2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 1
Dit document vormt slechts een documentatiehulpmiddel en verschijnt buiten de verantwoordelijkheid van de instellingen
►B VERORDENING (EG) Nr. 1334/2000 VAN DE RAAD
van 22 juni 2000
tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer van producten en
technologie voor tweeërlei gebruik
(PB L 159 van 30.6.2000, blz. 1)
Gewijzigd bij:
Publicatieblad
nr. blz. datum
►M1 Verordening (EG) nr. 2889/2000 van de Raad van 22 december 2000 L 336 14 30.12.2000
►M2 Verordening (EG) nr. 458/2001 van de Raad van 6 maart2001 L 65 19 7.3.2001
►M3 Verordening (EG) nr. 2432/2001 van de Raad van 20 november 2001 L 338 1 20.12.2001
Gerectificeerd bij:
►C1 Rectificatie PB L 176 van 15.7.2000, blz. 52 (1334/2000)
▼B
VERORDENING (EG) Nr. 1334/2000 VAN DE RAAD
van 22 juni 2000
tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de
uitvoer van producten en technologie voor tweeërlei gebruik
DE RAAD VAN DE EUROPESE UNIE,
Gelet op het Verdrag tot oprichting van de Europese Gemeenschap,inzonderheid op artikel 133,
Gezien hetvoorst el van de Commissie (
1),
Overwegende hetgeen volgt:
(1) Producten voor tweeërlei gebruik (producten, met inbegrip van
programmatuur en technologie, voor tweeërlei gebruik) dienen bijuitvoer van de Gemeenschap aan een doeltreffende controle teworden onderworpen.
(2) Ter naleving van de internationale verplichtingen en verant-woordelijkheden van de lidstaten, met name wat non-proliferatie
betreft, en van de Europese Unie is een doeltreffend gemeen-
schappelijk controlesysteem voor de uitvoer van producten voortweeërlei gebruik noodzakelijk.
(3) Voor de totstandbrenging van het vrije verkeer van productenvoor tweeërlei gebruik in de Gemeenschap is het bestaan van eengemeenschappelijk controlesysteem en van geharmoniseerdebeleidsvormen voor de handhaving en de bewaking in alle
lidstaten een noodzakelijke voorwaarde.
(4) Teneinde de doeltreffende uitvoering van de controles te blijven
waarborgen, dientde t hans geldende, bij Verordening (EG) nr.3381/94 (
2) en Besluit94/942/GBVB (3), ingestelde regeling voor
de uitvoercontrole op producten voor tweeërlei gebruik verder teworden geharmoniseerd.
(5) Voor een doeltreffend uitvoercontrolesysteem zijn gemeenschap-pelijke lijsten van producten voor tweeërlei gebruik, van
bestemmingen en van richtsnoeren essentiële elementen. Derge-
lijke lijsten zijn bij Besluit 94/942/GBVB en de opeenvolgendewijzigingsbesluiten vastgesteld en dienen in de onderhavigeverordening te worden opgenomen.
(6) Voor de beslissingen over de aanvragen van de uitvoervergun-ningen zijn in beginsel de nationale autoriteiten verantwoordelijk.De nationale bepalingen en besluiten in verband met de uitvoer
van producten voor tweeërlei gebruik moeten worden vastgesteld
in hetkader van de gemeenschappelijke handelspolit iek, en metname van Verordening (EEG) nr. 2603/69 van de Raad van20 december 1969 houdende de totstandbrenging van eengemeenschappelijke regeling voor de uitvoer (
4).
(7) Besluiten tot bijwerking van de gemeenschappelijke lijsten vanproducten voor tweeërlei gebruik moeten volledig in overeen-
stemming zijn met de verplichtingen en verbintenissen waarmee
elke lidstaat als partij bij de desbetreffende internationaleregelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door debekrachtiging van desbetreffende internationale verdragen heeftingestemd.
(8) De overdracht van programmatuur en technologie door middelvan elektronische media, faxapparaten en telefoon naar bestem-2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 2
(1) PB C 399 van 21.12.1998, blz. 1.
(2) PB L 367 van 31.12.1994, blz. 1. Verordening gewijzigd bij Verordening
(EG) nr. 837/95 (PB L 90 van 21.4.1995, blz. 1).
(3) PB L 367 van 31.12.1994, blz. 8. Besluit laatstelijk gewijzigd bij Besluit
2000/243/GBVB (PB L 82 van 1.4.2000, blz. 1).
(4) PB L 324 van 27.12.1969, blz. 25. Verordening laatstelijk gewijzigd bij
Verordening (EG) nr. 3918/91 (PB L 372 van 31.12.1991, blz. 31).
▼B
mingen buiten de Gemeenschap dient eveneens te worden
gecontroleerd.
(9) Bijzondere aandacht moet worden besteed aan vraagstukken inverband metde wederuit voer en de eindbest emming.
(10) Op 22 september 1998 hebben vertegenwoordigers van delidstaten en van de Europese Commissie aanvullende protocollenondertekend bij de respectieve veiligheidscontroleovereenkom-
sten tussen de lidstaten, de Europese Gemeenschap voor
Atoomenergie en het Internationaal Agentschap voor Atoom-energie, waarin, naast andere maatregelen, de lidstaten wordenverplicht informatie te verstrekken over nader gespecificeerdeapparatuur en niet-nucleair materiaal.
(11) De Gemeenschap heeftbij Verordening (EEG) nr. 2913/92 van deRaad van 12 oktober 1992 tot vaststelling van het communautairdouanewetboek (
1), hierna „communautair douanewetboek”
genoemd, en bij Verordening (EEG) nr. 2454/93 van deCommissie van 2 juli 1993 houdende vaststelling van enkele
bepalingen ter uitvoering van Verordening (EEG) nr. 2913/92 van
de Raad tot vaststelling van het communautair douanewetboek (
2),
een corpus douanevoorschriften vastgesteld dat onder meerbepalingen bevat betreffende de uitvoer en wederuitvoer vangoederen. De onderhavige verordening laatde uithetcommu-
nautair douanewetboek en de uitvoeringsbepalingen daarvan
voortvloeiende bevoegdheden onverlet.
(12) Krachtens artikel 30 van het Verdrag en binnen de grenzen vandat artikel, behouden de lidstaten, in afwachting van een sterkereharmonisering, het recht controles te verrichten op de overdracht
van bepaalde producten voor tweeërlei gebruik binnen de
Europese Gemeenschap teneinde het overheidsbeleid en deopenbare veiligheid te waarborgen. Indien deze controles verbandhouden met de doelmatigheid van de controle op uitvoer uit deGemeenschap, zullen ze door de Raad regelmatig wordengeëvalueerd.
(13) Om de correcte toepassing van deze verordening te waarborgen,dient elke lidstaat maatregelen te nemen om de bevoegdeautoriteiten passende bevoegdheden te verlenen.
(14) Elke lidstaat dient de bij inbreuk op deze verordening toe te
passen sancties vast te stellen.
(15) Het Europees Parlement heeft zijn opvattingen kenbaar gemaakt
in zijn resolutie van 13 april 1999 (3).
(16) Gezien hetvoorgaande dientVerordening (EG) nr. 3381/94 t e
worden ingetrokken,
HEEFT DE VOLGENDE VERORDENING VASTGESTELD:
HOOFDSTUK I
Voorwerp en definities
Artikel 1
Bij deze verordening wordt een communautaire regeling ingesteld voor
de controle op de uitvoer van producten voor tweeërlei gebruik.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 3
(1) PB L 302 van 19.10.1992, blz. 1. Verordening laatstelijk gewijzigd bij
Verordening (EG) nr. 955/1999 van hetEuropees Parlementen de Raad (PB
L 119 van 7.5.1999, blz. 1).
(2) PB L 253 van 11.10.1993, blz. 1. Verordening laatstelijk gewijzigd bij
Verordening (EG) nr. 1662/1999 (PB L 197 van 29.7.1999, blz. 25).
(3) PB C 219 van 30.7.1999, blz. 34.
▼B
Artikel 2
In deze verordening wordtverst aan onder:
a) „producten voor tweeërlei gebruik”: producten, met inbegrip van
programmatuur en technologie, die zowel een civiele als een militairebestemming kunnen hebben, met inbegrip van alle goederen die voor
niet-explosieve doeleinden gebruikt kunnen worden en op enige
manier bijdragen in de vervaardiging van nucleaire wapens of anderenucleaire explosiemiddelen;
b) „uitvoer”:
i) een uitvoerregeling overeenkomstig artikel 161 van het commu-
nautair douanewetboek;
ii) wederuitvoer overeenkomstig artikel 182 van het communautair
douanewetboek, en
iii) de overdracht van programmatuur of technologie door middel
van elektronische media, faxapparaten of telefoon naar eenbestemming buiten de Gemeenschap; dit geldt uitsluitend voormondelinge overdracht van technologie via de telefoon wanneerde technologie is vervat in een document en het betrokken
gedeelte van het document via de telefoon wordt voorgelezen, of
via de telefoon op dusdanige wijze wordt beschreven dat inwezen hetzelfde resultaat wordt bereikt;
c) „exporteur”: elke natuurlijke persoon of rechtspersoon namens welke
een douaneaangifte bij uitvoer wordt gedaan, d.w.z. de persoon die
op het tijdstip dat de aangifte wordt aanvaard, het contract met de
ont vanger in hetderde land heeften die hetrechtheeftt e beslissendat het product naar een bestemming buiten het douanegebied van deGemeenschap wordtverzonden. Indien geen uit voercont ractisgesloten of indien de houder van het contract niet namens zichzelf
handelt, is het recht om te beslissen het product naar een bestemming
buiten het douanegebied van de Gemeenschap te verzenden,bepalend.
Onder „exporteur” wordt tevens verstaan iedere natuurlijke of
rechtspersoon die besluit programmatuur of technologie via elektro-
nische media, faxapparaten of telefoon naar een bestemming buiten
de Gemeenschap te zenden.
Indien het recht over de producten voor tweeërlei gebruik te
beschikken toekomt aan een persoon die blijkens het contract waarop
de uitvoer berust, buiten de Gemeenschap is gevestigd, wordt de
exporteur geacht de in de Gemeenschap gevestigde contracterendepartij te zijn;
d) „uitvoeraangifte”: de handeling waarmee een persoon in de vorm en
op de wijze die zijn voorgeschreven, de wens te kennen geeft
producten voor tweeërlei gebruik onder een uitvoerregeling tebrengen.
HOOFDSTUK II
Toepassingsgebied
Artikel 3
1. Voor de uitvoer van de producten voor tweeërlei gebruik die
voorkomen op de lijstin bijlage I is een vergunning vereist .
2. Overeenkomstig artikel 4 of artikel 5 kan ook een vergunning
worden geëist voor de uitvoer naar alle of bepaalde bestemmingen vanbepaalde producten voor tweeërlei gebruik die niet op de lijst van bijlage
I voorkomen.
3. Deze verordening is niet van toepassing op het verrichten van
diensten noch op de overdracht van technologie indien deze verrichtingof overdrachtgepaard gaatmeteen grensoverschrijding door nat uurlijkepersonen.
4. Deze verordening is niet van toepassing op producten voor
tweeërlei gebruik die slechts worden doorgevoerd over het grondgebiedvan de Gemeenschap; ditzijn goederen die geen andere douanebest em-2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 4
▼B
ming dan extern communautair douanevervoer hebben of die enkel in
een vrije zone of in een vrij entrepot worden opgeslagen en waarvangeen goedgekeurde voorraadadministratie hoeft te worden gehouden.
Artikel 4
1. Voor de uitvoer van producten voor tweeërlei gebruik die niet op
de lijstin bijlage I voorkomen, is een uit voervergunning vereistindien
de exporteur door de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waar hij isgevestigd, is medegedeeld dat de producten in kwestie geheel ofgedeeltelijk bestemd zijn of kunnen zijn voor gebruik in verband met deontwikkeling, de productie, de behandeling, de bediening, het onder-
houd, de opslag, de opsporing, de herkenning of de verspreiding van
chemische, biologische of nucleaire wapens of andere nucleaireexplosiemiddelen, of voor de ontwikkeling, de productie, het onderhoudof de opslag van raketten die dergelijke wapens naar hun doel kunnenvoeren.
2. Voor de uitvoer van producten voor tweeërlei gebruik die niet op
de lijstin bijlage I voorkomen, is een uit voervergunning vereistindienop hetkopende land of hetland van best emming een wapenembargo rustwaartoe besloten is in een door de Raad aangenomen gemeenschappelijk
standpunt of gemeenschappelijk optreden of een besluit van de OVSE,
dan wel een wapenembargo uithoofde van een bindende resolut ie vande Veiligheidsraad van de Verenigde Naties, en indien de exporteur doorde in lid 1 bedoelde autoriteiten is medegedeeld dat de producten geheelof gedeeltelijk bestemd zijn of kunnen zijn voor militair eindgebruik. Indit lid wordt verstaan onder „militair eindgebruik”:
a) de verwerking in militaire producten die voorkomen op de militaire
lijsten van de lidstaten;
b) het gebruik van productie-, test- of onderzoeksapparatuur en
onderdelen daarvan, voor de ontwikkeling, de productie of hetonderhoud van militaire producten die op de voornoemde lijsten
voorkomen;
c) het gebruik van onafgewerkte producten in een fabriek voor de
fabricage van militaire producten die op de voornoemde lijstenvoorkomen.
3. Voor de uitvoer van producten voor tweeërlei gebruik die niet op
de lijstin bijlage I voorkomen, is eveneens een vergunning vereist
indien de exporteur door de in lid 1 bedoelde autoriteiten ismedegedeeld dat de betrokken producten geheel of gedeeltelijk bestemdzijn of kunnen zijn om te worden gebruikt als onderdelen ofcomponenten van militaire producten die op de nationale militaire lijst
voorkomen en die vanaf het grondgebied van die lidstaat zijn uitgevoerd
zonder vergunning of met schending van de in de nationale wetgevingvan die lidstaat voorgeschreven vergunning.
4. Indien een exporteur er kennis van draagt dat producten voor
tweeërlei gebruik welke hij wenst uit te voeren en die niet op de lijst van
bijlage I voorkomen, geheel of ten dele bestemd zijn voor een van de inde leden 1, 2 en 3 genoemde doeleinden, dienthij ditmede t e delen aande in lid 1 bedoelde autoriteiten, die besluiten of het dienstig is dat voorde betrokken uitvoer een vergunning wordt vereist.
5. Een lidstaat kan nationale wetgeving aannemen of handhaven
waarbij voor de uitvoer van goederen voor tweeërlei gebruik die niet opde lijstvan bijlage I voorkomen, een vergunning wordtvereistindien deexporteur een gefundeerd vermoeden heeft dat de producten geheel of
gedeeltelijk bestemd zijn of kunnen zijn voor een of meer van de in lid 1
genoemde gebruiken.
6. Een lidstaat die overeenkomstig het bepaalde in de leden 1 tot en
met5 een vergunning eistvoor de uit voer van een nietop de lijstin
bijlage I voorkomend product voor tweeërlei gebruik stelt de anderelidstaten en de Commissie daarvan in voorkomend geval in kennis. Deandere lidstaten houden terdege rekening met deze informatie en stellenhun douanekantoren en andere terzake bevoegde nationale autoriteitenin de mate van het mogelijke daarvan in kennis.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 5
▼B
7. Artikel 9, leden 2 en 3, zijn van toepassing in gevallen van niet op
de lijst in bijlage I voorkomende producten voor tweeërlei gebruik.
8. Deze verordening laatonverlethetrechtvan een lidst aatom
nationale maatregelen vast te stellen krachtens artikel 11 van Verorde-ning (EEG) nr. 2603/69.
Artikel 5
1. Een lidstaat kan om redenen van openbare veiligheid of uit
mensenrechtenoverwegingen een verbod instellen op of een vergunningverplicht stellen voor de uitvoer van producten voor tweeërlei gebruikdie nietop de lijstvan bijlage I voorkomen.
2. De lidstaten brengen de krachtens lid 1 genomen maatregelen,
zodra deze zijn aangenomen, ter kennis van de Commissie, ondervermelding van de exacte redenen daarvoor.
3. De lidstaten stellen de Commissie tevens onverwijld in kennis van
eventuele wijzigingen van de krachtens lid 1 genomen maatregelen.
4. De Commissie maaktde maat regelen waarvan haar overeenkom-
stig de leden 2 en 3 kennis is gegeven, bekend in de C-serie van hetPublicatieblad van de Europese Gemeenschappen .
HOOFDSTUK III
Uitvoervergunning
Artikel 6
1. Bij deze verordening wordt voor bepaalde soorten uitvoer een
communautaire algemene uitvoervergunning als bedoeld in bijlage IIingesteld.
2. Voor elke andere uitvoer waarvan uit hoofde van deze verordening
een vergunning vereistis, wordtde vergunning in kwest ie afgegeven
door de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteurgevestigd is. Onder voorbehoud van de beperking in lid 3, kan devergunning een individuele, een globale of een algemene vergunningzijn.
De vergunning is in de gehele Gemeenschap geldig.
Aan de vergunning kunnen in voorkomend geval bepaalde vereisten en
voorwaarden worden verbonden, zoals een verplichting om een verkla-ring betreffende het eindgebruik af te geven.
3. Producten in deel 2 van bijlage II worden niet opgenomen in een
algemene vergunning.
4. De lidstaten geven in algemene vergunningen aan dat deze niet
mogen worden gebruikt indien de exporteur door zijn autoriteiten is
medegedeeld dat de producten in kwestie geheel of gedeeltelijk bestemdzijn of kunnen zijn voor gebruik als bedoeld in artikel 4, de leden 1, 2 en3, of indien de exporteur er kennis van draagt dat de producten bestemdzijn voor de bovengenoemde doeleinden.
5. De lidstaten handhaven of scheppen in hun nationale wetgeving de
mogelijkheid om aan een specifieke exporteur voor een type of categorieproducten voor tweeërlei gebruik een globale vergunning te verlenen dievoor uitvoer naar één of meer met name genoemde landen geldig kanzijn.
6. De lidstaten verstrekken de Commissie een lijst van de tot
verlening van uitvoervergunningen voor producten voor tweeërleigebruik gemachtigde autoriteiten.
De Commissie maakt de lijst van deze autoriteiten bekend in de C-serie
van hetPublicatieblad van de Europese Gemeenschappen .
Artikel 7
1. Indien de producten voor tweeërlei gebruik waarvoor een
individuele uitvoervergunning voor een niet in de lijst van bijlage II2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 6
▼B
vermelde bestemming, of, in het geval van in de lijst van bijlage IV
vermelde producten, voor een andere bestemming dan die waarvoor devergunning is aangevraagd, zich in een of meer lidstaten bevinden,
wordt dat gegeven in de aanvraag vermeld. De bevoegde autoriteiten
van de lidstaat waar de vergunning wordt aangevraagd, tredenonverwijld in overleg met de bevoegde autoriteiten van de betrokkenlidstaat of lidstaten en verstrekken alle terzake dienende informatie. Degeraadpleegde lidstaat of lidstaten maken eventuele bezwaren tegen de
afgifte van een dergelijke vergunning binnen tien werkdagen kenbaar.
Deze bezwaren zijn bindend voor de lidstaat waar de vergunning isaangevraagd.
Indien binnen tien werkdagen geen bezwaren worden ontvangen, wordt
de geraadpleegde lidstaat of worden de geraadpleegde lidstaten geachtgeen bezwaar te hebben.
In uitzonderlijke gevallen kan een geraadpleegde lidstaat om verlenging
van de termijn van tien dagen verzoeken. De verlenging mag evenwelnietmeer dan dert ig werkdagen bedragen.
2. Indien een uitvoer zijn wezenlijke veiligheidsbelangen zou kunnen
schaden, kan een lidstaat een andere lidstaat verzoeken geen uitvoer-
vergunning te verlenen of, indien deze reeds is verleend, die vergunning
nietig te verklaren, op te schorten, te wijzigen of in te trekken. Delidstaat die een dergelijk verzoek ontvangt, treedt met de verzoekendelidstaat onverwijld in overleg van niet bindende aard, welk overlegbinnen tien werkdagen dient te worden afgerond.
Artikel 8
Bij hun besluital dan nieteen uit voervergunning uithoofde van deze
verordening te verlenen, houden de lidstaten rekening met alle terzake
dienende overwegingen, waaronder:
a) de verplichtingen en verbintenissen waarmee ieder van hen heeft
ingestemd als partij bij de internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van dedesbetreffende internationale verdragen;
b) hun verplichtingen in het kader van sancties uit hoofde van een door
de Raad vastgesteld gemeenschappelijk standpunt of gemeenschap-pelijk optreden of uit hoofde van een besluit van de OVSE, dan wel
krachtens een bindende resolutie van de Veiligheidsraad van de
Verenigde Naties;
c) overwegingen van nationaal buitenlands en veiligheidsbeleid, met
inbegrip van overwegingen uithoofde van de Gedragscode van de
Europese Unie betreffende wapenuitvoer;
d) overwegingen omtrent het voorgenomen eindgebruik en het onttrek-
kingsgevaar.
Artikel 9
1. De exporteurs verstrekken de bevoegde autoriteiten alle voor hun
vergunningaanvraag vereiste relevante gegevens.
2. De bevoegde autoriteiten kunnen, overeenkomstig deze verorde-
ning handelend, weigeren een uitvoervergunning te verlenen en eenreeds verleende uitvoervergunning nietig verklaren, opschorten,wijzigen of intrekken. Ingeval zij een vergunning weigeren, nietig
verklaren, opschorten, wezenlijk beperken of intrekken, stellen zij de
bevoegde autoriteiten van de andere lidstaten en de Commissie daarvanin kennis en wisselen zij met de andere lidstaten en met de Commissierelevante gegevens uit, met inachtneming van het bepaalde in artikel 15,lid 3, betreffende het vertrouwelijke karakter.
3. Alvorens een lidstaat een vergunning verleent welke in de
voorafgaande drie jaar door een andere lidstaat of lidstaten voor eenwezenlijk identieke transactie is gewijzigd, pleegt deze lidstaat eerstoverleg met de lidstaat of lidstaten die de vergunning heeft/hebbengeweigerd. Indien de lidstaat na overleg toch besluit een vergunning teverlenen, stelt hij de andere lidstaten en de Commissie daarvan op de2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 7
▼B
hoogte en verstrekt hij daarbij alle relevante informatie om het besluit
toe te lichten.
Artikel 10
1. Alle individuele en globale uitvoervergunningen worden afge-
geven op formulieren die overeenstemmen met het model in bijlage III
a.
2. Op verzoek van de exporteurs worden globale uitvoervergun-
ningen die kwantitatieve beperkingen inhouden, gesplitst.
3. Algemene uitvoervergunningen uit hoofde van artikel 6, lid 2,
worden overeenkomstig de nationale wetten en praktijken bekendge-maakt. Zij worden afgegeven volgens de aanwijzingen in bijlage III b.
HOOFDSTUK IV
Bijwerking van lijsten van producten voor tweeërlei gebruik
Artikel 11
De lijsten van producten voor tweeërlei gebruik in de bijlagen I en IV
worden bijgewerkt overeenkomstig de desbetreffende verplichtingen en
verbintenissen en alle wijzigingen daarin waarmee een lidstaat heeftingestemd als partij bij de internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van desbe-treffende internationale verdragen.
HOOFDSTUK V
Douaneprocedures
Artikel 12
1. Bij het vervullen van de formaliteiten voor de uitvoer van
producten voor tweeërlei gebruik bij het voor de behandeling voor de
uitvoeraangifte bevoegde douanekantoor levert de exporteur het bewijsdatvoor de uit voer naar behoren een vergunning is verleend.
2. Van de exporteur kan van de als bewijs verstrekte bescheiden een
vertaling worden geëist in een officiële taal van de lidstaat waar deaangifte wordt overgelegd.
3. Onverminderd de bevoegdheden die hem uithoofde van en
overeenkomstig het communautair douanewetboek zijn verleend, kan
een lidstaat tevens voor een periode van ten hoogste de in lid 4 vermeldeperioden de uitvoer vanaf zijn grondgebied van de in bijlage I vermeldeproducten voor tweeërlei gebruik waarvoor een geldige uitvoervergun-ning werd afgegeven, opschorten of, indien nodig, op andere wijze
verhinderen datdeze product en de Gemeenschap via zijn grondgebied
verlaten, indien hij een gegrond vermoeden heeft dat
a) bij de vergunningverlening geen rekening is gehouden metrelevant e
gegevens, of
b) sedertde vergunningverlening de omst andigheden wezenlijk zijn
veranderd.
4. In het in lid 3 bedoelde geval worden de bevoegde autoriteiten van
de lidstaat die de uitvoervergunning hebben verleend, onverwijldgeraadpleegd, zodat zij overeenkomstig artikel 9, lid 2, maatregelenkunnen treffen. Indien deze bevoegde autoriteiten besluiten de vergun-ning te handhaven, antwoorden zij binnen tien werkdagen, welke termijnin uitzonderlijke omstandigheden op hun verzoek mag worden verlengd
tot dertig werkdagen. In dat geval, of indien, naar gelang van het geval,
binnen tien of dertig werkdagen geen antwoord is ontvangen, worden deproducten voor tweeërlei gebruik onverwijld vrijgegeven. De lidstaatwelke de vergunning heeft verleend stelt de andere lidstaten en deCommissie hiervan in kennis.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 8
▼B
Artikel 13
1. De lidstaten kunnen bepalen dat douaneformaliteiten voor de
uitvoer van producten voor tweeërlei gebruik slechts bij daartoe bevoegdverklaarde douanekantoren mogen worden vervuld.
2. Wanneer zij gebruikmaken van de in lid 1 geboden mogelijkheid,
delen de lidstaten de Commissie mede welke douanekantoren aldus
bevoegd zijn verklaard. De Commissie maaktdeze informat ie bekend in
de C-serie van het Publicatieblad van de Europese Gemeenschappen .
Artikel 14
►
M3Het bepaalde in artikel 843 en de artikelen 912 bis tot en met 912
octies van Verordening (EEG) nr. 2454/93 ◄is van toepassing op de
beperkingen ten aanzien van de uitvoer, de wederuitvoer en het vertrekuit het douanegebied van producten voor tweeërlei gebruik voor deuitvoer waarvan uit hoofde van deze verordening een vergunning vereistis.
HOOFDSTUK VI
Administratieve samenwerking
Artikel 15
1. In verbinding met de Commissie treffen de lidstaten alle dienstige
maatregelen om een rechtstreekse samenwerking en uitwisseling vaninformatie tussen de bevoegde autoriteiten te bewerkstelligen, in hetbijzonder om te voorkomen dat als gevolg van eventuele verschillen bijde toepassing van de controles op de uitvoer van producten voor
tweeërlei gebruik het handelsverkeer wordt verlegd, waardoor voor één
of meer lidstaten moeilijkheden zouden kunnen ontstaan.
2. De lidstaten nemen alle dienstige maatregelen om een recht-
streekse samenwerking en uitwisseling van informatie tussen debevoegde autoriteiten over gevoelige eindgebruikers tot stand te
brengen, teneinde te bewerkstelligen dat voor alle exporteurs waarop
deze vergunning van toepassing is, dezelfde leidraden gelden.
3. Onverminderd artikel 18 van deze verordening zijn de bepalingen
van Verordening (EG) nr. 515/97 van de Raad van 13 maart1997
betreffende de wederzijdse bijstand tussen de administratieve auto-
riteiten van de lidstaten en de samenwerking tussen deze autoriteiten ende Commissie met het oog op de juiste toepassing van de douane- enlandbouwvoorschriften (
1), en metname de bepalingen bet reffende het
vertrouwelijke karakter van bepaalde gegevens, van overeenkomstigetoepassing.
HOOFDSTUK VII
Controlemaatregelen
Artikel 16
1. De exporteurs houden volgens de in hun lidstaat gebruikelijke
methoden gedetailleerde registers of dossiers van hun uitvoer bij. Dezeregisters of dossiers bevatten met name de handelsbescheiden, zoalsfacturen, manifesten, vrachtbrieven of andere vervoersdocumenten,
waarin voldoende gegevens voorkomen voor de vaststelling van:
a) de omschrijving van de producten voor tweeërlei gebruik,
b) de hoeveelheid producten voor tweeërlei gebruik,
c) naam en adres van de exporteur en van de ontvanger,
d) indien bekend, heteindgebruik en de eindgebruiker van de product en
voor tweeërlei gebruik.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 9
(1) PB L 82 van 22.3.1997, blz. 1.
▼B
2. De in lid 1 bedoelde registers of dossiers en bescheiden worden
bewaard gedurende ten minste drie jaar na het einde van het kalenderjaarwaarin de uitvoer is geschied. Zij worden op verzoek van de bevoegde
autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur gevestigd is, aan hen
voorgelegd.
Artikel 17
Om de correcte toepassing van deze verordening te waarborgen, nemen
de lidstaten alle nodige maatregelen om hun bevoegde autoriteiten instaat te stellen:
a) gegevens te verzamelen over elke, met producten voor tweeërlei
gebruik verband houdende order of transactie;
b) na te gaan of de uitvoercontrolemaatregelen op de juiste wijze
worden toegepast, hetgeen met name de bevoegdheid kan omvatten
tot betreding van de bedrijfsruimten van de bij een uitvoertransactiebelang hebbende personen.
HOOFDSTUK VIII
Algemene en slotbepalingen
Artikel 18
1. Er wordt een coördinatiegroep ingesteld waarvan het voorzitter-
schap door een vertegenwoordiger van de Commissie wordt bekleed.Elke lidstaat wijst in deze coördinatiegroep een vertegenwoordiger aan.
De coördinatiegroep heeft tot taak elk vraagstuk in verband met de
toepassing van deze verordening te onderzoeken, dat door de voorzitter
of door een vertegenwoordiger van een lidstaat aan de orde wordtgesteld, onder andere:
a) gaat zij na welke maatregelen de lidstaten dienen te nemen om de
exporteurs van hun verplichtingen uit hoofde van deze verordening in
kennis te stellen;
b) onderzoektzij de leidraden voor de uit voervergunningsformulieren.
2. De coördinatiegroep kan telkens wanneer zij dit nodig acht de
representatieve organisaties raadplegen die de door deze verordening
bestreken exporteurs vertegenwoordigen.
Artikel 19
Elke lidstaat treft passende maatregelen om de correcte toepassing van
alle bepalingen van deze verordening te waarborgen en stelt met namede bij inbreuk op deze verordening en van de bepalingen ter uitvoering
daarvan op te leggen sancties vast. Deze sancties dienen doeltreffend,
evenredig en afschrikkend te zijn.
Artikel 20
Elke lidstaat stelt de Commissie in kennis van de voor de uitvoering van
deze verordening vastgestelde wettelijke en bestuursrechtelijke bepa-lingen, met inbegrip van de in artikel 19 bedoelde maatregelen. De
Commissie deelt deze inlichtingen aan de andere lidstaten mede. Zij legt
hetEuropees Parlementen de Raad om de drie jaar een verslag voorover de toepassing van deze verordening. De lidstaten verstrekken deCommissie alle dienstige informatie die zij voor de opstelling van ditverslag behoeft.
Artikel 21
1. Voor de intracommunautaire overbrenging van producten voor
tweeërlei gebruik van de lijst in bijlage IV is een vergunning vereist.Producten van de lijst in deel 2 van bijlage IV vallen niet onder eenalgemene vergunning.
2. a) Een lidstaat kan een vergunningsvereiste instellen voor de
overbrenging van andere producten voor tweeërlei gebruik van2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 10
▼B
zijn grondgebied naar een andere lidstaat indien op het tijdstip van
de overbrenging:
— de exporteur weet dat de eindbestemming van die producten
buiten de Gemeenschap ligt;
— voor de export van de producten naar die eindbestemming in
de lidstaat waaruit de producten moeten worden uitgevoerd,een vergunning vereist is krachtens artikel 3, 4 of 5 en dezeexport, rechtstreeks vanaf zijn grondgebied, niet is toegestaanbij een algemene of globale vergunning;
— op de producten geen handeling uit artikel 24 van het
communautair douanewetboek hoeft te worden verricht in delidstaat waarnaar de producten zullen worden overgebracht.
b) De overbrengingsvergunning moetworden aangevraagd in de
lidstaat van waaruit de goederen voor tweeërlei gebruik zullenworden overgebracht.
c) In gevallen waarin de export van producten voor tweeërlei gebruik
reeds door de lidstaat van waaruit de producten zullen wordenuitgevoerd, is aanvaard in de overlegprocedures van artikel 7,wordtde overbrengingsvergunning onmiddellijk aan de export eurafgegeven, tenzij de omstandigheden drastisch zijn veranderd.
d) Een lidstaat die wetgeving aanneemt welke in een dergelijk
vereiste voorziet, brengt de Commissie en de overige lidstaten opde hoogte van de maatregelen die hij heeft genomen. DeCommissie maaktdeze informat ie bekend in de C-serie van hetPublicatieblad van de Europese Gemeenschappen .
3. De maatregelen krachtens de leden 1 en 2 geven geen aanleiding
tot controles aan de binnengrenzen van de Gemeenschap, maar vergen
slechts controles die in het kader van de normale, op niet-discrimine-rende wijze over hetgehele grondgebied van de Gemeenschapuitgevoerde controleprocedures passen.
4. De toepassing van de maatregelen van de leden 1 en 2 mag er in
geen geval toe leiden dat voor overbrenging van de ene lidstaat naar deandere strengere voorwaarden gelden dan voor de export van dezelfde
producten naar derde landen.
5. De bescheiden en dossiers in verband met intracommunautaire
overbrengingen van de in de lijstvan bijlage I vermelde product en voortweeërlei gebruik worden gedurende ten minste drie jaar na afloop vanhetjaar waarin de overbrenging is geschied, bewaard en dienen opverzoek van de bevoegde autoriteiten van de lidstaat van waaruit die
producten werden overgebracht, aan hen te worden voorgelegd.
6. Een lidstaat kan bij nationale wetgeving vereisen dat voor
intracommunautaire overbrengingen vanuit die lidstaat van productenvan bijlage I, categorie 5, deel 2, die niet in bijlage IV voorkomen, aande bevoegde autoriteiten van die lidstaat aanvullende informatie over debetrokken producten wordt verstrekt.
7. In relevante handelsbescheiden die betrekking hebben op de
overbrenging binnen de Gemeenschap van in de lijstvan bijlage I
vermelde producten voor tweeërlei gebruik dient duidelijk te worden
vermeld dat die producten bij uitvoer uit de Gemeenschap aan controleworden onderworpen. De relevante handelsbescheiden omvatten metname een verkoopcontract, een orderbevestiging, een factuur of eenverzendingsborderel.
Artikel 22
Deze verordening laatonverlet :
— de toepassing van artikel 296 van het Verdrag tot oprichting van de
Europese Gemeenschap;
— de toepassing van het Verdrag tot oprichting van de Europese
Gemeenschap voor Atoomenergie.
Artikel 23
Verordening (EG) nr. 3381/94 wordtinget rokken.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 11
▼B
Voor de vergunningsaanvragen die vóór de datum van inwerkingtreding
van de onderhavige verordening werden ingediend, blijven evenwel dedesbetreffende bepalingen van Verordening (EG) nr. 3381/94 van
toepassing.
Artikel 24
Deze verordening treedt in werking negentig dagen na de bekendmaking
ervan in het Publicatieblad van de Europese Gemeenschappen .
Deze verordening is verbindend in al haar onderdelen en is rechtstreeks
toepasselijk in elke lidstaat.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 12
▼M3
BIJLAGE I
LIJST VAN PRODUCTEN EN TECHNOLOGIE VOOR TWEEËRLEI
GEBRUIK
(bedoeld in artikel 3 van Verordening (EG) nr. 1334/2000)
Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen
vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei gebruik, waaronder het
Wassenaar Arrangement, het "Missile Technology Control Regime", de Groep
van nucleaire exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische
wapens. Er is geen rekening gehouden met eventuele posten die lidstaten op een
exclusion list wensen te plaatsen. Er is geen rekening gehouden met eventuele
nationale vergunningsregelingen (niet onder deze regeling vallende embargo's)
van de lidstaten.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 13
▼M3
ALGEMENE NOTEN BIJ BIJLAGE I
1. Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of aangepast
voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan
vergunningsplichtonderworpen milit aire goederen van de afzonderlijke
lidstaten. Verwijzingen in deze bijlage naar de "Lijst militaire goederen"
hebben betrekking op deze lijst.
2. De doelstelling van de controle op de uitvoer van de goederen, vermeld in
deze bijlage, mag nietworden omzeild door de uit voer van nietaan
vergunningsplichtonderworpen goederen (metinbegrip van fabrieken) die een
of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze
onderdelen hetvoornaamst e elementvan de goederen vormen en gemakkelijk
kunnen worden verwijderd of voor andere doeleinden worden aangewend.
Noot: Bij de beoordeling van de vraag of de aan vergunningsplicht
onderworpen onderdelen als voornaamste element dienen te worden
aangemerkt, dienen factoren als hoeveelheid, waarde en technolo-
gische knowhow alsmede andere bijzondere omstandigheden op
grond waarvan de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen
als voornaamste element van de geleverde goederen kunnen worden
aangemerkt, een rol te spelen.
3. Metgoederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikt e goederen
bedoeld.
NUCLEAIRE TECHNOLOGIENOOT (NTN)
(Te lezen in samenhang met sectie E van categorie 0)
De "technologie" die rechtstreeks samenhangt met goederen die in categorie 0
vallen, valtonder de bepalingen van cat egorie 0.
"Technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van aan
vergunningsplichtonderworpen goederen is ook aan vergunningsplichtonder-
worpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht
onderworpen goederen.
Het verlenen van een uitvoervergunning voor goederen houdt tevens in dat de
uitvoer naar dezelfde eindgebruiker van de minimaal noodzakelijke "technologie"
voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van de goederen is toegestaan.
Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepas-
sing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, en op "fundamenteel
wetenschappelijk onderzoek".
