2007R1183 — PL — 21.11.2007 — 000.001

Dokument ten służy wyłącznie do celów dokumentacyjnych i instytucje nie ponoszą żadnej odpowiedzialności za jego zawartość





sprostowane przez:









▼B

ROZPORZADZENIE RADY (WE) NR 1183/2007

z dnia 18 wrzesnia 2007 r.

zmieniajace i aktualizujace rozporzadzenie (WE) nr 1334/2000 ustanawiajace wspólnotowy system kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania







RADA UNII EUROPEJSKIEJ, uwzgledniajac Traktat ustanawiajacy Wspólnote Europejska, w szczególnosci jego art. 133, uwzgledniajac wniosek Komisji, a takze majac na uwadze, co nastepuje: (1) Rozporzadzenie Rady (WE) nr 1334/2000 ( 1 ) wymaga, aby produkty podwójnego zastosowania (w tym oprogramowanie i technologia) podlegaly skutecznej kontroli przy wywozie ze Wspólnoty. (2) W celu umozliwienia panstwom czlonkowskim i Wspólnocie wywiazania sie ze zobowiazan miedzynarodowych zalacznik I do rozporzadzenia (WE) nr 1334/2000 ustanawia wspólny wykaz produktów i technologii podwójnego zastosowania, okreslonych w art. 3 tego rozporzadzenia, które wprowadza uzgodnione na szczeblu miedzynarodowym kontrole podwójnego zastosowania, w tym porozumienie z Wassenaar, Rezim Kontrolny Technologii Rakietowych (MTCR), Grupe Dostawców Sprzetu Jadrowego (NSG), Grupe Australijska i Konwencje o zakazie broni chemicznej (CWC). (3) Artykul 11 rozporzadzenia (WE) nr 1334/2000 stanowi, ze zalaczniki I i IV sa aktualizowane zgodnie z odpowiednimi obowiazkami i zobowiazaniami oraz wszelkimi ich zmianami, jakie kazde panstwo czlonkowskie przyjelo jako czlonek miedzynarodowych rezimów nieproliferacyjnych i porozumien w sprawie kontroli eksportu lub w drodze ratyfikacji stosownych traktatów miedzynarodowych. (4) Nalezy zmienic zalaczniki I i IV do rozporzadzenia (WE) nr 1334/2000 w celu uwzglednienia zmian przyjetych przez porozumienie z Wassenaar, Grupe Australijska, MTCR i NSG od czasu ostatnich zmian przeprowadzonych w tych zalacznikach przez rozporzadzenie (WE) nr 394/2006. (5) W celu ulatwienia stosowania odeslan przez organy i podmioty kontroli eksportu nalezy opublikowac uaktualniona i skonsolidowana wersje zalaczników do rozporzadzenia (WE) nr 1334/2000. (6) Nalezy zatem odpowiednio zmienic rozporzadzenie (WE) nr 1334/2000, a takze majac na uwadze, co nastepuje: PRZYJMUJE NINIEJSZE ROZPORZADZENIE:







Artykul 1

Zalaczniki do rozporzadzenia (WE) nr 1334/2000 zastepuje sie tekstem zawartym w zalaczniku do niniejszego rozporzadzenia.

Artykul 2

Niniejsze rozporzadzenie wchodzi w zycie trzydziestego dnia po jego opublikowaniu w Dzienniku Urzedowym Unii Europejskiej.

Niniejsze rozporzadzenie wiaze w calosci i jest bezposrednio stosowane we wszystkich panstwach czlonkowskich.









ZALACZNIK

„









ZALACZNIK I

WYKAZ TOWARÓW I TECHNOLOGII PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIA

(odnoszacy sie do art. 3 rozporzadzenia (WE) nr 1334/2000)

Niniejszy wykaz wprowadza uzgodniona na poziomie miedzynarodowym kontrole produktów i technologii podwójnego zastosowania, w tym przez porozumienie z Wassenaar, Rezim Kontrolny Technologii Rakietowych (MTCR), Grupe Dostawców Sprzetu Jadrowego (NSG), Grupe Australijska i Konwencje o zakazie broni chemicznej (CWC). Nie zostaly uwzglednione produkty, które panstwa czlonkowskie chca umiescic w dowolnych odrebnych wykazach. Nie uwzgledniono jakiejkolwiek kontroli krajowej (kontrola pochodzenia pozasystemowego), która moze byc wykonywana przez panstwa czlonkowskie.

UWAGI OGÓLNE DO ZALACZNIKA I:

1. W przypadku towarów, które sa zaprojektowane lub zmodyfikowane do zastosowan wojskowych, nalezy sprawdzic takze odpowiedni wykaz kontrolny uzbrojenia, publikowany w danym panstwie czlonkowskim. Odsylacz, który mówi »Sprawdz takze Wykaz uzbrojenia«, odnosi sie do tych wykazów.

2. Obowiazek kontroli nalozony niniejszym wykazem nie moze byc omijany przez eksport jakichkolwiek dóbr niepodlegajacych kontroli (wlacznie z fabrykami) zawierajacych jeden lub wiecej komponentów podlegajacych kontroli, gdy kontrolowany komponent lub komponenty sa zasadniczymi elementami tych dóbr i mozliwe jest ich wydzielenie i zastosowanie do innych celów. NB.: Przy rozstrzyganiu, czy kontrolowany komponent lub komponenty maja byc uwazane za elementy zasadnicze, konieczne jest rozwazenie czynników: ilosci, wartosci, zawartosci technologicznego know-how i innych szczególnych okolicznosci, które moga zdecydowac, ze kontrolowany komponent lub komponenty sa zasadniczymi elementami dostarczanych dóbr.

3. Towary wymienione w niniejszym wykazie obejmuja zarówno towary nowe, jak i uzywane.

UWAGA DO TECHNOLOGII JADROWEJ (UdTJ):

(Czytac lacznie z grupa E kategorii 0)

»Technologia« bezposrednio zwiazana z jakimikolwiek towarami wymienionymi w kategorii 0 objeta jest kontrola zgodnie z postanowieniami kategorii 0.

»Technologia«, która jest »niezbedna« do »rozwoju«, »produkcji« lub »uzytkowania« towarów objetych kontrola, pozostaje pod taka sama kontrola nawet wtedy, gdy moze byc stosowana do towarów taka kontrola nieobjetych.

Zgoda na eksport okreslonych towarów upowaznia równiez do eksportu do tego samego uzytkownika minimalnej »technologii« wymaganej dla instalacji, dzialania, utrzymania i naprawy tych towarów.

Kontrole transferu »technologii« nie maja zastosowania do informacji »bedacych wlasnoscia publiczna« lub zwiazanych z »podstawowymi badaniami naukowymi«.

UWAGA OGÓLNA DO TECHNOLOGII (UOdT):

(Czytac lacznie z grupa E kategorii od 1 do 9)

Eksport »technologii«, która jest »niezbedna« do »rozwoju«, »produkcji« lub »uzytkowania« towarów wymienionych w kategoriach od 1 do 9, podlega kontroli na warunkach podanych w kazdej z tych kategorii.

»Technologia«, która jest »niezbedna« do »rozwoju«, »produkcji« lub »uzytkowania« towarów objetych kontrola, pozostaje pod taka sama kontrola nawet wtedy, gdy moze byc stosowana do towarów taka kontrola nieobjetych.

Kontrola eksportu nie obejmuje sie minimalnej »technologii« wymaganej do instalacji, dzialania, utrzymania i naprawy towarów niekontrolowanych lub takich, które uzyskaly odrebnie zgode na eksport.

NB.: Powyzsze nie zwalnia od kontroli »technologii« wyszczególnionych w pozycjach 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a i 8E002.b.

Kontrola transferu »technologii« nie ma zastosowania do informacji »bedacych wlasnoscia publiczna«, zwiazanych z »podstawowymi badaniami naukowymi« lub minimum informacji koniecznych przy skladaniu wniosków patentowych.

UWAGA OGÓLNA DO OPROGRAMOWANIA (UOdO):

(Niniejsza uwaga jest nadrzedna w stosunku do zastrzezen okreslonych w grupie D kategorii od 0 do 9)

Nie podlega kontroli »oprogramowanie« z kategorii od 0 do 9 niniejszego wykazu, które jest:

a) ogólnie dostepne poprzez: 1) sprzedaz gotowego oprogramowania w punktach sprzedazy detalicznej bez zadnych ograniczen w wyniku: a) bezposrednich transakcji sprzedazy; b) transakcji realizowanych na zamówienie pocztowe; c) transakcji zawieranych droga elektroniczna; d) transakcji realizowanych na zamówienie telefoniczne; i 2) przygotowanie do samodzielnej instalacji przez uzytkownika bez koniecznosci dalszej pomocy sprzedawcy; NB.: Litera a) uwagi ogólnej do oprogramowania nie zwalnia od kontroli »oprogramowania« wymienionego w kategorii 5, czesc 2 — »Bezpieczenstwo informacji«.

b) uznawane za »bedace wlasnoscia publiczna«.

DEFINICJE TERMINÓW UZYWANYCH W WYKAZACH:

Definicje terminów w »cudzyslowie pojedynczym« podano w uwadze technicznej do odpowiedniej pozycji.

Definicje terminów w »cudzyslowie podwójnym« sa nastepujace:

NB.: Odnosniki do kategorii podano w nawiasach po zdefiniowanym terminie.

»Adaptacyjny dynamiczny wybór trasy« (5) Automatyczna zmiana trasy w ruchu na podstawie odbieranych i analizowanych informacji o biezacych warunkach w sieci. NB.: Nie dotyczy to przypadków decyzji o zmianie trasy podejmowanych na podstawie okreslonych wczesniej informacji.

»Algorytm asymetryczny« (5) Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje sie rózne, powiazane matematycznie, klucze do szyfrowania i deszyfrowania. NB.: Powszechnym zastosowaniem »algorytmu asymetrycznego« jest zarzadzanie kluczami.

»Algorytm symetryczny« (5) Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje sie identyczne klucze do szyfrowania i deszyfrowania. NB.: Powszechnym zastosowaniem »algorytmu symetrycznego« jest utajnianie danych.

»Analizatory sygnalów« (3) Urzadzenia do pomiaru i pokazywania podstawowych parametrów sygnalów o jednej czestotliwosci, bedacych skladowymi sygnalów wieloczestotliwosciowych.

»Analizatory sygnalów dynamicznych« (3) »Analizatory sygnalów«, w których zastosowano techniki cyfrowego próbkowania i przeksztalcania w celu utworzenia obrazu widma Fouriera danej postaci fali, wlacznie z informacjami o jej amplitudzie i fazie. NB.: Patrz takze »Analizatory sygnalów«.

»APP« (4) — patrz: »Skorygowana wydajnosc szczytowa«.

»Atomizacja gazowa« (1) Proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o srednicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomoca strumienia gazu o wysokim cisnieniu.

»Atomizacja prózniowa« (1) Proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o srednicy 500 mikrometrów lub mniejszej poprzez szybkie uwolnienie rozpuszczonego gazu w warunkach podcisnienia.

»Atomizacja rotacyjna« (1) Proces rozpylania strumienia lub jeziorka stopionego metalu na kropelki o srednicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomoca sily odsrodkowej.

»Automatyczne sledzenie celu« (6) Technika przetwarzania umozliwiajaca automatyczne okreslanie i podawanie na wyjsciu w czasie rzeczywistym ekstrapolowanej wartosci najbardziej prawdopodobnego polozenia celu.

»Bezzalogowy statek powietrzny« (»UAV«) (9) Kazdy samolot zdolny do wzniesienia sie w powietrze i kontynuowania kontrolowanego lotu i nawigacji bez obecnosci ludzi na pokladzie.

»Bicie promieniowe« (odchylenie od wlasciwego ruchu) (2) Promieniowe przemieszczenie glównego wrzeciona w ciagu jednego obrotu, mierzone w plaszczyznie prostopadlej do osi wrzeciona w punkcie znajdujacym sie na zewnetrznej lub wewnetrznej badanej powierzchni obrotowej (patrz: ISO 230 czesc 1–1986, paragraf 5.61).

»Bicie osiowe« (2) Przemieszczenie osiowe wrzeciona glównego podczas jednego obrotu, mierzone w plaszczyznie prostopadlej do czola wrzeciona, w punkcie sasiadujacym z obwodem czola wrzeciona (patrz: ISO 230 czesc 1–1986, paragraf 5.63).

»Bezposrednie wytlaczanie hydrauliczne« (2) Technika odksztalcania, w której stosowana jest napelniona plynem odksztalcalna poduszka, dzialajaca bezposrednio na powierzchnie obrabianego przedmiotu.

»Bedace wlasnoscia publiczna« (UOdT UdTJ UOdO) W odniesieniu do niniejszego dokumentu oznacza »technologie« lub »oprogramowanie« dostepne bez zadnych ograniczen co do ich dalszego rozpowszechniania (ograniczenia wynikajace z praw autorskich nie wykluczaja uznania »technologii« lub »oprogramowania« za »bedace wlasnoscia publiczna«).

»Calkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami« (»FADEC«) (7, 9) Elektroniczny system sterowania turbina gazowa lub silnikami o zlozonym cyklu, wykorzystujacy komputer cyfrowy do kontroli parametrów niezbednych do regulacji sily ciagu silnika lub mocy wyjsciowej na wale w calym zakresie pracy silnika, od poczatku dozowania paliwa do odciecia jego doplywu.

»Calkowita gestosc pradu« (3) Calkowita liczba amperozwojów w cewce (tj. suma liczby zwojów pomnozona przez maksymalne natezenie pradu przenoszone przez kazdy zwój) podzielona przez calkowity przekrój poprzeczny cewki (skladajacej sie z wlókienek nadprzewodzacych, matrycy metalowej, w której osadzone sa wlókienka nadprzewodzace, materialu stanowiacego obudowe, kanalów chlodzacych itp.).

»Calkowita szybkosc transmisji cyfrowej« (5) Liczba bitów, wlacznie z bitami kodowymi linii, bitami nieinformacyjnymi i podobnymi, przeplywajacych w jednostce czasu pomiedzy odpowiednimi urzadzeniami w cyfrowym systemie transmisji. NB.: Patrz takze »szybkosc przesylania danych cyfrowych«.

»CE« — patrz: »Element obliczeniowy«.

