Rozporządzenie Rady (WE) nr 149/2003

z dnia 27 stycznia 2003 r.

zmieniające i aktualizujące rozporządzenie (WE) nr 1334/2000 ustanawiające wspólnotowy system kontroli wywozu produktów i technologii podwój0nego zastosowania

RADA UNII EUROPEJSKIEJ,

uwzględniając Traktat ustanawiający Wspólnotę Europejską, w szczególności jego art. 133,

uwzględniając wniosek Komisji,

a także mając na uwadze, co następuje:

(1) Rozporządzenie (WE) nr 1334/2000 [1] wymaga, aby produkty podwójnego zastosowania (łącznie z oprogramowaniem i technologią) podlegały skutecznej kontroli w przypadku ich wywozu ze Wspólnoty.

(2) W celu umożliwienia Państwom Członkowskim i Wspólnocie wykonania ich zobowiązań międzynarodowych, załącznik I do rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 ustanawia wspólny wykaz produktów i technologii podwójnego zastosowania, określonych w art. 3 tego rozporządzenia, który wprowadza uzgodnione na poziomie międzynarodowym kontrole podwójnego zastosowania, w tym Porozumienie z Wassenaar, System Kontroli Technologii Rakietowych, Grupę Dostawców Sprzętu Jądrowego, Grupę Australijską oraz Konwencję o zakazie broni chemicznej.

(3) Artykuł 11 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 przewiduje, że załącznik I i załącznik IV do tego rozporządzenia mają być zaktualizowane zgodnie z odpowiednimi obowiązkami i zobowiązaniami z uwzględnieniem ich wszelkich zmian, które każde Państwo Członkowskie przyjęło jako członek międzynarodowych systemów nierozprzestrzeniania oraz uzgodnień dotyczących kontroli wywozu, lub w wyniku ratyfikacji odpowiednich Traktatów międzynarodowych.

(4) Należy dokonać zmiany załączników I, II i IV do rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 w celu wzięcia pod uwagę zmian przyjętych przez Porozumienie z Wassenaar, Grupę Australijską i System Kontroli Technologii Rakietowych w latach 2001 i 2002.

(5) W celu ułatwienia organom kontrolnym i podmiotom gospodarczym nawiązywania do systemu kontroli wywozu, konieczne jest opublikowanie uaktualnionych i ujednoliconych wersji załączników do rozporządzenia (WE) nr 1334/2000, uwzględniających wszystkie zmiany przyjęte przez Państwa Członkowskie na forach międzynarodowych w latach 2001 i 2002.

(6) Dlatego też należy odpowiednio zmienić rozporządzenie (WE) nr 1334/2000,

PRZYJMUJE NINIEJSZE ROZPORZĄDZENIE:

Artykuł 1

Załączniki do rozporządzenia (EWG) nr 1334/2000 zastępuje się tekstem znajdującym się w Załączniku do niniejszego rozporządzenia.

Artykuł 2

Niniejsze rozporządzenie wchodzi w życie trzydziestego dnia po jego opublikowaniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej.

Niniejsze rozporządzenie wiąże w całości i jest bezpośrednio stosowane we wszystkich Państwach Członkowskich.

Sporządzono w Brukseli, dnia 27 stycznia 2003 r.

W imieniu Rady

G. Papandreou

Przewodniczący

[1] Dz.U. L 159 z 30.6.2000, str. 1. Rozporządzenie ostatnio zmienione rozporządzeniem (WE) nr 880/2002 (Dz.U. L 139 z 29.5.2002, str. 7).

--------------------------------------------------

ZAŁĄCZNIK I

WYKAZ PRODUKTÓW I TECHNOLOGII PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIA

[określonych w art. 3 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000]

Niniejszy wykaz wprowadza uzgodnione na poziomie międzynarodowym kontrole podwójnego zastosowania, w tym Porozumienie z Wassenaar, System Kontroli Technologii Rakietowych (MTCR), Grupę Dostawców Sprzętu Jądrowego (NSG), Grupę Australijską i Konwencję o zakazie broni chemicznej (CWC). Nie zostały uwzględnione produkty, które Państwa Członkowskie chcą umieścić w wykazie produktów wyłączonych. Nie uwzględniono jakiejkolwiek kontroli krajowej (kontrola pochodzenia pozasystemowego), która może być utrzymana przez Państwa Członkowskie.

UWAGI OGÓLNE DO ZAŁĄCZNIKA I

1. Kontrola towarów, które są przeznaczone lub zostały zmodyfikowane do celów wojskowych jest opisana w odpowiednich wykazach towarów wojskowych, którymi dysponują Państwa Członkowskie. Odniesienia w niniejszym załączniku, które zawierają wyrażenie "PATRZ TAKŻE: WYKAZ KONTROLNY TOWARÓW WOJSKOWYCH" odnoszą się do tych samych wykazów.

2. Przedmiot kontroli występujący w niniejszym załączniku nie powinien być udaremniony poprzez wywóz towarów niepodlegających kontroli (w tym zakładu) zawierających jeden lub kilka kontrolowanych podzespołów, jeżeli kontrolowany podzespół lub podzespoły stanowią podstawowy element towarów i mogą być usunięte lub użyte do innych celów.

Uwaga:

Przy rozstrzyganiu, czy kontrolowany podzespół lub podzespoły są uważane za podstawowy element, niezbędne jest rozważenie czynnika ilości, wartości i technologicznego know-how oraz innych szczególnych okoliczności, które mogą decydować o tym, że kontrolowany podzespół lub podzespoły stanowią podstawowy element dostarczanego towaru.

3. Towary określone w niniejszym załączniku obejmują zarówno towary nowe, jak i używane.

UWAGA DO TECHNOLOGII JĄDROWYCH (UdTJ)

(Należy czytać w powiązaniu z sekcją E kategorii 0.)

"Technologia" bezpośrednio związana z jakimikolwiek towarami wymienionymi w kategorii 0 objęta jest kontrolą zgodnie z przepisami kategorii 0.

"Technologia" dla "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów podlegających kontroli pozostaje pod kontrolą nawet wówczas, gdy ma zastosowanie do towarów niepodlegających kontroli.

Zatwierdzenie towarów do wywozu upoważnia również do wywozu do tego samego użytkownika końcowego minimalnej "technologii" wymaganej dla instalacji, działania, utrzymania i naprawy tych towarów.

Kontrole transferu "technologii" nie mają zastosowania do informacji "będących własnością publiczną" lub "podstawowych badań naukowych".

UWAGA OGÓLNA DO TECHNOLOGII (UOdT)

(Należy czytać w powiązaniu z sekcją E kategorii 1–9.)

Wywóz "technologii", która jest "wymagana" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów podlegających kontroli w kategoriach 1–9, pozostaje objęty kontrolą zgodnie z przepisami kategorii 1–9.

"Technologia""wymagana" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów podlegających kontroli pozostaje pod kontrolą nawet wówczas, gdy ma zastosowanie do towarów niepodlegających kontroli.

Kontroli nie stosuje się wobec "technologii", która stanowi minimum niezbędne w celu instalowania, działania, konserwacji (sprawdzania) i naprawy tych towarów, które nie podlegają kontroli lub na wywóz których uzyskano pozwolenie.

Uwaga:

Powyższe nie zwalnia "technologii" określonej w pozycjach IE002.e., IE002.f., 8E002.a. i 8E002.b.

Kontrole transferu "technologii" nie mają zastosowania do informacji "będących własnością publiczną", "podstawowych badań naukowych" lub minimalnych informacji niezbędnych przy składaniu wniosków patentowych.

UWAGA OGÓLNA DO OPROGRAMOWANIA (UOdO)

(Niniejsza uwaga jest nadrzędna w stosunku do kontroli określonej w kategoriach 0–9 sekcja D)

Kategorie 0–9 niniejszego wykazu nie obejmują kontroli "oprogramowania", które jest:

a. Ogólnie dostępne dla ogółu poprzez:

1. sprzedaż gotowego oprogramowania w punktach sprzedaży detalicznej bez ograniczeń w wyniku:

a. transakcji bezpośrednich;

b. transakcji wysyłkowych; lub

c. transakcji elektronicznych; lub

d. transakcji realizowanych na zamówienie telefoniczne; oraz

2. przygotowanie do zainstalowania przez użytkownika bez dalszej fachowej pomocy dostawcy; lub

Uwaga:

Litera a. Uwagi ogólnej do oprogramowania nie zwalnia "oprogramowania" określonego w kategorii 5 – część 2 ("Bezpieczeństwo informacji").

b. "będące własnością publiczną".

PRAKTYKI REDAKCYJNE

Zgodnie z zasadami określonymi w ust. 101 na str. 86 międzyinstytucjonalnego przewodnika stylu (wydanie z 1997 r.), w tekstach w języku angielskim opublikowanych w Dzienniku Urzędowym Wspólnot Europejskich:

- do oddzielenia liczby całkowitej od wartości dziesiętnych używa się przecinka,

- liczby całkowite podaje się po trzy cyfry, oddzielone od siebie spacją.

DEFINICJE TERMINÓW UŻYTYCH W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKU

Definicje terminów "w pojedynczych cudzysłowach" są podane w Uwadze technicznej do odpowiedniej pozycji.

Definicje terminów "w podwójnych cudzysłowach" są następujące:

Uwaga:

Odniesienia do kategorii podano w nawiasach po określonym terminie.

"Dokładność" (2 6), zazwyczaj określana w kategoriach niedokładności, oznacza maksymalne dodatnie lub ujemne odchylenie wartości wskazanej od przyjętej normy lub wartości rzeczywistej.

"Układy aktywnego sterowania lotem" (7) to systemy, których zadaniem jest zapobieganie niepożądanym ruchom "statku powietrznego" i pocisku lub obciążeniom konstrukcji poprzez autonomiczne przetwarzanie sygnałów z wielu czujników i następnie wydawanie niezbędnych poleceń do realizacji sterowania automatycznego.

"Aktywny piksel" (6 8) to najmniejszy (pojedynczy) element sieci elementów półprzewodnikowych, mający możliwość realizacji funkcji fotoelektrycznych podczas wystawienia na działanie promieniowania świetlnego (elektromagnetycznego).

"Przystosowane do użycia podczas wojny" (1) oznacza jakąkolwiek modyfikację lub dobór (takie jak zmienna czystość, dopuszczalny okres magazynowania, wirulencja, charakterystyka rozpowszechniania czy odporność na promieniowanie UV) przeznaczone do wzmocnienia efektów wywoływania strat w ludności lub zwierzętach, uszkadzania sprzętu lub powodujących straty w uprawach lub środowisku.

"Statek powietrzny" (1 7 9) to pojazd lotniczy o nieruchomo zamocowanych skrzydłach, skrzydłach wirujących, obrotowych (helikopter), wirnikiem pochylnym bądź skrzydłach zmiennych.

Uwaga:

Patrz także: "cywilny statek powietrzny".

"Wszystkie dostępne kompensacje" (2) oznacza, że w celu zminimalizowania wszelkich systematycznych błędów pozycjonowania dla określonego modelu obrabiarki zostały uwzględnione wszystkie dające się przewidzieć środki dostępne dla wytwórcy.

"Przydzielone przez ITU" (3 5) oznacza przydział pasma częstotliwości zgodnie z Regulacjami radiowymi ITU (Wydanie z 1998 r.) dla służb pierwotnych, dopuszczonych i wtórnych.

Uwaga:

Nie obejmuje przydziałów dodatkowych i alternatywnych.

"Odchylenie położenia kątowego" (2) to maksymalna różnica między położeniem kątowym a rzeczywistym, bardzo dokładnie zmierzonym położeniem kątowym po obróceniu stołu montażowego od jego położenia początkowego. (patrz: VDI/VDE 2617, projekt: "stoły obrotowe współrzędnościowych maszyn pomiarowych").

"Algorytm asymetryczny" (5) oznacza algorytm kryptograficzny stosujący różne, matematycznie powiązane klucze do szyfrowania i deszyfrowania.

Uwaga:

Powszechnie stosowanym "algorytmem asymetrycznym" jest zarządzanie kluczami.

"Asynchroniczny tryb przesyłania" ("ATM") (5) to tryb przesyłania polegający na tym, że informacja jest organizowana w komórkach; asynchroniczność należy rozumieć w tym sensie, że rekurencja komórek zależy od wymaganej lub chwilowej szybkości transmisji bitów.

"ATM" oznacza "Asynchroniczny tryb przesyłania".

"Automatyczne śledzenie celu" (6) oznacza technikę przetwarzania, umożliwiającą automatyczne określanie i podawanie ekstrapolowanej wartości najbardziej prawdopodobnego położenia celu w czasie rzeczywistym.

"Opóźnienie sygnału bramki podstawowej" (3) oznacza wartość opóźnienia sygnału odpowiadającą bramce podstawowej, używanej w "monolitycznych układach scalonych". Można ją określić, dla danej "rodziny""monolitycznych układów scalonych", jako opóźnienie sygnału na bramkę typową w ramach danej "rodziny", lub jako typowe opóźnienie na bramkę w ramach danej "rodziny".

Uwaga 1:

Nie należy mylić "opóźnienia sygnału bramki podstawowej" z opóźnieniem wyjścia/wejścia złożonego "monolitycznego układu scalonego".