ALGEMENE TECHNOLOGIENOOT (ATN)
(Te lezen als onderdeel van sectie E van de categorieën 1 tot en met 9)
De uitvoer van "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling",
"productie" of het "gebruik" van in de categorieën 1 tot en met 9 bedoelde
goederen is onderworpen aan de op de categorieën 1 tot en met 9 van toepassing
zijnde bepalingen.
"Technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het
"gebruik" van aan vergunningsplichtonderworpen goederen is ook aan vergun-
ningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan
vergunningsplichtonderworpen goederen.
De vergunningsplichtgeldtnietvoor de minimaal noodzakelijke "t echnologie"
voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van niet onder de vergun-
ningsplichtvallende goederen of op de goederen waarvan de uit voer is
toegestaan.
Noot: Deze bepaling laat de embargostatus van de in 1E002.e, 1E002.f,
8E002.a en 8E002.b bedoelde "technologie" onverlet.
Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepas-
sing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, op "fundamenteel
wetenschappelijk onderzoek" en op de voor octrooiaanvragen noodzakelijke
minimuminformatie.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 14
▼M3
ALGEMENE PROGRAMMATUURNOOT (APN)
(Deze noot heeft voorrang boven het bepaalde in sectie D van de categorieën 0 tot
en met9)
De categorieën 0 tot en met 9 van deze lijst zijn niet van toepassing op
programmatuur die:
a. algemeen voor hetpubliek verkrijgbaar is doordatde "programmat uur":
1. via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via:
a. winkelverkoop;
b. postorderverkoop, of
c. telefonische verkoop, en
2. is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke
ondersteuning van de leverancier, of
Noot: Punt a) van de Algemene programmatuurnoot laat de embargostatus
van de in categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging), bedoelde
"programmatuur" onverlet.
b. "voor iedereen beschikbaar" is.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 15
▼M3
DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN
De definitie van termen tussen 'enkele aanhalingstekens' wordt gegeven in een
technische noot bij de betrokken post.
De definitie van de termen tussen "dubbele aanhalingstekens" luidt als volgt:
Noot: Na elke gedefinieerde term wordt tussen haakjes verwezen naar de
betrokken categorie(ën).
"Aangepast voor gebruik in oorlogssituaties" (1): iedere aanpassing of selectie
(zoals een wijziging van de zuiverheid, houdbaarheid, virulentie, verspreidings-
kenmerken, of weerstand tegen UV-straling) die tot doel heeft de werkzaamheid
te verhogen ten aanzien van menselijke of dierlijke slachtoffers, schade aan
uitrusting of aan gewassen, en aantasting van het milieu.
"Actieve pixel" (6 8): het kleinste (afzonderlijke) element van de halfgeleider-
"array" dat nog een foto-elektrische overdrachtsfunctie vervult bij blootstelling
aan elektromagnetische straling (licht).
"Actieve vluchtregelsystemen" (7): actieve vluchtregelsystemen werken zodanig
dat ongewenste bewegingen of structurele belastingen van "vliegtuig" of raket
kunnen worden voorkomen door de onafhankelijke verwerking van signalen van
meerdere sensoren waarna preventieve commando's voor automatische regeling
worden gegeven.
"Adaptieve besturing" (2): een besturingssysteem dat de reactie aanpast op basis
van tijdens de bewerking geconstateerde omstandigheden. (Referentie: ISO 2806-
1980)
"Aërodynamische vlakken metvariabel profiel" (7): deze worden verkregen door
flappen aan de achterrand of aan de voorrand of door een naar beneden knikkende
voorrand, welke tijdens de vlucht bestuurd kunnen worden.
"Afstembaar" (6): het vermogen van een "laser" om binnen een gebied van
verschillende "laser"-overgangen bij elke golflengte een continu-vermogen op te
wekken. Een laser die slechts kan werken op een beperkt aantal vaste golflengten
(«line selectable») wekt discrete golflengten op binnen één "laser"-overgang en
wordtnietbeschouwd als "afst embaar".
"Asymmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie
een andere wiskundige sleutel wordt gebruikt dan voor decryptie.
Noot: Voor sleutelbeheer worden gewoonlijk "asymmetrische algoritmen"
gebruikt.
"Asynchrone transfer modus" (ATM) (5): een transfermodus waarbij de
informatie is geordend in cellen; deze is asynchroon in die zin dat de manier
waarop de cellen zich herhalen afhankelijk is van de vereiste of momentele
bitsnelheid.
"ATM": "asynchrone transfer modus"."Automatisch volgen van het doel" (6): een verwerkingstechniek waarbij
automatisch en tijdgebonden een geëxtrapoleerde waarde van de meest
waarschijnlijke positie van het doel wordt bepaald en als uitgangssignaal
afgegeven.
"Axiale slag" (2): axiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil,
gemeten in een vlak loodrecht op de stelplaat van de spil aan een punt dat grenst
aan de omtrek van de stelplaat van de spil. (Referentie: ISO 230, deel 1-1986,
paragraaf 5.63)
"Band" (1): een materiaal dat bestaat uit in elkaar gevlochten of in één richting
liggende "monofilamenten", 'strengen', «rovings», "linten" of "garens", enz.,
gewoonlijk geïmpregneerd methars.
Noot: "Streng": een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die
ongeveer parallel lopen.
"Beeldverbetering" (4): het verwerken van elders verkregen informatiedragende
beelden met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie,
selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bv. de snelle
Fourier-transformatie («fast Fourier transform») of de Walsh transformatie
(«Walsh transform»)). Hieronder zijn niet begrepen algoritmen die slechts
lineaire of draaiende omzettingen op een enkel beeld toepassen, zoals
verschuivingen, extractie van specifieke kenmerken, registratie of het vals
kleuren.
"Bias" (versnellingsmeters) (7): uitgangssignaal van een versnellingsmeter bij
afwezigheid van versnelling.
"Binnenbekleding" (9): de hechtlaag tussen de vaste stuwstof en de omhulling of
isolerende bekleding. Doorgaans een op vloeibare polymeren gebaseerde
dispersie van hittebestendige of isolerende materialen, bv. polybutadieen met
hydroxy-eindgroep (HTPB) met koolstof als vulmateriaal of een andere polymeer2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 16
▼M3
waaraan hardingsmiddelen zijn toegevoegd, waarmee het inwendige van een
omhulling wordt gespoten of bestreken.
"Broncode" (of brontaal) (4 5 6 7 9): een geschikte expressie van één of meer
processen, die door een programmeersysteem kan worden omgezet in een door
apparatuur uitvoerbare vorm ("objectcode" (of doeltaal)).
"CE": rekenelement (computing element).
"CEP" (circle of equal probability — 50 %-trefkanscirkel) (7): een maat voor de
nauwkeurigheid; de st raal van de cirkel methetdoel in hetmiddelpuntbij een
bepaald bereik waarbinnen 50 % van de nuttige ladingen terechtkomen.
"Chemische laser" (6): een "laser" waarin de geëxciteerde stof wordt
geproduceerd door de door een chemische reactie voortgebrachte energie.
"Chemisch mengsel" (1): een vast, vloeibaar of gasvormig product dat bestaat uit
twee of meer bestanddelen die niet samen reageren onder de omstandigheden
waarin hetmengsel is opgeslagen.
"Civiele vliegtuigen" (1 7 9): die types "vliegtuigen" die als zodanig zijn
aangeduid in gepubliceerde overzichten van luchtwaardigheidsbewijzen van de
civiele luchtvaartautoriteiten voor het vliegen van commerciële binnenlandse en
buitenlandse lijnen of voor wettig civiel, privé- of zakelijk gebruik.
Noot: Zie ook "vliegtuigen".
"Communicatiekanaalbesturingseenheid" (4): de fysieke verbinding die de stroom
synchrone of asynchrone digitale informatie bestuurt. Deze bestaat uit een
samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden
geïntegreerd teneinde toegang tot de communicatie te verschaffen.
"Composiet" (1 2 6 8 9): een "matrix" en een of meer toegevoegde fasen
bestaande uit deeltjes, whiskers, vezels of iedere combinatie daarvan, aanwezig
voor een specifiek doel of voor specifieke doelen.
"Contourbesturen" (2): twee of meer "numeriek bestuurde" bewegingen volgens
instructies die de eerstvolgende vereiste positie en de vereiste voedingssnelheden
naar die positie specificeren. Deze snelheden worden in afhankelijkheid van
elkaar gevarieerd, zodat een gewenste contour wordt verkregen (Referentie: ISO/
DIS 2806-1980).
"Cryptografie" (5): de tak van wetenschap die zich bezighoudt met de
grondbeginselen, instrumenten en methoden voor het omzetten van gegevens
teneinde de inhoud daarvan te verbergen, te voorkomen dat deze inhoud
ongemerkt wordt gewijzigd of zonder toestemming wordt gebruikt. "Crypto-
grafie" is beperkt tot het omzetten van gegevens met gebruikmaking van een of
meer 'geheime parameters' (bv. cryptovariabelen) of aanverwante sleutels.
Noot: Een 'geheime parameter' is een constante of sleutel die voor anderen
geheim wordt gehouden of slechts binnen een groep bekend wordt
gemaakt.
"CTP": "totale theoretische prestatie" [«composite theoretical performance»]."Deelnemende staat" (7 9): een staat die deelneemt aan het "Wassenaar
Arrangement" (zie www.wassenaar.org).
"Diffusielassen" (1 2 9): het in de vaste fase («solid-state») moleculair met elkaar
verbinden van ten minste twee aparte metalen tot één stuk met een bindings-
sterkte ten minste gelijk aan die van het zwakste materiaal.
"Digitale computer" (4 5): een apparaat dat, in de vorm van een of meer discrete
variabelen, alle volgende functies kan verrichten:
a. gegevens opnemen;
b. gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare)
geheugens opslaan;
c. gegevens metbehulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdracht en
verwerken;
en
d. gegevens afgeven.
Noot: Onder veranderen van een opgeslagen reeks opdrachten wordt mede
verstaan het vervangen van onuitwisbare geheugenelementen, doch
hieronder valt niet het in fysieke zin wijzigen van bedrading of
onderlinge verbindingen.
"Digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de
motorregeling kan ingrijpen" ("FADEC") (7 9): elektronische regelapparatuur
voor gasturbinemotoren of motoren met een gecombineerde thermodynamische
cyclus waarbij gebruik wordt gemaakt van een digitale computer voor de regeling
van de variabelen die nodig zijn ter regeling van de stuwkracht of het afgegeven
effectieve vermogen over het hele werkbereik van de motor vanaf het begin van
de meting van de brandstoftoevoer tot het afsluiten van de brandstoftoevoer.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 17
▼M3
"Digitale overbrengsnelheid" (5): de totale bitsnelheid van de informatie die
directwordtovergebrachtop ieder t ype medium.
Noot: Zie ook "totale digitale overbrengsnelheid".
"Directhydraulisch persen" (2): een vervormingsproces, waarbij gebruik wordt
gemaakt van een flexibele, met vloeistof gevulde blaas die in direct contact staat
methetwerkst uk.
"Door de ITU toegewezen" (3 5): toewijzing van de frequentiebanden
overeenkomstig het Radioreglement van de ITU (uitgave 1998) voor primaire,
toegelaten en secundaire diensten.
N.B.: Extra en alternatieve toewijzingen vallen hier niet onder.
"Door opwerking verkregen" (0 1): het toepassen van ieder procédé dat tot doel
heeft het gehalte van het betrokken isotoop te doen toenemen.
"Driedimensionale vectorsnelheid" (4): het aantal per seconde gegenereerde
vectoren met meerlijnige, «clip tested», willekeurig gerichte, 10-pixel vectoren,
met x-y-z coördinaten met vaste dan wel drijvende komma (welke van de twee de
grootste snelheid oplevert).
"Drukomzetters" (2): inrichtingen die de gemeten druk omzetten in een elektrisch
signaal.
"Dynamische adaptieve routebepaling" (5): automatische aanpassing van de route
van verkeer op basis van de waarneming en analyse van actuele feitelijke
netwerkomstandigheden.
Noot: Hieronder vallen niet de beslissingen ten aanzien van routebepaling aan
de hand van vooraf vastgelegde gegevens.
"Dynamische signaalanalysatoren" (3): "signaalanalysatoren" waarbij gebruik
wordt gemaakt van digitale bemonsterings- en omzettingstechnieken ter verkrij-
ging van een Fourier-spectrumafbeelding van een gegeven golfvorm met inbegrip
van gegevens betreffende amplitude en fase.
Noot: Zie ook "signaalanalysatoren".
"Eenkanaalsignalering" («common channel signalling») (5): een methode van
signalering, waarbij metbehulp van bericht en metlabel via een enkel kanaal
signaleringsinformatie die betrekking heeft op een veelheid van lijnen of
oproepen alsmede andere informatie, bv. informatie gebruikt bij het beheer van
netwerken, tussen schakelcentrales wordt overgebracht.
"Effectieve gram" (0 1). Onder een "effectieve gram" (0 1) van "speciale
splijtstoffen" wordt verstaan:
a. voor plutoniumisotopen en uraan-233: het gewicht van de isotoop in gram;
b. voor uraan dat1 % of meer verrijktis in de isot oop uraan-235: hetgewichtvan
hetelementin gram, vermenigvuldigd methetkwadraatvan de verrijking,
uitgedrukt in decimalen als gewichtsverhouding;
c. voor uraan datminder dan 1 % verrijktis in de isot oop uraan-235: hetgewicht
van hetelementin gram, vermenigvuldigd met0,0001.
"Eindeffectors" (2): grijpers, 'actieve gereedschapseenheden' en alle andere
gereedschappen die zijn verbonden metde grondplaataan hetuit einde van de
manipulatiearmen van een "robot".
Noot: Een 'actieve gereedschapseenheid' is een voorziening die beweegkracht
of procesenergie op het werkstuk overbrengt of waarnemingen daarvan
verzorgt.
"Elektronisch bestuurbare fase-gestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een
groot aantal identieke antennes" («phased array antenna») (5 6): een antenne
waarbij de bundel wordtgevormd door middel van fase-koppeling, d.w.z. debundelrichting wordt gestuurd door de complexe opwekkingscoëfficiënten van de
uitstralende elementen en de richting van die bundel kan in azimut of
hellingshoek worden gewijzigd door toepassing van een elektrisch signaal bij
zowel uitzending als ontvangst.
"Equivalente dichtheid" (6): de massa van een optisch element per optische
oppervlakte-eenheid, geprojecteerd op het optisch oppervlak.
"Expert systemen" (4 7): systemen die hun resultaten verkrijgen door het
toepassen van regels op onafhankelijk van het "programma" opgeslagen gegevens
en die een of meer van de volgende functies kunnen vervullen:
a. automatisch wijzigen van de door de gebruiker ingevoerde "broncode";
b. verschaffen van kennis betreffende een categorie problemen in een quasi-
natuurlijke taal;
of
c. verwerven van de kennis die noodzakelijk is voor de ontwikkeling van het
systeem (symbolische training).2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 18
▼M3
"FADEC" staat voor "digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig
zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" («full authority digital engine
control»).
«Focal plane array» (6): een lineaire of tweedimensionale vlakke laag of
combinatie van vlakke lagen met afzonderlijke detectorelementen, met of zonder
uitlees-elektronica, die in het brandvlak worden geplaatst.
Noot: Stapels afzonderlijke detectorelementen of detectoren met twee, drie of
vier elementen vallen hier niet onder, op voorwaarde dat in het element
geen tijdvertraging en integratie plaatsvindt.
"Fractionele bandbreedte" (5): de momentele bandbreedte gedeeld door de
centrale frequentie, uitgedrukt in procenten.
"«Frequency hopping»" (5): een vorm van "spread spectrum" waarbij de
zendfrequentie van één enkel communicatiekanaal wordt verschoven in een
willekeurige of pseudo-willekeurige reeks discrete stappen.
"Frequentiesynthesizer" (3): elke soort frequentiebron of signaalgenerator,
ongeacht de feitelijk daarin toegepaste techniek, die een veelheid aan uitgangs-
frequenties afgeeft, gelijktijdig of naar keuze, aan een of meer uitgangen, en die
worden bepaald door, afgeleid van of beheerst door een geringer aantal standaard-
(of basis-) frequenties.
"Frequentiewisseltijd" (3 5): de maximale tijd (d.w.z. vertraging) welke bij het
overschakelen van de ene gekozen uitgangsfrequentie naar een andere benodigd
is voor hetbereiken van:
a. een frequentie binnen 100 Hz van de uiteindelijke frequentie; of
b. een uitgangsniveau liggende binnen 1 dB van het uiteindelijke uitgangsniveau."Fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" (ATN NTN): experimenteel of
theoretisch werk dat hoofdzakelijk wordt gedaan om nieuwe kennis te verkrijgen
over de fundamentele beginselen van verschijnselen of waarneembare feiten, en
dat in eerste instantie niet is gericht op een bepaald praktisch doel of oogmerk.
"Garen" (1): een bundel getwijnde 'strengen'.
Noot: 'Streng': een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die
ongeveer parallel lopen.
"Gebruik" (ATN NTN Alle): bediening, installatie (met inbegrip van installatie
ter plaatse), onderhoud (controle), reparatie, revisie en opknappen.
"Gegevensdebiet" (5): de zendsnelheid zoals gedefinieerd in aanbeveling 53-36
van de Internationale Telecommunicatie Unie (ITU), ermee rekening houdend dat
voor niet-binaire modulatie baud en bit per seconde niet hetzelfde zijn. Bits voor
codeer-, controle- en synchronisatiefuncties worden meegeteld.
Noot 1: Bij het bepalen van het "gegevensdebiet" worden de kanalen ten
behoeve van onderhoud en beheer niet meegeteld.
Noot 2: Het betreft hier de maximale zendsnelheid in één richting, d.w.z. de
maximale snelheid van ofwel zenden ofwel ontvangen.
"Geïnstrumenteerd bereik" (6): het gespecificeerde ondubbelzinnige beeldbereik
van een radar.
"Geïntegreerde schakeling van het filmtype" (3): een reeks 'schakelelementen' en
metallieke doorverbindingen, die gevormd zijn door afzetting van een dikke of
dunne laag op een isolerend "substraat".
Noot: Een 'schakelelement' is een enkelvoudig actief of passief functioneel
deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor, één
weerstand, één condensator, enz.
"Geïsoleerde levende culturen" (1): hieronder vallen levende culturen waarvan de
organismen zich in een ruststadium bevinden en levende culturen in gedroogde
preparaten.
"Gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" (3 6): producten die zijn ontworpen,
vervaardigd en getest volgens speciale elektrische, mechanische en omgevings-
eisen voor gebruik bij het lanceren en opstellen van satellieten of vluchtsystemen
die opereren op hoogten van 100 km of meer.
"Geleidingssysteem" (7): systemen waarin de meting en berekening van de positie
en snelheid van een voertuig (navigatie) worden gecombineerd met de berekening
en verzending van opdrachten naar de vluchtregelsystemen van het voertuig om
de baan te corrigeren.
"Geografisch gespreid" (6): sensoren worden geacht"geografisch gespreid" t e
zijn wanneer elke sensor zich in alle richtingen op een afstand van meer dan
1 500 m van iedere andere sensor bevindt. Mobiele sensoren worden altijd
beschouwd als "geografisch gespreid".
"Globale onderbrekingswachttijd" (4): de tijd die een computersysteem nodig
heeft om een door een gebeurtenis veroorzaakte onderbreking te onderkennen,2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 19
▼M3
deze af te handelen en de processorinstelling tijdelijk over te schakelen naar een
subsidiaire taak die resident is in het geheugen in afwachting van een
onderbreking.
"Halffabrikaten («preforms») voor koolstofvezels" (1): een geordende verzame-
ling vezels, met of zonder deklaag, bestemd om een raamwerk van een deel te
vormen alvorens de "matrix" wordt ingebracht, teneinde een "composiet" te
vormen;
"Heet isostatisch verdichten" (2): een proces waarbij op een gietstuk bij een
temperatuur van meer dan 375 K (102 ºC) in een gesloten holte door middel van
een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) in alle richtingen
gelijke druk wordt uitgeoefend, waardoor holten in het gietstuk worden
verminderd of geëlimineerd.
"Hoekafwijking" (2): het maximale verschil tussen de aangegeven hoekpositie en
de feitelijke, zeer nauwkeurig gemeten hoekpositie nadat de houder van het
werkstuk op de tafel uit zijn oorspronkelijke positie is weggedraaid. (Referentie:
VDI/VDE 2617, concept "Draaitafels op coördinaten-meetmachines")
"Hybride computer" (4): apparatuur die alle volgende functies kan verrichten:
a. gegevens opnemen;
b. gegevens verwerken, zowel analoge als digitale voorstelling; en
c. gegevens afgeven.
"Hybride geïntegreerde schakeling" (3): elke willekeurige combinatie van
geïntegreerde schakelingen, 'schakelelementen' of 'discrete onderdelen' die
onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en
metalle volgende kenmerken:
a. met ten minste één niet-omhuld element;
b. onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende productiemethoden
voor geïntegreerde schakelingen;
c. als eenheid vervangbaar; en
d. gewoonlijk nietdemont eerbaar.
Noot 1: Een 'schakelelement' is een enkelvoudig actief of passief functioneel
deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor,
één weerstand, één condensator, enz.
Noot 2: Een 'discreet onderdeel' is een afzonderlijk omhuld 'schakelelement'
met eigen uitwendige aansluitingen.
"Immunotoxine" (1): een samenvoeging van een celspecifieke monoklonale
antistof en een "toxine" of een "sub-eenheid van een toxine" die zieke cellen
selectief aantast.
"Impulscompressie" (6): codering en verwerking van een radarsignaalimpuls met
een lange duur tot een kortstondige impuls, met behoud van de voordelen van een
hoge impulsenergie.
"Inclusief alle compensaties" (2): nadat alle uitvoerbare maatregelen waarover de
fabrikant beschikt om alle systematische instelfouten voor het betrokken
werktuigmachinemodel tot een minimum te beperken, bekeken zijn.
"Informatiebeveiliging" (4 5): alle middelen en functies ter verzekering van de
toegankelijkheid, geheimhouding of integriteit van gegevens of communicaties,
zonder inbegrip van de middelen en functies die zijn bedoeld als beveiliging
tegen storingen. Het begrip omvat o.a. "cryptografie", 'cryptanalyse', bescherming
tegen confidentiële uitstralingen en computerbeveiliging.
Noot: 'Cryptanalyse': de analyse van een cryptografisch systeem of de in- en
uitvoer daarvan om daaraan vertrouwelijke variabelen of gevoelige
gegevens te ontlenen, met inbegrip van niet-gecodeerde tekst.
"Intrinsieke magnetische gradiëntmeter" (6): één enkel waarnemingselement voor
de gradiënt van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de
afleeswaarde een maatis van de gradiëntvan hetmagnet isch veld.
Noot: Zie ook "magnetische gradiëntmeter".
"Isolatie" (9): de isolatie van de onderdelen van een raketmotor, d.w.z. omhulling,
straalpijp, inlaten en afdichtingen van de omhulling, waaronder gevulkaniseerd of
half-gevulkaniseerd samengesteld rubber plaatmateriaal dat een isolerend of
hittebestendig materiaal omvat. Isolatie kan ook zijn aangebracht in de vorm van
moffen of flappen om spanningen te ontlasten.
"Isostatische persen" (2): apparatuur, geschikt voor het onder druk brengen van
een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof,
vaste deeltjes, enz.) teneinde te bereiken dat binnen de holte op een werkstuk of
materiaal gelijke druk in alle richtingen wordt uitgeoefend.
"Kantelspil" (2): een spil met gereedschap die gedurende het bewerkingsproces de
hoek van zijn hartlijn ten opzichte van een andere as kan wijzigen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 20
▼M3
"Kernreactor" (0): een kernreactor omvat de delen in of rechtstreeks bevestigd
aan het reactorvat, de uitrusting die het vermogensniveau in de kern regelt,
alsmede de onderdelen die gewoonlijk hetprimaire koelmiddel van de
reactorkern bevatten, daarmee in rechtstreeks contact komen of dit reguleren.
"Kritische temperatuur" (1 3 6): de kritische temperatuur (ook wel over-
gangstemperatuur genoemd) van een bepaald "supergeleidend" materiaal is de
temperatuur waarbij de gelijkstroomweerstand van het materiaal nul wordt.
"Laser" (0 23569 ) :e e n samenstelling van componenten welke zowel in de
ruimte als in de tijd coherent licht produceert dat is versterkt door de
gestimuleerde emissie van straling.
Noot: Zie ook:
"chemische laser",
"Q-switched laser",
"Super High Power Laser",
"Transfer laser".
"Lineariteit" (2) (gewoonlijk gemeten als niet-lineariteit): dit is de maximale
positieve of negatieve afwijking van het feitelijke kenmerk (gemiddelde van naar
boven en naar beneden gemeten waarden) van een rechte lijn die zo is geplaatst
datde maximale afwijkingen gelijk worden gemaakten geminimaliseerd.
"Lint" (1): een bundel "monofilamenten", die gewoonlijk ongeveer parallel lopen.
"Lokaal netwerk" (4): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande
kenmerken combineert:
a. het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke 'datatoestellen' in staat,
rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en
b. het is beperkt tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (bv. een
kantoorgebouw, een fabriek, een universiteitscomplex of een magazijn).
Noot: Een 'datatoestel' is een apparaat voor het zenden of ontvangen van
reeksen digitale informatie.
"Luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen" (7): systemen die
gebruikmaken van luchtdie over aërodynamische vlakken wordtgeblazen om de
door deze oppervlakken gegenereerde krachten te verhogen en te beheersen.
"Magnetische gradiëntmeters" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van de
ruimtelijke variaties van magnetische velden van bronnen buiten het instrument.
Zij bestaan uit verscheidene "magnetometers" en bijbehorende elektronica
waarvan de afleeswaarde een maatis van de gradiëntvan hetmagnet isch veld.
Noot: Zie ook "intrinsieke magnetische gradiëntmeter".
"Magnetometers" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van magnetische
velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit één enkel sensorelement
voor het waarnemen van magnetische velden en bijbehorende elektronica
waarvan de afleeswaarde een maatis van hetmagnet isch veld.
"Materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" (O): koper, roestvrij staal,
aluminium, aluminiumoxide, aluminium-legeringen, nikkel of een legering met
60 of meer gewichtspercenten nikkel en UF6-bestendige gefluoreerde koolwater-
stof-polymeren, naar gelang van het soort scheidingsproces.
"Matrix" (1 2 8 9): een in hoofdzaak continue fase die de ruimte tussen deeltjes,
whiskers of vezels vult.
"Mechanisch legeren" (1): een legeringsproces door middel van hetbinden,
breken en opnieuw binden van elementaire of moederlegeringspoeders met
behulp van mechanische krachten. Niet-metaaldeeltjes kunnen in de legering
worden opgenomen door toevoeging van de geschikte poeders.
"Meetonzekerheid" (2): de kenmerkende parameter die specificeert binnen welk
bereik rond de uitvoerwaarde de juiste waarde van de te meten variabele ligt met
een betrouwbaarheidsniveau van 95 procent. Deze omvat de ongecorrigeerde
systematische afwijkingen, de ongecorrigeerde speling en de willekeurige
afwijkingen. (Referentie: ISO 10360-2, of VDI/VDE 2617)
"Met opgeslagen programma bestuurd" (2 3 5): een besturing die gebruikmaakt
van instructies die zijn opgeslagen in een elektronisch geheugen, welke
instructies door een processor kunnen worden uitgevoerd om de uitvoering van
vooraf bepaalde functies te sturen.
Noot: Apparatuur kan "met opgeslagen programma bestuurd" zijn, ook al
bevindt het elektronisch geheugen zich niet in het apparaat zelf.
"Microcomputermicroschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schake-
ling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid
(ALU), die in staat is om vanuit een intern geheugen algemene opdrachten uit te
voeren op basis van gegevens opgeslagen in hetint erne geheugen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 21
▼M3
Noot: Het interne geheugen kan worden uitgebreid met een extra geheugen)
"Micro-organismen" (1 2): bacteriën, virussen, mycoplasma's, rickettsiae,
chlamydiae of schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm
van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend
materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet.
"Microprocessormicroschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schake-
ling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid
(ALU), die in staat is om vanuit een extern geheugen een reeks algemene
opdrachten uit te voeren.
Noot 1: De "microprocessormicroschakeling" bevat gewoonlijk geen toegan-
kelijkheid van het interne geheugen voor de gebruiker, hoewel op de
"chip" aanwezig geheugen kan worden gebruikt voor uitvoering van
de logische functie.
Noot 2: Hieronder vallen tevens "chip sets" die zijn ontworpen om samen de
functie van een "microprocessormicroschakeling" te leveren.
"Momentele bandbreedte" (3 5 7): de bandbreedte waarover het uitgangsver-
mogen binnen 3 dB constant blijft zonder bijstelling van andere werkparameters.
"Monofilament" (1) of filament: de kleinste maat vezel, gewoonlijk enkele
micrometers in diameter.
"Monolithische geïntegreerde schakeling" (3): een combinatie van passieve en/of
actieve 'schakelelementen' welke:
a. wordtgevormd door middel van diffusie, implant eren of opdampen in of op
één enkel halfgeleidend stukje materiaal, een zogenaamde «chip»;
b. wordtbeschouwd als een ondeelbaar iet s; en
c. de functie(s) uitvoer(t)(en) van een schakeling.
Noot: Een 'schakelelement' is een enkelvoudig actief of passief functioneel
deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor, één
weerstand, één condensator, enz.
"Monospectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het vergaren van
beeldgegevens van één afzonderlijke spectrumband.
"Multichip geïntegreerde schakeling" (3): twee of meer "monolithische geïnte-
greerde schakelingen", verbonden op een gemeenschappelijk "substraat".
"Multispectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het gelijktijdig of
serieel vergaren van beeldgegevens van twee of meer afzonderlijke spectrum-
banden. Sensoren metmeer dan 20 afzonderlijke spect rumbanden worden ook
wel hyperspectrale beeldsensoren genoemd.
"Natuurlijk uraan" (0): uraan met dezelfde isotopensamenstelling als in de natuur
voorkomt.
"Nauwkeurigheid" (6) (gewoonlijk uitgedrukt in mate van onnauwkeurigheid): de
maximale positieve of negatieve afwijking van een aangegeven waarde ten
opzichte van een erkende norm of zuivere waarde.
"Netwerktoegangsbesturingseenheid" (4): een fysieke verbinding met een
gedistribueerd schakelnetwerk. Deze verbinding maakt gebruik van een gemeen-
schappelijk medium dat steeds met dezelfde "digitale overbrengsnelheid" werkt
en voor de transmissie gebruikmaakt van «arbitration» (bv. «token» of «carrier
sense»). (Dit houdt in dat het systeem zelf zorg draagt voor de toegang tot het
medium, zodanig datde apparat en elkaar niethinderen, bv. door onderlinge
toewijzing van toegang of door aftasten of het kanaal vrij is). Geheel
onafhankelijk selecteert de eenheid aan haar geadresseerde gegevenspakketten
of gegevensgroepen (bv. IEEE 802). Het is een samenstelling die in computer- of
telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd om toegang tot de
communicatie te verschaffen.
"Neurale computer" (4): een rekentoestel dat is ontworpen of aangepast voor
nabootsing van het gedrag van een neuron of een verzameling neuronen, d.w.z.
een rekentoestel dat zich onderscheidt door het vermogen van zijn apparatuur om
aan de hand van eerdere gegevens hetgewichten aant al van de onderlinge
verbindingen van een grote hoeveelheid rekencomponenten te wijzigen.
"Noodzakelijk" (ATN 1-9): met betrekking tot "technologie" of "programmatuur"
wordt hieronder verstaan uitsluitend dat deel van de "technologie" of
"programmat uur" datin hetbijzonder verant woordelijk is voor hetbereiken of
te boven gaan van de onder embargo vallende prestatieniveaus, kenmerken of
functies. Verschillende producten kunnen dergelijke noodzakelijke "technologie"
of "programmatuur" gemeen hebben.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 22
▼M3
"Numerieke besturing" (2): de automatische besturing van een proces, uitgevoerd
door een apparaatdatgebruikmaaktvan numerieke gegevens die gewoonlijk
worden ingevoerd tijdens de voortgang van het proces. (Referentie: ISO 2382)
"Objectcode" (4 5 9): een door apparatuur uitvoerbare vorm van een geschikte
expressie van een of meer processen ("broncode" (brontaal) die door een
programmeersysteem is omgezet).
"Onafgewerkte substraten" (6): monolithische verbindingen met afmetingen die
geschikt zijn voor de productie van optische elementen zoals spiegels of optische
vensters.
"Onderling verbonden radarsensoren" (6): twee of meer radarsensoren zijn
onderling verbonden wanneer zij tijdgebonden onderling gegevens uitwisselen.
"Ontwikkeling" (6) (ATN NTN Alle): dit bestrijkt alle fasen voorafgaand aan
serieproductie, zoals ontwerp, ontwerponderzoek, ontwerpanalyse, ontwerpi-
deeën, assemblage en testen van prototypen, proefproductieplannen,
ontwerpgegevens, het vertalen van ontwerpgegevens in een product, ontwerp
van configuraties, integratieontwerp, opmaak.
"Onvertraagde verwerking" («real time processing») (2 4 6 7): het verwerken van
gegevens door een computersysteem dat afhankelijk van de beschikbare middelen
een bepaalde prestatie levert binnen een gewaarborgde responsietijd als reactie op
een bepaalde gebeurtenis, ongeacht de belasting van het systeem.
"Optimalisering van de vliegroute" (7): een procedure waarmee afwijkingen van
een vierdimensionale gewenste vliegroute (tijd en ruimte), gebaseerd op de
maximalisering van de prestaties of doeltreffendheid van de taken van een missie,
zo klein mogelijk worden gehouden.
"Optisch sensor-array voor vluchtregeling" (7): met elkaar verbonden optische
sensoren waarbij "laser"-bundels worden gebruikt om real-time vluchtregelings-
gegevens te verkrijgen, die aan boord worden verwerkt.
"Optische computer" (4): een computer, ontworpen of aangepast voor het gebruik
van lichtvoor de weergave van gegevens en waarvan de logische rekenelement en
zijn gebaseerd op direct gekoppelde optische elementen.
"Optische geïntegreerde schakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde
schakeling" of "hybride geïntegreerde schakeling" die een of meer delen bevat
die zijn ontworpen om als een fotosensor of foto-emitter te werken of om een of
meer optische of elektro-optische functies te vervullen.
"Optische versterking" (5): een bij optische communicatie gebruikte verster-
kingstechniek die een versterking bewerkstelligt van optische signalen die zijn
voortgebracht door een afzonderlijke optische bron, zonder omzetting in
elektrische signalen, bv. door gebruik te maken van optische halfgeleiderver-
sterkers, of luminescerende versterkers van glasvezels.
"Optisch schakelen" (5): bepaling van de route of schakelen van optische signalen
zonder omzetting in elektrische signalen.
"Persoonsgebonden slimme kaart" (5): een slimme kaart die een microschakeling
bevatdie voor een specifieke t oepassing is geprogrammeerd en door de gebruiker
nietopnieuw kan worden geprogrammeerd voor een andere t oepassing.
"Piekvermogen" (6): energie per impuls in joules gedeeld door de "pulsduur" in
seconden.
"Primaire vluchtregeling" (7): een voorziening voor het regelen van de stabiliteit
of de besturing van een vliegtuig waarbij gebruik wordt gemaakt van kracht-/
moment-generatoren, d.w.z. aërodynamische stuurvlakken of koersbepaling door
middel van stuwkrachtregeling.
"Productie" (ATN NTN Alle): hieronder vallen alle productiestadia, zoals bouw,
productie, «engineering», fabricage, integratie, assemblage (monteren), inspectie,
testen, kwaliteitsborging.
"Productieapparatuur" (1 9): gereedschap, mallen, kalibers, mandrellen,
matrijzen, bevestigingsmiddelen, uitlijnmiddelen, testapparatuur, andere appara-
tuur en componenten daarvoor, beperkt tot datgene speciaal ontworpen of
aangepast voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie".
"Productiefaciliteiten" (9): apparatuur en speciaal ontworpen "programmatuur"
samengesteld tot installaties voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen
van de "productie".
"Programma" (26): een reeks opdrachten voor het volbrengen van een handeling
in een vorm, of om om te zetten in een vorm, die voor de uitvoering door een
elektronische computer geschikt is.
"Programmatuur" (APN Alle): een verzameling van een of meer "programma's"
of 'microprogramma's', vastgelegd op enig tastbaar medium.
Noot: 'Microprogramma': een reeks elementaire instructies die in een speciaal
geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door
de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het instructieregister.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 23
▼M3
"Pulsduur" (6): duur van een "laser" impuls, gemeten over volle breedte bij halve
intensiteit («Full Width Half Intensity» — FWHI).
"Q-switched laser" (6): een "laser" waarbij de energie wordt opgeslagen in de
populatie-inversie of in de optische resonator en vervolgens wordt uitgezonden in
een impuls.
"Radar «frequency agility»" (6): iedere techniek waarbij de draaggolffrequentie
van een gepulseerde radarzender in een pseudo-willekeurige volgorde van impuls
tot impuls of van de ene groep impulsen tot de volgende groep kan veranderen
met een hoeveelheid gelijk aan of groter dan de bandbreedte van de impuls.
"Radar «spread spectrum»" (6): iedere modulatietechniek voor het spreiden van
energie afkomstig van een signaal met een relatief smalle frequentieband over een
veel bredere frequentieband, met gebruikmaking van willekeurige of pseudo-
willekeurige codering.
"Raketten" (1 35679 ) : complete raketsystemen en systemen voor onbemande
luchtvaartuigen die een nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over
een afstand van ten minste 300 km.
"Reactietijdconstante" (6): de tijd vanaf het toepassen van een lichtprikkel totdat
de stroomtoename een waarde heeft bereikt van 1 − 1/e maal de eindwaarde
(d.w.z. 63 % van de eindwaarde).