»Chwilowa szerokosc pasma« (3, 5, 7) Szerokosc pasma, w którym moc wyjsciowa pozostaje na stalym poziomie z dokladnoscia do 3 dB bez regulacji innych parametrów roboczych.

»Cyrkulacyjne uklady równowazenia momentu lub cyrkulacyjne uklady sterowania kierunkiem« (7) Uklady, w których przeplyw powietrza wokól powierzchni aerodynamicznych jest wykorzystywany do zwiekszenia powstajacych na nich sil albo do kierowania nimi.

»Cywilny statek powietrzny« (1, 7, 9) Wylacznie »statki powietrzne« majace swiadectwa zdatnosci do lotu opublikowane i wydane przez zarzady lotnictwa cywilnego, zezwalajace na ich uzywanie do celów cywilnych na liniach wewnetrznych i zewnetrznych lub zezwalajace na ich stosowanie do celów cywilnych, prywatnych lub zwiazanych z prowadzeniem dzialalnosci gospodarczej. NB.: Patrz równiez »statek powietrzny«.

»Czas przelaczania czestotliwosci« (3, 5) Maksymalny czas (tj. opóznienie), jakiego potrzebuje sygnal przy przelaczaniu sie z jednej wybranej czestotliwosci wyjsciowej na inna, zeby osiagnac: czestotliwosc rózniaca sie o 100 Hz od czestotliwosci koncowej, lub poziom wyjsciowy rózniacy sie o 1 dB od koncowego poziomu wyjsciowego.

»Czas trwania impulsu« (6) Czas trwania impulsu »lasera« mierzony na poziomie polowy natezenia pelnej szerokosci (FWHI).

»Czas trwania emisji lasera« (6) Czas, w którym »laser« emituje promieniowanie »lasera«, który dla »laserów impulsowych« oznacza czas emitowania pojedynczego impulsu lub serii kolejnych impulsów.

»Czas ustalania« (3) Podczas przelaczania przetwornika z jednego poziomu na drugi czas potrzebny do otrzymania na wyjsciu wartosci rózniacej sie o polowe bitu od wartosci koncowej.

»Dokladnosc« (2, 6) Zazwyczaj okreslana w kategoriach niedokladnosci; jest to maksymalne odchylenie, dodatnie albo ujemne, danej wartosci od uznanej wartosci standardowej lub prawdziwej.

»Element obliczeniowy« (»CE«) (4) Najmniejsza jednostka obliczeniowa, której dzialanie daje wynik arytmetyczny lub logiczny.

»Element o podstawowym znaczeniu« (4) W odniesieniu do kategorii 4 dany element jest »elementem o podstawowym znaczeniu«, jezeli wartosc jego wymiany stanowi ponad 35 % calkowitej wartosci systemu, w którego sklad wchodzi. Wartosc elementu jest cena placona za element przez producenta systemu lub przez firme montujaca system. Wartosc calkowita jest zwykla cena sprzedazy osobom postronnym w miejscu produkcji lub w miejscu przygotowywania wysylek towarów.

»FADEC« — patrz: »Calkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami«.

»Formowanie ekstrakcyjne z fazy stopionej« (1) Technika »gwaltownego krzepniecia« i ekstrahowania wyrobu stopowego podobnego do tasmy, polegajaca na wkladaniu krótkiego segmentu wirujacego ochlodzonego bloku do wanny stopionego stopu metalowego. NB.: »Gwaltowne krzepniecie«: krzepniecie stopionego materialu podczas chlodzenia z szybkoscia powyzej 1 000 K/s.

»Formowanie rotacyjne z fazy stopionej« (1) Technika »gwaltownego krzepniecia« polegajaca na uderzaniu strumienia stopionego metalu w wirujacy ochlodzony blok, wskutek czego powstaje wyrób w postaci platków, wstegi lub precików. NB.: »Gwaltowne krzepniecie«: krzepniecie roztopionego materialu podczas chlodzenia z szybkoscia powyzej 1 000 K/s.

»Formowanie w stanie nadplastycznym« (1, 2) Technika odksztalcania termicznego metali, których wydluzenie calkowite do zerwania, mierzone w temperaturze pokojowej tradycyjnymi technikami badania wytrzymalosci na rozciaganie, w normalnych warunkach, jest bardzo male (ponizej 20 %); jej celem jest co najmniej dwukrotne powiekszenie tych wartosci podczas obróbki.

»Gestosc zastepcza« (6) Masa elementu optycznego na jednostke pola powierzchni optycznej rzutowanej na powierzchnie optyczna.

»Gram efektywny« (0, 1) »Gram efektywny«»specjalnego materialu rozszczepialnego« oznacza: dla izotopów plutonu i uranu-233 — mase izotopu w gramach, dla uranu wzbogaconego do poziomu 1 % lub wiecej izotopu uranu-235 — mase pierwiastka w gramach pomnozona przez kwadrat jego wzbogacenia wyrazonego w postaci ulamka dziesietnego udzialu wagowego izotopu U-235, dla uranu wzbogaconego w izotop uranu-235 do poziomu ponizej 1 procenta — mase pierwiastka w gramach pomnozona przez 0,0001.

»Hybrydowy uklad scalony« (3) Dowolna kombinacja ukladu(-ów) scalonego(-nych) lub ukladu scalonego z »elementami ukladu« albo »skladnikami dyskretnymi« polaczonymi ze soba w celu realizacji okreslonej(-nych) funkcji, majaca wszystkie wymienione ponizej cechy: — posiada co najmniej jedno urzadzenie nieobudowane, — zastosowano w niej typowe metody laczenia stosowane podczas produkcji ukladów scalonych, — mozna ja wymieniac tylko w calosci, oraz — w normalnych warunkach nie mozna jej rozmontowac na elementy skladowe. — NB.1: »Element ukladu«: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna czesc ukladu elektronicznego, na przyklad jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp. NB.2: »Skladnik dyskretny«: »element ukladu« w oddzielnej obudowie z wlasnymi koncówkami wyjsciowymi.

»Immunotoksyna« (1) Koniugat jednokomórkowego przeciwciala monoklonalnego i »toksyny« lub »podjednostki toksyny«, który wplywa selektywnie na komórki chorobowo zmienione.

»Instalacje do naprowadzania« (7) Systemy scalajace proces pomiaru i obliczania polozenia pojazdu i jego predkosci (tj. nawigacje) z obliczeniami i wysylaniem polecen do systemów sterowania lotem pojazdu w celu skorygowania jego toru lotu.

»Instalacje produkcyjne« (7, 9) Sprzet i specjalnie do niego opracowane oprogramowanie, scalone w instalacje w celu »rozwoju« albo do jednej lub wiecej faz »produkcji«.

»Inteligentna karta osobista« (5) Karta inteligentna zaopatrzona w mikrouklad, zaprogramowana do konkretnego zastosowania, bez mozliwosci przeprogramowania przez uzytkownika do jakichkolwiek innych zastosowan.

»Izolacja« (9) Pojecie stosowane do podzespolów silnika rakietowego, tj. oslony, dyszy, wlotów, zamkniec oslon, obejmujace utrwalone lub pólutrwalone maty kauczukowe zawierajace material ogniotrwaly lub izolacyjny. Mozna je równiez stosowac na klatki lub klapy odprezajace.

»Izolowane zywe kultury« (1) Zywe kultury w postaci uspionej i suchych preparatów.

»Izostatyczne zageszczanie na goraco« (2) Technika cisnieniowania odlewu w temperaturach powyzej 375 K (102 °C) w zamknietej formie za pomoca róznych czynników (gaz, ciecz, czastki stale itp.), której celem jest wytworzenie jednakowej sily we wszystkich kierunkach w celu zmniejszenia albo eliminacji jam wewnetrznych w odlewie.

»Kable« (1) Wiazki »wlókien elementarnych«, zazwyczaj w przyblizeniu równolegle.

»Kat bladzenia losowego« (7) Narastanie bledu katowego w czasie, spowodowane bialym szumem w ruchu obrotowym (IEEE STD 528–2001).

»Klasy kosmicznej« (3, 6) Odnosi sie do produktów projektowanych, wytwarzanych i testowanych w taki sposób, zeby spelnialy specjalne wymagania elektryczne, mechaniczne lub srodowiskowe, zwiazane z ich stosowaniem podczas wystrzeliwania i wykorzystywania satelitów lub urzadzen latajacych na duzych wysokosciach, od 100 km wzwyz.

»Kod wynikowy« (9) Sprzetowo wykonywalna postac dogodnego wyrazenia jednego lub wiecej procesów (»kod zródlowy« (jezyk zródlowy)), które zostaly przetworzone przez system programowania.

»Kod zródlowy (albo jezyk zródlowy)« (4, 6, 7, 9) Wygodny sposób wyrazenia jednego lub kilku procesów, który moze byc przeksztalcony przez system programowania w postac dajaca sie wykonac na urzadzeniu (»kod wynikowy« (lub jezyk wynikowy)).

»Kompleksowe sterowanie lotem« (7) Automatyczne sterowanie zmiennymi stanu »statku powietrznego« i toru lotu dla zrealizowania zadania bojowego odpowiednio do zmian w czasie rzeczywistym danych dotyczacych celu, zagrozen lub innego »statku powietrznego«.

Kompresja impulsów (6) Kodowanie i przetwarzanie dlugiego impulsowego sygnalu radarowego na krótki, przy zachowaniu korzysci wynikajacych z wysokiej energii impulsu.

»Komputer cyfrowy« (4, 5) Urzadzenie zdolne do wykonywania, w postaci jednej albo kilku zmiennych dyskretnych, wszystkich ponizszych funkcji: przyjmowanie danych, zapamietywanie danych albo instrukcji na trwalych lub nietrwalych (zapis wymazywalny) urzadzeniach pamieciowych, przetwarzanie danych za pomoca zapamietanej sekwencji instrukcji, która mozna modyfikowac, oraz wyprowadzanie danych na wyjscie. NB.: Modyfikacje zapamietanej sekwencji instrukcji dotycza wymiany trwalych urzadzen pamieciowych, ale nie fizycznych zmian przewodów lub polaczen.

»Komputer hybrydowy« (4) Urzadzenie zdolne do wykonywania wszystkich ponizszych czynnosci: przyjmowanie danych, przetwarzanie danych, zarówno w postaci analogowej, jak i cyfrowej, oraz wyprowadzanie danych wyjsciowych.

»Komputer neuronowy« (4) Urzadzenie obliczeniowe przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do nasladowania dzialalnosci neuronu lub zbioru neuronów, tj. urzadzenie obliczeniowe wyrózniajace sie mozliwoscia sprzetowego modulowania znaczenia i liczby polaczen pomiedzy wieloma elementami obliczeniowymi w oparciu o poprzednie dane.

»Komputer optyczny« (4) Komputer zaprojektowany lub zmodyfikowany z przeznaczeniem do uzywania swiatla jako nosnika danych oraz taki, którego elementy obliczeniowo-logiczne dzialaja bezposrednio na sprzezonych urzadzeniach optycznych.

»Komputer z dynamiczna modyfikacja tablic« (4) Komputer, w którym przeplyw i modyfikacja danych sa dynamicznie sterowane przez uzytkownika na poziomie bramek logicznych.

»Komutacja optyczna« (5) Przekazywanie lub komutacja sygnalów w postaci optycznej bez przetwarzania na sygnaly elektryczne.

»Krag Równego Prawdopodobienstwa« (CEP) (7) Jest to miara dokladnosci wyrazana jako promien okregu ze srodkiem w miejscu znajdowania sie celu, w który wpada 50 % ladunków uzytecznych, przy okreslonym zasiegu.

»Kryptografia« (5) Dziedzina wiedzy zajmujaca sie zasadami, narzedziami i metodami przeksztalcania danych w celu ukrycia zawartych w nich informacji, zapobiegania mozliwosci tajnego ich modyfikowania lub eliminacji dostepu do nich osobom niepowolanym. »Kryptografia« ogranicza sie do przeksztalcania informacji za pomoca jednego lub wiekszej liczby »tajnych parametrów« (np. szyfrów) lub zwiazanego z tym zarzadzania kluczami. NB.: »Tajny parametr«: wartosc stala albo klucz trzymany w tajemnicy przed osobami postronnymi albo znany wylacznie pewnej grupie osób.

»Kryptografia kwantowa« (5) Grupa technik pozwalajacych uzyskiwac wspólny klucz do celów »kryptografii« poprzez pomiar wlasnosci kwantowych ukladu fizycznego (w tym wlasnosci fizycznych jawnie zaleznych od praw optyki kwantowej, kwantowej teorii pola lub elektrodynamiki kwantowej).

»Laser« (0, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9) Zespól elementów wytwarzajacy wiazke swiatla spójnego zarówno w przestrzeni, jak i w czasie, wzmocniona za pomoca stymulowanej emisji promieniowania. NB.: Patrz równiez »laser chemiczny«, »laser modulowany dobrocia«, »laser o superwysokiej mocy«, »laser z przekazaniem energii«.

»Laser chemiczny« (6) »Laser«, w którym wzbudzanie czynnika nastepuje za pomoca energii pochodzacej z reakcji chemicznej.

»Laser impulsowy« (6) »Laser«, w którym »czas trwania impulsu« jest równy lub mniejszy niz 0,25 s.

»Laser modulowany dobrocia« (6) »Laser«, którego energia, gromadzona w postaci odwrócenia obsadzen, jest emitowana w postaci impulsu wskutek szybkiej zmiany dobroci rezonatora optycznego.

»Laser o fali ciaglej« (6) »Laser« dajacy nominalnie stala energie wyjsciowa w czasie dluzszym niz 0,25 s.

»Laser o superwysokiej mocy« (»SUPL.«) (6) »Laser«, który moze dostarczyc energie wyjsciowa (calkowita lub czesciowa) powyzej 1 kJ w ciagu 50 ms albo taki, którego moc przecietna lub moc w przypadku fali ciaglej wynosi powyzej 20 kW.

»Laser z przekazaniem energii« (6) »Laser«, w którym czynnik emitujacy promieniowanie laserowe jest wzbudzany dzieki transferowi energii wskutek zderzen atomów lub molekul, niebioracych udzialu w akcji laserowej, z atomami lub molekulami czynnika emitujacego promieniowanie laserowe.

»Liniowosc« (2) »Liniowosc« (zazwyczaj okreslana w kategoriach nieliniowosci) stanowi maksymalne odchylenie parametru rzeczywistego (przecietnej wartosci górnego i dolnego odczytu na skali), w kierunku dodatnim lub ujemnym, od linii prostej poprowadzonej w taki sposób, zeby maksymalne odchylenia zostaly wyrównane i zminimalizowane.