Uwaga 2:

Do "rodziny" zalicza się wszystkie układy scalone, do których metodologii produkcyjnej i danych technicznych, z wyjątkiem ich odpowiednich funkcji, stosuje się następujące punkty:

a. wspólna architektura sprzętu i oprogramowania;

b. wspólna technologia projektowania i przetwarzania; oraz

c. wspólne charakterystyki podstawowe.

"Podstawowe badania naukowe" (UOdT, UdTJ) oznaczają prace doświadczalne lub teoretyczne prowadzone głównie w celu uzyskania nowej wiedzy o podstawach danego zjawiska lub obserwowalnych jego efektach, nienakierowane bezpośrednio na konkretne cele lub zadania praktyczne.

"Wychylenie wstępne" (przyspieszeniomierza) (7) oznacza wartość wskazywaną przez przyspieszeniomierz w przypadku braku przyspieszenia.

"Bicie osiowe" (2) oznacza przemieszczenie osiowe wrzeciona głównego podczas jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do czoła wrzeciona, w punkcie sąsiadującym z obwodem czoła wrzeciona (Patrz: ISO 230/1–1986 pkt 5.63).

"Preformy włókien węglowych" (1) oznaczają uporządkowany układ niepowlekanych lub powlekanych włókien, przeznaczony do tworzenia struktur składowych przed użyciem "matrycy" do tworzenia "materiału kompozytowego".

"CE" oznacza "element obliczeniowy".

"CEP" (krąg równego prawdopodobieństwa) (7) jest to miara dokładności wyrażana jako promień okręgu ze środkiem w miejscu znajdowania się celu, w który wpada 50 % ładunków użytecznych, przy określonym zasięgu.

"Laser chemiczny" (6) oznacza "laser", w którym wzbudzanie czynnika następuje za pomocą energii końcowej z reakcji chemicznej.

"Mieszanina chemiczna" (1) oznacza produkt stały, płynny lub gazowy zrobiony z dwóch lub więcej składników, które nie reagują ze sobą w warunkach, w których mieszanina jest przechowywana.

"Cyrkulacyjne układy równoważenia momentu lub cyrkulacyjne układy sterowania kierunkiem" (7) to układy, w których przepływ powietrza wokół powierzchni aerodynamicznych jest wykorzystywany do zwiększenia powstających na nich sił lub do kierowania nimi.

"Cywilny statek powietrzny" (1 7 9) oznacza "statek powietrzny" posiadający świadectwo zdatności do lotu opublikowane i wydane przez zarządy lotnictwa cywilnego, zezwalające na ich używanie do celów cywilnych na liniach wewnętrznych i zewnętrznych lub zezwalające na ich stosowanie do celów cywilnych, prywatnych lub związanych z prowadzeniem działalności gospodarczej.

Uwaga:

Patrz także: "statek powietrzny".

"Mieszanie" (1) oznacza mieszanie włókien materiałów termoplastycznych z włóknami materiałów wzmacniających w celu wytworzenia mieszanki włókien wzmacniających z "matrycą", posiadajacej w całości formę włóknistą.

"Rozdrabnianie" (1) oznacza proces rozczłonkowania materiału na cząstki przez miażdżenie lub rozcieranie.

"Powszechna sygnalizacja kanałowa" (5) to metoda przesyłania sygnałów, w której pojedynczy kanał pomiędzy centralami telefonicznymi przenosi, za pomocą komunikatów etykietowanych, informacje sygnałowe dotyczące wielu układów lub rozmów oraz inne informacje takie jak są stosowane do obsługi sieci.

"Sterownik kanału komunikacyjnego" (4) oznacza interfejs fizyczny sterujący przepływem synchronicznych lub asynchronicznych informacji cyfrowych. Jest to zespół, który może stanowić podzespół komputera lub urządzenia telekomunikacyjnego zapewniającego dostęp do łączności.

"Materiał kompozytowy" (1 2 6 8 9) oznacza "matrycę" oraz dodatkową fazę lub dodatkowe fazy, składające się z cząstek, włókienek, włókien lub dowolnej ich kombinacji, dodawanych w określonym celu lub celach.

"Teoretyczna moc kombinowana ("CTP")" (3 4) jest to miara mocy obliczeniowej podawana w milionach operacji teoretycznych na sekundę (Mtops), obliczana w oparciu o agregację "elementów obliczeniowych ("CE")".

Uwaga:

Patrz: kategoria 4, uwaga techniczna.

"Stół obrotowo-przechylny" (2) oznacza stół umożliwiający obracanie i przechylanie obrabianego przedmiotu względem dwóch osi nierównoległych, które mogą być równocześnie koordynowane, co umożliwia "sterowanie kształtowe".

"Element obliczeniowy" ("CE") (4) oznacza najmniejszą jednostkę obliczeniową, której działanie daje wynik arytmetyczny lub logiczny.

"Sterowanie kształtowe" (2) oznacza co najmniej dwa ruchy "sterowane numerycznie", wykonywane zgodnie z instrukcjami określającymi następne położenie oraz potrzebne do osiągnięcia tego położenia prędkości posuwów. Prędkości posuwów nie są jednakowe, dzięki czemu powstaje wymagany kształt (Patrz: ISO/DIS 2806–1980).

"Temperatura krytyczna" (1 3 6) (nazywana czasami temperaturą przemiany) danego materiału "nadprzewodzącego" jest temperaturą, w której materiał całkowicie traci opór na przepływ prądu stałego.

"Kryptografia" (5) oznacza dziedzinę wiedzy zajmująca się zasadami, narzędziami i metodami przekształcania danych w celu ukrycia zawartych w nich informacji, zapobiegania możliwości tajnego ich modyfikowania lub zapobiegania ich nieuprawnionego użycia. "Kryptografia" ogranicza się do przekształcania informacji za pomocą jednego lub większej liczby "tajnych parametrów" (np. szyfrów) lub związanego z tym zarządzania kluczami.

Uwaga:

"Tajny parametr" : wartość stała lub klucz trzymany w tajemnicy przed osobami postronnymi lub znany wyłącznie pewnej grupie osób.

"CTP" oznacza z "teoretyczną moc kombinowaną".

"Nawigacja na podstawie bazy danych" ("DBRN") (7) oznacza systemy, które wykorzystują różne źródła uprzednio pomierzonych zintegrowanych danych geodezyjno-kartograficznych w celu dostarczenia informacji nawigacyjnych w warunkach dynamicznych. Źródła danych zawierają mapy batymetryczne, mapy gwiezdne, mapy grawitacyjne, mapy magnetyczne lub mapy terenu w systemie cyfrowym 3-D.

"Szybkość przesyłania danych" (5) oznacza szybkość, zgodnie z definicją podaną w zaleceniu 53–56 ITU, uwzględniającą fakt, że w przypadku modulacji niebitowej, szybkości w bodach i bitach na sekundę są różne. Uwzględnia bity do kodowania, kontrolne i synchronizujące.

Uwaga 1:

Przy określaniu "szybkości przesyłania danych" należy wyłączyć kanały do obsługi technicznej i zarządzania.

Uwaga 2:

Jest to maksymalna szybkość w jednym kierunku, tj. maksymalna szybkość nadawania lub odbioru.

"Zwierciadła odkształcalne" (6) (znane również jako adaptacyjne zwierciadła optyczne) oznaczają zwierciadła, które mają:

a. Jedną ciągłą odbijającą powierzchnię optyczną, którą można dynamicznie odkształcać za pomocą pojedynczych momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło; lub

b. Wiele odbijających elementów optycznych, które można oddzielnie i dynamicznie przemieszczać w inne położenie za pomocą działających na nie momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło.

"Uran zubożony" (0) oznacza uran zubożony o izotop 235 poniżej poziomu jego występowania w naturze.

"Rozwój" (UOdT UdTJ wszystkie) odnosi się do wszystkich etapów poprzedzających produkcję seryjną, takich jak: projektowanie, badania projektowe, analiza konstrukcyjna, koncepcja projektowania, montaż i testowanie prototypów, plany produkcji pilotażowej, dane projektowe, proces przetwarzania danych projektowych w produkt, projektowanie konfiguracji, projektowanie montażu całościowego, rozplanowanie.

"Zgrzewanie dyfuzyjne" (1 2 9) oznacza łączenie molekularne w stanie stałym co najmniej dwóch oddzielnych metali w jeden element o łącznej wytrzymałości równej wytrzymałości najsłabszego z materiałów.

"Komputer cyfrowy" (4 5) oznacza urządzenie, które może, w formie jednej lub kilku zmiennych dyskretnych, dokonywać wszystkich niżej podanych operacji:

a. przyjmowanie danych;

b. przechowywanie danych lub instrukcji na trwałych lub nietrwałych (zapis wymazywalny) urządzeniach przechowywania danych;

c. przetwarzanie danych za pomocą zapamiętanej sekwencji instrukcji, które można modyfikować; oraz

d. wyprowadzanie danych na wyjście.

Uwaga:

Modyfikacje zapamiętanej sekwencji instrukcji dotyczą wymiany trwałych urządzeń pamięciowych, ale nie fizycznych zmian przewodów lub połączeń.

"Szybkość przesyłania danych cyfrowych" (5) oznacza całkowitą szybkość informacji w bitach, przesyłanych bezpośrednio na dowolnym typie nośnika.

Uwaga:

Patrz także: "całkowita szybkość przesyłania danych cyfrowych".

"Bezpośrednie wytłaczanie hydrauliczne" (2) oznacza technikę odkształcania, w której stosowana jest napełniona płynem odkształcalna poduszka, działająca bezpośrednio na powierzchnię obrabianego przedmiotu.

"Pełzanie zera" (żyroskopu) (7) oznacza zmianę odchylenia wskazań od wartości pożądanej w funkcji czasu. Składa się z elementów przypadkowych i systematycznych i jest wyrażana jako równoważne wejściowe przemieszczenie kątowe na jednostkę czasu w odniesieniu do pola inercyjnego.

"Adaptacyjny dynamiczny wybór trasy" (5) oznacza automatyczną zmianę trasy w ruchu na podstawie odbieranych i analizowanych informacji o bieżących warunkach w sieci.

Uwaga:

Nie dotyczy to przypadków decyzji o zmianie trasy podejmowanych na podstawie określonych wcześniej informacji.

"Analizatory sygnałów dynamicznych" (3) oznaczają "analizatory sygnałów", w których zastosowano techniki cyfrowego pobierania próbek i przekształcania w celu utworzenia obrazu widma Fouriera danej postaci fali, włącznie z informacjami o jej amplitudzie i fazie.

Uwaga:

Patrz także: "analizatory sygnałów".

"Gram efektywny" (0 1) "specjalnego materiału rozszczepialnego" oznacza:

a. dla izotopów plutonu i uranu-233, masę izotopu w gramach;

b. dla uranu wzbogaconego do poziomu 1 procenta lub więcej izotopu uranu-235, masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez kwadrat jego wzbogacenia wyrażonego w postaci ułamka dziesiętnego udziału wagowego izotopu U-235;

c. dla uranu wzbogaconego w izotop uranu-235 do poziomu poniżej 1 procenta, masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez 0,0001.

"Zespół elektroniczny" (3 4 5) oznacza pewną liczbę elementów elektronicznych (tj. "układów elementarnych", "elementów dyskretnych", układów scalonych itp.) połączonych w celu realizacji określonej(-ych) funkcji, wymienialnych w całości, które zazwyczaj mogą być demontowane.

Uwaga 1:

"Element obwodu" : pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. pojedyncza dioda, pojedynczy tranzystor, pojedynczy rezystor, pojedynczy kondensator itp.

Uwaga 2:

"Element dyskretny" : oddzielnie obudowany "układ elementarny" z własnymi końcówkami wyjściowymi.

"Sterowany elektronicznie układ antenowy fazowany" (5 6) oznacza antenę kształtującą wiązkę za pomocą sprzężenia fazowego, tj. kierunek wiązki jest utrzymywany za pomocą elementów promieniujących o złożonych współczynnikach wzbudzenia, przy czym kierunek takiej wiązki – azymut lub podniesienie kątowe lub oba można zmieniać za pomocą sygnału elektrycznego, zarówno dla nadawania jak i odbioru.

"Mechanizmy robocze" (2) oznaczają uchwyty, "aktywne zespoły narzędziowe" oraz wszelkie inne narzędzia mocowane do płyty roboczej na końcu ramienia manipulatora "robota".

Uwaga:

"Aktywne zespoły narzędziowe" oznacza urządzenia przekazujące obrabianemu elementowi napęd, energię potrzebną do obróbki lub określające parametry obrabianego elementu.

"Gęstość zastępcza" (6) oznacza masę elementu optycznego na jednostkę pola powierzchni optycznej rzutowanej na powierzchnię optyczną.

"Systemy eksperckie" (4 7) oznacza systemy podające wyniki poprzez zastosowanie reguł w odniesieniu do danych, które są przechowywane niezależnie od "programu" i które mogą wykonywać następujące operacje:

a. automatyczna modyfikacja "kodu źródłowego" wprowadzonego przez użytkownika;

b. dostarczanie informacji związanych z klasą problemów w języku quasi-naturalnym; lub

c. uzyskanie wiedzy wymaganej do ich rozwoju (szkolenie symboliczne).

"FADEC" oznacza "całkowicie autonomiczne systemy cyfrowego sterowania silnikami".

"Odporność na uszkodzenia" (4) oznacza zdolność systemu komputerowego, po dowolnym wadliwym zadziałaniu części jego sprzętu lub "oprogramowania", do kontynuacji działalności bez interwencji człowieka, na danym poziomie usług, zapewniającym: kontynuowanie działania, zachowanie danych bez ich naruszenia oraz odzyskanie zdolności usługowych w określonym czasie.