"Rekenelement" (CE) (4): de kleinste rekeneenheid die een rekenkundig of
logisch resultaat voortbrengt.
"Resolutie" (2): de kleinste stap van een meettoestel; op digitale instrumenten het
minst significante bit. (Referentie: ANSI B-89.1.12)
"Robot" (2 8): een manipulatiemechanisme, dat kan zijn van een type dat een
continu pad aflegt of van een type dat van punt naar punt gaat, eventueel voorzien
van "sensoren", en datalle volgende kenmerken heeft :
a. multifunctioneel;
b. geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen,
gereedschappen of speciale elementen door middel van regelbare bewegingen
in de driedimensionale ruimte;
c. metdrie of meer servomechanismen metopen of geslot en lus waarbij
inbegrepen kunnen zijn stappenmotoren; en
d. met"t oegankelijkheid van hetprogramma voor de gebruiker" door middel van
de leer-en-terugspeel-methode (teach/playback) of door middel van een
elektronische computer die een programmeerbare logische regeleenheid kan
zijn (PCL), d.w.z. zonder mechanische interventie.
Noot: Bovenstaande definitie slaat niet op de volgende toestellen:
1. manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een
mechanisme voor afstandbediening te regelen zijn;
2. manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en
geautomatiseerde bewegende toestellen zijn, die mechanisch vast-
gelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programmais
mechanisch beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken.
De volgorde van de bewegingen en de keuze van trajecten of hoeken
mag niet op mechanische, elektronische of elektrische wijze
beïnvloedbaar zijn;
3. mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele
volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende
toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde
bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door
vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals pennen en nokken. De
volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken
kan binnen het vaste programmapatroon worden gevarieerd.
Variaties of wijzigingen in het programmapatroon (bv. verwisselen
van pennen of uitwisselen van nokschijven) in een of meer
bewegingsassen mogen alleen langs mechanische weg bewerkstelligd
worden;
4. niet van een servomechanisme voorziene manipulatiemechanismen
met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde
bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, gepro-
grammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel
zijn maar de volgorde mag slechts op grond van het binaire signaal
van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of verplaats-
bare aanslagen verlopen;
5. stapelkranen, waaronder te verstaan met Cartesische coördinaten
werkende manipulatiesystemen, vervaardigd als integraal onderdeel
van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor het
bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 24
▼M3
"Rondloopnauwkeurigheid" («run-out») (2): radiale verplaatsing tijdens één
omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de hartlijn van
de spil aan een punt op het te testen uitwendige of inwendige omwentelings-
oppervlak. (Referentie: ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.61)
"Roterend verstuiven" (1): een proces voor het verdelen van een stroom of een
plas gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of
minder door middel van centrifugale kracht.
"Roving" (1): een bundel (normaal 12-120) van ongeveer evenwijdige 'strengen'.
Noot: 'Streng': een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die
ongeveer parallel lopen.
"Ruimtevaartuig" (7 9): actieve en passieve satellieten en ruimtesondes."Ruisniveau" (6): een elektrisch signaal, uitgedrukt in spectrale vermogens-
dichtheid. De verhouding van "ruisniveau" van piek-tot-piek wordt gegeven met
S
2
pp=8 N0(f2-f1), waarbij Sppde piek-tot-piekwaarde is van het signaal (bv.
nanotesla), N0de spectrale vermogensdichtheid (bv. (nanotesla)2/Hz) en (f2-f1)d e
desbetreffende bandbreedte definieert.
"Samengestelde draaitafel" (2): een tafel waarop het werkstuk kan draaien en
kantelen rond twee niet-parallelle assen, die tegelijkertijd kunnen samenwerken
voor "contourbesturen".
"Samenstelling" (3 4 5): een aantal elektronische componenten (bv. 'schakel-
elementen', 'discrete onderdelen', geïntegreerde schakelingen, enz.) die onderling
verbonden zijn om een of meer specifieke functies te vervullen en die als een
eenheid vervangbaar en gewoonlijk demonteerbaar is.
Noot 1: Een 'schakelelement' is een enkelvoudig actief of passief functioneel
deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor,
één weerstand, één condensator, enz.
Noot 2: Een 'discreet onderdeel' is een afzonderlijk omhuld 'schakelelement'
met eigen uitwendige aansluitingen.
"Schaalfactor" (gyroscoop of versnellingsmeter) (7): de verhouding tussen de
uitvoerverandering en de te meten invoerverandering. De schaalfactor wordt
gewoonlijk gegeven als de hellingshoek van de rechte lijn die volgens de kleinste-
kwadraten-methode past bij de invoer-uitvoergegevens, verkregen door cyclische
variatie van de invoer over het ingangstraject.
"SHPL" staat voor "Super High Power Laser"."Signaalanalysatoren" (3): instrumenten, geschikt voor het meten en afbeelden
van de basiseigenschappen van de individuele frequentiecomponenten van
meervoudige-frequentiesignalen.
"Signaalverwerking" (3 4 5 6): hetverwerken van elders verkregen informat ie-
dragende signalen met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren,
extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bv. de
«snelle Fourier-transformatie» («fast Fourier transform») of de Walsh-trans-
formatie («Walsh transform»)).
"Smeltextractie" (1): een proces voor het 'snel stollen' en extraheren van een
lintvormig legeringsproduct door een kort segment van een ronddraaiend gekoeld
blok in een bad met een gesmolten metaallegering te brengen.
Noot: "Snel stollen" is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid
van meer dan 1000 K/sec.
"Speciale splijtstoffen" (0): plutonium-239, uraan-233, "uraan verrijkt in de
isotopen 235 of 233", en elk materiaal dat het voorgaande bevat.
"Specifieke modulus" (0 1): Youngs modulus in pascal, gelijk aan N/m2gedeeld
door hetsoort elijk gewichtin N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ± 2 K
(23 ± 2 ºC) en een relatieve vochtigheid van 50 ± 5 %.
"Specifieke treksterkte" (0 1): de breeksterkte in pascal, gelijk aan N/m2gedeeld
door hetsoort elijk gewichtin N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ± 2 K
(23 ± 2 ºC) en een relatieve vochtigheid van 50 ± 5 %.
"Spinnen uit de smelt" (1): een proces voor het 'snel stollen' van een stroom
gesmolten metaal die botst op een ronddraaiend gekoeld blok, waardoor een
schilfer-, lint- of staafvormig product ontstaat.
Noot: 'Snel stollen' is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid
van meer dan 1000 K/sec.
"Spread spectrum" (5): de techniek waarbij de energie in een communicatiekanaal
meteen relat ief smalle band wordtgespreid over een veel breder energie-
spectrum.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 25
▼M3
"Spread spectrum" radar (6): zie "Radar «spread-spectrum»".
"Stabilisatietijd" («settling time») (3): de tijd die nodig is om binnen een halve bit
van de uitgangseindwaarde te komen bij het schakelen tussen twee willekeurige
niveaus van de omzetter.
"Stabiliteit" (7): standaardafwijking (1 sigma) van de miswijzing van een
bepaalde parameter van de ijkwaarde, gemeten bij stabiele temperatuuromstan-
digheden. Deze kan worden uitgedrukt als een functie van de tijd.
"Stapel- en continuvezelmateriaal" (0 1 8).Ditomvat :
a. continumonofilamenten;
b. continugarens en «rovings»;
c. banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden;
d. op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens;
e. whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte;
f. aromatische polyamidepulp.
"Staten die (geen) partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens": staten
waarvoor het Verdrag tot verbod van de ontwikkeling, de productie, de aanleg
van voorraden en hetgebruik van chemische wapens (niet ) in werking is
getreden. (Zie www.opcw.org)
"Storingstolerantie" (4): het vermogen van een computersysteem om, na een
storing in een onderdeel van zijn apparatuur of "programmatuur", zonder
ingrijpen van de mens te blijven functioneren op een bepaald niveau waardoor de
ononderbroken werking, gegevensintegriteit en herstel van alle functies binnen
een bepaalde tijd worden gegarandeerd.
"Substraat" (3): een laag basismateriaal met of zonder een onderlinge verbin-
dingsstructuur waarop of waarin 'discrete onderdelen' of geïntegreerde
schakelingen of beide aanwezig kunnen zijn.
Noot 1: Een 'discreet onderdeel' is een afzonderlijk omhuld 'schakelelement'
met eigen uitwendige aansluitingen.
Noot 2: Een 'schakelelement' is een enkelvoudig actief of passief functioneel
deel van een elektronisch circuit, bv. één diode, één transistor, één
weerstand, één condensator, enz.
"Sub-eenheid van toxine" (1): een structureel en functioneel losstaand
bestanddeel van een hele "toxine".
"Supergeleidend" (1 3 6 8): materialen, d.w.z. metalen, legeringen of
verbindingen waarvan de elektrische weerstand nul kan worden, d.w.z. dat zij
een oneindige elektrische geleidbaarheid kunnen bereiken en zeer grote stromen
kunnen geleiden zonder joule-opwarming.
Noot: De "supergeleidende" toestand van elk afzonderlijk materiaal wordt
gekenmerkt door een "kritische temperatuur", een kritisch magnetisch
veld, dat een functie is van de temperatuur, en een kritische
stroomdichtheid, die echter een functie is van zowel het magnetisch
veld als de temperatuur.
"Super High Power Laser" (SHPL) (6): een "laser" die geschiktis voor het
afgeven van (het totaal of een gedeelte van) de uitgangsenergie van meer dan 1 kJ
binnen 50 ms of meteen gemiddeld of CW-(cont inugolf-)vermogen van meer dan
20 kW.
"Superlegeringen" (2 9): legeringen op basis van nikkel, kobaltof ijzer, met
sterkten hoger dan de standaardwaarden volgens de AISI 300 bij temperaturen
boven 922 K (649 ºC) onder zware omgevings- en gebruiksomstandigheden.
"Superplastisch vormen" (1 2): een vervormingsproces waarbij warmte wordt
gebruiktom voor met alen die gewoonlijk weinig rek (minder dan 20 %) hebben
bij de breeksterktegrens als bepaald bij kamertemperatuur door middel van een
conventionele trekproef, tijdens het verwerken minstens tweemaal hogere
rekwaarden te bereiken dan genoemde waarden.
"Symmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie
dezelfde sleutel gebruikt wordt als voor decryptie.
Noot: "Symmetrische algoritmen" worden vaak voor vertrouwelijke gegevens
gebruikt.
"Systeemsporen" (6): verwerkt, gecorreleerd (samenvoeging van radardoel-
gegevens en vliegplanpositie) en met de laatste informatie bijgewerkt rapport
dat ter beschikking staat van de verkeersleiders van het Luchtverkeersleidings-
centrum.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 26
▼M3
"«Systolic array»-computer" (4): een computer waarbij de gegevensstroom en
wijziging van de gegevens dynamisch kan worden bestuurd door de gebruiker op
hetniveau van de logische poort .
"Technologie" (ATN NTN Alle): specifieke informatie die nodig is voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van een product. De informatie is
in de vorm van 'technische gegevens' of 'technische bijstand'.
Noot 1: 'Technische bijstand' kan zijn in de vorm van instructie, vaardigheden,
opleiding, praktijkkennis, advies e.d. en kan gepaard gaan met de
overdracht van 'technische gegevens'.
Noot 2: 'Technische gegevens' kunnen o.m. bestaan uit blauwdrukken,
tekeningen, schema's, modellen, formules, tabellen, technische
ontwerpen en specificaties, handboeken en instructies, in geschreven
vorm of vastgelegd op andere media of apparaten zoals schijf,
magneetband, leesgeheugens (ROM's).
"Tijdgebonden bandbreedte" (real time bandwidth) (3): voor "dynamische
signaalanalysatoren" is dit het grootste frequentiebereik dat de analysator kan
uitvoeren naar beeldscherm of massageheugen zonder dat daardoor de analyse
van de invoer-gegevens wordtonderbroken. Bij analysat oren metmeer dan één
kanaal dient bij de berekening die kanaalconfiguratie te worden gehanteerd die de
breedste "tijdgebonden bandbreedte" oplevert.
"Toegankelijkheid van hetprogramma voor de gebruiker" (4 5 6): de mogelijk-
heid voor de gebruiker om "programma's" in te voegen, te veranderen of te
vervangen anders dan door middel van:
a. een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen; of
b. het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij
inbegrepen.
"Totale digitale overbrengsnelheid" (5): het aantal bits, met inbegrip van
regelcodering, organisatorische bits enz., dat per tijdseenheid wordt overgebracht
tussen overeenkomstige apparatuur in een digitaal transmissiesysteem.
Noot: Zie ook "digitale overbrengsnelheid".
"Totale stroomdichtheid" (3): het totale aantal ampèrewikkelingen in de spoel
(d.w.z. de som van hetaant al wikkelingen vermenigvuldigd metde maximale
stroom die door elke wikkeling wordt gevoerd), gedeeld door de totale doorsnede
van de spoel (met inbegrip van de supergeleidende draden, de metalen matrix
waarin de supergeleidende draden zijn ingebed, hetomgevende mat eriaal,
eventuele koelkanalen, enz.).
"Totale theoretische prestatie" (CTP) (3 4): een maat voor de rekenprestatie in
miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops), berekend door
samenvoeging van de "rekenelementen" («computing elements» (CE)).
Noot: Zie categorie 4, technische noot.
"Totale vluchtregeling" (7): een geautomatiseerde regeling van de toestands-
variabelen en de vliegbaan van een "vliegtuig" om te voldoen aan de
doelstellingen van een missie, waarbij wordt gereageerd op real-time verande-
ringen in de gegevens betreffende doelstellingen, gevaren en andere"vliegtuigen".
"Toxinen" (1 2): toxinen in de vorm van opzettelijk geïsoleerde preparaten of
mengsels, ongeachtde wijze van bereiding, anders dan t oxinen die als
contaminant aanwezig zijn in andere materialen zoals pathologische monsters,
gewassen, levensmiddelen of culturen van "micro-organismen".
"Transfer laser" (6): een "laser" waarbij hetlasermedium wordtgeëxcit eerd door
de overdracht van energie door middel van botsing van een niet-stralend atoom of
molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling uitzendt.
"Uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233" (0): uraan dat de isotopen 235 of 233
of beide bevatin een zodanige hoeveelheid, datde verhouding t ussen de som van
de hoeveelheden van deze isotopen en de hoeveelheid van de isotoop 238 groter
is dan de verhouding tussen de hoeveelheden van de isotoop 235 en de isotoop
238 in natuuurlijk uraan (isotoopverhouding: 0,72 %).
"Vaccin" (1): een medisch preparaat ter stimulering van een beschermende
immunorespons in mens of dier ter voorkoming van ziekten.
"Vast" (5): het coderings- of comprimeringsalgoritme kan geen parameters van
buitenaf ontvangen (bv. cryptografische of sleutelvariabelen) noch gewijzigd
worden door de gebruiker.
"Veiligheid op verscheidene niveaus" (5): een soortsyst eem datgegevens bevat
van uiteenlopende gevoeligheid, dat gelijktijdig toegang verleent aan gebruikers
met verschillende classificatieniveaus en informatietoegang, maar dat het
gebruikers onmogelijk maakt toegang te verkrijgen tot gegevens waartoe zij
nietbevoegd zijn.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 27
▼M3
Noot: "Veiligheid op verscheidene niveaus" is een computerbeveiliging en niet
computerbetrouwbaarheid; dit laatste heeft betrekking op het voor-
komen van storingen in de apparatuur of van menselijke fouten in het
algemeen.
"Verarmd uraan" (0): uraan met een gehalte aan het uraan-235-isotoop dat lager is
dan in de natuur voorkomt.
"Vergruizing" (1): een procédé voor het tot deeltjes verdelen van materiaal door
stampen of malen.
"Verloopsnelheid" (gyroscopen) (7): de snelheid waarmee de afwijking van de
uitvoer ten opzichte van de gewenste uitvoer verandert. Deze bestaat uit
willekeurige en systematische componenten en wordt uitgedrukt als een
equivalente invoer-hoekverplaatsing per eenheid tijd ten opzichte van de inerte
ruimte.
"Vermengd" (commingled) (1): het mengen van filamenten van thermoplastische
vezels en versterkingsvezels voor de productie van een vezelversterking/ —
"matrix"-mengsel in totaalvezelvorm.
"Vermogensaanpassing" (7): een zodanige aanpassing van hetuit gezonden
vermogen van het hoogtemetersignaal dat het ontvangen signaal op "vliegtuig"-
hoogte altijd het minimale vermogen heeft dat nodig is om de hoogte te bepalen.
"Versplintering door snelle afkoeling" («splat quenching») (1): een proces voor
het 'snel stollen' van een gesmolten stroom metaal die botst op een gekoeld blok,
waardoor 'flakes' worden gevormd.
Noot: 'Snel stollen' is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid
van meer dan 1000 K/sec.
"Verstuiving in gas" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten
metaallegering tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder
door middel van een onder hoge druk staande gasstroom.
"Verstuiving in vacuüm" (1): een proces voor het verdelen van een stroom
gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder
door middel van de snelle uiteenzetting van een opgelost gas bij blootstelling aan
een vacuüm.
"Vervormbare spiegels" (6): (ook bekend als adaptieve optische spiegels).
Spiegels met:
a. één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt
vervormd door afzonderlijke momenten of krachten uit te oefenen om de
vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te
compenseren; of
b. verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch
kunnen worden verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om
vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te
compenseren.
"Verwerking van meervoudige stromen van gegevens" (4): de op 'micro-
programma's' of op de architectuur van apparatuur gebaseerde technieken, die het
verwerken van twee of meer datareeksen, bestuurd door een of meer
opdrachtreeksen, mogelijk maken, bv. door middel van:
a. 'single instruction multiple data' (SIMD) architecturen zoals vector- of
arrayverwerkingseenheden;
b. 'multiple single instruction multiple data' (MSIMD) architecturen;
c. 'multiple instruction multiple data' (MIMD) architecturen, met inbegrip van
die welke hechtgekoppeld, kortgekoppeld of niet-hechtgekoppeld zijn; of
d. gestructureerde «arrays» van verwerkingselementen, met inbegrip van
systolische «arrays».
Noot: 'Microprogramma': een reeks elementaire opdrachten die in een
speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt
gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het
opdrachtregister.
"Vliegtuigen" (1 7 9): luchtvoertuigen met vaste, draaibare of roterende
(hefschroefvliegtuig) vleugel en verticaal opstijgende luchtvoertuigen (met
kantelende rotor of vleugel).
Noot: Zie ook "civiele vliegtuigen".
"Voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" (3): de waarde van de
voortplantingsvertragingstijd die overeenkomt met die van de basispoort binnen
een "monolitische geïntegreerde schakeling". Deze kan voor een bepaalde
'familie' van "monolithische geïntegreerde schakelingen" gespecificeerd zijn als
de voortplantingsvertragingstijd per typerende poort binnen die 'familie' of als de
typerende voortplantingsvertragingstijd per poort binnen die 'familie'.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 28
▼M3
Noot 1: De "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" moet niet
worden verward met de in/uitgangsvertragingstijd van een complexe
"monolithische geïntegreerde schakeling".
Noot 2: Een 'familie' bestaat uit alle geïntegreerde schakelingen waarop alle
onderstaande elementen zijn toegepast als fabricagemethoden en -
specificaties, met uitzondering van hun respectieve functies:
a. de gebruikelijke hardware- en programmatuurarchitectuur;
b. de gebruikelijke ontwerp- en verwerkingstechnologie; en
c. de gebruikelijke basiskenmerken.
"Voor iederen beschikbaar" (ATN NTN APN): "technologie" of "programma-
tuur" die zonder beperkingen aan de verdere verspreiding daarvan beschikbaar
zijn gesteld. (Auteursrechtelijke beperkingen hebben niet tot gevolg dat
"technologie" of "programmatuur" niet langer "voor iedereen beschikbaar" is.)
"Voornaamste deel" (4): een deel is een "voornaamste deel" wanneer de
vervangingswaarde hoger is dan 35 % van de totale waarde van het systeem
waarvan het deel uitmaakt. De waarde van een deel is de prijs die door de
fabrikant of door degene die het systeem heeft geïntroduceerd voor het deel is
betaald. De totale waarde is de normale internationale verkoopprijs bij verkoop
aan een niet-gelieerde partij af fabriek of bij bevestiging van de verzending.
"Werkgeheugen" (4): hetprimaire geheugen voor gegevens of opdracht en, dat
voor de centrale verwerkingseenheid snel toegankelijk is. Het bestaat uit het
interne geheugen van een "digitale computer" en elke hiërarchische uitbreiding
daarvan, zoals "cache"-geheugens of niet-sequentieel toegankelijke geheugenuit-
breidingen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 29
▼M3
IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE ACRONIEMEN EN AFKORTINGEN
Een acroniem of afkorting, gebruikt als gedefinieerde term, is te vinden in
"Definities van in deze bijlage gebruikte termen".
Acroniem of
afkortingBetekenis
ABEC Annular Bearing Engineers Committee
AGMA American Gear Manufacturers' Association
AHRS attitude and heading reference systems
AISI American Iron and Steel Institute
ALU arithmetic logic unit (logische rekeneenheid)
ANSI American Iron and Steel Institute
ASTM the American Society for Testing and Materials
ATC air traffic control (luchtverkeersleiding)
AVLIS isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-
damplasers
CAD computer-aided-design (computerondersteund ontwerpen)CAS Chemical Abstracts Service
CCITT Comité consultatif international télégraphique et télépho-
nique (Internationale Raadgevende Commissie inzake tele-
grafie en telefonie)
CDU Control and display unit (besturings- en beeldeenheid)
CEP circular error probability (50 %-trefkanscirkel)
CNTD controlled nucleation thermal deposition (thermische ontle-
ding met beheerste nucleatie)
CRISLA chemische reactie door selectieve laseractivering van één of
meer isotopen
CVD chemical vapour deposition (chemische afzetting uit de
dampfase)
CW chemical warfare (chemische oorlogsvoering)
CW (voor
lasers)continuous wave (continugolf)
DME distance measuring equipment
DS directionally solidified
EB-PVD electron beam physical vapour deposition (elektronenstraal-
verdampen)
EBU European Broadcasting Union
ECM electro-chemical machining
ECR electron cyclotron resonance
EDM electrical discharge machines (vonkmachines)
EEPROMS electrically erasable programmable read only memory
EIA Electronic Industries Association
EMC elektromagnetische compatibiliteit
FFT Fast Fourier Transform (snelle Fourier-transformatie)GLONASS global navigation satellite system (wereldwijd satellietnavi-
gatiesysteem)
GPS global positioning system
HBT heterobipolaire transistors
HDDR high density digital recording (digitale registratie met hoge
dichtheid)
HEMT high electron mobility transistors (transistors met hoge
elektronenmobiliteit)
ICAO International Civil Aviation Organisation (Internationale
Burgerluchtvaartorganisatie)2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 30
▼M3
Acroniem of
afkortingBetekenis
IEC International Electrotechnical Commission (CEI-Internatio-
nale Elektrotechnische Commissie)
IEEE Institute of Electrical and Electronic EngineersIFOV instantaneous-field-of-view (momenteel gezichtsveld)ILS instrument landing systemIRIG inter-range instrumentation groupISAR inverse synthetic aperture radar (radarmodus met omge-
keerde kunstmatig ingestelde apertuur)
ISO International Organization for Standardization (Internationale
organisatie voor normalisatie)
ITU International Telecommunication Union (Internationale Tele-
communicatie Unie)
JIS Japanse IndustriestandaardJT Joule-ThomsonLIDAR light detection and ranging (lichtdetectie- en afstandsbepa-
ling)
LRU line replaceable unitMAC message authentication codeMach verhouding van de snelheid van een voorwerp tot de
geluidssnelheid (naar ErnstMach)
MLIS isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire
lasers
MLS microwave landing systems (microgolf-landingssystemen)MOCVD metal organic chemical vapour deposition (chemisch neer-
slaan van organometaaldamp)
MRI magnetic resonance imaging (beeldvorming door middel van
magnetische resonantie)
MTBF mean-time-between-failures (gemiddeld storingsvrij interval)Mtops miljoenen technische bewerkingen per secondeMTTF mean-time-to-failure (gemiddeld interval vóór storing)NBC nucleair, biologisch en chemischNDT non-destructive test (niet-destructief onderzoek)PAR precision approach radar (landingsradarapparatuur)PIN persoonlijk identificatienummerppm parts per million (delen per miljoen)PSD power spectral density (constante spectrale vermogensdicht-
heid)
QAM quadrature-amplitude-modulation (kwadratuuramplitudemo-
dulatie)
RF radiofrequentieSACMA Suppliers of Advanced Composite Materials AssociationSAR synthetic aperture radar (radarmodus met kunstmatig inge-
stelde apertuur)
SC single crystal (eenkristal)SLAR sidelooking airborne radar (zijwaarts stralende radarmodus in
vliegtuigen)
SMPTE Society of Motion Picture and Television EngineersSRA shop replaceable assembly (in de werkplaats vervangbaar
moduul)
SRAM static random access memorySRM SACMA Recommended MethodsSSB single sideband (enkele zijband)2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 31
▼M3
Acroniem of
afkortingBetekenis
SSR secondary surveillance radar
TCSEC trusted computer system evaluation criteria
TIR total indicated reading (totale meetklokuitslag)
UV ultraviolet
UTS ultimate tensile strength (eindtreksterkte)VOR very high frequency omni-directional range
YAG yttrium/aluminum garnet2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 32
▼M3
CATEGORIE 0
NUCLEAIRE GOEDEREN2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 33
▼M3
0A Systemen, apparatuur en onderdelen
0A001 "Kernreactoren" en speciaal ontworpen en gebouwde uitrusting en
onderdelen ervan, zoals:
a. "kernreactoren" met een zodanige werking dat zij een beheerste
zichzelf onderhoudende kettingreactie van kernsplijting hand-haven;
b. metalen vaten, of belangrijke speciaal vervaardigde onderdelen
ervan, die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel
van de kern van een "kernreactor", met inbegrip van het deksel
van een reactordrukvat;
c. bedieningsapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd om
splijtstof in een "kernreactor" aan- of af te voeren;
d. regelstaven, d.w.z. staven die speciaal zijn ontworpen of
vervaardigd voor de beheersing van hetsplijt ingsproces in
een "kernreactor", de draag- of ophangconstructies daarvoor,
mechanismen voor het besturen van de regelstaven en buizen
voor hetgeleiden van de regelst aven;
e. drukpijpen, d.w.z. buizen die speciaal zijn ontworpen of
vervaardigd om dienst te doen als houder van de splijtstof-
elementen en het primaire koelmiddel in een "kernreactor" bij
een werkdruk van meer dan 5,1 MPa;
f. zirkoniummetaal en legeringen in de vorm van buizen of
samenstellen van buizen waarin de gewichtsverhouding tussen
hafnium en zirkonium minder is dan 1:500, speciaal ontworpen
of vervaardigd voor gebruik in een "kernreactor";
g. koelpompen, d.w.z. pompen die speciaal zijn ontworpen of
vervaardigd voor hetdoen circuleren van hetprimaire
koelmiddel van "kernreactoren";
h. 'inwendige delen van kernreactoren' die speciaal ontworpen of
vervaardigd zijn voor gebruik in een "kernreactor", met
inbegrip van draagconstructies voor de reactorkern, brandstof-
kanalen, hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de
reactorkern en diffusorplaten;
Noot: In 0A001.h wordt onder 'inwendige delen van kern-
reactoren' verstaan iedere grote structuur binnen een
reactorvat die een of meer functies heeft, zoals
ondersteuning van de kern, handhaving van de
splijtstofafstelling, sturing van het primaire koel-
middel, het verschaffen van stralingsschermen voor
het reactorvat, en de besturing van instrumentatie in
de kern.
i. warmtewisselaars (stoomgeneratoren), speciaal ontworpen of
vervaardigd voor gebruik in hetprimaire koelmiddelcircuitvan
een "kernreactor";
j. instrumenten voor neutronenwaarneming en -meting, speciaal
ontworpen of vervaardigd voor het bepalen van de niveaus van
de neutronenflux in de kern van een "kernreactor".2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 34
▼M3
0B Test-, inspectie- en productieapparatuur
0B001 Fabrieken voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan",
"verarmd uraan", en "speciale splijtstoffen" en speciaal daarvoor
ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, zoals:
a. installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen
van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" en "speciale splijt-
stoffen" zoals:
1. gascentrifuges;
2. gasdiffusiescheidingsinstallaties;3. aërodynamische scheidingsinstallaties;4. scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisse-
laars;
5. scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars;6. isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp-
"lasers" (AVLIS);
7. isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire
"lasers" (MLIS);
8. plasmascheidingsinstallaties;9. elektromagnetische scheidingsinstallaties;
b. gascentrifuges en samenstellingen en onderdelen, speciaal
ontworpen voor gebruik in gascentrifuges, zoals:
Noot: In 0B001.b betekent 'materiaal met een hoge sterkte/
dichtheidsverhouding':
a. "maraging"-staal met een maximale treksterkte van
2 050 MPa, of meer; of
b. aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte
van 460 MPa of meer; of
c. "stapel- en continuvezelmateriaal" met een "speci-
fieke modulus" van meer dan 3,18 × 106m en een
"specifieke treksterkte" van meerdan76,2 ×103m;
1. gascentrifuges;
2. complete rotoren;
3. rotorbuiscilinders met een wanddikte van 12 mm of
minder, een diameter tussen 75 en 400 mm en vervaardigd
van "materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhou-
ding";
4. ringen of balgen meteen wanddikt e van 3 mm of minder
en een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal
ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te
verstevigen of om een aantal rotorbuizen samen te voegen,
vervaardigd van 'materiaal met een hoge sterkte/dicht-
heidsverhouding';
5. keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 400 mm,
ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd te worden en
vervaardigd van 'materiaal met een hoge sterkte/dicht-
heidsverhouding';
6. onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en
400 mm, speciaal ontworpen om op de uiteinden van een
rotorbuis te passen en vervaardigd van 'materiaal met een
hoge sterkte/dichtheidsverhouding';
7. magnetische lagers bestaande uit een ringvormige magneet
in een behuizing, vervaardigd van of beschermd door
"materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6",
bevattende een dempend medium en waarvan de magneet
is gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet
die aan het bovendeksel van de rotor is bevestigd;
8. speciaal ontworpen lagers, bestaande uit een taats/
lagerkom-samenstel, gemonteerd op een demper;
9. turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met
inwendige, machinaal vervaardigde of geëxtrudeerde lang-
werpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal
vervaardigde boorgaten;
10. ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hyste-
resis-motoren (magnetische-weerstandsmotoren) voor
synchrone werking in vacuüm, meteen frequent iebereik2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 35
▼M3
van 600 Hz tot 2 000 Hz en een vermogensbereik van
50 VA tot 1 000 VA;
11. centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de
rotorbuis van een gascentrifuge te bevatten, bestaande uit
een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met
nauwkeurig afgewerkte uiteinden en vervaardigd van of
beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie
door UF6";
12. inlaatstukken bestaande uit buizen met een binnendiameter
tot 12 mm voor de extractie van UF6-gas uitde rot orbuis
van een gascentrifuge volgens het principe van een Pitot-
buis, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat
bestand is tegen corrosie door UF6";
13. frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal
ontworpen of vervaardigd voor de voeding van motorsta-
tors van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen
onderdelen hiervoor, die aan alle hieronderstaande speci-
ficaties voldoen:
a. een meerfasige elektrische spanning van 600 Hz tot
2 000 Hz;
b. frequentieafwijkingen van minder dan 0,1 %;
c. een harmonische vervorming van minder dan 2 %; en
d. een rendement, hoger dan 80 %;
c. speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of
vervaardigde uitrusting en onderdelen, zoals:
1. membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metal-
lisch, polymeer of keramisch "materiaal dat bestand is tegen
corrosie door UF6", met een poriegrootte van 10 tot 100 nm,
een dikte van 5 mm of minder en, voor buisvormige
membranen, meteen diamet er van 25 mm of minder;
2. gasdiffusorvaten, vervaardigd van of beschermd door
"materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";
3. compressoren (verdringer, centrifugale en axiale typen) of
aanjagers meteen aanzuigcapacit eitvan 1 m3/min of meer
UF6en een werkdruk van maximaal 666,7 kPa, vervaardigd
van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen
corrosie door UF6";
4. asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in
0B001.c.3, ontworpen op een inleksnelheid van het
buffergas van minder dan 1 000 cm3/min;
5. warmtewisselaars, vervaardigd van aluminium, koper, nikkel
of legeringen die meer dan 60 percent nikkel bevatten of
combinaties van deze metalen, in de vorm van beklede
buizen, ontworpen voor gebruik bij drukken lager dan de
atmosferische druk, met een leksnelheid die een drukstijging
van minder dan 10 Pa/uur veroorzaaktbij een drukverschil
van 100 kPa;
6. balgafsluiters met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm,
vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is
tegen corrosie door UF6";
d. speciaal voor aërodynamische scheidingsprocessen ontworpen
of vervaardigde uitrusting en onderdelen zoals:
1. scheidingsstraalpijpen, bestaande uit spleetvormige,
gebogen kanalen met een kromtestraal van minder dan
1 mm, bestand tegen corrosie door UF6, metin de st raalpijp
een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën
deelt;
2. tangentiële instroombuizen (cilindrisch of conisch) (vortex-
buizen), vervaardigd van of beschermd met"mat eriaal dat
bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter tussen
0,5 cm en 4 cm en een lengte/diameterverhouding, gelijk aan
of kleiner dan 20:1 en met een of meer tangentiële inlaten;
3. compressoren (verdringer-, centrifugale en axiale typen) of
aanjagers meteen aanzuigcapacit eitvan 2 m3/min of meer,
vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is
tegen corrosie door UF6" en asafdichtingen daarvoor;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 36
▼M3
4. warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd met
"materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";
5. behuizingen van aërodynamische scheidingselementen,
vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand
is tegen corrosie door UF6", speciaal ontworpen om
vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te bevatten;
6. balgafsluiters, vervaardigd van of beschermd met "materiaal
dat bestand is tegen corrosie door UF6", meteen diamet er
van 40 tot 1 500 mm;
7. processystemen om UF6van het dragergas (waterstof of
helium) te scheiden tot een gehalte van 1 ppm UF6of
minder, metinbegrip van:
a. cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die
geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (− 120 ºC) of
lager;
b. cryogene koeleenheden die geschiktzijn voor t empera-
turen van 153 K (− 120 ºC) of lager;
c. scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding
van UF6van hetdragergas;
d. koudevallen voor UF6die geschikt zijn voor temperaturen
van 253 K (− 20 ºC) of lager;
e. speciaal voor scheidingsprocessen metbehulp van chemische
uitwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onder-
delen zoals:
1. pulskolomcontactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisse-
ling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder
en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd
van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluor-
koolwaterstofpolymeren of glas);
2. centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuit-
wisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of
minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv.
vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen
zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas);
3. elektrochemische reductiecellen, bestand tegen oplossingen
van geconcentreerd zoutzuur, ontworpen om uraan in
valentie te veranderen;
4. voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen,
ontworpen om U+4uit de organische stroom te verwijderen
en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact
komen, vervaardigd van of beschermd metgeschikt e
materialen (bv. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren, poly-
fenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd
grafiet);
5. systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal,
ontworpen om een zeer zuivere uraanchlorideoplossing te
produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplos-
sing brengen, voor vloeistofextractie en/of voor
ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen
voor de reductie van U+6of U+4tot U+3;
6. oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3te oxideren
tot U+4;
f. speciaal voor scheidingsprocessen metbehulp van ionenwisse-
laars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen,
zoals:
1. ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of
poreuze harsen met een macroscopische vernetting, waarin
de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in
een oppervlaktelaag op een inactieve poreuze ondersteu-
nende structuur en andere composiete structuren met een
geschikte vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters
van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen geconcen-
treerd zoutzuur en zijn ontworpen op een
uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 seconden en
die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van
373 K (100 ºC) tot 473 K (200 ºC);
2. ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter
dan 1 000 mm, vervaardigd van of beschermd metmat eriaal
dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. titaan of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 37
▼M3
kunststoffen op basis van fluorkoolwaterstof), die geschikt
zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 ºC)
tot 473 K (200 ºC) en werkdrukken boven 0,7 MPa;
3. ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische
oxidatie- of reductiesystemen) voor het regenereren van de
chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwissel-
verrijkingscascades worden gebruikt;
g. speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met atomaire-damp-
"lasers" (AVLIS) ontworpen of vervaardigde uitrusting en
onderdelen, zoals:
1. krachtige ioniserings- of scanning-elektronenkanonnen met
een afgegeven vermogen van meer dan 2,5 kW/cm, die
worden gebruikt in een systeem om uraan te verdampen;
2. systemen voor het hanteren van vloeibaar uraanmetaal voor
gesmolten uraan of uraan-legeringen, bestaande uit smelt-
kroezen, vervaardigd van of beschermd metgeschikt e
corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met
yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met andere
oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en
koelapparatuur voor de smeltkroezen;
N.B.: ZIE OOK 2A225.
3. opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaar-
digd van of bekleed met materialen die bestand zijn tegen de
hitte en de corrosie van uraanmetaaldamp of vloeistof zoals
bv. met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;
4. behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of recht-
hoekige vaten) die zijn ontworpen om de
uraanmetaaldampbron, het elektronenkanon en de opvang-
systemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten;
5. "lasers" of "laser"-systemen voor de scheiding van uraanis-
otopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum,
bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;
N.B.: ZIE OOK 6A005 EN 6A205.
h. speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met moleculaire
lasers (MLIS) of met chemische reacties door selectieve
laseractivering van een of meer isotopen (CRISLA) ontworpen
of vervaardigde uitrusting en onderdelen, zoals:
1. supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van meng-
sels van UF6en transportgas tot 150 K (− 123 ºC) of minder
en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie
door UF6";
2. productopvangsystemen voor uraanpentafluoride (UF5),
bestaande uit collectoren van het filter-, impact- of
cycloontype of combinaties daarvan en vervaardigd van
"materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF5/UF6";
3. compressoren, vervaardigd van of beschermd door "mate-
riaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", en
asafdichtingen daarvoor;
4. uitrusting om UF5(vaste stof) te fluoreren tot UF6(gas);
5. processystemen voor het scheiden van UF6van hett rans-
portgas (bv. met stikstof of argon) met inbegrip van:
a. cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die
geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (− 120 ºC) of
lager;
b. cryogene koeleenheden die geschiktzijn voor t empera-
turen van 153 K (− 120 ºC) of lager;
c. koelvallen voor UF6die geschikt zijn voor temperaturen
van 253 K (− 20 ºC) of lager;
6. "lasers" of "laser"-systemen voor de scheiding van uraanis-
otopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum,
bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;
N.B.: ZIE OOK 6A005 EN 6A205.
i. speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of
vervaardigde uitrusting en onderdelen, zoals:
1. microgolfbronnen en antennes voor het produceren of
versnellen van ionen, met een uitgangsfrequentie hoger2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 38
▼M3
dan 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer
dan 50 kW;
2. RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz
en meteen gemiddeld vermogen van meer dan 40 kW;
3. systemen voor het genereren van een uraanplasma;
4. systemen voor het hanteren van vloeibaar metaal, voor
gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smelt-
kroezen, vervaardigd van of beschermd metgeschikt e
corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met
yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet, bedekt met andere
oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en
koelapparatuur voor de smeltkroezen;
N.B.: ZIE OOK 2A225.
5. opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaar-
digd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen de
hitte en de corrosie van uraandamp, zoals bv. met yttrium-
oxide bedekt grafiet of tantaal;
6. behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch),
ontworpen om de uraanplasmabron, de radiofrequente spoel
en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te
bevatten en vervaardigd van een geschikt niet-magnetisch
materiaal (bv. roestvrij staal);
j. speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen
ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, zoals:
1. enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een
dampbron, ionisator en bundelversneller, vervaardigd van
geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet, roestvrij
staal of koper) en geschikt om een totale ionenbundelstroom
te leveren van 50 mA of meer;
2. ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels
met verrijkt of verarmd uraan, bestaande uit twee of meer
spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte, niet-
magnetische materialen (bv. grafiet of roestvrij staal);
3. vacuümbehuizingen voor elektromagnetische uraanschei-
ders, vervaardigd van niet-magnetische materialen (bv.
roestvrij staal) en ontworpen op een werkdruk van 0,1 Pa
of lager;
4. magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan
2m ;
5. hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onder-
staande eigenschappen hebben:
a. geschiktvoor cont inubedrijf;
b. uitgangsspanning 20 000 V of meer;
c. uitgangsstroom 1 A of meer; en
d. spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van
8 uur;
N.B.: ZIE OOK 3A227.
6. voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom),
die alle onderstaande eigenschappen hebben:
a. geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van
500 A of meer en een spanning van 100 V of meer; en
b. stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een
periode van 8 uur.
N.B.: ZIE OOK 3A226.
0B002 Speciaal voor isotoopscheidingsinstallaties als bedoeld in 0B001
ontworpen of vervaardigde hulpsystemen, uitrusting en onder-
delen, zoals hieronder vermeld, vervaardigd van of beschermd met
"materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6":
a. voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren
van UF6naar hetverrijkingsproces;
b. desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6uit het verrijkingsproces te verwijderen voor verder transport na
verhitting;
c. opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6in
containers op te slaan;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 39
▼M3
d. liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6uit
hetverrijkingsproces t e verwijderen door UF6samen te persen,
af te koelen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm;
e. speciaal ontworpen stelsels van pijpen en «headers» om het UF6te hanteren binnen de gasdiffusie-, centrifuge- of aërodynami-
sche cascades;
f. 1. speciaal ontworpen vacuümspruitstukken en «headers» met
een afzuigcapaciteit van 5 m3/min of meer; of
2. vacuümpompen, speciaal ontworpen voor gebruik in een
atmosfeer die UF6bevat;
g. UF6-massaspectrometers/ionenbronnen, speciaal ontworpen of
vervaardigd om «on line» monsters te kunnen nemen van de
UF6-voedingsstroom, van verarmde en van verrijkte UF6-
gasstromen en die alle onderstaande eigenschappen hebben:
1. oplossend vermogen 1 a.m.e. voor massa's groter dan 320
a.m.e.;
2. ionenbronnen, vervaardigd van of bekleed metnichroom of
monel of vervaardigd van vernikkelde onderdelen;
3. ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting; en
4. collectorsysteem, geschikt voor isotoopanalyse.
0B003 Fabrieken voor de omzetting van uraan en speciaal daarvoor
ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:
a. systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3;
b. systemen voor de omzetting van UO3in UF6;
c. systemen voor de omzetting van UO3in UO2;
d. systemen voor de omzetting van UO2in UF4;
e. systemen voor de omzetting van UF4in UF6;
f. systemen voor de omzetting van UF4in uraanmetaal;
g. systemen voor de omzetting van UF6in UO2;
h. systemen voor de omzetting van UF6in UF4;
i. systemen voor de omzetting van UO2in UCl4.
0B004 Fabrieken voor de productie of concentratie van zwaar water,
deuterium en deuteriumverbindingen en speciaal daarvoor
ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:
a. installaties voor de productie van zwaar water, deuterium of
deuteriumverbindingen zoals:
1. water-zwavelwaterstof-wisselinstallaties;
2. ammoniak-waterstof-wisselinstallaties;
b. uitrusting en onderdelen, zoals hieronder vermeld:
1. water-zwavelwaterstof-wisseltorens, vervaardigd van gezui-
verd koolstofstaal (bv. ASTM A516) met een diameter van 6
tot 9 meter, geschikt voor werking bij een druk van 2 MPa
of meer en meteen corrosiet oeslag van 6 mm of meer;
2. eentraps, centrifugale aanjagers of compressoren met lage
opvoerdruk (d.w.z. 0,2 MPa), voor de circulatie van
zwavelwaterstofgas (d.w.z. gas dat meer dan 70 % H2S
bevat) met een verwerkingscapaciteit van ten minste 56 m3/
sec wanneer er gewerktwordtbij drukniveaus van t en
minste 1,8 MPa aan de zuigzijde, en met afdichtingen,
ontworpen voor natte H2S-gassen;
3. ammoniak-waterstof-wisseltorens van 35 meter of hoger met
een diameter tussen 1,5 en 2,5 m die kunnen werken bij een
druk van meer dan 15 MPa;
4. inwendige delen van torens, met inbegrip van getrapte
contactgroepen, en getrapte pompen met inbegrip van
dompelpompen voor de productie van zwaar water met het
ammoniak-waterstof-wisselprocédé;
5. ammoniak-kraakinstallaties die werken bij een druk van
3 MPa of meer voor de productie van zwaar water met het
ammoniak-waterstof-wisselprocédé;
6. infraroodabsorptieanalyseapparatuur die "on-line" waterstof-
deuterium-verhoudingen kan meten waarbij de deuterium-
concentratie 90 % of meer is;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 40
▼M3
7. katalytische branders voor de omzetting van verrijkt
deuteriumgas in zwaar water met het ammoniak-waterstof-
wisselprocédé;
8. complete systemen voor het veredelen van zwaar water, of
kolommen daarvoor, voor het veredelen van zwaar water tot
een deuteriumconcentratie die in een kernreactor bruikbaar
is.
0B005 Fabrieken, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van splijt-
stofelementen voor "kernreactoren" en speciaal ontworpen of
vervaardigde uitrusting daarvoor.
Noot: Een fabriek voor de vervaardiging van splijtstofele-
menten voor "kernreactoren" omvat uitrusting die:
a. in de regel in rechtstreeks contact komt met de
productiestroom van nucleair materiaal of deze
rechtstreeks verwerkt of reguleert;
b. zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal
in de splijtstofstaaf;
c. de goede staat van de bekleding of van de afdichting
van de splijtstofstaaf controleert; of
d. de eindbehandeling van de afgesloten splijtstof
controleert.
0B006 Fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen en
speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en
onderdelen.
Noot: 0B006 omvat:
a. fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijt-
stofelementen voor "kernreactoren", met inbegrip van
uitrusting en onderdelen die in de regel rechtstreeks
in aanraking komen met de bestraalde splijtstof en de
voornaamste processtromen van nucleair materiaal en
splijtingsproducten, en die rechtstreeks regelen;
b. hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofele-
menten, d.w.z. op afstand bediende uitrusting voor het
snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstof-
pakketten, -bundels of -staven voor "kernreactoren";
c. oplostanks, d.w.z. kritisch veilige tanks (bv. ring- of
plaattanks met een kleine diameter), speciaal
ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van
bestraalde splijtstof van "kernreactoren", die bestand
zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op
afstand gevuld en onderhouden kunnen worden;
d. tegenstroom-vloeistofextractors en ionenwisselappa-
ratuur, speciaal ontworpen of vervaardigd voor
gebruik in een fabriek voor het opwerken van
bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of
"speciale splijtstoffen";
e. voorraad- of opslagvaten, speciaal ontworpen om
kritisch veilig te zijn en bestand tegen de corrosieve
werking van salpeterzuur;
Noot: Voorraad- of opslagvaten kunnen de
volgende kenmerken bezitten:
1. wanden of inwendige structuren met een
boorequivalent (berekend voor alle
samenstellende delen als gedefinieerd in
de noot bij 0C004) van ten minste twee
procent;
2. een maximale diameter van 175 mm voor
cilindrische vaten; of
3. een maximale breedte van 75 mm voor
rechthoekige of ringvormige vaten.
f. instrumenten voor de regeling van processen, speciaal
ontworpen of vervaardigd voor het bewaken of het
regelen van de opwerking van bestraald "natuurlijk
uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen".2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 41
▼M3
0B007 Fabrieken voor de omzetting van plutonium en speciaal daarvoor
ontworpen of vervaardigde uitrusting, zoals hieronder vermeld:
a) systemen voor de omzetting van plutoniumnitraat in plutoniu-
moxide;
b) systemen voor de productie van plutoniummetaal.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 42
▼M3
0C Materialen
0C001 "Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm van
metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en elk
materiaal dat het voorgaande bevat.
Noot: In 0C001 zijn niet bedoeld:
a. vier gram of minder "natuurlijk uraan" of "verarmd
uraan", indien in een afgesloten gedeelte van een
meetelement in instrumenten;
b. "verarmd uraan", speciaal vervaardigd voor de
volgende civiele en niet-nucleaire toepassingen:
1. afschermingsmateriaal;
2. verpakkingsmateriaal;
3. ballast met een massa van ten hoogste 100 kg;
4. contragewichten met een massa van ten hoogste
100 kg;
c. legeringen met minder dan 5 % thorium;
d. keramische, thorium bevattende producten die zijn
vervaardigd voor niet-nucleair gebruik.
0C002 "Speciale splijtstoffen".
Noot: In 0C002 is niet bedoeld vier "effectieve gram" of
minder, indien in een afgesloten gedeelte van een
meetelement in instrumenten.
0C003 Deuterium, zwaar water (deuteriumoxide) en andere deuterium-
verbindingen, en mengsels en oplossingen die deuterium bevatten,
waarin de isotoopverhouding van deuterium tot waterstof groter is
dan 1 : 5 000.
0C004 Grafiet, geschikt voor toepassing in kernreactoren, d.w.z. met een
zuiverheidsgraad beter dan vijf delen per miljoen (ppm) 'boor-
equivalent', en met een dichtheid groter dan 1,5 g/cm3.
N.B.: ZIE OOK 1C107.
Noot 1: 0C004 is niet van toepassing op:
a. producten vervaardigd van grafiet met een massa
van minder dan 1 kg en niet speciaal ontworpen of
vervaardigd voor gebruik in een kernreactor;
b. grafietpoeder.
Noot 2: In 0C004 wordt 'boorequivalent' (BE) gedefinieerd als
de som van BEZvoor onzuiverheden (met uitzondering
van BEkoolstofaangezien koolstof niet wordt beschouwd
als een onzuiverheid), met inbegrip van boor, waarbij
geldt:
BEZ(ppm) = CF × concentratie van element Z in ppm;
hierin is CF de conversiefactor =σZ/C2AB
σB/C2AZen zijn σBenσZde doorsneden voor de vangst van
thermische neutronen (in barn) voor respectievelijk
natuurlijk voorkomend boor en element Z; en zijn ABen
AZde atoommassa's van respectievelijk natuurlijk
voorkomend boor en element Z.
0C005 Speciaal vervaardigde verbindingen of poeders voor de fabricage
van membranen voor gasdiffusie die bestand zijn tegen corrosie
door UF6(bv. nikkel of een legering met60 gewicht spercentof
meer aan nikkel, aluminiumoxide en volledig gefluoreerde kool-
waterstofpolymeren), met een zuiverheidsgraad van 99,9
gewichtspercent of meer, met een gemiddelde korrelgrootte,
kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens de ASTM B-330-
standaard (American Society for Testing and Materials) en met een
zeer uniforme deeltjesgrootte.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 43
▼M3
0D Programmatuur
0D001 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen
bedoeld in deze categorie.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 44
▼M3
0E Technologie
0E001 "Technologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor
de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen
bedoeld in deze categorie.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 45
▼M3
CATEGORIE 1
MATERIALEN, CHEMICALIËN, "MICRO-ORGANISMEN",
"TOXINES"2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 46
▼M3
1A Systemen, apparatuur en onderdelen
1A001 Onderdelen vervaardigd van gefluoreerde verbindingen, zoals:
a. afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele
brandstoftanks («fuel bladders»), welke voor meer dan
50 gewichtspercenten bestaan uit enig materiaal als bedoeld
in 1C009.b of 1C009.c, speciaal ontworpen voor gebruik in de
ruimte of in vliegtuigen;
b. piëzo-elektrische polymeren en copolymeren gemaakt van
vinylideenfluoride als bedoeld in 1C009.a:
1. in plaat- of folievorm; en
2. met een dikte van meer dan 200 micrometer;
c. afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele brandstoftanks
(«fuel bladders») of membranen bestaande uit fluorelastomeren
welke ten minste één vinylethergroep als structuurelement
bevatten, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte, in
"raketten" of in "vliegtuigen".
Noot: In 1A001.c worden onder "raketten" complete raket-
systemen en systemen voor onbemande
luchtvaartuigen verstaan.
1A002 "Composieten" of laminaten, met een of meer van de volgende
eigenschappen:
N.B.: ZIE OOK 1A202, 9A010 EN 9A110.
a. met een organische "matrix" en gemaakt van materialen als
bedoeld in 1C010.c, 1C010.d of 1C010.e; of
b. met een metaal-"matrix" of koolstof-"matrix" en gemaakt van:
1. koolstof-"stapel- en continuvezelmateriaal" met:
a. een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106m;en
b. een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104m;of
2. materialen als bedoeld in 1C010.c.
Noot 1: 1A002 is niet van toepassing op composieten of
laminaten gemaakt van met epoxyhars geïmpregneerd
koolstof-"stapel- of continuvezelmateriaal" voor de
reparatie van vliegtuigcasco's of laminaten, met een
maximale grootte van 1 m2.
Noot 2: 1A002 is niet van toepassing op eindproducten of
halffabrikaten die speciaal zijn ontworpen voor zuiver
civiele toepassingen in de volgende sectoren:
a. sportartikelen;
b. auto-industrie;
c. werktuigmachine-industrie;
d. medische toepassingen.
1A003 Producten vervaardigd van niet-gefluoreerde polymere stoffen als
bedoeld in 1C008.a.3, in de vorm van film, vellen, band of lint,
meteen van de onderst aande eigenschappen:
a. een dikte groter dan 0,254 mm; of
b. bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of
magnetische substanties.
Noot: 1A003 is niet van toepassing op producten bekleed of
gelamineerd met koper die zijn ontworpen voor de
productie van elektronische gedrukte schakelingen.
1A004 Beschermings- en detectie-apparatuur en onderdelen daarvan die
nietonder de Lijstmilit aire goederen vallen, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 2B351 EN 2B352.
a. gasmaskers, filterbussen en decontaminatieapparatuur daarvoor
die zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming
tegen biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor
oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering,
alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;
b. beschermingspakken, -handschoenen en -schoenen die speciaal
zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 47
▼M3
biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsge-
bruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering;
c. nucleaire, biologische en chemische (NBC) detectieapparatuur
die speciaal is ontworpen of aangepast voor de detectie of
identificatie van biologische of radioactieve stoffen, aangepast
voor oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering,
alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.
Noot: 1A004 is niet van toepassing op:
a. individuele dosismeters voor stralingscontrole;
b. uitrusting die door haar ontwerp of functie beperkt is
tot bescherming tegen risico's die eigen zijn aan
civiele industriesectoren, zoals mijnbouw, steen-
groeven, landbouw, de farmaceutische, medische,
diergeneeskundige, milieu-, afvalbeheer- en voedings-
industrie.
1A005 Lichaamspantsers, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen,
anders dan vervaardigd volgens militaire normen of specificaties
of gelijkwaardige prestatienormen.
N.B.: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.
Noot 1: 1A005 is niet van toepassing op kogelvrije vesten en
toebehoren daarvoor, wanneer die door de gebruiker
worden meegevoerd met het oog op zijn/haar persoon-
lijke bescherming.
Noot 2: 1A005 is niet van toepassing op lichaamspantsers die
bestemd zijn om uitsluitend frontale bescherming te
bieden tegen door niet-militaire explosieven veroor-
zaakte luchtverplaatsingen of scherven.
1A102 Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-
componenten bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in
9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.
1A202 Composieten, met uitzondering van de in 1A002 bedoelde
composieten, in buisvorm, met beide volgende kenmerken:
N.B.: ZIE OOK 9A010 EN 9A110.
a. een binnendiameter van 75-400 mm; en
b. vervaardigd van "stapel- en continuvezelmateriaal" als bedoeld
in 1C010.a of 1C010.b of 1C210.a of metkoolst of-«prepreg»-
materiaal als bedoeld in 1C210.c.
1A225 Geplatineerde katalysatoren, speciaal ontworpen of vervaardigd
voor het bevorderen van de waterstof-isotoop-uitwisseling tussen
waterstof en water voor het terugwinnen van tritium uit zwaar
water of voor de productie van zwaar water.
1A226 Specifieke pakkingen die kunnen worden gebruiktvoor de
scheiding van zwaar water van gewoon water, met beide volgende
kenmerken:
a. vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons (chemisch behan-
deld ter verbetering van de bevochtigingsgraad); en
b. ontworpen voor gebruik in vacuüm-distillatietorens.
1A227 Stralingafschermende ramen (van loodglas of ander materiaal) met
alle hiernavolgende kenmerken en speciaal ontworpen kozijnen
daarvoor:
a. een 'koude zone' groter dan 0,09 m2;
b. een dichtheid groter dan 3 g/cm3;en
c. een dikte van 100 mm of meer.
Technische noot:In 1A227wordt onder 'koude zone' verstaan, de kijkzone van het
raam die is blootgesteld aan het laagste stralingsniveau in de
constructietoepassing.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 48
▼M3
1B Test-, inspectie- en productieapparatuur
1B001 Apparatuur voor de vervaardiging van vezels, geïmpregneerde
vezels («prepregs»), beklede vezels («preforms») of "composieten"
als bedoeld in 1A002 of 1C010, als hieronder, en speciaal
ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:
N.B.: ZIE OOK 1B101 EN 1B201.
a. draadwindmachines waarvan de bewegingen voor hetgericht
opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of
meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd,
speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten"
of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal";
b. band- of lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het
gerichtopbrengen en leggen van banden, lint en of vellen in
twee of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogram-
meerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van
"composieten" voor vliegtuigen en raketten;
Noot: In 1B001.b worden onder "raketten" complete raket-
systemen en systemen voor onbemande
luchtvaartuigen verstaan.
c. weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en
dimensies kunnen werken metinbegrip van aanpassings- of
wijzigingsuitrustingen, voor het weven, dooreenvlechten of
omvlechten van vezelmateriaal ter vervaardiging van "compo-
sieten";
Noot: In 1B001.c zijn niet bedoeld textielmachines die niet
voor bovengenoemde eindtoepassingen zijn aange-
past.
d. apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardi-
ging van versterkingsvezels, als hieronder:
1. apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals
polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen of polycarbosilaan) in
koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met
inbegrip van speciale voorzieningen voor hetst rekken van
de vezels tijdens verhitting;
2. apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbin-
dingen uitde dampfase op verwarmde
continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels
bestaande uit siliciumcarbide;
3. apparatuur voor het natspinnen van vuurvaste keramische
materialen (bv. aluminiumoxide);
4. apparatuur voor het omzetten van aluminium dat voor-
lopervezelmaterialen bevat, in aluminiumoxidevezels door
middel van warmtebehandeling;
e. apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode
vervaardigen van de «prepregs» bedoeld in 1C010.e;
f. inspectieapparatuur welke gebruikmaakt van niet-destructieve
technieken (NDT), geschikt voor het driedimensionaal
opsporen van gebreken, welke gebruikmaaktvan ult rasone of
röntgentomografie en speciaal is ontworpen voor "compo-
sieten".
1B002 Apparatuur voor het vervaardigen van metaallegeringen, metaal-
legeringspoeder of gelegeerde materialen, speciaal ontworpen om
contaminatie te voorkomen en speciaal ontworpen voor gebruik in
een van de in 1C002.c.2 bedoelde procédés.
N.B.: ZIE OOK 1B102.
1B003 Gereedschap, matrijzen, stempels of klemmen voor het "super-
plastisch vormen" of "diffusielassen" van titaan of aluminium of
legeringen daarvan, speciaal ontworpen voor het vervaardigen van:
a. constructies voor lucht- of ruimtevaart;
b. motoren voor "vliegtuigen" of ruimtevaartuigen; of
c. speciaal ontworpen onderdelen voor bedoelde constructies en
motoren.
1B101 Apparatuur, met uitzondering van de onder 1B001 bedoelde
apparatuur voor de vervaardiging van composieten, als hieronder,
en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 49
▼M3
N.B.: ZIE OOK 1B201.
Noot: De in 1B101 bedoelde onderdelen en toebehoren
omvatten onder meer matrijzen, doornen, stempels,
klemmen en gereedschappen voor het persen van voor-
vormstukken, of het harden, gieten, sinteren of binden
van composieten, laminaten en producten daarvan.
a. draadwindmachines, waarvan de bewegingen voor hetgericht
opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of
meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogram-
meerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of
laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal", alsmede
best uringseenheden voor hetcoördineren en hetprogrammeren
daarvan;
b. bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor hetgericht
opbrengen en leggen van banden en vellen in twee of meer
richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd,
ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor
casco's en andere delen van vliegtuigen en "raketten";
c. apparatuur, als hieronder, ontworpen of aangepast voor de
"productie" van "stapel- of continuvezelmateriaal":
1. apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals
polyacrylonitryl, rayon of polycarbosilaan) met inbegrip van
speciale voorzieningen voor hetst rekken van de vezels
tijdens verhitting;
2. apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbin-
dingen uit de dampfase op verhitte continuvezelsubstraten;
3. apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige kerami-
sche materialen (bv. aluminiumoxide);
d. apparatuur, ontworpen of aangepast voor speciale oppervlakte-
behandeling van vezels of voor hetvervaardigen van de
«prepregs» en «preforms», als bedoeld in 9C110.
Noot: 1B101.d omvat onder meer rollen, strektoestellen,
apparatuur voor het aanbrengen van deklagen, snij-
apparatuur en stansvormen.
1B102 Andere metaalpoeder-"productieapparatuur" dan die bedoeld in
1B002 en onderdelen, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 1B115.b.
a. metaalpoeder-"productieapparatuur", bruikbaar voor de
"productie" in een gecontroleerde omgeving van sferische of
vernevelde materialen als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b,
1C111.a.1, 1C111.a.2 of in de Lijstmilit aire goederen;
b. speciaal ontworpen onderdelen van "productieapparatuur" als
bedoeld in 1B002 of 1B102.a.
Noot: 1B102 omvat:
a. plasmageneratoren (hogefrequentieboogstraal),
bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of
sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;
b. «electroburst»apparatuur, bruikbaar voor het
verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders
in een argon-waterig milieu;
c. apparatuur, bruikbaar voor de "productie" van
sferisch aluminiumpoeder door verpulvering van een
smelt in een inert medium (bv. stikstof).
1B115 Andere apparatuur dan die, bedoeld in 1B002 en 1B102, voor de
productie van stuwstoffen en bestanddelen daarvan, als hieronder,
en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
a. "productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren of het
keuren van vloeibare stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als
bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijstmilit aire
goederen;
b. "productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren,
mengen, harden, gieten, persen, machinaal bewerken, spuit-
gieten of keuren van vaste stuwstoffen of bestanddelen daarvan,
als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijstmilit aire
goederen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 50
▼M3
Noot: In 1B115.b zijn niet bedoeld niet-continumengers,
continumengers en luchtstraalmolens. Voor de
controle daarop zie 1B117, 1B118 en 1B119.
Noot 1: Zie de Lijst militaire goederen voor apparatuur
speciaal ontworpen voor de productie van militaire
goederen.
Noot 2: In 1B115 is niet bedoeld apparatuur voor het vervaar-
digen, hanteren en keuren van boorcarbide.
1B116 Speciaal ontworpen spuitmonden voor de "productie" van
pyrolytisch gevormde materialen op een as, mal of ander substraat
van voorlopergassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K
(1 300 ºC) tot 3 173 K (2 900 ºC) en een druk van 130 Pa tot
20 kPa.
1B117 Niet-continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder
vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid
om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met alle
navolgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daar-
voor:
a. een totale inhoud van 110 l of meer; en
b. ten minste één excentrisch geplaatste meng- of kneedas.
1B118 Continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder
vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid
om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met alle
navolgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daar-
voor:
a. twee of meer meng- of kneedassen; en
b. de mogelijkheid om de mengkamer te openen.
1B119 Luchtstraalmolens die gebruikt kunnen worden om de stoffen,
genoemd in 1C011.a, 1C011.b, 1.C.111 of in de Lijstmilit aire
goederen, te malen of te stampen, en speciaal ontworpen
onderdelen daarvoor.
1B201 Draadwindmachines, uitgezonderd machines als bedoeld in 1B001
of 1B101, en bijbehorende apparatuur, als hieronder:
a. draadwindmachines metalle volgende kenmerken:
1. de bewegingen voor hetgerichtopbrengen, wikkelen en
winden van vezelmateriaal zijn in twee of meer richtingen
gecoördineerd en geprogrammeerd;
2. de machines zijn speciaal ontworpen voor de vervaardiging
van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuve-
zelmateriaal"; en
3. geschiktvoor hetwinden van cilindrische rot oren meteen
diameter van 75 mm tot 400 mm en een lengte van 600 mm
of meer;
b. besturingseenheden voor het coördineren en programmeren van
de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines;
c. zeer nauwkeurige spillen voor de in 1B201.a bedoelde draad-
windmachines.
1B225 Elektrolytische cellen voor de productie van fluor met een
capaciteit van meer dan 250 g fluor per uur.
1B226 Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitge-
rust met enkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een totale
ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren.
Noot: 1B226 omvat tevens scheiders:
a. geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen;
b. waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het
magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze
zich buiten het veld bevinden.
1B227 Converters voor ammoniaksynthese of ammoniaksynthese-
eenheden waarin het synthesegas (stikstof en waterstof) wordt
onttrokken uit een hogedrukkolom voor de uitwisseling van
ammoniak en waterstof en de gevormde ammoniak naar deze
kolom wordtt eruggevoerd.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 51
▼M3
1B228 Kolommen voor de cryogene distillatie van waterstof met alle
volgende kenmerken:
a. ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K
(− 238 ºC) of lager;
b. ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa (5-
50 atm.);
c. vervaardigd van
1. roestvrij staal van de 300-serie met een laag zwavelgehalte
en een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-
standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austeni-
tisch staal; of
2. gelijkwaardige cryogene materialen die tevens H2verdragen;
d. met een binnendiameter van 1 m of meer en een nuttige lengte
van 5 m of meer.
1B229 Schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling en
de interne contactorganen daarvoor, als hieronder:
N.B.: Voor kolommen die speciaal zijn ontworpen of vervaar-
digd voor de productie van zwaar water zie 0B004.
a. schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling,
metalle volgende kenmerken:
1. geschiktvoor werking bij een nominale druk van 2 MPa of
groter;
2. vervaardigd van koolstofstaal met een korrelgroottegetal van
5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijk-
waardige standaard), voor austenitisch staal; en
3. meteen diamet er van 1,8 m of meer;
b. de in 1B229.a bedoelde 'interne contactgroepen' voor de
schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling.
Technische noot:
De 'interne contactgroepen' van de kolommen bestaan uit
gesegmenteerde schotels met een effectieve gezamenlijke
diameter van 1,8 m of meer, zijn ontworpen voor het in
tegenstroom met elkaar in contact brengen, en vervaardigd van
roestvrij staal met een koolstofgehalte van 0,03 % of minder.
Zij kunnen de vorm hebben van zeefschotels, klepschotels,
borrelklokjesschotels en turboroosterschotels.
1B230 Pompen, geschikt voor de circulatie van geconcentreerde of
verdunde oplossingen van de katalysator kaliumamide in vloeibare
ammoniak (KNH2/NH3), metalle volgende kenmerken:
a. luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten);
b. meteen capacit eitvan meer dan 8,5 m3/uur; en
c. een van de volgende kenmerken:
1. voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of
meer), een werkdruk van 1,5-60 MPa; of
2. voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan
1 %), een werkdruk van 20-60 MPa.
1B231 Tritiuminstallaties of -fabrieken, en apparatuur daarvoor, als
hieronder:
a. installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen,
extraheren, concentreren of behandelen van tritium;
b. apparatuur voor tritiuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:
1. waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot
23 K (− 250 ºC) of lager, met een warmteafvoercapaciteit
van meer dan 150 W; of
2. opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die
gebruikmaken van metaalhydriden als opslag- of zuive-
ringsmedium.
1B232 «Turbo expanders» of turbo-expansie/compressiesets met beide
volgende kenmerken:
a. ontworpen om te werken met een uitstroomtemperatuur van
35 K (− 238 ºC) of lager; en2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 52
▼M3
b. ontworpen voor een doorvoer van waterstofgas van 1 000 kg/h
of meer.
1B233 Installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen en
apparatuur daarvoor, als hieronder:
a. installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen;
b. apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen zoals:
1. gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselko-
lommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen;
2. kwik- en/of lithiumamalgaampompen;
3. lithiumamalgaam-elektrolysecellen;4. verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplos-
singen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 53
▼M3
1C Materialen
Technische noot:
Metalen en legeringen:
Behoudens andersluidende bepalingen worden in 1C001 tot en met
1C012 onder 'metalen' en 'legeringen' de hierna vermelde ruwe of
onbewerkte vormen en halffabrikaten verstaan:
Ruwe of onbewerkte vormen:
Anoden, kogels, staven (met inbegrip van gekerfde proefstaven en
draadmetaal), knuppels, blokken, blooms, briketten, uitgangs-
blokken, kathoden, kristallen, kubussen, blokjes, korrels, granules,
walsblokken, bobbels, pastilles, gietelingen, poeder, rondellen,
schroot, plakken, brokken, sponsen, stiften;
Halffabrikaten (al dan niet bekleed, beplaat, geboord of gestanst):
a. gesmede of bewerkte materialen die zijn vervaardigd door
middel van walsen, doortrekken, spuitgieten, smeden, slagex-
trusie, persen, korrelen, verstuiven en slijpen, namelijk:
hoekstaven, gootmetaal, ronde voorprofielen, schijven, stof,
vlokken, foelies en bladmetaal, smeedstukken, platen, poeder,
geperste stukken allerhande, linten, ringen, staven (met
inbegrip van ruwe lasstaven, walsdraad en diverse gewalste
draden), profielen, gietvormen, dunne platen, banden en buizen
allerhande (met inbegrip van ronde, vierkante en holle pijpen),
getrokken of geëxtrudeerde draad;
b. gegoten metaal vervaardigd door gieten in zand,metaal, gips of
andere types gietvormen, met inbegrip van onder hoge druk
gegoten producten, gesinterde vormen en door middel van
poedermetallurgie vervaardigde producten.
De doelstellingen van de controle mogen niet worden omzeild door
de uitvoer van niet gespecificeerde vormen waarvan wordt
beweerd dat het om afgewerkte producten gaat, maar die in feite
onbewerkte vormen of halffabrikaten zijn.
1C001 Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het
absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek gelei-
dende polymeren, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 1C101.
a. materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan
2×1 08Hz doch lager dan 3 × 1012Hz;
Noot 1: 1C001.a is niet van toepassing op:
a. absorberende materialen van het haartype,
ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke
of synthetische vezels, welke niet-magnetische
stoffen bevatten voor de absorptie;
b. absorberende materialen waarin geen magne-
tisch verlies optreedt en waarvan het invallend
oppervlak niet vlak is, zoals pyramiden, kegels,
wiggen en gedraaide oppervlakken;
c. vlakke absorberende materialen die al de onder-
staande kenmerken vertonen:
1. gemaakt van een van de volgende materialen:
a. kunststof schuimmaterialen (al dan niet
buigzaam) welke koolstof bevatten, of
organische materialen, met inbegrip van
binders, met meer dan 5 % echo verge-
leken met metaal over een bandbreedte
groter dan ± 15 % van de centrale
frequentie van de binnenkomende energie,
en niet bestand tegen temperaturen hoger
dan 450 K (177 ºC); of
b. keramische materialen met meer dan 20 %
echo vergeleken met metaal over een
bandbreedte groter dan ± 15 % van de
centrale frequentie van de binnenkomende
energie, en niet bestand tegen tempera-
turen hoger dan 800 K (527ºC);2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 54
▼M3
Technische noot:
Monsters voor het testen van de absorptie ten
behoeve van 1C001.a, noot 1.c.1, dienen een
vierkant te zijn van ten minste vijf golflengten
(van de middenfrequentie) aan één zijde en
geplaatst in het verre veld van het stralings-
element.
2. met een treksterkte van minder dan 7× 106N/
m2;en
3. meteendruksterktevanminderdan14×106N/
m2;
d. vlakke absorberende materialen gemaakt van
gesinterd ferriet, met:
1. een relatieve dichtheid groter dan 4,4; en
2. een maximale werktemperatuur van 548 K
(275 ºC);
Noot 2: Magnetische materialen voor absorptiedoeleinden
in verf vallen wel onder 1C001.a.
b. materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan
1,5 × 1014Hz doch lager dan 3,7 × 1014Hz welke geen zichtbaar
lichtdoorlat en;
c. intrinsiek geleidende polymere materialen met een 'specifieke
elektrische volumegeleidbaarheid' groter dan 10 000 S/m
(siemens per meter) of een 'specifieke oppervlakteweerstand'
kleiner dan 100 ohm/vierkant, op basis van een of meer van de
volgende polymeren:
1. polyaniline;
2. polypyrrool;3. polythiofeen;4. polyfenyleen-vinyleen;
of
5. polythienyleen-vinyleen.
Technische noot:
De 'specifieke elektrische volumegeleidbaarheid' en de 'speci-
fieke oppervlakteweerstand' dienen te worden bepaald met
behulp van ASTM D-257of nationale gelijkwaardige methoden.
1C002 Metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde mate-
rialen, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 1C202.
Noot: In 1C002 worden niet bedoeld: metaallegeringen,
metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, voor
het bekleden van substraten.
Technische noten:
1. De metaallegeringen, bedoeld in 1C002, zijn legeringen waarin
het genoemde metaal een hoger gewichtspercentage heeft dan
enig ander element.
2. De levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, dient te
worden gemeten volgens ASTM Standard E-139 of gelijk-
waardige nationale methoden.
3. De levendsduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting dient
te worden gemeten volgens ASTM Standard E-606 'Recom-
mended practice for constant-amplitude low-cycle fatigue
testing' of gelijkwaardige nationale equivalenten. Het testen
dient axiaal te geschieden met een gemiddelde belasting-
sverhouding gelijk aan 1 en een krachten-concentratiefactor
(Kt) gelijk aan 1. De gemiddelde belastingsverhouding wordt
gedefinieerd als de maximale belasting min de minimale
belasting gedeeld door de maximale belasting.
a. aluminiden, als hierboven:
1. nikkelaluminiden met minstens 15 gewichtspercenten alumi-
nium, hoogstens 38 gewichtsprocenten aluminium en
minstens één extra legeringselement;
2. titaanaluminiden met 10 of meer gewichtspercenten alumi-
nium en minstens één extra legeringselement;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 55
▼M3
b. metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van materiaal als
bedoeld in 1C002.c:
1. nikkellegeringen met:
a. een levensduur voordatspanningsbreuk opt reedtvan
10 000 uur of meer bij 923 K (650 ºC) en een spanning
van 676 MPa; of
b. een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting
van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale
spanning van 1 095 MPa bij 823 K (550 ºC);
2. niobiumlegeringen met:
a. een levensduur voordatspanningsbreuk opt reedtvan
10 000 uur of meer bij 1 073 K (800 ºC) en een spanning
van 400 MPa; of
b. een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting
van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale
spanning van 700 MPa bij 973 K (700 ºC);
3. titaanlegeringen met:
a. een levensduur voordatspanningsbreuk opt reedtvan
10 000 uur of meer bij 723 K (450 ºC) en een spanning
van 200 MPa; of
b. een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting
van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale
spanning van 400 MPa bij 723 K (450 ºC);
4. aluminiumlegeringen met een treksterkte van:
a. 240 MPa of meer bij 473 K (200 ºC); of
b. 415 MPa of meer bij 298 K (25 ºC);
5. magnesiumlegeringen met:
a. een treksterkte van 345 MPa of meer, en
b. een corrosiesnelheid lager dan 1 mm/jaar in een 3 %-
natriumchlorideoplossing in water, gemeten volgens
ASTM Standard G-31 of gelijkwaardige nationale
equivalenten;
c. metaallegeringspoeder of uit deeltjes bestaand materiaal voor
materialen, met alle volgende kenmerken:
1. gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen:
Technische noot:
X staat voor een of meer legeringselementen.
a. nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor
onderdelen of elementen voor turbinemotoren, d.w.z. met
minder dan drie niet-metallieke deeltjes (verontreini-
gingen van hetfabricageproces) grot er dan
100 micrometer op 109legeringsdeeltjes;
b. niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of
Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti);
c. titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al);
d. aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of
Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe); of
e. magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al);
2. vervaardigd in een beheerstmilieu door middel van een van
onderstaande procédés:
a. "verstuiving in vacuüm";
b. "verstuiving in gas";
c. "roterend verstuiven";
d. "versplintering door snelle afkoeling" («splat quen-
ching»);
e. "spinnen uitde smelt " en "vergruizing"
f. "smeltextractie" en "vergruizing"; of
g. "mechanisch legeren"; en
3. in staat in 1C002.a of 1C002.b bedoelde materialen te
vormen;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 56
▼M3
d. gelegeerde materialen, met alle volgende kenmerken:
1. gemaaktvan een van de in 1C002.c.1. bedoelde samenst el-
lingssystemen;
2. in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne
staven, en
3. vervaardigd in een beheerstmilieu door middel van een van
de volgende procédés:
a. "versplintering door snelle afkoeling";
b. "spinnen uitde smelt ", of
c. "smeltextractie".