»Lokalna siec komputerowa« (4) System przesylania danych majacy wszystkie nastepujace cechy charakterystyczne: umozliwiajacy bezposrednie polaczenie ze soba dowolnej liczby niezaleznych »jednostek danych«, oraz ograniczony w sensie geograficznym do pewnego obszaru o umiarkowanym zasiegu (np. biurowiec, przedsiebiorstwo, miasteczko studenckie, magazyn). NB.: »Jednostka danych«: urzadzenie majace mozliwosc nadawania lub odbierania sekwencji informacji cyfrowych.

»Lacznosc kanalowa« (5) Metoda przesylania sygnalów, w której pojedynczy kanal pomiedzy centralami telefonicznymi przenosi, za pomoca komunikatów etykietowanych, informacje sygnalowe dotyczace wielu ukladów lub rozmów oraz inne informacje, np. stosowane do obslugi sieci.

»Magnetometry« (6) Przyrzady do wykrywania pól magnetycznych zródel zewnetrznych wzgledem przyrzadu pomiarowego. Skladaja sie z pojedynczego czujnika pola magnetycznego i odpowiedniego ukladu elektronicznego, na którego wyjsciu jest wartosc mierzonego pola magnetycznego.

»Manipulatory« (2) »Manipulatory« obejmuja uchwyty, »aktywne jednostki oprzyrzadowania« lub wszelkie inne oprzyrzadowanie zamontowane na podstawowej (bazowej) plycie konczacej ramie manipulacyjne »robota«. NB.: »Aktywne jednostki oprzyrzadowania«: urzadzenia do przylozenia mocy napedowej, energii procesowej lub czujnika do przedmiotu obrabianego.

»Material kompozytowy« (1, 2, 6, 8, 9) »Matryca« oraz dodatkowa faza lub dodatkowe fazy, skladajace sie z czastek, wlókienek, wlókien lub dowolnej ich kombinacji, dodawanych w okreslonym celu lub celach.

»Materialy odporne na korozyjne dzialanie UF6« (0) Moga nimi byc miedz, stal nierdzewna, aluminium, tlenek aluminium, stopy aluminium, nikiel lub stop zawierajacy 60 % wagowych lub wiecej niklu oraz odporne na dzialanie UF6 fluorowane polimery weglowodorowe, stosownie do rodzaju procesu separacji.

»Materialy wlókniste lub wlókienkowe« (0, 1, 2, 8) Termin »material wlóknisty lub wlókienkowy« obejmuje nastepujace pojecia: »wlókna elementarne« o strukturze ciaglej, »przedza« i »rowing« o strukturze ciaglej, »tasmy«, tkaniny, maty i oploty o strukturze bezladnej, wlókna ciete na drobne kawalki, wlókna pociete na dluzsze odcinki oraz spójne maty z wlókien, wiskery, monokrystaliczne lub polikrystaliczne, o dowolnej dlugosci, pulpa z poliamidu aromatycznego.

»Matryca« (1, 2, 8, 9) W zasadzie faza o strukturze ciaglej wypelniajaca przestrzen pomiedzy czastkami, wiskerami lub wlóknami.

»Mechanizmy robocze« (2) Do »mechanizmów roboczych« zalicza sie uchwyty, »aktywne zespoly narzedziowe« oraz wszelkie inne narzedzia mocowane do plyty roboczej na koncu ramienia manipulatora »robota«. NB.: »Aktywne zespoly narzedziowe«: urzadzenia przekazujace obrabianemu elementowi naped, energie potrzebna do obróbki lub okreslajace parametry obrabianego elementu.

»Mierniki gradientu magnetycznego« (6) Przyrzady do wykrywania zmian przestrzennych pól magnetycznych ze zródel zewnetrznych w stosunku do przyrzadu pomiarowego. Skladaja sie z wielu »magnetometrów« i odpowiednich ukladów elektronicznych, na których wyjsciu jest mierzony gradient pola magnetycznego. NB.: Patrz równiez »Miernik gradientu magnetycznego wlasnego«.

»Miernik gradientu magnetycznego wlasnego« (6) Pojedynczy element do pomiaru gradientu pola magnetycznego oraz zwiazane z nim urzadzenia elektroniczne, sluzacy do pomiaru gradientu pola magnetycznego. NB.: Patrz równiez »Miernik gradientu magnetycznego«.

»Mieszanina chemiczna« (1) oznacza produkt staly, plynny lub gazowy zrobiony z dwóch lub wiecej skladników, które nie reaguja ze soba w warunkach, w których mieszanina jest przechowywana.

»Mieszanie« (1) Mieszanie wlókien materialów termoplastycznych z wlóknami materialów wzmacniajacych w celu wytworzenia mieszanki wlókien wzmacniajacych z »matryca«, majacej w calosci forme wlóknista.

»Mikroorganizmy« (1, 2) Bakterie, wirusy, mikoplazmy, riketsje, chlamydie lub grzyby, naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci »izolowanych zywych kultur« lub materialu zawierajacego zywe organizmy, który rozmyslnie zaszczepiono lub zakazono takimi kulturami.

»Moc szczytowa« (6) Najwyzszy poziom mocy osiagany w »czasie trwania emisji lasera«.

»Modul wlasciwy« (0, 1, 9) Modul Younga w paskalach, równowazny N/m2 podzielonym przez ciezar wlasciwy w N/m3, mierzony w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotnosci wzglednej (50 ± 5) %.

»Monolityczny uklad scalony« (3) Kombinacja czynnych lub biernych, albo obu, »elementów obwodu« o nastepujacych cechach charakterystycznych: jest uformowana technika dyfuzyjna, technikami implantacyjnymi lub technikami osadzania w pojedynczym pólprzewodzacym kawalku materialu, tzw. chipie, albo na nim, mozna ja traktowac jak element niepodzielny, oraz realizuje funkcje(-e) obwodu. NB.: »Element obwodu«: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna czesc ukladu elektronicznego, taka jak jedna dioda, tranzystor, rezystor, kondensator itp.

»Monospektralne czujniki obrazowe« (6) Czujniki pozwalajace na zbieranie danych obrazowych z pojedynczego pasma widma dyskretnego.

»Mozliwosc programowania przez uzytkownika« (6) Mozliwosc wprowadzania, modyfikacji lub wymiany »programów« przez uzytkownika na innej drodze niz poprzez: fizyczne zmiany przewodów lub polaczen, lub nastawianie regulatorów funkcji, w tym parametrów wejsciowych.

»Nadprzewodniki« (1, 3, 6, 8) Materialy: tj. metale, stopy lub zwiazki, które moga calkowicie stracic swoja opornosc, tj. które moga uzyskac nieskonczona przewodnosc elektryczna i przewodzic prad elektryczny o bardzo wysokich natezeniach bez wytwarzania ciepla Joule’a. NB.: »Nadprzewodzacy« stan materialu jest indywidualnie scharakteryzowany »temperatura krytyczna«, krytycznym polem magnetycznym, bedacym funkcja temperatury, oraz krytyczna gestoscia pradu, która jest funkcja zarówno pola magnetycznego, jak i temperatury.

»Nadstopy« (2, 9) Stopy na osnowie niklu, kobaltu lub zelaza o bardzo wysokiej wytrzymalosci w porównaniu z innymi stopami serii AISI 300 w temperaturach powyzej 922 K (649 °C), w skrajnych warunkach srodowiskowych i eksploatacyjnych.

»Nawigacja na bazie danych z wielu zródel« (»DBRN«) (7) Systemy oparte na danych z wielu zródel uprzednio zmierzonych danych geograficznych zintegrowanych w celu uzyskania dokladnych informacji nawigacyjnych w warunkach dynamicznych. Do zródel danych naleza mapy batymetryczne, mapy nieba, mapy grawitacji, mapy magnetyczne lub trójwymiarowe cyfrowe mapy terenowe.

»Niepewnosc pomiarowa« (2) Parametr charakterystyczny okreslajacy, na poziomie ufnosci 95 %, w jakiej odleglosci od wartosci prawidlowej lezy zmienna pomiarowa. W jego sklad wchodza niedajace sie skorygowac odchylenia systematyczne, niedajacy sie skorygowac luz oraz odchylenia losowe (patrz: ISO 10360–2 lub VDI/VDE 2617).

»Niezbedne« (UOdT 1–9) W odniesieniu do »technologii« dotyczy tylko tej czesci »technologii«, która jest szczególnie odpowiedzialna za osiagniecie lub przekroczenie wartosci parametrów, wlasciwosci lub funkcji objetych kontrola. Taka »niezbedna«»technologia« moze dotyczyc róznych produktów.

»Ochrona informacji« (4, 5) Wszystkie rodzaje sposobów i funkcji zapewniajacych dostep, poufnosc lub nienaruszalnosc informacji lub komunikacji, z wylaczeniem sposobów i funkcji zabezpieczajacych przed wadliwym dzialaniem. Obejmuje »kryptografie«, »kryptoanalize«, ochrone przed przypadkowym przekazywaniem sygnalów odnoszacych sie do tajnych informacji oraz zabezpieczanie komputerów. NB.: »Kryptoanaliza«: analiza systemów lacznosci szyfrowej albo ich wejsc lub wyjsc w celu uzyskania tajnych informacji lub danych, wlaczajac w to tajne teksty.

»Odchylenie polozenia katowego« (2) Maksymalna róznica pomiedzy polozeniem katowym a rzeczywistym, bardzo dokladnie zmierzonym polozeniem katowym po obróceniu stolu montazowego od jego polozenia poczatkowego (patrz: VDI/VDE 2617, Draft »Rotary tables on coordinate measuring machines« — Stoly obrotowe wspólrzednosciowych maszyn pomiarowych).

»Odpornosc na uszkodzenia« (4) Mozliwosc systemu komputerowego, po dowolnym wadliwym zadzialaniu czesci jego sprzetu lub »oprogramowania«, do kontynuacji dzialalnosci bez interwencji czlowieka, na danym poziomie uslug, zapewniajacym: kontynuowanie dzialania, zachowanie danych bez ich naruszenia oraz odzyskanie zdolnosci uslugowych w okreslonym czasie.

»Opóznienie sygnalu bramki podstawowej« (3) Wartosc opóznienia sygnalu odpowiadajaca bramce podstawowej, uzywanej w »rodzinie«»monolitycznych ukladów scalonych«. Mozna ja wyznaczyc, dla danej »rodziny«, jako opóznienie sygnalu na bramke typowa w ramach danej »rodziny« albo jako typowe opóznienie na bramke w ramach danej »rodziny«. NB.1: Nie nalezy mylic »opóznienia sygnalu bramki podstawowej« z opóznieniem wyjscia/wejscia zlozonego »monolitycznego ukladu scalonego«. NB.2: Do »rodziny« zalicza sie wszystkie uklady scalone, do których metodologii produkcyjnej i danych technicznych, z wyjatkiem ich odpowiednich funkcji, stosuja sie nastepujace punkty: wspólna architektura hardware’u i software’u, wspólna technologia projektowania i przetwarzania, oraz wspólne charakterystyki podstawowe.

»Oprogramowanie« (wszystko UOdO) Zbiór jednego lub wiecej »programów« lub »mikroprogramów«, wyrazony w dowolny zrozumialy sposób. NB.: »Mikroprogram« oznacza sekwencje elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamieci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwolania.

»Optyczny uklad scalony« (3) »Monolityczny uklad scalony« lub »hybrydowy uklad scalony«, zaopatrzony w jedna lub wiecej czesci przeznaczonych do dzialania w roli fotoczujników lub fotoemiterów albo do wykonywania funkcji optycznych lub elektrooptycznych.

»Optymalizacja toru lotu« (7) Procedura minimalizujaca odchylenia od czterowymiarowej (przestrzen i czas) planowanej trajektorii lotu, oparta na zasadzie maksymalizacji osiagów lub efektywnosci realizacji zadania.

»Pamiec operacyjna« (4) Podstawowa pamiec na dane lub instrukcje szybko dostepna dla jednostki centralnej. Sklada sie z pamieci wewnetrznej »komputera cyfrowego« oraz jednej z dodatkowych pamieci o strukturze hierarchicznej, takich jak pamiec podreczna (cache) lub pamiec dodatkowa z dostepem niesekwencyjnym.

»Panstwa (nie-)bedace Stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej« (1) sa to te Panstwa, w których Konwencja o zakazie rozwijania, produkcji, skladowania i stosowania broni chemicznej (nie) weszla w zycie (patrz: www.opcw.org).

»Panstwo Uczestniczace« (7, 9) Kazde z panstw uczestniczacych w porozumieniu z Wassenaar (patrz: www.wassenaar.org).

»Wspólczynnik dryftu (zyroskopu)« (7) Skladowa wyjsciowa rotacji zyroskopu funkcjonalnie niezalezna od rotacji wejsciowej. Jest wyrazany jako predkosc katowa (IEEE STD 528–2001).

»Plaski zespól ogniskowy« (6) Plaska warstwa o strukturze liniowej lub dwuwymiarowej albo kombinacja takich plaskich warstw, zlozonych z oddzielnych elementów detekcyjnych, z elektronicznym urzadzeniem odczytujacym lub bez, pracujaca w plaszczyznie ogniskowej. NB.: Nie chodzi tu o stos pojedynczych elementów detekcyjnych ani dwa, trzy lub cztery elementy detekcyjne opózniajace, ani o realizacje integracji wewnatrz elementu.

»Piksel aktywny« (6, 8) Najmniejszy (pojedynczy) element sieci elementów pólprzewodnikowych majacy mozliwosc realizacji funkcji fotoelektrycznych w odpowiedzi na promieniowanie swietlne (elektromagnetyczne).

»Pociski rakietowe« (1, 3, 6, 7, 9) Kompletne systemy rakietowe i systemy bezzalogowych statków powietrznych, zdolne do przenoszenia ladunku uzytecznego o masie co najmniej 500 kg na odleglosc co najmniej 300 km.

»Podjednostka toksyny« (1) Strukturalnie i funkcjonalnie oddzielny skladnik »toksyny«.

