2012R0388 — PL — 15.06.2012 — 000.001

Dokument ten służy wyłącznie do celów dokumentacyjnych i instytucje nie ponoszą żadnej odpowiedzialności za jego zawartość





sprostowane przez:









▼B

ROZPORZĄDZENIE PARLAMENTU EUROPEJSKIEGO I RADY (UE) NR 388/2012

z dnia 19 kwietnia 2012 r.

zmieniające rozporządzenie Rady (WE) nr 428/2009 ustanawiające wspólnotowy system kontroli wywozu, transferu, pośrednictwa i tranzytu w odniesieniu do produktów podwójnego zastosowania







PARLAMENT EUROPEJSKI I RADA UNII EUROPEJSKIEJ, uwzględniając Traktat o funkcjonowaniu Unii Europejskiej, w szczególności jego art. 207 ust. 2, uwzględniając wniosek Komisji Europejskiej, po przekazaniu projektu aktu ustawodawczego parlamentom narodowym, stanowiąc zgodnie ze zwykłą procedurą ustawodawczą ( 1 ), a także mając na uwadze, co następuje: (1) Rozporządzenie Rady (WE) nr 428/2009 ( 2 ) wprowadziło wymóg skutecznej kontroli produktów podwójnego zastosowania (włącznie z oprogramowaniem i technologią) podczas wywozu z Unii, tranzytu przez Unię lub dostawy do państwa trzeciego w wyniku usług pośrednictwa świadczonych przez pośrednika mającego miejsce pobytu lub siedzibę w Unii. (2) Aby umożliwić państwom członkowskim oraz Unii wypełnianie ich zobowiązań międzynarodowych, w załączniku I do rozporządzenia (WE) nr 428/2009 ustanowiono wspólny wykaz produktów podwójnego zastosowania, o których mowa w art. 3 tego rozporządzenia, który wprowadza w życie uzgodnioną na szczeblu międzynarodowym kontrolę podwójnego zastosowania. Zobowiązania te podjęto w ramach uczestnictwa w Grupie Australijskiej, Reżimie Kontrolnym Technologii Rakietowych, Grupie Dostawców Jądrowych (NSG), porozumieniu z Wassenaar oraz Konwencji o zakazie prowadzenia badań, produkcji, składowania i użycia broni chemicznej oraz o zniszczeniu jej zapasów. (3) Rozporządzenie (WE) 428/2009 przewiduje, że lista zawarta w załączniku I ma być aktualizowana zgodnie z odpowiednimi zobowiązaniami i obowiązkami oraz wszelkimi ich modyfikacjami, które państwa członkowskie przyjęły jako członkowie międzynarodowych systemów nieproliferacyjnych i porozumień w sprawie kontroli wywozu lub w drodze ratyfikacji stosownych traktatów międzynarodowych. (4) Należy zmienić załącznik I do rozporządzenia (WE) nr 428/2009, aby uwzględnić zmiany uzgodnione w ramach Grupy Australijskiej, Grupy Dostawców Jądrowych, Reżimu Kontrolnego Technologii Rakietowych oraz porozumienia z Wassenaar po przyjęciu tego rozporządzenia. (5) W celu ułatwienia stosowania odesłań przez organy kontroli wywozu i podmioty należy opublikować uaktualnioną i skonsolidowaną wersję załącznika I do rozporządzenia (WE) nr 428/2009. (6) Należy zatem odpowiednio zmienić rozporządzenie (WE) nr 428/2009, a także mając na uwadze, co następuje: PRZYJMUJĄ NINIEJSZE ROZPORZĄDZENIE:







Artykuł 1

Załącznik I do rozporządzenia (WE) nr 428/2009 zastępuje się tekstem znajdującym się w załączniku do niniejszego rozporządzenia.

Artykuł 2

Niniejsze rozporządzenie wchodzi w życie trzydziestego dnia po jego opublikowaniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej.

Niniejsze rozporządzenie wiąże w całości i jest bezpośrednio stosowane we wszystkich państwach członkowskich.









ZAŁĄCZNIK









„ZAŁĄCZNIK I

Wykaz, o którym mowa w art. 3 niniejszego rozporządzenia

WYKAZ PRODUKTÓW PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIA

Niniejszy wykaz wprowadza uzgodnioną na szczeblu międzynarodowym kontrolę produktów i technologii podwójnego zastosowania, w tym przez Porozumienie z Wassenaar, Reżim Kontrolny Technologii Rakietowych (MTCR), Grupę Dostawców Jądrowych (GDJ), Grupę Australijską i Konwencję o Zakazie Broni Chemicznej (CWC).

SPIS TREŚCI Uwagi Akronimy i skróty Definicje Kategoria 0 Materiały, instalacje i urządzenia jądrowe Kategoria 1 Materiały specjalne i związane z nimi urządzenia Kategoria 2 Przetwarzanie materiałów Kategoria 3 Elektronika Kategoria 4 Komputery Kategoria 5 Telekomunikacja i »ochrona informacji« Kategoria 6 Czujniki i lasery Kategoria 7 Nawigacja i awionika Kategoria 8 Urządzenia okrętowe Kategoria 9 Kosmonautyka, aeronautyka, napęd

UWAGI OGÓLNE DO ZAŁĄCZNIKA I

1. W przypadku towarów, które są zaprojektowane lub zmodyfikowane do zastosowań wojskowych, należy sprawdzić także odpowiedni wykaz kontrolny uzbrojenia publikowany w danym państwie członkowskim. Odsyłacz, który mówi »ZOB. TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA«, odnosi się do tych wykazów.

2. Cel kontroli przewidzianej w niniejszym wykazie nie może być omijany przez eksportowanie jakichkolwiek towarów niepodlegających kontroli (łącznie z instalacjami) zawierających jeden lub więcej składników podlegających kontroli, gdy kontrolowany składnik lub składniki są zasadniczymi elementami tych towarów i możliwe jest ich wydzielenie lub zastosowanie do innych celów. NB.: Przy rozstrzyganiu, czy kontrolowany składnik lub części składniki mają być uważane za elementy zasadnicze, konieczne jest rozważenie czynników: ilości, wartości, zawartości technologicznego know-how i innych szczególnych okoliczności, które mogą zdecydować, że kontrolowany składnik lub składniki są zasadniczymi elementami dostarczanych towarów.

3. Towary wymienione w niniejszym wykazie obejmują zarówno towary nowe, jak i używane.

4. W niektórych przypadkach podana jest nazwa i numer CAS chemikaliów. Wykaz ma zastosowanie do chemikaliów o tym samym wzorze strukturalnym (w tym do hydratów), niezależnie od nazwy i numeru CAS. Numery CAS są podane, by ułatwiać identyfikację danych chemikaliów lub mieszanin, bez względu na nomenklaturę. Numery CAS nie mogą być stosowane jako jedyne źródło informacji służące do identyfikacji chemikaliów, gdyż niektóre postacie wymienionych chemikaliów mają różne numery CAS, a mieszaniny zawierające chemikalia wymienione w wykazie mogą także mieć różne numery CAS.

UWAGA DO TECHNOLOGII JĄDROWEJ (UdTJ)

(Czytać łącznie z grupą E kategorii 0)

»Technologia« bezpośrednio związana z którymikolwiek towarami wymienionymi w kategorii 0 objęta jest kontrolą zgodnie z postanowieniami kategorii 0.

»Technologia«, która jest »niezbędna« do »rozwoju«, »produkcji« lub »użytkowania« towarów objętych kontrolą, pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów nieobjętych taką kontrolą.

Zgoda na wywóz określonych towarów upoważnia również do wywozu do tego samego użytkownika minimalnej »technologii« wymaganej dla zainstalowania, eksploatacji, utrzymania i naprawy tych towarów.

Kontrole transferu »technologii« nie mają zastosowania do informacji »będących własnością publiczną« lub związanych z »podstawowymi badaniami naukowymi«.

UWAGA OGÓLNA DO TECHNOLOGII (UOdT)

(Czytać łącznie z grupą E kategorii od 1 do 9)

Wywóz »technologii«, która jest »niezbędna« do »rozwoju«, »produkcji« lub »użytkowania« towarów wymienionych w kategoriach od 1 do 9, podlega kontroli na warunkach podanych w każdej z tych kategorii.

»Technologia«, która jest »niezbędna« do »rozwoju«, »produkcji« lub »użytkowania« towarów objętych kontrolą, pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów nieobjętych taką kontrolą.

Kontrolą nie obejmuje się minimalnej »technologii« wymaganej do zainstalowania, eksploatacji, utrzymania i naprawy towarów niekontrolowanych lub takich, które uzyskały odrębnie zgodę na wywóz.

NB.: Powyższe nie zwalnia od kontroli »technologii« wymienionych w pozycjach 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a i 8E002.b.

Kontrola transferu »technologii« nie ma zastosowania do informacji »będących własnością publiczną«, związanych z »podstawowymi badaniami naukowymi« lub minimum informacji koniecznych przy składaniu wniosków patentowych.

UWAGA OGÓLNA DO OPROGRAMOWANIA (UOdO)

(Niniejsza uwaga jest nadrzędna w stosunku do kontroli określonych w grupie D kategorii od 0 do 9).

Kategorie 0 do 9 niniejszego wykazu nie obejmują kontrolą »oprogramowania«, które jest:

a. ogólnie dostępne poprzez: 1. sprzedaż gotowego oprogramowania w punktach sprzedaży detalicznej bez żadnych ograniczeń w wyniku: a. bezpośrednich transakcji sprzedaży; b. transakcji realizowanych na zamówienie pocztowe; c. transakcji zawieranych drogą elektroniczną; lub d. transakcji realizowanych na zamówienie telefoniczne; oraz 2. przygotowanie do samodzielnej instalacji przez użytkownika bez konieczności dalszej znacznej pomocy ze strony sprzedawcy; lub NB. Punkt a uwagi ogólnej do oprogramowania nie zwalnia od kontroli »oprogramowania« wymienionego w kategorii 5 – część 2 (»Bezpieczeństwo informacji«).

b. uznawane za »będące własnością publiczną«.

AKRONIMY I SKRÓTY UŻYWANE W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKU

Akronimy lub skróty użyte jako zdefiniowany termin znajdują się w »Definicjach terminów użytych w niniejszym załączniku«.







Akronim lub skrót Znaczenie ABEC Komitet Inżynierów Łożysk Pierścieniowych AGMA Amerykańskie Stowarzyszenie Producentów Przekładni AHRS układy informujące o położeniu i kursie AISI Amerykański Instytut Żelaza i Stali ALU jednostka arytmetyczno-logiczna ANSI Amerykański Narodowy Instytut Normalizacji ASTM Amerykańskie Towarzystwo Materiałoznawcze ATC kontrola ruchu lotniczego AVLIS instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą »laserów« w parach atomowych CAD projektowanie wspomagane komputerowo CAS Serwis Dokumentacji Chemicznej CCITT Międzynarodowy Komitet Konsultacyjny Telegraficzny i Telefoniczny CDU jednostka sterowania i wyświetlania CEP krąg równego prawdopodobieństwa CNTD rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem CRISLA reakcja chemiczna wywołana selektywną laserową aktywacją izotopów CVD osadzanie chemiczne z pary CW wojna chemiczna CW (dotyczy laserów) fala ciągła (w laserach) DME radiodalmierz DS ukierunkowane krzepnięcie EB-PVD fizyczne osadzanie pary z wiązką elektronów EBU Europejska Unia Nadawców ECM elektromechaniczne techniki obróbki ECR rezonans elektronowo-cyklotronowy EDM elektroiskrowe obrabiarki EEPROMS elektronicznie wymazywalna programowana pamięć tylko do odczytu EIA Stowarzyszenie Przemysłu Elektronicznego EMC kompatybilność elektromagnetyczna ETSI Europejski Instytut Norm Telekomunikacyjnych FFT szybka transformata Fouriera GLONASS globalny system nawigacji satelitarnej GPS globalny system lokalizacji HBT tranzystory heterobipolarne HDDR cyfrowy zapis magnetyczny z dużą gęstością HEMT tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów ICAO Międzynarodowa Organizacja Lotnictwa Cywilnego IEC Międzynarodowa Komisja Elektrotechniczna IEEE Instytut Inżynierów Elektryki i Elektroniki IFOV chwilowe pole widzenia ILS system lądowania na przyrządy IRIG grupa oprzyrządowania międzyzakresowego ISA międzynarodowa atmosfera wzorcowa ISAR radar z odwróconą syntezą apertury ISO Międzynarodowa Organizacja Normalizacyjna ITU Międzynarodowy Związek Telekomunikacyjny JIS Japońska Norma Przemysłowa JT Joule-Thomson LIDAR radar optyczny LRU liniowy element wymienny MAC kod uwierzytelniania wiadomości Mach stosunek prędkości obiektu do prędkości dźwięku (od nazwiska Ernsta Macha) MLIS instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą »laserów« molekularnych MLS mikrofalowe systemy lądowania MOCVD osadzanie z par lotnych związków metaloorganicznych MRI tworzenie obrazów za pomocą rezonansu magnetycznego MTBF średni czas międzyawaryjny Mtops milion teoretycznych operacji na sekundę MTTF średni czas do awarii NBC jądrowy, biologiczny i chemiczny NDT badanie nieniszczące PAR urządzenia radiolokacyjne dokładnego podejścia do lądowania PIN osobisty numer identyfikacyjny ppm części na milion PSD gęstość widmowa mocy QAM modulacja kwadraturowa RF częstotliwość radiowa SACMA Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych Materiałów Kompozytowych SAR radar z syntezą apertury SC monokryształ SLAR radar pokładowy obserwacji bocznej SMPTE Stowarzyszenie Inżynierów Filmowych i Telewizyjnych SRA warsztatowy zespół wymienny SRAM statyczna pamięć o dostępie swobodnym SRM metody zalecane przez SACMA SSB pojedyncza wstęga boczna SSR radar wtórnego nadzorowania TCSEC kryteria oszacowania poufnych systemów komputerowych TIR całkowity wskazany odczyt UV nadfiolet UTS wytrzymałość na rozciąganie VOR radiolatarnia kierunkowa wysokiej częstotliwości YAG granat itrowo-aluminiowy

DEFINICJE TERMINÓW UŻYWANYCH W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKU

Definicje terminów w »cudzysłowie pojedynczym« podano w uwadze technicznej do odpowiedniej pozycji.