1C003 Magnetische metalen van alle soorten, ongeacht de vorm, met een
of meer van de volgende kenmerken:
a. een relatieve beginpermeabiliteit van 120 000 of meer en een
dikte van 0,05 mm of minder;
Technische noot:
De beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde
materiaal dat volledig ontlaten is.
b. magnetostrictieve legeringen met:
1. een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10−4;of
2. een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan
0,8;of
c. strips van amorfe of 'nanokristallijne' legeringen met de
volgende eigenschappen:
1. een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer,
kobaltof nikkel; en
2. een magnetische verzadigingsinductie (BS) van 1,6 T of
meer; en
3. een of meer van de volgende eigenschappen:
a. een stripdikte van 0,02 mm of minder; of
b. een elektrische soortelijke weerstand van 2.10−4ohm cm
of meer.
Technische noot:
'Nanokristallijne' materialen in 1C003.c zijn materialen met
een kristalkorrelgrootte van hoogstens 50 nm, bepaald door
middel van röntgendiffractie.
1C004 Uraan-titaanlegeringen of wolfraamlegeringen met een "matrix"
op basis van ijzer, nikkel of koper, metde volgende eigen-
schappen:
a. een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3;
b. een elastische rekgrens groter dan 880 MPa;
c. een breukspanning groter dan 1 270 MPa; en
d. een rek groter dan 8 %.
1C005 "Supergeleidende" "composiet"-geleiders in lengten van meer dan
100 m of meteen massa van meer dan 100 g, als hieronder:
a. "supergeleidende" "composiet"-geleiders met verscheidene
filamenten welke een of meer niobium-titaanvezels bevatten:
1. ingebed in een "matrix" anders dan een koper-"matrix" of in
een op koper gebaseerd "matrix"-mengsel; of
2. meteen doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10−4mm2
(d.w.z. 6 micrometer diameter voor ronde draad);
b. "supergeleidende" "composiet"-geleiders, bestaande uit een of
meer "supergeleidende" filamenten, anders dan van niobium-titaan, met de volgende eigenschappen:
1. een "kritische temperatuur" bij afwezigheid van magnetische
inductie hoger dan 9,85 K (− 263,31 ºC) doch lager dan 24 K
(− 249,16 ºC);
2. een doorsnedeoppervlakte kleiner dan 0,28 × 10
−4mm2;en
3. in een "supergeleidende" toestand blijvend bij een tempera-
tuur van 4,2 K (− 268,96 ºC) bij blootstelling aan een2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 57
▼M3
magnetisch veld dat overeenstemt met een magnetische
inductie van 12 T.
1C006 Vloeistoffen en smeermiddelen, als hieronder:
a. hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel een
of meer van de volgende verbindingen of materialen:
1. oliën van synthetische silakoolwaterstoffen met:
Technische noot:
Voor de toepassing van 1C006.a.1 bevatten oliën van
silakoolwaterstoffen uitsluitend silicium, waterstof en kool-
stof.
a. een vlampunthoger dan 477 K (204 ºC);
b. een vloeipuntbij 239 K (− 34 ºC) of lager;
c. een viscositeitsindex van 75 of hoger; en
d. een thermische stabiliteit bij 616 K (343 ºC) of hoger; of
2. chloorfluorkoolstoffen met:
Technische noot:
Voor de toepassing van 1C006.a.2 bevatten chloorfluorkool-
stoffen uitsluitend koolstof, fluor en chloor.
a. geen vlampunt;
b. een autogene ontbrandingstemperatuur hoger dan 977 K
(704 ºC);
c. een vloeipuntbij 219 K (− 54 ºC) of lager;
d. een viscositeitsindex van 80 of hoger; en
e. een kookpuntbij 473 K (200 ºC) of hoger;
b. smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer
van de volgende verbindingen of materialen:
1. fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels
daarvan, welke meer dan twee ether- of thio-ethergroepen
bevatten of combinaties daarvan; of
2. gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische
viscositeit hebben van minder dan 5 000 mm2/s (5 000
centistokes), gemeten bij 298 K (25 ºC);
c. dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met een zuiverheid
groter dan 99,8 % en met minder dan 25 deeltjes van
200 micrometer of groter per 100 ml, gemaakt van ten minste
85 % van een of meer van onderstaande verbindingen of
materialen:
1. dibroomtetrafluorethaan;
2. polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodifica-
ties); of
3. polybroomtrifluoretheen;
d. fluorkoolstoffen in koelvloeistoffen voor elektronische
systemen met de volgende eigenschappen:
1. minstens 85 gewichtspercenten van de volgende stoffen of
mengsels daarvan:
a. monomeren van perfluorpolyalkylether-triazinen of
perfluoralifatische ethers;
b. perfluoralkylaminen;
c. perfluorcycloalkanen; of
d. perfluoralkanen;
2. een dichtheid van 1,5 g/ml of meer bij 298 K (25 ºC);
3. vloeibaar bij 273 K (0 ºC); en
4. minstens 60 gewichtspercenten fluor.
Technische noot:
Voor de toepassing van 1C006:
a. wordt het vlampunt bepaald door gebruik te maken van de
Cleveland Open Cup Methode volgens ASTM D-92 of nationale
equivalenten;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 58
▼M3
b. wordt het vloeipunt bepaald volgens de methode beschreven in
ASTM D-97of nationale equivalenten;
c. wordt de viscositeitsindex bepaald volgens de methode
beschreven in ASTM D-2270 of nationale equivalenten;
d. wordt de thermische stabiliteit bepaald volgens onderstaande
testprocedure of nationale equivalenten:
20 ml van de te testen vloeistof wordt gebracht in een
roestvrijstalen kamer (type 317) van 46 ml, die de volgende
kogels met een (nominale) diameter van 12,5 mm bevat: één
van M-10 gereedschapsstaal, één van 52100-staal en één van
bronstobin (60 % Cu, 39 % Zn, 0,75 % Sn).
De kamer wordt gespoeld met stikstofgas, bij atmosferische
druk luchtdicht afgesloten en verhit tot 644 ± 6 K (371 ± 6 ºC)
en gedurende zes uur op deze temperatuur gehouden.
Het monster wordt geacht thermisch stabiel te zijn indien bij
het beëindigen van bovengenoemde procedure aan alle
volgende voorwaarden wordt voldaan:
1. het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/
mm2van het oppervlak van de kogel;
2. de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals
vastgesteld bij 311 K (38 ºC) is minder dan 25 %; en
3. het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40;
e. wordt de autogene ontbrandingstemperatuur bepaald volgens
de methode beschreven in ASTM E-659 of nationale equiva-
lenten daarvan.
1C007 Keramische basismaterialen, keramische materialen die geen
"composieten" zijn, "composieten" met een keramische "matrix",en voorlopermaterialen, zoals:
N.B.: ZIE OOK 1C107.
a. basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige
boriden van titaan met een totale hoeveelheid aan metallische
verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van
minder dan 5 000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte
minder dan of gelijk aan 5 micrometer, terwijl niet meer dan
10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer;
b. keramische materialen die geen "composieten" zijn in ruwe
vorm of als halffabrikaat samengesteld uit boriden van titaan
met een dichtheid van 98 % van de theoretische dichtheid of
hoger;
Noot: In 1C007.b zijn niet bedoeld slijpmiddelen.
c. keramisch-keramische "composieten" met een glas- of oxide-
"matrix" en versterkt met vezels, met alle volgende kenmerken:
1. gemaaktvan een van de volgende mat erialen:
a. Si-N,
b. Si-C,
c. Si-Al-O-N, of
d. Si-O-N, en
2. met een specifieke treksterkte van meer dan 12,7 × 103m;
d. keramisch-keramische "composieten", met of zonder continue
metallische fase, die fijn verdeelde deeltjes of fasen bevatten
van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij
carbiden of nitriden van silicium, zirkoon of boor de "matrix"
vormen;
e. voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde
polymere of organometaalverbindingen) voor het vervaardigen
van welke fase of fasen dan ook van de materialen bedoeld in
1C007.c, als hieronder:
1. polydiorganosilanen (voor hetvervaardigen van silicium-
carbide);
2. polysilazanen (voor hetvervaardigen van siliciumnit ride); of3. polycarbosilazanen (voor hetvervaardigen van keramische
materialen met silicium-, koolstof- en stikstofcomponenten);2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 59
▼M3
f. keramisch-keramische "composieten" met een oxide- of glas-
"matrix", versterkt met continuvezels van een van de volgende
systemen:
1. Al2O3of
2. Si-C-N.
Noot: 1C007.f is niet van toepassing op "composieten" die
vezels bevatten van deze systemen met een vezeltrek-
sterkte van minder dan 700 MPa bij 1 273 K
(1 000 ºC) of een trek-krimpweerstand van meer dan
1 % krimp bij een belasting van 100 MPa bij 1 273 K
(1 000 ºC) gedurende 100 uren.
1C008 Niet-gefluoreerde polymeren, zoals:
a. 1. bismale-imiden;
2. aromatische polyamidimiden;
3. aromatische polyimiden;4. aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg)
hoger dan 513 K (240 ºC), gemeten volgens de in ASTM D
3418 beschreven droge methode;
Noot: In 1C008.a zijn niet bedoeld onsmeltbare perspoeders
of gevormde (eind)producten.
b. thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warm-
tevervormingstemperatuur hoger dan 523 K (250 ºC), gemeten
volgens ASTM D-648, methode A, of nationale equivalenten,
bij een belasting van 1,82 N/mm2en samengesteld uit:
1. een van beide volgende groepen materialen:
a. fenyleen, bifenyleen of naftaleen; of
b. fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair
butyl- of fenylsubstitutie; en
2. een van de volgende zuren:
a. tereftaalzuur;
b. 6-hydroxy-2-naftoëzuur; of
c. 4-hydroxybenzoëzuur;
c. polyaryleenetherketonen, zoals
1. polyetheretherketonen (PEEK);
2. polyetherketonketonen (PEKK);
3. polyetherketonen (PEK);
4. polyetherketonenetherketonketonen (PEKEKK);
d. polyaryleenketonen;
e. polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit bifeny-
leen, trifenyleen of combinaties daarvan;
f. polybifenyleenethersulfonen.
Technische noot:
De glastemperatuur (Tg) voor de in 1C008 bedoelde materialen
wordt bepaald volgens de in ASTM D 3418 beschreven methode,
met gebruikmaking van de droge methode.
1C009 Onbewerkte fluorverbindingen, zoals:
a. co-polymeren van vinylideenfluoride met75 % of meer bèt a
kristallijnstructuur zonder strekken;
b. gefluoreerde polyimiden die 10 of meer gewichtspercenten
gebonden fluor bevatten;
c. gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 of meer gewichts-
percenten gebonden fluor bevatten.
1C010 "Stapel- en continuvezelmateriaal" dat gebruikt kan worden in
"composieten" of laminaten met een organische "matrix",
metallische "matrix" of koolstof-"matrix", als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 1C210.
a. organisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de volgende
eigenschappen:
1. een "specifieke modulus" van meer dan 12,7 × 106m;en2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 60
▼M3
2. een "specifieke treksterkte" van meer dan 23,5 × 104m;
Noot: 1C010.a is niet van toepassing op polyethyleen.
b. "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met de
volgende eigenschappen:
1. een "specifieke modulus" van meer dan 12,7 × 106m;en
2. een "specifieke treksterkte" van meer dan 23,5 × 104m;
Noot: 1C010.b is niet van toepassing op weefsels, gemaakt
van "stapel- of continuvezelmateriaal" voor de
reparatie van vliegtuigcasco's of laminaten, als de
afzonderlijkevellennietgroterzijndan50cm×90cm.
Technische noot:
De eigenschappen van materialen als bedoeld in 1C010.b
dienen te worden bepaald met gebruik van aanbevolen
methoden SRM 12 tot en met 17van Suppliers of Advanced
Composite Materials Association (SACMA) of nationale trek-
tests, zoals de Japanse industriestandaard JIS-R-7601,
paragraaf 6.6.2, en dienen te zijn gebaseerd op de gemiddelde
waarden van een partij.
c. anorganisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de
volgende eigenschappen:
1. en "specifieke modulus" van meer dan 2,5 × 106m;en
2. een smelt-, verwekings-, en ontledings- of sublimatiepunt
hoger dan 1 922 K (1 649 ºC) in een inerte atmosfeer;
Noot: In 1C010.c zijn niet bedoeld:
1. discontinue, meerfasige, polykristallijne alumini-
umoxide-vezels als stapelvezels of als onregelmatig
gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtsper-
centen siliciumdioxide bevatten, met een
"specifieke modulus" kleiner dan 10 × 106m;
2. vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen;3. boorvezels;4. discontinue keramische vezels met een smelt-,
verwekings-, ontledings- of sublimatiepunt lager
dan 2043 K (1770 ºC) in een inerte atmosfeer;
d. "stapel- of continuvezelmateriaal":
1. samengesteld uit een of meer van de volgende materialen:
a. polyetherimiden, als bedoeld in 1C008.a;
of
b. materialen, als bedoeld in 1C008.b tot en met f; of
2. samengesteld uit andere materialen als bedoeld in
1C010.d.1.a of 1C010.d.1.b, en "vermengd" («commin-
gled») metandere vezels als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b
of 1C010.c;
e. met hars of asfaltbitumen geïmpregneerde vezels («prepregs»),
met metaal of koolstof beklede vezels («preforms») of "half-
fabrikaten («preforms») voor koolstofvezels", zoals:
1. gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" als bedoeld
in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c;
2. gemaakt van organisch "stapel- of continuvezelmateriaal" of
"stapel- of continuvezelmateriaal" van koolstof:
a. met een "specifieke treksterkte" van meer dan
17,7 × 104m;
b. meteen "specifieke modulus" van meer dan 10,15 × 106m;
c. nietbedoeld in 1C010.a of 1C010.b; en
d. wanneer geïmpregneerd metmat erialen als bedoeld in
1C008 of 1C009.b met een glastemperatuur (Tg) hoger
dan 383 K (110 ºC) of metfenol- of epoxyharsen meteen
glastemperatuur (Tg) hoger dan 418 K (145 ºC).
Noot: 1C010.e is niet van toepassing op:
a. met epoxyhars geïmpregneerd koolstof-"stapel- of
continuvezelmateriaal" («prepregs») voor de repa-
ratie van vliegtuigcasco's of laminaten als de2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 61
▼M3
afzonderlijke «prepreg»-vellen niet groter zijn dan
50 cm × 90 cm;
b. «prepregs» geïmpregneerd met fenol- of epoxy-
harsen met een glastemperatuur (Tg) van minder
dan 433 K (160 ºC) en een hardingstemperatuur
die lager ligt dan de glastemperatuur.
Technische noot:
De glastemperatuur (Tg) voor de onder 1C010.e vallende
materialen wordt bepaald met de droge methode, volgens de in
ASTM D 3418 beschreven methode. De glastemperatuur voor
fenol- en epoxyharsen wordt bepaald volgens de methode die is
beschreven in ASTM D 4065 bij een frequentie van 1 Hz en een
verwarmingssnelheid van 2 K (ºC) per minuut, met toepassing
van de droge methode.
1C011 Metalen en verbindingen, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN en
1C111.
a. metalen met een deeltjesgrootte van minder dan 60 micrometer,
hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of
gemalen, vervaardigd uitmat eriaal datvoor 99 % of meer
bestaat uit zirkonium, magnesium en legeringen daarvan;
Technische noot:
Hetnatuurlijke hafniumgehalte vanhet zirkonium(normaal2%
tot 7%) wordt bij het zirkonium gerekend.
Noot: De metalen of legeringen in 1C011.a. vallen onder de
regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld
in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.
b. boor of boorcarbide meteen zuiverheidsgraad van minst ens
85 % en een deeltjesgrootte van hoogstens 60 micrometer;
Noot: De metalen of legeringen in 1C011.b vallen onder de
regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld
in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.
c. guanidinenitraat;
d. nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7).
1C012 Materialen, als hieronder:
Technische noot:
Deze materialen worden doorgaans voor nucleaire warmte-
bronnen gebruikt.
a. plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte
aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent;
Noot: 1C012.a is niet van toepassing op:
a. zendingen die hoogstens 1 % plutonium bevatten;
b. zendingen van hoogstens 3 "effectieve grammen"in
een afgesloten gedeelte van een meetelement in
instrumenten.
b. "door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.
Noot: 1C012.b. is niet van toepassing op zendingen die
hoogstens 1 gram neptunium-237bevatten.
1C101 Materialen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de
radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders
dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor gebruik in
"raketten" en subsystemen daarvan.
Noot 1: 1C101 omvat:
a. constructiematerialen en deklagen, speciaal
ontworpen om de radarreflectie te beperken;
b. deklagen, inclusief verven, speciaal ontworpen om
de reflectie of de uitstraling in het microgolf-,
infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te
passen.
Noot 2: 1C101 omvat niet deklagen die speciaal bedoeld zijn
om de thermische stabiliteit van satellieten te regelen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 62
▼M3
1C102 Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-
materialen bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in
9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.
1C107 Nietin 1C007 beschreven grafieten keramische mat erialen, als
hieronder:
a. geherkristalliseerd grafiet met een kleine korrelgrootte en met
een volumedichtheid van ten minste 1,72 g/cm3gemeten bij
288 K (15 ºC), met een deeltjesgrootte van 100 micrometer of
minder, geschikt voor "raket"-straalpijpen of neuskegels van
terugkeervoertuigen;
N.B.: Zie ook 0C004.
b. pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor "raket"-
straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen;
N.B.: Zie ook 0C004.
c. keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6
bij frequenties van 100 Hz tot 10 000 MHz), geschikt voor
"raket"-radarkoepels;
d. zogenaamde groene, bewerkbare, metsiliciumcarbide
versterkte keramiek, geschikt voor "raket"-neuskegels.
1C111 Niet in 1C011 beschreven stuwstoffen en chemicaliën voor de
vervaardiging van stuwstoffen, als hieronder:
a. stoffen die stuwkracht leveren:
1. bolvormig aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de Lijst
militaire goederen, met deeltjes met een uniforme diameter
kleiner dan 200 micrometer en een aluminiumgehalte van
97 gewichtspercenten of meer, indien ten minste 10 % van
het totaalgewicht bestaat uit deeltjes van minder dan
63 micrometer overeenkomstig ISO 2591:1988 of nationale
equivalenten;
Technische noot:
Een deeltjesgrootte van 63 micrometer (ISO R-565) stemt
overeen met maasgetal 250 (Tyler) of 230 (ASTM Standard
E-11).
2. metaallbrandstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst militaire
goederen, met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 micrometer,
hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of
gemalen, welke 97 gewichtspercenten of meer van een van
onderstaande stoffen bevatten:
a. zirkonium;
b. beryllium;
c. magnesium; of
d. legeringen van de onder a tot en met c genoemde
metalen;
Technische noot:
Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal
2 % tot 7%) wordt bij het zirkonium gerekend.
3. de volgende vloeibare oxidatoren:
a. distikstoftrioxide;
b. stikstofdioxide/distikstoftetraoxide;
c. distikstofpentoxide;
b. polymeren:
1. polybutadieen met carboxy-eindgroep (CTPB);
2. polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB), anders dan
bedoeld in de Lijstmilit aire goederen;
3. polybutadieen-acrylzuur (PBAA);
4. polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN);
c. andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen:
1.ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR butaceen;
2. triethyleenglycoldinitraat (TEGDN);
3. 2-nitrodifenylamine;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 63
▼M3
4. trimethylethaantrinitraat (TMETN);
5. diethyleenglycoldinitraat (DEGDN).
6. Ferroceenderivaten, niet genoemd in de Lijst militaire
goederen.
Noot: Zie voor andere niet in 1C111 vermelde stuwstoffen en
chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen de
Lijst militaire goederen.
1C116 Maragingstaal (staalsoorten die gewoonlijk door een hoog
nikkelgehalte, een zeer laag koolstofgehalte en het gebruik van
vervangende elementen of precipitaten voor het tijdharden worden
gekenmerkt) met een eindtreksterkte (UTS) van 1 500 MPa of
meer bij 293 K (20 ºC) in de vorm van plaatof buis meteen wand-
of plaatdikte van 5 mm of minder.
N.B.: ZIE OOK 1C216.
1C117 Wolfraam, molybdeen en legeringen daarvan in de vorm van
uniform bolvormige of verstoven deeltjes met een diameter van
500 micrometer of minder en met een zuiverheid van 97 % of
meer voor de productie van raketmotoronderdelen, d.w.z. hitte-
schilden, straalpijpsubstraten, straalpijpkelen en regeloppervlakken
voor de stuwstraal.
1C118 Duplex roestvast staal met titaanstabilisatie (Ti-DSS), met de
volgende eigenschappen:
a. metalle navolgende kenmerken:
1. het bevat 17,0-23,0 gewichtspercenten chroom en 4,5-
7,0 gewichtspercenten nikkel;
2. het titaangehalte bedraagt meer dan 0,10 gewichtspercenten;
en
3. een ferritisch-austenitische microstructuur (ook twee-fase-
nmicrostructuur genoemd) waarvan ten minste
10 volumepercenten austeniet (volgens ASTM E-1181-87
of nationale equivalenten); en
b. in een van de volgende vormen:
1. walsblokken of staven die ten minste 100 mm groot zijn in
elke richting;
2. platen met een breedte van ten minste 600 mm en een dikte
van 3 mm of minder; of
3. buizen met een buitendiameter van ten minste 600 mm en
een wanddikte van 3 mm of minder.
1C202 Legeringen, anders dan bedoeld in 1C002.a.2.c of 1C002.a.2.d, als
hieronder:
a. aluminiumlegeringen metbeide volgende kenmerken:
1. 'geschikt voor' een treksterkte van 460 MPa of meer bij
293 K (20 ºC); en
2. buisvormig of massief cilindervormig (metinbegrip van
smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm;
b. titaanlegeringen met beide volgende kenmerken:
1. 'geschikt voor' een treksterkte van 900 MPa of meer bij
293 K (20 ºC); en
2. buisvormig of massief cilindervormig (metinbegrip van
smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm.
Technische noot:
De zinsnede legeringen 'geschikt voor' omvat legeringen zowel
voor als na warmtebehandeling.
1C210 "Stapel- en continuvezelmateriaal" of «prepregs», anders dan
bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.e, als hieronder:
a. "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of aramide met
een van de volgende kenmerken:
1. een "specifieke modulus" van 12,7 × 106m of meer; of
2. een "specifieke treksterkte" van 235 × 103m of meer;
Noot: 1C210.a. is niet van toepassing op "stapel- en
continuvezelmateriaal" van aramide dat ten minste2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 64
▼M3
0,25 gewichtspercent bevat van een op een ester
gebaseerde vezeloppervlakmodificator.
b. "stapel- en continuvezelmateriaal" van glas met beide volgende
kenmerken:
1. een "specifieke modulus" van 3,18 × 106m of meer; en
2. een "specifieke treksterkte" van 76,2 × 104m of meer;
c. thermogeharde met hars geïmpregneerde continu-"garens", -
«rovings», -"linten" of -"banden" met een breedte van 15 mm
of minder («prepregs»), vervaardigd uit "stapel- en continuve-
zelmateriaal" van koolstof of glas als bedoeld in 1C210.a of
1C210.b.
Technische noot:
Het hars vormt de matrix van de composiet.
Noot: In 1C210 is "stapel- en continuvezelmateriaal" beperkt
tot continue "monofilamenten", "garens", «rovings»,
"linten" of "banden".
1C216 Maragingstaal, anders dan bedoeld in 1C116, 'geschikt voor' een
treksterkte van 2 050 MPa of meer bij 293 K (20 ºC).
Noot: 1C216 is niet van toepassing op maragingstaal in een
vorm waarin geen enkele lineaire maat groter is dan
75 mm.
Technische noot:
De zinsnede maragingstaal 'geschikt voor' omvat maragingstaal
zowel voor als na warmtebehandeling.
1C225 Boor, verrijktin de boor-10-isot oop (10B) tot meer dan de
natuurlijke abundantie, in de hiernavolgende vormen: elementair
boor, boorverbindingen, boorhoudende mengsels, fabrikaten
daarvan, afval en schrootvan deze st offen.
Noot: De in 1C225 bedoelde boorhoudende mengsels omvatten
met boor beladen materialen.
Technische noot:
De natuurlijke abundantie van boor-10 is ongeveer 18,5 gewichts-
percenten (20 percent op atomaire basis).
1C226 Wolfraam, wolfraamcarbide en legeringen die meer dan
90 gewichtspercenten wolfraam bevatten, met beide volgende
kenmerken:
a. in vormen metholle cilindersymmet rie (daaronder mede
begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen
100 mm en 300 mm; en
b. meteen massa van meer dan 20 kg.
Noot: 1C226 is niet van toepassing op fabrikaten die speciaal
ontworpen zijn als gewicht of collimator voor gamma-
stralen.
1C227 Calcium metbeide volgende kenmerken:
a. bevatminder dan 1 000 gewicht sdelen per miljoen aan
metallische verontreiniging anders dan magnesium; en
b. bevatminder dan 10 gewicht sdelen per miljoen boor.
1C228 Magnesium metbeide volgende kenmerken:
a. bevat minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metalli-
sche verontreiniging anders dan calcium; en
b. bevatminder dan 10 gewicht sdelen per miljoen boor.
1C229 Bismutmetbeide volgende kenmerken:
a. een zuiverheid van 99,99 gewichtspercenten of meer; en
b. bevatminder dan 10 gewicht sdelen per miljoen zilver.
1C230 Beryllium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichts-
percenten beryllium bevatten, berylliumverbindingen, fabrikaten
daarvan en afval of schrootvan deze st offen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 65
▼M3
Noot: 1C230 is niet van toepassing op:
a. vensters voor röntgentoestellen of voor apparatuur
voor metingen in boorgaten, van berylliummetaal;
b. vormstukken van berylliumoxide als eindproduct of
halffabrikaat, speciaal ontworpen voor elektronische
onderdelen of als substraat voor elektronische scha-
kelingen;
c. beril (beryllium-aluminiumsilicaat) in de vorm van
smaragden of aquamarijnen.
1C231 Hafnium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 60 gewichts-
percenten hafnium bevatten, verbindingen van hafnium die meer
dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, fabrikaten daarvan en
afval of schrootvan deze st offen.
1C232 Helium-3 (3He), mengsels die helium-3 bevatten, en producten of
toestellen die een van deze stoffen bevatten.
Noot: 1C232 is niet van toepassing op een product of apparaat
dat minder dan 1 g helium-3 bevat.
1C233 Lithium, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot meer dan de
natuurlijke abundantie, of producten of toestellen die verrijkt
lithium bevatten, als hierna: elementair lithium, legeringen,
lithiumverbindingen, mengsels die lithium bevatten, fabrikaten
daarvan en afval of schrootvan deze st offen.
Noot: 1C233 is niet van toepassing op thermoluminescentie-
stralingsmeters.
Technische noot:
De natuurlijke abundantie van de lithium-6-isotoop is ongeveer
6,5 gewichtspercenten (7,5 % op atomaire basis).
1C234 Zirkonium met een hafniumgehalte van minder dan 1 gewichtsdeel
hafnium op 500 gewichtsdelen zirkonium, als hierna: metaal,
legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten zirkonium bevatten,
verbindingen, fabrikaten daarvan, afval of schroot van deze
stoffen.
Noot: 1C234 is niet van toepassing op zirkonium in de vorm
van folie met een dikte van 0,10 mm of minder.
1C235 Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten,
waarin de verhouding van het aantal tritiumatomen tot het aantal
waterstofatomen groter is dan 1:1 000, en producten of toestellen
die een van voorgaande stoffen bevatten.
Noot: 1C235 is niet van toepassing op een product of toestel
dat minder dan 1,48 × 103GBq (40 Ci) tritium in welke
vorm dan ook bevat.
1C236 Alfastralers met een alfahalveringstijd van tien dagen of langer
doch korter dan 200 jaar, in de volgende vormen:
a. de elementaire vorm;
b. verbindingen met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/
kg) of hoger;
c. mengsels met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg)
of hoger;
d. producten of toestellen die een van voorgaande stoffen
bevatten.
Noot: 1C236 is niet van toepassing op een product of toestel
dat minder dan 3,7GBq (100 millicurie) alfa-activiteit
bevat.
1C237 Radium-226 (226Ra), radium-226-legeringen, radium-226-verbin-
dingen, mengsels die radium-226 bevatten, fabrikaten daarvan, en
producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten.
Noot: 1C237is niet van toepassing op:
a. medische middelen;
b. een product of toestel dat minder dan 0,37GBq
(10 millicurie) radium-226 bevat.
1C238 Chloortrifluoride (ClF3)2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 66
▼M3
1C239 Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst militaire
goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan
2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldicht-
heid van meer dan 1,8 g/cm3en een detonatiesnelheid van meer
dan 8 000 m/s.
1C240 Nikkelpoeder en poreus nikkelmetaal, anders dan bedoeld in
0C005, zoals:
a. nikkelpoeder metbeide volgende kenmerken:
1. een nikkelgehalte van 99,0 gewichtspercenten of meer; en
2. een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 micrometer,
gemeten volgens de ASTM Standard B330;
b. poreus nikkelmetaal, gemaakt van materiaal bedoeld in
1C240.a.
Noot: 1C240 is niet van toepassing op:
a. vezelvormige nikkelpoeders;
b. enkelvoudige platen van poreus nikkel, met een
oppervlakte per plaat van 1 000 cm2of minder.
Technische noot:
1C240.b heeft betrekking op poreus metaal dat gevormd is door
samenpersing en sintering van de materialen in 1C240.a, om een
materiaal van metaal te vormen met fijne poriën die door de
gehele structuur heen onderling verbonden zijn.
1C350 Chemische stoffen, geschikt voor het vervaardigen van toxische
stoffen, zoals hieronder vermeld, en "chemische mengsels" die een
of meer van deze stoffen bevatten:
N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN
1C450.
1. Thiodiglycol (111-48-8);
2. Fosforoxychloride (10025-87-3);
3. Dimethylmethylfosfonaat (765-79-6);
4.ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Methylfos-
fonyldifluoride (676-99-3);
5. Methylfosfonyldichloride (676-97-1);
6. Dimethylfosfiet (868-85-9);
7. Fosfortrichloride (7719-12-2);8. Trimethylfosfiet (121-45-9);9. Thionylchloride (7719-09-7);
10. 3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);
11. 2-Diisopropylamino-ethylchloride (96-79-7);
12. 2-Diisopropylamino-ethaanthiol (5842-07-9);13. Chinuclidine-3-ol (1619-34-7);14. Kaliumfluoride (7789-23-3);15. 2-Chloorethanol (107-07-3);
16. Dimethylamine (124-40-3);
17. Di-ethylethylfosfonaat (78-38-6);18. Di-ethyl-N, N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07);19. Di-ethylfosfiet (762-04-9);20. Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);
21. Dichloorethylfosfine (1498-40-4);
22. Ethylfosfonyldichloride (1066-50-8);23.ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Ethylfosfo-
nyldifluoride (753-98-0);
24. Waterstoffluoride (7664-39-3);
25. Methylbenzilaat (76-89-1);26. Dichloormethylfosfine (676-83-5);27. 2-Diisopropylamino-ethanol (96-80-0);28. Pinacolylalcohol (464-07-3);2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 67
▼M3
29.ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Ethyl-2-
diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (57856-11-8);
30. Triethylfosfiet (122-52-1);
31. Arseentrichloride (7784-34-1);
32. Benzilzuur (76-93-7);33. Di-ethylmethylfosfoniet (15715-41-0);
34. Dimethylethylfosfonaat (6163-75-3);
35. Difluorethylfosfine (430-78-4);36. Difluormethylfosfine (753-59-3);
37. Chinuclidine-3-on (3731-38-2);
38. Fosforpentachloride (10026-13-8);39. Pinacolon (75-97-8);
40. Kaliumcyanide (151-50-8);
41. Kaliumbifluoride (7789-29-9);42. Ammoniumbifluoride (1341-49-7);43. Natriumfluoride (7681-49-4);
44. Natriumbifluoride (1333-83-1);
45. Natriumcyanide (143-33-9);46. Tri-ethanolamine (102-71-6);
47. Fosforpentasulfide (1314-80-3);
48. Diisopropylamine (108-18-9);49. 2-Diethylamino-ethanol (100-37-8);
50. Natriumsulfide (1313-82-2);
51. Zwavelmonochloride (10025-67-9);52. Zwaveldichloride (10545-99-0);
53. Tri-ethanolamine hydrochloride (637-39-8);
54. 2-Chloorethyldiisopropyl-ammoniumchloride (4261-68-1).
Noot 1: Voor uitvoer naar "staten die geen partij zijn bij het
Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C350
niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van
de in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18,
.21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36 en .54
vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen
van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10
gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.
Noot 2: Voor uitvoer naar "staten die partij zijn bij het Verdrag
inzake chemische wapens" worden in 1C350 niet
bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de
in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21,
.22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36 en .54
vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geenvan de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30
gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.
Noot 3: In 1C350 worden niet bedoeld "chemische mengsels"
die een of meer van de in de punten 1C350.2, .6, .7, .8,
.9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39,
.40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52
en .53 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin
geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30
gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.
Noot 4: In 1C350 worden niet bedoeld producten waarvan is
vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptie-
goederen voor de detailhandelsverkoop voor
persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen
voor individueel gebruik.
1C351 Humane pathogenen, zoönosen en "toxinen", als hieronder:
a. virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van
"geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip
van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is
geïnoculeerd of besmet, zoals:
1. Chikungunyavirus;
2. Haemorragische-Krim-Kongokoortsvirus (CCHF-virus)2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 68
▼M3
3. Denguevirus;
4. Eastern equine encefalitisvirus;
5. Ebolavirus;
6. Hantaanvirus;7. Juninvirus;8. Lassavirus;9. Lymfocytaire-choriomeningitisvirus;
10. Machupovirus;11. Marburgvirus;
12. Apenpokkenvirus;
13. RiftValleyvirus;14. Tekenencefalitisvirus (RSSE-virus);15. Variolavirus;16. Venezuelan equine encefalitisvirus;17. Western equine encefalitisvirus;18. Wittepokkenvirus;
19. Gelekoortsvirus;
20. Japanse-encefalitisvirus;
b. rickettsiën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm
van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met
inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke
culturen is geïnoculeerd of besmet, zoals:
1. Coxiella burnetii;
2. Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia
quintana);
3. Rickettsia prowasecki;4. Rickettsia rickettsii;
c. bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm
van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip
van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is
geïnoculeerd of besmet, zoals:
1. Bacillus anthracis;
2. Brucella abortus;
3. Brucella melitensis;
4. Brucella suis;5. Chlamydia psittaci;6. Chlostridium botulinum;7. Francisella tularensis;8. Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei);9. Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei);
10. Salmonella typhi;
11. Shigella dysenteriae;
12. Vibrio cholerae;13. Yersinia pestis;
d. "toxinen", zoals hierna vermeld, alsmede "sub-eenheden van
toxinen" daarvan:
1. Botulinum toxinen;
Noot: 1C351.d.1. is niet van toepassing op botulinum
toxinen als product dat aan alle navolgende
criteria voldoet:
1. het gaat om farmaceutische formules, ontwik-
keld om aan de mens te worden toegediend bij
de behandeling van een aandoening;
2. zij zijn voorverpakt om als geneesmiddelen te
worden verhandeld;
3. een overheidsinstantie heeft een vergunning
afgegeven om ze als geneesmiddel in de handel
te brengen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 69
▼M3
2. Clostridium perfringens toxinen;
3. Conotoxine;4. Ricine;5. Saxitoxine;
6. Shigatoxine;
7. Staphylococcus aureus toxinen;8. Tetrodotoxine;9. Verotoxine;
10. Microcystine (Cyanginosine);
11. Aflatoxinen.
Noot: 1C351 is niet van toepassing op "vaccins" of "immuno-
toxinen".