"Materiały włókniste lub włókienkowe" (0 1 8) obejmuje:

a. "włókna elementarne" o strukturze ciągłej;

b. "przędzę" i "rowing" o strukturze ciągłej;

c. "taśmy", tkaniny, maty i oploty o strukturze bezładnej;

d. włókna pocięte na drobne kawałki, włókna pocięte na dłuższe odcinki oraz spójne maty z włókien;

e. wiskery monokrystaliczne lub polikrystaliczne, o dowolnej długości;

f. pulpa z poliamidu aromatycznego.

"Układ scalony warstwowy" (3) oznacza układ "elementów obwodu" i metalowych łączników, wytworzony techniką osadzania grubej lub cienkiej warstwy na "podłożu" o właściwościach izolujących.

Uwaga:

"Element obwodu": pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego taka jak pojedyncza dioda, pojedynczy tranzystor, pojedynczy rezystor, pojedynczy kondensator itp.

"Ustalony" (5) oznacza, że algorytm kodowania lub kompresji nie może przyjąć parametrów dostarczonych z zewnątrz (np. zmiennych do szyfrowania lub kluczy) i nie może być modyfikowany przez użytkownika.

"Układy czujników optycznych sterowania lotem" (7) jest to układ czujników optycznych, wykorzystujący promień "lasera" do dostarczania w czasie rzeczywistym danych sterowania lotem w celu ich przetwarzania na pokładzie.

"Optymalizacja toru lotu" (7) jest to procedura minimalizująca odchylenia od czterowymiarowego (przestrzeń i czas) wymaganego toru lotu, oparta na maksymalnym wykorzystaniu pracy lub efektywności w realizacji zadania.

"Płaski zespół ogniskowy" (6) oznacza płaską warstwę o strukturze liniowej lub dwuwymiarowej lub kombinację takich płaskich warstw, złożonych z oddzielnych elementów detekcyjnych, z elektronicznym urządzeniem odczytującym lub bez, pracującą w płaszczyźnie ogniskowej.

Uwaga:

Układ ten nie powinien zawierać stosu pojedynczych elementów detekcyjnych ani też dwóch, trzech lub czterech elementów detekcyjnych, pod warunkiem że w danym elemencie nie zachodzi opóźnienie czasowe ani realizacja integracji wewnątrz elementu.

"Ułamkowa szerokość pasma" (3) oznacza "pasmo chwilowe" podzielone przez częstotliwość środkową, wyrażone w procentach.

"Rozrzucanie częstotliwości" (5) oznacza formę "rozproszenia widma" polegającą na krokowo-dyskretnej zmianie częstotliwości nośnej pojedynczego kanału telekomunikacyjnego, w sposób losowy lub pseudolosowy.

"Czas przełączania częstotliwości" (3 5) oznacza maksymalny czas (tj. opóźnienie), jakiego potrzebuje sygnał przy przełączaniu się z jednej wybranej częstotliwości wyjściowej na inną, wybraną częstotliwość wyjściową, aby osiągnąć:

a. częstotliwość do 100 Hz częstotliwości końcowej; lub

b. poziom wyjściowy do l dB poziomu mocy wyjściowej.

"Syntetyzator częstotliwości" (3) oznacza dowolny rodzaj źródła częstotliwości lub generatora sygnału, niezależnie od rzeczywiście użytej metody, zapewniający uzyskanie wielu równoczesnych lub alternatywnych częstotliwości wyjściowych, z jednego lub kilku wyjść, regulowanych, pochodzących z lub ograniczanych przez mniej liczne częstotliwości standardowe (lub główne).

"Całkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami" ("FADEC") (7 9) oznacza elektroniczny system sterowania turbiną gazową lub silnikami o złożonym cyklu, wykorzystujący komputer cyfrowy do kontroli parametrów niezbędnych do regulacji siły ciągu silnika lub mocy wyjściowej na wale w całym zakresie pracy silnika, od początku dozowania do odcięcia dopływu paliwa.

"Atomizacja gazowa" (1) oznacza proces rozpylania strumienia roztopionego stopu metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomocą strumienia gazu o wysokim ciśnieniu.

"Rozrzucone geograficznie" (6) występują wtedy, gdy każde miejsce jest oddalone w dowolnym kierunku od dowolnego innego miejsca o więcej niż 1500 m. Czujniki ruchome uważa się zawsze za "geograficznie rozproszone".

"Instalacje do naprowadzania" (7) oznacza systemy scalające proces pomiaru i obliczania położenia pojazdu i jego prędkości (tj. nawigację) z obliczeniami i wysyłaniem poleceń do systemów sterowania lotem pojazdu w celu skorygowania jego toru lotu.

"Izostatyczne zagęszczanie na gorąco" (2) technikę ciśnieniowania odlewu w temperaturach powyżej 375 K (102 °C) w zamkniętej formie za pomocą różnych czynników (gaz, ciecz, cząstki stałe itp.), której celem jest wytworzenie jednakowej siły we wszystkich kierunkach w celu zmniejszenia lub eliminacji jam wewnętrznych w odlewie.

"Komputer hybrydowy" (4) oznacza urządzenia, które mogą wykonywać wszystkie niżej podane operacje:

a. przyjmowanie danych;

b. przetwarzanie danych, zarówno w postaci analogowej, jak i cyfrowej; oraz

c. podawanie danych końcowych.

"Hybrydowy układ scalony" (3) oznacza dowolną kombinację układu(-ów) scalonego(-nych) lub układu scalonego z "elementami układu" lub "składnikami dyskretnymi" połączonymi ze sobą w celu realizacji określonej(-nych) funkcji i posiadające wszystkie następujące właściwości:

a. posiada co najmniej jedno urządzenie nieobudowane;

b. zastosowano w niej typowe metody łączenia stosowane podczas produkcji układów scalonych;

c. można ją wymienić tylko w całości; oraz

d. w normalnych warunkach nie można jej rozmontować na elementy składowe.

Uwaga 1:

"Element obwodu" : pojedyncza, czynna lub bierna część funkcjonalna, taka jak pojedyncza dioda, pojedynczy tranzystor, pojedynczy kondensator itp.

Uwaga 2:

"Składnik dyskretny" : "element obwodu" w oddzielnej obudowie z własnymi połączeniami zewnętrznymi.

"Wzmacnianie obrazu" (4) oznacza przetwarzanie obrazów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą algorytmów, takich jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciąganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie między domenami (np. za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub transformaty Walsha). Nie obejmuje algorytmów, w których stosowane są wyłącznie przekształcenia liniowe lub obrotowe pojedynczego obrazu, takie jak przesunięcie, ekstrahowanie jakiejś cechy, rejestracja lub fałszywe barwienie.

"Immunotoksyna" (1) jest to koniugat jednokomórkowego określonego przeciwciała monoklonalnego i "toksyny" lub "podjednostki toksyny", który selektywnie oddziaływuje na chore komórki.

"Będące własnością publiczną" (UOdT UdTJ UOdO) zgodnie z zastosowaniem w niniejszym dokumencie, to "technologia" bądź "oprogramowanie", które zostały udostępnione bez ograniczenia w zakresie dalszego upowszechniania (ograniczenia związane z prawem autorskim nie wyłączają "technologii" czy "oprogramowania" z bycia "własnością publiczną").

"Ochrona informacji" (4 5) są to wszelkiego rodzaju sposoby i funkcje zapewniające dostęp, poufność lub nienaruszalność informacji lub komunikacji, z wyłączeniem sposobów i funkcji zabezpieczających przed wadliwym działaniem. Obejmuje "rozszyfrowywanie", "analizę kryptograficzą", ochronę przed przypadkowym przekazywaniem sygnałów odnoszących się do tajnych informacji oraz zabezpieczanie komputerów.

Uwaga:

"Analiza kryptograficzna" : analiza systemu kryptograficznego lub jego elementów wejściowych i wyjściowych w celu uzyskania zmiennych poufnych lub sensytywnych danych, w tym czystego tekstu.

"Chwilowa szerokość pasma" (3 5 7) oznacza szerokość pasma, w którym moc wyjściowa pozostaje stała w przedziale do 3 dB bez dostosowania parametrów operacyjnych.

"Zasięg przyrządowy" (6) oznacza jednoznacznie określony zakres radaru.

"Izolacja" (9) jest pojęciem stosowanym do podzespołów silnika rakietowego, tj. osłon, dyszy, wlotów, zamknięć osłon, obejmujące utrwalone lub półutrwalone maty kauczukowe zawierające materiał ogniotrwały lub izolacyjny. Można ją również stosować na klatki lub klapy odprężające.

"Połączone czujniki radarowe" (6) oznacza, że co najmniej dwa czujniki radarowe są ze sobą połączone, jeżeli wymieniają między sobą informacje w czasie rzeczywistym.

"Wykładzina wewnętrzna" (9) jest to warstwa pośrednia między paliwem stałym a osłoną lub warstwą izolacyjną. Zazwyczaj jest to płynna polimerowa zawiesina materiału ogniotrwałego lub izolacyjnego, np. węgiel wypełniony polibutadienem zakończonym hydroksylem (HTPB) lub innym polimerem z dodatkiem środków utrwalających, rozpylonych lub rozsmarowanych na wewnętrznej powierzchni osłony.

"Miernik gradientu magnetycznego własnego" (6) jest to pojedynczy czujnik gradientu pola magnetycznego i towarzyszące mu urządzenia elektroniczne, który dokonuje pomiaru gradientu pola magnetycznego.

Uwaga:

Patrz także: "miernik gradientu magnetycznego".

"Izolowane żywe kultury" (1) obejmują żywe kultury w postaci uśpionej lub w postaci suchych preparatów.

"Prasy izostatyczne" (2) oznacza urządzenia umożliwiające ciśnieniowanie zamkniętych komór za pomocą różnych czynników roboczych (gazu, cieczy, cząstek stałych itp.) w celu wytwarzania w komorze we wszystkich kierunkach równych ciśnień działających na obrabiany element lub materiał.

"Laser" (0 2 3 5 6 7 8 9) jest to zespół elementów wytwarzających w przestrzeni i czasie wiązkę światła spójnego wzmocnioną poprzez pobudzanie emisji promieniowania.

Uwaga:

Patrz także:

"laser chemiczny";

"laser modulowany dobrocią";

"laser o super wysokiej mocy";

"laser z przekazaniem energii".

"Liniowość" (2) (zazwyczaj określana w kategoriach nieliniowości) oznacza maksymalne odchylenie rzeczywistej właściwości (średnia wartości odczytów z góry i dołu skali), w kierunku dodatnim lub ujemnym od linii prostej ułożonej w taki sposób, aby wyrównać i zminimalizować maksymalne odchylenia.

"Lokalna sieć komputerowa" (4) jest to system przesyłania danych posiadający wszystkie następujące właściwości:

a. Umożliwiający bezpośrednie połączenie dowolnej liczby niezależnych "jednostek danych"; oraz

b. Ograniczony w sensie geograficznym do pewnego obszaru o niewielkim zasięgu (np. biurowiec, przedsiębiorstwo, miasteczko studenckie, magazyn).

Uwaga:

"Jednostka danych" oznacza urządzenie posiadające możliwość nadawania lub odbierania sekwencji informacji cyfrowych.

"Mierniki gradientu magnetycznego" (6) to instrumenty przeznaczone do wykrywania zmian w przestrzeni pól magnetycznych źródeł zewnętrznych w stosunku do instrumentu. Składają się z wielu "magnetometrów" i związanych z nimi układów elektronicznych, na których wyjściu jest mierzony gradient pola magnetycznego.

Uwaga:

Patrz także: "mierniki gradientu magnetycznego własnego".

"Magnetometry" (6) to instrumenty przeznaczone do wykrywania pól magnetycznych źródeł zewnętrznych w stosunku do instrumentu. Składają się z pojedynczego czujnika pola magnetycznego i związanych z nim układów elektronicznych, na których wyjściu jest mierzony gradient pola magnetycznego.

"Główna pamięć operacyjna" (4) oznacza podstawową pamięć dla danych lub instrukcji, szybko dostępną dla jednostki centralnej. Składa się z pamięci wewnętrznej "komputera cyfrowego" oraz jednej z dodatkowych pamięci o strukturze hierarchicznej, takich jak pamięć podręczna (cache) lub niesekwencyjnie dostępna pamięć dodatkowa.

"Materiały odporne na korozyjne działanie UF6" (0) mogą nimi być miedź, stal nierdzewna, aluminium, tlenek aluminium, stopy aluminium, nikiel lub stop zawierający 60 % masy lub więcej niklu oraz odporne na działanie UF6 fluorowane polimery węglowodorowe, odpowiednio do rodzaju procesu separacji.

"Matryca" (1 2 8 9) oznacza fazę o strukturze ciągłej wypełniającą przestrzeń między cząstkami, włosami lub włóknami.

"Niepewność pomiarowa" (2) jest to parametr charakterystyczny określający, na poziomie ufności 95 %, w jakiej odległości od wartości prawidłowej leży zmienna pomiarowa. Obejmuje on niedające się skorygować systematyczne odchylenia, niedający się skorygować luz i odchylenia losowe (patrz: ISO 10360-2, lub VDI/VDE 2617).