Definicje terminów w »cudzysłowie podwójnym« są następujące:

NB.: Odnośniki do kategorii podano w nawiasach po zdefiniowanym terminie.

»Aktywacja kryptograficzna« (5) oznacza dowolną technikę, która aktywuje lub umożliwia funkcje kryptograficzne za pomocą bezpiecznego mechanizmu zastosowanego przez producenta danego artykułu i jest w sposób niepowtarzalny związana z tym artykułem lub z klientem, na którego potrzeby aktywuje lub umożliwia się funkcje kryptograficzne (np. klucz licencyjny powiązany z numerem seryjnym lub instrument uwierzytelniający jak np. certyfikat z podpisem cyfrowym).

Uwaga techniczna:

Techniki i mechanizmy »aktywacji kryptograficznej« mogą być realizowane w postaci sprzętu, »oprogramowania« lub »technologii«.

»Algorytm asymetryczny« (5)

Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się różne, powiązane matematycznie, klucze do szyfrowania i deszyfrowania.

NB.: Powszechnym zastosowaniem »algorytmu asymetrycznego« jest zarządzanie kluczami.

»Algorytm symetryczny« (5)

Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się identyczne klucze do szyfrowania i deszyfrowania.

NB.: Powszechnym zastosowaniem »algorytmu symetrycznego« jest utajnianie danych.

»Analizatory sygnałów« (3)

Urządzenia do pomiaru i pokazywania podstawowych parametrów sygnałów o jednej częstotliwości, będących składowymi sygnałów wieloczęstotliwościowych.

»Analizatory sygnałów dynamicznych« (3)

»Analizatory sygnałów«, w których zastosowano techniki cyfrowego próbkowania i przekształcania w celu utworzenia obrazu widma Fouriera danej postaci fali, łącznie z informacjami o jej amplitudzie i fazie.

NB.: Zob. także »Analizatory sygnałów«.

»APP« (4) – zob. »Skorygowana wydajność szczytowa«.

»Atomizacja gazowa« (1)

Proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 μm lub mniejszej za pomocą strumienia gazu o wysokim ciśnieniu.

»Atomizacja próżniowa« (1)

Proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 μm lub mniejszej poprzez szybkie uwolnienie rozpuszczonego gazu w warunkach podciśnienia.

»Atomizacja rotacyjna« (1)

Proces rozpylania strumienia lub jeziorka stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 μm lub mniejszej za pomocą siły odśrodkowej.

»Automatyczne śledzenie celu« (6)

Technika przetwarzania umożliwiająca automatyczne określanie i podawanie na wyjściu w czasie rzeczywistym ekstrapolowanej wartości najbardziej prawdopodobnego położenia celu.

»Bandaż« (9) oznacza element składowy pierścienia stacjonarnego (jednolity lub o budowie segmentowej) zamocowany na powierzchni wewnętrznej korpusu turbiny lub element znajdujący się na końcówce łopatki turbiny, który służy przede wszystkim jako uszczelnienie gazodynamiczne między elementami stacjonarnymi a wirującymi.

»Bezpilotowy statek powietrzny« (»UAV«) (9)

Każdy statek powietrzny zdolny do wzniesienia się w powietrze i kontynuowania kontrolowanego lotu i nawigacji bez obecności ludzi na pokładzie.

»Bicie promieniowe« (odchylenie od właściwego ruchu) (2)

Promieniowe przemieszczenie głównego wrzeciona w ciągu jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do osi wrzeciona w punkcie znajdującym się na zewnętrznej lub wewnętrznej badanej powierzchni obrotowej. (Zob. ISO 230 część 1-1986, paragraf 5.61).

»Bicie osiowe« (2)

Przemieszczenie osiowe wrzeciona głównego podczas jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do czoła wrzeciona, w punkcie sąsiadującym z obwodem czoła wrzeciona (Zob. ISO 230 Część 1-1986, paragraf 5.63).

»Bezpośrednie wytłaczanie hydrauliczne« (2)

Technika odkształcania, w której stosowana jest napełniona płynem odkształcalna poduszka, działająca bezpośrednio na powierzchnię obrabianego przedmiotu.

»Będące własnością publiczną« (UOdT UdTJ UOdO)

W odniesieniu do niniejszego dokumentu oznacza »technologię« lub »oprogramowanie« dostępne bez żadnych ograniczeń co do ich dalszego rozpowszechniania (ograniczenia wynikające z praw autorskich nie wykluczają uznania »technologii« lub »oprogramowania« za »będące własnością publiczną«).

»Całkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami« (»FADEC«) (7, 9)

Elektroniczny system sterowania turbiną gazową lub silnikami o złożonym cyklu, wykorzystujący komputer cyfrowy do kontroli parametrów niezbędnych do regulacji siły ciągu silnika lub mocy wyjściowej na wale w całym zakresie pracy silnika, od początku dozowania paliwa do odcięcia jego dopływu.

»Całkowita gęstość prądu« (3)

Całkowita liczba amperozwojów w cewce (tj. suma liczby zwojów pomnożona przez maksymalne natężenie prądu przenoszone przez każdy zwój) podzielona przez całkowity przekrój poprzeczny cewki (składającej się z włókienek nadprzewodzących, matrycy metalowej, w której osadzone są włókienka nadprzewodzące, materiału stanowiącego obudowę, kanałów chłodzących itp.).

»Całkowita szybkość transmisji danych cyfrowych« (5)

Liczba bitów, łącznie z bitami kodowymi linii, bitami nieinformacyjnymi i podobnymi, przepływających w jednostce czasu pomiędzy odpowiednimi urządzeniami w cyfrowym systemie transmisji.

NB.: Zob. także »szybkość transmisji danych cyfrowych«.

»Chwilowa szerokość pasma« (3, 5, 7)

Szerokość pasma, w którym moc wyjściowa pozostaje na stałym poziomie z dokładnością do 3 dB bez regulacji innych parametrów roboczych.

»Cyrkulacyjne układy równoważenia momentu lub cyrkulacyjne układy sterowania kierunkiem« (7)

Układy, w których przepływ powietrza wokół powierzchni aerodynamicznych jest wykorzystywany do zwiększenia powstających na nich sił lub do kierowania nimi.

»Cywilne statki powietrzne« (1, 3, 4, 7)

»Statki powietrzne« wymienione i określone przez organy lotnictwa cywilnego w podawanych do wiadomości publicznej wykazach świadectw zdatności do lotu jako zdatne do użytkowania do komercyjnych celów cywilnych na liniach wewnętrznych i zewnętrznych lub do legalnych celów cywilnych, prywatnych lub związanych z prowadzeniem działalności gospodarczej.

NB.: Zob. również »statek powietrzny«.

»Czas przełączania częstotliwości« (3, 5)

Czas (tj. opóźnienie), jakiego potrzebuje sygnał przy przełączaniu się z początkowej zgodnej ze specyfikacjami częstotliwości wyjściowej, żeby osiągnąć zgodną ze specyfikacjami końcową częstotliwość wyjściową na poziomie zadanym lub w przedziale ± 0,05 % wokół tego poziomu. Produkty, których zgodna ze specyfikacjami częstotliwość mieści się w przedziale węższym niż ± 0,05 % wokół ich częstotliwości środkowej, definiowane są jako niezdolne do przełączania.

»Czas trwania impulsu« (6)

Czas trwania impulsu »lasera« mierzony na poziomie połowy natężenia pełnej szerokości (FWHI).

»Czas trwania emisji lasera« (def)

Czas, w którym »laser« emituje promieniowanie »lasera«, który dla »laserów impulsowych« oznacza czas emitowania pojedynczego impulsu lub serii kolejnych impulsów.

»Czas ustalania« (3)

Podczas przełączania przetwornika z jednego poziomu na drugi czas potrzebny do otrzymania na wyjściu wartości różniącej się o połowę bitu od wartości końcowej.

»Czułość promieniowania« (6)

Czułość promieniowania (mA/W) = 0,807 × (długość fali w nm) × sprawność kwantowa (QE).

Uwaga techniczna:

Sprawność kwantową wyraża się zwykle w postaci procentowej; jednakże do celów niniejszego wzoru sprawność kwantowa wyrażona jest jako liczba dziesiętna mniejsza niż jeden, np. 78 % to 0,78.

»Dokładność« (2, 6)

Zazwyczaj określana w kategoriach niedokładności; jest to maksymalne odchylenie, dodatnie lub ujemne, danej wartości od uznanej wartości standardowej lub prawdziwej.

»Element o podstawowym znaczeniu« (4)

W odniesieniu do kategorii 4 dany element jest »elementem o podstawowym znaczeniu«, jeżeli wartość jego wymiany stanowi ponad 35 % całkowitej wartości systemu, w którego skład wchodzi. Wartość elementu jest ceną płaconą za element przez producenta systemu lub przez firmę montującą system. Wartość całkowita jest zwykłą ceną sprzedaży osobom postronnym w miejscu produkcji lub w miejscu przygotowywania wysyłek towarów.

»Formowanie ekstrakcyjne z fazy stopionej« (1)

Technika »gwałtownego krzepnięcia« i ekstrahowania wyrobu stopowego podobnego do wstęgi, polegająca na zanurzaniu krótkiego odcinka wirującego ochłodzonego bloku w wannie stopionego stopu metalowego.

NB.: »Gwałtowne krzepnięcie«: krzepnięcie stopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s.

»Formowanie rotacyjne z fazy stopionej« (1)

Technika »gwałtownego krzepnięcia« polegająca na uderzaniu strumienia stopionego metalu w wirujący chłodzony blok, wskutek czego powstaje wyrób w postaci płatków, wstęgi lub pręcików.

NB.: »Gwałtowne krzepnięcie«: krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s.

»Formowanie w stanie nadplastycznym« (1, 2)

Technika odkształcania termicznego metali, których wydłużenie całkowite do zerwania, mierzone w temperaturze pokojowej tradycyjnymi technikami badania wytrzymałości na rozciąganie, w normalnych warunkach, jest bardzo małe (poniżej 20 %); jej celem jest co najmniej dwukrotne powiększenie tych wartości podczas obróbki.

»Gęstość zastępcza« (6)

Masa elementu optycznego na jednostkę pola powierzchni optycznej rzutowanej na powierzchnię optyczną.

»Gram efektywny« (0, 1)

»Gram efektywny«»specjalnego materiału rozszczepialnego« oznacza:

a. dla izotopów plutonu i uranu-233 – masę izotopu w gramach;

b. dla uranu wzbogaconego do poziomu 1 % lub więcej izotopu uranu-235 – masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez kwadrat jego wzbogacenia wyrażonego w postaci ułamka dziesiętnego udziału wagowego izotopu U-235;

c. dla uranu wzbogaconego w izotop uranu-235 do poziomu poniżej 1 procenta – masę pierwiastka w gramach pomnożoną przez 0,0001;

»Hybrydowy układ scalony« (3)

Dowolne połączenie układu(-ów) scalonego(-ych) lub układu scalonego z »elementami układu« lub »składnikami dyskretnymi« połączonymi ze sobą w celu realizacji określonej(-ych) funkcji, mające wszystkie wymienione poniżej cechy:

a. posiada co najmniej jedno urządzenie nieobudowane;

b. zastosowano w nim typowe metody łączenia stosowane podczas produkcji układów scalonych;

c. można je wymieniać tylko w całości; oraz

d. w normalnych warunkach nie można go rozmontować.

NB. 1: »Element układu«: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, na przykład jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

NB. 2: »Składnik dyskretny«: »element układu« w oddzielnej obudowie z własnymi końcówkami wyjściowymi.

»Immunotoksyna« (1)

Koniugat jednokomórkowego przeciwciała monoklonalnego i »toksyny« lub »podjednostki toksyny«, który wpływa selektywnie na komórki chorobowo zmienione.

»Instalacje do naprowadzania« (7)

Systemy scalające proces pomiaru i obliczania położenia pojazdu i jego prędkości (tj. nawigację) z obliczeniami i wysyłaniem poleceń do systemów sterowania lotem pojazdu w celu skorygowania jego toru lotu.

»Instalacje produkcyjne« (7 9)

»Urządzenia produkcyjne« i specjalnie do nich opracowane oprogramowanie, wbudowane w instalacje w celu »rozwoju« lub do jednej lub więcej faz »produkcji«.

»Izolacja« (9)

Pojęcie stosowane do podzespołów silnika rakietowego, tj. osłony, dyszy, wlotów, zamknięć osłon, obejmujące utrwalone lub półutrwalone maty kauczukowe zawierające materiał ogniotrwały lub izolacyjny. Można je również stosować na klatki lub klapy odprężające.

»Izolowane żywe kultury« (1)

Żywe kultury w postaci uśpionej i w postaci suchych preparatów.

