny IP protokół internetowy IRS inercyjny system odniesienia IRU inercyjna jednostka odniesienia ISA międzynarodowa atmosfera wzorcowa ISAR radar z odwróconą syntezą apertury ISO Międzynarodowa Organizacja Normalizacyjna ITU Międzynarodowy Związek Telekomunikacyjny JT Joule-Thomson LIDAR radar optyczny LIDT próg uszkodzeń wywołanych laserem LOA długość całkowita LRU liniowy element wymienny MLS mikrofalowe systemy lądowania MMIC monolityczny mikrofalowy układ scalony MOCVD osadzanie z par lotnych związków metaloorganicznych MOSFET tranzystor polowy o strukturze metal-tlenek-półprzewodnik MPM mikrofalowy moduł mocy MRAM statyczna pamięć o dostępie swobodnym MRF magnetoreologiczna obróbka wykańczająca MRF rozmiar minimalnej rozdzielczości wymiarowej MRI tworzenie obrazów za pomocą rezonansu magnetycznego MTBF średni czas międzyawaryjny MTTF średni czas do awarii NA apertura liczbowa NDT badanie nieniszczące NEQ zawartość materiałów wybuchowych netto OAM eksploatacja, administrowanie lub utrzymywanie OSI połączenie systemów otwartych PAI poliamidoimidy PAR urządzenia radiolokacyjne dokładnego podejścia do lądowania PCL pasywna koherentna lokacja PIN osobisty numer identyfikacyjny PMR prywatne systemy radiowej łączności ruchomej PVD naparowywanie próżniowe ppm części na milion QAM modulacja kwadraturowa RAP plazmy atomów reaktywnych RF częstotliwość radiowa RNC sterownik sieci radiowej S-FIL narzędzia do litografii „step-and-flash” SAR radar z syntezą apertury SAS sonar z syntezą apertury SC monokryształ SCR prostownik tyrystorowy SFDR zakres dynamiki wolny od zafałszowań SHPL laser o superwysokiej mocy SLAR radar pokładowy obserwacji bocznej SOI krzem na izolatorze SPLD proste programowalne urządzenie logiczne SQUID nadprzewodzące urządzenie do interferencji kwantowej SRA warsztatowy zespół wymienny SRAM statyczna pamięć o dostępie swobodnym SSB pojedyncza wstęga boczna SSR radar wtórnego nadzorowania SSS boczny sonar skanujący TIR całkowity wskazany odczyt TVR odpowiedź na pobudzenie napięciowe UPR jednokierunkowa powtarzalność pozycjonowania UV nadfiolet UTS wytrzymałość na rozciąganie VJFET pionowy tranzystor polowy złączowy VOR radiolatarnia kierunkowa wysokiej częstotliwości WLAN lokalna sieć bezprzewodowa

DEFINICJE TERMINÓW UŻYWANYCH W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKU

Definicje terminów w ‘cudzysłowie pojedynczym’ podano w uwadze technicznej do odpowiedniej pozycji.

Definicje terminów w „cudzysłowie podwójnym” są następujące:

N.B. Odnośniki do kategorii podano w nawiasach po zdefiniowanym terminie.

„Dokładność” (2, 3, 6, 7, 8), zazwyczaj określana w kategoriach niedokładności, oznacza maksymalne odchylenie, dodatnie lub ujemne, danej wartości od uznanej wartości standardowej lub prawdziwej.

„Układy aktywnego sterowania lotem” (7) oznaczają układy zapobiegające niepożądanym ruchom lub obciążeniom konstrukcyjnym „statku powietrznego” lub pocisku rakietowego przez autonomiczne przetwarzanie sygnałów z wielu czujników i wydawanie niezbędnych poleceń do realizacji sterowania automatycznego.

„Piksel aktywny” (6) oznacza najmniejszy (pojedynczy) element sieci elementów półprzewodnikowych mający możliwość realizacji funkcji fotoelektrycznych w odpowiedzi na promieniowanie świetlne (elektromagnetyczne).

„Skorygowana wydajność szczytowa” (4) oznacza skorygowaną największą prędkość, z jaką „komputery cyfrowe” wykonują zmiennoprzecinkowe operacje dodawania i mnożenia na liczbach 64-bitowych lub dłuższych; wyraża się w teraflopsach ważonych (WT), jednostkach wynoszących 1012 skorygowanych operacji zmiennoprzecinkowych na sekundę.

N.B. Zob. kategoria 4, uwaga techniczna.

„Statek powietrzny” (1, 6, 7, 9) oznacza stałopłat, statek z obrotowymi skrzydłami, wiropłat (helikopter), statek ze zmiennym wirnikiem lub zmiennopłat.

N.B. Zob. również „cywilne statki powietrzne”.

„Pojazd powietrzny” (9) oznacza napędzany mechanicznie pojazd utrzymujący się w powietrzu dzięki korpusowi wypełnionemu gazem (zwykle helem, wcześniej wodorem), który jest lżejszy od powietrza.

„Wszystkie dostępne kompensacje” (2) - oznacza to, że uwzględniono wszystkie wykonalne środki, jakie może zastosować producent w celu zminimalizowania wszystkich systematycznych błędów pozycjonowania określonego modelu obrabiarki lub błędów pomiarowych określonego urządzenia do pomiaru współrzędnych.

„Przydzielone przez ITU” (3, 5) oznacza przydział pasm częstotliwości zgodnie z Przepisami Radiowymi ITU (International Telecommunication Union – Międzynarodowej Unii Telekomunikacyjnej) dla służb podstawowych, dopuszczonych i pomocniczych.

N.B. Nie obejmuje to przydziałów dodatkowych i alternatywnych.

„Odchylenie położenia kątowego” (2) oznacza maksymalną różnicę pomiędzy położeniem kątowym a rzeczywistym, bardzo dokładnie zmierzonym położeniem kątowym po obróceniu stołu montażowego w stosunku do jego położenia początkowego.

„Kąt błądzenia losowego” (7) oznacza narastanie błędu kątowego w czasie, spowodowane białym szumem w prędkości kątowej. (IEEE STD 528-2001)

„APP” (4) – zob. „Skorygowana wydajność szczytowa”.

„Algorytm asymetryczny” (5) oznacza algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się różne, powiązane matematycznie, klucze do szyfrowania i deszyfrowania.

N.B. Powszechnym zastosowaniem „algorytmu asymetrycznego” jest zarządzanie kluczami.

„Uwierzytelnienie” (5) oznacza sprawdzenie tożsamości użytkownika, procesu lub urządzenia, często jako warunek konieczny dla umożliwienia dostępu do zasobów w systemie informatycznym. Obejmuje to weryfikację źródła lub treści wiadomości lub innych informacji oraz wszystkie aspekty kontroli dostępu, gdzie nie występuje szyfrowanie plików lub fragmentów tekstów, z wyjątkiem tych bezpośrednio związanych z ochroną haseł, osobistych numerów identyfikacyjnych (PIN) lub podobnych danych stosowanych do ochrony przed nieuprawnionym dostępem.

„Automatyczne śledzenie celu” (6) oznacza technikę przetwarzania umożliwiającą automatyczne określanie i podawanie na wyjściu w czasie rzeczywistym ekstrapolowanej wartości najbardziej prawdopodobnego położenia celu.

„Przeciętna moc wyjściowa” (6) oznacza całkowitą energię wyjściową „lasera” wyrażoną w dżulach podzieloną przez czas emitowania pojedynczego impulsu lub serii kolejnych impulsów wyrażony w sekundach. Dla serii jednolicie rozmieszczonych impulsów jest ona równa całkowitej energii wyjściowej „lasera” w jednym impulsie wyrażonej w dżulach pomnożonej przez częstotliwość impulsów „lasera” wyrażonej w hercach.

„Opóźnienie sygnału bramki podstawowej” (3) oznacza wartość opóźnienia sygnału odpowiadającą bramce podstawowej, używanej w ‘rodzinie’„monolitycznych układów scalonych”. Można ją wyznaczyć dla danej ‘rodziny’„monolitycznych układów scalonych” jako opóźnienie sygnału na bramkę typową w ramach danej ‘rodziny’ lub jako typowe opóźnienie na bramkę w ramach danej ‘rodziny’.

N.B.1. Nie należy mylić „opóźnienia sygnału bramki podstawowej” z opóźnieniem wyjścia/wejścia złożonego „monolitycznego układu scalonego”.

N.B.2. Do ‘rodziny’ zalicza się wszystkie układy scalone, których metody produkcji i specyfikacje techniczne, z wyjątkiem ich odpowiednich funkcji, spełniają wszystkie następujące kryteria: a. wspólna architektura sprzętowa i oprogramowania; b. wspólna technologia projektowania i przetwarzania; oraz c. wspólne charakterystyki podstawowe.

„Podstawowe badania naukowe” (UOdT, UdTJ) oznaczają prace doświadczalne lub teoretyczne prowadzone głównie w celu uzyskania nowej wiedzy o podstawach danego zjawiska lub obserwowalnych jego efektach, nienakierowane bezpośrednio na konkretne cele lub zadania praktyczne.

„Wychylenie wstępne akcelerometru” (7) oznacza średnią wartość wskazywaną przez akcelerometr przez określony czas, mierzoną w określonych warunkach eksploatacyjnych i niewykazującą współzależności z przyspieszeniem wejściowym ani z wejściową prędkością obrotową. „Wychylenie wstępne akcelerometru” wyrażone jest w gramach lub w metrach na sekundę do kwadratu (g lub m/s2) (norma IEEE 528-2001) (mikrogram równy jest 1 × 10–6 g).

„Wychylenie wstępne żyroskopu” (7) oznacza średnią wartość wskazywaną przez żyroskop przez określony czas, mierzoną w określonych warunkach eksploatacyjnych i niewykazującą współzależności z wejściową prędkością obrotową ani z przyspieszeniem wejściowym. „Wychylenie wstępne żyroskopu” wyrażone jest z reguły w stopniach na godzinę (o/h). (Norma IEEE Std 528-2001).

„Czynniki biologiczne” (1) oznaczają patogeny lub toksyny, wybrane lub zmodyfikowane (np. poprzez zmianę czystości, dopuszczalnego okresu magazynowania, agresywności, charakterystyki propagacji lub odporności na promieniowanie nadfioletowe), by wywołać straty w ludności lub zwierzętach, unieszkodliwić sprzęt lub spowodować straty w uprawach rolnych lub środowisku.

„Bicie osiowe” (2) oznacza przemieszczenie osiowe wrzeciona głównego podczas jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do czoła wrzeciona, w punkcie sąsiadującym z obwodem czoła wrzeciona (zob. ISO 230 część 1-1986, pkt 5.63).

„Preformy włókien węglowych” (1) oznaczają uporządkowany układ powlekanych lub niepowlekanych włókien przeznaczony do tworzenia struktur składowych przed użyciem „matrycy” do tworzenia „materiału kompozytowego”.

„Laser chemiczny” (6) oznacza „laser”, w którym wzbudzanie czynnika następuje za pomocą energii pochodzącej z reakcji chemicznej.

„Mieszanina chemiczna” (1) oznacza produkt stały, płynny lub gazowy składający się z dwóch lub więcej składników, które nie reagują ze sobą w warunkach, w których mieszanina jest przechowywana.

„Krąg Równego Prawdopodobieństwa” („CEP”) (7) oznacza w kołowym rozkładzie normalnym promień okręgu zawierającego 50 % poszczególnych wyników pomiarów lub promień okręgu, w którym występuje 50 % prawdopodobieństwo, że obiekt zostanie zlokalizowany.

„Cyrkulacyjne układy równoważenia momentu lub cyrkulacyjne układy sterowania kierunkiem” (7) oznaczają układy, w których przepływ powietrza wokół powierzchni aerodynamicznych jest wykorzystywany do zwiększenia powstających na nich sił lub do kierowania nimi.

„Cywilne statki powietrzne” (1, 3, 4, 7) oznaczają „statki powietrzne” wymienione i określone przez organy lotnictwa cywilnego co najmniej jednego państwa członkowskiego UE lub państwa uczestniczącego w porozumieniu z Wassenaar w podawanych do wiadomości publicznej wykazach świadectw zdatności do lotu jako zdatne do użytkowania do komercyjnych celów cywilnych na liniach wewnętrznych i zewnętrznych lub do legalnych celów cywilnych, prywatnych lub związanych z prowadzeniem działalności gospodarczej.