1C352 Dierpathogenen, als hieronder:
a. virussen, natuurlijk versterkt of gemodificeerd, in de vorm van
"geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip
van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is
geïnoculeerd of besmet, zoals:
1. Afrikaanse varkenspestvirus;
2. Aviaire-influenzavirus), hetzij:
a. niet-gekarakteriseerd, hetzij
b. zoals omschreven in Richtlijn 92/40/EEG (PB L 16 van
23.1.1992, blz. 19) met een hoge pathogeniteitsindex,
zoals:
1. type A-virussen met een IVPI (intraveneuze patho-
geniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van meer
dan 1,2; of
2. type A-virussen, subtype H5 of H7, waarvoor door
middel van «sequencing» van de nucleotiden is
aangetoond dat verschillende basische aminozuren
aanwezig zijn aan de breukzijde van hethemaglut i-
nine;
3. Bluetonguevirus;
4. Mond- en klauwzeervirus;
5. Geitenpokkenvirus;6. Virus van de ziekte van Aujeszky;7. Klassiekevarkenspestvirus;
8. Lyssavirus;
9. Virus van de ziekte van Newcastle (pseudo-vogelpest-
virus);
10. Virus van de kleineherkauwerspest;
11. Porcien enterovirus type 9 (vesiculairevarkensziektevirus);12. Runderpestvirus;13. Schapenpokkenvirus;
14. Virus van de ziekte van Teschen;
15. Vesiculairestomatitisvirus;
b. mycoplasma mycoides, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd,
in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal
met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met
mycoplasma mycoides is geïnoculeerd of besmet.
Noot: 1C352 is niet van toepassing op "vaccins".
1C353 Genetisch gemodificeerde "micro-organismen", als hieronder:
a. genetisch gemodificeerde micro-organismen, of genetische
elementen die de nucleïnezuurreeksen bevatten die de patho-
geniteit bepalen van de organismen, bedoeld in 1C351.a,
1C351.b, 1 C 351.c, 1C352 of 1C354;
b. genetisch gemodificeerde micro-organismen, of genetische
elementen die nucleïnezuurreeksen bevatten die coderen voor
een van de "toxinen" bedoeld in 1C351.d of "sub-eenheden van
toxinen" daarvan.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 70
▼M3
1C354 Plantpathogenen, als hieronder:
a. bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm
van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat
opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet,
als hieronder:
1. Xanthomonas albilineans;
2. Xanthomonas campestris pv. citri., met inbegrip van
stammen aangeduid als Xanthomonas campestris pv. citri
types A, B, C, D, E of anderszins ingedeeld als
Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia
of Xanthomonas campestris pv. citrumelo;
b. schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm
van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat
opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet,
als hieronder:
1. Colletotrichum coffeanum var. virulans (colletotrichum
kahawae);
2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);3. Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);
4. Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici);
5. Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);
6. Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae).
1C450 Giftige chemische stoffen en voorlopers van giftige chemische
stoffen, zoals hieronder vermeld, en "chemische mengsels" die een
of meer van deze stoffen bevatten:
N.B.: ZIE OOK 1C350, 1C351.d EN DE LIJST MILI-
TAIRE GOEDEREN.
a. Giftige chemische stoffen, zoals:
1. amiton: O,O-di-ethyl-S-[2-(diethylamino)ethyl]fosforthio-
laat(78-53-5) en de overeenkomst ige gealkyleerde of
geprotoneerde zouten;
2. PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propeen
(382-21-8);
3.ZIE DE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN VOOR
BZ: 3-quinuclidinylbenzilaat (6581-06-2);
4. fosgeen: carbonyldichloride (75-44-5);5. chloorcyaan (506-77-4);
6. cyaanwaterstof (74-90-8);
7. chloorpicrine: trichloornitromethaan (76-06-2);
Noot 1: Voor uitvoer naar "staten die geen partij zijn bij
het Verdrag inzake chemische wapens" worden
in 1C450 niet bedoeld "chemische mengels" die
een of meer van de in 1C450.a.1 en 1C450.a.2
vermelde chemische stoffen bevatten en waarin
geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer
dan 1 gewichtspercent van het mengsel vertegen-
woordigt.
Noot 2: Voor uitvoer naar "staten die partij zijn bij het
Verdrag inzake chemische wapens" worden in
1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die
een of meer van de in 1C450.a.1 en 1C450.a.2
vermelde chemische stoffen bevatten en waarin
geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer
dan 30 gewichtspercent van het mengsel verte-
genwoordigt.
Noot 3: In 1C450 worden niet bedoeld "chemische
mengels" die een of meer van de in 1C450.a.4
tot en met 1C450.a.7vermelde chemische stoffen
bevatten en waarin geen van de afzonderlijk
vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercentvan het mengsel vertegenwoordigt.
b. Voorlopers van giftige chemische stoffen, zoals:
1. stoffen, behalve die welke zijn opgenomen in de Lijst
militaire goederen of in 1C350, die een fosforatoom2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 71
▼M3
bevatten met daaraan gebonden een methyl-, ethyl- of
(normale of iso-)propylgroep maar geen andere koolstof-
atomen;
Noot: 1C450.b.1. is niet van toepassing op Fonofos: O-
ethyl-S-fenylethyl-fosfonthiolthionaat (944-22-9).
2. N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fos-
foramidodihalogeniden;
3. andere dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]-
N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-)propyl]fos-
foramidaten dan di-ethyl-N,N-dimethyl-fosforamidaat, dat
genoemd wordtin 1C350;
4. andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-
)propyl]amino-ethyl-2-chloriden en overeenkomstige gepro-
toneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-amino-
ethylchloride of N,N-diisopropyl-(beta)-amiono-ethylchlo-
ride-hydrochloride, die genoemd worden in 1C350;
5. andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-
)propyl]amino-ethaan-2-olen en overeenkomstige geproto-
neerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-amino-ethanol
(96-800), en N,N-di-ethylamino-ethanol (100-37-8) die
genoemd worden in 1C350;
Noot: 1C450.b.5. is niet van toepassing op:
a. N,N-dimethylamino-ethanol (108-01-0) en over-
eenkomstige geprotoneerde zouten;
b. geprotoneerde zouten van N,N-di-ethylamino-
ethanol (100-37-8).
6. andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-
)propyl]amino-ethaan-2-thiolen en overeenkomstige gepro-
toneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-amino-
ethaanthiol, dat genoemd wordt in 1C350;
7. ethyldi-ethanolamine (139-87-7);8. methyldi-ethanolamine (105-59-9).
Noot 1: Voor uitvoer naar "staten die geen partij zijn bij
het Verdrag inzake chemische wapens" wordenin 1C450 niet bedoeld "chemische mengels" die
een of meer van de in 1C450.b.1 tot en met
1C450.b.6 vermelde chemische stoffen bevatten
en waarin geen van de afzonderlijk vermelde
stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het
mengsel vertegenwoordigt.
Noot 2: Voor uitvoer naar "staten die partij zijn bij het
Verdrag inzake chemische wapens" worden in
1C450 niet bedoeld "chemische mengels" die een
of meer van de in 1C450.b.1 tot en met
1C450.b.6 vermelde chemische stoffen bevatten
en waarin geen van de afzonderlijk vermelde
stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het
mengsel vertegenwoordigt.
Noot 3: In 1C450 worden niet bedoeld "chemische
mengels" die een of meer van de in 1C450.b.7
en 1C450.b.8 vermelde chemische stoffen
bevatten en waarin geen van de afzonderlijk
vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent
van het mengsel vertegenwoordigt.
Noot 4: In 1C450 worden niet bedoeld producten
waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte
consumptiegoederen voor de detailhandelsver-
koop voor persoonlijk gebruik of verpakte
consumptiegoederen voor individueel gebruik.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 72
▼M3
1D Programmatuur
1D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen
bedoeld in 1B001, 1B002 en 1B003.
1D002 "Programmatuur" voor de "ontwikkeling" van laminaten of
"composieten" met een organische "matrix", een metaal-"matrix"
of een koolstof-"matrix".
1D101 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het
"gebruik" van de in 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 of
1B119 bedoelde goederen.
1D103 "Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor de analyse van de
beperking van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het
ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld.
1D201 "Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor het "gebruik" van de
in 1B201 bedoelde goederen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 73
▼M3
1E Technologie
1E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen
bedoeld in 1A001.b, 1A001.c, 1A002 tot en met 1A005, 1B en 1C.
1E002 Andere "technologie" als hierna vermeld:
a. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van
polybenzothiazolen of polybenzoxazolen;
b. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van
fluorelastomeerverbindingen die ten minste één vinylethermo-
nomeer bevatten;
c. "technologie" voor het ontwerpen of de "productie" van de
volgende basismaterialen of keramische materialen, niet zijnde
"composieten":
1. basismaterialen met alle volgende kenmerken:
a. met een van de onderstaande samenstellingen:
1. enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium
en meervoudige oxiden van silicium of aluminium;
2. enkelvoudige nitriden van boor (de kubusvormige
kristalvormen);
3. enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of
boor; of
4. enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium;
b. met een totale hoeveelheid metallische verontreiniging,
exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan:
1. 1 000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden; of
2. 5 000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkel-
voudige nitriden; en
c. zijnde een van de navolgende materialen:
1. zirkoonoxide met een gemiddelde deeltjesgrootte
kleiner dan of gelijk aan 1 micrometer terwijl niet
meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan
5 micrometer;
2. andere basismaterialen met een gemiddelde deeltjes-
grootte kleiner dan of gelijk aan 5 micrometer terwijl
niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan
10 micrometer; of
3. metalle navolgende eigenschappen:
a. plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en
dikte groter is dan 5;
b. whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en
diameter groter is dan 10, bij een diameter kleiner
dan 2 micrometer; en
c. continu- of stapelvezels met een diameter kleiner
dan 10 micrometer;
2. keramische materialen, niet zijnde "composieten", samen-
gesteld uit de materialen omschreven in 1E002.c.1;
Noot: 1E002.c.2 is niet van toepassing op de "techno-
logie" voor het ontwerpen of vervaardigen van
slijpmiddelen.
d. "technologie" voor de "productie" van aromatische poly-
amidevezels;
e. "technologie" voor het installeren, onderhouden en repareren
van materialen bedoeld in 1C001;
f. "technologie" voor het repareren van "composieten", laminaten
of materialen bedoeld in 1A002, 1C007.c of 1C007.d.
Noot: 1E002.f is niet van toepassing op technologie voor de
reparatie van casco's van "civiele vliegtuigen" met
koolstof-"stapel- of continuvezelmateriaal" en epoxy-
harsen, die is vermeld in de handleidingen van de
vliegtuigfabrikant.
1E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende het "gebruik" van goederen bedoeld in 1A102,2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 74
▼M3
1B001, 1B101, 1B102, 1B115 tot en met 1B119, 1C001, 1C101,
1C107, 1C111 tot en met 1C117, 1D101 of 1D103.
1E102 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur" bedoeld in
1D001, 1D101 of 1D103.
1E103 "Technologie" voor het regelen van de temperatuur, druk of
atmosfeer in autoclaven of hydroclaven indien gebruikt voor de
"productie" van composieten of halffabrikaten van composieten.
1E104 "Technologie" voor de "productie" van pyrolytisch gevormde
materialen op een mal, doorn of ander substraat van gassen die
ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 ºC) tot 3 173 K
(2 900 ºC) en drukken van 130 Pa tot 20 kPa.
Noot: 1E104 omvat tevens "technologie" voor het samenstellen
van voorlopergassen, schema's en gegevens in verband
met stroomsnelheden en procesregeling.
1E201 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende het "gebruik" van goederen bedoeld in 1A002,
1A202, 1A225, 1A226, 1A227, 1B201, 1B225 tot en met
1B233, 1C002.a.2.c of 1C002.a.2.d, 1C010.b, 1C202, 1C210,
1C216, 1C225 tot en met 1C240 of 1D201.
1E202 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende de "ontwikkeling" of "productie" van goederen
bedoeld in 1A202, 1A225 tot en met 1A227.
1E203 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur" bedoeld in
1D201.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 75
▼M3
CATEGORIE 2
MATERIAALBEWERKING2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 76
▼M3
2A Systemen, apparatuur en onderdelen
N.B.: voor stillopende rollagers, zie de Lijst militaire goederen.
2A001 Wrijvingsloze rollagers of rollagersystemen, zoals hierna vermeld,
en onderdelen daarvan:
Noot: 2A001 is niet van toepassing op kogels met toleranties
volgens opgave van de fabrikant volgens klasse 5 ISO-
norm 3290 of slechter.
a. kogellagers of lagers met rollers uit één stuk met toleranties
volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantie-
klasse 4 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC 7 of
RBEC-7, of andere nationale equivalenten), of beter, met
ringen, kogels of rollen gemaaktvan monel of beryllium;
Noot: 2A001.a is niet van toepassing op kegelvormige
rollagers.
b. andere kogellagers of lagers metrollers uitéén st uk met
toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492
tolerantieklasse 2 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse
ABEC 9 of RBEC-9, of andere nationale equivalenten), of
beter;
Noot: 2A001.b is niet van toepassing op kegelvormige
rollagers.
c. actieve magnetische lagersystemen waarbij gebruik wordt
gemaaktvan:
1. materialen met fluxdichtheden van 2.0 T of groter en een
vloeigrens van meer dan 414 MPa; of
2. volledig elektromagnetische 3D-homopolaire instelstroom-
ontwerpen voor aandrijvers; of
3. positiesensoren voor gebruik bij hoge temperaturen (450 K
(177 ºC) en hoger).
2A225 Kroezen vervaardigd van metalen die bestand zijn tegen vloeibare
actinidemetalen, als hieronder:
a. kroezen metbeide hiernavolgende kenmerken:
1. een inhoud van 150 cm3tot 8 000 cm3;e n
2. vervaardigd van of bekleed meteen van onderst aande
materialen, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of
hoger:
a. calciumfluoride (CaF2);
b. calciumzirkonaat (metazirkonaat) (Ca2ZrO3);
c. ceriumsulfide (Ce2S3);
d. erbiumoxide (Er2O3);
e. hafniumoxide (HFO2);
f. magnesiumoxide (MgO);
g. legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca.
50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);
h. ytttriumoxide (Y2O3);of
i. zirkoniumoxide (ZrO2);
b. kroezen metbeide hiernavolgende kenmerken:
1. een inhoud van 50 cm3tot 2 000 cm3;en
2. vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid
van 99,9 gewichtspercenten of hoger;
c. kroezen metalle hiernavolgende kenmerken:
1. een inhoud van 50 cm3tot 2 000 cm3;
2. vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid
van 98 gewichtspercenten of hoger; en
3. bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride of ongeacht
welke combinatie hiervan.
2A226 Afsluiters met alle volgende kenmerken:
a. een 'nominale afmeting' van 5 mm of groter;
b. metbalgafdicht ing; en2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 77
▼M3
c. geheel vervaardigd van of gevoerd metaluminium, alumini-
umlegering, nikkel of een nikkellegering die 60
gewichtspercenten of meer nikkel bevat.
Technische noot:
Voor afsluiters met verschillende inlaat- en uitlaatopeningen heeft
de in 2A226 bedoelde 'nominale afmeting' betrekking op de
kleinste diameter.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 78
▼M3
2B Test-, inspectie- en productieapparatuur
Technische noten:
1. Parallelle hulpcontourassen, bv. de w-as op horizontale
kotterbanken of een tweede roterende hulpas waarvan de
hartlijn parallel loopt met de roterende hoofdas, worden niet
bij het totale aantal contourassen gerekend. Roterende assen
hoeven niet over 360 º draaibaar te zijn. Een roterende as
kan worden aangedreven door een lineair mechanisme (bv.
een draadspil of een tandheugel met rondsel).
2. Voor de toepassing van 2B is het aantal assen dat gelijktijdig
kan samenwerken voor "contourbesturen" het aantal assen
die de relatieve beweging tussen een werkstuk en een
gereedschap, snijkop of slijpschijf dat/die materiaal van het
werkstuk snijdt of verwijdert, beïnvloeden. Dit omvat niet
eventuele extra assen die andere relatieve bewegingen in de
machine beïnvloeden. Voorbeelden van zulke assen:
a. steenrechtsystemen in slijpmachines;
b. evenwijdige roterende assen om afzonderlijke werk-
stukken te bevestigen;
c. collineaire roterende assen om hetzelfde werkstuk te
bewerken door het aan verschillende kanten in een
klauwplaat te klemmen.
3. De benaming van de assen dient in overeenstemming te zijn
met de internationale norm ISO 841 — Machines met
numerieke besturing — benamingen van assen en bewe-
gingen.
4. Voor de toepassing van 2B001 tot en met 2B009 wordt een
"kantelspil" beschouwd als een roterende as.
5. Aangegeven instelnauwkeurigheidsniveaus op grond van
metingen overeenkomstig norm ISO 230/2 (1988) (1)of
nationale equivalenten mogen voor elk model werktuig-
machine in plaats van individuele machinetests worden
gebruikt. Aangegeven instelnauwkeurigheid betekent de
nauwkeurigheidswaarde die wordt meegedeeld aan de
bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteuris gevestigd als representatieve waarde voor de nauwkeurig-
heid van een machinemodel.
Bepaling van de aangegeven waarden:
a. selecteer vijf machines van een bepaald model voor
beoordeling;
b. meet de nauwkeurigheid van de lineaire assen overeen-
komstig ISO 230/2 (1988) (
1);
c. bepaal de A-waarden voor elke as van elke machine. De
methode voor de berekening van de A-waarde is
beschreven in de ISO-norm;
d. bepaal de gemiddelde waarde van de A-waarde van elke
as. Deze gemiddelde waarde Â wordt de aangegeven
waarde van elke as van het model (Âx, Ây, …);
e. aangezien de lijst in categorie 2 verwijst naar elke
lineaire as, zullen er evenveel aangegeven waarden als
lineaire assen zijn;
f. indien een as van een niet in 2B001.a tot en met 2B001.c
of 2B201 bedoeld machinemodel een aangegeven nauw-
keurigheid Â van 6 micrometer of nauwkeuriger bij
machines voor slijpen en 8 micrometer of nauwkeuriger
bij machines voor frezen of draaien heeft, moet de
fabrikant het nauwkeurigheidsniveau om de 18 maanden
opnieuw bevestigen.
2B001 Werktuigmachines, als hierna vermeld, en combinaties daarvan,
voor hetverspanen (of snijden) van met alen, keramische
materialen of "composieten", die volgens de technische specifica-2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 79
(1) Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997)
dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze
gevestigd zijn.
▼M3
ties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische
toestellen voor "numerieke besturing":
N.B.: ZIE OOK 2B201.
Noot 1: In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor
speciale toepassingen die alleen dienen voor het
vervaardigen van tandwielen. Zie voor dergelijke
machines 2B003.
Noot 2: In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor
speciale toepassingen die alleen dienen voor het
vervaardigen van een van de volgende onderdelen:
a. krukassen of nokkenassen;
b. gereedschappen of frezen;
c. extrusiewormen;
d. gegraveerde of geslepen delen van juwelen.
a. werktuigmachines voor draaien met de volgende eigen-
schappen:
1. een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die
gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6
micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1)o f
nationale equivalenten langs elke lineaire as; en
2. twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken
voor "contourbesturen";
Noot: 2B001.a is niet van toepassing op machines voor
draaien die speciaal zijn ontworpen voor de productie
van contactlenzen.
b. werktuigmachines voor frezen met een of meer van de
volgende eigenschappen:
1. metalle volgende eigenschappen:
a. een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties",
die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6
micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1)
of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en
b. drie lineaire assen plus één roterende as die gelijktijdig
kunnen samenwerken voor "contourbesturen";
2. vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor
"contourbesturen"; of
3. een instelnauwkeurigheid voor pasmal-boormachines,
"inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner
(d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstigISO-norm 230/2 (1988) (
1) of nationale equivalenten langs
elke lineaire as;
4. machines die gebruikmaken van een slagmes («fly cutters»)
metalle volgende kenmerken:
a. een "rondloopnauwkeurigheid" («run out») en "axiale
slag" van de spil kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan
0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); en
b. een hoekafwijking van de sledebeweging langs een asslag
van 300 mm (gieren, stampen of slingeren) kleiner
(d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meet-
klokuitslag (TIR);
c. werktuigmachines voor slijpen met een of meer van de
volgende eigenschappen:
1. metalle volgende eigenschappen:
a. een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties",
die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4
micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1)
of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en
b. drie of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken
voor "contourbesturen"; of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 80
(1) Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997)
dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze
gevestigd zijn.
▼M3
2. vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor
"contourbesturen";
Noot: In 2B001.c zijn niet bedoeld slijpmachines met de
volgende kenmerken:
1. uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige
rondslijpmachines met de volgende kenmerken:
a. beperkt tot rondslijpen; en
b. een maximale buitendiameter of lengte van het
werkstuk van 150 mm;
2. machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-
slijpmachines en een of meer van de volgende
kenmerken bezitten:
a. de c-as wordt gebruikt om de slijpschijf in een
loodrechte positie ten opzichte van het werk-
oppervlak te houden; of
b. de a-as is geconfigureerd voor het slijpen van
onronde schijven;
3. gereedschapsslijpmachines, uitsluitend bedoeld
voor de productie van gereedschappen of frezen;
4. krukassenslijpmachines of nokkenassenslijpma-
chines;
5. vlakslijpers.
d. vonkmachines (EDM) van het draadloze type, met twee of meer
assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbes-turen";
e. werktuigmachines voor het verspanen van metalen, keramische
materialen of "composieten", met de volgende eigenschappen:
1. verspanen van materiaal met een of meer van de volgende
middelen:
a. waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die
metslijpmiddelt oevoegingen;
b. een elektronenbundel;
of
c. een laserstraal; en
2. twee of meer roterende assen die:
a. gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";
en
b. een instelnauwkeurigheid hebben kleiner (d.w.z. nauw-
keuriger) dan 0,003 º;
f. langgatboormachines of machines voor draaien die zijn
aangepast voor langgatboren, met een maximumboordiepte
van meer dan 5 000 mm, alsmede speciaal daarvoor ontworpen
onderdelen.
2B003 "Numeriek bestuurde" en handgestuurde werktuigmachines en
speciaal ontworpen onderdelen, regelapparatuur en toebehoren
daarvoor, speciaal ontworpen voor het snijden, afwerken, slijpen
of wetten van geharde (Rc = 40 of meer) rechte, schroef- en
dubbelgeschroefde tandwielen met een steekdiameter groter dan
1 250 mm en een kopbreedte gelijk aan of groter dan 15 % van de
steekdiameter, afgewerkt tot een kwaliteit gelijk aan of beter dan
AGMA 14 (gelijkwaardig aan ISO-norm 1328, klasse 3).
2B004 Hete "isostatische persen", met alle hieronder vermelde
kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren
daarvoor:
N.B.: ZIE OOK 2B104 EN 2B204.
a. met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te
beheersen, terwijl de drukkamerholte een binnendiameter heeft
van 406 mm of meer; en
b. meteen van de onderst aande eigenschappen:
1. een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa;
2. een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan
1 773 K (1 500 ºC); of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 81
▼M3
3. de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en
verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalpro-
ducten.
Technische noot:
De binnenmaat betreft de kamer waarin zowel de werktemperatuur
als de werkdruk tot stand komt en omvat geen spanstukken. Deze
maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de
drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde oven-
kamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamerszich in de
andere bevindt.
N.B.: Voor speciaal ontworpen matrijzen, mallen en gereed-
schappen, zie 1B003, 9B009 en de Lijst militaire
goederen.
2B005 Speciaal ontworpen apparatuur voor de afzetting, verwerking en
procesbesturing van anorganische deklagen, bekledingen en
oppervlakmodificaties, zoals hieronder vermeld, voor niet-elektro-
nische substraten door middel van de in de tabel en bijbehorende
noten na 2E003.f omschreven procédés en speciaal daarvoor
ontworpen geautomatiseerde onderdelen voor de hantering,
positionering, manipulatie en besturing:
a. "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur
voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD) met alle
onderstaande mogelijkheden:
N.B.: ZIE OOK 2B105.
1. aangepast procédé voor een van onderstaande technieken:
a. pulserende CVD;
b. thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD); of
c. met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD;
en
2. meteen van beide onderst aande eigenschappen:
a. omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuüm (minder
dan of gelijk aan 0,01Pa); of
b. omvat in situ regulering van de dikte van de bekledings-
laag;
b. "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur
voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA
of hoger;
c. "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur
voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD) welke een
voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW omvat,
meteen van de volgende kenmerken:
1. een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloei-
stofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig
reguleert; of
2. een computergestuurde, volgens het principe van de foto-
luminescentie van de geïoniseerde atomen in de dampstroom
werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee
of meer elementen bestaande bekledingslaag reguleert;
d. "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur
voor plasmaspuiten met een van beide volgende kenmerken:
1. werkend bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of
gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een afstand van 300 mm
boven de opening van het spuitpistool) in een vacuümkamer
geschiktvoor hetbereiken van een druk van 0,01 Pa
voorafgaande aan hetspuit proces; of
2. omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;
e. "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur
voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/
mm2of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur
of meer;
f. "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur
voor boogverdampen welke een netvan gekoppelde elekt ro-
magneten omvat voor de besturing van de punt van de
boogontlading op de kathode;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 82
▼M3
g. "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur
voor «ion-plating» met de mogelijkheid van het in situ meten
van ofwel:
1. de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheer-
sing van de snelheid van afzetting, of
2. optische kenmerken.
Noot: 2B005 is niet van toepassing op apparatuur voor
chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdam-
ping, sputteren, «ion-plating», of ionenimplantatie die
speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines.
2B006 Maatinspectie-, meetsystemen of -apparatuur als hieronder:
a. computergestuurde, "numeriek bestuurde" of "met opgeslagen
programma bestuurde" meetmachines, met een driedimen-
sionale volumetrische "meetonzekerheid" gelijk aan of minder
(d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/1 000) micrometer (L is de
gemeten lengte in mm), getest overeenkomstig ISO 10360-2;
N.B.: ZIE OOK 2B206.
b. meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, als
hieronder:
1. lineaire meetinstrumenten met een of meer van de volgende
kenmerken:
a. meetsystemen van het contactloze type met een "reso-
lutie" gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2 micrometer
binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm;
b. lineaire spanningsverschilomzetters met beide volgende
kenmerken:
1. "lineariteit" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeu-
riger) dan 0,1 % binnen een meetgebied tot en met
5 mm; en
2. verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger)
dan 0,1 % per dag bij een standaardomgevings-
temperatuur in de testruimte ± 1 K; of
c. meetsystemen met alle volgende kenmerken:
1. zij bevatten een "laser", en
2. zij handhaven, bij een standaardomgevingstempera-
tuur ± 1 K en bij een standaarddruk, gedurende ten
minste 12 uur:
a. een "resolutie" over hun volledige schaal van 0,1
micrometer of kleiner (beter); en
b. een "meetonzekerheid" gelijk aan of minder (d.w.z.
nauwkeuriger) dan (0,2 + L/2 000) micrometer (L
is de gemeten lengte in mm);
Noot: 2B006.b.1 is niet van toepassing op interferome-
termeetsystemen, zonder open of gesloten
terugkoppeling, die een "laser" bevatten voor het
meten van fouten in de sledebeweging van
machinewerktuigen, meetmachines of dergelijke
apparatuur.
2. instrumenten voor hoekmetingen met een "hoekafwijking"
gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025 º;
Noot: In 2B006.b.2 zijn niet bedoeld optische instru-
menten, zoals autocollimatoren, die gebruikmaken
van gecollimeerd licht voor de bepaling van
hoekverplaatsingen van een spiegel.
c. apparatuur voor het meten van ongelijkmatigheden in opper-
vlakken meteen gevoeligheid van 0,5 nm of minder (d.w.z.
nauwkeuriger), door het meten van optische verstrooiing als een
functie van de hoek.
Noot 1: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meet-
toestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn
aan of beter dan de criteria neergelegd voor de
werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie.
Noot 2: Indien een machine als omschreven in 2B006 op enig
punt in haar werkbereik de limieten overschrijdt, wordt
de machine bedoeld.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 83
▼M3
2B007 "Robots", met een of meer van de hieronder vermelde kenmerken,
en speciaal ontworpen besturingsapparatuur en "eindeffectoren"
daarvoor:
N.B.: ZIE OOK 2B207.
a. geschikt voor tijdgebonden («in real-time»), volledig drie-
dimensionale beeldverwerking of volledig driedimensionale
«beeldanalyse» voor hetmaken of wijzigen van "programma's"
of voor hetmaken of wijzigen van numerieke programmagege-
vens;
Technische noot:
Dezebeperking van de "beeldanalyse" sluit een bepaling van de
derde dimensie door middel van beschouwing vanuit een vaste
hoek niet uit, noch een beperkte interpretatie van grijstinten
voor de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane
taken (2 ½ D).
b. speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor
gebruik in ruimten met explosieven;
c. speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen
een totale stralingsdosis van een stralingsniveau hoger dan
5×1 03Gray (silicium) zonder verslechtering van de werking;
of
Technische noot:
De term Gray (silicium) verwijst naar de energie in Joules per
kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermd
siliciummonster dat aan ioniserende straling wordt blootge-
steld.
d. speciaal ontworpen voor gebruik op een hoogte van meer dan
30 000 meter.
2B008 Samenstellingen of eenheden, speciaal ontworpen voor werk-
tuigmachines, maatinspectie-, meetsystemen of -apparatuur als
hieronder:
a. lineaire plaatsbepalers, bv. plaatsbepalers van het inductieve
type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen of "laser"-
systemen, voor terugkoppeling van een lineaire verplaatsing
die een totale "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauw-
keuriger) dan (800 + (600 × L × 10-3)) nm (waarbij L de
effectieve lengte is in mm);
N.B.: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.
b. roterende plaatsbepalers, bv. van het inductieve type, gekali-
breerde schalen, infraroodsystemen, of "laser"-systemen, voor
terugkoppeling van een hoekverdraaiing die een "nauwkeurig-heid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025 º;
N.B.: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.
c. "samengestelde draaitafels" of "kantelspillen" die volgens de
technische specificaties van de fabrikant de mogelijkheden van
werktuigmachines kunnen vergroten tot aan of boven de
niveaus bedoeld in 2B.
2B009 Forceer-(«spin-forming») of vloei-(«flow-forming») draaibanken
die, volgens de technische specificaties van de fabrikant, kunnen
worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of compu-
terbesturing, en die de volgende eigenschappen bezitten:
N.B.: ZIE OOK 2B109 EN 2B209.
a. twee of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee
gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en
b. een walskrachtvan meer dan 60 kN.
Technische noot:
Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combi-
neren, worden voor de toepassing van 2B009 beschouwd als
vloeidraaibanken.
2B104 "Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004, met alle
volgende eigenschappen:
N.B.: ZIE OOK 2B204.
a. een maximale werkdruk van 69 MPa of meer;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 84
▼M3
b. ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 ºC) of
meer te handhaven; en
c. meteen binnenkamerdiamet er van 254 mm of meer.
2B105 CVD-ovens, anders dan bedoeld in 2B005.a, ontworpen of
aangepast voor het verdichten van koolstof-koolstofcomposieten.
2B109 Vloeidraaibanken («flow-forming machines») die nietonder
2B009 vallen, en speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 2B209.
a. vloeidraaibanken die de volgende eigenschappen bezitten:
1. volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen
zij worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden
of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering
nietmetdergelijke eenheden zijn uit gerust ; en
2. meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken
voor "contourbesturen";
b. speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109.a
bedoelde vloeidraaibanken.
Noot: In 2B109 worden niet bedoeld machines die niet kunnen
worden gebruikt voor de productie van onderdelen en
uitrusting (bv. motorhuizen) voor voortstuwingssystemen
als bedoeld in 9A005, 9A007.a of 9A105.a.
Technische noot:
Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combi-
neren, worden voor de toepassing van 2B109 beschouwd als
vloeidraaibanken.
2B116 Systemen en apparatuur voor het beproeven door middel van
trillingen en componenten daarvoor, als hieronder:
a. systemen voor het beproeven door middel van trillingen,
waarbij gebruik wordt gemaakt van terugkoppel- of gesloten-
kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die
geschikt zijn om een systeem te laten trillen met 10 g RMS
(eff.) of meer over de gehele frequentieband van 20 Hz tot
2 000 Hz en die krachten kunnen overbrengen van 50 kN of
meer, met 'onbelaste tafel' gemeten;
b. digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal
ontworpen programmatuur voor het testen door middel van
trillingen, met een "real-time-bandbreedte" van meer dan 5 kHz
en ontworpen voor gebruik met de systemen bedoeld in
2B116.a;
c. trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers,
geschiktom een krachtvan 50 kN of meer uitt e oefenen, met
"onbelaste tafel" gemeten, en geschikt voor de systemen
bedoeld in 2B116.a;
d. beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen
om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillings-
systeem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht
van 50 kN of meer uit te oefenen, met een 'onbelaste tafel'
gemeten, en geschikt voor de systemen bedoeld in 2B116.a.
Technische noot:
In 2B116 betekent 'onbelaste tafel' een vlakke tafel, of een vlak
oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken.
2B117 Apparatuur en procesregeleenheden, met uitzondering van die
bedoeld in 2B004, 2B005.a, 2B104 of 2B105, ontworpen of
aangepastvoor de verdicht ing en pyrolyse van composiet
raketstraalpijpen en neuskegels voor terugkeervoertuigen
(«reentry»).
2B119 Balanceermachines en aanverwante uitrusting, als volgt:
N.B.: ZIE OOK 2B219.
a. balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten:
1. niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samen-
stellingen met een gewicht van meer dan 3 kg;
2. geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen
bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12 500 t.p.m.;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 85
▼M3
3. geschiktvoor hetcorrigeren van onbalans in t wee of meer
vlakken; en
4. geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende
specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht;
Noot: 2B119.a is niet van toepassing op balanceermachines
die ontworpen of aangepast zijn voor tandheelkundige
of andere medische uitrusting.
b. indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik
metde in 2B119.a aangegeven machines.
Technische noot:
Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten
genoemd.
2B120 Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels die alle navolgende
kenmerken hebben:
a. twee of meer assen;
b. sleepringen geschiktom elekt risch vermogen en/of signaalin-
formatie over te brengen; en
c. een of meer van de navolgende kenmerken hebben:
1. voor elke aparte as alle navolgende kenmerken hebben:
a. geschiktvoor kwalificat ies van 400 graden/s of meer, of
30 graden/s of minder; en
b. een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6
graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan
0,6 graden/s;
2. met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk
aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van
0,05 % over ten minste 10 graden; of
3. een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boog-
seconden.
Noot: 2B120 is niet van toepassing op draaitafels die zijn
ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of voor
medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor
werktuigmachines, zie 2B008.
2B121 Andere dan de in 2B120 aangegeven insteltafels (apparatuur,
geschikt voor precieze roterende instelling in elke as), die alle
navolgende kenmerken hebben:
a. twee of meer assen; en
b. een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boog-
seconden.
Noot: 2B121 is niet van toepassing op draaitafels die zijn
ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of
medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels
voor werktuigmachines, zie 2B008.
2B122 Centrifuges die versnellingen van meer dan 100 g kunnen
overbrengen en sleepringen bezitten die elektrisch vermogen en
signaalinformatie kunnen overbrengen.
2B201 Werktuigmachines, anders dan bedoeld in 2B001, voor het
verspanen of snijden van metalen, keramische materialen of
"composieten", die volgens de technische specificaties van de
fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen
voor gelijktijdig "contourbesturen" in twee of meer assen:
a. werktuigmachines voor frezen met een of meer van de
volgende eigenschappen:
1. een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die
gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6
micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1)o f
nationale equivalenten langs elke lineaire as; of
2. twee of meer roterende contourassen;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 86
(1) Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997)
dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze
gevestigd zijn.
▼M3
Noot: 2B201.a is niet van toepassing op werktuigma-
chines voor frezen met de volgende kenmerken:
a. axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2
meter;en
b. totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter
(slechter) dan 30 micrometer;
b. werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende
kenmerken:
1. een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die
gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4
micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1)o f
nationale equivalenten langs elke lineaire as; of
2. twee of meer roterende contourassen;
Noot: 2B201.b is niet van toepassing op de volgende
werktuigmachines voor slijpen:
a. uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige
rondslijpmachines met de volgende kenmerken:
1. beperkt tot rondslijpen;
2. een maximale buitendiameter of lengte van het
werkstuk van 150 mm;
3. niet meer dan twee assen kunnen gelijktijdig
samenwerken voor "contourbesturen"; en
4. geen c-contouras;
b. pasmal-slijpmachines met assen die beperkt blijven
tot x, y, c en a; de c-as wordt gebruikt om de
slijpschijf in een loodrechte positie ten opzichte
van het werkoppervlak te houden en de a-as is
geconfigureerd voor het slijpen van onronde
schijven;
c. gereedschapsslijpmachines met "programmatuur"
die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen
van gereedschappen of frezen; of
d. krukassenslijpmachines of nokkenassenslijpma-
chines.
2B204 "Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004 of 2B104 en
bijbehorende apparatuur, als hierna vermeld:
a. "isostatische persen" met beide volgende kenmerken:
1. geschiktvoor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer;
en
2. met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer
dan 152 mm;
b. matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor
"isostatische persen" bedoeld in 2B204.a.
Technische noot:
In 2B204 betreft de binnenmaat de kamer waarin zowel de
werktemperatuur als de werkdruk tot stand komen en zij omvat
geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de
binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de
geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee
kamers zich in de andere bevindt.
2B206 Niet onder 2B006 opgenomen meetmachines, -instrumenten of -
systemen, als hierna vermeld:
a. computergestuurde of numeriek bestuurde meetmachines met
beide volgende kenmerken:
1. twee of meer assen; en
2. een eendimensionale "meetonzekerheid" gelijk aan of
kleiner (nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1000) micrometer,
get estmeteen sonde meteen "nauwkeurigheid" kleiner2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 87
(1) Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997)
dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze
gevestigd zijn.
▼M3
(nauwkeuriger) dan 0,2 micrometer (L is de gemeten lengte
in mm) (ref. VDI/VDE 2617, delen 1 en 2);
b. systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekver-
plaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende
kenmerken:
1. "meetonzekerheid" langs elke lineaire as gelijk aan of
minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5 micrometer per 5 mm;
en
2. "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger)
dan 0,02 º.
Noot 1: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meet-
toestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn
aan of beter zijn dan de criteria neergelegd voor de
werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie.