»Podloze« (3) Plytka materialu glównego z naniesionymi polaczeniami albo bez nich, na której albo wewnatrz której mozna umieszczac »skladniki dyskretne« lub uklady scalone albo oba z nich. NB.1: »Skladnik dyskretny«: »element obwodu« w oddzielnej obudowie z wlasnymi koncówkami wyjsciowymi. NB.2: »Element obwodu«: pojedyncza, czynna lub bierna, funkcjonalna czesc ukladu elektronicznego, taka jak jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

»Podstawowe badania naukowe« (UOdT, UdTJ) Prace doswiadczalne lub teoretyczne prowadzone glównie w celu uzyskania nowej wiedzy o podstawach danego zjawiska lub obserwowalnych jego efektach, nienakierowane bezposrednio na konkretne cele lub zadania praktyczne.

»Podstawowe sterowanie lotem« (7) Sterowanie stabilnoscia i manewrowoscia »samolotu« za pomoca generatorów typu sila/moment, tj. za pomoca aerodynamicznych powierzchni sterujacych lub sterowania wektorem ciagu.

»Pojazdy lzejsze od powietrza« (9) Balony i statki powietrzne, które sa wypelniane goracym powietrzem lub innymi gazami lzejszymi od powietrza, takimi jak hel lub wodór.

»Polaczone czujniki radarowe« (6) Co najmniej dwa czujniki radarowe sa ze soba polaczone, kiedy wymieniaja miedzy soba informacje w czasie rzeczywistym.

»Powtarzalnosc« (7) Stopien zgodnosci powtarzalnych pomiarów tej samej zmiennej w tych samych warunkach operacyjnych w sytuacji, gdy pomiedzy pomiarami wystepuja zmiany warunków lub przerwy w dzialaniu (patrz: IEEE STD 528–2001 (odchylenie standardowe wielkosci 1 sigma)).

»Poziom szumu« (6) Sygnal elektryczny rozumiany w sensie gestosci mocy widmowej. »Poziom szumów« wyrazony w wartosciach calkowitych (peak-to-peak) jest okreslony zaleznoscia S2 pp = 8No (f2 — f1), gdzie Spp jest wartoscia calkowita (maksymalna) sygnalu (np. w nanoteslach), No jest gestoscia mocy widmowej (np. {nanotesle}2/Hz), a (f2 — f1) okresla dana szerokosc pasma.

»Pólprodukt podlozy« (6) Material monolityczny o wymiarach umozliwiajacych wytworzenie z niego elementów optycznych, takich jak zwierciadla albo okienka optyczne.

»Prasy izostatyczne« (2) Urzadzenia umozliwiajace cisnieniowanie zamknietych komór za pomoca róznych czynników roboczych (gazu, cieczy, czastek stalych, itp.) w celu wytwarzania w komorze we wszystkich kierunkach równych cisnien na obrabiany element lub material.

»Preformy wlókien weglowych« (1) Uporzadkowany uklad powlekanych lub niepowlekanych wlókien przeznaczony do tworzenia struktur skladowych przed uzyciem »matrycy« do tworzenia »materialu kompozytowego«.

»Produkcja« (wszystkie UOdT, UdTJ) Wszystkie etapy zwiazane z produkcja, takie jak: technologia mechaniczna, wytwarzanie, scalanie, montaz (skladanie), kontrola, testowanie, zapewnienie jakosci.

»Profile o zmiennej geometrii« (7) Profile, w których zastosowano klapy lub inne plaszczyzny na krawedzi splywu albo sloty lub osadzone przegubowo noski na krawedzi natarcia, którymi mozna sterowac w locie.

»Program« (2, 6) Sekwencja instrukcji do realizacji procesu, majaca postac wykonywalna lub przeksztalcalna na wykonywalna, za pomoca komputera elektronicznego.

»Przestrajalnosc« (6) Zdolnosc »lasera« do wytwarzania ciaglego sygnalu wyjsciowego we wszystkich dlugosciach fal w przedziale kilku przejsc »laserowych«. »Laser« z selekcja liniowa wytwarza dyskretne dlugosci fal w ramach jednego przejscia »laserowego« i nie jest uwazany za »przestrajalny«.

»Przetwarzanie sygnalów« (3, 4, 5, 6) Przetwarzanie sygnalów zawierajacych informacje, uzyskanych ze zródel zewnetrznych, za pomoca takich algorytmów, jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciaganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiedzy domenami (np. za pomoca szybkiej transformaty Fouriera lub transformaty Walsha).

»Przetwarzanie w czasie rzeczywistym« (6, 7) Przetwarzanie danych przez system komputerowy, zapewniajace zadany poziom realizacji zadan w funkcji dostepnych srodków, w gwarantowanym czasie odpowiedzi, bez wzgledu na obciazenie systemu, kiedy jest on stymulowany przez wydarzenia zewnetrzne.

»Przetworniki cisnienia« (2) Urzadzenia przetwarzajace wyniki pomiaru cisnienia na sygnal elektryczny.

»Przedza« (1) Wiazka skreconych »skretek«. NB.: »Skretka« oznacza wiazke »wlókien elementarnych« (zazwyczaj ponad 200) uporzadkowanych w przyblizeniu równolegle.

»Przydzielone przez ITU« (3, 5) oznacza przydzial pasm czestotliwosci zgodnie z Przepisami radiowymi ITU (International Telecommunication Union — Miedzynarodowej Unii Telekomunikacyjnej) (wydanie 1998) dla sluzb podstawowych, dopuszczonych i pomocniczych. NB.: Nie obejmuje przydzialów dodatkowych i alternatywnych.

»Przystosowany do uzycia w dzialaniach wojennych« (1) Dowolna modyfikacja lub dobór (np. zmieniona czystosc, dopuszczalny okres magazynowania, agresywnosc, charakterystyki propagacji lub odpornosc na promieniowanie nadfioletowe) przeznaczone do wzmocnienia efektów wywolywania strat w ludnosci lub zwierzetach, unieszkodliwiania sprzetu lub powodujacych straty w uprawach rolnych lub srodowisku.

»Radar o rozproszonym widmie« (6) (Patrz: »Rozproszone widmo radarowe«).

»Reaktor jadrowy« (0) Obiekty znajdujace sie wewnatrz lub bezposrednio przymocowane do zbiornika reaktora, wyposazenie sterujace poziomem mocy w rdzeniu oraz znajdujace sie w nim zazwyczaj skladniki wchodza w bezposrednia stycznosc z chlodziwem pierwotnym rdzenia reaktora albo steruja nim.

»Robot« (2, 8) Manipulator wykonujacy ruchy w sposób ciagly albo poruszajacy sie od punktu do punktu, mogacy korzystac z »czujników« i majacy wszystkie nastepujace cechy charakterystyczne: jest wielofunkcyjny, ma mozliwosc ustawiania w odpowiednim polozeniu lub orientowania przestrzennego materialów, czesci, narzedzi lub urzadzen specjalnych poprzez wykonywanie róznych ruchów w przestrzeni trójwymiarowej, jest wyposazony w trzy lub wieksza liczbe mechanizmów wspomagajacych, pracujacych w obwodzie zamknietym lub otwartym, które moga byc poruszane silnikami krokowymi, oraz ma mozliwosc »programowania dostepnego dla uzytkownika« poprzez uczenie/odgrywanie lub za pomoca komputera elektronicznego, który moze byc programowanym sterownikiem logicznym, tj. bez ingerencji mechanicznej. NB.: Niniejsza definicja nie obejmuje nastepujacych urzadzen: mechanizmów poruszanych wylacznie recznie albo zdalnie przez operatora, manipulatorów o ustalonej sekwencji ruchów, bedacych urzadzeniami zautomatyzowanymi, realizujacymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomoca ustalonych ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejnosc ruchów oraz wybór drogi albo katów nie sa zmienne ani zmienialne za pomoca srodków mechanicznych, elektronicznych lub elektrycznych, manipulatorów o zmiennej sekwencji ruchów, bedacych urzadzeniami zautomatyzowanymi, realizujacymi zaprogramowane mechanicznie, z góry ustalone ruchy. Program jest ograniczony mechanicznie za pomoca ustalonych ograniczników, np. sworzni lub krzywek. Kolejnosc ruchów oraz wybór drogi albo katów sa zmienne w ramach ustalonego schematu programowego. Zmian lub modyfikacji schematu programowego (np. zmiany kolków lub wymiany krzywek) w jednej lub kilku osiach wspólrzednych dokonuje sie wylacznie na drodze dzialan mechanicznych, manipulatorów bez sterowania ze sprzezeniem zwrotnym, o zmiennej sekwencji ruchów, bedacych urzadzeniami zautomatyzowanymi, realizujacymi zaprogramowane mechanicznie ruchy. Program jest zmienny, ale sekwencja jest realizowana wylacznie za pomoca sygnalu binarnego z elektrycznych urzadzen binarnych o ustalonym mechanicznie polozeniu lub nastawnych ograniczników, zurawi do stertowania, definiowanych jako manipulatory dzialajace w kartezjanskim ukladzie wspólrzednych, produkowanych jako integralne czesci pionowych zespolów do silosów, i sluzace do siegania po zawartosc tych silosów w celu skladowania lub wyjmowania.

»Rowing« (1) Wiazka (zazwyczaj 12–120 szt.) w przyblizeniu równoleglych »skretek«. NB.: »Skretka« oznacza wiazke »wlókien elementarnych« (zazwyczaj ponad 200) uporzadkowanych w przyblizeniu równolegle.

»Rozdrabnianie« (1) Technika rozczlonkowania materialu na czastki przez miazdzenie lub rozcieranie.

»Rozdzielczosc« (2) Najmniejsza dzialka urzadzenia pomiarowego; w przypadku instrumentu cyfrowego jest to najmniej znaczacy bit (patrz: ANSI B-89.1.12).

»Rozproszone widmo radarowe« (6) Dowolna technika modulacji sluzaca do rozpraszania energii sygnalu o stosunkowo waskim pasmie czestotliwosci na duzo szersze pasmo czestotliwosci, za pomoca kodowania losowego lub pseudolosowego.

»Rozrzucanie czestotliwosci« (frequency hopping) (5) Forma »rozproszenia widma« polegajaca na krokowo-dyskretnej zmianie czestotliwosci nosnej pojedynczego kanalu telekomunikacyjnego, w sposób losowy lub pseudolosowy.

»Rozrzucone geograficznie« (6) Uwaza sie, ze czujniki sa rozrzucone geograficznie w przypadku, kiedy kazdy z nich znajduje sie w odleglosci od innego wiekszej niz 1 500 m w dowolnym kierunku. Czujniki ruchome sa zawsze traktowane jako »rozrzucone geograficznie«.

»Rozwój« (wszystkie UOdT, UdTJ) Odnosi sie do wszystkich etapów poprzedzajacych produkcje seryjna, takich jak: projektowanie, badania projektowe, analiza konstrukcyjna, koncepcja projektowania, montaz i testowanie prototypów, plany produkcji pilotowej, dane projektowe, proces przetwarzania danych projektowych w produkt, projektowanie konfiguracji, projektowanie montazu calosciowego, rozplanowanie.

»Ruchliwosc czestotliwosci w radarach« (6) Dowolna technika zmiany, wg sekwencji pseudolosowej, czestotliwosci nosnej impulsowego nadajnika radarowego pomiedzy impulsami lub pomiedzy grupami impulsów, o wartosc równa lub wieksza od szerokosci pasma impulsu.

»Skorygowana wydajnosc szczytowa« (4) Skorygowana najwieksza predkosc, z jaka »komputery cyfrowe« wykonuja zmiennoprzecinkowe operacje dodawania i mnozenia na liczbach 64-bitowych lub dluzszych, wyraza sie w teraflopsach wazonych (WT), jednostkach wynoszacych ►C1 1012 ◄ skorygowanych operacji zmiennoprzecinkowych na sekunde. NB.: Patrz kategoria 4, uwaga techniczna.

»Statek powietrzny« (1, 7, 9) Staloplat, statek z obrotowymi skrzydlami, wiroplat (helikopter), statek ze zmiennym wirnikiem lub zmiennoplat. NB.: Patrz równiez »cywilny statek powietrzny«.

»SHPL« — patrz: »Laser o superwysokiej mocy«.

»Specjalny material rozszczepialny« (0) »Specjalny material rozszczepialny« oznacza pluton-239, uran-233, »uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233« oraz dowolne, zawierajace je materialy.

»Stabilnosc« (7) Odchylenie standardowe (1 sigma) zmiennosci danego parametru od jego wartosci wzorcowej zmierzonej w ustalonych warunkach temperaturowych. Mozna ja wyrazac w funkcji czasu.

»Stala czasowa« (6) Czas od chwili bodzca swietlnego do wzrostu pradu do wartosci stanowiacej 1–1/e-krotna wartosc wielkosci koncowej (tj. 63 % wartosci koncowej).

»Stapianie mechaniczne« (1) Technika wykonywania stopów polegajaca na mechanicznym laczeniu, rozdrabnianiu i ponownym laczeniu sproszkowanych pierwiastków i glównego skladnika stopowego. Jako skladnik stopowy moze wystepowac substancja niemetaliczna dodawana w postaci odpowiedniego proszku.

»Statek kosmiczny« (7, 9) Czynne i bierne satelity i sondy kosmiczne.

»Sterowanie ksztaltowe« (2) Co najmniej dwa ruchy »sterowane numerycznie«, realizowane zgodnie z instrukcjami okreslajacymi nastepne polozenie oraz potrzebne do osiagniecia tego polozenia predkosci posuwów. Predkosci posuwów nie sa jednakowe, wskutek czego powstaje wymagany ksztalt (patrz: ISO/DIS 2806–1980).

»Sterowanie numeryczne« (2) Automatyczne sterowanie procesem wykonywane przez urzadzenie korzystajace z danych numerycznych zazwyczaj wprowadzanych podczas realizacji operacji (patrz: ISO 2382).

»Sterowanie moca« (7) Zmiana mocy sygnalu nadawanego przez wysokosciomierz w taki sposób, zeby moc odbierana w »statku powietrznym« na danej wysokosci byla zawsze na minimalnym poziomie niezbednym do okreslenia wysokosci.

»Sterowany elektronicznie uklad antenowy fazowany« (5, 6) Antena ksztaltujaca wiazke za pomoca sprzezenia fazowego, tj. kierunek wiazki jest utrzymywany za pomoca elementów promieniujacych o zlozonych wspólczynnikach wzbudzenia, przy czym kierunek takiej wiazki (azymut i (lub) podniesienie katowe) mozna zmieniac za pomoca sygnalu elektrycznego zarówno dla nadawania, jak i odbioru.