»Izostatyczne zagęszczanie na gorąco« (2)

Technika ciśnieniowania odlewu w temperaturach powyżej 375 K (102 °C) w zamkniętej formie za pomocą różnych czynników (gaz, ciecz, cząstki stałe itp.), której celem jest wytworzenie jednakowej siły we wszystkich kierunkach w celu zmniejszenia lub wyeliminowania jam wewnętrznych w odlewie.

»Kabel« (1)

Wiązka »włókien elementarnych«, zazwyczaj uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

»Kąt błądzenia losowego« (7)

Narastanie błędu kątowego w czasie, spowodowane białym szumem w prędkości kątowej. (IEEE STD 528-2001).

»Klasy kosmicznej« (3, 6, 8)

Odnosi się do produktów projektowanych, wytwarzanych i testowanych w taki sposób, żeby spełniały specjalne wymagania elektryczne, mechaniczne lub środowiskowe, związane z ich stosowaniem podczas wystrzeliwania i wykorzystywania satelitów lub urządzeń latających na dużych wysokościach, od 100 km wzwyż.

»Kod wynikowy« (9)

Sprzętowo wykonywalna postać wygodnego wyrażenia jednego lub większej liczby procesów (»kod źródłowy« (język źródłowy)), które zostały skompilowane przez system programowania.

»Kod źródłowy (lub język źródłowy)« (6, 7, 9)

Wygodny sposób wyrażenia jednego lub kilku procesów, który może być przekształcony przez system programowania w postać dającą się wykonać na urządzeniu (»kod wynikowy« (lub język wynikowy)).

»Kompleksowe sterowanie lotem« (7)

Automatyczne sterowanie zmiennymi stanu »statku powietrznego« i toru lotu dla zrealizowania zadania bojowego odpowiednio do zmian w czasie rzeczywistym danych dotyczących celu, zagrożeń lub innych »statków powietrznych«.

»Kompresja impulsów« (6)

Kodowanie i przetwarzanie długiego impulsowego sygnału radarowego na krótki, przy zachowaniu korzyści wynikających z wysokiej energii impulsu.

»Komputer cyfrowy« (4, 5)

Urządzenie zdolne do wykonywania, w postaci jednej lub kilku zmiennych dyskretnych, wszystkich poniższych funkcji:

a. przyjmowanie danych;

b. zapamiętywanie danych lub instrukcji na trwałych lub nietrwałych (zapis usuwalny) urządzeniach pamięciowych;

c. przetwarzanie danych za pomocą zapamiętanej sekwencji instrukcji, którą można modyfikować; oraz

d. generowanie danych wyjściowych.

NB.: Modyfikacje zapamiętanej sekwencji instrukcji dotyczą wymiany trwałych urządzeń pamięciowych, ale nie fizycznych zmian przewodów lub połączeń.

»Komputer neuronowy« (4)

Urządzenie obliczeniowe zaprojektowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do naśladowania działalności neuronu lub zbioru neuronów, tj. urządzenie obliczeniowe wyróżniające się możliwością sprzętowego modulowania znaczenia i liczby połączeń pomiędzy wieloma elementami obliczeniowymi w oparciu o poprzednie dane.

»Komputer optyczny« (4)

Komputer zaprojektowany lub zmodyfikowany z przeznaczeniem do używania światła jako nośnika danych oraz taki, którego elementy obliczeniowo-logiczne działają bezpośrednio na sprzężonych urządzeniach optycznych.

»Komputer z dynamiczną modyfikacją tablic« (4)

Komputer, w którym przepływ i modyfikacja danych są dynamicznie sterowane przez użytkownika na poziomie bramek logicznych.

»Komutacja optyczna« (5)

Przekazywanie lub komutacja sygnałów w postaci optycznej bez przetwarzania na sygnały elektryczne.

»Krąg Równego Prawdopodobieństwa« (CEP) (7)

Jest to miara dokładności wyrażana jako promień okręgu ze środkiem w miejscu znajdowania się celu, w który wpada 50 % ładunków użytecznych, przy określonym zasięgu.

»Kryptografia« (5)

Dziedzina wiedzy zajmująca się zasadami, narzędziami i metodami przekształcania danych w celu ukrycia zawartych w nich informacji, zapobiegania możliwości niepostrzeżonego ich modyfikowania lub uniemożliwienia dostępu do nich osobom niepowołanym. »Kryptografia« ogranicza się do przekształcania informacji za pomocą jednego lub większej liczby »tajnych parametrów« (np. szyfrów) lub związanego z tym zarządzania kluczami.

NB.: »Tajny parametr«: wartość stała lub klucz trzymany w tajemnicy przed osobami postronnymi lub znany wyłącznie pewnej grupie osób.

»Kryptografia kwantowa« (5)

Grupa technik pozwalających uzyskiwać wspólny klucz do celów »kryptografii« poprzez pomiar własności kwantowych układu fizycznego (w tym własności fizycznych jawnie zależnych od praw optyki kwantowej, kwantowej teorii pola lub elektrodynamiki kwantowej).

»Laser« (0, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9)

Zespół elementów wytwarzający wiązkę światła spójnego zarówno w przestrzeni, jak i w czasie, wzmocnioną za pomocą stymulowanej emisji promieniowania.

NB.: Zob. również »Laser chemiczny« »Laser o super wysokiej mocy«, »Laser z przekazaniem energii«.

»Laser chemiczny« (6)

»Laser«, w którym wzbudzanie czynnika następuje za pomocą energii pochodzącej z reakcji chemicznej.

»Laser impulsowy« (6)

»Laser«, w którym »czas trwania impulsu« jest równy lub mniejszy niż 0,25 s.

»Laser o fali ciągłej« (6)

»Laser« dający nominalnie stałą energię wyjściową w czasie dłuższym niż 0,25 s.

»Laser o super wysokiej mocy« (»SUPL.«) (6)

»Laser«, który może dostarczyć energię wyjściową (całkowitą lub częściową) powyżej 1 kJ w ciągu 50 ms lub taki, którego moc przeciętna lub moc w przypadku fali ciągłej wynosi powyżej 20 kW.

»Laser z przekazaniem energii« (6)

»Laser«, w którym czynnik emitujący promieniowanie laserowe jest wzbudzany dzięki transferowi energii wskutek zderzeń atomów lub molekuł, niebiorących udziału w akcji laserowej, z atomami lub molekułami czynnika emitującego promieniowanie laserowe.

»Liniowość« (2)

»Liniowość« (zazwyczaj określana w kategoriach nieliniowości) stanowi maksymalne odchylenie parametru rzeczywistego (przeciętnej wartości górnego i dolnego odczytu na skali), w kierunku dodatnim lub ujemnym, od linii prostej poprowadzonej w taki sposób, żeby maksymalne odchylenia zostały wyrównane i zminimalizowane.

»Łączność kanałowa« (5)

Metoda przesyłania sygnałów, w której pojedynczy kanał pomiędzy centralami telefonicznymi przenosi, za pomocą komunikatów etykietowanych, informacje sygnałowe dotyczące wielu układów lub rozmów oraz inne informacje, np. stosowane do obsługi sieci.

»Magnetometry« (6)

Przyrządy do wykrywania pól magnetycznych źródeł zewnętrznych względem przyrządu pomiarowego. Składają się z pojedynczego czujnika pola magnetycznego i odpowiedniego układu elektronicznego, na którego wyjściu jest wartość mierzonego pola magnetycznego.

»Manipulatory« (2)

»Manipulatory« obejmują uchwyty, »aktywne jednostki oprzyrządowania« lub wszelkie inne oprzyrządowanie zamontowane na podstawowej (bazowej) płycie na końcu ramienia manipulacyjnego »robota«.

NB.: »Aktywne jednostki oprzyrządowania«: urządzenia do przyłożenia mocy napędowej, energii procesowej lub czujnika do przedmiotu obrabianego.

»Materiał kompozytowy« (1, 2, 6, 8, 9)

»Matryca« oraz dodatkowa faza lub dodatkowe fazy, składające się z cząstek, włókienek, włókien lub dowolnej ich kombinacji, dodawanych w określonym celu lub celach.

»Materiały energetyczne« (1)

Substancje lub mieszanki wchodzące w reakcje chemiczne, by uwolnić energię potrzebną do ich zamierzonego zastosowania. Podklasami materiałów energetycznych są »materiały wybuchowe«, »materiały pirotechniczne« i »paliwa«.

»Materiały wybuchowe« (1)

Stałe, ciekłe lub gazowe substancje lub mieszaniny substancji, które mają za zadanie detonować w charakterze ładunku inicjującego, detonatora pośredniego lub ładunku głównego w głowicach bojowych, w robotach rozbiórkowych lub w innych zastosowaniach.

»Materiały odporne na korozyjne działanie UF6« (0)

Mogą nimi być miedź, stal nierdzewna, glin, tlenek glinu, stopy glinu, nikiel lub stop zawierający 60 % wagowych lub więcej niklu oraz odporne na działanie UF6 fluorowane polimery węglowodorowe, stosownie do rodzaju procesu separacji.

»Materiały włókniste lub włókienkowe« (0, 1, 8)

Termin »materiał włóknisty lub włókienkowy« obejmuje następujące pojęcia:

a. »włókna elementarne« o strukturze ciągłej;

b. »przędza« i »rowing« o strukturze ciągłej;

c. »taśmy«, tkaniny, maty i oploty o strukturze bezładnej;

d. włókna cięte na drobne kawałki, włókna pocięte na dłuższe odcinki oraz spójne maty z włókien;

e. wiskery, monokrystaliczne lub polikrystaliczne, o dowolnej długości;

f. pulpa z poliamidu aromatycznego.

»Matryca« (1, 2, 8, 9)

W zasadzie faza o strukturze ciągłej wypełniająca przestrzeń pomiędzy cząstkami, wiskerami lub włóknami.

»Matryca detektorowa płaszczyzny ogniskowej« (6, 8)

Płaska warstwa o strukturze liniowej lub dwuwymiarowej lub połączenie takich płaskich warstw, złożonych z oddzielnych elementów detekcyjnych, z elektronicznym urządzeniem odczytującym lub bez, pracująca w płaszczyźnie ogniskowej.

NB.: Definicja ta nie obejmuje stosu pojedynczych elementów detekcyjnych ani detektorów dwu-, trzy- lub czteroelementowych, pod warunkiem że w elemencie nie są realizowane opóźnienie ani integracja

»Mierniki gradientu magnetycznego« (6)

Przyrządy do wykrywania zmian przestrzennych pól magnetycznych ze źródeł zewnętrznych w stosunku do przyrządu pomiarowego. Składają się z wielu »magnetometrów« i przynależnych układów elektronicznych, służących do pomiaru gradientu pola magnetycznego.

NB.: Zob. również »Miernik gradientu magnetycznego właściwego«.

»Miernik gradientu magnetycznego właściwego« (6)

Pojedynczy element do pomiaru gradientu pola magnetycznego oraz związane z nim urządzenia elektroniczne, służący do pomiaru gradientu pola magnetycznego.

NB.: Zob. również »Miernik gradientu magnetycznego«.

»Mieszanina chemiczna« (1) oznacza produkt stały, płynny lub gazowy składający się z dwóch lub więcej składników, które nie reagują ze sobą w warunkach, w których mieszanina jest przechowywana.

»Mieszanie« (1)

Mieszanie włókien materiałów termoplastycznych z włóknami materiałów wzmacniających w celu wytworzenia mieszanki włókien wzmacniających z »matrycą«, mającej w całości formę włóknistą.

»Mikroorganizmy« (1, 2)

Bakterie, wirusy, mikoplazmy, riketsje, chlamydie lub grzyby, naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci »izolowanych żywych kultur« lub materiału zawierającego żywe organizmy, który rozmyślnie zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami.

»Moc szczytowa« (6)

Najwyższy poziom mocy osiągany w »czasie trwania emisji lasera«.

»Moduł właściwy« (0, 1, 9)

Moduł Younga w paskalach (1 paskal = 1 N/m2) podzielony przez ciężar właściwy w N/m3, mierzony w temperaturze (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C) i przy wilgotności względnej (50 ± 5) %.

»Monolityczny układ scalony« (3)

Połączenie »elementów obwodu« czynnych lub biernych lub obu rodzajów, o następujących cechach charakterystycznych:

a. jest uformowane techniką dyfuzyjną, technikami implantacyjnymi lub technikami osadzania w pojedynczym półprzewodzącym kawałku materiału, tzw. chipie lub na nim;

b. można je traktować jak element niepodzielny; oraz

c. realizuje funkcję(-e) obwodu.

NB.: »Element obwodu«: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, taka jak jedna dioda, tranzystor, rezystor, kondensator itp.

»Monospektralne czujniki obrazowe« (6)

Czujniki pozwalające na zbieranie danych obrazowych z pojedynczego pasma widma dyskretnego.

»Możliwość programowania przez użytkownika« (6)

Możliwość wprowadzania, modyfikacji lub wymiany »programów« przez użytkownika na innej drodze niż poprzez:

a. fizyczną modyfikację okablowania lub połączeń; lub

b. ustawianie sterowania funkcjami, w tym wprowadzanie parametrów.

»Nadprzewodniki« (1, 3, 5, 6, 8)

Materiały: tj. metale, stopy lub związki, które mogą całkowicie stracić swoją oporność, tj. które mogą uzyskać nieskończoną przewodność elektryczną i przewodzić prąd elektryczny o bardzo wysokich natężeniach bez wytwarzania ciepła Joule’a.

NB.: »Nadprzewodzący« stan materiału jest indywidualnie scharakteryzowany »temperaturą krytyczną«, krytycznym polem magnetycznym, będącym funkcją temperatury, oraz krytyczną gęstością prądu, która jest funkcją zarówno pola magnetycznego, jak i temperatury.