Noot 2: Indien een machine als omschreven in 2B206 op enig
punt in haar werkbereik de limieten overschrijdt, wordt
de machine bedoeld.
Technische noten:
1. De bij de bepaling van de "meetonzekerheid" van een
maatinspectiesysteem gebruikte sonde dient te voldoen aan
de omschrijving in VDI/VDE 2617, delen 2, 3 en 4.
2. Alle parameters van meetwaarden in 2B206 vertegenwoor-
digen plus/minus-waarden, niet het totale meetbereik.
2B207 "Robots", "eindeffectoren" en besturingseenheden, anders dan
bedoeld in 2B007, als hierna vermeld:
a. "robots" of "eindeffectoren", speciaal ontworpen volgens
nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van
brisante springstoffen (bv. volgens elektrische normen voor
brisante springstoffen);
b. besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207.a
vermelde "robots" of "eindeffectoren".
2B209 Vloei-(«flow-forming»)draaibanken, forceer-(«spin-forming»)-
draaibanken die vloeidraaifuncties kunnen verrichten, anders dan
bedoeld in 2B009 of 2B109, en spillen, zoals:
a. machines metbeide volgende kenmerken:
1. drie of meer rollen (actieve of leirollen); en
2. volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust
kunnen worden met"numerieke best urings"-eenheden of
computerbesturing;
b. spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen
voor hetvormen van cilindrische rot oren meteen binnen-
diameter van 75 mm-400 mm.
Noot: 2B209.a omvat machines die slechts één enkele rol
hebben die ontworpen is om metaal te vervormen, plus
twee hulprollen ter ondersteuning van de spil, die echter
niet rechtstreeks deelnemen aan het vervormingsproces.
2B219 Centrifugale balanceermachines voor het uitbalanceren in
verscheidene vlakken, vast of draagbaar, horizontaal of verticaal,
zoals:
a. centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalan-
ceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer
en metalle volgende kenmerken:
1. een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm;
2. geschiktvoor een massa van 0,9 t ot23 kg; en
3. geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelings-
snelheid hoger dan 5 000 t.p.m.;
b. centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalan-
ceren van holle cilindrische rotoronderdelen en met alle
volgende kenmerken:
1. een tapdiameter groter dan 75 mm;
2. geschiktvoor een massa van 0,9 t ot23 kg;3. geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende
onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger;
en2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 88
▼M3
4. van hett ype metriemaandrijving.
2B225 Op afstand bediende manipulatoren die kunnen worden aangewend
voor het doen verrichten van handelingen op afstand bij radio-
chemische scheidingswerkingen of in hete cellen, met een van de
volgende kenmerken:
a. geschikt om te werken bij een hetecelwand met een dikte van
0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of
b. geschikt om de afstand over de bovenkant van een hetecelwand
met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over
de wand heen).
Technische noot:
Op afstand bediende manipulatoren zorgen voor het mechanisch
overbrengen van handelingen van een bediener naar een bedie-
ningsarm en eindklem. Deze kunnen van het zogenaamde meester/
slaaf-type zijn of worden bediend via een joystick of een
toetsenbord.
2B226 Inductieovens, werkend met beheerste atmosfeer (vacuüm of inert
gas) en stroombronnen daarvoor, zoals:
N.B.: ZIE OOK 3B.
a. ovens metalle volgende kenmerken:
1. geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 ºC);
2. metinduct iespoelen meteen diamet er van 600 mm of
minder; en
3. ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer;
b. speciaal voor in 2B226.a omschreven inductieovens ontworpen
stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of
meer.
Noot: Ovens, ontworpen voor het bewerken van halfgeleider-
plakken («wafers») zijn niet bedoeld in 2B226.a.
2B227 Metallurgische smelt- en gietovens met vacuüm of op een andere
wijze beheerste atmosfeer en bijbehorende apparatuur, alshieronder:
a. vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende
kenmerken:
1. met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1 000
cm
3en 20 000 cm3;en
2. geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan
1 973 K (1700 ºC);
b. ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het
verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende
kenmerken:
1. een vermogen van 50 kW of meer; en
2. geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan
1 473 K (1 200 ºC);
c. computersystemen voor besturing en controle, speciaal gecon-
figureerd voor de in 2B227.a en 2B227.b bedoelde ovens.
2B228 Apparatuur voor de vervaardiging of assemblage van rotoren,
rotorrichtapparatuur, spillen en matrijzen voor het vormen van
balgen, als hieronder:
a. rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuis-
delen, schijven en deksels van gascentrifuges;
Noot: 2B228.a omvat zeer nauwkeurige spillen, klemmen en
machines voor krimppassen;
b. rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van
een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as;
Technische noot:
Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228.b uit zeer nauw-
keurige meetsondesgekoppeld aan een computer die vervolgens
de werking van bv. de voor het richten van de rotorbuisdelen
gebruikte pneumatische plunjers bestuurt.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 89
▼M3
c. balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van
balgen meteen enkele winding.
Technische noot:
De in 2B228.c bedoelde balgen hebben alle volgende
kenmerken:
1. binnendiameter van 75 mm tot 400 mm;
2. lengte van 12,7mm of meer;3. dikte van de enkele winding groter dan 2 mm;
en
4. vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte,
maragingstaal of "stapel- en continuvezelmateriaal" met een
hoge sterkte).
2B230 "Drukomzetters", geschikt voor het meten van de absolute druk op
elk punt in het traject van 0 tot en met 13 kPa, met beide
hiernavolgende kenmerken:
a. drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door
aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of nikkellegeringen
met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel; en
b. een van de twee hiernavolgende kenmerken:
1. een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een
'nauwkeurigheid' beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of
2. een volledig bereik van 13 kPa of groter en een 'nauw-
keurigheid' beter dan ± 130 Pa.
Technische noot:
Voor de toepassing van 2B230 houdt 'nauwkeurigheid' in non-
lineariteit, hysteresis en herhaalbaarheid bij omgevingstempera-
tuur.
2B231 Vacuümpompen metalle volgende kenmerken:
a. een toevoerhals van 380 mm of groter;
b. een pompsnelheid van 15 000 liter/seconde of meer; en
c. geschiktvoor hetbereiken van een maximale onderdruk bet er
dan 13 mPa.
Technische noten:
1. De pompsnelheid wordt bepaald op het meetpunt met
stikstofgas of lucht.
2. De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde
van de pomp terwijl de invoer van de pomp is afgesloten.
2B232 Meertrapskanonnen voor lichte gassen of andere kanonsystemen
voor hoge snelheden (spoel-, elektromagnetische en thermo-
elektrische types en andere geavanceerde systemen) die projec-
tielen kunnen versnellen tot een snelheid van 2 km per seconde of
meer.
2B350 Chemische productieapparatuur, zoals:
a. reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal
inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3(100 liter)
en minder dan 20 m3(20 000 liter), waarvan alle oppervlakken
die in directcont actkomen metde chemicaliën die worden
verwerktof zijn opgeslagen, gemaaktzijn van een of meer van
de volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. fluorpolymeren;3. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
5. tantaal of tantaallegeringen;6. titaan of titaanlegeringen;
of
7. zirkonium of zirkoniumlegeringen;
b. roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors, waarvan
alle oppervlakken die in directcont actkomen metde2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 90
▼M3
chemicaliën die worden verwerktof zijn opgeslagen, gemaakt
zijn van een of meer van de volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. fluorpolymeren;
3. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
5. tantaal of tantaallegeringen;6. titaan of titaanlegeringen;
of
7. zirkonium of zirkoniumlegeringen;
c. opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch)
volume van meer dan 0,1 m3(100 l), waarvan alle oppervlakken
die in directcont actkomen metde chemicaliën die worden
verwerktof zijn opgeslagen, gemaaktzijn van een of meer van
de volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. fluorpolymeren;3. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
5. tantaal of tantaallegeringen;
6. titaan of titaanlegeringen;
of
7. zirkonium of zirkoniumlegeringen;
d. warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisselop-
pervlak van meer dan 0,15 m2en minder dan 20 m2, waarvan
alle oppervlakken die in directcont actkomen metde
chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of
meer van de volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. fluorpolymeren;3. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
4. grafiet of "koolstofgrafiet";5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
6. tantaal of tantaallegeringen;7. titaan of titaanlegeringen;8. zirkonium of zirkoniumlegeringen;9. siliciumcarbide;
of
10. titaancarbide;
e. distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige
diameter van meer dan 0,1 m, waarvan alle oppervlakken die in
direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt,
gemaaktzijn van een of meer van de volgende mat erialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. fluorpolymeren;
3. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
4. grafiet of "koolstofgrafiet";
5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
6. tantaal of tantaallegeringen;7. titaan of titaanlegeringen;
of
8. zirkonium of zirkoniumlegeringen;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 91
▼M3
f. op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken
die in directcont actkomen metde chemicaliën die worden
verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende
materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of
2. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
g. kleppen met meervoudige afdichting en een lektestaansluiting,
balgkleppen, terugslagkleppen of diafragmakleppen, waarvan
alle oppervlakken die in directcont actkomen metde
chemicaliën die worden verwerktof zijn opgeslagen, gemaakt
zijn van een of meer van de volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. fluorpolymeren;3. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
5. tantaal of tantaallegeringen;6. titaan of titaanlegeringen;
of
7. zirkonium of zirkoniumlegeringen;
h. dubbelwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle
oppervlakken die in directcont actkomen metde chemicaliën
die worden verwerktof zijn opgeslagen, gemaaktzijn van een
of meer van de volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. fluorpolymeren;3. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
4. grafiet of "koolstofgrafiet";5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
6. tantaal of tantaallegeringen;7. titaan of titaanlegeringen;
of
8. zirkonium of zirkoniumlegeringen;
i. balg- of diafragmapompen metmeervoudige afdicht ing, met
ingekapselde rotor of magnetisch aangedreven, met door de
fabrikantopgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6
m3per uur, of vacuümpompen metdoor de fabrikantopgegeven
maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3per uur bij
standaardtemperatuur (273 K (0 ºC)) en druk (101,3 kPa),
waarvan alle oppervlakken die in directcont actkomen metde
chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer
van de volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. keramiek;
3. ferrosilicium;4. fluorpolymeren;
5. glas, metinbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of
glasbekleding («lining»);
6. grafiet of "koolstofgrafiet";
7. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten;
8. tantaal of tantaallegeringen;
9. titaan of titaanlegeringen;
of
10. zirkonium of zirkoniumlegeringen;
j. verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in
1C350 te vernietigen, met speciaal ontworpen afvaltoevoer-
systemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 92
▼M3
verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1 273 K
(1 000 ºC), waarvan alle oppervlakken van hetafvalt oevoer-
systeem die in direct contact komen met de afvalproducten,
gemaaktzijn van of bekleed zijn meteen of meer van de
volgende materialen:
1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en
meer dan 20 gewichtspercenten chroom;
2. keramiek; of
3. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten
nikkel bevatten.
Technische noot:
"Koolstofgrafiet" is een composiet bestaande uit amorf koolstof
en grafiet, met 8 of meer gewichtspercenten grafiet.
2B351 Controleapparatuur voor giftige gassen zoals hieronder vermeld en
speciaal daarvoor ontworpen detectoren:
a. geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of
chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij
concentraties van minder dan 0,3 milligram per m3lucht, of
b. geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen.
2B352 Uitrusting, geschikt voor het manipuleren van biologische stoffen,
zoals:
a. complete installaties met fysische inperking van de klassen P3
en P4;
Technische noot:
P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn
gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual
(Genève, 1983).
b. fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene "micro-
organismen" of virussen of de productie van "toxinen", zonder
aërosolvorming, met een totale capaciteit van 100 l of meer;
Technische noot:
Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continus-
troomsystemen.
c. centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aërosolvor-
ming, metalle volgende kenmerken:
1. een doorstroomsnelheid van meer dan 100 l per uur;
2. met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of
titaan;
3. meteen of meer koppelingen binnen hetmetst oom
steriliseerbare compartiment; en
4. geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand;
Technische noot:
Met centrifuges zijn ook bedoeld decanteerflessen.
d. dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur, geschikt voor
continu scheiden zonder aërosolvorming, met beide volgende
kenmerken:
1. een filteroppervlak van 5 m2of meer; en
2. geschikt voor in-situ-sterilisatie;
e. vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met
een condensorcapaciteit van meer dan 50 kg ijs per 24 uur en
minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur;
f. apparatuur die in klasse P3- of P4-ruimten wordt gebruikt of
verwerkt, zoals:
1. geventileerde pakken van het type waarbij het lichaam
geheel of half wordtomslot en («bio hazard» kleding);
2. biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende
systemen met soortgelijke werkingsnormen;
Noot: De isolerende systemen in 2B352.f.2 omvatten
flexibele isolatoren, droge kasten, anaërobe
kamers, handschoenkasten en afzuigkappen met
laminaire stroming.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 93
▼M3
g. aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek
met"micro-organismen" of "t oxinen" meteen capacit eitvan 1
m3of meer.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 94
▼M3
2C Materialen
Geen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 95
▼M3
2D Programmatuur
2D001 "Programmatuur" die verschilt van de in 2D002 bedoelde
programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur
bedoeld in 2A001 of 2B001 tot en met 2B009.
2D002 "Programmatuur" voor elektronische toestellen, ook wanneer
geïntegreerd in een elektronisch toestel of systeem, waardoor
dergelijke toestellen of systemen kunnen functioneren als
"numerieke besturings"-eenheid, en geschikt om meer dan vier
assen gelijktijdig te laten samenwerken voor "contourbesturen".
Noot: 2D002 is niet van toepassing op "programmatuur" die
speciaal is ontworpen of aangepast voor de bediening
van werktuigmachines die niet zijn vermeld in categorie
2.
2D101 "Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het
"gebruik" van apparatuur bedoeld in 2B104, 2B105, 2B109,
2B116, 2B117 of 2B119 tot en met 2B122.
N.B.: ZIE OOK 9D004.
2D201 "Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" van
apparatuur bedoeld in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 of
2B227.
2D202 "Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur
bedoeld in 2B201.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 96
▼M3
2E Technologie
2E001 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de
"ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in 2A,
2B of 2D.
2E002 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de
"productie" van apparatuur bedoeld in 2A of 2B.
2E003 Andere "technologie", zoals:
a. "technologie" voor de "ontwikkeling" van interactieve grafische
modellen als geïntegreerd onderdeel in "numerieke besturings"-
eenheden voor hetmaken of wijzigen van werkst ukpro-
gramma's;
b. "technologie" voor fabricageprocessen door middel van metaal-
bewerking, zoals:
1. technologie voor het ontwerpen van gereedschappen,
matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende
processen:
a. "superplastisch vormen";
b. "diffusielassen"; of
c. "directhydraulisch persen";
2. technische gegevens bestaande uit procesmethoden of
procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden
gebruiktvoor hetregelen van:
a. "superplastisch vormen" van aluminium-, titaan- en
superlegeringen:
1. oppervlaktevoorbehandeling;
2. reksnelheid;
3. temperatuur;
4. druk;
b. "diffusielassen" van "superlegeringen" en titaanlege-
ringen:
1. oppervlaktevoorbehandeling;
2. temperatuur;
3. druk;
c. "direct hydraulisch persen" van aluminium- en titaanle-
geringen:
1. druk;
2. cyclustijd;
d. "heet isostatisch verdichten" van titaan-, aluminium- en
"super-legeringen":
1. temperatuur;
2. druk;
3. cyclustijd;
c. "technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van
machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor,
voor de fabricage van vliegtuigconstructies;
d. "technologie" voor de "ontwikkeling" van generatoren van
instructies voor werktuigmachines (bv. werkstukprogramma's)
op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in
"numerieke besturings"-eenheden;
e. "technologie" voor de "ontwikkeling" van integratie-"program-
matuur" voor het inbouwen van expertsystemen in "numerieke
besturings"-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslis-
singsondersteuning voor verrichtingen op de werkvloer;
f. "technologie" voor het aanbrengen van anorganische deklagen
of deklagen door anorganische modificatie van het oppervlak,
omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op niet-
elektronische substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onder-
staande tabel, door middel van procédés als omschreven in
kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de
technische noten.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 97
▼M3
Noot: De tabel en de technische noot zijn opgenomen na
2E301.
2E101 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het
"gebruik" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in 2B004,
2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 tot en met 2B122, of
2D101.
2E201 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het
"gebruik" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in 2A225,
2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201,
2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 t/m 2B232, 2D201 of
2D202.
2E301 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het
"gebruik" van goederen bedoeld in 2B350 tot en met 2B352.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 98
▼M3
Tabel
Afzettingstechnieken
1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag
A. Chemische afzetting uit de
dampfase (CVD)"superlegeringen" aluminiden voor inwendige
kanalen
keramische materialen (19) en
glazen met een lage uitzet-
tingscoëfficiënt (14)siliciden
carbiden
diëlektrische lagen (15)
diamantdiamantachtige koolstof (17)
"composieten" met een kool-
stof-koolstof-, keramische of
metaal "matrix"siliciden
carbidenvuurvaste metalen
mengsels daarvan (4)
diëlektrische lagen (15)aluminidengelegeerde aluminiden (2)
boriumnitride
gecementeerde
wolfraamcarbide (16) sili-
ciumcarbide (18)carbiden
wolfraam
mengsels daarvan (4)
diëlektrische lagen (15)
molybdeen en molybdeenlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
beryllium en berylliumlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
diamant
diamantachtige koolstof (17)
sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15)
diamant
diamantachtige koolstof (17)2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 99
▼M3
1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag
B.Thermische verdampingsafzet-
ting (TE-PVD) (opdampen)
B.1. Elektronenstraalverdampen
(EB-PVD)"superlegeringen" gelegeerde siliciden
gelegeerde aluminiden (2)MCrAlX (5)
gemodificeerd zirkoniumoxide
(12)
siliciden
aluminidenmengsels daarvan (4)
keramische materialen (19) en
glazen met een lage uitzet-
tingscoëfficiënt (14)diëlektrische lagen (15)
roestwerend staal (7) MCrAlX (5)
gemodificeerd zirkoniumoxide
(12)
mengsels daarvan (4)
"composieten" met een kool-
stof-koolstof-, keramische of
metaal "matrix"siliciden
carbidenvuurvaste metalenmengsels daarvan (4)
diëlektrische lagen (15)
boriumnitride
gecementeerde
wolfraamcarbide (16) sili-
ciumcarbide (18)carbiden
wolfraam
mengsels daarvan (4)diëlektrische lagen (15)
molybdeen en molybdeenlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
beryllium en berylliumlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
boridenberyllium
sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15)
titaanlegeringen (13) boriden
nitriden
B.2. Afzetting uit de dampfase:
ion-platingkeramische materialen (19) en
glazen met een lage uitzet-
tingscoëfficiënt (14)diëlektrische lagen (15)
diamantachtige koolstof (17)
"composieten" met een kool-
stof-koolstof-, keramische of
metaal "matrix"diëlektrische lagen (15)
gecementeerde
wolfraamcarbide (16) sili-
ciumcarbidediëlektrische lagen (15)
molybdeen en molybdeenlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
beryllium en berylliumlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15)
diamantachtige koolstof (17)2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 100
▼M3
1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag
B.3. Afzetting uit de dampfase:
"laser"-verdampingkeramische materialen (19) en
glazen met een lage uitzet-
tingscoëfficiënt (14)siliciden
diëlektrische lagen (15)diamantachtige koolstof (17)
"composieten" met een kool-
stof-koolstof-, keramische of
metaal "matrix"diëlektrische lagen (15)
gecementeerde
wolfraamcarbide (16) sili-
ciumcarbidediëlektrische lagen (15)
molybdeen en molybdeenlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
beryllium en berylliumlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15)
diamantachtige koolstof
B.4. Afzetting uit de dampfase:
boogverdampen"superlegeringen" gelegeerde siliciden
gelegeerde aluminiden (2)
MCrAlX (5)
polymeren (11) en "compo-
sieten" met een organische
"matrix"boriden
carbiden
nitridendiamantachtige koolstof (17)
C. «Pack» cementering (zie A
hierboven voor «out-of-pack»
cementering (10))"composieten" met een kool-
stof-koolstof-, keramische of
metaal "matrix"siliciden
carbidenmengsels daarvan (4)
titaanlegeringen (13) siliciden
aluminidengelegeerde aluminiden (2)
vuurvaste metalen en lege-
ringen (8)siliciden
oxiden2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 101
▼M3
1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag
D. Plasmaspuiten "superlegeringen" MCrAlX (5)
gemodificeerd zirkoniumoxide
(12)
mengsels daarvan (4)slijtbaar nikkelgrafiet
slijtbare materialen met Ni-Cr-
Al
slijtbaar Al-Si-polyester
gelegeerde aluminiden (2)
aluminiumlegeringen (6) MCrAlX (5)
gemodificeerd zirkoniumoxide
(12)
silicidenmengsels daarvan (4)
vuurvaste metalen en lege-
ringen (8)aluminiden
silicidencarbiden
roestwerend staal (7) MCrAIX (5)
gemodificeerd zirkoniumoxide
(12)
mengsels daarvan (4)
titaanlegeringen (13) carbiden
aluminiden
silicidengelegeerde aluminiden (2)
slijtbaar nikkelgrafiet
slijtbare materialen met Ni-Cr-
A1
slijtbaar A1-Si-polyester
E. Afzetting uit suspensie en
legeringenenvuurvaste metalen en lege-
ringen (8)ineengesmolten siliciden
ineengesmolten aluminiden met
uitzondering van weerstandsver-
hittingselementen
"composieten" met een kool-
stof-koolstof-, keramische of
metaal "matrix"siliciden
carbidenmengsels daarvan (4)2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 102
▼M3
1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag
F. Afzetting door middel van
sputteren"superlegeringen" gelegeerde siliciden
gelegeerde aluminiden (2)aluminiden gemodificeerd met
edele metalen (3)
MCrAlX (5)
gemodificeerd zirkoniumoxide
(12)
platina
mengsels daarvan (4)
keramische materialen en
glazen met een lage uitzet-
tingscoëfficiënt (14)siliciden
platina
mengsels daarvan (4)
diëlektrische lagen (15)diamantachtige koolstof (17)
titaanlegeringen (13) boriden
nitridenoxiden
siliciden
aluminidengelegeerde aluminiden (2)carbiden
"composieten" met een kool-
stof-koolstof-, keramische of
metaal "matrix"siliciden
carbidenvuurvaste metalen
mengsels daarvan (4)
diëlektrische lagen (15)boriumnitride
gecementeerde
wolfraamcarbide (16) sili-
ciumcarbide (18)carbiden
wolfraammengsels daarvan (4)
diëlektrische lagen (15)
boriumnitride
molybdeen en molybdeenlege-
ringendiëlektrische lagen (15)
beryllium en berylliumlege-
ringenboriden
diëlektrische lagen (15)
beryllium
sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15)
diamantachtige koolstof (17)
vuurvaste metalen en lege-
ringen (8)aluminiden
siliciden
oxiden
carbiden
G. Ionenimplantatie hoge temperatuur lagerstaal-
soortentoevoeging van chroom, tantaal
of niobium (columbium)
titaanlegeringen (13) boriden
nitriden
beryllium en berylliumlege-
ringenboriden
gecementeerde wolfraamcar-
bide (16)carbiden
nitriden2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 103
▼M3
Noten
1. 'Bekledingsprocédé' behelstzowel hetherst el en opknappen van de deklaag als hetaanbrengen van
een oorspronkelijke deklaag.
2. Eenfasige of meerfasebekledingen waarbij een of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens
hetaanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze element en door middel van
een ander bekledingsprocédé worden afgezet, mede begrepen onder de term 'bekleding met
gelegeerde aluminide'; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van
eenfasige «pack» cementeringsprocédés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen.
3. Meerfasebekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel
van een ander bekledingsprocédé voordatde aluminidebekleding wordtaangebracht , wordtmede
begrepen onder de term 'met edelmetaal gemodificeerde aluminide'-bekleding.
4. Het begrip 'mengsels daarvan' omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend
gehalte, gelijktijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden
verkregen door middel van een of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocédés.
5. Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of
combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of
voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende
verhoudingen en combinaties, met uitzondering van:
a. CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan
7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium;
b. CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichts-
percenten aluminium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium; of
c. NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichts-
percenten aluminium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium.
6. Met 'aluminiumlegeringen' worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer
gemeten bij 293 K (20 ºC).
7. Met 'roestwerend staal' wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar
gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten.
8. 'Vuurvaste metalen en legeringen' omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium
(columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal.
9. 'Sensorvenstermaterialen', als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkse-
lenide, galliumarsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden:
sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride
en hafniumfluoride.
10. Technologie voor hetin één fase «pack» cement eren van massieve aërodynamische vlakken wordt
nietbedoeld in deze cat egorie.
11. 'Polymeren', als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen.
12. 'Gemodificeerd zirkoniumoxide' verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, bv.
calciumoxide, magnesiumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan
zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristallografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren.
Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of
magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet bedoeld.
13. Met 'titaanlegeringen' worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van
900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 ºC).
14. Met 'glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt' worden bedoeld glazen met een
uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10−7K−1of minder gemeten bij 293 K (20 ºC).
15. 'Diëlektrische lagen' zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit uit meerdere lagen bestaande
isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een
ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie,
transmissie of absorptie van verschillende golflengtebanden. Met diëlektrische lagen worden
bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of "composiete" diëlektrische/metaallagen.
16. Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel),
titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met
nikkel) zijn niet mede begrepen onder de 'gecementeerde wolfraamcarbide' in de tabel.
17. Niet bedoeld wordt "technologie" die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamant-
achtige koolstof op een van de volgende artikelen:
magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen,
kleppen of tapkraantjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen,
snijmachines, pons- en persmatrijzen, kantoorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische
apparatuur.
18. 'Siliciumcarbide' omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 104
▼M3
19. Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met
5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in
combinatie.
De definities van de in kolom 1 van de tabel vermelde procédés luiden als volgt:
a. Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procédé voor deklaagbekleding of voor bekleding
door modificatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, "composiet", diëlektrisch of
keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden
gasvormige reagentia ontleed of gecombineerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal,
zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces
van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een
gloeiontladingsplasma of door "laser"-bestraling.
N.B.1: CVD omvat de volgende procédés: «out-of-pack»-afzetting met gerichte gasstroom,
pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma
versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procédés.
N.B.2: «Pack» geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel.
N.B.3: Het bij het «out-of-pack»-procédé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door
toepassing van dezelfde basisreacties en parameters als bij het «pack» cementerings-
procédé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel.
b. Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procédé voor deklaagbekleding in
een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordtgemaaktvan een
thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of
afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat.
De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocédé voor het opbouwen
van een samengestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procédé.
Het gebruik van een ionen- of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te
activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen
tijdens deze procédés monitoren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische
kenmerken en de dikte van de bekledingslaag.
Specifieke TE-PVD-procédés verlopen als volgt:1. bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruikgemaakt van een elektronenstraal voor
het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;
2. bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruikgemaakt van elektrische weer-
standsverwarmingsbronnen in combinatie met een of meer botsende ionenstralen die een
beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren;
3. bij "laser"-verdamping wordtgebruikgemaaktvan ofwel een pulserende ofwel een cont inue
"laser"-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;
4. boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande
kat hode welke opgebruiktwordten waarbij een vonkoverslag op hetoppervlak wordtgecreëerd
door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak
waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie
aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van
een voorspanning op hetsubst raatwordtgebruiktbij hetuitde gezicht slijn opbrengen van
deklagen;
N.B.: Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een
voorspanning op het substraat is niet mede begrepen in deze definitie.
5. «ion-plating» is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procédé waarbij een plasma
of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een
negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan
het plasma te kunnen onttrekken. Het toevoegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste
stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de
optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruikelijke aanpassingen van het
procédé.
c. «Pack» cementering is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor
deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zogenaamd
«pack», dat bestaat uit:
1. de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium
of combinaties daarvan);
2. een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en
3. een inert stof, meestal aluminiumoxide.
Het substraat en het poedermengsel bevinden zich in een retort die wordt verhit tot 1 030 K (757 ºC)
à 1 375 K (1 102 ºC) gedurende een tijd lang genoeg voor afzetting van de laag.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 105
▼M3
d. Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocédé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert
en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een
substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is
ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid.
N.B.1: Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk.
N.B.2: Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk
hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 ºC) en 0,1 MPa.
e. Afzetting uit suspensie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor
deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in
suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten,
dompelen of penselen; vervolgens droging aan de luchtof in een oven; en warmt ebehandeling om de
gewenste laag te verkrijgen.
f. Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocédé dat is gebaseerd op een
verschijnsel van impulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een
elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de
botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat
vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat.
N.B.1: De tabel verwijst uitsluitend naar afzetting door sputteren met een triode, magnetron of
naar reactief sputteren, welke methoden worden toegepast om de hechting van de
bekleding en de afzetsnelheid te vergroten, en naar hoogfrequent (RF) versterkte afzetting
door sputteren, wat wordt toegepast om de verdamping van niet-metaalhoudende
bekledingsmaterialen mogelijk te maken.
N.B.2: Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de
afzetting in gang te zetten.
g. Ionenimplantatie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij het te
legeren elementwordtgeïoniseerd, wordtversneld door een pot ent iaalgradiënten in het
substraatoppervlak wordt geïmplanteerd. De definitie omvat mede procédés waarbij tegelijk met
de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt.
(*) De nummers tussen haakjes verwijzen naar de noten na deze tabel.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 106
▼M3
CATEGORIE 3
ELEKTRONICA2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 107
▼M3
3A Systemen, apparatuur en onderdelen
Noot 1: De embargostatus van in 3A001 of 3A002 omschreven
apparatuur en onderdelen, anders dan die welke zijn
omschreven in 3A001.a.3 tot en met 3A001.a.10 of
3A001.a.12, die speciaal zijn ontworpen voor appara-
tuur waarvoor een uitvoervergunning vereist is, of die
dezelfde functionele eigenschappen hebben, wordt
bepaald door de embargostatus van die andere
apparatuur.
Noot 2: De embargostatus van geïntegreerde schakelingen als
omschreven in 3A001.a.3 tot en met 3A001.a.9 of
3A001.a.12 die onveranderbaar zijn geprogrammeerd
of ontworpen voor een specifieke functie, wordt even-
eens bepaald door de embargostatus van die andere
apparatuur.
N.B.: Wanneer de fabrikant of de aanvrager de
embargostatus van de andere apparatuur niet
kan bepalen, wordt de embargostatus bepaald
op grond van 3A001.a.3 tot en met 3A001.a.9
of 3A001.a.12. Indien de geïntegreerde scha-
keling een "microcomputer-microschakeling"
of een microbesturings-microschakeling op
basis van silicium is als omschreven in
3A001.a.3 met een woordlengte van de
'operand' (data) van 8 bit of minder, dan
wordt de embargostatus van de geïntegreerdeschakeling bepaald in 3A001.a.3.
3A001 Elektronische onderdelen, als hieronder vermeld:
a. universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder:
Noot 1: De vraag of een uitvoervergunning is vereist voor
(al dan niet afgewerkte) plakken («wafers») waarin
de functie reeds is vastgelegd, dient te worden
beoordeeld aan de hand van de parameters in
3A001.a.
Noot 2: Geïntegreerde schakelingen omvatten de volgende
typen:
"monolithische geïntegreerde schakelingen";
"hybride geïntegreerde schakelingen";"multichip geïntegreerde schakelingen";"geïntegreerde schakelingen van het filmtype" met
inbegrip van geïntegreerde schakelingen van sili-
cium op saffier;
"optische geïntegreerde schakelingen".
1. geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd
als bestand tegen:
a. een totale dosis ioniserende straling van 5 × 10
3Gray
(silicium) of meer; of
b. storing bij een dosistempo van 5 × 106Gray (silicium)/s
of meer;
2. "microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-
microschakelingen", microbesturing-microschakelingen,
geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van
samengesteld halfgeleidermateriaal, analoog/digitaal-
omzetters, digitaal/analoog-omzetters, elektro-optische of
"optisch geïntegreerde schakelingen" voor "signaalverwer-
king", door de gebruiker te programmeren logische
bouwstenen, geïntegreerde schakelingen voor neutrale
netwerken, op bestelling geïntegreerde schakelingen
waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de
apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen
worden toegepast, niet bekend is, of FFT ("Fast Fourier
Transform")-processoren, elektrisch wisbare PROM's
(EEPROM's), flash-geheugens of statische RAM's
(SRAM's):
a. gespecificeerd om te werken bij een omgevingstempe-
ratuur hoger dan 398 K (125 ºC);2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 108
▼M3
b. gespecificeerd om te werken bij een omgevingstempe-
ratuur lager dan 218 K (− 55 ºC); of
c. gespecificeerd om te werken over het gehele omge-
vingstemperatuurbereik van 218 K (− 55 ºC) tot 398 K
(125 ºC);
Noot: 3A001.a.2 is niet van toepassing op geïntegreerde
schakelingen voor toepassingen in civiele auto-
mobielen of treinen.
3. "microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-
microschakelingen" en micro-besturingmicroschakelingen,
meteen of meer van de volgende kenmerken:
Noot: In 3A001.a.3 worden mede bedoeld digitale
signaalprocessoren, digitale «array»-processoren
en digitale co-processoren.
a. een "totale theoretische prestatie" (CTP) van
6 500 Mtops of meer en een rekenkundige eenheid
(ALU) meteen t oegangsbereik van 32 bitof meer;
b. gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en
werkend meteen klokfrequent ie hoger dan 40 MHz; of
c. met meer dan 1 gegevens/instructiehoofdlijn of seriële
communicatiepoort die een rechtstreekse externe
verbinding biedtt ussen parallelle "microprocessor-
microschakelingen" meteen overbrengsnelheid hoger
dan 150 Mbyte/s;
4. geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van
samengesteld halfgeleidermateriaal;
5. geïntegreerde analoog/digitaal- en digitaal/analoog-omzet-
ters, als hieronder:
a. analoog/digitaal-omzetters met een of meer van de
volgende kenmerken:
N.B.: ZIE OOK 3A101.
1. een scheidend vermogen van 8 bitof meer doch
minder dan 12 bit, met een 'totale omzettingstijd'
korter dan 5 ns,
2. een scheidend vermogen van 12 bit met een 'totale
omzettingstijd' korter dan 200 ns, of
3. een scheidend vermogen groter dan 12 bit met een
'totale omzettingstijd' bij maximaal scheidend
vermogen korter dan twee microseconden;
b. digitaal/analoog-omzetters met een scheidend vermogen
van 12 bit of meer en een "stabilisatietijd" («settling
time») van minder dan 10 ns;
Technische noten:
1. Een scheidend vermogen van n bits komt overeen met
een kwantisering van 2nniveaus.
2. De 'totale omzettingstijd' is omgekeerd evenredig aan
de bemonsteringssnelheid.
6. elektro-optische of "optische geïntegreerde schakelingen"
voor "signaalverwerking" metalle volgende kenmerken:
a. een of meer inwendige "laser"-dioden,
b. een of meer inwendige lichtdetectie-elementen, en
c. optische golfgeleiders;
7. door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen
meteen van beide volgende kenmerken:
a. een bruikbare «gate count» equivalent aan meer dan
30 000 (twee ingangspoorten);
b. een typische "voortplantingsvertragingstijd van de
basispoort" van minder dan 0,4 ns; of
c. een togglefrequentie hoger dan 133 MHz;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 109
▼M3
Noot: 3A001.a.7. omvat:
— Simple Programmable Logic Devices —
eenvoudige programmeerbare logische bouw-
stenen (SPLD's)
— Complex Programmable Logic Devices —
complexe programmeerbare logische bouw-
stenen (CPLD's)
— Field Programmable Gate Arrays — door de
gebruiker te programmeren «gate arrays»
(FPGA's)
— Field Programmable Logic Arrays — door de
gebruiker te programmeren «logic arrays»
(FPLA's)
— Field Programmable Interconnects — door de
gebruiker te programmeren «interconnects»
(FPIC's).
N.B.: Door de gebruiker te programmeren
logische bouwstenen worden ook door
de gebruiker te programmeren «gate
arrays» of door de gebruiker te
programmeren «logic arrays» genoemd.
8. nietgebruikt ;9. geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken;
10. op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de
functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin
de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast,
nietaan de fabrikantbekend is, meteen of meer van de
volgende kenmerken:
a. meer dan 1 000 in/uitgangspunten;
b. een typische "voortplantingsvertragingstijd van de
basispoort" van minder dan 0,1 ns;
of
c. een werkfrequentie hoger dan 3,0 GHz;
11. digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als
omschreven in 3A001.a.3 tot en met 3A001.a.10 of
3A001.a.12, die zijn gebaseerd op een samengestelde
halfgeleider en meteen van beide volgende kenmerken:
a. een «gate count» equivalent aan meer dan 3 000 (twee
ingangspoorten); of
b. een «toggle»frequentie hoger dan 1,2 GHz;
12. FFT («FastFourier Transform»)-processoren meteen
nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT
van minder dan (N log2N)/20,480 ms, waarbij N hetaant al
punten is;
Technische noot:
Wanneer N gelijk is aan 1 024 punten, geeft de formule in
3A001.a.12 een uitvoeringstijd van 500 microseconden.
b. microgolf- of millimetergolfelementen:
1. elektronische vacuümbuizen en kathoden, als hieronder:
Noot: In 3A001.b.1 worden niet bedoeld buizen die zijn
ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen
een frequentieband met alle volgende kenmerken:
a. niet meer dan 31 GHz; en
b. door de ITU toegewezen voor radiocommunica-
tiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.
a. lopende golfbuizen, voor puls- of ongedempte golven, als
hieronder:
1. werkend bij frequenties hoger dan 31 GHz;
2. met een kathodeverhittingselement dat in minder dan
drie seconden hetgespecificeerde RF-vermogen
bereikt;
3. gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met
een "fractionele bandbreedte" van meer dan 7 % of
een piekvermogen van meer dan 2,5 kW;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 110
▼M3
4. spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, meteen of meer
van de volgende kenmerken:
a. een "momentele bandbreedte" van meer dan een
octaaf, en een product van gemiddeld vermogen (in
kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5;
b. een "momentele bandbreedte" van een octaaf of
minder, en een productvan gemiddeld vermogen
(in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1,0;
of
c. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte";
b. dwarsveld («crossed field»)-versterkerbuizen met meer
dan 17 dB versterking;
c. geïmpregneerde kathoden, ontworpen voor elektronische
buizen geschikt voor het voortbrengen van een continue
emissiestroomdichtheid groter dan 5 A/cm2bij gespeci-
ficeerde werkomstandigheden;
2. microgolf geïntegreerde schakelingen of modulen met de
beide volgende kenmerken:
a. met "monolithische geïntegreerde schakelingen" met een
of meer actieve schakelelementen; en
b. metwerkfrequent ies hoger dan 3 GHz;
Noot 1: In 3A001.b.2 worden niet bedoeld schakelingen
of modulen voor apparatuur die is ontworpen of
gespecificeerd om te werken binnen een frequen-
tieband met alle volgende kenmerken:
a. niet meer dan 31 GHz; en
b. door de ITU toegewezen voor radiocommuni-
catiediensten, maar niet voor
radiodeterminatie.