»Sterownik dostepu do sieci« (4) Interfejs fizyczny do sieci rozproszonej. Uzywa sie w nim wspólnego nosnika dzialajacego z taka sama »szybkoscia przesylania danych cyfrowych« w systemie transmisji z arbitrazem (np. w sensie znacznika lub nosnika). Niezaleznie od innych wybiera on adresowane do niego pakiety z danymi lub grupami danych (np. IEEE 802). Jest to zespól, który moze byc zintegrowany z komputerem lub urzadzeniem telekomunikacyjnym, z zadaniem zapewniania dostepu do laczy telekomunikacyjnych.

»Sterownik toru telekomunikacyjnego« (5) Interfejs fizyczny sterujacy przeplywem cyfrowych informacji synchronicznych lub asynchronicznych. Jest to zespól, który moze stanowic podzespól komputera lub urzadzenia telekomunikacyjnego zapewniajacego dostep do lacznosci.

»Stól obrotowo-przechylny« (2) Stól umozliwiajacy obracanie i przechylanie obrabianego przedmiotu wzgledem dwóch osi nierównoleglych, które moga byc równoczesnie koordynowane, co umozliwia »sterowanie ksztaltowe«.

»Strumieniowe wieloprzetwarzanie danych« (4) Technika oparta na »mikroprogramie« lub architekturze sprzetu, umozliwiajaca równoczesne przetwarzanie dwóch lub wiecej sekwencji danych pod kontrola jednej lub kilku sekwencji instrukcji za pomoca takich narzedzi, jak: zespoly o architekturze opartej na jednoinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (SIMD), np. procesory wektorowe lub tablicowe, zespoly o architekturze opartej na wielokrotnym jednoinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (MSIMD), zespoly o architekturze opartej na wieloinstrukcyjnym przetwarzaniu wielu danych (MIMD), wlacznie z procesorami polaczonymi bezposrednio, polaczonymi silnie lub polaczonymi luzno, albo elementy przetwarzajace o strukturze tablicowej, wlacznie z tablicami dynamicznymi. NB.: »Mikroprogram« oznacza sekwencje elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamieci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwolania.

»Syntetyzator czestotliwosci« (3) Dowolny rodzaj zródla czestotliwosci lub generatora sygnalów, bez wzgledu na stosowana technike, zapewniajacy uzyskanie wielu równoczesnych lub alternatywnych czestotliwosci wyjsciowych z jednego lub kilku wyjsc sterowanych lub regulowanych za pomoca mniejszej liczby czestotliwosci wzorcowych (lub glównych).

»Systemy eksperckie« (4, 7) Systemy wypracowujace wyniki poprzez zastosowanie pewnych zasad do danych przechowywanych w pamieci niezaleznie od »programu« i majace nastepujace mozliwosci: automatyczna modyfikacja »kodu zródlowego« wprowadzonego przez uzytkownika, dostarczanie informacji zwiazanych z klasa problemów w jezyku quasi-naturalnym, lub rozszerzanie wiedzy potrzebnej do wlasnego rozwoju (szkolenie symboliczne).

»Systemy kompensacji« (6) Wzorcowy czujnik natezenia pola, jeden lub wiecej czujnik odniesienia (np. magnetometr wektorowy) wraz z oprogramowaniem zezwalajacym na zmniejszenie szumu ruchu obrotowego ciala sztywnego platformy.

»Szczepionka« (1) Preparat medyczny w postaci wyrobu farmaceutycznego, wytworzony na licencji albo po próbach badan rynkowych lub klinicznych na podstawie upowaznienia przez wladze kraju produkcji lub kraju stosowania, który wprowadzony do ustroju ludzkiego lub zwierzecego ma za zadanie wytworzenie w nim ochronnej odpornosci immunologicznej w celu zapobiegania chorobom.

»Szerokosc pasma czasu rzeczywistego« (2, 3) W »dynamicznych analizatorach sygnalów« — najwiekszy zakres czestotliwosci, jaki analizator moze przeslac na wyswietlacz lub do pamieci masowej, bez jakiejkolwiek przerwy w analizowaniu danych wejsciowych. W przypadku analizatorów o wiecej niz jednym kanale, obliczenia nalezy przeprowadzic dla takiej konfiguracji kanalów, która daje najwieksza »szerokosc pasma czasu rzeczywistego«.

»Szybkosc przesylania danych cyfrowych« (5) Calkowita szybkosc informacji w bitach, przesylanych bezposrednio na dowolnym typie nosnika. NB.: Patrz takze »calkowita szybkosc transmisji danych cyfrowych«.

»Sciezki systemowe« (6) Przetworzone, skorelowane (polaczenie radiolokacyjnych danych o celu z polozeniem lecacego samolotu) i zaktualizowane dane dotyczace polozenia lecacego samolotu, przekazane kontrolerom w osrodku kontroli ruchu powietrznego.

»Przecietna moc wyjsciowa« (6) Calkowita energia wyjsciowa »lasera« wyrazona w dzulach podzielona przez »czas trwania emisji lasera« w sekundach.

»Tasma« (1) Material zbudowany z przeplatanych lub jednakowo ukierunkowanych »wlókien elementarnych«, »skretek«, »rowingów«, »kabli« lub »przedz« itp., zazwyczaj impregnowany zywica. NB.: »Skretka« oznacza wiazke »wlókien elementarnych« (zazwyczaj ponad 200) uporzadkowanych w przyblizeniu równolegle.

»Technologia« (wszystkie UOdT UdTJ) Specyficzny rodzaj informacji, niezbedny do »rozwoju«, »produkcji« lub »uzytkowania« danego wyrobu. Informacja ta ma postac »danych technologicznych« lub »pomocy technicznej«. NB.1: »Pomoc techniczna« moze przybierac takie formy, jak: przekazanie instrukcji, umiejetnosci, szkolenie, przekazanie wiedzy na temat eksploatacji oraz uslugi konsultacyjne i moze obejmowac transfer »danych technologicznych«. NB.2: »Dane technologiczne« moga miec forme odbitek, planów, wykresów, modeli, wzorów, tabel, projektów technicznych i opisów, podreczników i instrukcji w formie pisemnej lub zarejestrowanej na innych nosnikach lub urzadzeniach, takich jak dyski, tasmy, pamieci wylacznie do odczytu.

»Temperatura krytyczna« (1, 3, 6) »Temperatura krytyczna« (nazywana czasami »temperatura przemiany«) danego materialu »nadprzewodzacego« jest temperatura, w której material calkowicie traci opornosc dla przeplywu elektrycznego pradu stalego.

»Toksyny« (1, 2) Toksyny w postaci celowo wyizolowanych preparatów lub mieszanek, bez wzgledu na sposób produkcji, rózne od toksyn istniejacych jako zanieczyszczenia innych materialów, takich jak próbki patogenne, plony, zywnosc lub posiewy »mikroorganizmów«.

»Uklad scalony warstwowy« (3) Uklad »elementów obwodu« i metalowych laczników, wytworzony technika osadzania grubej lub cienkiej warstwy na »podlozu« o wlasciwosciach izolujacych. NB.: »Element obwodu«: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna czesc ukladu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp.

»Uklad mikrokomputerowy« (3) »Monolityczny uklad scalony« lub »wielouklad scalony«, w którego sklad wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji instrukcji ogólnych, zawartych w pamieci wewnetrznej, na danych znajdujacych sie w pamieci wewnetrznej. NB.: Pamiec wewnetrzna moze byc wspomagana przez pamiec zewnetrzna.

»Uklad mikroprocesorowy« (3) »Monolityczny uklad scalony« lub »wielouklad scalony«, w którego sklad wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji szeregu instrukcji ogólnych zawartych w pamieci zewnetrznej. NB.1: »Uklad mikroprocesorowy« zazwyczaj nie jest wyposazony w integralna pamiec dostepna dla uzytkownika, ale do realizacji jego funkcji logicznych moze byc wykorzystywana pamiec istniejaca w mikroukladzie. NB.2: Definicja ta obejmuje zespoly ukladów przeznaczone do pracy razem, w celu realizacji funkcji »ukladu mikroprocesorowego«.

»Uklady aktywnego sterowania lotem« (7) Uklady zapobiegajace niepozadanym ruchom lub obciazeniom konstrukcji »samolotu« lub pocisku rakietowego dzieki autonomicznemu przetwarzaniu sygnalów z wielu czujników i wydawaniu niezbednych polecen do realizacji sterowania automatycznego.

»Uklady czujników optycznych sterowania lotem« (7) Uklad czujników optycznych, wykorzystujacy promien »lasera« do dostarczania w czasie rzeczywistym danych sterowania lotem w celu ich przetwarzania na pokladzie.

»Ultraszybkie chlodzenie« (1) Technika »gwaltownego krzepniecia« polegajaca na uderzaniu stopionego strumienia metalu w ochlodzony blok, w wyniku czego powstaje produkt w postaci platków. NB.: »Gwaltowne krzepniecie«: krzepniecie roztopionego materialu podczas chlodzenia z szybkoscia powyzej 1 000 K/s.

»Ulamkowa szerokosc pasma« (3) oznacza »szerokosc chwilowa pasma« podzielona przez czestotliwosc srodkowa, wyrazona w procentach.

»Uprzednio separowane« (0, 1) Oddzielone dowolna technika wzbogacania kontrolowanego izotopu.

»Uran naturalny« (0) Uran zawierajacy mieszanine izotopów wystepujacych w naturze.

»Uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233« (0) Uran zawierajacy izotopy 235 lub 233, albo oba, w takich ilosciach, ze stosunek lacznej zawartosci tych izotopów do izotopu 238 jest wiekszy niz stosunek zawartosci izotopu 235 do izotopu 238 wystepujacy w naturze (stosunek izotopowy 0,71 procenta).

»Uran zubozony« (0) Uran, w którym zawartosc izotopu 235 obnizono do ilosci mniejszej niz w warunkach naturalnych.

»Urzadzenia produkcyjne« (1, 7, 9) Oprzyrzadowanie, szablony, przyrzady obróbkowe, trzpienie, formy, matryce, uchwyty, mechanizmy synchronizujace, urzadzenie testujace, inne maszyny i ich wyposazenie, z ograniczeniem do urzadzen specjalnie przeznaczonych lub zmodyfikowanych z przeznaczeniem do »rozwoju« lub jednej albo wiecej faz »produkcji«.

»Ustalony« (5) Algorytm kodowania lub kompresji, który nie moze akceptowac parametrów dostarczonych z zewnatrz (np. zmiennych do szyfrowania lub kluczy) i nie moze byc modyfikowany przez uzytkownika.

»Uzytkowanie« (wszystkie UOdT UdTJ) Praca, instalowanie (wlacznie z montazem na miejscu), konserwacja (kontrola), naprawa, remonty i odnawianie.

»Widmo rozproszone« (5) Dowolna technika sluzaca do rozpraszania energii sygnalu ze stosunkowo waskiego kanalu telekomunikacyjnego na duzo szersze widmo energii.

»Wielouklad scalony« (3) Dwa lub wiecej »monolityczne uklady scalone«, spojone ze wspólnym »podlozem«.

»Wielospektralne analizatory obrazowe« (6) Umozliwiaja równoczesne lub szeregowe odbieranie danych obrazowych z dwóch lub wiecej dyskretnych pasm spektralnych. Analizatory o wiecej niz dwudziestu dyskretnych pasmach spektralnych sa czasami nazywane hiperspektralnymi analizatorami obrazowymi.

»Wlókno elementarne« (lub -wlókno) (1) Najmniejszy inkrement wlókna, zazwyczaj majacy srednice kilku mikrometrów.

»Wrzeciono wahadlowe« (2) Wrzeciono na narzedzia, zmieniajace podczas procesu obróbki polozenie katowe swojej osi wzgledem dowolnej innej osi.

»Wspólczynnik skalowania (zyroskopu lub przyspieszeniomierza)« (7) Stosunek zmiany wartosci wyjsciowej do zmiany wartosci wejsciowej, która ma byc mierzona. Wspólczynnik skalowania jest na ogól szacowany jako pochylenie linii prostej, która mozna poprowadzic metoda najmniejszych kwadratów pomiedzy punktami okreslajacymi parametry wejsciowe/wyjsciowe, uzyskanymi poprzez cykliczna zmiane parametrów wejsciowych w przedziale ich wartosci.

»Wszystkie dostepne kompensacje« (2) Oznacza, ze w celu zminimalizowania wszystkich systematycznych bledów pozycjonowania dla okreslonej obrabiarki ostatecznie uwzgledniane sa wszystkie mozliwe do wykonania srodki dostepne dla producenta.

»Wychylenie wstepne przyspieszeniomierza« (7) Wartosc wskazywana przez przyspieszeniomierz w przypadku braku przyspieszenia.

»Wykladzina wewnetrzna« (9) Warstwa posrednia pomiedzy paliwem stalym a oslona lub warstwa izolacyjna. Zazwyczaj jest to plynna polimerowa zawiesina materialu ogniotrwalego lub izolacyjnego, np. wegiel z wypelniaczem polibutadienowym zakonczonym grupami hydroksylowymi (HTPB) lub innym polimerem z dodatkiem srodków utrwalajacych, rozpylonych lub rozsmarowanych na wewnetrznej powierzchni oslony.

»Wytrzymalosc wlasciwa na rozciaganie« (0, 1, 9) Wytrzymalosc na rozciaganie w paskalach, równowaznych N/m2, podzielona przez mase wlasciwa w N/m3, mierzona w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotnosci wzglednej (50 ± 5) %.

»Wzmacnianie obrazu« (4) Przetwarzanie obrazów zawierajacych informacje, uzyskanych ze zródel zewnetrznych, za pomoca algorytmów, takich jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciaganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiedzy domenami (np. za pomoca szybkiej transformacji Fouriera lub transformacji Walsha). Nie obejmuje algorytmów, w których stosowane sa wylacznie przeksztalcenia liniowe lub obrotowe pojedynczego obrazu, takie jak przesuniecie, ekstrahowanie jakiejs cechy, rejestracja lub falszywe barwienie.

»Wzmocnienie optyczne« (5) W telekomunikacji optycznej technika wzmacniania polegajaca na uzyskiwaniu sygnalów optycznych generowanych przez oddzielne zródlo optyczne, bez ich przetwarzania na sygnaly elektryczne, tj. za pomoca pólprzewodnikowych wzmacniaczy optycznych lub swiatlowodowych wzmacniaczy luminescencyjnych.