N.B. Zob. również „statek powietrzny”.

„Mieszanie” (1) oznacza mieszanie włókien materiałów termoplastycznych z włóknami materiałów wzmacniających w celu wytworzenia mieszanki włókien wzmacniających z „matrycą”, mającej w całości formę włóknistą.

„Rozdrabnianie” (1) oznacza proces wprowadzania materiału w postać drobnocząstkową przez zgniatanie lub mielenie.

„Sterownik toru telekomunikacyjnego” (4) oznacza interfejs fizyczny sterujący przepływem cyfrowych informacji synchronicznych lub asynchronicznych. Jest to zespół, który może być wbudowany w komputer lub urządzenie telekomunikacyjne z zadaniem zapewniania dostępu do łączy telekomunikacyjnych.

„Systemy kompensacji” (6) składają się z głównego czujnika skalarnego, co najmniej jednego czujnika odniesienia (np. magnetometru wektorowego) wraz z oprogramowaniem zezwalającym na zmniejszenie szumu ruchu obrotowego korpusu sztywnego platformy.

„Materiał kompozytowy” (1, 2, 6, 8, 9) oznacza „matrycę” oraz dodatkową fazę lub dodatkowe fazy, składające się z cząstek, włókienek, włókien lub dowolnej ich kombinacji, dodawanych w określonym celu lub celach.

„Stół obrotowo-przechylny” (2) oznacza stół umożliwiający obracanie i przechylanie obrabianego przedmiotu względem dwóch osi nierównoległych, które mogą być równocześnie koordynowane, co umożliwia „sterowanie kształtowe”.

„Związki III/V” (3, 6) oznaczają substancje polikrystaliczne, binarne lub złożone substancje monokrystaliczne składające się z pierwiastków grupy IIIA i VA układu okresowego pierwiastków (np. arsenek galu, arsenek galu i glinu, fosforek indu).

„Sterowanie kształtowe” (2) oznacza co najmniej dwa ruchy „sterowane numerycznie”, realizowane zgodnie z instrukcjami określającymi następne położenie oraz potrzebne do osiągnięcia tego położenia prędkości posuwów. Prędkości posuwów nie są jednakowe, wskutek czego powstaje wymagany kształt (zob. ISO/DIS 2806 - 1980).

„Temperatura krytyczna” (1, 3, 5) (nazywana czasami „temperaturą przemiany”) danego materiału „nadprzewodzącego” jest temperaturą, w której materiał całkowicie traci oporność dla przepływu elektrycznego prądu stałego.

„Aktywacja kryptograficzna” (5) oznacza dowolną technikę, która aktywuje lub umożliwia funkcje kryptograficzne danego artykułu za pomocą bezpiecznego mechanizmu zastosowanego przez producenta tego artykułu, jeżeli mechanizm ten jest w sposób niepowtarzalny związany z dowolnym z poniższych:

1. pojedynczą sztuką danego artykułu; lub

2. jednym klientem w przypadku wielu sztuk artykułu.

Uwagi techniczne

1. Techniki i mechanizmy „aktywacji kryptograficznej” mogą być realizowane w postaci sprzętu, „oprogramowania” lub „technologii”.

2. Mechanizmem „aktywacji kryptograficznej” mogą być, na przykład, klucz licencyjny powiązany z numerem seryjnym lub instrumenty uwierzytelniające, jak np. certyfikat z podpisem cyfrowym.

„Kryptografia” (5) to dziedzina wiedzy zajmująca się zasadami, narzędziami i metodami przekształcania danych w celu ukrycia zawartych w nich informacji, zapobiegania możliwości niepostrzeżonego ich modyfikowania lub uniemożliwienia dostępu do nich osobom niepowołanym. „Kryptografia” ogranicza się do przekształcania informacji za pomocą jednego lub większej liczby ‘tajnych parametrów’ (np. szyfrów) lub związanego z tym zarządzania kluczami.

Uwaga: „Kryptografia” nie obejmuje ‘ustalonych’ technik kompresji ani kodowania danych.

Uwagi techniczne:

1. ‘Tajny parametr’: wartość stała lub klucz trzymany w tajemnicy przed osobami postronnymi lub znany wyłącznie pewnej grupie osób.

2. ‘Ustalony’ oznacza algorytm kodowania lub kompresji, który nie może akceptować parametrów dostarczonych z zewnątrz (np. zmiennych do szyfrowania lub kluczy) i nie może być modyfikowany przez użytkownika.

„Laser o fali ciągłej” (6) oznacza „laser” dający nominalnie stałą energię wyjściową w czasie dłuższym niż 0,25 s.

„Nawigacja na bazie danych z wielu źródeł” („DBRN”) (7) oznacza systemy oparte na danych z wielu źródeł uprzednio zmierzonych danych geograficznych zintegrowanych w celu uzyskania dokładnych informacji nawigacyjnych w warunkach dynamicznych. Do źródeł danych należą mapy batymetryczne, mapy nieba, mapy grawitacji, mapy magnetyczne lub trójwymiarowe cyfrowe mapy terenowe.

„Zwierciadła odkształcalne” (6) (określane również jako zwierciadła piezoelektryczne). Są to zwierciadła mające:

a. jedną ciągłą odbijającą powierzchnię optyczną, którą można dynamicznie odkształcać za pomocą pojedynczych momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło; lub

b. wiele odbijających elementów optycznych, które można oddzielnie i dynamicznie przemieszczać w inne położenie za pomocą działających na nie momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło.

„Uran zubożony” (0) oznacza uran, w którym zawartość izotopu 235 obniżono do ilości mniejszej niż w warunkach naturalnych.

„Rozwój” (wszystkie UOdT, UdTJ) odnosi się do wszystkich etapów poprzedzających produkcję seryjną, takich jak: projektowanie, badania projektowe, analiza projektowa, koncepcja projektowania, montaż i testowanie prototypów, plany produkcji pilotowej, dane projektowe, proces przetwarzania danych projektowych w produkt, projektowanie konfiguracji, projektowanie montażu całościowego, rozplanowanie.

„Zgrzewanie dyfuzyjne” (1, 2, 9) oznacza łączenie molekularne w stanie stałym co najmniej dwóch oddzielnych elementów metali w jeden element, przy czym wytrzymałość miejsca połączenia jest równa wytrzymałości najsłabszego z materiałów, a podstawowym mechanizmem jest interdyfuzja atomów na styku obu elementów.

„Komputer cyfrowy” (4, 5) oznacza urządzenie zdolne do wykonywania, w postaci jednej lub kilku zmiennych dyskretnych, wszystkich poniższych funkcji:

a. przyjmowanie danych;

b. zapamiętywanie danych lub instrukcji na trwałych lub nietrwałych (zapis usuwalny) urządzeniach pamięciowych;

c. przetwarzanie danych za pomocą zapamiętanej sekwencji instrukcji, którą można modyfikować; oraz

d. generowanie danych wyjściowych.

N.B. Modyfikacje zapamiętanej sekwencji instrukcji dotyczą wymiany trwałych urządzeń pamięciowych, ale nie fizycznych zmian przewodów lub połączeń.

„Szybkość transmisji danych cyfrowych” (def) oznacza całkowitą szybkość informacji w bitach, przesyłanych bezpośrednio na dowolnym typie nośnika.

N.B. Zob. także „całkowita szybkość transmisji danych cyfrowych”.

„Bezpośrednie wytłaczanie hydrauliczne” (2) oznacza technikę odkształcania, w której stosowana jest napełniona płynem odkształcalna poduszka, działająca bezpośrednio na powierzchnię obrabianego przedmiotu.

„Współczynnik dryftu (żyroskopu)” (7) oznacza składową wyjściową rotacji żyroskopu funkcjonalnie niezależną od rotacji wejściowej. Jest wyrażany jako prędkość kątowa. (Norma IEEE STD 528-2001).

„Gram efektywny” (0, 1) „specjalnego materiału rozszczepialnego” oznacza:

a. dla izotopów plutonu i uranu-233 – masę izotopu w gramach;

b. dla uranu wzbogaconego do poziomu 1 % lub więcej izotopu uranu-235 – masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez kwadrat jego wzbogacenia wyrażonego w postaci ułamka dziesiętnego udziału wagowego;

c. dla uranu wzbogaconego w izotop uranu-235 do poziomu poniżej 1 procenta – masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez 0,0001.

„Zespół elektroniczny” (2, 3, 4) oznacza pewną liczbę elementów elektronicznych (tj. ‘elementów obwodu’, ‘elementów dyskretnych’, układów scalonych itp.) połączonych ze sobą w celu realizacji określonej(- ych) funkcji, wymienialną w całości, która zazwyczaj może być demontowana.

N.B.1. ‘Element obwodu’: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

N.B.2. ‘Element dyskretny’: oddzielnie obudowany ‘element obwodu’ z własnymi końcówkami wyjściowymi.

„Sterowany elektronicznie układ antenowy fazowany” (5, 6) oznacza antenę kształtującą wiązkę za pomocą sprzężenia fazowego, tj. kierunek wiązki jest utrzymywany za pomocą elementów promieniujących o złożonych współczynnikach wzbudzenia, przy czym kierunek takiej wiązki (azymut lub podniesienie kątowe) można zmieniać za pomocą sygnału elektrycznego, zarówno dla nadawania, jak i odbioru.

„Materiały energetyczne” (1) oznaczają substancje lub mieszanki wchodzące w reakcje chemiczne, by uwolnić energię potrzebną do ich zamierzonego zastosowania. Podklasami materiałów energetycznych są „materiały wybuchowe”, „materiały pirotechniczne” i „paliwa”.

„Manipulatory” (2) obejmują uchwyty, ‘aktywne jednostki oprzyrządowania’ lub wszelkie inne oprzyrządowanie zamontowane na podstawowej (bazowej) płycie na końcu ramienia manipulacyjnego „robota”.

N.B. ‘Aktywne jednostki oprzyrządowania’: urządzenia do przyłożenia mocy napędowej, energii procesowej lub czujnika do przedmiotu obrabianego.

„Gęstość zastępcza” (6) oznacza masę elementu optycznego na jednostkę pola powierzchni optycznej rzutowanej na powierzchnię optyczną.

„Materiały wybuchowe” (1) oznaczają stałe, ciekłe lub gazowe substancje lub mieszaniny substancji, które mają za zadanie detonować w charakterze ładunku inicjującego, detonatora pośredniego lub ładunku głównego w głowicach bojowych, w robotach rozbiórkowych lub w innych zastosowaniach.

„Systemy FADEC” (9) oznaczają całkowicie autonomiczne systemy cyfrowego sterowania silnikami, czyli cyfrowe elektroniczne systemy sterowania silnikami turbospalinowymi, które są w stanie autonomicznie sterować tymi silnikami w całym zakresie ich pracy, od uruchamiania do wyłączania ich na żądanie, zarówno w warunkach ich normalnej, jak i nieprawidłowej pracy.

„Materiały włókniste lub włókienkowe” (0, 1, 8, 9) obejmują następujące pojęcia:

a. „włókna elementarne” o strukturze ciągłej;

b. „przędza” i „rowing” o strukturze ciągłej;

c. „taśmy”, tkaniny, maty i oploty o strukturze bezładnej;

d. włókna cięte na drobne kawałki, włókna pocięte na dłuższe odcinki oraz spójne maty z włókien;

e. wiskery, monokrystaliczne lub polikrystaliczne, o dowolnej długości;

f. pulpa z poliamidu aromatycznego.

„Układ scalony warstwowy” (3) oznacza układ ‘elementów obwodu’ i metalowych łączników, wytworzony techniką osadzania grubej lub cienkiej warstwy na „podłożu” o właściwościach izolujących.

N.B. ‘Element obwodu’: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

„Układ czujników optycznych sterowania lotem” (7) oznacza układ rozproszonych czujników optycznych, wykorzystujący promień „lasera” do dostarczania w czasie rzeczywistym danych dotyczących sterowania lotem w celu ich przetwarzania na pokładzie.