»Nadstopy« (2, 9)

Stopy na osnowie niklu, kobaltu lub żelaza o bardzo wysokiej wytrzymałości w porównaniu z innymi stopami serii AISI 300 w temperaturach powyżej 922 K (649 °C), w skrajnych warunkach środowiskowych i eksploatacyjnych.

»Nawigacja na bazie danych z wielu źródeł« (»DBRN«) (7)

Systemy oparte na danych z wielu źródeł uprzednio zmierzonych danych geograficznych zintegrowanych w celu uzyskania dokładnych informacji nawigacyjnych w warunkach dynamicznych. Do źródeł danych należą mapy batymetryczne, mapy nieba, mapy grawitacji, mapy magnetyczne lub trójwymiarowe cyfrowe mapy terenowe.

»Niepewność pomiarowa« (2)

Parametr charakterystyczny określający, na poziomie ufności 95 %, w jakiej odległości od wartości prawidłowej leży zmienna pomiarowa. W jego skład wchodzą niedające się skorygować odchylenia systematyczne, niedający się skorygować luz oraz odchylenia losowe. (Zob. ISO 10360-2 lub VDI/VDE 2617).

»Niezbędne« (UOdT 1-9)

W odniesieniu do »technologii« dotyczy tylko tej części »technologii«, która jest szczególnie odpowiedzialna za osiągnięcie lub przekroczenie wartości parametrów, właściwości lub funkcji objętych kontrolą. Taka »niezbędna«»technologia« może być wspólna dla różnych produktów.

»Ochrona informacji« (4, 5)

Wszystkie środki i funkcje zapewniające dostęp, poufność lub nienaruszalność informacji lub komunikacji, z wyłączeniem środków i funkcji mających zabezpieczać przed wadliwym działaniem. Obejmuje »kryptografię«, »aktywację kryptograficzną«, »kryptoanalizę«, ochronę przed przypadkowym przekazywaniem sygnałów odnoszących się do tajnych informacji oraz zabezpieczanie komputerów.

NB.: »Kryptoanaliza«: analiza systemów kryptograficznych lub ich wejść i wyjść w celu uzyskania tajnych informacji lub danych, włączając w to tajne teksty.

»Odchylenie położenia kątowego« (2)

Maksymalna różnica pomiędzy położeniem kątowym a rzeczywistym, bardzo dokładnie zmierzonym położeniem kątowym po obróceniu stołu montażowego w stosunku do jego położenia początkowego. (Zob. VDI/VDE 2617, Draft »Rotary tables on coordinate measuring machines« – Stoły obrotowe urządzeń do pomiaru współrzędnych).

»Odporność na błędy« (4)

Zdolność systemu komputerowego, po dowolnym wadliwym zadziałaniu części jego sprzętu lub »oprogramowania«, do dalszego działania bez interwencji człowieka, na danym poziomie usług, zapewniającym: ciągłość działania, zachowanie danych bez ich naruszenia oraz odzyskanie zdolności do działania w określonym czasie.

»Ogniwo paliwowe« (8)

Urządzenie elektrochemiczne, które zużywając paliwo ze źródła zewnętrznego, przetwarza energię chemiczną bezpośrednio w prąd stały.

»Opóźnienie sygnału bramki podstawowej« (3)

Wartość opóźnienia sygnału odpowiadająca bramce podstawowej, używanej w »rodzinie«»monolitycznych układów scalonych«. Można ją wyznaczyć, dla danej »rodziny«, jako opóźnienie sygnału na bramkę typową w ramach danej »rodziny« lub jako typowe opóźnienie na bramkę w ramach danej »rodziny«.

NB. 1: Nie należy mylić »opóźnienia sygnału bramki podstawowej« z opóźnieniem wyjścia/wejścia złożonego »monolitycznego układu scalonego«.

NB. 2: Do »rodziny« zalicza się wszystkie układy scalone, których metody produkcji i specyfikacje techniczne, z wyjątkiem ich odpowiednich funkcji, spełniają wszystkie następujące kryteria: a. wspólna architektura sprzętowa i oprogramowania; b. wspólna technologia projektowania i przetwarzania; oraz c. wspólne charakterystyki podstawowe.

»Oprogramowanie« (Cała UOdO)

Zbiór jednego lub większej liczby »programów« lub »mikroprogramów«, utrwalony na dowolnym materialnym nośniku.

NB.: »Mikroprogram« oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwołania.

»Optyczny układ scalony« (3)

»Monolityczny układ scalony« lub »hybrydowy układ scalony«, zaopatrzony w co najmniej jedną część przeznaczoną do działania jako fotoczujnik lub fotoemiter lub do wykonywania funkcji optycznych lub elektrooptycznych.

»Optymalizacja toru lotu« (7)

Procedura minimalizująca odchylenia od czterowymiarowej (przestrzeń i czas) planowanej trajektorii lotu oparta na zasadzie maksymalizacji osiągów lub efektywności realizacji zadania.

»Pamięć operacyjna« (4)

Podstawowa pamięć na dane lub instrukcje szybko dostępna dla jednostki centralnej. Składa się z pamięci wewnętrznej »komputera cyfrowego« oraz jednej z dodatkowych pamięci o strukturze hierarchicznej, takich jak pamięć podręczna (cache) lub pamięć dodatkowa z dostępem niesekwencyjnym.

»Państwa (nie)będące stronami konwencji o zakazie broni chemicznej« (1) są to te państwa, w których Konwencja o zakazie rozwijania, produkcji, składowania i stosowania broni chemicznej (nie) weszła w życie.

»Państwo uczestniczące« (7, 9)

Każde z państw uczestniczących w Porozumieniu z Wassenaar.

»Piksel aktywny« (6, 8)

Najmniejszy (pojedynczy) element sieci elementów półprzewodnikowych mający możliwość realizacji funkcji fotoelektrycznych w odpowiedzi na promieniowanie świetlne (elektromagnetyczne).

»Pociski rakietowe« (1, 3, 6, 7, 9)

Kompletne systemy rakietowe i systemy bezpilotowych statków powietrznych, zdolne do przenoszenia ładunku użytecznego o masie co najmniej 500 kg na odległość co najmniej 300 km.

»Podjednostka toksyny« (1)

Strukturalnie i funkcjonalnie oddzielny składnik »toksyny«.

»Podłoże« (3)

Płytka materiału głównego z naniesionymi połączeniami lub bez nich, na której lub wewnątrz której można umieszczać »składniki dyskretne« lub układy scalone lub oba z nich.

NB. 1: »Składnik dyskretny«: »element obwodu« w oddzielnej obudowie z własnymi końcówkami wyjściowymi.

NB. 2: »Element obwodu«: pojedyncza, czynna lub bierna część funkcjonalna układu elektronicznego, taka jak jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

»Podstawowe badania naukowe« (UOdT, UdTJ)

Prace doświadczalne lub teoretyczne prowadzone głównie w celu uzyskania nowej wiedzy o podstawach danego zjawiska lub obserwowalnych jego efektach, nienakierowane bezpośrednio na konkretne cele lub zadania praktyczne.

»Podstawowe sterowanie lotem« (7)

Sterowanie stabilnością i manewrowością »statku powietrznego« za pomocą generatorów siły lub momentu, tj. za pomocą aerodynamicznych powierzchni sterujących lub sterowania wektorem ciągu.

»Pojazdy lżejsze od powietrza« (9)

Balony i statki powietrzne, które są wypełniane gorącym powietrzem lub innymi gazami lżejszymi od powietrza, takimi jak hel lub wodór.

»Powtarzalność« (7)

Stopień zgodności powtarzanych pomiarów tej samej zmiennej w tych samych warunkach operacyjnych w sytuacji, gdy pomiędzy pomiarami występują zmiany warunków lub przerwy w działaniu. (Zob. IEEE STD 528-2001 (odchylenie standardowe wielkości 1 sigma)).

»Półprodukt podłoży« (6)

Materiał monolityczny o wymiarach umożliwiających wytworzenie z niego elementów optycznych, takich jak zwierciadła lub okienka optyczne.

»Prasy izostatyczne« (2)

Urządzenia umożliwiające ciśnieniowanie zamkniętych komór za pomocą różnych czynników roboczych (gazu, cieczy, cząstek stałych itp.) w celu wytwarzania w komorze we wszystkich kierunkach równych ciśnień na obrabiany element lub materiał.

»Preformy włókien węglowych« (1)

Uporządkowany układ powlekanych lub niepowlekanych włókien przeznaczony do tworzenia struktur składowych przed użyciem »matrycy« do tworzenia »materiału kompozytowego«.

»Produkcja« (Wszystkie UOdT, UdTJ)

Wszystkie etapy związane z produkcją, takie jak: prace konstrukcyjne, technologia produkcji, wytwarzanie, scalanie, montaż (składanie), kontrola, testowanie, zapewnienie jakości.

»Profile o zmiennej geometrii« (7)

Profile, w których zastosowano klapy lub inne płaszczyzny na krawędzi spływu lub sloty lub osadzone przegubowo noski na krawędzi natarcia, którymi można sterować w locie.

»Program« (2, 6)

Sekwencja instrukcji do realizacji procesu, mająca postać wykonywalną lub dająca się przekształcić na wykonywalną przez komputer elektroniczny.

»Przeciętna moc wyjściowa« (6)

Całkowita energia wyjściowa »lasera« wyrażona w dżulach podzielona przez »czas trwania emisji lasera« w sekundach.

»Przestrajalność« (6)

Zdolność »lasera« do wytwarzania ciągłego sygnału wyjściowego we wszystkich długościach fal w przedziale kilku przejść »laserowych«. »Laser« z selekcją liniową wytwarza dyskretne długości fal w ramach jednego przejścia »laserowego« i nie jest uważany za »przestrajalny«.

»Przetwarzanie sygnałów« (3, 4, 5, 6)

Przetwarzanie sygnałów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą takich algorytmów, jak kompresja czasu, filtrowanie, ekstrahowanie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub transformaty Walsha).

»Przetwarzanie w czasie rzeczywistym« (2, 6, 7)

Przetwarzanie danych przez system komputerowy, zapewniające żądany poziom realizacji zadań w funkcji dostępnych środków, w gwarantowanym czasie odpowiedzi, bez względu na obciążenie systemu, kiedy jest on stymulowany przez wydarzenia zewnętrzne.

»Przetworniki ciśnienia« (2)

Urządzenia przetwarzające wyniki pomiaru ciśnienia na sygnał elektryczny.

»Przędza« (1)

Wiązka skręconych »skrętek«.

NB.: »Skrętka« oznacza wiązkę »włókien elementarnych« (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

»Przydzielone przez ITU« (3, 5) oznacza przydział pasm częstotliwości zgodnie z Przepisami Radiowymi ITU (International Telecommunication Union – Międzynarodowej Unii Telekomunikacyjnej) dla służb podstawowych, dopuszczonych i pomocniczych.

NB.: Nie obejmuje kontrolą przydziałów dodatkowych i alternatywnych.

»Przystosowany do użycia w działaniach wojennych« (1)

Dowolna modyfikacja lub dobór (np. zmiana czystości, dopuszczalnego okresu magazynowania, agresywności, charakterystyki propagacji lub odporności na promieniowanie nadfioletowe), których celem jest wzmocnienie efektów wywoływania strat w ludności lub zwierzętach, unieszkodliwiania sprzętu lub powodowania strat w uprawach rolnych lub środowisku.

»Radar o rozproszonym widmie« (6)

(Zob. »Rozproszone widmo radarowe«).

»Reaktor jądrowy« (0)

Kompletny reaktor zdolny do pracy w taki sposób, żeby mogła w nim przebiegać kontrolowana, samopodtrzymująca się reakcja łańcuchowa rozszczepiania. »Reaktor jądrowy« obejmuje wszystkie obiekty znajdujące się wewnątrz zbiornika reaktora lub bezpośrednio przymocowane do niego, wyposażenie sterujące poziomem mocy w rdzeniu oraz elementy, które zazwyczaj zawierają chłodziwo pierwotne rdzenia reaktora lub wchodzą z nim w bezpośrednią styczność lub sterują nim.

»Robot« (2, 8)

Mechanizm manipulacyjny poruszający się po ścieżce ciągłej lub od punktu do punktu, mogący korzystać z »czujników« i mający wszystkie następujące cechy:

a) jest wielofunkcyjny;

b) ma możliwość ustawiania w odpowiednim położeniu lub orientowania przestrzennego materiałów, części, narzędzi lub urządzeń specjalnych poprzez wykonywanie zmiennych ruchów w przestrzeni trójwymiarowej;

c) jest wyposażony w trzy lub większą liczbę mechanizmów wspomagających, m.in. silników krokowych, pracujących w obwodzie zamkniętym lub otwartym; oraz

d) ma »możliwość programowania przez użytkownika« metodą uczenia/odtwarzania lub za pomocą komputera elektronicznego, który może być programowanym sterownikiem logicznym, tj. bez ingerencji mechanicznej.