"Stapianie mechaniczne" (1) oznacza technikę wykonywania stopów polegającą na mechanicznym łączeniu, rozdrabnianiu i ponownym łączeniu sproszkowanych pierwiastków i głównego składnika stopowego. Jako składnik stopowy może występować substancja niemetaliczna dodawana w postaci odpowiedniego proszku.

"Formowanie ekstrakcyjne z fazy stopionej" (1) oznacza technikę "gwałtownego krzepnięcia" i ekstrahowania wyrobu stopowego podobnego do taśmy, polegającą na wkładaniu krótkiego segmentu wirującego ochłodzonego bloku do wanny roztopionego stopu metalowego.

Uwaga:

"Gwałtowne krzepnięcie" : krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1000 K/s.

"Formowanie rotacyjne z fazy stopionej" (1) oznacza technikę "gwałtownego krzepnięcia" strumienia stopionego metalu z uderzeniem o wirujący schłodzony blok, nadający produktowi kształt płatka, wstęgi lub pręta.

Uwaga:

"Gwałtowne krzepnięcie" : krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1000 K/s.

"Układ mikrokomputerowy" (3) oznacza "monolityczny układ scalony" lub "wieloukład scalony", w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji instrukcji ogólnych, zawartych w pamięci wewnętrznej, na danych znajdujących się w pamięci wewnętrznej.

Uwaga:

Pamięć wewnętrzna może zostać zwiększona o pamięć zewnętrzną.

"Układ mikroprocesorowy" (3) oznacza "monolityczny układ scalony" lub "wieloukład scalony", w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji szeregu instrukcji ogólnych zawartych w pamięci zewnętrznej.

Uwaga 1:

"Układ mikroprocesorowy" zazwyczaj nie zawiera integralnej, dostępnej dla użytkownika pamięci, choć pamięć mikroukładu może być wykorzystana do wykonywania jego funkcji logicznej.

Uwaga 2:

Definicja ta obejmuje zespoły układów, które są przeznaczone do wspólnej pracy w celu realizacji funkcji "układu mikroprocesorowego".

"Drobnoustroje" (1 2) to bakterie, wirusy, mikoplazmy, riketsje, chlamydie lub grzyby, nawet naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci wyizolowanych żywych kultur lub materiału zawierającego materiał żywy, który celowo zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami.

"Pociski rakietowe" (1 3 5 6 7 9) oznacza kompletne systemy rakietowe i bezzałogowe systemy pojazdów latających, zdolne do dostarczania ładunku o masie co najmniej 500 kg na odległość co najmniej 300 km.

"Włókno elementarne" (1) lub włókno jest to najmniejszy inkrement włókna, zazwyczaj mający średnicę kilku mikrometrów.

"Monolityczny układ scalony" (3) oznacza kombinację czynnych lub biernych, lub obu, "elementów układu" o następujących właściwościach:

a. jest uformowany techniką dyfuzyjną, technikami implantacyjnymi lub technikami osadzania w lub na pojedynczym półprzewodzącym kawałku materiału, tzw. "chipie";

b. można go traktować jak element niepodzielny; oraz

c. realizuje funkcję(-e) obwodu.

Uwaga:

"Element obwodu": pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, taka jak pojedyncza dioda, pojedynczy tranzystor, pojedynczy rezystor, pojedynczy kondensator itp.

"Monospektralne analizatory obrazowe" (6) mogą zbierać dane obrazowe z pojedynczego pasma widma dyskretnego.

"Wieloukład scalony" (3) oznacza dwa lub więcej "monolitycznych układów scalonych", przyłączone do wspólnego "podłoża".

"Strumieniowe wieloprzetwarzanie danych" (4) oznacza technikę opartą na "mikroprogramie" lub architekturze sprzętu, umożliwiającą równoczesne przetwarzanie dwóch lub więcej sekwencji danych pod kontrolą jednej lub kilku sekwencji instrukcji za pomocą takich narzędzi, jak:

a. zespoły o architekturze opartej na jednoinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (SIMD), np. procesory wektorowe lub tablicowe;

b. zespoły o architekturze opartej na wielokrotnym jednoinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (MSIMD);

c. zespoły o architekturze opartej na wieloinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (MIMD), włącznie z procesorami połączonymi bezpośrednio, połączonymi silnie lub połączonymi luźno; lub

d. elementy przetwarzające o strukturze tablicowej, włącznie z tablicami dynamicznymi.

Uwaga:

"Mikroprogram" oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu jej instrukcji odwołania do rejestru instrukcji.

"Ochrona wielopoziomowa" (5) oznacza klasę systemów zawierających informacje różnej wagi, umożliwiających równoczesny dostęp użytkownikom o różnym poziomie upoważnienia i potrzebach informacyjnych, natomiast niedopuszczających do informacji użytkowników, którzy nie mają odpowiedniego upoważnienia.

Uwaga:

"Ochrona wielopoziomowa" dotyczy zabezpieczenia komputera, a nie jego niezawodności, która jest związana z zapobieganiem awarii sprzętu lub ogólnie z eliminacją błędów ludzkich.

"Wielospektralne analizatory obrazowe" (6), umożliwiają równoczesne lub szeregowe odbieranie danych obrazowych z dwóch lub więcej dyskretnych pasm spektralnych. Analizatory o więcej niż dwudziestu dyskretnych pasmach spektralnych są czasami nazywane hiperspektralnymi analizatorami obrazowymi.

"Uran naturalny" (0) oznacza uran zawierający mieszaninę izotopów występujących w naturze.

"Sterownik dostępu do sieci" (4) oznacza interfejs fizyczny do sieci rozproszonej. Używa się w nim wspólnego nośnika działającego z taką samą "szybkością przesyłania danych cyfrowych" w systemie transmisji z arbitrażem (np. w sensie znacznika lub nośnika). Niezależnie od innych wybiera on adresowane do niego pakiety z danymi lub grupami danych (np. IEEE 802). Jest to zespół, który może być zintegrowany z komputerem lub urządzeniem telekomunikacyjnym, w celu zapewniania dostępu do łączy telekomunikacyjnych.

"Komputer neuronowy" (4) oznacza urządzenie dokonujące obliczeń, przeznaczone lub przystosowane do naśladowania zachowania neuronu lub grupy neuronów, tzn. urządzenie dokonujące obliczeń, które odróżnia się możliwością sprzętowego modulowania znaczenia i liczby połączeń sprzęgających różnych składników obliczeniowych w oparciu o poprzednie dane.

"Poziom szumu" (6) oznacza sygnał elektryczny wyrażony jako gęstość mocy widmowej. "Poziom szumów" wyrażony w wartościach całkowitych jest określony zależnością S2pp = 8No (f2–f1), gdzie Spp jest wartością całkowitą (maksymalną) sygnału (np. w nanoteslach), No jest gęstością mocy widmowej (np. (nanotesle)2/Hz), a (f2–f1) określa daną szerokość pasma.

"Reaktor jądrowy" (0) oznacza obiekt znajdujący się wewnątrz lub bezpośrednio przymocowany do zbiornika reaktora, którego wyposażenie steruje poziomem mocy w rdzeniu, a znajdujące się w nim zazwyczaj składniki wchodzą w bezpośrednią styczność z chłodziwem pierwotnym rdzenia reaktora.

"Sterowanie numeryczne" (2) oznacza automatyczne sterowanie procesem za pomocą urządzenia korzystającego z danych numerycznych zazwyczaj wprowadzanych podczas realizacji operacji (patrz: ISO 2382).

"Kod wynikowy" (9) oznacza sprzętowo wykonywalną postać dogodnego wyrażenia jednego lub więcej procesów ["kod źródłowy" (język źródłowy)], które zostały przetworzone przez system programowania.

"Wzmocnienie optyczne" (5), w telekomunikacji optycznej, oznacza technikę wzmacniania polegającą na uzyskiwaniu sygnałów optycznych generowanych przez oddzielne źródło optyczne, bez ich przetwarzania na sygnały elektryczne, tj. z zastosowaniem półprzewodnikowych wzmacniaczy optycznych, czy optycznych światłowodowych wzmacniaczy luminescencyjnych.

"Komputer optyczny" (4) oznacza komputer zaprojektowany lub zmodyfikowany z przeznaczeniem do używania światła do reprezentacji danych oraz taki, którego elementy obliczeniowo-logiczne działają bezpośrednio na sprzężonych urządzeniach optycznych.

"Optyczny układ scalony" (3) oznacza "monolityczny układ scalony" lub "hybrydowy układ scalony", składający się z jednej lub więcej części spełniających funkcję fotoczujnika lub fotoemitera lub działające jako układy optyczne lub elektrycznooptyczne.

"Komutacja optyczna" (5) oznacza przekazywanie lub komutację sygnałów w postaci optycznej bez przetwarzania na sygnały elektryczne.

"Całkowita gęstość prądu" (3) oznacza całkowitą liczbę amperozwojów w cewce (tj. suma liczby zwojów pomnożona przez maksymalne natężenie prądu przenoszone przez każdy zwój) podzieloną przez całkowity przekrój poprzeczny cewki (składającej się z włókienek nadprzewodzących, matrycy metalowej, w której osadzone są włókienka nadprzewodzące, materiału stanowiącego obudowę, kanałów chłodzących itp.).

"Państwo uczestniczące" (7 9) to państwo uczestniczące w Porozumieniu z Wassenaar (patrz: www.wassenaar.org).

"Moc impulsu" (6) oznacza energię na impuls wyrażoną w dżulach, podzieloną przez czas trwania impulsu w sekundach.

"Inteligentna karta osobista" (5) oznacza kartę inteligentną zaopatrzoną w mikroukład, zaprogramowaną do konkretnego zastosowania, bez możliwości przeprogramowania przez użytkownika do jakichkolwiek innych zastosowań.

"Sterowanie mocą" (7) oznacza zmianę mocy sygnału nadawanego przez wysokościomierz w taki sposób, żeby moc odbierana w "samolocie" na danej wysokości była zawsze na minimalnym poziomie niezbędnym do określenia wysokości.

"Przetworniki ciśnienia" (2) są to urządzenia przetwarzające pomiary ciśnienia na sygnał elektryczny.

"Uprzednio separowane" (0 1) oznacza zastosowanie wszelkich procesów zmierzających do wzbogacania koncentracji kontrolowanego izotopu.

"Podstawowe sterowanie lotem" (7) oznacza sterowanie stabilnością lub manewrownością "statku powietrznego" przy zastosowaniu generatorów typu siła/moment, tzn. aerodynamiczne sterowanie powierzchnią lub wektorem siły ciągu.

"Element o podstawowym znaczeniu" (4) zgodnie z zastosowaniem w kategorii 4 jest "elementem o podstawowym znaczeniu", jeżeli wartość jego wymiany stanowi ponad 35 % całkowitej wartości systemu, w którego skład wchodzi. Wartość elementu jest ceną płaconą za element przez producenta systemu lub przez firmę montującą system. Wartość całkowita jest zwykłą ceną sprzedaży osobom postronnym w miejscu produkcji lub w miejscu przygotowywania wysyłek towarów.

"Produkcja" (UOdT UdTJ wszystkie) oznacza wszystkie fazy produkcji, takie jak budowa, technologia produkcji, wytwarzanie, scalanie, montaż (składanie), kontrola, testowanie, zapewnienie jakości.

"Urządzenia produkcyjne" (1 9) oznaczają oprzyrządowanie, szablony, przyrządy obróbkowe, trzpienie, formy, matryce, uchwyty, mechanizmy synchronizujące, urządzenie testujące, inne maszyny i ich wyposażenie, z ograniczeniem do urządzeń specjalnie skonstruowanych lub zmodyfikowanych z przeznaczeniem do "rozwoju" lub jednej lub więcej faz "produkcji".

"Instalacje produkcyjne" (9) oznaczają sprzęt i specjalnie do niego opracowane oprogramowanie, scalone w instalacje w celu "rozwoju" jednej lub więcej faz "produkcji".

"Program" (2 6) oznacza sekwencję instrukcji do realizacji procesu, mającą postać wykonywalną lub przekształcalną na wykonywalną, za pomocą komputera elektronicznego.

"Kompresja impulsów" (6) oznacza kodowanie i przetwarzanie długiego impulsowego sygnału radarowego na krótki, przy zachowaniu korzyści wynikających z wysokiej energii impulsu

"Czas trwania impulsu" (6) jest to czas trwania impulsu "lasera" mierzony na poziomie połowy natężenia pełnej szerokości (FWHI).

"Laser modulowany dobrocią" (6) oznacza "laser", którego energia, gromadzona w postaci odwrócenia obsadzeń, jest emitowana w postaci impulsu wskutek szybkiej zmiany dobroci rezonatora optycznego.

"Ruchliwość częstotliwości w radarach" (6) oznacza dowolną technikę zmiany, według sekwencji pseudolosowej, częstotliwości nośnej impulsowego nadajnika radarowego między impulsami lub między grupami impulsów, o wartość równą lub większą od szerokości pasma impulsu.

"Rozproszone widmo radarowe" (6) oznacza dowolną technikę modulacji służącą do rozpraszania energii sygnału o stosunkowo wąskim paśmie częstotliwości na dużo szersze pasmo częstotliwości, za pomocą kodowania losowego lub pseudolosowego.

"Szerokość pasma czasu rzeczywistego" (3), w "dynamicznych analizatorach sygnałów" – jest to największy zakres częstotliwości, jaki analizator może przesłać na wyświetlacz lub do pamięci masowej, bez jakiejkolwiek przerwy w analizowaniu danych wejściowych. W przypadku analizatorów o więcej niż jednym kanale, obliczenia należy przeprowadzić dla takiej konfiguracji kanałów, która daje największą "szerokość pasma czasu rzeczywistego".