„Optymalizacja toru lotu” (7) oznacza procedurę minimalizującą odchylenia od czterowymiarowej (przestrzeń i czas) planowanej trajektorii lotu opartą na zasadzie maksymalizacji osiągów lub efektywności realizacji zadania.

„System Fly-by-light” (7) oznacza główny cyfrowy system kontroli lotu wykorzystujący informacje zwrotne do sterowania „statkiem powietrznym” w czasie lotu, w którym komendy do siłowników przekazywane są w formie sygnałów optycznych.

„System Fly-by-wire” (7) oznacza główny cyfrowy system kontroli lotu wykorzystujący informacje zwrotne do sterowania „statkiem powietrznym” w czasie lotu, w którym komendy do siłowników przekazywane są w formie sygnałów elektrycznych.

„Matryca detektorowa płaszczyzny ogniskowej” (6, 8) oznacza płaską warstwę o strukturze liniowej lub dwuwymiarowej lub połączenie takich płaskich warstw, złożonych z oddzielnych elementów detekcyjnych, z elektronicznym urządzeniem odczytującym lub bez, pracująca w płaszczyźnie ogniskowej.

N.B. Definicja ta nie obejmuje stosu pojedynczych elementów detekcyjnych ani detektorów dwu-, trzy- lub czteroelementowych, pod warunkiem że w elemencie nie są realizowane opóźnienie ani integracja.

„Ułamkowa szerokość pasma” (3, 5) oznacza „szerokość chwilową pasma” podzieloną przez częstotliwość środkową, wyrażoną w procentach.

„Rozrzucanie częstotliwości” (frequency hopping) (5, 6) oznacza formę „rozproszenia widma” polegającą na krokowo-dyskretnej zmianie częstotliwości nośnej pojedynczego kanału telekomunikacyjnego, w sposób losowy lub pseudolosowy.

„Metoda wyzwalania maską częstotliwości” (3), w „analizatorach sygnału”, oznacza mechanizm, w którym funkcja wyzwalania jest zdolna do wybrania zakresu częstotliwości, który ma być wyzwalany, jako podzbioru odbieranej szerokości pasma, ignorując inne sygnały, które również mogą być obecne w tej samej odbieranej szerokości pasma. „Metoda wyzwalania maską częstotliwości” może obejmować więcej niż jeden niezależny zbiór wartości granicznych.

„Czas przełączania częstotliwości” (3) oznacza czas (tj. opóźnienie), jakiego potrzebuje sygnał przy przełączaniu się z początkowej zgodnej ze specyfikacjami częstotliwości wyjściowej, by osiągnąć dowolną z poniższych wartości:

a. ±100 Hz zgodnej ze specyfikacjami końcowej częstotliwości wyjściowej wynoszącej mniej niż 1 GHz; lub

b. ±0,1 części na milion zgodnej ze specyfikacjami końcowej częstotliwości wyjściowej równej lub większej niż 1 GHz.

„Syntetyzator częstotliwości” (3) oznacza dowolny rodzaj źródła częstotliwości, bez względu na stosowaną technikę, zapewniający uzyskanie wielu równoczesnych lub naprzemiennych częstotliwości wyjściowych z jednego lub kilku wyjść, uzyskanych z mniejszej liczby częstotliwości wzorcowych (lub głównych) lub sterowanych lub regulowanych za ich pomocą.

„Ogniwo paliwowe” (8) oznacza urządzenie elektrochemiczne, które zużywając paliwo ze źródła zewnętrznego, przetwarza energię chemiczną bezpośrednio w prąd stały.

„Topliwy” (1) oznacza taki, który może być dalej sieciowany lub polimeryzowany (utwardzany) przy użyciu ciepła, promieniowania, katalizatora itd. lub stopiony bez pirolizy (zwęglania).

„Atomizacja gazowa” (1) oznacza proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 μm lub mniejszej za pomocą strumienia gazu o wysokim ciśnieniu.

„Rozrzucone geograficznie” (6) odnosi się do przypadku, kiedy każdy element znajduje się w odległości większej niż 1 500 m od innego w dowolnym kierunku. Czujniki ruchome są zawsze traktowane jako „rozrzucone geograficznie”.

„Instalacje do naprowadzania” (7) oznaczają systemy scalające proces pomiaru i obliczania położenia pojazdu i jego prędkości (tj. nawigację) z obliczeniami i wysyłaniem poleceń do systemów sterowania lotem pojazdu w celu skorygowania jego toru lotu.

„Izostatyczne zagęszczanie na gorąco” (2) oznacza technikę ciśnieniowania odlewu w temperaturach powyżej 375 K (102 °C) w zamkniętej formie za pomocą różnych czynników (gaz, ciecz, cząstki stałe itp.), której celem jest wytworzenie jednakowej siły we wszystkich kierunkach w celu zmniejszenia lub wyeliminowania jam wewnętrznych w odlewie.

„Hybrydowy układ scalony” (3) oznacza dowolne połączenie układu(- ów) scalonego(- ych) lub układu scalonego z ‘elementami układu’ lub ‘składnikami dyskretnymi’ połączonymi ze sobą w celu realizacji określonej(- ych) funkcji, mające wszystkie wymienione poniżej cechy:

a. posiada co najmniej jedno urządzenie nieobudowane;

b. zastosowano w nim typowe metody łączenia stosowane podczas produkcji układów scalonych;

c. można je wymieniać tylko w całości; oraz

d. w normalnych warunkach nie można go rozmontować.

N.B.1. ‘Element obwodu’: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

N.B. 2. ‘Element dyskretny’: oddzielnie obudowany ‘element obwodu’ z własnymi końcówkami wyjściowymi.

„Wzmacnianie obrazu” (4) oznacza przetwarzanie obrazów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą algorytmów, takich jak kompresja czasu, filtrowanie, ekstrahowanie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformacji Fouriera lub transformacji Walsha). Nie obejmuje kontrolą algorytmów, w których stosowane są wyłącznie przekształcenia liniowe lub obrotowe pojedynczego obrazu, takie jak przesunięcie, ekstrahowanie jakiejś cechy, rejestracja lub fałszywe barwienie.

„Immunotoksyna” (1) oznacza koniugat jednokomórkowego przeciwciała monoklonalnego i „toksyny” lub „podjednostki toksyny”, który wpływa selektywnie na komórki chorobowo zmienione.

„Będące własnością publiczną” (UOdT UdTJ UOdO), w odniesieniu do niniejszego dokumentu, oznacza „technologię” lub „oprogramowanie” dostępne bez żadnych ograniczeń co do ich dalszego rozpowszechniania (ograniczenia wynikające z praw autorskich nie wykluczają uznania „technologii” lub „oprogramowania” za „będące własnością publiczną”).

„Ochrona informacji” (UOdO UOdOI 5) oznacza wszystkie środki i funkcje zapewniające dostęp, poufność lub nienaruszalność informacji lub komunikacji, z wyłączeniem środków i funkcji mających zabezpieczać przed wadliwym działaniem. Obejmuje „kryptografię”, „aktywację kryptograficzną”, ‘kryptoanalizę’, ochronę przed przypadkowym przekazywaniem sygnałów odnoszących się do tajnych informacji oraz zabezpieczanie komputerów.

Uwaga techniczna:

‘Kryptoanaliza’: analiza systemów kryptograficznych lub ich wejść i wyjść w celu uzyskania tajnych informacji lub danych, włączając w to tajne teksty.

„Chwilowa szerokość pasma” (3, 5, 7) oznacza szerokość pasma, w którym moc wyjściowa pozostaje na stałym poziomie z dokładnością do 3 dB bez regulacji innych parametrów roboczych.

„Zasięg przyrządowy” (6) oznacza jednoznacznie określony zasięg radaru.

„Izolacja” (9) jest pojęciem stosowanym do podzespołów silnika rakietowego, tj. osłony, dyszy, wlotów, zamknięć osłon, obejmującym utrwalone lub półutrwalone maty kauczukowe zawierające materiał ogniotrwały lub izolacyjny. Można je również stosować na klatki lub klapy odprężające.

„Wykładzina wewnętrzna” (9) oznacza warstwę pośrednią pomiędzy paliwem stałym a obudową lub warstwą izolacyjną. Zazwyczaj jest to płynna polimerowa zawiesina materiału ogniotrwałego lub izolacyjnego, np. polibutadien z łańcuchami zakończonymi grupami hydroksylowymi (HTPB) wypełniony węglem lub inny polimer z dodatkiem środków utrwalających, rozpylonych lub rozsmarowanych na wewnętrznej powierzchni osłony.

„Miernik gradientu magnetycznego właściwego” (6) oznacza pojedynczy element do pomiaru gradientu pola magnetycznego oraz związane z nim urządzenia elektroniczne, służący do pomiaru gradientu pola magnetycznego.

N.B. Zob. również „Miernik gradientu magnetycznego”.

„Złośliwe oprogramowanie” (4) oznacza „oprogramowanie” specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu uniknięcia wykrycia przez ‘narzędzia monitorujące’ lub złamania ‘środków zabezpieczających’ komputera lub urządzenia zdolnego do pracy w sieci, wykonujące następujące działania:

a. pobieranie danych i informacji z komputera lub urządzenia zdolnego do pracy w sieci lub modyfikacja systemu lub danych użytkownika; lub

b. modyfikacja standardowych ścieżek wykonywania programu lub procesu w celu umożliwienia wykonania instrukcji pochodzących z zewnątrz.

Uwagi:

1. „Złośliwe oprogramowanie” nie obejmuje żadnego z poniższych pojęć: a. hiperwizorów, programów do usuwania błędów oraz narzędzi inżynierii wstecznej oprogramowania (Software Reverse Engineering - SRE); b. „oprogramowania” dotyczącego zarządzania prawami cyfrowymi; lub c. „oprogramowania” przeznaczonego do zainstalowania przez producentów, administratorów lub użytkowników do celów śledzenia lub znajdowania towarów.

2. Urządzenia zdolne do pracy w sieci obejmują urządzenia przenośne i inteligentne liczniki.

Uwagi techniczne:

1. ‘Narzędzia monitorujące’: „oprogramowanie” lub sprzęt monitorujące zachowanie systemu lub procesów wykonywanych na urządzeniu. Obejmuje to programy antywirusowe, produkty zapewniające bezpieczeństwo punktów końcowych, produkty bezpieczeństwa osobistego (Personal Security Products - PSP), systemy wykrywania wtargnięcia (Intrusion Detection Systems - IDS), systemy ochrony przed wtargnięciem (Intrusion Detection Systems - IPS) oraz zapory sieciowe.

2. ‘Środki zabezpieczające’: techniki opracowane w celu zapewnienia bezpiecznego wykonania kodu, takie jak Data Execution Prevention (DEP), Address Space Layout Randomisation (ASLR) lub sandboxing.

„Izolowane żywe kultury” (1) obejmują żywe kultury w postaci uśpionej i w postaci suchych preparatów.

„Prasy izostatyczne” (2) oznaczają urządzenia umożliwiające ciśnieniowanie zamkniętych komór za pomocą różnych czynników roboczych (gazu, cieczy, cząstek stałych itp.) w celu wytwarzania w komorze we wszystkich kierunkach równych ciśnień na obrabiany element lub materiał.

„Laser” (0, 1, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9) oznacza obiekt, który wytwarza wiązkę światła spójnego w przestrzeni i w czasie przez wzmocnienie za pomocą stymulowanej emisji promieniowania.

N.B. Zob. również „Laser chemiczny” „Laser o fali ciągłej” „Laser impulsowy” „Laser o super wysokiej mocy” „Laser z przekazaniem energii”.

„Biblioteka” (1) (parametryczna techniczna baza danych) oznacza zbiór informacji technicznych, do których odniesienie może zwiększyć wydajność odpowiednich systemów, urządzeń i części składowych.

„Pojazdy lżejsze od powietrza” (9) oznaczają balony i „pojazdy powietrzne”, które są wypełniane gorącym powietrzem lub innymi gazami lżejszymi od powietrza, takimi jak hel lub wodór.