NB.: Niniejsza definicja nie obejmuje kontrolą następujących urządzeń: 1. mechanizmów poruszanych wyłącznie ręcznie lub zdalnie przez operatora; 2. mechanizmów manipulacyjnych o ustalonej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejność ruchów oraz wybór drogi lub kątów nie są zmienne ani zmienialne za pomocą środków mechanicznych, elektronicznych lub elektrycznych; 3. mechanicznie sterowanych mechanizmów manipulacyjnych o zmiennej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomocą ustalonych, choć nastawnych, ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejność ruchów oraz wybór drogi lub kątów są zmienne w ramach ustalonego schematu programowego. Zmian lub modyfikacji schematu programowego (np. zmiany kołków lub wymiany krzywek) w jednej lub kilku osiach współrzędnych dokonuje się wyłącznie na drodze działań mechanicznych; 4. mechanizmów manipulacyjnych bez wspomagania, o zmiennej sekwencji ruchów, będących urządzeniami zautomatyzowanymi, realizującymi zaprogramowane mechanicznie ruchy. Program jest zmienny, ale sekwencja jest realizowana wyłącznie za pomocą sygnału binarnego z elektrycznych urządzeń binarnych o ustalonym mechanicznie położeniu lub nastawnych ograniczników; 5. żurawi do stertowania, definiowanych jako systemy manipulatorów działające w kartezjańskim układzie współrzędnych, produkowanych jako integralne części pionowych zespołów do silosów, i służące do uzyskiwania dostępu do zawartości tych silosów w celu składowania lub wyjmowania.

»Rowing« (1)

Wiązka (zazwyczaj 12–120 szt.) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle »skrętek«.

NB.: »Skrętka« oznacza wiązkę »włókien elementarnych« (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

»Rozdrabnianie« (1)

Przeprowadzanie materiału w postać drobnocząstkową przez zgniatanie lub mielenie.

»Rozdzielczość« (2)

Najmniejsza działka urządzenia pomiarowego; w przyrządach cyfrowych jest to najmniej znaczący bit. (Zob. ANSI B-89.1.12).

»Rozproszone widmo radarowe« (6)

Dowolna technika modulacji służąca do rozpraszania energii sygnału o stosunkowo wąskim paśmie częstotliwości na dużo szersze pasmo częstotliwości, za pomocą kodowania losowego lub pseudolosowego.

»Rozrzucanie częstotliwości« (frequency hopping) (5)

Forma »rozproszenia widma« polegająca na krokowo-dyskretnej zmianie częstotliwości nośnej pojedynczego kanału telekomunikacyjnego, w sposób losowy lub pseudolosowy.

»Rozrzucone geograficznie« (6)

Odnosi się do przypadku, kiedy każdy element znajduje się w odległości większej niż 1 500 m od innego w dowolnym kierunku. Czujniki ruchome są zawsze traktowane jako »rozrzucone geograficznie«.

»Rozwój« (Wszystkie UOdT, UdTJ)

Odnosi się do wszystkich etapów poprzedzających produkcję seryjną, takich jak: projektowanie, badania projektowe, analiza projektowa, koncepcja projektowania, montaż i testowanie prototypów, plany produkcji pilotowej, dane projektowe, proces przetwarzania danych projektowych w produkt, projektowanie konfiguracji, projektowanie montażu całościowego, rozplanowanie.

»Ruchliwość częstotliwości w radarach« (6)

Dowolna technika zmiany, wg sekwencji pseudolosowej, częstotliwości nośnej impulsowego nadajnika radarowego pomiędzy impulsami lub pomiędzy grupami impulsów, o wartość równą lub większą od szerokości pasma impulsu.

»SHPL« – zob. »Laser o super wysokiej mocy«.

»Sieć lokalna« (4, 5)

System przesyłania danych mający wszystkie następujące cechy:

a. umożliwiający bezpośrednie połączenie ze sobą dowolnej liczby niezależnych »urządzeń do przetwarzania danych«; oraz

b. ograniczony w sensie geograficznym do pewnego obszaru o umiarkowanym zasięgu (np. biurowiec, zakład, miasteczko studenckie, magazyn).

NB.: »Urządzenie do przetwarzania danych«: urządzenie mające możliwość nadawania lub odbierania ciągów informacji cyfrowych.

»Sieć osobista« (5)

System przesyłania danych mający wszystkie następujące cechy:

a. umożliwiający bezpośrednie połączenie ze sobą dowolnej liczby niezależnych »urządzeń do przetwarzania danych«; oraz

b. ograniczony do łączności między urządzeniami w bezpośrednim sąsiedztwie osoby fizycznej lub kontrolera urządzeń (np. pojedyncze pomieszczenie, biuro lub samochód).

Uwaga techniczna:

»Urządzenie do przetwarzania danych«: urządzenie mające możliwość nadawania lub odbierania ciągów informacji cyfrowych.

»Skorygowana wydajność szczytowa« (4)

Skorygowana największa prędkość, z jaką »komputery cyfrowe« wykonują zmiennoprzecinkowe operacje dodawania i mnożenia na liczbach 64-bitowych lub dłuższych; wyraża się w teraflopsach ważonych (WT), jednostkach wynoszących 1012 skorygowanych operacji zmiennoprzecinkowych na sekundę.

NB.: Zob. kategoria 4, uwaga techniczna.

»Statek powietrzny« (1, 7, 9)

Stałopłat, statek z obrotowymi skrzydłami, wiropłat (helikopter), statek ze zmiennym wirnikiem lub zmiennopłat.

NB.: Zob. również »cywilne statki powietrzne«.

»Specjalny materiał rozszczepialny« (0)

»Specjalny materiał rozszczepialny« oznacza pluton-239, uran-233, »uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233« oraz dowolne zawierające je materiały.

»Stabilność« (7)

Odchylenie standardowe (1 sigma) zmienności danego parametru od jego wartości wzorcowej zmierzonej w ustalonych warunkach temperaturowych. Można ją wyrażać w funkcji czasu.

»Stała czasowa« (6)

Czas, który upływa od pojawienia się bodźca świetlnego do momentu, kiedy prąd wzrośnie do wartości równej wielkości końcowej pomnożonej przez 1–1/e (tj. 63 % wartości końcowej).

»Stapianie mechaniczne« (1)

Technika wykonywania stopów polegająca na mechanicznym łączeniu, kruszeniu i ponownym łączeniu sproszkowanych pierwiastków i głównego składnika stopowego. Przez dodawanie odpowiednich proszków można wprowadzać do stopu cząstki niemetaliczne.

»Statek kosmiczny« (7, 9)

Czynne i bierne satelity i sondy kosmiczne.

»Sterowanie kształtowe« (2)

Co najmniej dwa ruchy »sterowane numerycznie«, realizowane zgodnie z instrukcjami określającymi następne położenie oraz potrzebne do osiągnięcia tego położenia prędkości posuwów. Prędkości posuwów nie są jednakowe, wskutek czego powstaje wymagany kształt. (Zob. ISO/DIS 2806-1980).

»Sterowanie numeryczne« (2)

Automatyczne sterowanie procesem wykonywane przez urządzenie korzystające z danych numerycznych zazwyczaj wprowadzanych podczas realizacji operacji. (Zob. ISO 2382).

»Sterowanie mocą« (7)

Zmiana mocy sygnału nadawanego przez wysokościomierz w taki sposób, żeby moc odbierana w »statku powietrznym« na danej wysokości była zawsze na minimalnym poziomie niezbędnym do określenia wysokości.

»Sterowany elektronicznie układ antenowy fazowany« (5, 6)

Antena kształtująca wiązkę za pomocą sprzężenia fazowego, tj. kierunek wiązki jest utrzymywany za pomocą elementów promieniujących o złożonych współczynnikach wzbudzenia, przy czym kierunek takiej wiązki (azymut i (lub) podniesienie kątowe) można zmieniać za pomocą sygnału elektrycznego, zarówno dla nadawania, jak i odbioru.

»Sterownik dostępu do sieci« (4)

Interfejs fizyczny do sieci rozproszonej. Używa się w nim wspólnego nośnika działającego z taką samą »szybkością transmisji danych cyfrowych« w systemie transmisji z arbitrażem (np. w sensie znacznika lub nośnika). Niezależnie od innych wybiera on adresowane do niego pakiety z danymi lub grupami danych (np. IEEE 802). Jest to zespół, który może być wbudowany w komputer lub urządzenie telekomunikacyjne, z zadaniem zapewniania dostępu do łączy telekomunikacyjnych.

»Sterownik toru telekomunikacyjnego« (5)

Interfejs fizyczny sterujący przepływem cyfrowych informacji synchronicznych lub asynchronicznych. Jest to zespół, który może być wbudowany w komputer lub urządzenie telekomunikacyjne, z zadaniem zapewniania dostępu do łączy telekomunikacyjnych.

»Stół obrotowo-przechylny« (2)

Stół umożliwiający obracanie i przechylanie obrabianego przedmiotu względem dwóch osi nierównoległych, które mogą być równocześnie koordynowane, co umożliwia »sterowanie kształtowe«.

»Syntetyzator częstotliwości« (3)

Dowolny rodzaj źródła częstotliwości, bez względu na stosowaną technikę, zapewniający uzyskanie wielu równoczesnych lub naprzemiennych częstotliwości wyjściowych z jednego lub kilku wyjść, uzyskanych z mniejszej liczby częstotliwości wzorcowych (lub głównych) lub sterowanych lub regulowanych za ich pomocą.

»Systemy eksperckie« (4, 7)

Systemy generujące wyniki poprzez zastosowanie pewnych zasad do danych przechowywanych w pamięci niezależnie od »programu« i mające następujące możliwości:

a. automatyczna modyfikacja »kodu źródłowego« wprowadzonego przez użytkownika;

b. dostarczanie informacji związanych z określoną klasą problemów w języku quasi-naturalnym; lub

c. nabywanie wiedzy potrzebnej do własnego rozwoju (szkolenie symboliczne).

»Systemy FADEC« (7, 9)

Całkowicie autonomiczne systemy cyfrowego sterowania silnikami, czyli cyfrowe elektroniczne systemy sterowania silnikami turbospalinowymi, które są w stanie autonomicznie sterować tymi silnikami w całym zakresie ich pracy, od uruchamiania do wyłączania ich na żądanie, zarówno w warunkach ich normalnej, jak i nieprawidłowej pracy.

»Systemy kompensacji«(6)

Składają się z głównego czujnika skalarnego, co najmniej jednego czujnika odniesienia (np. magnetometru wektorowego) wraz z oprogramowaniem zezwalającym na zmniejszenie szumu ruchu obrotowego korpusu sztywnego platformy.

»Szczepionka« (1)

Produkt leczniczy w postaci wyrobu farmaceutycznego, w odniesieniu do którego władze kraju produkcji lub kraju stosowania wydały zezwolenie na wprowadzanie do obrotu lub na prowadzenie badań klinicznych, a który wprowadzony do ustroju ludzkiego lub zwierzęcego ma za zadanie wytworzenie w nim ochronnej odporności immunologicznej w celu zapobiegania chorobom.

»Szerokość pasma czasu rzeczywistego« (3)

W »dynamicznych analizatorach sygnałów« – największy zakres częstotliwości, jaki analizator może przesłać na wyświetlacz lub do pamięci masowej, bez jakiejkolwiek przerwy w analizowaniu danych wejściowych. W przypadku analizatorów o więcej niż jednym kanale, obliczenia należy przeprowadzić dla takiej konfiguracji kanałów, która daje największą »szerokość pasma czasu rzeczywistego«.

»Szybkość transmisji danych cyfrowych« (def)

Całkowita szybkość informacji w bitach, przesyłanych bezpośrednio na dowolnym typie nośnika.

NB.: Zob. także »całkowita szybkość transmisji danych cyfrowych«.

»Ścieżki systemowe« (6)

Przetworzone, skorelowane (połączenie radiolokacyjnych danych o celu z położeniem lecącego statku powietrznego) i zaktualizowane dane dotyczące położenia lecącego statku powietrznego, przekazane kontrolerom w ośrodku kontroli ruchu powietrznego.

»Środek rozpraszania tłumu« (1)

Substancje, które w warunkach użycia dla rozproszenia tłumu szybko wywołują u ludzi podrażnienie receptorów zmysłów lub psychiczny efekt unieszkodliwienia, znikający po krótkim czasie od usunięcia przyczyny.

Uwaga techniczna:

Gazy łzawiące stanowią podzbiór »środków rozpraszania tłumu«.

»Taśma« (1)

Materiał zbudowany z przeplatanych lub jednakowo ukierunkowanych »włókien elementarnych«, »skrętek«, »rowingów«, »kabli« lub »przędz« itp., zazwyczaj impregnowany żywicą.

NB.: »Skrętka« oznacza wiązkę »włókien elementarnych« (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle.

»Technologia« (Wszystkie UOdT UdTJ)

Specyficzny rodzaj informacji, niezbędny do »rozwoju«, »produkcji« lub »użytkowania« danego wyrobu. Informacja ta ma postać »danych technologicznych« lub »pomocy technicznej«.

NB. 1: »Pomoc techniczna« może przybierać takie formy, jak: przekazanie instrukcji, umiejętności, szkolenie, przekazanie wiedzy na temat eksploatacji oraz usługi konsultacyjne i może obejmować transfer »danych technologicznych«.

NB. 2: »Dane technologiczne« mogą mieć formę odbitek, planów, wykresów, modeli, wzorów, tabel, projektów technicznych i opisów, podręczników i instrukcji w formie pisemnej lub zarejestrowanej na innych nośnikach lub urządzeniach, takich jak dyski, taśmy, pamięci wyłącznie do odczytu.

»Temperatura krytyczna« (1, 3, 5)

»Temperatura krytyczna« (nazywana czasami »temperaturą przemiany«) danego materiału »nadprzewodzącego« jest temperaturą, w której materiał całkowicie traci oporność dla przepływu elektrycznego prądu stałego.

»Toksyny« (1, 2)

Toksyny w postaci celowo wyizolowanych preparatów lub mieszanek, bez względu na sposób produkcji, różne od toksyn istniejących jako zanieczyszczenia innych materiałów, takich jak próbki patogenne, plony, żywność lub posiewy »mikroorganizmów«.