"Przetwarzanie w czasie rzeczywistym" (2 4 6 7) oznacza przetwarzanie danych przez system komputerowy, zapewniające żądany poziom realizacji zadań w funkcji dostępnych środków, w gwarantowanym czasie odpowiedzi, bez względu na jego obciążenie, kiedy jest on stymulowany przez wydarzenia zewnętrzne.

"Wymagane" (UOdT 1–9) w odniesieniu do "technologii" lub "oprogramowania" dotyczy tylko tej części "technologii" lub "oprogramowania", która jest szczególnie odpowiedzialna za osiągnięcie lub przekroczenie wartości parametrów, właściwości lub funkcji objętych kontrolą. Taka "wymagana""technologia" lub "oprogramowanie" może dotyczyć różnych towarów.

"Rozdzielczość" (2) oznacza najmniejszą działkę urządzenia pomiarowego; w przypadku instrumentu cyfrowego jest to najmniej znaczący bit (Patrz: ANSI B-89.1.12).

"Robot" (2 8) to mechanizm manipulacyjny o stałej ścieżce lub poruszający się od punktu do punktu, w którym mogą być wykorzystywane czujniki i który posiada wszystkie następujące właściwości:

a. jest wielofunkcyjny;

b. ma możliwość ustawiania w odpowiednim położeniu lub orientowania przestrzennego materiałów, części, narzędzi lub urządzeń specjalnych przez wykonywanie różnych ruchów w przestrzeni trójwymiarowej;

c. jest wyposażony w trzy lub większą liczbę mechanizmów wspomagających, pracujących w obwodzie zamkniętym lub otwartym, które mogą być poruszane silnikami krokowymi; oraz

d. może być programowany przez użytkownika poprzez uczenie/odtwarzanie lub za pomocą komputera elektronicznego, który może być programowanym sterownikiem logicznym, tj. bez ingerencji mechanicznej.

Uwaga:

Niniejsza definicja nie obejmuje następujących urządzeń:

1. mechanizmów poruszanych wyłącznie ręcznie/zdalnie przez operatora;

2. manipulatorów o ustalonej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, wykonującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych ograniczników takich jak sworznie lub krzywki. Kolejność ruchów oraz wybór drogi lub kątów nie są zmienne ani zmienialne za pomocą środków mechanicznych, elektronicznych lub elektrycznych;

3. manipulatorów o zmiennej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, wykonującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych ograniczników takich jak sworznie lub krzywki. Kolejność ruchów oraz wybór drogi lub kątów są zmienne w ramach ustalonego schematu programowego. Zmian lub modyfikacji schematu programowego (np. zmiany kołków lub wymiany krzywek) w jednej lub kilku osiach współrzędnych dokonuje się wyłącznie na drodze działań mechanicznych;

4. manipulatorów bez sterowania ze sprzężeniem zwrotnym, o zmiennej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, wykonującymi zaprogramowane mechanicznie ruchy. Program jest zmienny, ale sekwencja jest realizowana wyłącznie za pomocą sygnału binarnego z elektrycznych urządzeń binarnych o ustalonym mechanicznie położeniu lub regulowanych ograniczników;

5. żurawi do stertowania, definiowanych jako manipulatory działające w kartezjańskim układzie współrzędnych, produkowanych jako integralne części pionowych zespołów do silosów, i służących do sięgania po zawartość tych silosów w celu składowania lub wyjmowania.

"Atomizacja rotacyjna" (1) oznacza proces rozpylania strumienia lub jeziorka roztopionego metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomocą siły odśrodkowej.

"Rowing" (1) jest to wiązka (zazwyczaj 12–120 szt.) w przybliżeniu równoległych "skrętek".

Uwaga:

"Skrętka" oznacza wiązkę "włókien elementarnych" (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

"Bicie promieniowe" (odchylenie od właściwego ruchu) (2) oznacza promieniowe przemieszczenie głównego wrzeciona w ciągu jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do osi wrzeciona w punkcie znajdującym się na zewnętrznej lub wewnętrznej badanej powierzchni obrotowej (patrz: ISO 230/1–1986, ppkt 5.61).

"Współczynnik skalowania" (żyroskopu lub przyspieszeniomierza) (7) oznacza stosunek zmiany wartości wyjściowej do zmiany wartości wejściowej, która ma być mierzona. Współczynnik skalowania jest na ogół szacowany jako pochylenie linii prostej, którą można poprowadzić metodą najmniejszych kwadratów między punktami określającymi parametry wejściowe-wyjściowe, uzyskanymi poprzez cykliczną zmianę parametrów wejściowych w przedziale ich wartości.

"Czas ustalania" (3) oznacza czas potrzebny do otrzymania na wyjściu wartości różniącej się o połowę bitu od wartości końcowej podczas przełączania przetwornika z jednego poziomu na drugi.

"SHPL" oznacza "laser o super wysokiej mocy".

"Analizatory sygnałów" (3) oznacza aparaturę pozwalającą na pomiar i przedstawienie podstawowych właściwości składników o jednej częstotliwości tworzących sygnały wieloczęstotliwościowe.

"Przetwarzanie sygnałów" (3 4 5 6) oznacza przetwarzanie sygnałów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą takich algorytmów, jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciąganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie między domenami (np. za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub transformaty Walsha).

"Oprogramowanie" (UOdO Wszystko) oznacza zbiór jednego lub więcej "programów" lub "mikroprogramów", wyrażony w dowolny zrozumiały sposób.

Uwaga:

"Mikroprogram" oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji referencyjnej.

"Kod źródłowy" (lub język źródłowy) (4 5 6 7 9) jest to wygodny sposób wyrażenia jednego lub kilku procesów, który może być przekształcony przez system programowania w postać dającą się wykonać na urządzeniu ["kod wynikowy" (lub język wynikowy)].

"Statek kosmiczny" (7 9) oznacza czynne i bierne satelity i sondy kosmiczne.

"Klasy kosmicznej" (3 6) odnosi się do produktów projektowanych, wytwarzanych i testowanych w taki sposób, żeby spełniały specjalne wymagania elektryczne, mechaniczne lub środowiskowe, związane z ich stosowaniem podczas wystrzeliwania i wykorzystywania satelitów lub urządzeń latających na dużych wysokościach, od 100 km wzwyż.

"Specjalny materiał rozszczepialny" (0) oznacza pluton-239, uran-233, "uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233" oraz każdy materiał, który zawiera wymienione pierwiastki.

"Moduł właściwy" (0 1) jest to moduł Younga w paskalach, równoważny N/m2, podzielony przez ciężar właściwy w N/m3, mierzony w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotności względnej (50 ± 5)%.

"Wytrzymałość właściwa na rozciąganie" (0 1) jest to najwyższa wytrzymałość na rozciąganie w paskalach, wyrażona w N/m2, podzielona przez masę właściwą w N/m3, mierzona w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotności względnej (50 ± 5)%.

"Ultraszybkie chłodzenie" (1) oznacza proces "gwałtownego krzepnięcia" polegający na uderzaniu stopionego strumienia metalu w ochłodzony blok, w wyniku czego powstaje produkt w postaci płatków.

Uwaga:

"Gwałtowne krzepnięcie" to krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1000 K/s.

"Widmo rozproszone" (5) oznacza technikę służąca do rozpraszania energii sygnału ze stosunkowo wąskiego kanału telekomunikacyjnego na dużo szersze widmo energii.

Radar o "rozproszonym widmie" (6) – patrz: "rozproszone widmo radarowe".

"Stabilność" (7) oznacza odchylenie standardowe (l sigma) zmienności danego parametru od jego wartości wzorcowej mierzone w stałych warunkach temperaturowych. Odchylenie to może być funkcją czasu.

"Państwa (nie) będące Stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" (1) są to te Państwa, w których Konwencja o zakazie prowadzenia badań, produkcji, składowania i użycia broni chemicznej (nie) weszła w życie (patrz: www.opcw.org).

"Ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" (2 3 5) oznacza sterowanie za pomocą instrukcji zaprogramowanych w pamięci elektronicznej, które procesor może realizować w celu kierowania parametrami uprzednio określonych funkcji.

Uwaga:

Urządzenie może być urządzeniem "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci", bez względu na to, czy pamięć elektroniczna jest wewnętrzna, czy też zewnętrzna względem urządzenia.

Podłoże (3) oznacza płytkę materiału głównego z naniesionymi połączeniami lub bez nich, na której lub wewnątrz której można umieszczać "składniki dyskretne" albo układy scalone lub oba z nich.

Uwaga 1:

"Dyskretny składnik" : "element obwodu" w oddzielnej obudowie z własnymi połączeniami zewnętrznymi.

Uwaga 2:

"Element obwodu" : pojedyncza czynna lub bierna część funkcjonalna układu elektronicznego, taka jak pojedyncza dioda, pojedynczy tranzystor, pojedynczy rezystor, pojedynczy kondensator itp.

"Półprodukt podłoża" (6) oznacza monolityczne związki o wymiarach odpowiednich dla produkcji elementów optycznych takich jak zwierciadła czy okienka optyczne.

"Podjednostka toksyny" (1) jest to strukturalny i funkcjonalny oddzielny składnik "toksyny".

"Nadstopy" (2 9) oznaczają stopy na osnowie niklu, kobaltu lub żelaza o bardzo wysokiej wytrzymałości w porównaniu z innymi stopami serii AISI 300 w temperaturach powyżej 922 K (694 °C), w skrajnych warunkach środowiskowych i eksploatacyjnych.

"Nadprzewodniki" (1 3 6 8) są to materiały, tj. metale, stopy lub związki, które mogą utracić całą swoją odporność elektryczną, tzn. takie, które mogą uzyskać nieskończoną przewodność elektryczną i przewodzić prąd o bardzo wysokim natężeniu bez wytwarzania ciepła Joule'a.

Uwaga:

"Nadprzewodzący" stan materiału jest indywidualnie scharakteryzowany "temperaturą krytyczną", krytycznym polem magnetycznym, będącym funkcją temperatury, oraz krytyczną gęstością prądu, która jest funkcją zarówno pola magnetycznego, jak i temperatury.

"Laser o super wysokiej mocy" ("SUPL") (6) oznacza "laser", który może dostarczyć energię wyjściową (całkowitą lub częściową) powyżej 1 kJ w ciągu 50 ms lub taki, którego moc przeciętna lub moc w przypadku fali ciągłej wynosi powyżej 20 kW.

"Formowanie w stanie nadplastycznym" (1 2) oznacza proces odkształcania termicznego metali, których wydłużenie całkowite, mierzone w temperaturze pokojowej tradycyjnymi technikami badania wytrzymałości na rozciąganie, w normalnych warunkach, jest bardzo małe (poniżej 20 %); jej celem jest co najmniej dwukrotne powiększenie wydłużeń podczas obróbki.

"Algorytm symetryczny" (5) oznacza algorytm kryptograficzny stosujący identyczne klucze do szyfrowania i deszyfrowania.

Uwaga:

Powszechnym zastosowaniem "algorytmu symetrycznego" jest utajnianie danych.

"Ścieżki systemowe" (6) oznacza przetworzone, skorelowane (połączenie radiolokacyjnych danych o celu z położeniem obiektu) i zaktualizowane dane dotyczące położenia statku powietrznego w locie, dostępne dla kontrolerów centrum kontroli ruchu lotniczego.

"Komputer z dynamiczną modyfikacją tablic" (4) oznacza komputer, w którym przepływ i modyfikacja danych są dynamicznie sterowane przez użytkownika na poziomie bramek logicznych.

"Taśma" (1) jest to materiał zbudowany z przeplatanych lub jednakowo ukierunkowanych "włókien elementarnych", "skrętek", "rowingów", "kabli" lub "przędz" itp., zazwyczaj impregnowany żywicą.

Uwaga:

"Skrętka" oznacza wiązkę "włókien elementarnych" (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

"Technologia" (UOdT UdTJ Wszystko) oznacza specyficzny rodzaj informacji, niezbędny do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" danego wyrobu. Informacja ta ma postać "danych technologicznych" lub "pomocy technicznej".

Uwaga 1:

"Pomoc techniczna" może przybierać takie formy jak: przekazanie instrukcji, umiejętności, szkolenie, przekazanie wiedzy na temat eksploatacji oraz usługi konsultacyjne i może obejmować transfer "danych technologicznych".

Uwaga 2:

"Danymi technologicznymi" mogą być odbitki, plany, wykresy, modele, wzory, tabele, projekty techniczne i opisy, podręczniki i instrukcje w formie pisemnej lub zarejestrowanej na innych nośnikach lub urządzeniach, takich jak dyski, taśmy, pamięci wyłącznie do odczytu.

"Szybkość przetwarzania trójwymiarowej grafiki wektorowej" (4) oznacza liczbę generowanych na sekundę wektorów typu poliline o długości 10 pikseli, testowanych długościowo, zorientowanych losowo i mających współrzędne X-Y-Z całkowite lub zmiennoprzecinkowe (w zależności od tego, która z tych wartości daje szybkość maksymalną).

"Wrzeciono wahadłowe" (2) oznacza wrzeciono na narzędzia, zmieniające podczas procesu obróbki położenie kątowe swojej linii centralnej względem dowolnej innej osi.