„Liniowość” (2) (zazwyczaj określana w kategoriach nieliniowości) stanowi maksymalne odchylenie parametru rzeczywistego (przeciętnej wartości górnego i dolnego odczytu na skali), w kierunku dodatnim lub ujemnym, od linii prostej poprowadzonej w taki sposób, żeby maksymalne odchylenia zostały wyrównane i zminimalizowane.

„Sieć lokalna” (4, 5) oznacza system przesyłania danych mający wszystkie następujące cechy:

a. umożliwiający bezpośrednie połączenie ze sobą dowolnej liczby niezależnych ‘urządzeń do przetwarzania danych’; oraz

b. ograniczony w sensie geograficznym do pewnego obszaru o umiarkowanym zasięgu (np. biurowiec, zakład, miasteczko studenckie, magazyn).

N.B. ‘Urządzenie do przetwarzania danych’: urządzenie mające możliwość nadawania lub odbierania ciągów informacji cyfrowych.

„Mierniki gradientu magnetycznego” (6) oznaczają przyrządy do wykrywania zmian przestrzennych pól magnetycznych ze źródeł zewnętrznych w stosunku do przyrządu pomiarowego. Składają się z wielu „magnetometrów” i przynależnych układów elektronicznych, służących do pomiaru gradientu pola magnetycznego.

N.B. Zob. również „Miernik gradientu magnetycznego właściwego”.

„Magnetometry” (6) oznaczają przyrządy do wykrywania pól magnetycznych źródeł zewnętrznych względem przyrządu pomiarowego. Składają się z pojedynczego czujnika pola magnetycznego i odpowiedniego układu elektronicznego, na którego wyjściu jest wartość mierzonego pola magnetycznego.

„Pamięć operacyjna” (4) oznacza podstawową pamięć na dane lub instrukcje szybko dostępną dla jednostki centralnej. Składa się z pamięci wewnętrznej „komputera cyfrowego” oraz jednej z dodatkowych pamięci o strukturze hierarchicznej, takich jak pamięć podręczna (cache) lub pamięć dodatkowa z dostępem niesekwencyjnym.

„Materiały odporne na korozyjne działanie UF6” (0) obejmują miedź, stopy miedzi, stal nierdzewną, glin, tlenek glinu, stopy glinu, nikiel lub stopy zawierające 60 % masy lub więcej niklu oraz fluorowane polimery węglowodorowe.

„Matryca” (1, 2, 8, 9) oznacza fazę o strukturze w zasadzie ciągłej wypełniającą przestrzeń pomiędzy cząstkami, wiskerami lub włóknami.

„Niepewność pomiarowa” (2) oznacza parametr charakterystyczny określający, na poziomie ufności 95 %, w jakiej odległości od wartości prawidłowej leży zmienna pomiarowa. W jego skład wchodzą niedające się skorygować odchylenia systematyczne, niedający się skorygować luz oraz odchylenia losowe (zob. ISO 10360-2).

„Stapianie mechaniczne” (1) oznacza technikę wykonywania stopów polegającą na mechanicznym łączeniu, kruszeniu i ponownym łączeniu sproszkowanych pierwiastków i głównego składnika stopowego. Przez dodawanie odpowiednich proszków można wprowadzać do stopu cząstki niemetaliczne.

„Formowanie ekstrakcyjne z fazy stopionej” (1) oznacza technikę ‘gwałtownego krzepnięcia’ i ekstrahowania wyrobu stopowego podobnego do wstęgi, polegającą na zanurzaniu krótkiego odcinka wirującego chłodzonego bloku w wannie stopionego stopu metalowego.

N.B. ‘Gwałtowne krzepnięcie’: krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s.

„Formowanie rotacyjne z fazy stopionej” (1) oznacza technikę ‘gwałtownego krzepnięcia’ polegającą na uderzaniu strumienia stopionego metalu w wirujący chłodzony blok, wskutek czego powstaje wyrób w postaci płatków, wstęgi lub pręcików.

N.B. ‘Gwałtowne krzepnięcie’: krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s.

„Układ mikrokomputerowy” (3) oznacza „monolityczny układ scalony” lub „wieloukład scalony”, w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji instrukcji ogólnych, zawartych w pamięci wewnętrznej, na danych znajdujących się w pamięci wewnętrznej.

N.B. Pamięć wewnętrzna może być wspomagana przez pamięć zewnętrzną.

„Układ mikroprocesorowy” (3) oznacza „monolityczny układ scalony” lub „wieloukład scalony”, w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji szeregu instrukcji ogólnych zawartych w pamięci zewnętrznej.

N.B.1. „Układ mikroprocesorowy” zazwyczaj nie jest wyposażony w integralną pamięć dostępną dla użytkownika, ale do realizacji jego funkcji logicznych może być wykorzystywana pamięć istniejąca w mikroukładzie.

N.B.2. Definicja ta obejmuje zespoły układów przeznaczone do pracy razem, w celu realizacji funkcji „układu mikroprocesorowego”.

„Mikroorganizmy” (1, 2) oznaczają bakterie, wirusy, mikoplazmy, riketsje, chlamydie lub grzyby, naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci „izolowanych żywych kultur” lub materiału zawierającego żywe organizmy, który rozmyślnie zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami.

„Pociski rakietowe” (1, 3, 6, 7, 9) oznaczają kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych, zdolne do przenoszenia ładunku użytecznego o masie co najmniej 500 kg na odległość co najmniej 300 km.

„Włókno elementarne” (lub – włókno) (1) oznacza najmniejszy inkrement włókna, zazwyczaj mający średnicę kilku mikrometrów.

„Monolityczny układ scalony” (3) oznacza połączenie ‘elementów obwodu’ czynnych lub biernych lub obu rodzajów, o następujących cechach charakterystycznych:

a. jest uformowane techniką dyfuzyjną, technikami implantacyjnymi lub technikami osadzania w pojedynczym półprzewodzącym kawałku materiału, tzw. chipie, lub na nim;

b. można je traktować jak element niepodzielny; oraz

c. realizuje funkcję(- e) obwodu.

N.B. ‘Element obwodu’: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

„Monolityczny mikrofalowy układ scalony” („MMIC”) (3, 5) oznacza „monolityczny układ scalony” działający w częstotliwościach mikrofal i fal milimetrowych.

„Monospektralne czujniki obrazowe” (6) oznaczają czujniki pozwalające na zbieranie danych obrazowych z pojedynczego pasma widma dyskretnego.

„Wieloukład scalony” (3) oznacza dwa lub więcej „monolityczne układy scalone”, spojone ze wspólnym „podłożem”.

„Wielospektralne analizatory obrazowe” (6) umożliwiają równoczesne lub szeregowe odbieranie danych obrazowych z dwóch lub więcej dyskretnych pasm spektralnych. Analizatory o więcej niż dwudziestu dyskretnych pasmach spektralnych są czasami nazywane hiperspektralnymi analizatorami obrazowymi.

„Uran naturalny” (0) oznacza uran zawierający mieszaninę izotopów występujących w naturze.

„Sterownik dostępu do sieci” (4) oznacza interfejs fizyczny do sieci rozproszonej. Używa się w nim wspólnego nośnika działającego z taką samą „szybkością transmisji danych cyfrowych” w systemie transmisji z arbitrażem (np. w sensie znacznika lub nośnika). Niezależnie od innych wybiera on adresowane do niego pakiety z danymi lub grupami danych (np. IEEE 802). Jest to zespół, który może być wbudowany w komputer lub urządzenie telekomunikacyjne z zadaniem zapewniania dostępu do łączy telekomunikacyjnych.

„Komputer neuronowy” (4) oznacza urządzenie obliczeniowe zaprojektowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do naśladowania działalności neuronu lub zbioru neuronów, tj. urządzenie obliczeniowe wyróżniające się możliwością sprzętowego modulowania znaczenia i liczby połączeń pomiędzy wieloma elementami obliczeniowymi w oparciu o poprzednie dane.

„Reaktor jądrowy” (0) oznacza kompletny reaktor zdolny do pracy w taki sposób, żeby mogła w nim przebiegać kontrolowana, samopodtrzymująca się reakcja łańcuchowa rozszczepiania. „Reaktor jądrowy” obejmuje wszystkie obiekty znajdujące się wewnątrz zbiornika reaktora lub bezpośrednio przymocowane do niego, wyposażenie sterujące poziomem mocy w rdzeniu oraz elementy, które zazwyczaj zawierają chłodziwo pierwotne rdzenia reaktora lub wchodzą z nim w bezpośrednią styczność lub nim sterują.

„Sterowanie numeryczne” (2) oznacza automatyczne sterowanie procesem wykonywane przez urządzenie korzystające z danych numerycznych zazwyczaj wprowadzanych podczas realizacji operacji (zob. ISO 2382).

„Kod wynikowy” (UOdO) oznacza sprzętowo wykonywalną postać wygodnego wyrażenia jednego lub większej liczby procesów („kod źródłowy” (język źródłowy)), które zostały skompilowane przez system programowania.

„Eksploatacja, administrowanie lub utrzymywanie” („EAU”) (5) oznacza wykonywanie co najmniej jednego z następujących zadań:

a. utworzenie dowolnego z następujących elementów lub zarządzanie nim: 1. konta lub uprawnienia użytkowników lub administratorów; 2. ustawienia danego przedmiotu; lub 3. dane uwierzytelniające wykorzystywane w przypadku zadań opisanych w pkt a.1. lub a.2.;

b. monitorowanie warunków pracy lub wydajności przedmiotu bądź zarządzanie nimi; lub

c. zarządzanie danymi logowania lub audytu wykorzystywane w przypadku dowolnych zadań opisanych w pkt a. lub b.;

Uwaga: „EAU” nie obejmuje żadnego z następujących zadań lub powiązanych z nimi kluczowych funkcji zarządzania: a. udostępniania lub ulepszania jakiejkolwiek funkcji kryptograficznej, która nie jest bezpośrednio powiązana z tworzeniem danych uwierzytelniających wykorzystywanych w przypadku zadań opisanych w pkt a.1. lub a.2. powyżej lub z zarządzaniem nimi; lub b. realizowania jakiejkolwiek funkcji kryptograficznej w ramach warstwy przesyłu danych produktu.

„Komputer optyczny” (4) oznacza komputer zaprojektowany lub zmodyfikowany z przeznaczeniem do używania światła jako nośnika danych oraz taki, którego elementy obliczeniowo-logiczne działają bezpośrednio na sprzężonych urządzeniach optycznych.

„Optyczny układ scalony” (3) oznacza „monolityczny układ scalony” lub „hybrydowy układ scalony”, zaopatrzony w co najmniej jedną część przeznaczoną do działania jako fotoczujnik lub fotoemiter lub do wykonywania funkcji optycznych lub elektrooptycznych.

„Komutacja optyczna” (5) oznacza przekazywanie lub komutację sygnałów w postaci optycznej bez przetwarzania na sygnały elektryczne.

„Całkowita gęstość prądu” (3) oznacza całkowitą liczbę amperozwojów w cewce (tj. sumę liczby zwojów pomnożoną przez maksymalne natężenie prądu przenoszone przez każdy zwój) podzieloną przez całkowity przekrój poprzeczny cewki (składającej się z włókienek nadprzewodzących, matrycy metalowej, w której osadzone są włókienka nadprzewodzące, materiału stanowiącego obudowę, kanałów chłodzących itp.).

„Państwo uczestniczące” (7, 9) oznacza każde z państw uczestniczących w porozumieniu z Wassenaar (zob. www.wassenaar.org).

„Moc szczytowa” (6) oznacza najwyższy poziom mocy osiągany w „czasie trwania impulsu”.

„Sieć osobista” (5) oznacza system przesyłania danych mający wszystkie następujące cechy:

a. umożliwiający bezpośrednie połączenie ze sobą dowolnej liczby niezależnych ‘urządzeń do przetwarzania danych’; oraz

b. ograniczony do łączności między urządzeniami w bezpośrednim sąsiedztwie osoby fizycznej lub kontrolera urządzeń (np. pojedyncze pomieszczenie, biuro lub samochód oraz ich bezpośrednie otoczenie).