»Topliwy« (1)

Taki, który może być dalej sieciowany lub polimeryzowany (utwardzany) przy użyciu ciepła, promieniowania, katalizatora itd. lub stopiony bez pirolizy (zwęglania).

»Układ scalony warstwowy« (3)

Układ »elementów obwodu« i metalowych łączników, wytworzony techniką osadzania grubej lub cienkiej warstwy na »podłożu« o właściwościach izolujących.

NB.: »Element obwodu«: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

»Układ mikrokomputerowy« (3)

»Monolityczny układ scalony« lub »wieloukład scalony«, w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji instrukcji ogólnych, zawartych w pamięci wewnętrznej, na danych znajdujących się w pamięci wewnętrznej.

NB.: Pamięć wewnętrzna może być wspomagana przez pamięć zewnętrzną.

»Układ mikroprocesorowy« (3)

»Monolityczny układ scalony« lub »wieloukład scalony«, w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji szeregu instrukcji ogólnych zawartych w pamięci zewnętrznej.

NB. 1: »Układ mikroprocesorowy« zazwyczaj nie jest wyposażony w integralną pamięć dostępną dla użytkownika, ale do realizacji jego funkcji logicznych może być wykorzystywana pamięć istniejąca w mikroukładzie.

NB. 2: Definicja ta obejmuje zespoły układów przeznaczone do pracy razem, w celu realizacji funkcji »układu mikroprocesorowego«.

»Układy aktywnego sterowania lotem« (7)

Układy zapobiegające niepożądanym ruchom lub obciążeniom konstrukcyjnym »statku powietrznego« lub pocisku rakietowego przez autonomiczne przetwarzanie sygnałów z wielu czujników i wydawanie niezbędnych poleceń do realizacji sterowania automatycznego.

»Układy czujników optycznych sterowania lotem« (7)

Układ rozproszonych czujników optycznych, wykorzystujący promień »lasera« do dostarczania w czasie rzeczywistym danych dotyczących sterowania lotem w celu ich przetwarzania na pokładzie.

»Chłodzenie ultraszybkie« (1)

Technika »gwałtownego krzepnięcia« polegająca na uderzaniu stopionego strumienia metalu w chłodzony blok, w wyniku czego powstaje produkt w postaci płatków.

NB.: »Gwałtowne krzepnięcie«: krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s.

»Ułamkowa szerokość pasma« (3 5) oznacza »szerokość chwilową pasma« podzieloną przez częstotliwość środkową, wyrażoną w procentach.

»Uprzednio separowany« (0, 1)

Oddzielony dowolną techniką, której celem jest zwiększenie zawartości kontrolowanego izotopu.

»Uran naturalny« (0)

Uran zawierający mieszaninę izotopów występujących w naturze.

»Uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233« (0)

Uran zawierający izotopy 235 lub 233 w takich ilościach, że stosunek łącznej zawartości tych izotopów do izotopu 238 jest większy niż stosunek zawartości izotopu 235 do izotopu 238 występujący w naturze (stosunek izotopowy 0,71 procenta).

»Uran zubożony« (0)

Uran, w którym zawartość izotopu 235 obniżono do ilości mniejszej niż w warunkach naturalnych.

»Urządzenia produkcyjne« (1, 7, 9)

Oprzyrządowanie, szablony, przyrządy obróbkowe, trzpienie, formy, matryce, uchwyty, mechanizmy synchronizujące, urządzenia testujące, inne maszyny i ich części składowe, z ograniczeniem do urządzeń specjalnie zaprojektowanych lub zmodyfikowanych z przeznaczeniem do »rozwoju« lub co najmniej jednej fazy »produkcji«.

»Ustalony« (5)

Algorytm kodowania lub kompresji, który nie może akceptować parametrów dostarczonych z zewnątrz (np. zmiennych do szyfrowania lub kluczy) i nie może być modyfikowany przez użytkownika.

»Użytkowanie« (Wszystkie UOdT UdTJ)

Eksploatacja, instalowanie (łącznie z instalowaniem na miejscu), konserwacja (kontrola), naprawa, remonty i modernizacja.

»Widmo rozproszone« (5)

Dowolna technika służąca do rozpraszania energii sygnału ze stosunkowo wąskiego kanału telekomunikacyjnego na dużo szersze widmo energii.

»Wieloukład scalony« (3)

Dwa lub więcej »monolityczne układy scalone«, spojone ze wspólnym »podłożem«.

»Wielospektralne analizatory obrazowe« (6)

Umożliwiają równoczesne lub szeregowe odbieranie danych obrazowych z dwóch lub więcej dyskretnych pasm spektralnych. Analizatory o więcej niż dwudziestu dyskretnych pasmach spektralnych są czasami nazywane hiperspektralnymi analizatorami obrazowymi.

»Włókno elementarne« (lub – włókno) (1)

Najmniejszy inkrement włókna, zazwyczaj mający średnicę kilku mikrometrów.

»Współczynnik dryftu (żyroskopu)« (7)

Składowa wyjściowa rotacji żyroskopu funkcjonalnie niezależna od rotacji wejściowej. Jest wyrażany jako prędkość kątowa (IEEE STD 528-2001).

»Wrzeciono wahadłowe« (2)

Wrzeciono (uchwyt) do narzędzi, zmieniające podczas procesu obróbki położenie kątowe swojej osi względem dowolnej innej osi.

»Współczynnik skalowania (żyroskopu lub akcelerometru)« (7)

Stosunek zmiany wartości wyjściowej do zmiany wartości wejściowej, która ma być mierzona. Współczynnik skalowania jest na ogół szacowany jako nachylenie linii prostej, którą można poprowadzić metodą najmniejszych kwadratów pomiędzy punktami określającymi parametry wejściowe/wyjściowe, uzyskanymi poprzez cykliczną zmianę parametrów wejściowych w przedziale ich wartości.

»Wszystkie dostępne kompensacje« (2)

Oznacza, że uwzględniono wszystkie wykonalne środki, jakie może zastosować producent w celu zminimalizowania wszystkich systematycznych błędów pozycjonowania określonego modelu obrabiarki lub błędów pomiarowych określonego urządzenia do pomiaru współrzędnych.

»Wychylenie wstępne akcelerometru« (7)

Średnia wartość wskazywana przez akcelerometr przez określony czas, mierzona w określonych warunkach eksploatacyjnych i niewykazująca współzależności z przyspieszeniem wejściowym ani z wejściową prędkością obrotową. Wychylenie wstępne akcelerometru wyrażone jest w gramach lub w metrach na sekundę do kwadratu (g lub m/s2). (Norma IEEE 528-2001). (Mikrogram równy jest 1 × 10–6 g).

»Wychylenie wstępne żyroskopu« (7)

Średnia wartość wskazywana przez żyroskop przez określony czas, mierzona w określonych warunkach eksploatacyjnych i niewykazująca współzależności z wejściową prędkością obrotową ani z przyspieszeniem wejściowym. Wychylenie wstępne żyroskopu wyrażone jest z reguły w stopniach na godzinę (o/h). (Norma IEEE 528-2001).

»Wykładzina wewnętrzna« (9)

Warstwa pośrednia pomiędzy paliwem stałym a obudową lub warstwą izolacyjną. Zazwyczaj jest to płynna polimerowa zawiesina materiału ogniotrwałego lub izolacyjnego, np. polibutadien z łańcuchami zakończonymi grupami hydroksylowymi (HTPB) wypełniony węglem lub inny polimer z dodatkiem środków utrwalających, rozpylonych lub rozsmarowanych na wewnętrznej powierzchni osłony.

»Wytrzymałość właściwa na rozciąganie« (0, 1, 9)

Wytrzymałość na rozciąganie w paskalach (1 paskal = N/m2) podzielona przez masę właściwą w N/m3, mierzona w temperaturze (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C) i przy wilgotności względnej (50 ± 5) %.

»Wzmacnianie obrazu« (4)

Przetwarzanie obrazów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą algorytmów, takich jak kompresja czasu, filtrowanie, ekstrahowanie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformacji Fouriera lub transformacji Walsha). Nie obejmuje kontrolą algorytmów, w których stosowane są wyłącznie przekształcenia liniowe lub obrotowe pojedynczego obrazu, takie jak przesunięcie, ekstrahowanie jakiejś cechy, rejestracja lub fałszywe barwienie.

»Wzmocnienie optyczne« (5)

W telekomunikacji optycznej technika wzmacniania polegająca na uzyskiwaniu sygnałów optycznych generowanych przez oddzielne źródło optyczne, bez ich przetwarzania na sygnały elektryczne, tj. za pomocą półprzewodnikowych wzmacniaczy optycznych lub światłowodowych wzmacniaczy luminescencyjnych.

»Zasięg przyrządowy« (6)

Jednoznacznie określony zasięg radaru.

»Zespół elektroniczny« (2, 3, 4, 5)

Pewna liczba elementów elektronicznych (tj. »elementów obwodu«, »elementów dyskretnych«, układów scalonych itp.) połączonych ze sobą w celu realizacji określonej(-ych) funkcji, wymienialna w całości, która zazwyczaj może być demontowana.

NB. 1: »Element obwodu«: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

NB. 2: »Element dyskretny«: oddzielnie obudowany »układ elementarny« z własnymi końcówkami wyjściowymi.

»Zgrzewanie dyfuzyjne« (1, 2, 9)

Łączenie molekularne w stanie stałym co najmniej dwóch oddzielnych metali w jeden element, przy czym wytrzymałość miejsca połączenia jest równa wytrzymałości najsłabszego z materiałów.

»Związki III/V« (3 6)

Substancje polikrystaliczne, binarne lub złożone substancje monokrystaliczne składające się z pierwiastków grupy IIIA i VA układu okresowego pierwiastków (np. arsenek galu, arsenek galu i glinu, fosforek indu).

»Zwierciadła odkształcalne« (6)

(Określa się je również jako zwierciadła piezoelektryczne). Są to zwierciadła mające:

a. jedną ciągłą odbijającą powierzchnię optyczną, którą można dynamicznie odkształcać za pomocą pojedynczych momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło; lub

b. wiele odbijających elementów optycznych, które można oddzielnie i dynamicznie przemieszczać w inne położenie za pomocą działających na nie momentów lub sił, kompensując w ten sposób zniekształcenia fal optycznych padających na zwierciadło.

KATEGORIA 0

MATERIAŁY, INSTALACJE I URZĄDZENIA JĄDROWE

0ASystemy, urządzenia i części składowe

0A001Następujące »reaktory jądrowe« oraz specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użytkowania z nimi urządzenia i podzespoły:

a. »reaktory jądrowe«;

b. metalowe zbiorniki lub główne prefabrykowane części do nich, w tym górne pokrywy zbiornika ciśnieniowego reaktora, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do umieszczania w nich rdzenia »reaktora jądrowego«;

c. urządzenia manipulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do załadunku i wyładunku elementów paliwowych »reaktorów jądrowych«;

d. pręty regulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do sterowania procesem rozszczepienia w »reaktorze jądrowym«, odpowiednie elementy nośne lub zawieszenia, mechanizmy napędu oraz prowadnice rurowe do prętów regulacyjnych;

e. przewody ciśnieniowe reaktora specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem na elementy paliwowe i chłodziwo w »reaktorze jądrowym«, wytrzymałe na ciśnienia eksploatacyjne powyżej 5,1 MPa;

f. cyrkon metaliczny lub jego stopy, w których stosunek wagowy hafnu do cyrkonu wynosi poniżej 1:500, w postaci rur lub zespołów rur specjalnie zaprojektowanych lub wykonanych z przeznaczeniem do »reaktorów jądrowych«;

g. pompy pierwotnego obiegu specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przetaczania chłodziwa w »reaktorach jądrowych«;

h. »zespoły wewnętrzne reaktora« specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do pracy w »reaktorze jądrowym«, w tym elementy nośne rdzenia, kanały paliwowe, osłony termiczne, przegrody, siatki dystansujące rdzenia i płyty rozpraszające; Uwaga: W pozycji 0A001.h »zespoły wewnętrzne reaktora« oznaczają dowolną większą strukturę wewnątrz zbiornika reaktora wypełniającą jedną lub więcej funkcji, takich jak podtrzymywanie rdzenia, utrzymywanie osiowania elementów paliwowych, kierowanie przepływem chłodziwa w obiegu pierwotnym, zapewnienie osłon radiacyjnych zbiornika reaktora i oprzyrządowania wewnątrzrdzeniowego.

i. wymienniki ciepła (wytwornice pary) specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do stosowania w obiegu pierwotnym »reaktora jądrowego«;

j. aparatura do detekcji i pomiaru promieniowania neutronowego specjalnie zaprojektowana lub przystosowana do określenia poziomu strumienia neutronów wewnątrz rdzenia »reaktora jądrowego«.

0BUrządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

0B001Następujące instalacje do separacji izotopów z »uranu naturalnego«, »uranu zubożonego« i »specjalnych materiałów rozszczepialnych« oraz urządzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane:

a. następujące instalacje specjalnie zaprojektowane do separacji izotopów »uranu naturalnego«, »uranu zubożonego« oraz »specjalnych materiałów rozszczepialnych«: 1. instalacje do rozdzielania gazów metodą wirowania; 2. instalacje do dyfuzyjnego rozdzielania gazów; 3. instalacje do rozdzielania metodami aerodynamicznymi; 4. instalacje do rozdzielania metodami wymiany chemicznej; 5. instalacje do rozdzielania techniką wymiany jonów; 6. instalacje do rozdzielania izotopów w postaci par metalu za pomocą »laserów« (AVLIS); 7. instalacje do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą »laserów« (MLIS); 8. instalacje do rozdzielania metodami plazmowymi; 9. instalacje do rozdzielania metodami elektromagnetycznymi;

b. następujące wirówki gazowe oraz zespoły i urządzenia, specjalnie zaprojektowane lub wykonane do stosowania w procesach wzbogacania metodą wirowania gazów: Uwaga: W pozycji 0B001.b »materiał o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości« oznacza którekolwiek z poniższych: a. stal maraging o wytrzymałości na rozciąganie równej 2 050 MPa lub większej; b. stopy glinu o wytrzymałości na rozciąganie równej 460 MPa lub większej; lub c. »materiały włókniste lub włókienkowe« o »module właściwym« powyżej 3,18 × 106 m i »wytrzymałości właściwej na rozciąganie« powyżej 76,2 × 103 m; 1. wirówki gazowe; 2. kompletne zespoły wirników; 3. cylindryczne zespoły wirników o grubości 12 mm lub mniejszej, średnicy od 75 do 400 mm, wykonane z »materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości«; 4. pierścienie lub mieszki ze ściankami o grubości 3 mm lub mniejszej i średnicy od 75 mm do 400 mm przeznaczone do lokalnego osadzenia cylindra wirnika lub do połączenia ze sobą wielu cylindrów wirników, wykonane z »materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości«; 5. deflektory o średnicy od 75 mm do 400 mm przeznaczone do instalowania wewnątrz cylindra wirnika odśrodkowego, wykonane z »materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości«; 6. pokrywy górne lub dolne o średnicy od 75 mm do 400 mm pasujące do końców cylindra wirnika, wykonane z »materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości«; 7. łożyska na poduszce magnetycznej składające się z pierścieniowego magnesu zawieszonego w obudowie wykonanej z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub chronionej takimi materiałami, zawierającej wewnątrz czynnik tłumiący i posiadające magnes sprzężony z nabiegunnikiem lub drugim magnesem osadzonym w pokrywie górnej wirnika; 8. specjalnie wykonane łożyska składające się z zespołu czop-panewka osadzonego na amortyzatorze; 9. pompy molekularne zawierające cylindry z wewnętrznymi, obrobionymi techniką skrawania lub wytłoczonymi, spiralnymi rowkami i wewnętrznymi wywierconymi otworami; 10. pierścieniowe stojany do wysokoobrotowych wielofazowych silników histerezowych (lub reluktancyjnych) do pracy synchronicznej w próżni z częstotliwością 600–2 000 Hz i mocą od 50 do 1 000 woltoamperów; 11. obudowy (komory) wirówek, w których znajdują się zespoły wirników cylindrycznych wirówki gazowej, składające się ze sztywnego cylindra ze ściankami o grubości do 30 mm z precyzyjnie obrobionymi końcami i wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub też zabezpieczone takimi materiałami; 12. zbieraki składające się z rurek o średnicy wewnętrznej do 12 mm, przeznaczone do ekstrahowania gazowego UF6 z wirnika wirówki na zasadzie rurki Pitota, wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub też zabezpieczone takimi materiałami; 13. przemienniki częstotliwości (konwertery lub inwertery) specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do zasilania stojanów silników wirówek gazowych do wzbogacania, posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne i specjalnie do nich zaprojektowane podzespoły: a. wyjście wielofazowe o częstotliwości od 600 do 2 000 Hz; b. regulacja częstotliwości z dokładnością lepszą niż 0,1 %; c. zniekształcenia harmoniczne poniżej 2 %; oraz d. sprawność powyżej 80 %; 14. zawory mieszkowe o średnicy od 10 do 160 mm wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub chronione takimi materiałami;

c. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do separacji metodą dyfuzji gazowej: 1. przegrody do dyfuzji gazowej wykonane z porowatych metalowych, polimerowych lub ceramicznych »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6«, posiadające pory o średnicach od 10 do 100 nm, grubość 5 mm lub mniejszą oraz, w przypadku elementów cylindrycznych, średnicę 25 mm lub mniejszą; 2. obudowy dyfuzorów gazowych wykonane lub chronione »materiałami odpornymi na korozyjne działanie UF6«; 3. sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objętościowej pojemności ssania UF6 wynoszącej 1 m3/min lub więcej oraz o ciśnieniu wylotowym do 667,7 kPa, wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub chronione takimi materiałami; 4. uszczelnienia wirujących wałów sprężarek lub dmuchaw wymienionych w pozycji 0B001.c.3, skonstruowane w taki sposób, żeby objętościowe natężenie przepływu gazu buforowego przez nieszczelności wynosiło poniżej 1 000 cm3/min; 5. wymienniki ciepła wykonane z glinu, miedzi, niklu lub stopów zawierających ponad 60 % wagowych niklu lub z kombinacji tych metali w postaci rur platerowanych, zaprojektowane do pracy w warunkach podciśnienia przy zachowaniu natężenia przepływu przez nieszczelności na takim poziomie, że ogranicza ono wzrost ciśnienia do mniej niż 10 Pa na godzinę przy różnicy ciśnień rzędu 100 kPa; 6. zawory mieszkowe o średnicy od 40 do 1 500 mm wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub chronione takimi materiałami;

d. następujące urządzenia i podzespoły specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do aerodynamicznego wzbogacania materiałów: 1. dysze separujące składające się ze szczelinowych zakrzywionych kanałów o promieniu krzywizny poniżej 1 mm, odporne na korozyjne działanie UF6, zawierające w środku ostre krawędzie rozdzielające gaz płynący w dyszach na dwa strumienie; 2. cylindryczne lub stożkowe rury napędzane stycznym strumieniem wlotowym (rurki wirowe) wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub też zabezpieczone takimi materiałami, mające średnicę od 0,5 cm do 4 cm i stosunek długości do średnicy 20:1 lub mniejszy oraz co najmniej jeden wlot styczny; 3. sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objętościowej pojemności ssania 2 m3/min, wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub zabezpieczone takimi materiałami oraz uszczelnienia wałów do nich; 4. wymienniki ciepła wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub zabezpieczone takimi materiałami; 5. obudowy aerodynamicznych elementów rozdzielających, wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub zabezpieczone takimi materiałami, przeznaczone na rurki wirowe lub dysze rozdzielające; 6. zawory mieszkowe wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub zabezpieczone takimi materiałami, mające średnicę od 40 do 1 500 mm; 7. instalacje przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (wodoru lub helu) do zawartości 1 ppm UF6 lub mniejszej, w tym: a. kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (- 120 °C) lub niższych; b. zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (- 120 °C) lub niższych; c. urządzenia z dyszami rozdzielającymi lub rurkami wirowymi do oddzielania UF6 od gazu nośnego; d. wymrażarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (- 20 °C) lub niższych;

e. następujące urządzenia i podzespoły do nich, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany chemicznej: 1. cieczowo-cieczowe kolumny impulsowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia wynoszącym 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowe lub szkło lub pokryte takimi materiałami); 2. cieczowo-cieczowe kontaktory odśrodkowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia wynoszącym 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluorowęglowe, lub ze szkła lub pokryte takimi materiałami); 3. elektrochemiczne ogniwa redukcyjne, odporne na działanie roztworów kwasu solnego, do obniżania wartościowości uranu; 4. urządzenia do zasilania elektrochemicznych ogniw redukcyjnych, pobierające U + 4 ze strumieni substancji organicznych, wykonane w strefach kontaktu z przetwarzanym strumieniem z odpowiednich materiałów lub chronione takimi materiałami (na przykład szkło, polimery fluorowęglowe, polisiarczan fenylu, polisulfon eteru i grafit nasycany żywicą); 5. urządzenia do przygotowywania półproduktów do wytwarzania roztworu chlorku uranu o wysokiej czystości, składające się z zespołów do rozpuszczania, ekstrakcji rozpuszczalnikowej i/lub wymiany jonowej, przeznaczone do oczyszczania, oraz ogniwa elektrolityczne do redukowania uranu U + 6 lub U + 4 do U + 3; 6. urządzenia do utleniania uranu ze stanu U + 3 do U + 4;

f. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany jonów: 1. szybko reagujące żywice jonowymienne, żywice błonkowate lub porowate makrosiatkowe, w których grupy chemiczne biorące aktywny udział w wymianie znajdują się wyłącznie w powłoce na powierzchni nieaktywnej porowatej struktury nośnej, oraz inne materiały kompozytowe w dowolnej stosownej formie, w tym w postaci cząstek lub włókien, ze średnicami wynoszącymi 0,2 mm lub mniej, odporne na stężony kwas solny i wykonane w taki sposób, że ich półczas wymiany wynosi poniżej 10 sekund, oraz zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C); 2. kolumny jonitowe (cylindryczne) o średnicy powyżej 1 000 mm, wykonane z materiałów odpornych na stężony kwas solny, lub chronione takimi materiałami (np. tytan lub tworzywa fluorowęglowe) i zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C) i przy ciśnieniach powyżej 0,7 MPa; 3. jonitowe urządzenia zwrotne (urządzenia do chemicznego lub elektrochemicznego utleniania lub redukcji) przeznaczone do regeneracji substancji do chemicznej redukcji lub utleniania, stosowanych w jonitowych kaskadach do wzbogacania materiałów;

g. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci pary metalu za pomocą »laserów« (AVLIS): 1. dużej mocy działa elektronowe wytwarzające strumień elektronów w reakcji zdzierania lub skaningowe działa elektronowe o mocy wyjściowej powyżej 2,5 kW/cm, przeznaczone do urządzeń do przeprowadzania uranu w stan pary; 2. systemy operowania ciekłym uranem metalicznym dla stopionego uranu lub jego stopów składające się z tygli, wykonanych z odpowiednich materiałów odpornych na efekty korozyjne i ciepło (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materiałami oraz instalacji chłodniczych do tygli; NB.: ZOB. TAKŻE POZYCJA 2A225. 3. urządzenia do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne i korozyjne uranu metalicznego w postaci pary lub cieczy, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal lub wyłożone takimi materiałami; 4. obudowy modułów urządzeń rozdzielających (zbiorniki cylindryczne lub prostopadłościenne) przeznaczone na źródła par uranu metalicznego, działa elektronowe oraz urządzenia do gromadzenia produktu i frakcji końcowych; 5. »lasery« lub systemy »laserów« do rozdzielania izotopów uranu wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy; NB.: ZOB. TAKŻE POZYCJE 6A005 I 6A205.

h. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą »laserów« (MLIS) lub reakcji chemicznej wywołanej selektywną laserową aktywacją izotopów (CRISLA): 1. naddźwiękowe dysze rozprężne do chłodzenia mieszanin UF6 z gazem nośnym do temperatur 150 K (- 123 °C) lub niższych, wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6«; 2. urządzenia do gromadzenia pięciofluorku uranu (UF5), składające się z kolektorów filtracyjnych, udarowych lub cyklonowych lub ich kombinacji, wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF5/UF6«; 3. sprężarki wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub zabezpieczone takimi materiałami oraz uszczelnienia wirujących wałów do nich; 4. urządzenia do fluorowania UF5 (stałego) do UF6 (gazowego); 5. urządzenia przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nośnego (np. azotu lub argonu), w tym: a. kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (- 120 °C) lub niższych; b. zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (- 120 °C) lub niższych; c. wymrażarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (- 20 °C) lub niższych; 6. »lasery« lub systemy »laserów« do rozdzielania izotopów uranu wyposażone w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy czasu; NB.: ZOB. TAKŻE POZYCJE 6A005 I 6A205.

i. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do plazmowego rozdzielania materiałów: 1. źródła mikrofal i anteny do wytwarzania lub przyspieszania jonów, o częstotliwości wyjściowej powyżej 30 GHz i średniej mocy wyjściowej powyżej 50 kW; 2. wysokoczęstotliwościowe cewki do wzbudzania jonów pracujące w zakresie częstotliwości powyżej 100 kHz i zdolne do pracy w warunkach średniej mocy powyżej 40 kW; 3. urządzenia do wytwarzania plazmy uranowej; 4. systemy operowania ciekłym metalem dla stopionego uranu lub jego stopów składające się z tygli, wykonanych z materiałów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i ciepło (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materiałami oraz instalacji chłodniczych do tygli; NB.: ZOB. TAKŻE POZYCJA 2A225. 5. urządzenia do gromadzenia produktów lub frakcji końcowych, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne i korozyjne par uranu, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal lub zabezpieczone takimi materiałami; 6. obudowy modułów separatorów (cylindryczne) na źródło plazmy uranowej, cewki na prądy wysokiej częstotliwości oraz kolektory do produktu i frakcji końcowych, wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. ze stali nierdzewnej);

j. następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów metodami elektromagnetycznymi: 1. źródła jonów, pojedyncze lub wielokrotne, składające się ze źródła pary, jonizatora oraz akceleratora wiązki wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu, stali nierdzewnej lub miedzi) i zdolne do wytwarzania wiązki jonów o całkowitym natężeniu 50 mA lub większym; 2. płytkowe kolektory jonów do gromadzenia wzbogaconych lub zubożonych wiązek jonów uranu, składające się z dwóch lub więcej szczelin i kieszeni i wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu lub stali nierdzewnej); 3. obudowy próżniowe do elektromagnetycznych separatorów uranu wykonane z materiałów niemagnetycznych (np. ze stali nierdzewnej) i skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniach 0,1 Pa lub niższych; 4. elementy biegunów magnesów o średnicy powyżej 2 m; 5. wysokonapięciowe zasilacze do źródeł jonów, posiadające wszystkie następujące cechy: a. zdolność do pracy w trybie ciągłym; b. napięcie wyjściowe 20 000 V lub większe; c. natężenie prądu na wyjściu 1 A lub większe; oraz d. regulacja napięcia z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin; NB.: ZOB. TAKŻE POZYCJA 3A227. 6. zasilacze magnesów (wysokiej mocy, prądu stałego) mające wszystkie wymienione poniżej cechy: a. zdolność do pracy w trybie ciągłym z prądem wyjściowym o natężeniu 500 A lub większym i napięciu 100 V lub większym; oraz b. regulacja natężenia lub napięcia prądu z dokładnością lepszą niż 0,01 % w ciągu 8 godzin. NB.: ZOB. TAKŻE POZYCJA 3A226.