"Stała czasowa" (6) jest to czas od chwili bodźca świetlnego do wzrostu prądu do wartości stanowiącej 1–1/e-krotną wartość wielkości końcowej (tj. 63 % wartości końcowej).

"Czasowo-modulowane ultra-szerokopasmowe" oznacza techniki w których bardzo krótkie precyzyjnie sterowane czasowo impulsy RF (częstotliwości radiowej) są modulowane przez zmianę położenia impulsu (zwykle zwane Modulacją Położenia Impulsu, PPM) zgodnie z danymi komunikacyjnymi skanalizowanymi lub szyfrowanymi przez PPM zgodnie z pseudolosowymi kodami szumów informacyjnych, które wysłano i odebrano w formie bezpośredniego impulsu bez stosowania wszelkich częstotliwości nośnych, uzyskując w rezultacie ekstremalnie niską gęstość mocy przy ultra-szerokim paśmie częstotliwości. Są one również znane jako impulsy radiowe.

"Kompleksowe sterowanie lotem" (7) oznacza automatyczne sterowanie zmiennymi stanu "statku powietrznego" i toru lotu w celu realizacji zadania bojowego odpowiednio do zmian w czasie rzeczywistym danych dotyczących celu, niebezpieczeństwa lub innego "statku powietrznego".

"Całkowita szybkość transmisji cyfrowej" (5) oznacza liczbę bitów, włącznie z bitami kodowymi linii, bitami nieinformacyjnymi i podobnymi, przepływającymi w jednostce czasu pomiędzy odpowiednimi urządzeniami w cyfrowym systemie transmisji.

Uwaga:

Patrz także: "szybkość przesyłania danych cyfrowych".

"Kable" (1) są to wiązki "włókien elementarnych", zazwyczaj w przybliżeniu równoległe.

"Toksyny" (1 2) oznaczają toksyny w postaci celowo wyizolowanych preparatów lub mieszanek, bez względu na sposób produkcji, inne niż toksyny istniejące jako zanieczyszczenia innych materiałów, takie jak próbki chorobotwórcze, plony, żywność lub posiewy "drobnoustrojów".

"Laser z przekazaniem energii" (6) oznacza "laser", w którym czynnik emitujący promieniowanie laserowe jest wzbudzany w wyniku transferu energii na skutek zderzeń atomów lub molekuł, niebiorących udziału w akcji laserowej, z atomami lub molekułami czynnika emitującego promieniowanie laserowe.

"Przestrajalność" (6) oznacza zdolność "lasera" do wytwarzania ciągłego sygnału wyjściowego we wszystkich długościach fal w przedziale kilku przejść "laserowych". "Laser" z selekcją liniową wytwarza dyskretne długości fal w ramach jednego przejścia "laserowego" i nie jest uważany za "przestrajalny".

"Uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233" (0) oznacza uran zawierający izotopy 235 lub 233, lub oba, w takich ilościach, że stosunek łącznej zawartości tych izotopów do izotopu 238 jest większy, niż stosunek zawartości izotopu 235 do izotopu 238 występujący w naturze (stosunek izotopowy 0,72 procenta).

"Użytkowanie" (UOdT UdTJ Wszystko) oznacza obsługę, instalowanie (włącznie z montażem na miejscu), konserwację (kontrolę), naprawę, remonty i odnawianie.

"Możliwość programowania przez użytkownika" (4 5 6) oznacza możliwość wprowadzania, modyfikacji lub wymiany "programów" przez użytkownika na innej drodze niż poprzez:

a. fizyczne zmiany przewodów lub połączeń; lub

b. nastawianie regulatorów funkcji, w tym parametrów wejściowych.

"Szczepionka" (1) jest to wyrób medyczny w farmaceutycznym opracowaniu, licencjonowany lub dopuszczony do wprowadzenia do obrotu lub do prób klinicznych przez organy wykonawcze kraju producenta lub kraju stosowania, który wprowadzony do ustroju ludzkiego lub zwierzęcego ma zadanie wytworzenia ochronnej odporności immunologicznej w celu zapobiegania chorobom u ludzi lub zwierząt którym ją podano.

"Atomizacja próżniowa" (1) oznacza proces rozpylania strumienia roztopionego stopu metalowego na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej przez szybkie uwolnienie rozpuszczonego gazu w warunkach podciśnienia.

"Profile o zmiennej geometrii" (7) oznacza profile, w których zastosowano klapy lub inne płaszczyzny na krawędzi spływu lub sloty lub osadzone przegubowo noski na krawędzi natarcia, którymi można sterować w locie.

"Przędza" (1) jest to wiązka skręconych "skrętek".

Uwaga:

"Skrętka" oznacza wiązkę "włókien elementarnych" (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

AKRONIMY I SKRÓTY UŻYTE W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKU

Akronim lub skrót, użyte jako zdefiniowany termin, znajdują się w "Definicjach terminów użytych w niniejszym Załączniku".

Akronim lub skrót | Znaczenie |

ABEC | Komitet Inżynierów Łożysk Pierścieniowych (Annular Bearing Engineers Committee) |

AGMA | Amerykańskie Stowarzyszenie Producentów Przekładni (American Gear Manufacturerselementarnych Association) |

AHRS | układy informujące o położeniu i kursie (attitude and heading reference systems) |

AISI | Amerykański Instytut Żelaza i Stali (American Iron and Steel Institute) |

ALU | jednostka arytmetyczno-logiczna (arithmetic logic unit) |

ANSI | Amerykański Narodowy Instytut Normalizacji (American National Standard Institute) |

ASTM | Amerykańskie Towarzystwo Materiałoznawcze (the American Society for Testing and Materials) |

ATC | kontrola ruchu lotniczego (air traffic control) |

AVLIS | instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą "laserów" w parach atomowych (atomic vapour laser isotope separation) |

CAD | projektowanie wspomagane komputerowo (computer-aided-design) |

CAS | Serwis Dokumentacji Chemicznej (Chemical Abstracts Service) |

CCITT | Międzynarodowy Komitet Konsultacyjny Telegraficzny i Telefoniczny (International Telegraph and Telephone Consultative Committee) |

CDU | jednostka sterowania i wyświetlania (control and display unit) |

CEP | krąg równego prawdopodobieństwa (circular error probable) |

CNTD | rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem (controlled nucleation thermal deposition) |

CRISLA | reakcja chemiczna wywołana selektywną laserową aktywacją izotopów (chemical reaction by isotope selective laser activation) |

CVD | (osadzanie chemiczne z pary) chemical vapour deposition |

CW | wojna chemiczna (chemical warfare) |

CW (dotyczy laserów) | fala ciągła (w laserach) (continuous wave) |

DME | radiodalmierz (distance measuring equipment) |

DS | ukierunkowane krzepnięcie (directionally solidified) |

EB-PVD | fizyczne osadzanie pary z wiązką elektronów (electron beam physical vapour deposition) |

EBU | Europejska Unia Nadawców (European Broadcasting Union) |

ECM | elektromechaniczne techniki obróbki (electro-chemical machining) |

ECR | rezonans elektronowo-cyklotronowy (electron cyclotron resonance) |

EDM | elektroiskrowe obrabiarki (electrical discharge machines) |

EEPROMS | elektronicznie wymazywalna programowana pamięć tylko do odczytu (electrically erasable read only memory) |

EIA | Stowarzyszanie Przemysłu Elektronicznego (Electronic Industries Association) |

EMC | kompatybilność elektromagnetyczna (electromagnetic compatibility) |

ETSI | Europejski Instytut Norm Telekomunikacyjnych (European Telecommunications Standards Institute) |

FFT | szybka transformata Fouriera (Fast Fourier Transform) |

GLONASS | Globalny System Nawigacji Satelitarnej (global navigation satellite system) |

GPS | globalny system lokalizacji (global positioning system) |

HBT | tranzystory heterobipolarne (hetero-bipolar transistors) |

HDDR | cyfrowy zapis magnetyczny z dużą gęstością (high density digital recording) |

HEMT | tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów (high electron mobility transistors) |

ICAO | Międzynarodowa Organizacja Lotnictwa Cywilnego (International Civil Aviation Organisation) |

IEC | Międzynarodowa Komisja Elektrotechniczna (International Electro-technical Commission) |

IEEE | Instytut Inżynierów Elektryki i Elektroniki (Institute of Electrical and Electronic Engineers) |

IFOV | chwilowe pole widzenia (instantaneous-field-of-view) |

ILS | system lądowania na przyrządy (instrument landing system) |

IRIG | grupa oprzyrządowania międzyzakresowego (intern-range instrumentation group) |

ISAR | radar z odwróconą syntezą apertury (inverse synthetic aperture radar) |

ISO | Międzynarodowa Organizacja Normalizacyjna (International Standardisation Organisation) |

ITU | Międzynarodowa Unia Telekomunikacyjna (International Telecommunication Union) |

JIS | Japońska Norma Przemysłowa (Japanese Industrial Standard) |

JT | efekt Joule'a-Thomsona (Joule-Thomson) |

LIDAR | wykrywanie i loklizacja za pomocą fal świetlnych (light detection and ranging) |

LRU | liniowy element wymienny (line replaceable unit) |

MAC | kod uwierzytelniania wiadomości (message authentication code) |

Mach | stosunek prędkości obiektu do prędkości dźwięku (od nazwiska Ernsta Macha) [ratio of speed of an object to speed of sound (after Ernst Mach)] |

MLIS | instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą "laserów" molekularnych(molecular laser isotopic separation) |

MLS | mikrofalowe systemy lądowania (microwave landing systems) |

MOCVD | osadzanie z par lotnych związków metaloorganicznych (metal organic chemical vapour deposition) |

MRI | tworzenie obrazów za pomocą rezonansu magnetycznego (magnetic resonance imaging) |

MTBF | średni czas międzyawaryjny (mean-time-between-failures) |

Mtops | milion teoretycznych operacji na sekundę (million theoretical operations per second) |

MTTF | średni czas do awarii (mean-time-to-failure) |

NBC | jądrowy, biologiczny i chemiczny (Nuclear, Biological and Chemical) |

NDT | badanie nieniszczące (non-destructive test) |

PAR | urządzenia radiolokacyjne dokładnego podejścia do lądowania (precision approach radar) |

PIN | osobisty numer identyfikacyjny (personal identification number) |

ppm | części na milion (parts per million) |

PSD | gęstość widmowa mocy (power spectral density) |

QAM | modulacja kwadraturowa (quadrature-amplitude-modulation) |

RF | częstotliwość radiowa (radio frequency) |

SACMA | Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych Materiałów Kompozytowych (Suppliers of Advanced Composite Materials Association) |

SAR | radar z syntezą apertury (synthetic aperture radar) |

SC | monokrys (single crystal) |

SLAR | radar pokładowy obserwacji bocznej (sidelooking airborne radar) |

SMPTE | Stowarzyszenie Inżynierów Filmowych i Telewizyjnych (Society of Motion Picture and Television Engineers) |

SRA | warsztatowy zespół wymienny (shop replaceable assembly) |

SRAM | statyczna pamięć o dostępie swobodnym (static random access memory) |

SRM | metody zalecane przez SACMA (SACMA Recommended Methods) |

SSB | pojedyncza wstęga boczna (single sideband) |

SSR | radar wtórnego nadzorowania (secondary surveillance radar) |

TCSEC | kryteria oszacowania poufnych systemów komputerowych (trusted computer system evaluation criteria) |

TIR | całkowity wskazany odczyt (total indicated reading) |

UV | ultrafiolet (ultrafiolet) |

UTS | jednostkowa wytrzymałość na rozciąganie "ultimate tensile strength" |

VOR | radiolatarnia kierunkowa wysokiej częstotliwości (very high frequency omni-directional range) |

YAG | granat itrowo-aluminiowy (yttrium/aluminum garnet) |

KATEGORIA 0

MATERIAŁY, INSTALACJE I URZĄDZENIA JĄDROWE

0A Systemy, urządzenia i podzespoły

0A001 Następujące "reaktory jądrowe" oraz specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użytkowania z nimi urządzenia i podzespoły:

a. "reaktory jądrowe" zdolne do pracy w taki sposób, żeby mogła w nich przebiegać kontrolowana, samopodtrzymująca się reakcja łańcuchowa;

b. metalowe zbiorniki lub główne części do nich, także wykonane prototypowo w warsztatach, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do umieszczania w nich rdzenia "reaktora jądrowego", w tym górne pokrywy zbiornika ciśnieniowego reaktora;

c. urządzenia manipulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do załadunku lub wyładunku paliwa "reaktorów jądrowych";

d. pręty regulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do sterowania procesem rozszczepienia w "reaktorze jądrowym", odpowiednie elementy nośne lub zawieszenia, mechanizmy napędu oraz prowadnice rurowe do prętów regulacyjnych;

e. przewody ciśnieniowe reaktora specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem na elementy paliwowe i chłodziwo w "reaktorze jądrowym", wytrzymałe na ciśnienia eksploatacyjne powyżej 5,1 MPa;

f. cyrkon metaliczny lub jego stopy w postaci rur lub zespołów rur specjalnie zaprojektowanych lub wykonanych z przeznaczeniem do "reaktorów jądrowych", w których stosunek masy hafnu do cyrkonu wynosi poniżej 1:500;

g. pompy pierwotnego obiegu specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przetaczania chłodziwa w "reaktorach jądrowych";

h. "zespoły wewnętrzne reaktora" specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do pracy w "reaktorze jądrowym", w tym elementy nośne rdzenia, kanały paliwowe, osłony termiczne, przegrody, siatki dystansujące rdzenia i płyty rozpraszające;

Uwaga:

W pozycji 0A001.h. "zespoły wewnętrzne reaktora" oznaczają dowolną, większą strukturę wewnątrz zbiornika reaktora wypełniającą jedną lub więcej funkcji, takich jak podtrzymywanie rdzenia, utrzymywanie osiowania elementów paliwowych, kierowanie przepływem chłodziwa w obiegu pierwotnym, zapewnienie osłon radiacyjnych zbiornika reaktora i oprzyrządowania wewnątrzrdzeniowego.

i. Wymienniki ciepła (wytwornice pary) specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do stosowania w obiegu pierwotnym "reaktora jądrowego";

j. Aparatura do detekcji i pomiaru promieniowania neutronowego specjalnie zaprojektowana lub przystosowana do określenia poziomu strumienia neutronów wewnątrz rdzenia "reaktora jądrowego".