»Zasieg przyrzadowy« (6) Jednoznacznie okreslony zasieg radaru.

»Zespól elektroniczny« (2, 3, 4, 5) Pewna liczba elementów elektronicznych (tj. »ukladów elementarnych«, »elementów dyskretnych«, ukladów scalonych itp.) polaczonych ze soba w celu realizacji okreslonej(-ych) funkcji, wymienialna w calosci, która zazwyczaj moze byc demontowana. NB.1: »Element obwodu«: pojedyncza czynna albo bierna funkcjonalna czesc ukladu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp. NB.2: »Element dyskretny«: oddzielnie obudowany »uklad elementarny« z wlasnymi koncówkami wyjsciowymi.

»Ze sterowaniem zaprogramowanym w pamieci« (2, 3, 8) Sterowanie za pomoca instrukcji zaprogramowanych w pamieci elektronicznej, które procesor moze realizowac w celu kierowania parametrami uprzednio okreslonych funkcji. NB.: Urzadzenie moze byc urzadzeniem »ze sterowaniem zaprogramowanym w pamieci«, bez wzgledu na to, czy pamiec elektroniczna jest wewnetrzna, czy tez zewnetrzna wzgledem urzadzenia.

»Zgrzewanie dyfuzyjne« (1, 2, 9) Laczenie molekularne w stanie stalym co najmniej dwóch oddzielnych metali w jeden element, przy czym wytrzymalosc miejsca polaczenia jest równa wytrzymalosci najslabszego z materialów.

»Zwierciadla odksztalcalne« (6) (Okresla sie je równiez adaptacyjnymi zwierciadlami optycznymi). Sa to zwierciadla majace: jedna ciagla odbijajaca powierzchnie optyczna, która mozna dynamicznie odksztalcac za pomoca pojedynczych momentów lub sil, kompensujac w ten sposób znieksztalcenia fal optycznych padajacych na zwierciadlo, lub wiele odbijajacych elementów optycznych, które mozna oddzielnie i dynamicznie przemieszczac w inne polozenie za pomoca dzialajacych na nie momentów lub sil, kompensujac w ten sposób znieksztalcenia fal optycznych padajacych na zwierciadlo.

AKRONIMY I SKRÓTY UZYWANE W NINIEJSZYM ZALACZNIKU

Akronimy lub skróty uzyte jako zdefiniowany termin znajduja sie w »Definicjach terminów uzytych w niniejszym zalaczniku«.







Akronim lub skrót Znaczenie ABEC Komitet Inzynierów Lozysk Pierscieniowych AGMA Amerykanskie Stowarzyszenie Producentów Przekladni AHRS uklady informujace o polozeniu i kursie AISI Amerykanski Instytut Zelaza i Stali ALU jednostka arytmetyczno-logiczna ANSI Amerykanski Narodowy Instytut Normalizacji ASTM Amerykanskie Towarzystwo Materialoznawcze ATC kontrola ruchu lotniczego AVLIS instalacje do rozdzielania izotopów za pomoca »laserów« w parach atomowych CAD projektowanie wspomagane komputerowo CAS Serwis Dokumentacji Chemicznej CCITT Miedzynarodowy Komitet Konsultacyjny Telegraficzny i Telefoniczny CDU jednostka sterowania i wyswietlania CEP krag równego prawdopodobienstwa CNTD rozklad termiczny z regulowanym zarodkowaniem CRISLA reakcja chemiczna wywolana selektywna laserowa aktywacja izotopów CVD osadzanie chemiczne z pary CW wojna chemiczna (CW) (dotyczy laserów) fala ciagla (w laserach) DME radiodalmierz DS ukierunkowane krzepniecie EB-PVD fizyczne osadzanie pary z wiazka elektronów EBU Europejska Unia Nadawców ECM elektromechaniczne techniki obróbki ECR rezonans elektronowo-cyklotronowy EDM elektroiskrowe obrabiarki EEPROMS elektronicznie wymazywalna programowana pamiec tylko do odczytu EIA Stowarzyszenie Przemyslu Elektronicznego EMC kompatybilnosc elektromagnetyczna ETSI Europejski Instytut Norm Telekomunikacyjnych FFT szybka transformata Fouriera GLONASS globalny system nawigacji satelitarnej GPS globalny system lokalizacji HBT tranzystory heterobipolarne HDDR cyfrowy zapis magnetyczny z duza gestoscia HEMT tranzystory o wysokiej ruchliwosci elektronów ICAO Miedzynarodowa Organizacja Lotnictwa Cywilnego IEC Miedzynarodowa Komisja Elektrotechniczna IEEE Instytut Inzynierów Elektryki i Elektroniki IFOV chwilowe pole widzenia ILS system ladowania na przyrzady IRIG grupa oprzyrzadowania miedzyzakresowego ISAR radar z odwrócona synteza apertury ISO Miedzynarodowa Organizacja Normalizacyjna ITU Miedzynarodowy Zwiazek Telekomunikacyjny JIS Japonska Norma Przemyslowa JT Joule-Thomson LIDAR radar optyczny LRU liniowy element wymienny MAC kod uwierzytelniania wiadomosci Mach stosunek predkosci obiektu do predkosci dzwieku (od nazwiska Ernsta Macha) MLIS instalacje do rozdzielania izotopów za pomoca »laserów« molekularnych MLS mikrofalowe systemy ladowania MOCVD osadzanie z par lotnych zwiazków metaloorganicznych MRI tworzenie obrazów za pomoca rezonansu magnetycznego MTBF sredni czas miedzyawaryjny Mtops milion teoretycznych operacji na sekunde MTTF sredni czas do awarii NBC jadrowy, biologiczny i chemiczny NDT badanie nieniszczace PAR urzadzenia radiolokacyjne dokladnego podejscia do ladowania PIN osobisty numer identyfikacyjny ppm czesci na milion PSD gestosc widmowa mocy QAM modulacja kwadraturowa RF czestotliwosc radiowa SACMA Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakosciowych Materialów Kompozytowych SAR radar z synteza apertury SC monokrysztal SLAR radar pokladowy obserwacji bocznej SMPTE Stowarzyszenie Inzynierów Filmowych i Telewizyjnych SRA warsztatowy zespól wymienny SRAM statyczna pamiec o dostepie swobodnym SRM metody zalecane przez SACMA SSB pojedyncza wstega boczna SSR radar wtórnego nadzorowania TCSEC kryteria oszacowania poufnych systemów komputerowych TIR calkowity wskazany odczyt UV nadfiolet UTS jednostkowa wytrzymalosc na rozciaganie VOR radiolatarnia kierunkowa wysokiej czestotliwosci YAG granat itrowo-aluminiowy

KATEGORIA 0

MATERIALY, INSTALACJE I URZADZENIA JADROWE

0ASystemy, urzadzenia i czesci

0A001Nastepujace »reaktory jadrowe« oraz specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do uzytkowania z nimi urzadzenia i podzespoly:

a) »reaktory jadrowe« zdolne do pracy w taki sposób, zeby mogla w nich przebiegac kontrolowana, samopodtrzymujaca sie reakcja lancuchowa;

b) metalowe zbiorniki lub glówne czesci do nich, takze wykonane prototypowo w warsztatach, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do umieszczania w nich rdzenia »reaktora jadrowego«, w tym górne pokrywy zbiornika cisnieniowego reaktora;

c) urzadzenia manipulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do zaladunku i wyladunku elementów paliwowych »reaktorów jadrowych«;

d) prety regulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do sterowania procesem rozszczepienia w »reaktorze jadrowym«, odpowiednie elementy nosne lub zawieszenia, mechanizmy napedu oraz prowadnice rurowe do pretów regulacyjnych;

e) przewody cisnieniowe reaktora specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem na elementy paliwowe i chlodziwo w »reaktorze jadrowym«, wytrzymale na cisnienia eksploatacyjne powyzej 5,1 MPa;

f) cyrkon metaliczny lub jego stopy w postaci rur lub zespolów rur specjalnie zaprojektowanych lub wykonanych z przeznaczeniem do »reaktorów jadrowych«, w których stosunek wagowy hafnu do cyrkonu wynosi ponizej 1:500;

g) pompy pierwotnego obiegu specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przetaczania chlodziwa w »reaktorach jadrowych«;

h) »zespoly wewnetrzne reaktora« specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do pracy w »reaktorze jadrowym«, w tym elementy nosne rdzenia, kanaly paliwowe, oslony termiczne, przegrody, siatki dystansujace rdzenia i plyty rozpraszajace; Uwaga: W pozycji 0A001.h »zespoly wewnetrzne reaktora« oznaczaja dowolna wieksza strukture wewnatrz zbiornika reaktora wypelniajaca jedna lub wiecej funkcji, takich jak podtrzymywanie rdzenia, utrzymywanie osiowania elementów paliwowych, kierowanie przeplywem chlodziwa w obiegu pierwotnym, zapewnienie oslon radiacyjnych zbiornika reaktora i oprzyrzadowania wewnatrzrdzeniowego.

i) wymienniki ciepla (wytwornice pary) specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do stosowania w obiegu pierwotnym »reaktora jadrowego«;

j) aparatura do detekcji i pomiaru promieniowania neutronowego specjalnie zaprojektowana lub przystosowana do okreslenia poziomu strumienia neutronów wewnatrz rdzenia »reaktora jadrowego«.

0BUrzadzenia testujace, kontrolne i produkcyjne

0B001Nastepujace instalacje do separacji izotopów z »uranu naturalnego«, »uranu zubozonego« i »specjalnych materialów rozszczepialnych« oraz urzadzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane:

a) nastepujace instalacje specjalnie przeznaczone do separacji izotopów »uranu naturalnego«, »uranu zubozonego« oraz »specjalnych materialów rozszczepialnych«: 1) instalacje do rozdzielania gazów metoda wirowania; 2) instalacje do dyfuzyjnego rozdzielania gazów; 3) instalacje do rozdzielania metodami aerodynamicznymi; 4) instalacje do rozdzielania metodami wymiany chemicznej; 5) instalacje do rozdzielania technika wymiany jonów; 6) instalacje do rozdzielania izotopów w postaci par metalu za pomoca »laserów«; 7) instalacje do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomoca »laserów«; 8) instalacje do rozdzielania metodami plazmowymi; 9) instalacje do rozdzielania metodami elektromagnetycznymi;

b) nastepujace wirówki gazowe oraz zespoly i urzadzenia, specjalnie zaprojektowane lub wykonane do stosowania w procesach wzbogacania metoda wirowania gazów: Uwaga: W pozycji 0B001.b »material o wysokim stosunku wytrzymalosci mechanicznej do gestosci« oznacza jeden z ponizszych: a) stal maraging o wytrzymalosci na rozciaganie równej 2 050 MPa lub wiekszej; b) stopy aluminium o wytrzymalosci na rozciaganie równej 460 MPa lub wiekszej; lub c) »materialy wlókniste lub wlókienkowe« o »module wlasciwym« powyzej 3,18 × 106 m i »wytrzymalosci wlasciwej na rozciaganie« powyzej 76,2 × 103 m. 1) wirówki gazowe; 2) kompletne zespoly rotorów; 3) cylindryczne zespoly rotorów o grubosci 12 mm lub mniejszej, srednicy od 75 do 400 mm, wykonane z »materialów o wysokim stosunku wytrzymalosci mechanicznej do gestosci«; 4) pierscienie lub mieszki ze sciankami o grubosci 3 mm lub mniejszej i srednicy od 75 mm do 400 mm przeznaczone do lokalnego osadzenia cylindra wirnika albo do polaczenia ze soba wielu cylindrów wirników, wykonane z »materialów o wysokim stosunku wytrzymalosci mechanicznej do gestosci«; 5) deflektory o srednicy od 75 mm do 400 mm przeznaczone do instalowania wewnatrz cylindra wirnika odsrodkowego, wykonane z »materialów o wysokim stosunku wytrzymalosci mechanicznej do gestosci«; 6) pokrywy górne lub dolne o srednicy od 75 mm do 400 mm pasujace do konców cylindra wirnika, wykonane z »materialów o wysokim stosunku wytrzymalosci mechanicznej do gestosci«; 7) lozyska na poduszce magnetycznej skladajace sie z pierscieniowego magnesu zawieszonego w obudowie wykonanej z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« lub chronionej takimi materialami, zawierajacej wewnatrz czynnik tlumiacy i posiadajace magnes sprzezony z nabiegunnikiem lub drugim magnesem osadzonym w pokrywie górnej wirnika; 8) specjalnie wykonane lozyska skladajace sie z zespolu czop-panewka osadzonego na amortyzatorze; 9) pompy molekularne zawierajace cylindry z wewnetrznymi, obrobionymi technika skrawania lub wytloczonymi, spiralnymi rowkami i wewnetrznymi wywierconymi otworami; 10) pierscieniowe stojany silników do wysokoobrotowych wielofazowych silników histerezowych (lub reluktancyjnych) do pracy synchronicznej w prózni z czestotliwoscia 600–2 000 Hz i moca od 50 do 1 000 woltoamperów; 11) obudowy (komory) wirówek, w których znajduja sie zespoly wirników cylindrycznych wirówki gazowej, skladajace sie ze sztywnego cylindra ze sciankami o grubosci do 30 mm z precyzyjnie obrobionymi koncami i wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« lub tez zabezpieczone takimi materialami; 12) zbieraki skladajace sie z rurek o srednicy wewnetrznej do 12 mm, przeznaczone do ekstrahowania gazowego UF6 z wirnika wirówki na zasadzie rurki Pitota, wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« lub tez zabezpieczone takimi materialami; 13) przemienniki czestotliwosci (konwertory lub inwentory) specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do zasilania stojanów silników wirówek gazowych do wzbogacania, posiadajace wszystkie nastepujace cechy charakterystyczne i specjalnie do nich przeznaczone podzespoly: a) wyjscie wielofazowe o czestotliwosci od 600 do 2 000 Hz; b) regulacja czestotliwosci z dokladnoscia lepsza niz 0,1 %; c) znieksztalcenia harmoniczne ponizej 2 %; oraz d) sprawnosc powyzej 80 %; 14) zawory mieszkowe o srednicy od 10 do 160 mm wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« albo chronione takimi materialami;