Uwaga techniczna:

‘Urządzenie do przetwarzania danych’: urządzenie mające możliwość nadawania lub odbierania ciągów informacji cyfrowych.

„Atomizacja plazmowa” (1) oznacza proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 μm lub mniejszej przy zastosowaniu pochodni plazmowych w atmosferze gazów obojętnych.

„Sterowanie mocą” (7) oznacza zmianę mocy sygnału nadawanego przez wysokościomierz w taki sposób, żeby moc odbierana w „statku powietrznym” na danej wysokości była zawsze na minimalnym poziomie niezbędnym do określenia wysokości.

„Uprzednio separowany” (0, 1) oznacza oddzielony dowolną techniką, której celem jest zwiększenie zawartości kontrolowanego izotopu.

„Podstawowe sterowanie lotem” (7) oznacza sterowanie stabilnością i manewrowością „statku powietrznego” za pomocą generatorów siły lub momentu, tj. za pomocą aerodynamicznych powierzchni sterujących lub sterowania wektorem ciągu.

„Element o podstawowym znaczeniu” (4) w odniesieniu do kategorii 4 jest „elementem o podstawowym znaczeniu”, jeżeli wartość jego wymiany stanowi ponad 35 % całkowitej wartości systemu, w którego skład wchodzi. Wartość elementu jest ceną płaconą za element przez producenta systemu lub przez firmę montującą system. Wartość całkowita jest zwykłą ceną sprzedaży osobom postronnym w miejscu produkcji lub w miejscu przygotowywania wysyłek towarów.

„Produkcja” (Wszystkie UOdT, UdTJ) oznacza wszystkie etapy związane z produkcją, takie jak: prace konstrukcyjne, technologia produkcji, wytwarzanie, scalanie, montaż (składanie), kontrola, testowanie, zapewnienie jakości.

„Urządzenia produkcyjne” (1, 7, 9) oznaczają oprzyrządowanie, szablony, przyrządy obróbkowe, trzpienie, formy, matryce, uchwyty, mechanizmy synchronizujące, urządzenia testujące, inne maszyny i ich części składowe, z ograniczeniem do urządzeń specjalnie zaprojektowanych lub zmodyfikowanych z przeznaczeniem do „rozwoju” lub do jednej lub więcej faz „produkcji”.

„Instalacje produkcyjne” (7, 9) oznaczają „urządzenia produkcyjne” i specjalnie do nich opracowane oprogramowanie, wbudowane w instalacje w celu „rozwoju” lub do jednej lub więcej faz „produkcji”.

„Program” (2, 6) oznacza sekwencję instrukcji do realizacji procesu, mającą postać wykonywalną lub dającą się przekształcić na wykonywalną przez komputer elektroniczny.

„Kompresja impulsów” (6) oznacza kodowanie i przetwarzanie długiego impulsowego sygnału radarowego na krótki, przy zachowaniu korzyści wynikających z wysokiej energii impulsu.

„Czas trwania impulsu” (6) oznacza czas trwania impulsu „lasera” zdefiniowany jako czas upływający między momentami osiągnięcia połowy mocy przez zbocze narastające i zbocze opadające poszczególnego impulsu.

„Laser impulsowy” (6) oznacza „laser”, w którym „czas trwania impulsu” jest równy lub mniejszy niż 0,25 s.

„Kryptografia kwantowa” (5) oznacza grupę technik pozwalających uzyskiwać wspólny klucz do celów „kryptografii” poprzez pomiar własności kwantowych układu fizycznego (w tym własności fizycznych jawnie zależnych od praw optyki kwantowej, kwantowej teorii pola lub elektrodynamiki kwantowej).

„Ruchliwość częstotliwości w radarach” (6) oznacza dowolną technikę zmiany, wg sekwencji pseudolosowej, częstotliwości nośnej impulsowego nadajnika radarowego pomiędzy impulsami lub pomiędzy grupami impulsów, o wartość równą lub większą od szerokości pasma impulsu.

„Rozproszone widmo radarowe” (6) oznacza dowolną technikę modulacji służącą do rozpraszania energii sygnału o stosunkowo wąskim paśmie częstotliwości na dużo szersze pasmo częstotliwości, za pomocą kodowania losowego lub pseudolosowego.

„Czułość promieniowania” (6) oznacza czułość promieniowania (mA/W) = 0,807 x (długość fali w nm) x sprawność kwantowa (QE).

Uwaga techniczna:

Sprawność kwantową wyraża się zwykle w postaci procentowej; jednakże do celów niniejszego wzoru sprawność kwantowa wyrażona jest jako liczba dziesiętna mniejsza niż jeden, np. 78 % to 0,78.

„Szerokość pasma czasu rzeczywistego” (3), w „dynamicznych analizatorach sygnałów”, oznacza największy zakres częstotliwości, dla jakiego analizator może przekształcać w trybie ciągłym dane z domeny czasowej całkowicie w wyniki z domeny częstotliwości za pomocą transformacji Fouriera lub innej dyskretnej w czasie transformacji, która przetwarza każdy przychodzący punkt czasu bez powodowanego przez przerwy lub efekty okna (windowing) zmniejszania się mierzonej amplitudy o więcej niż 3 dB poniżej rzeczywistej amplitudy sygnału, i może jednocześnie wydać i wyświetlić przekształcone dane.

„Przetwarzanie w czasie rzeczywistym” (6) oznacza przetwarzanie danych przez system komputerowy, zapewniające żądany poziom realizacji zadań w funkcji dostępnych środków, w gwarantowanym czasie odpowiedzi, bez względu na obciążenie systemu, kiedy jest on stymulowany przez wydarzenia zewnętrzne.

„Powtarzalność” (7) oznacza stopień zgodności powtarzanych pomiarów tej samej zmiennej w tych samych warunkach operacyjnych w sytuacji, gdy pomiędzy pomiarami występują zmiany warunków lub przerwy w działaniu (zob. IEEE STD 528-2001 (odchylenie standardowe wielkości 1 sigma)).

„Niezbędne” (UOdT 5, 6, 7, 9) – w odniesieniu do „technologii” – dotyczy tylko tej części „technologii”, która jest szczególnie odpowiedzialna za osiągnięcie lub przekroczenie wartości parametrów, właściwości lub funkcji objętych kontrolą. Taka „niezbędna”„technologia” może być wspólna dla różnych produktów.

„Rozdzielczość” (2) oznacza najmniejszą działkę urządzenia pomiarowego; w przyrządach cyfrowych jest to najmniej znaczący bit (zob. ANSI B-89-1.12).

„Środek rozpraszania tłumu” (1) oznacza substancje, które w warunkach użycia dla rozproszenia tłumu szybko wywołują u ludzi podrażnienie receptorów zmysłów lub psychiczny efekt unieszkodliwienia, znikający po krótkim czasie od usunięcia przyczyny.

Uwaga techniczna:

Gazy łzawiące stanowią podzbiór „środków rozpraszania tłumu”.

„Robot” (2, 8) oznacza mechanizm manipulacyjny poruszający się po ścieżce ciągłej lub od punktu do punktu, mogący korzystać z „czujników” i mający wszystkie następujące cechy:

a. jest wielofunkcyjny;

b. ma możliwość ustawiania w odpowiednim położeniu lub orientowania przestrzennego materiałów, części, narzędzi lub urządzeń specjalnych poprzez wykonywanie zmiennych ruchów w przestrzeni trójwymiarowej;

c. jest wyposażony w trzy lub większą liczbę mechanizmów wspomagających, m.in. silników krokowych, pracujących w obwodzie zamkniętym lub otwartym; oraz

d. ma „możliwość programowania przez użytkownika” metodą uczenia/odtwarzania lub za pomocą komputera elektronicznego, który może być programowanym sterownikiem logicznym, tj. bez ingerencji mechanicznej.

N.B. Niniejsza definicja nie obejmuje kontrolą następujących urządzeń: 1. mechanizmów poruszanych wyłącznie ręcznie lub zdalnie przez operatora; 2. mechanizmów manipulacyjnych o ustalonej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejność ruchów oraz wybór drogi lub kątów nie są zmienne ani zmienialne za pomocą środków mechanicznych, elektronicznych lub elektrycznych; 3. mechanizmów manipulacyjnych o ustalonej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych, choć nastawnych, ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejność ruchów oraz wybór drogi lub kątów są zmienne w ramach ustalonego schematu programowego. Zmian lub modyfikacji schematu programowego (np. zmiany kołków lub wymiany krzywek) w jednej lub kilku osiach współrzędnych dokonuje się wyłącznie na drodze działań mechanicznych; 4. mechanizmów manipulacyjnych bez wspomagania, o zmiennej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie ruchy. Program jest zmienny, ale sekwencja jest realizowana wyłącznie za pomocą sygnału binarnego z elektrycznych urządzeń binarnych o ustalonym mechanicznie położeniu lub nastawnych ograniczników; 5. żurawi do stertowania, definiowanych jako systemy manipulatorów działające w kartezjańskim układzie współrzędnych, produkowanych jako integralne części pionowych zespołów do silosów, i służące do uzyskiwania dostępu do zawartości tych silosów w celu składowania lub wyjmowania.

„Atomizacja rotacyjna” (1) oznacza proces rozpylania strumienia lub jeziorka stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 μm lub mniejszej za pomocą siły odśrodkowej.

„Rowing” (1) oznacza wiązkę (zazwyczaj 12-120 szt.) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle ‘skrętek’.

N.B. ‘Skrętka’ oznacza wiązkę „włókien elementarnych” (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

„Bicie promieniowe” (odchylenie od właściwego ruchu) (2) oznacza promieniowe przemieszczenie głównego wrzeciona w ciągu jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do osi wrzeciona w punkcie znajdującym się na zewnętrznej lub wewnętrznej badanej powierzchni obrotowej (zob. ISO 230 część 1-1986, pkt 5.61).

„Współczynnik skalowania (żyroskopu lub akcelerometru)” (7) oznacza stosunek zmiany wartości wyjściowej do zmiany wartości wejściowej, która ma być mierzona. Współczynnik skalowania jest na ogół szacowany jako nachylenie linii prostej, którą można poprowadzić metodą najmniejszych kwadratów pomiędzy punktami określającymi parametry wejściowe/wyjściowe, uzyskanymi poprzez cykliczną zmianę parametrów wejściowych w przedziale ich wartości.

„Czas ustalania” (3) oznacza czas, jaki podczas przełączania przetwornika z jednego poziomu na drugi potrzebny jest do otrzymania na wyjściu wartości różniącej się o połowę bitu od wartości końcowej.

„Analizatory sygnałów” (3) oznaczają urządzenia do pomiaru i pokazywania podstawowych parametrów sygnałów o jednej częstotliwości, będących składowymi sygnałów wieloczęstotliwościowych.

„Przetwarzanie sygnałów” (3, 4, 5, 6) oznacza przetwarzanie sygnałów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą algorytmów, takich jak kompresja czasu, filtrowanie, ekstrahowanie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformacji Fouriera lub transformacji Walsha).

„Oprogramowanie” (cała UOdO) oznacza zbiór jednego lub większej liczby „programów” lub ‘mikroprogramów’, utrwalony na dowolnym materialnym nośniku.

N.B. ‘Mikroprogram’ oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwołania.

„Kod źródłowy” (lub język źródłowy) (6, 7, 9) oznacza wygodny sposób wyrażenia jednego lub kilku procesów, który może być przekształcony przez system programowania w postać dającą się wykonać na urządzeniu („kod wynikowy” (lub język wynikowy)).

„Statek kosmiczny” (9) oznacza czynne i bierne satelity i sondy kosmiczne.

„Moduł ładunkowy statku kosmicznego” (9) oznacza urządzenie, które stanowi strukturę nośną „statku kosmicznego” i zapewnia miejsce dla „ładunku użytecznego statku kosmicznego”.

„Ładunek użyteczny statku kosmicznego” (9) oznacza urządzenia przymocowane do „modułu ładunkowego statku kosmicznego”, zaprojektowane do przeprowadzania misji w kosmosie (np. wyposażenie komunikacyjne, obserwacyjne, naukowe).