0B Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

0B001 Następujące instalacje do separacji izotopów z "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" i "specjalnych materiałów rozszczepialnych" oraz urządzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane:

a. następujące instalacje specjalnie skonstruowane do separacji izotopów "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" oraz "specjalnych materiałów rozszczepialnych":

1. instalacje do rozdzielania gazów metodą wirowania;

2. instalacje do dyfuzyjnego rozdzielania gazów;

3. instalacje do rozdzielania metodami aerodynamicznymi;

4. instalacje do rozdzielania metodami wymiany chemicznej;

5. instalacje do rozdzielania techniką wymiany jonów;

6. instalacje do rozdzielania izotopów w postaci par metalu za pomocą "laserów" (AVLIS);

7. instalacje do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą "laserów" (MLIS);

8. instalacje do rozdzielania metodami plazmowymi;

9. instalacje do rozdzielania metodami elektromagnetycznymi;

b. następujące wirówki gazowe oraz zespoły i urządzenia, specjalnie zaprojektowane lub wykonane do stosowania w procesach wzbogacania metodą wirowania gazów:

Uwaga:

W pozycji 0B001.b. "materiał o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości" oznacza jakikolwiek z następujących:

a. Stal maraging o wytrzymałości na rozciąganie równej 2050 MPa lub większej;

b. Stopy aluminium o wytrzymałości na rozciąganie równej 460 MPa lub większej; lub

c. "Materiały włókniste lub włókienkowe" o "module właściwym" powyżej 3,18 × 106 m i "wytrzymałości właściwej na rozciąganie" powyżej 76,2 × 103 m;

1. wirówki gazowe;

2. kompletne zespoły rotorów;

3. cylindryczne zespoły rotorów o grubości 12 mm lub mniejszej, średnicy 75–400 mm, wykonane z "materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości";

4. pierścienie lub mieszki ze ściankami o grubości 3 mm lub mniejszej i średnicy 75–400 mm przeznaczone do lokalnego osadzenia cylindra wirnika lub do połączenia ze sobą wielu cylindrów wirników, wykonane z "materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości";

5. deflektory o średnicy 75–400 mm przeznaczone do instalowania wewnątrz cylindra wirnika odśrodkowego, wykonane z "materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości";

6. pokrywy górne lub dolne o średnicy 75–400 mm pasujące do końców cylindra wirnika, wykonane z "materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości";

7. łożyska na poduszce magnetycznej składające się z pierścieniowego magnesu zawieszonego w obudowie wykonanej z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6", lub chronionej takimi materiałami, zawierającej wewnątrz czynnik tłumiący i posiadające magnes sprzężony z nabiegunnikiem lub drugim magnesem osadzonym w pokrywie górnej wirnika;

8. specjalnie wykonane łożyska składające się z zespołu czop-panewka osadzonego na amortyzatorze;

9. pompy molekularne zawierające cylindry z wewnętrznymi, obrobionymi techniką skrawania lub wytłoczonymi, spiralnymi rowkami i wewnętrznymi wywierconymi otworami;

10. pierścieniowe stojany silników do wysokoobrotowych wielofazowych silników histerezowych (lub reluktancyjnych) do pracy synchronicznej w próżni z częstotliwością 600–2000 Hz i mocą 50–1000 woltoamperów;

11. obudowy/komory wirówek, w których znajdują się zespoły wirników cylindrycznych wirówki gazowej, składające się ze sztywnego cylindra ze ściankami o grubości do 30 mm z precyzyjnie obrobionymi końcami i wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub też zabezpieczone takimi materiałami;

12. zbieraki składające się z rurek o średnicy wewnętrznej do 12 mm, przeznaczone do ekstrahowania gazowego UF6 z wirnika wirówki na zasadzie rurki Pitota, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub też zabezpieczone takimi materiałami;

13. przemienniki częstotliwości (konwertory lub inwertory) specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do zasilania stojanów silników wirówek gazowych do wzbogacania, posiadające wszystkie następujące właściwości i specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:

a. wyjście wielofazowe o częstotliwości 600–2000 Hz;

b. regulacja częstotliwości z dokładnością lepszą niż 0,1 %;

c. zniekształcenia harmoniczne poniżej 2 %; oraz

d. sprawność powyżej 80 %;

c. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji metodą dyfuzji gazowej:

1. przegrody do dyfuzji gazowej wykonane z porowatych, metalowych, polimerowych lub ceramicznych "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6", posiadające pory o średnicach 10–100 nm, grubość 5 mm lub mniejszą oraz, w przypadku elementów cylindrycznych, średnicę 25 mm lub mniejszą;

2. obudowy dyfuzorów gazowych wykonane lub chronione "materiałami odpornymi na korozyjne działanie UF6";

3. sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objętościowej pojemności ssania UF6 wynoszącej 1 m3/min lub więcej oraz o ciśnieniu wylotowym do 667,7 kPa, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub chronione takimi materiałami;

4. uszczelnienia wirujących wałów sprężarek lub dmuchaw określonych w pozycji 0B001.c.3. i skonstruowane w taki sposób, żeby objętościowe natężenie przepływu gazu buforowego przez nieszczelności wynosiło poniżej 1000 cm3/min.;

5. wymienniki ciepła wykonane z aluminium, miedzi, niklu lub stopów zawierających ponad 60 procent niklu w masie, lub z kombinacji tych metali, takie jak rury platerowane, przeznaczone do pracy w warunkach podciśnienia przy zachowaniu natężenia przepływu przez nieszczelności na takim poziomie, że ogranicza ono wzrost ciśnienia do mniej niż 10 Pa na godzinę przy różnicy ciśnień wynoszącej 100 kPa;

6. zawory mieszkowe o średnicy 40–1500 mm wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub chronione takimi materiałami;

d. następujące urządzenia i podzespoły specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do procesu aerodynamicznej separacji:

1. dysze separujące składające się ze szczelinowych, zakrzywionych kanałów o promieniu krzywizny poniżej 1 mm, odporne na korozyjne działanie UF6 i zawierające w środku ostre krawędzie rozdzielające gaz płynący w dyszach na dwa strumienie;

2. cylindryczne lub stożkowe rury napędzane stycznym strumieniem wlotowym (rurki wirowe) wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub też zabezpieczone takimi materiałami, posiadające średnicę 0,5–4 cm i stosunek długości do średnicy 20:1 lub mniejszy, oraz jeden lub kilka stycznych wlotów;

3. sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objętościowej pojemności ssania 2 m3/min, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub zabezpieczone takimi materiałami oraz wirujące uszczelnienia wałów do nich;

4. wymienniki ciepła wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub zabezpieczone takimi materiałami;

5. obudowy aerodynamicznych elementów rozdzielających, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub zabezpieczone takimi materiałami, przeznaczone na rurki wirowe lub dysze rozdzielające;

6. zawory mieszkowe wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub zabezpieczone takimi materiałami, posiadające średnicę 40–1500 mm;

7. instalacje przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (wodoru lub helu) do zawartości 1 ppm UF6 lub mniejszej, w tym:

a. kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (–120 °C) lub mniejszych;

b. zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (–120 °C) lub niższych;

c. dysze rozdzielające lub zespoły rurek wirowych do oddzielania UF6 od gazu nośnego;

d. wymrażarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (–20 °C) lub niższych;

e. następujące urządzenia i podzespoły do nich, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji materiałów techniką wymiany chemicznej:

1. cieczowo-cieczowe kolumny impulsowe do szybkiej wymiany, z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia rzędu 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowe lub szkło, lub pokryte takimi materiałami);

2. cieczowo-cieczowe kontaktory odśrodkowe szybkiej wymiany, z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia rzędu 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowe lub szkło, lub pokryte takimi materiałami);

3. elektrochemiczne ogniwa redukcyjne, odporne na działanie roztworów kwasu solnego, do obniżania wartościowości uranu;

4. urządzenia do zasilania elektrochemicznych ogniw redukcyjnych, pobierające U+4 ze strumieni substancji organicznych, wykonane w strefach kontaktu z przetwarzanym strumieniem z odpowiednich materiałów lub chronione takimi materiałami (np. szkło, polimery fluorowęglowe, polisiarczan fenylu, polisulfon eteru i grafit nasycany żywicą);

5. urządzenia do sporządzania półproduktów do wytwarzania roztworu chlorku uranu o wysokiej czystości, składające się z zespołów do rozpuszczania, ekstrakcji rozpuszczalnikowej i/lub wymiany jonowej, przeznaczone do oczyszczania, oraz ogniwa elektrolityczne do redukowania uranu U+6 lub U+4 do U+3;

6. urządzenia do utleniania uranu ze stanu U+3 do U+4;

f. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji materiałów techniką wymiany jonów:

1. szybko reagujące żywice jonowymienne, żywice błonkowate lub porowate makrosiatkowe, w których grupy chemiczne biorące aktywny udział w wymianie znajdują się wyłącznie w powłoce na powierzchni nieaktywnej porowatej struktury nośnej, oraz inne materiały kompozytowe w dowolnej stosownej formie, w tym w postaci cząstek lub włókien, ze średnicami rzędu 0,2 mm lub mniejszymi, odporne na stężony kwas solny i wykonane w taki sposób, że ich półczas wymiany wynosi poniżej 10 sekund, oraz zdolne do pracy w temperaturach w zakresie 373 K (100 °C)–473 K (200 °C);

2. kolumny jonitowe (cylindryczne) o średnicy powyżej 1000 mm, wykonane z materiałów odpornych na stężony kwas solny, lub chronione takimi materiałami (np. tytan lub tworzywa fluorowęglowe) i zdolne do pracy w temperaturach w zakresie 373 K (100 °C)–473 K (200 °C) i przy ciśnieniu powyżej 0,7 MPa;

3. jonitowe urządzenia zwrotne (urządzenia do chemicznego lub elektrochemicznego utleniania lub redukcji) przeznaczone do regeneracji substancji do chemicznej redukcji lub utleniania, stosowane w jonitowych kaskadach do wzbogacania materiałów;

g. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji izotopów w postaci pary metalu za pomocą "laserów" (AVLIS):

1. dużej mocy działa elektronowe wytwarzające strumień elektronów w reakcji zdzierania lub skaningowe działa elektronowe o mocy wyjściowej powyżej 2,5 kW/cm, przeznaczone do urządzeń do przeprowadzania uranu w stan pary;

2. systemy manipulowania ciekłym uranem metalicznym dla stopionego uranu lub jego stopów, składające się z tygli, wykonanych z materiałów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i ciepło (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materiałami, oraz instalacji chłodniczych do tygli;

UWAGA:

PATRZ TAKŻE: POZYCJA 2A225.

3. urządzenia do gromadzenia towarów lub frakcji końcowych, wykonane z materiałów odpornych na cieplne i korozyjne działanie uranu w postaci pary lub cieczy, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal;

4. obudowy modułów urządzeń rozdzielających (zbiorniki cylindryczne lub prostopadłościenne) przeznaczone na źródła par uranu metalicznego, działa elektronowe oraz urządzenia do gromadzenia produktów i frakcji końcowych;

5. "lasery" lub systemy "laserów" do rozdzielania izotopów uranu wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy czasu;

UWAGA:

PATRZ TAKŻE: POZYCJE 6A005 i 6A205.

h. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji izotopów w postaci molekularnej za pomocą "laserów" (MLIS) lub reakcji chemicznej wywołanej selektywną laserową aktywacją izotopów (CRISLA):

1. naddźwiękowe dysze rozprężne do chłodzenia mieszanin UF6 z gazem nośnym do temperatur 150 K (–123 °C) lub niższych, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6";

2. urządzenia do gromadzenia pentafluorku uranu (UF5), składające się z kolektorów filtracyjnych, udarowych lub cyklonowych lub ich kombinacji, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF5/UF6";

3. sprężarki wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub zabezpieczone takimi materiałami oraz uszczelnienia wirujących wałów do nich;

4. urządzenia do fluorowania UF5 (stałego) do UF6 (gazowego);

5. Urządzenia przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (np. azotu lub argonu), w tym:

a. kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (–120 °C) lub mniejszych;

b. zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (–20 °C) lub niższych;

c. wymrażarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (–20 °C) lub niższych;

6. "lasery" lub systemy "laserów" do separacji izotopów uranu wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy czasu;

UWAGA:

PATRZ TAKŻE: POZYCJE 6A005 i 6A205.

i. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do plazmowej redukcji materiałów:

1. źródła mikrofal i anteny do wytwarzania lub przyspieszania jonów, o częstotliwości wyjściowej powyżej 30 GHz i średniej mocy wyjściowej powyżej 50 kW;

2. wysokoczęstotliwościowe cewki do wzbudzania jonów pracujące w zakresie częstotliwości powyżej 100 kHz i zdolne do pracy w warunkach średniej mocy powyżej 40 kW;

3. urządzenia do wytwarzania plazmy uranowej;

4. systemy manipulowania ciekłym metalem dla stopionego uranu lub jego stopów składające się z tygli wykonanych z materiałów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i ciepło (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materiałami, oraz instalacji chłodniczych do tygli;

UWAGA:

PATRZ TAKŻE: POZYCJA 2A225.