c) nastepujace urzadzenia i podzespoly, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji metoda dyfuzji gazowej: 1) przegrody do dyfuzji gazowej wykonane z porowatych metalowych, polimerowych lub ceramicznych »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6«, posiadajace pory o srednicach od 10 do 100 nm, grubosc 5 mm lub mniejsza oraz, w przypadku elementów cylindrycznych, srednice 25 mm lub mniejsza; 2) obudowy dyfuzorów gazowych wykonane lub chronione »materialami odpornymi na korozyjne dzialanie UF6«; 3) sprezarki (wyporowe, odsrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objetosciowej pojemnosci ssania UF6 wynoszacej 1 m3/min lub wiecej oraz o cisnieniu wylotowym do 666,7 kPa, wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« albo chronione takimi materialami; 4) uszczelnienia wirujacych walów sprezarek lub dmuchaw wymienionych w pozycji 0B001.c.3, skonstruowane w taki sposób, zeby objetosciowe natezenie przeplywu gazu buforowego przez nieszczelnosci wynosilo ponizej 1 000 cm3/min; 5) wymienniki ciepla wykonane z aluminium, miedzi, niklu lub jego stopów zawierajacych ponad 60 % wagowych niklu, albo z kombinacji tych metali, takie jak rury platerowane, przeznaczone do pracy w warunkach podcisnienia przy zachowaniu natezenia przeplywu przez nieszczelnosci na takim poziomie, ze ogranicza ono wzrost cisnienia do mniej niz 10 Pa na godzine przy róznicy cisnien rzedu 100 kPa; 6) zawory mieszkowe o srednicy od 40 do 1 500 mm wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« albo chronione takimi materialami;

d) nastepujace urzadzenia i podzespoly specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do aerodynamicznego wzbogacania materialów: 1) dysze separujace skladajace sie ze szczelinowych, zakrzywionych kanalów o promieniu krzywizny ponizej 1 mm, odporne na korozyjne dzialanie UF6, zawierajace w srodku ostre krawedzie rozdzielajace gaz plynacy w dyszach na dwa strumienie; 2) cylindryczne lub stozkowe rury napedzane stycznym strumieniem wlotowym (rurki wirowe) wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« lub tez zabezpieczone takimi materialami, majace srednice od 0,5 cm do 4 cm i stosunek dlugosci do srednicy 20:1 lub mniejszy oraz jeden lub kilka stycznych wlotów; 3) sprezarki (wyporowe, odsrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objetosciowej pojemnosci ssania 2 m3/min, wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« albo zabezpieczone takimi materialami oraz wirujace uszczelnienia walów do nich; 4) wymienniki ciepla wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« lub zabezpieczone takimi materialami; 5) obudowy aerodynamicznych elementów rozdzielajacych, wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« albo zabezpieczone takimi materialami, przeznaczone na rurki wirowe lub dysze rozdzielajace; 6) zawory mieszkowe wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« albo zabezpieczone takimi materialami, majace srednice od 40 do 1 500 mm; 7) instalacje przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nosnego (wodoru lub helu) do zawartosci 1 ppm UF6 lub mniejszej, w tym: a) kriogeniczne wymienniki ciepla i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (–120 °C) lub mniejszych; b) zamrazarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (–120 °C) lub nizszych; c) dysze rozdzielajace lub zespoly rurek wirowych do oddzielania UF6 od gazu nosnego; d) wymrazarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (–20 °C) lub nizszych;

e) nastepujace urzadzenia i podzespoly do nich, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materialów technika wymiany chemicznej: 1) cieczowo-cieczowe kolumny impulsowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urzadzenia rzedu 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stezony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluoroweglowe lub szklo, albo pokryte takimi materialami); 2) cieczowo-cieczowe kontaktory odsrodkowe do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu urzadzenia rzedu 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stezony kwas solny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery fluoroweglowe lub szklo, albo pokryte takimi materialami); 3) elektrochemiczne ogniwa redukcyjne, odporne na dzialanie roztworów kwasu solnego, do obnizania wartosciowosci uranu; 4) urzadzenia do zasilania elektrochemicznych ogniw redukcyjnych, pobierajace U+4 ze strumieni substancji organicznych, wykonane w strefach kontaktu z przetwarzanym strumieniem z odpowiednich materialów lub chronione takimi materialami (na przyklad szklo, polimery fluoroweglowe, polisiarczan fenylu, polisulfon eteru i grafit nasycany zywica); 5) urzadzenia do sporzadzania pólproduktów do wytwarzania roztworu chlorku uranu o wysokiej czystosci, skladajace sie z zespolów do rozpuszczania, ekstrakcji rozpuszczalnikowej i/lub wymiany jonowej, przeznaczone do oczyszczania, oraz ogniwa elektrolityczne do redukowania uranu U+6 lub U+4 do U+3; 6) urzadzenia do utleniania uranu ze stanu U+3 do U+4;

f) nastepujace urzadzenia i podzespoly, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materialów technika wymiany jonów: 1) szybko reagujace zywice jonowymienne, zywice blonkowate lub porowate makrosiatkowe, w których grupy chemiczne biorace aktywny udzial w wymianie znajduja sie wylacznie w powloce na powierzchni nieaktywnej porowatej struktury nosnej, oraz inne materialy kompozytowe w dowolnej stosownej formie, w tym w postaci czastek lub wlókien, ze srednicami rzedu 0,2 mm lub mniejszymi, odporne na stezony kwas solny i wykonane w taki sposób, ze ich pólczas wymiany wynosi ponizej 10 sekund, oraz zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C); 2) kolumny jonitowe (cylindryczne) o srednicy powyzej 1 000 mm, wykonane z materialów odpornych na stezony kwas solny lub chronione takimi materialami (np. tytan lub tworzywa fluoroweglowe) i zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100 °C) do 473 K (200 °C) i przy cisnieniach powyzej 0,7 MPa; 3) jonitowe urzadzenia zwrotne (urzadzenia do chemicznego lub elektrochemicznego utleniania lub redukcji) przeznaczone do regeneracji substancji do chemicznej redukcji lub utleniania, stosowanych w jonitowych kaskadach do wzbogacania materialów;

g) nastepujace urzadzenia i podzespoly, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci pary metalu za pomoca »laserów« (AVLIS): 1) duzej mocy dziala elektronowe wytwarzajace strumien elektronów w reakcji zdzierania albo skaningowe dziala elektronowe o mocy wyjsciowej powyzej 2,5 kW/cm, przeznaczone do urzadzen do przeprowadzania uranu w stan pary; 2) systemy operowania cieklym uranem metalicznym dla stopionego uranu lub jego stopów skladajace sie z tygli, wykonanych z materialów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i cieplo (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materialami oraz instalacji chlodniczych do tygli; NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 2A225. 3) urzadzenia do gromadzenia produktów lub frakcji koncowych, wykonane z materialów odpornych na dzialanie cieplne i korozyjne uranu w postaci pary lub cieczy, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal lub wylozone takimi materialami; 4) obudowy modulów urzadzen rozdzielajacych (zbiorniki cylindryczne lub prostopadloscienne) przeznaczone na zródla par uranu metalicznego, dziala elektronowe oraz urzadzenia do gromadzenia produktu i frakcji koncowych; 5) »lasery« lub systemy »laserów« do rozdzielania izotopów uranu wyposazone w stabilizatory czestotliwosci przystosowane do pracy przez dluzsze okresy czasu; NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 6A005 I 6A205.

h) nastepujace urzadzenia i podzespoly, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomoca »laserów« (MLIS) lub reakcji chemicznej wywolanej selektywna laserowa aktywacja izotopów (CRISLA): 1) naddzwiekowe dysze rozprezne do chlodzenia mieszanin UF6 z gazem nosnym do temperatur 150 K (–123 °C) lub nizszych, wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6«; 2) urzadzenia do gromadzenia pieciofluorku uranu (UF5), skladajace sie z kolektorów filtracyjnych, udarowych lub cyklonowych lub ich kombinacji, wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF5/UF6«; 3) sprezarki wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« albo zabezpieczone takimi materialami oraz uszczelnienia wirujacych walów do nich; 4) urzadzenia do fluorowania UF5 (stalego) do UF6 (gazowego); 5) urzadzenia przetwórcze do oddzielania UF6 od gazu nosnego (np. azotu lub argonu), w tym: a) kriogeniczne wymienniki ciepla i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (–120 °C) lub mniejszych; b) zamrazarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (–120 °C) lub nizszych; c) wymrazarki UF6 zdolne do pracy w temperaturach 253 K (–20 °C) lub nizszych; 6) »lasery« lub systemy »laserów« do rozdzielania izotopów uranu wyposazone w stabilizatory czestotliwosci przystosowane do pracy przez dluzsze okresy czasu; NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 6A005 I 6A205.

i) nastepujace urzadzenia i podzespoly, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do plazmowego rozdzielania materialów: 1) zródla mikrofal i anteny do wytwarzania lub przyspieszania jonów, o czestotliwosci wyjsciowej powyzej 30 GHz i sredniej mocy wyjsciowej powyzej 50 kW; 2) wysokoczestotliwosciowe cewki do wzbudzania jonów pracujace w zakresie czestotliwosci powyzej 100 kHz i zdolne do pracy w warunkach sredniej mocy powyzej 40 kW; 3) urzadzenia do wytwarzania plazmy uranowej; 4) systemy operowania cieklym metalem dla stopionego uranu lub jego stopów skladajace sie z tygli, wykonanych z materialów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i cieplo (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych metali ziem rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materialami oraz instalacji chlodniczych do tygli; NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 2A225. 5) urzadzenia do gromadzenia produktów lub frakcji koncowych, wykonane z materialów odpornych na dzialanie cieplne i korozyjne par uranu, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal lub zabezpieczone takimi materialami; 6) obudowy modulów separatorów (cylindryczne) na zródlo plazmy uranowej, cewki na prady wysokiej czestotliwosci oraz kolektory do produktu i frakcji koncowych, wykonane z odpowiednich materialów niemagnetycznych (np. ze stali nierdzewnej);

j) nastepujace urzadzenia i podzespoly, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materialów metodami elektromagnetycznymi: 1) zródla jonów, pojedyncze lub wielokrotne, skladajace sie ze zródla pary, jonizatora oraz akceleratora wiazki wykonane z odpowiednich materialów niemagnetycznych (np. grafitu, stali nierdzewnej lub miedzi) i zdolne do wytwarzania wiazki jonów o calkowitym natezeniu 50 mA lub wiekszym; 2) plytkowe kolektory jonów do gromadzenia wzbogaconych lub zubozonych wiazek jonów uranu, skladajace sie z dwóch lub wiecej szczelin i kieszeni i wykonane z odpowiednich materialów niemagnetycznych (np. grafitu lub stali nierdzewnej); 3) obudowy prózniowe do elektromagnetycznych separatorów uranu wykonane z materialów niemagnetycznych (np. z grafitu lub stali nierdzewnej) i skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy cisnieniach 0,1 Pa lub nizszych; 4) elementy biegunów magnesów o srednicy powyzej 2 m; 5) wysokonapieciowe zasilacze do zródel jonów, posiadajace wszystkie nastepujace cechy charakterystyczne: a) zdolnosc do pracy w trybie ciaglym; b) napiecie wyjsciowe 20 000 V lub wieksze; c) natezenie pradu na wyjsciu 1A lub wieksze; oraz d) regulacja napiecia z dokladnoscia lepsza niz 0,01 % w ciagu 8 godzin; NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 3A227. 6) zasilacze magnesów (wysokiej mocy, pradu stalego) majace wszystkie wymienione ponizej cechy charakterystyczne: a) zdolnosc do pracy w trybie ciaglym z pradem wyjsciowym o natezeniu 500 A lub wiekszym i napieciu 100 V lub wiekszym; oraz b) regulacja natezenia lub napiecia pradu z dokladnoscia lepsza niz 0,01 % w ciagu 8 godzin. NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 3A226.

0B002Nastepujace specjalnie zaprojektowane lub wykonane pomocnicze instalacje, urzadzenia i podzespoly do instalacji separacji izotopów wymienionych w pozycji 0B001, wykonane z »materialów odpornych na korozyjne dzialanie UF6« lub chronione materialami tego typu:

a) autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF6 do instalacji do wzbogacania;

b) desublimatory lub wymrazarki do odprowadzania UF6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transportu po ogrzaniu;

c) instalacje do produktu lub frakcji koncowych do transportu UF6 do zbiorników;

d) instalacje do skraplania lub zestalania stosowane do usuwania UF6 z procesu wzbogacania droga sprezania i przetwarzania UF6 w ciecz lub cialo stale;

e) instalacje rurociagowe i zbiorniki specjalnie przeznaczone do transportu i manipulowania UF6 w procesach rozdzielania izotopów metoda dyfuzji, ultrawirowania lub kaskady aerodynamicznej;

f) 1) prózniowe instalacje rur rozgaleznych lub zbiorników o wydajnosci ssania wynoszacej 5 m3 na minute lub wiecej; lub 2) pompy prózniowe specjalnie przeznaczone do pracy w atmosferze UF6;

g) spektrometry masowe (zródla jonów), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do biezacego (on-line) pobierania próbek surowca, produktu lub frakcji koncowych ze strumieni zawierajacych UF6, posiadajace wszystkie wymienione ponizej cechy: 1) jednostkowa rozdzielczosc masy atomowej powyzej 320; 2) zródla jonów wykonane lub powlekane nichromem lub monelem albo niklowane; 3) elektronowe zródla jonizacyjne; i 4) wyposazenie w kolektory umozliwiajace analize izotopowa.

0B003Nastepujace instalacje do przetwarzania uranu i urzadzenia specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do nich:

a) instalacje do przetwarzania koncentratów rudy uranowej na UO3;

b) instalacje do przetwarzania UO3 na UF6;

c) instalacje do przetwarzania UO3 na UO2;

d) instalacje do przetwarzania UO2 na UF4;

e) instalacje do przetwarzania UF4 na UF6;

f) instalacje do przetwarzania UF4 na metaliczny uran;

g) instalacje do przetwarzania UF6 na UO2;

h) instalacje do przetwarzania UF6 na UF4;

i) instalacje do przetwarzania UO2 na UCl4.