„Klasy kosmicznej” (3, 6, 7) - odnosi się do produktów zaprojektowanych, wykonanych lub po pomyślnych testach zakwalifikowanych do użycia na wysokości powyżej 100 km nad powierzchnią Ziemi.

N.B. Stwierdzenie na podstawie testu, że konkretny przedmiot jest „klasy kosmicznej”, nie oznacza, że inne przedmioty z tej samej partii produkcyjnej lub serii modelu są „klasy kosmicznej”, jeżeli nie przeszły one indywidualnych testów.

„Specjalny materiał rozszczepialny” (0) oznacza pluton-239, uran-233, „uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233” oraz dowolne zawierające je materiały.

„Moduł właściwy” (0, 1, 9) oznacza moduł Younga w paskalach (1 paskal = 1 N/m2) podzielony przez ciężar właściwy w N/m3, mierzony w temperaturze (296 + 2) K ((23 + 2) °C) i przy wilgotności względnej (50 + 5) %.

„Wytrzymałość właściwa na rozciąganie” (0, 1, 9) oznacza wytrzymałość na rozciąganie w paskalach (1 paskal = 1 N/m2) podzieloną przez ciężar właściwy w N/m3, mierzoną w temperaturze (296 + 2) K ((23 + 2) °C) i przy wilgotności względnej (50 + 5) %.

„Żyroskopy wirujące” (7) to żyroskopy wykorzystujące stale obracającą się masę do wykrywania ruchu obrotowego.

„Chłodzenie ultraszybkie” (1) oznacza technikę ‘gwałtownego krzepnięcia’ polegającą na uderzaniu stopionego strumienia metalu w chłodzony blok, w wyniku czego powstaje produkt w postaci płatków.

N.B. ‘Gwałtowne krzepnięcie’: krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s.

„Widmo rozproszone” (5) oznacza technikę służącą do rozpraszania energii sygnału o stosunkowo wąskim paśmie częstotliwości na dużo szersze widmo energii.

Radar o „widmie rozproszonym” (6) - zob. „Rozproszone widmo radarowe”.

„Stabilność” (7) oznacza odchylenie standardowe (1 sigma) zmienności danego parametru od jego wartości wzorcowej zmierzonej w ustalonych warunkach temperaturowych. Można ją wyrażać w funkcji czasu.

„Państwa (nie)będące stronami konwencji o zakazie broni chemicznej” (1) są to te państwa, w których Konwencja o zakazie rozwijania, produkcji, składowania i stosowania broni chemicznej (nie) weszła w życie. (zob. www.opcw.org)

„Podłoże” (3) oznacza płytkę materiału głównego z naniesionymi połączeniami lub bez nich, na której lub wewnątrz której można umieszczać ‘elementy dyskretne’ lub układy scalone.

N.B.1. ‘Element dyskretny’: oddzielnie obudowany ‘element obwodu’ z własnymi końcówkami wyjściowymi.

N.B.2. ‘Element obwodu’: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

„Półprodukt podłoży” (3, 6) oznacza materiał monolityczny o wymiarach umożliwiających wytworzenie z niego elementów optycznych, takich jak zwierciadła lub okienka optyczne.

„Podjednostka toksyny” (1) oznacza strukturalnie i funkcjonalnie oddzielny składnik „toksyny”.

„Nadstopy” (2, 9) oznaczają stopy na osnowie niklu, kobaltu lub żelaza o bardzo wysokiej wytrzymałości w porównaniu z innymi stopami serii AISI 300 w temperaturach powyżej 922 K (649 °C), w skrajnych warunkach środowiskowych i eksploatacyjnych.

„Nadprzewodniki” (1, 3, 5, 6, 8) oznaczają materiały, tj. metale, stopy lub związki, które mogą całkowicie stracić swoją oporność, tj. które mogą uzyskać nieskończoną przewodność elektryczną i przewodzić prąd elektryczny o bardzo wysokich natężeniach bez wytwarzania ciepła Joule’a.

N.B. „Nadprzewodzący” stan materiału jest indywidualnie scharakteryzowany „temperaturą krytyczną”, krytycznym polem magnetycznym, będącym funkcją temperatury, oraz krytyczną gęstością prądu, która jest funkcją zarówno pola magnetycznego, jak i temperatury.

„Laser o super wysokiej mocy” („SHPL”) (6) oznacza „laser”, który może dostarczyć energię wyjściową (całkowitą lub częściową) powyżej 1 kJ w ciągu 50 ms, lub taki, którego moc przeciętna lub moc w przypadku fali ciągłej wynosi powyżej 20 kW.

„Formowanie w stanie nadplastycznym” (1, 2) oznacza technikę odkształcania termicznego metali, których wydłużenie całkowite do zerwania, mierzone w temperaturze pokojowej tradycyjnymi technikami badania wytrzymałości na rozciąganie, w normalnych warunkach, jest bardzo małe (poniżej 20 %); jej celem jest co najmniej dwukrotne powiększenie tych wartości podczas obróbki.

„Algorytm symetryczny” (5) oznacza algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się identyczne klucze do szyfrowania i deszyfrowania.

N.B. Powszechnym zastosowaniem „algorytmu symetrycznego” jest utajnianie danych.

„Komputer z dynamiczną modyfikacją tablic” (4) oznacza komputer, w którym przepływ i modyfikacja danych są dynamicznie sterowane przez użytkownika na poziomie bramek logicznych.

„Taśma” (1) oznacza materiał zbudowany z przeplatanych lub jednakowo ukierunkowanych „włókien elementarnych”, ‘skrętek’, „rowingów”, „kabli” lub „przędz” itp., zazwyczaj impregnowany żywicą.

N.B. ‘Skrętka’ oznacza wiązkę „włókien elementarnych” (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

„Technologia” (wszystkie UOdT UdTJ) oznacza specyficzny rodzaj informacji, niezbędny do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” danego wyrobu. Informacja ta ma postać ‘danych technologicznych’ lub ‘pomocy technicznej’.

N.B.1. ‘Pomoc techniczna’ może przybierać takie formy, jak: przekazanie instrukcji, umiejętności, szkolenie, przekazanie wiedzy na temat eksploatacji oraz usługi konsultacyjne i może obejmować transfer ‘danych technologicznych’.

N.B.2. ‘Dane technologiczne’ mogą mieć formę odbitek, planów, wykresów, modeli, wzorów, tabel, projektów technicznych i opisów, podręczników i instrukcji w formie pisemnej lub zarejestrowanej na innych nośnikach lub urządzeniach, takich jak dyski, taśmy, pamięci wyłącznie do odczytu.

„Trójwymiarowy układ scalony” (3) oznacza zbiór płytek półprzewodnikowych lub aktywnych warstw urządzenia zintegrowanych ze sobą i mających kontakty połączeniowe przechodzące całkowicie przez rozdzielacz, podłoże, płytkę lub warstwę w celu utworzenia połączenia między warstwami urządzenia. Rozdzielacz to interfejs, który umożliwia utworzenie połączenia elektrycznego.

„Wrzeciono wahadłowe” (2) oznacza wrzeciono (uchwyt) do narzędzi, zmieniające podczas procesu obróbki położenie kątowe swojej osi względem dowolnej innej osi.

„Stała czasowa” (6) oznacza czas, który upływa od pojawienia się bodźca świetlnego do momentu, kiedy prąd wzrośnie do wartości równej wielkości końcowej pomnożonej przez 1-1/e (tj. 63 % wartości końcowej).

„Bandaż” (9) oznacza element składowy pierścienia stacjonarnego (jednolity lub o budowie segmentowej) zamocowany na powierzchni wewnętrznej korpusu turbiny lub element znajdujący się na końcówce łopatki turbiny, który służy przede wszystkim jako uszczelnienie gazodynamiczne między elementami stacjonarnymi a wirującymi.

„Kompleksowe sterowanie lotem” (7) oznacza automatyczne sterowanie zmiennymi stanu „statku powietrznego” i toru lotu dla zrealizowania zadania bojowego odpowiednio do zmian w czasie rzeczywistym danych dotyczących celu, zagrożeń lub innych „statków powietrznych”.

„Całkowita szybkość transmisji danych cyfrowych” (5) oznacza liczbę bitów, łącznie z bitami kodowymi linii, bitami nieinformacyjnymi i podobnymi, przepływających w jednostce czasu pomiędzy odpowiednimi urządzeniami w cyfrowym systemie transmisji.

N.B. Zob. także „szybkość transmisji danych cyfrowych”.

„Kabel” (1) oznacza wiązkę „włókien elementarnych”, zazwyczaj uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

„Toksyny” (1, 2) oznaczają toksyny w postaci celowo wyizolowanych preparatów lub mieszanek, bez względu na sposób produkcji, różne od toksyn istniejących jako zanieczyszczenia innych materiałów, takich jak próbki patogenne, plony, żywność lub posiewy „mikroorganizmów”.

„Laser z przekazaniem energii” (6) oznacza „laser”, w którym czynnik emitujący promieniowanie laserowe jest wzbudzany dzięki transferowi energii wskutek zderzeń atomów lub molekuł, niebiorących udziału w akcji laserowej, z atomami lub molekułami czynnika emitującego promieniowanie laserowe.

„Przestrajalność” (6) oznacza zdolność „lasera” do wytwarzania ciągłego sygnału wyjściowego we wszystkich długościach fal w przedziale kilku przejść „laserowych”. „Laser” z selekcją liniową wytwarza dyskretne długości fal w ramach jednego przejścia „laserowego” i nie jest uważany za „przestrajalny”.

„Jednokierunkowa powtarzalność pozycjonowania” (2) oznacza mniejszą z wartości R↑ i R↓ (do przodu i wstecz) pojedynczej osi obrabiarki, jak określono w pkt 3.21 normy ISO 230-2:2014 lub jej odpowiednika krajowego.

„Bezzałogowy statek powietrzny” („UAV”) (9) oznacza każdy statek powietrzny zdolny do wzniesienia się w powietrze i kontynuowania kontrolowanego lotu i nawigacji bez obecności ludzi na pokładzie.

„Uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233” (0) oznacza uran zawierający izotopy 235 lub 233 w takich ilościach, że stosunek łącznej zawartości tych izotopów do izotopu 238 jest większy niż stosunek zawartości izotopu 235 do izotopu 238 występujący w naturze (stosunek izotopowy 0,71 procent).

„Użytkowanie” (wszystkie UOdT UdTJ) oznacza eksploatację, instalowanie (łącznie z instalowaniem na miejscu), konserwację (kontrolę), naprawę, remonty i modernizację.

„Możliwość programowania przez użytkownika” (6) oznacza możliwość wprowadzania, modyfikacji lub wymiany „programów” przez użytkownika na innej drodze niż poprzez:

a. fizyczną modyfikację okablowania lub połączeń; lub

b. ustawianie sterowania funkcjami, w tym wprowadzanie parametrów.

„Szczepionka” (1) oznacza produkt leczniczy w postaci wyrobu farmaceutycznego, w odniesieniu do którego władze kraju produkcji lub kraju stosowania wydały zezwolenie na wprowadzanie do obrotu lub na prowadzenie badań klinicznych, a który wprowadzony do ustroju ludzkiego lub zwierzęcego ma za zadanie wytworzenie w nim ochronnej odporności immunologicznej w celu zapobiegania chorobom.

„Atomizacja próżniowa” (1) oznacza proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 μm lub mniejszej poprzez szybkie uwolnienie rozpuszczonego gazu w warunkach podciśnienia.

„Profile o zmiennej geometrii” (7) oznaczają profile, w których zastosowano klapy lub inne płaszczyzny na krawędzi spływu lub sloty lub osadzone przegubowo noski na krawędzi natarcia, którymi można sterować w locie.

„Przędza” (1) oznacza wiązkę skręconych ‘skrętek’.