0B002Następujące specjalnie zaprojektowane lub wykonane pomocnicze instalacje, urządzenia i podzespoły do instalacji separacji izotopów wymienionych w pozycji 0B001, wykonane z »materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6« lub chronione materiałami tego typu:

a. autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF6 do instalacji do wzbogacania;

b. desublimatory lub wymrażarki do odprowadzania UF6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transportu po ogrzaniu;

c. instalacje do produktu lub frakcji końcowych do transportu UF6 do zbiorników;

d. instalacje do skraplania lub zestalania stosowane do usuwania UF6 z procesu wzbogacania drogą sprężania, chłodzenia i przetwarzania UF6 w ciecz lub ciało stałe;

e. instalacje rurociągowe i zbiorniki specjalnie zaprojektowane do transportu i manipulowania UF6 w procesach rozdzielania izotopów metodą dyfuzji, ultrawirowania lub kaskady aerodynamicznej;

1. próżniowe instalacje rur rozgałęźnych lub zbiorników o wydajności ssania wynoszącej 5 m3 na minutę lub więcej; lub 2. pompy próżniowe specjalnie zaprojektowane do pracy w atmosferze UF6; f.

g. spektrometry masowe (źródła jonów), specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do bieżącego (on-line) pobierania próbek surowca, produktu lub frakcji końcowych ze strumieni zawierających UF6, posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy: 1. jednostkową rozdzielczość masy atomowej powyżej 320; 2. źródła jonów wykonane z nichromu lub monelu lub powlekane nichromem lub monelem lub niklowane; 3. elektronowe źródła jonizacyjne; oraz 4. wyposażenie w kolektory umożliwiające analizę izotopową.

0B003Następujące instalacje do przetwarzania uranu i urządzenia specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do nich:

a. instalacje do przetwarzania koncentratów rudy uranowej na UO3;

b. instalacje do przetwarzania UO3 na UF6;

c. instalacje do przetwarzania UO3 na UO2;

d. instalacje do przetwarzania UO2 na UF4;

e. instalacje do przetwarzania UF4 na UF6;

f. instalacje do przetwarzania UF4 na metaliczny uran;

g. instalacje do przetwarzania UF6 na UO2;

h. instalacje do przetwarzania UF6 na UF4;

i. instalacje do przetwarzania UO2 na UCl4.

0B004Następujące instalacje do produkcji lub stężania ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urządzenia:

a. następujące instalacje do produkcji ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru: 1. instalacje do produkcji metodą wymiany woda-siarkowodór; 2. instalacje do produkcji metodą wymiany amoniak-wodór;

b. następujące urządzenia i podzespoły: 1. kolumnowe wymienniki typu woda-siarkowodór wykonane z oczyszczonej stali węglowej (np. ASTM A516), mające średnicę od 6 m do 9 m i zdolność do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 2 MPa oraz posiadające naddatek korozyjny o wartości 6 mm lub większy; 2. jednostopniowe, niskociśnieniowe (np. 0,2 MPa), odśrodkowe dmuchawy lub kompresory wymuszające cyrkulację gazowego siarkowodoru (tj. gazu zawierającego więcej niż 70 % H2S), o przepustowości równej lub większej niż 56 m3/s podczas pracy przy ciśnieniach zasysania równych lub większych niż 1,8 MPa, posiadające uszczelnienia umożliwiające pracę w środowisku wilgotnego H2S; 3. kolumnowe wymienniki typu amoniak-wodór o wysokości równej lub większej niż 35 m i średnicy od 1,5 m do 2,5 m, zdolne do pracy przy ciśnieniach większych niż 15 MPa; 4. konstrukcje wewnętrzne kolumn łącznie z kontaktorami stopniowymi i pompami stopniowymi, w tym zanurzeniowymi, do produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór; 5. instalacje do krakowania amoniaku zdolne do pracy przy ciśnieniach równych lub większych niż 3 MPa przy produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór; 6. podczerwone analizatory absorpcyjne zdolne do bieżącej (on-line) analizy stosunku wodoru do deuteru w warunkach, w których stężenia deuteru są równe lub większe niż 90 %; 7. palniki katalityczne do konwersji wzbogaconego deuteru w ciężką wodę przy użyciu procesu wymiany amoniak-wodór; 8. kompletne systemy wzbogacania ciężkiej wody lub przeznaczone dla nich kolumny, przeznaczone do zwiększania koncentracji deuteru w ciężkiej wodzie do poziomu reaktorowego.

0B005Instalacje specjalnie zaprojektowane do wytwarzania elementów paliwowych do »reaktorów jądrowych« oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urządzenia.

Uwaga: Instalacje do wytwarzania elementów paliwowych do »reaktorów jądrowych« obejmujące urządzenia, które: a. pozostają w bezpośrednim kontakcie z materiałami jądrowymi lub bezpośrednio je przetwarzają lub sterują procesem ich produkcji; b. uszczelniają materiały jądrowe wewnątrz ich koszulek; c. kontrolują szczelność koszulek; lub d. kontrolują końcową obróbkę paliwa stałego.

0B006Instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych »reaktorów jądrowych« oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub wykonane urządzenia i podzespoły.

Uwaga: Pozycja 0B006 obejmuje: a. instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych »reaktorów jądrowych«, w tym urządzenia i podzespoły, które zazwyczaj wchodzą w bezpośredni kontakt z materiałami jądrowymi, służą do ich bezpośredniego przetwarzania lub sterowania ich przepływem; b. maszyny do rozdrabniania lub kruszenia elementów paliwowych, tj. zdalnie sterowane urządzenia do cięcia, rozdrabniania lub krojenia napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) zespołów, wiązek lub prętów paliwowych »reaktorów jądrowych«; c. urządzenia do rozpuszczania, zbiorniki podkrytyczne (np. zbiorniki o małych średnicach, pierścieniowe lub płaskie), specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do rozpuszczania napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) paliwa do »reaktorów jądrowych«, odporne na działanie gorących, silnie żrących płynów oraz przystosowane do zdalnego załadunku i obsługi; d. ekstraktory przeciwprądowe i urządzenia do separacji metodą wymiany jonów, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przerobu napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) »uranu naturalnego«, »uranu zubożonego« lub »specjalnych materiałów rozszczepialnych«; e. zbiorniki technologiczne lub magazynowe, specjalnie zaprojektowane w taki sposób, że są podkrytyczne i odporne na żrące działanie kwasu azotowego; Uwaga: Zbiorniki technologiczne lub magazynowe mogą mieć następujące właściwości: 1. ścianki lub struktury wewnętrzne z co najmniej dwuprocentowym ekwiwalentem borowym (obliczonym dla wszystkich składowych pierwiastków w sposób zdefiniowany w uwadze do pozycji 0C004); 2. maksymalną średnicę 175 mm w przypadku zbiorników cylindrycznych; lub 3. maksymalną szerokość 75 mm w przypadku zbiorników płytowych lub pierścieniowych. f. Instrumenty do sterowania procesem przetwarzania, specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do monitorowania przerobu napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) »uranu naturalnego«, »uranu zubożonego« lub »specjalnych materiałów rozszczepialnych« lub sterowania tym przerobem.

0B007Instalacje do przetwarzania plutonu oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub wykonane urządzenia i podzespoły:

▼C1

a. instalacje do przetwarzania azotanu plutonu na tlenek;

▼B

b. instalacje do wytwarzania metalicznego plutonu.

0CMateriały

0C001»Uran naturalny« lub »uran zubożony« lub tor w formie metalu, stopu, związku chemicznego lub koncentratu i dowolnego innego materiału zawierającego jeden lub więcej z powyższych materiałów.

Uwaga: Pozycja 0C001 nie obejmuje kontrolą: a. Czterech gramów lub mniejszej ilości »uranu naturalnego« lub »uranu zubożonego«, jeżeli znajduje się w czujnikach instrumentów pomiarowych; b »Uranu zubożonego« specjalnie wyprodukowanego z przeznaczeniem do wyrobu następujących produktów cywilnych spoza dziedziny jądrowej: 1. Osłony; 2. Wypełnienia; 3. Balasty o masie nieprzekraczającej 100 kg; 4. Przeciwwagi o masie nieprzekraczającej 100 kg; c. Stopów zawierających mniej niż 5 % toru; d. Produktów ceramicznych zawierających tor, ale wykonanych do zastosowań poza dziedziną jądrową.

0C002»Specjalne materiały rozszczepialne«.

Uwaga: Pozycja 0C002 nie obejmuje kontrolą czterech »gramów efektywnych« lub mniejszej ilości, w przypadku ich stosowania w czujnikach instrumentów pomiarowych.

0C003Deuter, ciężka woda (tlenek deuteru) i inne związki deuteru oraz ich mieszaniny i roztwory, w których stosunek liczby atomów deuteru do atomów wodoru jest większy niż 1:5 000 .

0C004Grafit klasy jądrowej, o stopniu zanieczyszczenia poniżej 5 części na milion »ekwiwalentu boru« oraz gęstości większej niż 1,50 g/cm3.

NB.: ZOB. TAKŻE POZ. 1C107.

Uwaga 1: Pozycja 0C004 nie obejmuje kontrolą: a. wyrobów grafitowych o masie mniejszej niż 1 kg, różnych od specjalnie zaprojektowanych lub przystosowanych do wykorzystania w reaktorach jądrowych; b. proszku grafitowego.

Uwaga 2: W pozycji 0C004 »ekwiwalent boru« (BE) zdefiniowany jest jako suma BEZ dla domieszek (z pominięciem BEC dla węgla, ponieważ węgiel nie jest uważany za domieszkę) z uwzględnieniem boru, gdzie: BEZ (ppm) = CF x stężenie pierwiastka Z określane w ppm (częściach na milion) a σΒ i σΖ są przekrojami czynnymi na wychwyt neutronów termicznych (w barnach) odpowiednio dla boru pochodzenia naturalnego i pierwiastka Z, a AB i AZ są masami atomowymi odpowiednio boru naturalnego i pierwiastka Z.

0C005Specjalnie wzbogacone związki lub proszki do wyrobu przegród do dyfuzji gazowej, odporne na korozyjne działanie UF6 (np. nikiel lub stop zawierający 60 % wagowych lub więcej niklu, tlenek glinu i całkowicie fluorowane polimery węglowodorowe) o procentowym stopniu czystości w proporcji wagowej 99,9 lub powyżej i średniej wielkości cząstek poniżej 10 μm, mierzonej według normy Amerykańskiego Towarzystwa Materiałoznawczego (ASTM) B330 i wysokim stopniu jednorodności wymiarowej cząstek.

0DOprogramowanie

0D001»Oprogramowanie« specjalnie opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do »rozwoju«, »produkcji« lub »użytkowania« towarów wymienionych w tej kategorii.

0ETechnologia

0E001»Technologie« zgodnie z uwagą do technologii jądrowej służące do »rozwoju«, »produkcji« lub »użytkowania« towarów wymienionych w tej kategorii.

KATEGORIA 1

MATERIAŁY SPECJALNE I ZWIĄZANE Z NIMI URZĄDZENIA

1 ASystemy, urządzenia i części składowe

1A001Następujące elementy wykonane ze związków fluorowych:

a. uszczelnienia, uszczelki, masy uszczelniające lub przepony w układach paliwowych, które są specjalnie zaprojektowane do »statków powietrznych« lub rakiet kosmicznych i w których ponad 50 % zawartości wagowej stanowi jeden z materiałów objętych kontrolą według pozycji 1.C009.b lub 1C009.c;

b. polimery i kopolimery piezoelektryczne wykonane z kopolimerów fluorku winylidenu (CAS 75-38-7), wymienione w pozycji 1C009.a, spełniające wszystkie z poniższych kryteriów: 1. w postaci arkuszy lub folii; oraz 2. o grubości większej od 200 μm;

c. uszczelnienia, uszczelki, gniazda zaworów, przepony lub membrany spełniające wszystkie z poniższych kryteriów: 1. wykonane z elastomerów fluorowych zawierających co najmniej jeden monomer eteru winylowego; oraz 2. specjalnie opracowane do »statków powietrznych«, rakiet kosmicznych lub »pocisków rakietowych«. Uwaga: W pozycji 1A001.c »pocisk rakietowy« oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezpilotowych statków powietrznych.

1A002Wyroby lub laminaty »kompozytowe« spełniające którekolwiek z poniższych kryteriów:

NB.: ZOB. TAKŻE POZYCJE 1A202, 9A010 I 9A110.

a. składające się z »matrycy« organicznej i z materiałów objętych kontrolą według pozycji 1C010.c, 1C010.d lub 1C010.e; lub

b. składające się z »matrycy« metalowej lub węglowej i z któregokolwiek spośród niżej wymienionych materiałów: 1. węglowych »materiałów włóknistych lub włókienkowych