5. urządzenia do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne i korozyjne par uranu, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal lub zabezpieczone takimi materiałami;

6. obudowy modułów separatorów (cylindryczne) na źródło plazmy uranowej, cewki na prądy wysokiej częstotliwości oraz kolektory do produktu i frakcji końcowych, wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. ze stali nierdzewnej);

j. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji materiałów metodami elektromagnetycznymi:

1. źródła jonów, pojedyncze lub wielokrotne, składające się ze źródła pary, jonizatora oraz akceleratora wiązki wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu, stali nierdzewnej lub miedzi) i zdolne do wytwarzania wiązki jonów o całkowitym natężeniu 50 mA lub większym;

2. płytkowe kolektory jonów do gromadzenia wzbogaconych lub zubożonych wiązek jonów uranu, składające się z dwóch lub więcej szczelin i kieszeni, i wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu lub stali nierdzewnej);

3. obudowy próżniowe do elektromagnetycznych separatorów uranu wykonane z materiałów niemagnetycznych (np. z grafitu lub stali nierdzewnej) i skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniach 0,1 Pa lub niższych;

4. elementy biegunów magnesów o średnicy powyżej 2 m;

5. wysokonapięciowe zasilacze do źródeł jonów, posiadające wszystkie następujące właściwości:

a. zdolne do pracy w trybie ciągłym;

b. napięcie wyjściowe 20000 V lub większe;

c. natężenie prądu na wyjściu 1A lub większe; oraz

d. regulacja napięcia z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin;

UWAGA:

PATRZ TAKŻE: POZYCJA 3A227.

6. zasilacze magnesów (wysokiej mocy, prądu stałego) posiadające wszystkie następujące właściwości:

a. zdolność do pracy w trybie ciągłym z prądem wyjściowym o natężeniu 500 A lub większym i napięciu 100 V lub większym; oraz

b. regulacja natężenia lub napięcia prądu z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin

UWAGA:

PATRZ TAKŻE: POZYCJA 3A226.

0B002 Następujące specjalnie zaprojektowane lub wykonane pomocnicze instalacje, urządzenia i podzespoły do instalacji separacji izotopów określonych w pozycji 0B001, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub chronione materiałami tego typu:

a. autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF6 do instalacji do wzbogacania;

b. desublimatory lub wymrażarki do odprowadzania UF6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transferu po ogrzaniu;

c. instalacje do produktu lub frakcji końcowych do transferu UF6 do zbiorników;

d. instalacje do skraplania lub zestalania stosowane do usuwania UF6 z procesu wzbogacania drogą sprężania, chłodzenia i przetwarzania UF6 w ciecz lub ciało stałe;

e. instalacje rurociągowe i zbiorniki specjalnie przeznaczone do manipulowania UF6 w procesach rozdzielania izotopów metodą dyfuzji, wirowania lub kaskady aerodynamicznej;

f. 1. próżniowe instalacje rur rozgałęźnych lub zbiorników o wydajności ssania wynoszącej 5 m3/min. lub więcej; lub

2. pompy próżniowe specjalnie przeznaczone do pracy w atmosferze UF6;

g. spektrometry masowe/źródła jonów specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do bieżącego (on-line) pobierania próbek surowca, produktu lub frakcji końcowych ze strumieni zawierających UF6, posiadające wszystkie następujące właściwości:

1. jednostkową rozdzielczość masy atomowej powyżej 320 jma;

2. źródła jonów wykonane lub powlekane nichromem lub monelem lub niklowane;

3. elektronowe źródła jonizacyjne; oraz

4. wyposażone w kolektory umożliwiające analizę izotopową.

0B003 Następujące instalacje do przetwarzania uranu i urządzenia specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do nich:

a. instalacje do przetwarzania koncentratów rudy uranowej na UO3;

b. instalacje do przetwarzania UO3 na UF6;

c. instalacje do przetwarzania UO3 na UO2;

d. instalacje do przetwarzania UO2 na UF4;

e. instalacje do przetwarzania UF4 na UF6;

f. instalacje do przetwarzania UF4 na metaliczny uran;

g. instalacje do przetwarzania UF6 na UO2;

h. instalacje do przetwarzania UF6 na UF4;

i. instalacje do przetwarzania UO2 na UCl4.

0B004 Następujące instalacje do produkcji lub stężania ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urządzenia:

a. następujące instalacje do produkcji ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru:

1. instalacje do produkcji metodą wymiany woda-siarkowodór;

2. instalacje do produkcji metodą wymiany amoniak-wodór;

b. następujące urządzenia i podzespoły:

1. kolumnowe wymienniki typu woda-siarkowodór wykonane z oczyszczonej stali węglowej (np. ASTM A516), posiadające średnicę 6–9 m i zdolność do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 2 MPa oraz posiadające naddatek korozyjny o wartości 6 mm lub większy;

2. jednostopniowe, niskociśnieniowe (np. 0,2 MPa), odśrodkowe dmuchawy lub kompresory wymuszające cyrkulację gazowego siarkowodoru (tj. gazu zawierającego więcej niż 70 % H2S), o przepustowości równej lub większej niż 56 m3/sekundę podczas pracy przy ciśnieniach zasysania równych lub większych niż 1,8 MPa, posiadające uszczelnienia umożliwiające pracę w środowisku wilgotnego H2S;

3. kolumnowe wymienniki typu amoniak-wodór o wysokości równej lub większej niż 35 m i średnicy 1,5 m–2,5 m, zdolne do pracy przy ciśnieniach większych niż 15 MPa;

4. konstrukcje wewnętrzne kolumn, włącznie z kontaktorami stopniowymi i pompami stopniowymi, w tym zanurzeniowymi, do produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór;

5. instalacje do krakowania amoniaku zdolne do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 3 MPa przy produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór;

6. podczerwone analizatory absorpcyjne zdolne do bieżącej (on-line) analizy stosunku wodoru do deuteru w warunkach, w których stężenia deuteru są równe lub większe niż 90 %;

7. palniki katalityczne do konwersji wzbogaconego deuteru w ciężką wodę przy użyciu procesu wymiany amoniak-wodór;

8. kompletne systemy wzbogacania ciężkiej wody, lub przeznaczone dla nich kolumny, przeznaczone do zwiększania koncentracji deuteru w ciężkiej wodzie do poziomu reaktorowego.

0B005 Instalacje specjalnie przeznaczone do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów jądrowych" oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urządzenia.

Uwaga:

Instalacje do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów jądrowych" obejmujące w urządzenia, które:

a. pozostają w bezpośrednim kontakcie z materiałami jądrowymi lub bezpośrednio je przetwarzają lub sterują procesem ich produkcji;

b. uszczelniają materiały jądrowe wewnątrz ich koszulek;

c. kontrolują ciągłość lub szczelność koszulek, lub

d. kontrolują końcową obróbkę elementu paliwowego.

0B006 Instalacje do przerobu napromieniowanych elementów paliwowych "reaktorów jądrowych" oraz specjalnie dla nich przeznaczone lub wykonane urządzenia i podzespoły.

Uwaga:

Pozycja 0B006 obejmuje:

a. instalacje do przerobu napromieniowanych elementów paliwowych "reaktorów jądrowych", w tym urządzenia i podzespoły, które zazwyczaj wchodzą w bezpośredni kontakt z napromieniowanym paliwem i które bezpośrednio kontrolują główne procesy przetwarzania materiałów jądrowych i produktów rozszczepienia;

b. maszyny do rozdrabniania lub kruszenia elementów paliwowych, tj. zdalnie sterowane urządzenia do cięcia, rozdrabniania, kruszenia lub krojenia napromieniowanych zespołów, wiązek lub prętów paliwowych "reaktorów jądrowych";

c. urządzenia do rozpuszczania, zbiorniki podkrytyczne (np. o małej średnicy, pierścieniowe lub płaskie zbiorniki o małych średnicach), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozpuszczania napromieniowanego paliwa do "reaktorów jądrowych", odporne na działanie gorących, silnie żrących płynów, oraz przystosowane do zdalnego załadunku i obsługi;

d. ekstraktory przeciwprądowe i urządzenia do separacji metodą wymiany jonów, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do przerobu napromieniowanego "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" lub "specjalnych materiałów rozszczepialnych";

e. zbiorniki technologiczne lub magazynowe, specjalnie zaprojektowane w taki sposób, że są podkrytyczne i odporne na żrące działanie kwasu azotowego;

Uwaga:

Zbiorniki technologiczne lub magazynowe mogą posiadać następujące właściwości:

1. ścianki lub struktury wewnętrzne z co najmniej dwuprocentowym ekwiwalentem borowym (obliczonym dla wszystkich składowych pierwiastków w sposób zdefiniowany w uwadze do pozycji 0C004);

2. maksymalną średnicę rzędu 175 mm w przypadku zbiorników cylindrycznych; lub

3. maksymalną szerokość 75 mm w przypadku zbiorników płytowych lub pierścieniowych.

f. instrumenty do sterowania procesem przetwarzania, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do monitorowania lub sterowania przerobem napromieniowanego "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" lub "specjalnych materiałów rozszczepialnych".

0B007 Następujące instalacje do przetwarzania plutonu i specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urządzenia:

a. instalacje do przetwarzania azotanu plutonu na tlenek plutonu;

b. instalacje do produkcji metalicznego plutonu.

0C Materiały

0C001 "Uran naturalny" lub "uran zubożony" lub tor w formie metalu, stopu, związku chemicznego lub koncentratu i dowolnego innego materiału zawierającego jeden lub więcej z powyższych materiałów;

Uwaga:

Pozycja 0C001 nie obejmuje kontroli:

a. czterech gramów lub mniej "uranu naturalnego" lub "uranu zubożonego", jeżeli znajduje się w czujnikach instrumentów pomiarowych;

b. "uranu zubożonego" specjalnie wyprodukowanego z przeznaczeniem do wyrobu następujących towarów cywilnych spoza zastosowania jądrowego:

1. osłony;

2. wypełnienia;

3. balasty o masie nieprzekraczającej 100 kg;

4. przeciwwagi o masie nieprzekraczającej 100 kg;

c. stopów zawierających mniej niż 5 % toru;

d. produktów ceramicznych zawierających tor, ale wykonanych do zastosowań poza dziedziną jądrową.

0C002 "

Specjalne materiały rozszczepialne

"

Uwaga:

Pozycja 0C002 nie obejmuje kontroli czterech "gramów efektywnych" lub mniej, w przypadku ich stosowania w czujnikach instrumentów pomiarowych.

0C003 Deuter, ciężka woda (tlenek deuteru) i inne związki deuteru oraz ich mieszaniny i roztwory, w których stosunek liczby atomów deuteru do atomów wodoru jest większy niż 1:5000.

0C004 Grafit klasy jądrowej, o stopniu zanieczyszczenia poniżej 5 części na milion "ekwiwalentu boru" oraz gęstości większej niż 1,5 g/cm3.

UWAGA:

PATRZ TAKŻE: POZYCJA 1C107

Uwaga 1:

Pozycja 0C004 nie obejmuje kontroli:

a. wyrobów grafitowych o masie mniejszej niż 1 kg, różnych od specjalnie zaprojektowanych lub przystosowanych do wykorzystania w reaktorach jądrowych;

b. proszku grafitowego.

Uwaga 2:

W pozycji 0C004 "ekwiwalent boru" (BE) zdefiniowany jest jako suma BEz dla domieszek (z pominięciem BEwęgiel, ponieważ węgiel nie jest uważany za domieszkę) z uwzględnieniem boru, gdzie:

BEz (ppm) = CF × stężenie pierwiastka Z określane w ppm;

gdzieCFjestwspółczynnikiemprzeliczeniowym =

σZ × ABσB × AZ

a σB i σZ są przekrojami czynnymi na wychwyt neutronów termicznych (w barnach) odpowiednio dla boru pochodzenia naturalnego i pierwiastka Z, a AB i AZ są masami atomowymi odpowiednio boru naturalnego i pierwiastka Z.

0C005 Specjalnie wytworzone związki lub proszki do wyrobu przegród do dyfuzji gazowej, odporne na korozyjne działanie UF6 (np. nikiel lub stop zawierający w masie 60 procent lub więcej niklu, tlenek aluminium i całkowicie fluorowane polimery węglowodorowe o procentowym stopniu czystości w masie 99,9 procent lub powyżej i średniej wielkości cząstek poniżej 10 mikrometrów, mierzonej według normy Amerykańskiego Towarzystwa Materiałoznawczego (ASTM) B330 i wysokim stopniu jednorodności wymiarowej cząstek.

0D Oprogramowanie

0D001 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów określonych w tej kategorii.

0E