N.B. ‘Skrętka’ oznacza wiązkę „włókien elementarnych” (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

KATEGORIA 0 - MATERIAŁY, INSTALACJE I URZĄDZENIA JĄDROWE

0A

Systemy, urządzenia i części składowe

0A001

Następujące „reaktory jądrowe” oraz specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użytkowania z nimi urządzenia i podzespoły:

a. „reaktory jądrowe”;

b. metalowe zbiorniki lub główne prefabrykowane części do nich, w tym górne pokrywy zbiornika ciśnieniowego reaktora, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do umieszczania w nich rdzenia „reaktora jądrowego”;

c. urządzenia manipulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do załadunku i wyładunku elementów paliwowych „reaktorów jądrowych”;

d. pręty regulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do sterowania procesem rozszczepienia w „reaktorze jądrowym”, odpowiednie elementy nośne lub zawieszenia, mechanizmy napędu oraz prowadnice rurowe do prętów regulacyjnych;

e. przewody ciśnieniowe reaktora specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem zarówno na elementy paliwowe, jak i chłodziwo w „reaktorze jądrowym”;

f. rury (lub zespoły rur) z cyrkonu metalicznego lub jego stopów specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do zastosowania jako okładzina paliwa w „reaktorach jądrowych”, w ilościach przekraczających 10 kg; N.B. W przypadku rur ciśnieniowych z cyrkonu zob. 0A001.e, zaś w przypadku rur calandrii zob. 0A001.h.

g. pompy pierwotnego obiegu lub pompy cyrkulacyjne specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przetaczania chłodziwa w „reaktorach jądrowych”;

h. „zespoły wewnętrzne reaktora” specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do pracy w „reaktorze jądrowym”, w tym elementy nośne rdzenia, kanały paliwowe, rury calandrii, osłony termiczne, przegrody, siatki dystansujące rdzenia i płyty rozpraszające; Uwaga techniczna: W pozycji 0A001.h „zespoły wewnętrzne reaktora” oznaczają dowolną większą strukturę wewnątrz zbiornika reaktora wypełniającą jedną lub więcej funkcji, takich jak podtrzymywanie rdzenia, utrzymywanie osiowania elementów paliwowych, kierowanie przepływem chłodziwa w obiegu pierwotnym, zapewnienie osłon radiacyjnych zbiornika reaktora i oprzyrządowania wewnątrzrdzeniowego.

i. wymienniki ciepła, takie jak: 1. wytwornice pary specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do obiegu pierwotnego lub pośredniego „reaktora jądrowego”; 2. inne wymienniki ciepła specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do stosowania w obiegu pierwotnym „reaktora jądrowego”; Uwaga: Pozycja 0A001.i nie obejmuje kontroli wymienników ciepła w systemach wspierających reaktora, np. systemie chłodzenia awaryjnego lub systemie odprowadzania ciepła powyłączeniowego.

j. detektory neutronów specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do określania poziomu strumienia neutronów wewnątrz rdzenia „reaktora jądrowego”;

k. ‘zewnętrzne tarcze termiczne’ specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użytku w „reaktorach jądrowych” w celu zmniejszenia strat ciepła oraz ochrony zbiornika. Uwaga techniczna: W pozycji 0A001.k „zewnętrzne tarcze termiczne” oznaczają dużego rozmiaru struktury umieszczone nad zbiornikiem reaktora, służące do ograniczania strat ciepła z reaktora i do zmniejszania temperatury wewnątrz zbiornika.

0B

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

0B001

Następujące instalacje do separacji izotopów z „uranu naturalnego”, „uranu zubożonego” lub „specjalnych materiałów rozszczepialnych” oraz urządzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane:

a. następujące instalacje specjalnie zaprojektowane do separacji izotopów „uranu naturalnego”, „uranu zubożonego” lub „specjalnych materiałów rozszczepialnych”: 1. instalacje do rozdzielania gazów metodą wirowania; 2. instalacje do dyfuzyjnego rozdzielania gazów; 3. instalacje do rozdzielania metodami aerodynamicznymi; 4. instalacje do rozdzielania metodami wymiany chemicznej; 5. instalacje do rozdzielania techniką wymiany jonów; 6. instalacje do rozdzielania izotopów w postaci par metalu za pomocą „laserów”; 7. instalacje do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą „laserów”; 8. instalacje do rozdzielania metodami plazmowymi; 9. instalacje do rozdzielania metodami elektromagnetycznymi;

b. następujące wirówki gazowe oraz zespoły i urządzenia, specjalnie zaprojektowane lub wykonane do stosowania w procesach wzbogacania metodą wirowania gazów: Uwaga techniczna: W pozycji 0B001.b ‘materiał o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości’ oznacza którekolwiek z poniższych: 1. stal maraging o wytrzymałości na rozciąganie równej 1,95 GPa lub większej; 2. stopy glinu o wytrzymałości na rozciąganie równej 0,46 GPa lub większej; lub 3. „materiały włókniste lub włókienkowe” o „module właściwym” powyżej 3,18 × 106 m i „wytrzymałości właściwej na rozciąganie” powyżej 7,62 × 104 m; 1. wirówki gazowe; 2. kompletne zespoły wirników; 3. cylindryczne zespoły wirników o grubości 12 mm lub mniejszej, średnicy od 75 do 650 mm, wykonane z ‘materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości’; 4. pierścienie lub mieszki ze ściankami o grubości 3 mm lub mniejszej i średnicy od 75 mm do 650 mm przeznaczone do lokalnego osadzenia cylindra wirnika lub do połączenia ze sobą wielu cylindrów wirników, wykonane z ‘materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości’; 5. deflektory o średnicy od 75 mm do 650 mm przeznaczone do instalowania wewnątrz cylindra wirnika odśrodkowego, wykonane z ‘materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości’; 6. pokrywy górne lub dolne o średnicy od 75 mm do 650 mm pasujące do końców cylindra wirnika, wykonane z ‘materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości’; 7. następujące łożyska na poduszce magnetycznej: a. zespoły łożysk składające się z pierścieniowego magnesu zawieszonego w obudowie wykonanej z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub chronionej takimi materiałami, zawierającej wewnątrz czynnik tłumiący i posiadające magnes sprzężony z nabiegunnikiem lub drugim magnesem osadzonym w pokrywie górnej wirnika; b. aktywne łożyska magnetyczne specjalnie zaprojektowane lub wykonane do stosowania w wirówkach gazowych; 8. specjalnie wykonane łożyska składające się z zespołu czop-panewka osadzonego na amortyzatorze; 9. pompy molekularne zawierające cylindry z wewnętrznymi, obrobionymi techniką skrawania lub wytłoczonymi, spiralnymi rowkami i wewnętrznymi wywierconymi otworami; 10. pierścieniowe stojany do wysokoobrotowych wielofazowych silników histerezowych (lub reluktancyjnych) do pracy synchronicznej w próżni z częstotliwością 600 Hz lub większą i mocą 40 woltoamperów lub większą; 11. obudowy (komory) wirówek, w których znajdują się zespoły wirników cylindrycznych wirówki gazowej, składające się ze sztywnego cylindra ze ściankami o grubości do 30 mm z precyzyjnie obrobionymi końcami, które są równoległe do siebie i prostopadłe do osi wzdłużnej cylindra w zakresie 0,05 stopnia lub mniej; 12. zbieraki składające się ze specjalnie zaprojektowanych lub przystosowanych rurek, przeznaczone do ekstrahowania gazowego UF6 z wirnika na zasadzie rurki Pitota, które mogą być zamocowane w centralnym układzie ekstrakcji gazu; 13. przemienniki częstotliwości (konwertery lub inwertery) specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do zasilania stojanów silników wirówek gazowych do wzbogacania, posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne i specjalnie do nich zaprojektowane podzespoły: a. wyjście wielofazowe o częstotliwości 600 Hz lub większej; oraz b. wysoka stabilność (z regulacją częstotliwości z dokładnością lepszą niż 0,2 %); 14. następujące zawory odcinające i sterujące: a. zawory odcinające specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do pracy z surowcem, produktem lub frakcjami końcowymi ze strumieni zawierających UF6 poszczególnych wirówek gazowych; b. zawory mieszkowe odcinające lub sterujące o średnicy wewnętrznej od 10 do 160 mm wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub chronione takimi materiałami, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użytku w głównych i pomocniczych układach zakładów wzbogacania stosujących wirówki gazowe;

c. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do separacji metodą dyfuzji gazowej: 1. przegrody do dyfuzji gazowej wykonane z porowatych metalowych, polimerowych lub ceramicznych „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6”, posiadające pory o średnicach od 10 do 100 nm, grubość 5 mm lub mniejszą oraz, w przypadku elementów cylindrycznych, średnicę 25 mm lub mniejszą; 2. obudowy dyfuzorów gazowych wykonane lub chronione „materiałami odpornymi na korozyjne działanie UF6”; 3. sprężarki lub dmuchawy do gazów o objętościowej pojemności ssania UF6 wynoszącej 1 m3/min lub więcej, o ciśnieniu wylotowym do 500 kPa oraz stosunku ciśnienia 10:1 lub mniejszym, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub chronione takimi materiałami; 4. uszczelnienia wirujących wałów sprężarek lub dmuchaw wymienionych w pozycji 0B001.c.3., skonstruowane w taki sposób, żeby objętościowe natężenie przepływu gazu buforowego przez nieszczelności wynosiło poniżej 1 000 cm3/min; 5. wymienniki ciepła wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub chronione takimi materiałami, zaprojektowane do pracy z natężeniem przepływu przez nieszczelności na poziomie mniejszym niż 10 Pa na godzinę przy różnicy ciśnień rzędu 100 kPa; 6. zawory mieszkowe odcinające lub sterujące, obsługiwane ręcznie lub automatycznie, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub chronione takimi materiałami;

d. następujące urządzenia i podzespoły specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do aerodynamicznego wzbogacania materiałów: 1. dysze separujące składające się ze szczelinowych zakrzywionych kanałów o promieniu krzywizny poniżej 1 mm, odporne na korozyjne działanie UF6, zawierające w środku ostre krawędzie rozdzielające gaz płynący w dyszach na dwa strumienie; 2. cylindryczne lub stożkowe rury (rurki wirowe) wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub też zabezpieczone takimi materiałami, mające co najmniej jeden wlot styczny; 3. sprężarki lub dmuchawy do gazów wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub zabezpieczone takimi materiałami oraz uszczelnienia wirujących wałów do nich; 4. wymienniki ciepła wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub zabezpieczone takimi materiałami; 5. obudowy elementów rozdzielających, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub zabezpieczone takimi materiałami, przeznaczone na rurki wirowe lub dysze rozdzielające; 6. zawory mieszkowe odcinające lub sterujące, obsługiwane ręcznie lub automatycznie, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub chronione takimi materiałami, mające średnicę 40 mm lub większą; 7. instalacje przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (wodoru lub helu) do zawartości 1 ppm UF6 lub mniejszej, w tym: a. kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (– 120 °C) lub niższych; b. zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (– 120 °C) lub niższych; c. urządzenia z dyszami rozdzielającymi lub rurkami wirowymi do oddzielania UF6 od gazu nośnego; d. wymrażarki UF6 zdolne do wymrażania UF6;

e. następujące urządzenia i podzespoły do nich, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany chemicznej: 1. cieczowo-cieczowe kolumny impulsowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia wynoszącym 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowodorowe lub szkło, lub pokryte takimi materiałami); 2. cieczowo-cieczowe kontaktory odśrodkowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia wynoszącym 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowodorowe lub szkło, lub pokryte takimi materiałami); 3. elektrochemiczne ogniwa redukcyjne, odporne na działanie roztworów kwasu solnego, do obniżania wartościowości uranu; 4. urządzenia do zasilania elektrochemicznych ogniw redukcyjnych, pobierające U+4 ze strumieni substancji organicznych, wykonane w strefach kontaktu z przetwarzanym strumieniem z odpowiednich materiałów lub chronione takimi materiałami (na przykład szkło, polimery fluorowęglowe, polisiarczan fenylu, polisulfon eteru i grafit nasycany żywicą); 5. urządzenia do przygotowywania półproduktów do wytwarzania roztworu chlorku uranu o wysokiej czystości, składające się z zespołów do rozpuszczania, ekstrakcji rozpuszczalnikowej i/lub wymiany jonowej, przeznaczone do oczyszczania, oraz ogniwa elektrolityczne do redukowania uranu U+6 lub U+4 do U+3; 6. urządzenia do utleniania uranu ze stanu U+3 do U+4;