0B004Nastepujace instalacje do produkcji lub stezania ciezkiej wody, deuteru i zwiazków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urzadzenia:

a) nastepujace instalacje do produkcji ciezkiej wody, deuteru i zwiazków deuteru: 1) instalacje do produkcji metoda wymiany woda-siarkowodór; 2) instalacje do produkcji metoda wymiany amoniak-wodór;

b) nastepujace urzadzenia i podzespoly: 1) kolumnowe wymienniki typu woda-siarkowodór wykonane z oczyszczonej stali weglowej (np. ASTM A516), majace srednice od 6 m do 9 m i zdolnosc do pracy przy cisnieniach równych lub wiekszych niz 2 MPa oraz posiadajace naddatek korozyjny o wartosci 6 mm lub wiekszy; 2) jednostopniowe, niskocisnieniowe (np. 0,2 MPa), odsrodkowe dmuchawy lub kompresory wymuszajace cyrkulacje gazowego siarkowodoru (tj. gazu zawierajacego wiecej niz 70 % H2S), o przepustowosci równej lub wiekszej niz 56 m3/sekunde podczas pracy przy cisnieniach zasysania równych lub wiekszych niz 1,8 MPa, posiadajace uszczelnienia umozliwiajace prace w srodowisku wilgotnego H2S; 3) kolumnowe wymienniki typu amoniak-wodór o wysokosci równej lub wiekszej niz 35 m i srednicy od 1,5 m do 2,5 m, zdolne do pracy przy cisnieniach wiekszych niz 15 MPa; 4) konstrukcje wewnetrzne kolumn wlacznie z kontaktorami stopniowymi i pompami stopniowymi, w tym zanurzeniowymi, do produkcji ciezkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór; 5) instalacje do krakowania amoniaku zdolne do pracy przy cisnieniach równych lub wiekszych niz 3 MPa przy produkcji ciezkiej wody w procesie wymiany amoniak-wodór; 6) podczerwone analizatory absorpcyjne zdolne do biezacej (on-line) analizy stosunku wodoru do deuteru w warunkach, w których stezenia deuteru sa równe lub wieksze niz 90 %; 7) palniki katalityczne do konwersji wzbogaconego deuteru w ciezka wode przy uzyciu procesu wymiany amoniak-wodór; 8) kompletne systemy wzbogacania ciezkiej wody lub przeznaczone dla nich kolumny, przeznaczone do zwiekszania koncentracji deuteru w ciezkiej wodzie do poziomu reaktorowego.

0B005Instalacje specjalnie przeznaczone do wytwarzania elementów paliwowych do »reaktorów jadrowych« oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urzadzenia.

Uwaga: Instalacje do wytwarzania elementów paliwowych do »reaktorów jadrowych« obejmujace w urzadzenia, które:

a) pozostaja w bezposrednim kontakcie z materialami jadrowymi albo bezposrednio je przetwarzaja lub steruja procesem ich produkcji;

b) uszczelniaja materialy jadrowe wewnatrz ich koszulek;

c) kontroluja szczelnosc koszulek; lub

d) kontroluja koncowa obróbke paliwa stalego.

0B006Instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w róznym stopniu) elementów paliwowych »reaktorów jadrowych« oraz specjalnie dla nich przeznaczone lub wykonane urzadzenia i podzespoly.

Uwaga: Pozycja 0B006 obejmuje:

a) instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w róznym stopniu) elementów paliwowych »reaktorów jadrowych«, w tym urzadzenia i podzespoly, które zazwyczaj wchodza w bezposredni kontakt z materialami jadrowymi, sluza do ich bezposredniego przetwarzania lub sterowania ich przeplywem;

b) maszyny do rozdrabniania lub kruszenia elementów paliwowych, tj. zdalnie sterowane urzadzenia do ciecia, rozdrabniania lub krojenia napromieniowanych (wypalonych w róznym stopniu) zespolów, wiazek lub pretów paliwowych »reaktorów jadrowych«;

c) urzadzenia do rozpuszczania, zbiorniki podkrytyczne (np. pierscieniowe lub plaskie zbiorniki o malych srednicach), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozpuszczania napromieniowanego (wypalonego w róznym stopniu) paliwa do »reaktorów jadrowych«, odporne na dzialanie goracych, silnie zracych plynów oraz przystosowane do zdalnego zaladunku i obslugi;

d) ekstraktory przeciwpradowe i urzadzenia do separacji metoda wymiany jonów, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do przerobu napromieniowanego (wypalonego w róznym stopniu) »uranu naturalnego«, »uranu zubozonego« lub »specjalnych materialów rozszczepialnych«;

e) zbiorniki technologiczne lub magazynowe, specjalnie zaprojektowane w taki sposób, ze sa podkrytyczne i odporne na zrace dzialanie kwasu azotowego; Uwaga: Zbiorniki technologiczne lub magazynowe moga miec nastepujace wlasciwosci: 1) scianki lub struktury wewnetrzne z co najmniej dwuprocentowym ekwiwalentem borowym (obliczonym dla wszystkich skladowych pierwiastków w sposób zdefiniowany w uwadze do pozycji 0C004); 2) maksymalna srednice rzedu 175 mm w przypadku zbiorników cylindrycznych; lub 3) maksymalna szerokosc 75 mm w przypadku zbiorników plytowych lub pierscieniowych;

f) instrumenty do sterowania procesem przetwarzania, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do monitorowania lub sterowania przerobem napromieniowanego (wypalonego w róznym stopniu) »uranu naturalnego«, »uranu zubozonego« lub »specjalnych materialów rozszczepialnych«.

0B007Instalacje do przetwarzania plutonu oraz specjalnie dla nich przeznaczone lub wykonane urzadzenia i podzespoly.

a) Instalacje do przetwarzania azotanu plutonu na tlen;

b) instalacje do wytwarzania metalicznego plutonu.

0CMaterialy

0C001»Uran naturalny« lub »uran zubozony« lub tor w formie metalu, stopu, zwiazku chemicznego lub koncentratu i dowolnego innego materialu zawierajacego jeden lub wiecej z powyzszych materialów.

Uwaga: Pozycja 0C001 nie obejmuje kontrola:

a) czterech gramów lub mniej »uranu naturalnego« lub »uranu zubozonego«, jezeli znajduje sie w czujnikach instrumentów pomiarowych;

b) »uranu zubozonego« specjalnie wyprodukowanego z przeznaczeniem do wyrobu nastepujacych produktów cywilnych spoza dziedziny jadrowej: 1) oslony; 2) wypelnienia; 3) balasty o masie nieprzekraczajacej 100 kg; 4) przeciwwagi o masie nieprzekraczajacej 100 kg;

c) stopów zawierajacych mniej niz 5 % toru;

d) produktów ceramicznych zawierajacych tor, ale wykonanych do zastosowan poza dziedzina jadrowa.

0C002»Specjalne materialy rozszczepialne«

Uwaga: Pozycja 0C002 nie obejmuje kontrola czterech »gramów efektywnych« lub mniej, w przypadku ich stosowania w czujnikach instrumentów pomiarowych.

0C003Deuter, ciezka woda (tlenek deuteru) i inne zwiazki deuteru oraz ich mieszaniny i roztwory, w których stosunek liczby atomów deuteru do atomów wodoru jest wiekszy niz 1:5 000 .

0C004Grafit klasy jadrowej, o stopniu zanieczyszczenia ponizej 5 czesci na milion »ekwiwalentu boru« oraz gestosci wiekszej niz 1,50 g/cm3.

NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 1C107.

Uwaga 1: Pozycja 0C004 nie obejmuje kontrola:

a) wyrobów grafitowych o masie mniejszej niz 1 kg, róznych od specjalnie zaprojektowanych lub przystosowanych do wykorzystania w reaktorach jadrowych;

b) proszku grafitowego.

Uwaga 2: W pozycji 0C004 »ekwiwalent boru« (BE) zdefiniowany jest jako suma BEZ dla domieszek (z pominieciem BEC dla wegla, poniewaz wegiel nie jest uwazany za domieszke) z uwzglednieniem boru, gdzie:

BEZ (ppm) = CF × stezenie pierwiastka Z okreslane w ppm (czesciach na milion)

gdzie CF jest wspólczynnikiem przeliczeniowym

a sB i sZ sa przekrojami czynnymi na wychwyt neutronów termicznych (w barnach) odpowiednio dla boru pochodzenia naturalnego i pierwiastka Z, a AB i AZ sa masami atomowymi odpowiednio boru naturalnego i pierwiastka Z.

0C005Specjalnie wzbogacone zwiazki lub proszki do wyrobu przegród do dyfuzji gazowej, odporne na korozyjne dzialanie UF6, np. nikiel lub stop zawierajacy 60 % wagowych lub wiecej niklu, tlenek aluminium i calkowicie fluorowane polimery weglowodorowe o procentowym stopniu czystosci w proporcji wagowej 99,9 lub powyzej i sredniej wielkosci czastek ponizej 10 mikrometrów, mierzonej wedlug normy Amerykanskiego Towarzystwa Materialoznawczego (ASTM) B330 i wysokim stopniu jednorodnosci wymiarowej czastek.

0DOprogramowanie

0D001»Oprogramowanie« specjalnie opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do »rozwoju«, »produkcji« lub »uzytkowania« towarów wymienionych w tej kategorii

0ETechnologia

0E001»Technologie« wedlug uwagi do technologii jadrowej, do »rozwoju«, »produkcji« lub »uzytkowania« towarów wymienionych w tej kategorii

KATEGORIA 1

MATERIALY, SUBSTANCJE CHEMICZNE, »MIKROORGANIZMY« I »TOKSYNY«

1ASystemy, urzadzenia i czesci

1A001Nastepujace elementy wykonane ze zwiazków fluorowych:

a) uszczelnienia, uszczelki, masy uszczelniajace lub przepony w ukladach paliwowych, specjalnie przeznaczone do »statków powietrznych« lub rakiet kosmicznych, w których ponad 50 % zawartosci wagowej stanowi jeden z materialów objetych kontrola wedlug pozycji 1.C009.b lub 1C009.c;

b) polimery i kopolimery piezoelektryczne wykonane z kopolimerów fluorku winylidenu wymienionych w pozycji 1C009.a: 1) w postaci arkuszy albo folii; i 2) o grubosci wiekszej od 200 mikrometrów;

c) uszczelnienia, uszczelki, gniazda zaworów, przepony albo membrany wykonane z elastomerów fluorowych zawierajacych co najmniej jeden monomer eteru winylowego, specjalnie opracowane do »statków powietrznych«, rakiet kosmicznych lub »pocisków rakietowych«. Uwaga: W pozycji 1A001.c »pocisk rakietowy« oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzalogowych statków powietrznych.

1A002Wyroby albo laminaty »kompozytowe« majace nastepujace wlasciwosci:

NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 1A202, 9A010 i 9A110.

a) skladajace sie z »matrycy« organicznej i z materialów objetych kontrola wedlug pozycji 1C010.c, 1C010.d lub 1C010.e; albo

b) skladajace sie z »matrycy« metalowej lub weglowej i z jakichkolwiek z nizej wymienionych materialów: 1) weglowych »materialów wlóknistych lub wlókienkowych« o: a) »module wlasciwym« powyzej 10,15 × 106 m; i b) »wytrzymalosci wlasciwej na rozciaganie« powyzej 17,7 × 104 m; lub 2) materialów wymienionych w pozycji 1C010.c.

Uwaga 1: Pozycja 1A002 nie dotyczy wyrobów kompozytowych ani laminatów wykonanych z zywic epoksydowych impregnowanych weglowymi »materialami wlóknistymi lub wlókienkowymi«, przeznaczonych do naprawy elementów lub laminatów »cywilnych statków powietrznych«, pod warunkiem ze ich wielkosc nie przekracza 100 cm × 100 cm.

Uwaga 2: Pozycja 1A002 nie obejmuje kontrola calkowicie lub czesciowo wykonczonych produktów, specjalnie przeznaczonych do nastepujacych, wylacznie cywilnych, zastosowan:

a) sprzet sportowy;

b) przemysl samochodowy;

c) przemysl obrabiarkowy;

d) zastosowania medyczne.

1A003Wyroby z substancji polimerowych niefluorowanych, okreslonych w pozycji 1C008.a.3, w postaci folii, arkuszy, tasm lub wsteg, jednej z ponizszych wlasciwosci:

a) o grubosci powyzej 0,254 mm; lub

b) powlekane lub laminowane weglem, grafitem, metalami lub substancjami magnetycznymi.

Uwaga: Pozycja 1A003 nie obejmuje kontrola wyrobów powlekanych lub laminowanych miedzia, przeznaczonych do produkcji elektronicznych plytek drukowanych.

1A004Nastepujace urzadzenia, wyposazenie i czesci ochronne i detekcyjne, rózne od objetych kontrola na podstawie Wykazu uzbrojenia:

NB.: SPRAWDZ TAKZE POZYCJE 2B351 i 2B352.

a) maski przeciwgazowe, pochlaniacze i wyposazenie dekontaminacyjne do nich, przeznaczone lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materialami promieniotwórczymi »przystosowanymi do uzycia w dzialaniach wojennych« lub przed chemicznymi srodkami bojowymi, a takze czesci specjalnie do nich zaprojektowane;

b) ubrania, rekawice i obuwie ochronne specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materialami promieniotwórczymi »przystosowanymi do uzycia w dzialaniach wojennych« lub przed chemicznymi srodkami bojowymi;

c) jadrowe, biologiczne i chemiczne systemy detekcji specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla wykrywania lub identyfikacji czynników biologicznych i materialów promieniotwórczych »przystosowanych do uzycia w dzialaniach wojennych« oraz chemicznych srodków bojowych, i specjalnie zaprojektowane do nich czesci.

Uwaga: Pozycja 1A004 nie obejmuje kontrola:

a) osobistych monitorujacych dozymetrów promieniowania jadrowego;

b) urzadzen i wyposazenia, ograniczonych projektowo lub funkcjonalnie do spelniania ochrony przed typowymi cywilnymi zagrozeniami przemyslowymi, np. w górnictwie, przemysle wydobywczym, rolnictwie, przemysle farmaceutycznym, medycynie, weterynarii, ochronie srodowiska, zagospodarowaniu odpadów lub w przemysle spozywczym.

1A005Kamizelki i okrycia kuloodporne oraz specjalnie zaprojektowane do nich czesci, rózne od wykonanych wedlug norm lub technicznych wymagan wojskowych oraz od ich odpowiedników o porównywalnych parametrach.

NB.: SPRAWDZ TAKZE WYKAZ UZBROJENIA.

NB.: W odniesieniu do »materialów wlóknistych lub wlókienkowych«, stosowanych do produkcji kamizelek kuloodpornych, patr