f. następujące urządzenia i podzespoły specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany jonów: 1. szybko reagujące żywice jonowymienne, żywice błonkowate lub porowate makrosiatkowe, w których grupy chemiczne biorące aktywny udział w wymianie znajdują się wyłącznie w powłoce na powierzchni nieaktywnej porowatej struktury nośnej, oraz inne materiały kompozytowe w dowolnej stosownej formie, w tym w postaci cząstek lub włókien, ze średnicami wynoszącymi 0,2 mm lub mniej, odporne na stężony kwas solny i wykonane w taki sposób, że ich półczas wymiany wynosi poniżej 10 sekund, oraz zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C); 2. kolumny jonitowe (cylindryczne) o średnicy powyżej 1 000 mm, wykonane z materiałów odpornych na stężony kwas solny lub chronione takimi materiałami (np. tytan lub tworzywa fluorowęglowe) i zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C) i przy ciśnieniach powyżej 0,7 MPa; 3. jonitowe urządzenia zwrotne (urządzenia do chemicznego lub elektrochemicznego utleniania lub redukcji) przeznaczone do regeneracji substancji do chemicznej redukcji lub utleniania, stosowane w jonitowych kaskadach do wzbogacania materiałów;

g. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do zastosowania w procesach rozdzielania z wykorzystaniem lasera przy zastosowaniu rozdzielania izotopów w postaci par metalu za pomocą laserów: 1. urządzenia do przeprowadzania uranu w stan pary przeznaczone do uzyskiwania docelowej mocy wyjściowej 1 kW lub większej do zastosowania w technologii wzbogacania za pomocą laserów; 2. systemy operowania uranem metalicznym w stanie cieczy lub pary, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do operowania stopionym uranem, stopami uranu stopionego lub uranem metalicznym w stanie pary do zastosowania w technologii wzbogacania za pomocą laserów, jak również specjalnie do nich zaprojektowane podzespoły; N.B. ZOB. TAKŻE POZYCJA 2A225. 3. zespoły do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych uranu metalicznego w postaci ciekłej lub stałej, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne i korozyjne uranu metalicznego w postaci pary lub cieczy, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal, lub chronione takimi materiałami; 4. obudowy modułów urządzeń rozdzielających (zbiorniki cylindryczne lub prostopadłościenne) przeznaczone na źródła par uranu metalicznego, działa elektronowe oraz urządzenia do gromadzenia produktu i frakcji końcowych; 5. „lasery” lub systemy „laserów” specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów uranu, wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy; N.B. ZOB. TAKŻE POZYCJE 6A005 I 6A205.

h. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do zastosowania w procesach rozdzielania z wykorzystaniem lasera przy zastosowaniu rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą laserów: 1. naddźwiękowe dysze rozprężne do chłodzenia mieszanin UF6 z gazem nośnym do temperatur 150 K (– 123 °C) lub niższych, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6”; 2. podzespoły lub urządzenia do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do gromadzenia materiału uranowego i materiału frakcji końcowych uranu po naświetleniu światłem lasera, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6”; 3. sprężarki wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub zabezpieczone takimi materiałami oraz uszczelnienia wirujących wałów do nich; 4. urządzenia do fluorowania UF5 (stałego) do UF6 (gazowego); 5. urządzenia przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (np. azotu, argonu lub innego gazu), w tym: a. kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (– 120 °C) lub niższych; b. zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (– 120 °C) lub niższych; c. wymrażarki UF6 zdolne do wymrażania UF6; 6. „lasery” lub systemy „laserów” specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów uranu, wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy; N.B. ZOB. TAKŻE POZYCJE 6A005 I 6A205.

i. następujące urządzenia i podzespoły specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do plazmowego rozdzielania materiałów: 1. źródła mikrofal i anteny do wytwarzania lub przyspieszania jonów, o częstotliwości wyjściowej powyżej 30 GHz i średniej mocy wyjściowej powyżej 50 kW; 2. wysokoczęstotliwościowe cewki do wzbudzania jonów pracujące w zakresie częstotliwości powyżej 100 kHz i zdolne do pracy w warunkach średniej mocy powyżej 40 kW; 3. urządzenia do wytwarzania plazmy uranowej; 4. nieużywane; 5. zespoły do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych uranu metalicznego w postaci stałej, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne i korozyjne uranu w postaci pary, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal, lub chronione takimi materiałami; 6. obudowy modułów separatorów (cylindryczne) na źródło plazmy uranowej, cewki na prądy wysokiej częstotliwości oraz kolektory do produktu i frakcji końcowych, wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. ze stali nierdzewnej);

j. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów metodami elektromagnetycznymi: 1. źródła jonów, pojedyncze lub wielokrotne, składające się ze źródła pary, jonizatora oraz akceleratora wiązki wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu, stali nierdzewnej lub miedzi) i zdolne do wytwarzania wiązki jonów o całkowitym natężeniu 50 mA lub większym; 2. płytkowe kolektory jonów do gromadzenia wzbogaconych lub zubożonych wiązek jonów uranu, składające się z dwóch lub więcej szczelin i kieszeni i wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu lub stali nierdzewnej); 3. obudowy próżniowe do elektromagnetycznych separatorów uranu wykonane z materiałów niemagnetycznych (np. ze stali nierdzewnej) i skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniach 0,1 Pa lub niższych; 4. elementy biegunów magnesów o średnicy powyżej 2 m; 5. wysokonapięciowe zasilacze do źródeł jonów, posiadające wszystkie następujące cechy: a. zdolność do pracy w trybie ciągłym; b. napięcie wyjściowe 20 000 V lub większe; c. natężenie prądu na wyjściu 1 A lub większe; oraz d. regulacja napięcia z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin; N.B. ZOB. TAKŻE POZYCJA 3A227. 6. zasilacze magnesów (wysokiej mocy, prądu stałego), posiadające wszystkie następujące cechy: a. zdolność do pracy w trybie ciągłym z prądem wyjściowym o natężeniu 500 A lub większym i napięciu 100 V lub większym; oraz b. regulacja natężenia lub napięcia prądu z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin. N.B. ZOB. TAKŻE POZYCJA 3A226.

0B002

Następujące specjalnie zaprojektowane lub wykonane pomocnicze instalacje, urządzenia i podzespoły do instalacji separacji izotopów wymienionych w pozycji 0B001, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub chronione takimi materiałami:

a. autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF6 do instalacji do wzbogacania;

b. desublimatory lub wymrażarki do odprowadzania UF6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transportu po ogrzaniu;

c. instalacje do produktu lub frakcji końcowych do transportu UF6 do zbiorników;

d. instalacje do skraplania lub zestalania stosowane do usuwania UF6 z procesu wzbogacania drogą sprężania, chłodzenia i przetwarzania UF6 w ciecz lub ciało stałe;

e. instalacje rurociągowe i zbiorniki specjalnie zaprojektowane lub wykonane do transportu i manipulowania UF6 w procesach rozdzielania izotopów metodą dyfuzji, ultrawirowania lub kaskady aerodynamicznej;

f. następujące układy próżniowe i pompy: 1. próżniowe instalacje rur rozgałęźnych lub zbiorników lub pompy próżniowe o wydajności ssania wynoszącej 5 m3 na minutę lub więcej; 2. pompy próżniowe specjalnie zaprojektowane do pracy w atmosferze zawierającej UF6, wykonane z „materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6” lub zabezpieczone takimi materiałami; lub 3. układy próżniowe składające się z próżniowych instalacji rur rozgałęźnych lub zbiorników i pomp próżniowych, zaprojektowane do pracy w atmosferze zawierającej UF6;

g. spektrometry masowe (źródła jonów) UF6 zdolne do bieżącego (on-line) pobierania próbek ze strumieni zawierających UF6, posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy: 1. zdolność do pomiaru mas jonów o wartości 320 mas atomowych lub większa i rozdzielczość lepsza niż 1 część na 320; 2. źródła jonów wykonane z niklu, stopu niklu i miedzi o zawartości niklu 60 % masy lub większej lub stopów niklu i chromu lub nimi zabezpieczone; 3. elektronowe źródła jonizacyjne; oraz 4. wyposażenie w kolektory umożliwiające analizę izotopową.

0B003

Następujące instalacje do przetwarzania uranu i urządzenia specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do nich:

a. instalacje do przetwarzania koncentratów rudy uranowej na UO3;

b. instalacje do przetwarzania UO3 na UF6;

c. instalacje do przetwarzania UO3 na UO2;

d. instalacje do przetwarzania UO2 na UF4;

e. instalacje do przetwarzania UF4 na UF6;

f. instalacje do przetwarzania UF4 na uran metaliczny;

g. instalacje do przetwarzania UF6 na UO2;

h. instalacje do przetwarzania UF6 na UF4;

i. instalacje do przetwarzania UO2 na UCl4.

0B004

Następujące instalacje do produkcji lub stężania ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urządzenia i podzespoły:

a. następujące instalacje do produkcji ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru: 1. instalacje do produkcji metodą wymiany woda-siarkowodór; 2. instalacje do produkcji metodą wymiany amoniak-wodór;

b. następujące urządzenia i podzespoły: 1. kolumnowe wymienniki typu woda-siarkowodór mające średnicę 1,5 m lub większą i zdolność do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 2 MPa; 2. jednostopniowe, niskociśnieniowe (np. 0,2 MPa), odśrodkowe dmuchawy lub kompresory wymuszające cyrkulację gazowego siarkowodoru (tj. gazu zawierającego więcej niż 70 % H2S), o przepustowości równej lub większej niż 56 m3/s podczas pracy przy ciśnieniach zasysania równych lub większych niż 1,8 MPa, posiadające uszczelnienia umożliwiające pracę w środowisku wilgotnego H2S; 3. kolumnowe wymienniki typu amoniak-wodór o wysokości równej lub większej niż 35 m i średnicy od 1,5 m do 2,5 m, zdolne do pracy przy ciśnieniach większych niż 15 MPa; 4. konstrukcje wewnętrzne kolumn łącznie z kontaktorami stopniowymi i pompami stopniowymi, w tym zanurzeniowymi, do produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór; 5. instalacje do krakowania amoniaku zdolne do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 3 MPa przy produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór; 6. podczerwone analizatory absorpcyjne zdolne do bieżącej (on-line) analizy stosunku wodoru do deuteru w warunkach, w których stężenia deuteru są równe lub większe niż 90 %; 7. palniki katalityczne do konwersji wzbogaconego deuteru w ciężką wodę przy użyciu procesu wymiany amoniak-wodór; 8. kompletne systemy wzbogacania ciężkiej wody lub przeznaczone dla nich kolumny, przeznaczone do zwiększania koncentracji deuteru w ciężkiej wodzie do poziomu reaktorowego; 9. konwertery do syntezy amoniaku lub urządzenia do syntezy amoniaku specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór.

0B005

Instalacje specjalnie zaprojektowane do wytwarzania elementów paliwowych do „reaktorów jądrowych” oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urządzenia.

Uwaga techniczna:

Specjalnie zaprojektowane lub przystosowane urządzenia do wytwarzania elementów paliwowych do „reaktorów jądrowych” obejmują urządzenia, które:

1. pozostają w bezpośrednim kontakcie z materiałami jądrowymi lub bezpośrednio je przetwarzają lub sterują procesem ich produkcji;

2. uszczelniają materiały jądrowe wewnątrz ich koszulek;

3. kontrolują szczelność koszulek;

4. kontrolują końcową obróbkę paliwa stałego; lub

5. są wykorzystywane do montażu elementów reaktora.

0B006

Instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych „reaktorów jądrowych” oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub wykonane urządzenia i podzespoły.

Uwaga: Pozycja 0B006 obejmuje: a. instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych „reaktorów jądrowych”, w tym urządzenia i podzespoły, które zazwyczaj wchodzą w bezpośredni kontakt z materiałami jądrowymi, służą do ich bezpośredniego przetwarzania lub sterowania ich przepływem; b. maszyny do rozdrabniania lub kruszenia elementów paliwowych, tj. zda