Noot 2: In 3A001.b.2 wordt niet bedoeld apparatuur voor
satellietuitzendingen die is ontworpen of gespe-
cificeerd om te werken binnen een
frequentiebereik van 40,5 GHz tot 42,5 GHz.
3. microgolftransistors, gespecificeerd voor werkfrequenties
hoger dan 31 GHz;
4. microgolf-halfgeleiderversterkers, met een van de volgende
kenmerken:
a. werkend bij frequenties hoger dan 10,5 GHz en met een
"momentele bandbreedte" groter dan een halve octaaf; of
b. werkend bij frequenties hoger dan 31 GHz;
5. elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat- of
bandsperfilters met meer dan vijf afstembare resonatoren,
geschikt om af te stemmen over een frequentieband van
1,5:1 (fmax/fmin) in minder dan 10 microseconden bij:
a. een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de
centrale frequentie; of
b. een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de
centrale frequentie;
6. microgolfsamenstellingen, geschikt om te werken bij
frequenties hoger dan 31 GHz;
7. mixers en converters, ontworpen voor het vergroten van het
frequentiebereik van apparatuur als beschreven in 3A002.c,
3A002.e of 3A002.f boven de daarin aangegeven grenzen;
8. microgolf vermogensversterkers die buizen als omschreven
in 3A001.b bevatten en alle volgende eigenschappen
bezitten:
a. zij werken bij frequenties hoger dan 3 GHz;
b. een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van
meer dan 80 W/kg; en
c. een volume van minder dan 400 cm3;
Noot: In 3A001.b.8 wordt niet bedoeld apparatuur die is
ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen
een frequentieband die door de ITU toegewezen is2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 111
▼M3
voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor
radiodeterminatie.
c. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische
golven, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen
daarvoor:
1. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische
oppervlaktegolven en van akoestische golven die langs de
oppervlakte scheren («surface wave») (d.w.z. "signaalver-
werkende" elementen die gebruikmaken van elastische
golven in materialen), met een of meer van de volgende
kenmerken:
a. een draaggolffrequentie groter dan 2,5 GHz;
b. een draaggolffrequentie groter dan 1 GHz, doch kleiner
dan 2,5 GHz, en
1. een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB;
2. een product van de maximale vertragingstijd (in
microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter
dan 100; of
3. een bandbreedte van meer dan 250 MHz; of
4. een dispersieve vertraging groter dan 10 micro-
seconden; of
c. een draaggolffrequentie van 1 GHz of lager, en met een
of meer van de volgende kenmerken:
1. een product van de maximale vertragingstijd (in
microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter
dan 100;
2. een dispersieve vertraging groter dan 10 micro-
seconden; of
3. een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB
en een bandbreedte van meer dan 50 MHz;
2. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische
golven in de gehele massa van hetmat eriaal («bulk wave»)
(d.w.z. «signaalverwerkende» elementen die gebruikmaken
van elastische golven) en die geschikt zijn voor directe
verwerking van signalen metfrequent ies hoger dan 1 GHz;
3. akoestisch-optische "signaalverwerkende" elementen die
gebruikmaken van een wisselwerking tussen akoestische
golven («bulk wave» of «surface wave») en lichtgolven en
die geschiktzijn voor direct e verwerking van signalen of
beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale
analyse, correlatie of convolutie;
d. elektronische elementen of schakelingen die onderdelen
bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen die
speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden
de "kritische temperatuur" van ten minste een van de
"supergeleidende" bestanddelen en met een of meer van de
volgende functies:
1. stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruik-
maken van "supergeleidende" poorten waarbij het product
van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het
energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10−1 4J;of
2. frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van
afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000;
e. hoge-energiecomponenten, als hieronder:
1. batterijen en fotovoltaïsche arrays, als hieronder:
Noot: In 3A001.e.1 worden niet bedoeld batterijen met
een inhoud gelijk aan of kleiner dan 27cm3(bv.
standaard-C-cellen of R14-batterijen).
a. primaire cellen en batterijen met een 'energiedichtheid'
groter dan 480 Wh/kg en gespecificeerd om te werken in
het temperatuurgebied van lager dan 243 K (− 30 ºC) tot
hoger dan 343 K (70 ºC);
b. herlaadbare cellen en batterijen met een 'energiedicht-
heid' groter dan 150 Wh/kg na 75 cyclussen van laden en
ontladen bij een ontlaadstroom gelijk aan C/5 uur
(waarbij C de nominale capaciteit is in ampère-uren) en2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 112
▼M3
wanneer deze werken in het temperatuurgebied van lager
dan 253 K (− 20 ºC) tot hoger dan 333 K (60 ºC);
Technische noot
De 'energiedichtheid' wordt bepaald door het gemiddelde
vermogen in watt (gemiddelde spanning in volt maal
gemiddelde stroomsterkte in ampère) te vermenigvul-
digen met de tijd (in uur), nodig om te ontladen tot 75 %
van de onbelaste beginspanning, gedeeld door de totale
massa van de cel (of batterij) uitgedrukt in kilogram.
c. stralingsbestendige fotovoltaïsche «arrays» die zijn
"gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte", met een
specifiek vermogen groter dan 160 W/m2gemeten bij een
werktemperatuur van 301 K (28 ºC) onder belichting met
1 kW/m2afkomstig van een wolfraamdraad bij 2 800 K
(2 527 ºC);
2. condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag als hier-
onder:
N.B.: ZIE OOK 3A201.a.
a. condensatoren met een herhalingssnelheid van minder
dan 10 Hz («single shot»-condensatoren) met alle
volgende kenmerken:
1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;
2. een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg;
en
3. een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ;
b. condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of
meer («repetition-rated»-condensatoren) met alle
volgende kenmerken:
1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;
2. een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg;3. een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J;
en
4. een levensduur gelijk aan of langer dan 10 000
cyclussen van laden en ontladen;
3. "supergeleidende" elektromagneten en solenoïden die
speciaal zijn ontworpen voor volledig opladen of ontladen
in minder dan een seconde, metalle volgende kenmerken:
N.B.: ZIE OOK 3A201.b.
Noot: In 3A001.e.3 zijn niet bedoeld "supergeleidende"
elektromagneten of solenoïden die speciaal zijn
ontworpen voor medische apparatuur voor beeld-
vorming door middel van magnetische resonantie
(Magnetic Resonance Imaging - MRI).
a. de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde
energie is meer dan 10 kJ;
b. de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is
groter dan 250 mm; en
c. de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie
van meer dan 8 T of een nominale "totale stroom-
dichtheid" in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2;
f. absolute positiecodeerapparaten van het type met roterende as
meteen van beide volgende kenmerken:
1. een scheidend vermogen beter dan 1:265 000 van de volle
schaalwaarde (18 bitresolut ie); of
2. een nauwkeurigheid beter dan ± 2,5 boogseconden.
3A002 Universele elektronische apparatuur
a. Opnameapparatuur, als hieronder, en speciaal daarvoor
ontworpen testband:
1. analoge magneetbandinstrumentatierecorders, met inbegrip
van recorders waarmee digitale signalen kunnen worden
geregistreerd (bv. met gebruik van een HDDR-moduul2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 113
▼M3
(digitaal registratiemoduul met hoge dichtheid) met een of
meer van de volgende kenmerken:
a. een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter
dan 4 MHz;
b. een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter
dan 2 MHz en metmeer dan 42 sporen; of
c. meteen t ijdverschuivingsfoutvan minder dan 0,1
microseconde gemeten in overeenstemming met de van
toepassing zijnde IRIG (Inter Range Instrumentation
Group)- of EIA (Electronic Industries Association)-
documenten;
Noot: Analoge magneetbandrecorders die speciaal zijn
ontworpen voor civiele videotoepassingen worden
niet beschouwd als instrumentatierecorders.
2. digitale magneetbandvideorecorders met een maximale
digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan
360 Mbit/s;
Noot: In 3A002.a.2 worden niet bedoeld digitale
magneetbandvideorecorders die speciaal zijn
ontworpen voor televisieopnamen in een (al dan
niet gecomprimeerd) signaalformaat in overeen-
stemming met de standaarden of aanbevelingen
van de ITU, de IEC, de SMPTE, de ERU of het
IEEE voor civiele televisietoepassingen.
3. digitale magneetbandinstrumentatierecorders voor het vast-
leggen van gegevens gebruikmakend van helical scan of
vaste kop techniek, met een of meer van de volgende
kenmerken:
a. een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface
groter dan 175 Mbit/s; of
b. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte";
Noot: In 3A002.a.3 worden niet bedoeld analoge
magneetbandrecorders uitgerust met HDDR
conversie-elektronica en geconfigureerd voor regi-
stratie van uitsluitend digitale gegevens.
4. apparatuur met een maximale digitale overbrengsnelheid
van de interface groter dan 175 Mbit/s, ontworpen voor het
ombouwen van digitale magneetbandvideorecorders voor
gebruik als digitale instrumentatiegegevensrecorders;
5. waveform digitisers en recorders voor registratie van
kortstondige verschijnselen ('transient recorders') met beide
volgende kenmerken:
a. digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per
seconde en een scheidend vermogen van 10 bitof meer,
en
b. een continue verwerkingscapaciteit van 2 Gbit/s of meer;
Technische noot:
Bij instrumenten met een parallelle busarchitectuur is de
continue verwerkingscapaciteit het product van de hoogste
'word rate' en het aantal bit in een woord. Continue
verwerkingscapaciteit betekent de grootste snelheid
waarmee het instrument gegevens kan uitsturen naar het
massageheugen zonder verlies van informatie terwijl de
bemonsteringssnelheid en analoog/digitaal-omzetting niet
worden onderbroken.
b. "samenstellingen" van "frequentiesynthesizers" met een
"frequentiewisseltijd" van de ene gekozen frequentie naar de
andere van minder dan 1 ms;
c. "signaalanalysatoren", als hieronder:
1. geschiktvoor hetanalyseren van frequent ies hoger dan
31 GHz;
2. "dynamische signaalanalysatoren" met een "tijdgebonden
bandbreedte" groter dan 25,6 kHz;
Noot: In 3A002.c.2 worden niet bedoeld dynamische
signaalanalysatoren die uitsluitend gebruikmaken2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 114
▼M3
van bandbreedtefilters met constant percentage
(ook wel octaaf- of deeloctaaffilters genoemd).
d. «synthesized» signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties
afgeven waarvan de nauwkeurigheid en stabiliteit op korte of
lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst
door de inwendige referentiestandaard en met een of meer van
de volgende kenmerken:
1. een maximale "synthesized" uitgangsfrequentie hoger dan
31 GHz;
2. een "frequentiewisseltijd" van de ene gekozen frequentie
naar de andere van minder dan 1 ms; of
3. een enkel zijband (SSB)-faseruis, beter dan −(126 + 20
log10F-20 log10f) in dBc/Hz, waarin F de verschuiving van de
werkfrequentie is in Hz en f de werkfrequentie in MHz;
Noot: In 3A002.d wordt niet bedoeld apparatuur waarbij de
uitgangsfrequentie wordt verkregen door het optellen
of aftrekken van twee of meer kristaloscillatorfre-
quenties, waarna de uitkomst eventueel wordt
vermenigvuldigd.
e. netwerkanalysatoren met een maximale werkfrequentie hoger
dan 40 GHz;
f. microgolftestontvangers met beide volgende kenmerken:
1. een maximale werkfrequentie hoger dan 40 GHz; en
2. geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase;
g. atomaire frequentiestandaarden met een van beide volgende
kenmerken:
1. stabiliteit ('aging') minder (beter) dan 1 × 10−11/maand; of
2. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte".
Noot: In 3A002.g.1 worden niet bedoeld rubidiumstan-
daarden die niet "gekwalificeerd voor gebruik in
de ruimte" zijn.
3A101 Elektronische uitrusting, elementen en onderdelen, anders dan
vermeld in 3A001, als hieronder:
a. analoog/digitaalomzetters, geschikt voor gebruik in "raketten"
en gespecificeerd om te voldoen aan de militaire specificaties
voor ruw gebruik voor apparatuur;
b. versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden
geproduceerd in de vorm van remstraling afkomstig van
versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en
systemen die deze versnellers bevatten.
Noot: In 3A101.b wordt niet bedoeld apparatuur speciaal
bestemd voor medische doeleinden.
3A201 Elektronische onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als
hieronder:
a. condensators met een van de volgende groepen kenmerken:
1. a. een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV,
b. energieopslag groter dan 10 J,
c. capaciteit groter dan 0,5 µF, en
d. serie-inductantie minder dan 50 nH, of
2. a. een toelaatbare spanning hoger dan 750 V,
b. capaciteit groter dan 0,25 µF, en
c. serie-inductantie minder dan 10 nH;
b. supergeleidende solenoïde elektromagneten met alle volgende
kenmerken:
1. geschiktvoor hetopwekken van een magnet isch veld van
meer dan 2 T;
2. L/D (lengte gedeeld door binnendiameter) groter dan 2;3. de binnendiameter is groter dan 300 mm;
en
4. meteen magneet veld datover 50 % van hetint erne veld
uniform is tot beter dan 1 %;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 115
▼M3
Noot: In 3A201.b worden niet bedoeld magneten die
speciaal zijn ontworpen voor en worden uitgevoerd
'als onderdeel van' medische apparatuur voor beeld-
vorming door middel van kernmagnetische resonantie
(Nuclear Magnetic Resonance, NMR). De zinsnede
'als onderdeel van' betekent niet noodzakelijkerwijs
werkelijk als onderdeel van dezelfde zending. Afzon-
derlijke zendingen vanuit verschillende bronnen zijn
toegestaan, mits in de bijbehorende exportdocumenten
duidelijk wordt vermeld dat de zendingen 'als
onderdeel van' de beeldvormende systemen worden
verzonden.
c. röntgen-generatoren met flitsontlading of gepulseerde elektro-
nenversnellers meteen van de volgende groepen kenmerken:
1. a. een elektronpiekenergie van 500 keV of meer doch
minder dan 25 MeV; en
b. een prestatiegetal (K) van 0,25 of hoger; of
2. a. een elektronpiekenergie van 25 MeV of meer; en
b. een piekvermogen groter dan 50 MW.
Noot: In 3A201.c. worden niet bedoeld versnellers die een
bestanddeel zijn van toestellen ontworpen voor andere
toepassingen dan elektronenbundels of röntgenstra-
ling (bv. elektronenmicroscopie) en versnellers
ontworpen voor medische toepassingen.
Technische noten:
1. Het prestatiegetal wordt als volgt gedefinieerd:
K = 1,7× 103×V2.65×Q ,
waarin V de elektronpiekenergie is in miljoen elektronvolt.
Bij een bundelpulsduur korter dan of gelijk aan 1 micro-
seconde is Q de totale versnelde lading in coulomb. Bij een
bundelpulsduur langer dan 1 microseconde is Q de
maximale versnelde lading in 1 microseconde.
Q is gelijk aan de integraal van i over de tijd t, zijnde ofwel
1 microseconde ofwel de tijdsduur van de bundelpuls, welk
van de twee het kortste is, (Q = ∫idt), waarbij i de
bundelstroom in ampère is en t de tijd in seconden.
2. Piekvermogen = (piekspanning in volt) × (maximale bundel-
stroom in ampère).
3. In machines die werken op basis van versnellende micro-
golftrilholtes is de tijdsduur van de bundelpuls ofwel 1
microseconde ofwel de duur van de door een microgolf-
modulatorpuls voortgebrachte deeltjesbundel, welk van de
twee het kortste is.
4. In machines die werken op basis van versnellende micro-
golftrilholtes is de maximale bundelstroom de gemiddelde
stroom voor de duur van een bundelpuls.
3A225 Frequentieomzetters of frequentiegeneratoren, anders dan vermeld
in 0B001.b.13, metalle volgende kenmerken:
a. een meerfasige uitgang geschikt voor het leveren van een
vermogen van 40 W of groter;
b. geschikt om te werken in het frequentiegebied van 600 tot
2 000 Hz;
c. totale harmonische vervorming beter (minder) dan 10 %; en
d. frequentieafwijking kleiner dan 0,1 %.
Technische noot:
De in 3A225 bedoelde frequentieomzetters zijn ook bekend als
«converters» of «inverters».
3A226 Gelijkstroombronnen met hoog vermogen, anders dan vermeld in
0B001.j.6, metbeide volgende kenmerken:
a. over een periode van achtuur ononderbroken 100 V of meer
kunnen produceren bij een stroom van 500 A of meer; en
b. met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over
een periode van achtuur.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 116
▼M3
3A227 Hoogspanningsgelijkstroombronnen, anders dan vermeld in
0B001.j.5, metbeide volgende kenmerken:
a. over een periode van achtuur ononderbroken 20 kV of meer
kunnen produceren bij een stroom van 1 A of meer; en
b. met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over
een periode van achtuur.
3A228 Nietin 0B001.j.5 omschreven schakelelement en, als hieronder:
a. buizen metkoude kat hode, al dan nietmetgas gevuld, die op
dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende
kenmerken hebben:
1. drie of meer elektroden;
2. een maximale anodespanning van 2 500 V of meer;
3. een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer; en
4. een anodevertragingstijd van 10 microseconden of minder;
Noot: Onder 3A228 vallen met gas gevulde krytronbuizen en
vacuümsprytronbuizen.
b. gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:
1. een anodevertragingstijd van 15 microseconden of minder,
en
2. een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer;
c. modulen of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met
alle volgende kenmerken:
1. een maximale anodespanning hoger dan 2 kV;
2. een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer; en
3. een inschakeltijd van 1 microseconde of minder.
3A229 Ontstekingstoestellen en gelijkwaardige pulsgeneratoren met hoge
stroomsterkte, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.
a. ontstekingsmechanismen met explosieve detonator, ontworpen
voor het starten van meervoudige detonators als vermeld in
3A232;
b. modulaire elektrische pulsgeneratoren (pulseerders) met alle
volgende kenmerken:
1. ontworpen voor draagbaar, mobiel of ruw gebruik;
2. gevatin een st ofdichthuis;
3. geschiktvoor afgift e van hun energie in minder dan 15
microseconden;
4. met een uitgangsstroomsterkte hoger dan 100 A;5. met een 'stijgtijd' korter dan 10 microseconden in een
belasting van minder dan 40 ohm;
6. geen enkele afmeting groter dan 25,4 cm;7. gewichtminder dan 25 kg;
en
8. gespecificeerd voor gebruik in een breed temperatuurgebied
223 K (− 50 ºC) tot 373 K (100 ºC) of gespecificeerd als
geschikt voor ruimtevaarttoepassingen.
Noot: 3A229.b omvat starters voor xenonflitslampen.
Technische noot:
In 3A229.b.5 is de 'stijgtijd' gedefinieerd als het tijdsinterval
dat verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekstroom
en 90 % van de piekstroom als de generator op een ohmse
weerstand wordt aangesloten.
3A230 Hoogfrequente pulsgeneratoren met alle volgende kenmerken:
a. een uitgangsspanning van meer dan 6 V in een weerstands-
belasting van minder dan 55 ohm; en
b. met een pulsstijgtijd van minder dan 500 picoseconden.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 117
▼M3
Technische noot:
In 3A230 is de pulsstijgtijd gedefinieerd als het tijdsinterval dat
verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekspanning en
90 % van de piekspanning.
3A231 Neutronengeneratorsystemen, met inbegrip van buizen, met beide
volgende kenmerken:
a. ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem; en
b. gebruikmaken van elektrostatische versnelling voor het
opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie.
3A232 Detonators en meervoudige ontstekingssystemen, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.
a. elektrische gestarte explosieve detonators, als hieronder:
1. «exploding bridge» (EB);
2. «exploding bridge wire» (EBW);
3. slapper; en4. «exploding foil»-ontstekingen (EFI);
b. opstellingen waarbij gebruik wordt gemaakt van enkel- of
meervoudige detonators en die zijn ontworpen om door middel
van een enkel ontstekingssignaal een explosief oppervlak van
meer dan 5 000 mm
2bijna gelijktijdig tot ontploffing te brengen
met een ontstekingstijdmarge over het oppervlak van minder
dan 2,5 microseconden.
Noot: In 3A232 worden niet bedoeld detonators die uitsluitend
gebruikmaken van primaire springstoffen, zoals lood-
azide.
Technische noot:
De in 3A232 bedoelde detonators maken alle gebruik van een
kleine elektrische geleider («bridge», «bridge wire» of folie) die
explosief verdampt wanneer er een snelle elektrische stroomstoot
doorheen wordt geleid. Bij het «non-slapper»-type brengt de
exploderende geleider een chemische ontploffing op gang in een
daarmee in aanraking zijnd brisant materiaal, bv. PETN
(pentaerytritoltetranitraat). Bij «slapper»-detonators wordt een
«flyer» of «slapper» door de explosieve verdamping van de
elektrische geleider over een spleet gedreven en de schok van de
«slapper» op een springstof brengt een chemische ontploffing op
gang. Bij sommige constructies wordt de «slapper» door een
magnetisch veld gestart. Met de uitdrukking «exploding foil»-
detonator worden zowel EB-detonators als «slapper»-detonators
bedoeld. Verder wordt soms het woord 'ontsteking' gebruikt in
plaats van het woord detonator.
3A233 Massaspectrometers, anders dan vermeld in 0B002.g, die ionen
meteen massa van 230 at omaire massa eenheden (a.m.e.) of meer
kunnen meten en die een oplossend vermogen hebben dat beter is
dan 2 a.m.e. op 230 a.m.e., en ionenbronnen hiervoor, als
hieronder:
a. inductief gekoppelde plasma-massaspectrometers (ICP/MS);
b. massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontla-
ding (GDMS);
c. massaspectrometers werkend door middel van thermische
ionisatie (TIMS);
d. massaspectrometers werkend door middel van elektronenbe-
schieting, met een bronkamer vervaardigd van of bedekt met
een materiaal dat bestand is tegen UF6;
e. massaspectrometers werkend met een molecuulbundel, met een
van de volgende kenmerken:
1. een bronkamer vervaardigd van of bedekt met roestvrij staal
of molybdeen en uitgerust met een koelval die tot 193 K (−
80 ºC) of lager kan worden afgekoeld; of
2. een bronkamer vervaardigd van of bedektmetmat eriaal dat
bestand is tegen UF6;of
f. massaspectrometers werkend met een microfluoreer-ionenbron
ontworpen voor actiniden of actinidefluoriden.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 118
▼M3
3B Test-, inspectie- en productieapparatuur
3B001 Productieapparatuur voor halfgeleiderelementen of -materialen, als
hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren
daarvoor:
a. "met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur voor
epitaxiale groei, als hieronder:
1. geschikt om een laagdikte-uniformiteit te produceren beter
dan ± 2,5 % over een afstand van 75 mm of meer;
2. reactoren voor het chemisch neerslaan van organometaal-
damp (MOCVD), speciaal ontworpen voor kristalgroei van
samengestelde halfgeleiderverbindingen door de chemische
reactie tussen materialen bedoeld in 3C003 of 3C004;
3. apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door
middel van moleculaire bundels metgebruik van gasvor-
mige of vaste bronnen;
b. "met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur ontworpen
voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende
kenmerken:
1. een stralingsenergie (versnellingsspanning) van meer dan
1MeV;
2. speciaal ontworpen voor optimale werking met een stra-
lingsenergie (versnellingsspanning) van minder dan 2 keV;
3. geschiktvoor directschrijven; of
4. geschikt om met hoge energie zuurstof te implanteren in een
verwarmd "substraat" bestaande uit halfgeleidermateriaal;
c. "met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur voor het
etsen door middel van anisotrope droge methoden (met
plasma), als hieronder:
1. met een «cassette-to-cassette» en «load-lock»-«wafer»
transportsysteem en met een van beide volgende kenmerken:
a. ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te
produceren van 0,3 micrometer of minder met een
precisie van ± 5 % 3 sigma; of
b. ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04
deeltjes/cm2met een meetbare deeltjesgrootte van meer
dan 0,1 micrometer in doorsnede;
2. speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en
meteen van beide volgende kenmerken:
a. ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te
produceren van 0,3 micrometer of minder met een
precisie van ± 5 % 3 sigma; of
b. ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04
deeltjes/cm2met een meetbare deeltjesgrootte van meer
dan 0,1 micrometer in doorsnede;
d. "met opgeslagen programma bestuurde" apparatuur voor het
metplasma verst erktchemisch neerslaan uitde dampfase
(PECVD), als hieronder:
1. met een «cassette-to-cassette» en «load-lock»-«wafer»
transportsysteem en met een van beide volgende kenmerken:
a. ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of
geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren
van 0,3 micrometer of minder met een precisie van ± 5 %
3 sigma; of
b. ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04
deeltjes/cm2met een meetbare deeltjesgrootte van meer
dan 0,1 micrometer in doorsnede;
2. speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en
meteen van beide volgende kenmerken:
a. ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of
geoptimaliseerd om kritische afmetingen te proceduren
van 0,3 micrometer of minder met een precisie van ± 5 %
3 sigma; of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 119
▼M3
b. ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04
deeltjes/cm2met een meetbare deeltjesgrootte van meer
dan 0,1 micrometer in doorsnede;
e. "met opgeslagen programma bestuurde" centrale «wafer»
transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch
laden van de «wafers» en met:
1. interfaces voor de in- en uitvoer van de «wafers», waaraan
meer dan twee halfgeleiderbewerkingsapparaten zullen
worden aangesloten; en
2. ontworpen ter vorming van een geïntegreerd systeem in een
vacuümomgeving voor stapsgewijze bewerking van
verscheidene «wafers» tegelijk;
Noot: In 3B001.e worden niet bedoeld robotachtige auto-
matische «wafer» transportsystemen die niet zijn
ontworpen om te werken in een vacuümomgeving.
f. "met opgeslagen programma bestuurde" lithografische appara-
tuur, als hieronder:
1. repeteerapparatuur («step and repeat» («direct step on
wafer») apparatuur of «step and scan» (scanner) apparatuur)
voor uitrichten en belichten ten behoeve van het bewerken
van wafers, waarbij gebruik wordtgemaaktvan fot o-
optische of röntgenmethoden, met een of beide van de
volgende kenmerken:
a. golflengte van de lichtbron korter dan 350 nm; of
b. in staat om patronen te produceren met een MRF
('minimum resolvable feature size') van 0,5 micrometer
of minder;
Technische noot:
De 'minimum resolvable feature size' wordt berekend
volgens de volgende formule:
MRF ¼golflengtevan de lichtbron in micrometerðÞ /C2 KfactorðÞ
numerieke apertuur
waarbij de K factor = 0,7
MRF = minimum resolvable feature size.
2. apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen
van maskers of hetbewerken van halfgeleiderelement en en
die gebruikmaken van afgebogen en gefocusseerde elek-
tronen-, ionen- of "laser"-bundels, met een of meer van de
volgende kenmerken:
a. met een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 micrometer;
b. geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner
dan 1 micrometer; of
c. overlay-nauwkeurigheid beter dan 0,20 micrometer (3
sigma);
g. maskers of fijne optische netwerken («reticles») voor geïnte-
greerde schakelingen vermeld in 3A001;
h. maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschui-
vingslaag.
3B002 "Met opgeslagen programma bestuurde" testapparatuur, speciaal
ontworpen voor het testen van afgewerkte of half-afgewerkte
halfgeleiderelementen, als hieronder, en speciaal daarvoor
ontworpen onderdelen en toebehoren:
a. voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij
frequenties hoger dan 31 GHz;
b. voor het testen van geïntegreerde schakelingen en geschikt voor
het functioneel testen («truth table testing») met een 'patroon-
snelheid' hoger dan 333 Hz;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 120
▼M3
Noot: In 3B002.b wordt niet bedoeld testapparatuur die
speciaal is ontworpen voor het testen van:
1. 'samenstellingen' of categorieën 'samenstellingen'
voor toepassingen in huis of voor amusement;
2. elektronische onderdelen, 'samenstellingen' of
geïntegreerde schakelingen die niet vergunning-
plichtig zijn;
3. geheugens.
Technische noot:
Voor de toepassing van dit punt wordt verstaan onder
'patroonsnelheid', de maximale frequentie van digitale werking
van testapparatuur. De 'patroonsnelheid' stemt derhalve
overeen met de hoogste overbrengsnelheid van de testappara-
tuur in non-multiplexed mode. De 'patroonsnelheid' wordt ook
testsnelheid, maximale digitale frequentie of maximale digitale
snelheid genoemd.
c. voor het testen van in 3A001.b.2. vermelde geïntegreerde
schakelingen voor microgolven.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 121
▼M3
3C Materialen
3C001 Hetero-epitaxiale materialen bestaande uit een "substraat" met
verscheidene gestapelde epitaxiaal gegroeide lagen van:
a. silicium;
b. germanium;
c. siliciumcarbide; of
d. III/V gallium- of indiumverbindingen.
Technische noot:
III/V-verbindingen zijn polykristallijne, binaire of complexe
monokristallijne producten bestaande uit elementen uit de
groepen IIIA en VA van het periodieke systeem van Mendelejev
(galliumarsenide, gallium-aluminiumarsenide, indiumfosfide,
enz.).
3C002 «Resists» (gevoelige lagen) als hieronder, en "substraten" bekleed
metaan vergunningsplichtonderworpen «resist s»:
a. positieve «resists» ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die
optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van
minder dan 350 nm;
b. alle «resists» ontworpen voor gebruik met elektronen- of
ionenbundels meteen gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/
mm2of beter;
c. alle «resists» ontworpen voor gebruik met röntgenstralen met
een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2of beter;
d. alle «resists» die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeld-
vorming aan hetoppervlak, metinbegrip van 'gesilyleerde'
resists.
Technische noot:
'Silyleer'-technieken zijn procédés waarbij het oppervlak van de
«resists» wordt geoxideerd ter verhoging van de kwaliteit bij
zowel natte als droge ontwikkeling.
3C003 Organisch-anorganische verbindingen, als hieronder:
a. organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of
indium meteen zuiverheidsgraad (op met aalbasis) hoger dan
99,999 %;
b organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een
zuiverheidsgraad (op basis van de anorganische elementen)
hoger dan 99,999 %.
Noot: In 3C003 worden alleen bedoeld verbindingen waarvan
het metallische, deels metallische of niet metallische
element direct gekoppeld is aan koolstof in het
organische deel van het molecuul.
3C004 Hydriden van fosfor, arseen of antimoon, met een zuiverheid hoger
dan 99,999 %, zelfs bij verdunning in edelgassen of waterstof.
Noot: In 3C004 zijn niet bedoeld hydriden die 20 mol % of
meer edelgassen of waterstof bevatten.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 122
▼M3
3D Programmatuur
3D001 "Programmatuur" ("software"), speciaal ontworpen voor de
"ontwikkeling" of de "productie" van apparatuur vermeld in
3A001.b tot en met 3A002.g of in 3B.
3D002 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van "met
opgeslagen programma bestuurde" apparatuur vermeld in 3B.
3D003 "Programmatuur" voor het computerondersteund ontwerpen
(CAD) metalle volgende kenmerken:
a. ontworpen voor de "ontwikkeling" van halfgeleiderelementen
of geïntegreerde schakelingen; en
b. ontworpen voor het vervullen of gebruiken van een of meer van
de volgende functies:
1. regels voor het ontwerpen of testen van schakelingen;
2. simulatie van het schakelingsschema; of
3. 'lithografische processimulatoren' ten behoeve van het
ontwerpen.
Technische noot:
Een 'lithografische processimulator' is een "programma-
tuur"-pakket dat in de ontwerpfase wordt gebruikt voor het
bepalen van de opeenvolgende lithografische, ets- en
bekledingstrappen voor het omzetten van maskerpatronen
in specifieke topografische patronen in geleiders en
diëlektrische of halfgeleidermaterialen.
Noot 1: In 3D003 wordt bedoeld "programmatuur", speciaal
ontworpen voor tape ten behoeve van schematische
invoer, logische simulatie, plaatsen en routebepaling,
controleren van patronen of genereren van patronen.
Noot 2: Bibliotheken, ontwerpmodellen of daarmee samenhan-
gende gegevens voor het ontwerpen van
halfgeleiderelementen of geïntegreerde schakelingen
worden beschouwd als "technologie".
3D101 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het
"gebruik" van apparatuur als vermeld in 3A101.b.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 123
▼M3
3E Technologie
3E001 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de
"ontwikkeling" of de "productie" van apparatuur of materialen
vermeld in 3A, 3B of 3C;
Noot: In 3E001 wordt niet bedoeld "technologie" voor de
"ontwikkeling" of de "productie" van:
a. microgolftransistors die werken bij frequenties lager
dan 31 GHz;
b. geïntegreerde schakelingen bedoeld in 3A001.a.3 tot
en met 3A001.a.12, met beide volgende kenmerken:
1. er wordt gebruikgemaakt van technologie van 0,7
micrometer of meer; en
2. bevat geen 'meerlagenstructuur'.
Technische noot:
De term 'meerlagenstructuur' in noot b.2 bij 3E001
omvat niet elementen met maximaal twee metaal-
lagen en twee lagen van polysilicium.
3E002 "Technologie" volgens de algemene technologienoot, anders dan
vermeld in 3E001, voor de "ontwikkeling" of de "productie" van
"microprocessor-microschakelingen", "microcomputer-microscha-
kelingen" en microbesturing-microschakelingen met een "totale
theoretische prestatie" (CTP) van 530 miljoen theoretische
bewerkingen per seconde (Mtops) of meer en een logische
rekeneenheid (ALU) meteen t oegangsbereik van 32 bitof meer.
Noot: De noot betreffende de vrijstellingen bij 3E001 geldt
eveneens voor 3E002.
3E003 Andere "technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie"
van:
a. micro-elektronische vacuümelementen;
b. halfgeleiderelementen met een heterostructuur, zoals transistors
met hoge elektronenmobiliteit (HEMT), hetero bipolaire
transistors (HBT), elementen met een quantumval of super-
rooster;
c. "supergeleidende" elektronische elementen;
d. substraten van diamantfilm voor elektronische componenten;
e. SOI (silicon-on-insulator)-substraten voor geïntegreerde scha-
kelingen metsiliciumdioxide als isolat or;
f. substraten van siliciumcarbide voor elektronische onderdelen.
3E101 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het
"gebruik" van apparatuur of "programmatuur" vermeld in
3A001.a.1 of 2, 3A101 of 3D101.
3E102 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de
"ontwikkeling" van "programmatuur" vermeld in 3D101.
3E201 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het
"gebruik" van apparatuur vermeld in 3A001.e.2, 3A001.e.3,
3A201, en 3A225 tot en met 3A233.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 124
▼M3
CATEGORIE 4
COMPUTERS2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 125
▼M3
Noot 1: Computers, aanverwante apparatuur of "programma-
tuur" die telecommunicatie- of "lokaal netwerk-"
functies verrichten, dienen tevens te worden getoetst
aan de criteria van categorie 5, deel 1 (Telecommu-
nicatie).
Noot 2: Besturingseenheden die zorgen voor de directe onder-
linge verbinding van de hoofdlijnen of kanalen van de
centrale verwerkingseenheden, het "werkgeheugen" en
de schijvenbesturingseenheden worden niet beschouwd
als telecommunicatieapparatuur als omschreven in
categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie).
N.B.: Zie 5D001 voor de embargostatus van
"programmatuur" die speciaal is ontworpen
voor pakketschakelen.
Noot 3: Computers, aanverwante apparatuur of "programma-
tuur" die cryptografische of cryptoanalytische functies
verrichten of certificeerbare veiligheid op verscheidene
niveaus of certificeerbare gebruikersisolatie
verschaffen, of die de elektromagnetische compatibili-
teit (EMC) beperken, dienen tevens te worden getoetst
aan de criteria van categorie 5, deel 2 (Informatiebe-
veiliging).
4A Systemen, apparatuur en onderdelen
4A001 Elektronische computers en aanverwante apparatuur, als hieronder,
en "samenstellingen" en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
N.B.: ZIE OOK 4A101.
a. speciaal ontworpen voor een van beide volgende kenmerken:
1. gespecificeerd voor werktemperaturen lager dan 228 K (−
45 ºC) of hoger dan 358 K (85 ºC);
Noot: In 4A001.a.1 zijn niet bedoeld computers die
speciaal zijn ontworpen voor toepassingen in
civiele automobielen of treinen.
2. de stralingsbestendigheid overschrijdt een of meer van de
volgende specificaties:
a. totale dosis 5 × 103Gy (silicium);
b. storing bij dosistempo 5 × 106Gy (silicium)/sec;
of
c. storing eenmalige gebeurtenis 1 × 10−7fout/bit/dag;
b. met kenmerken of functies die de limieten van categorie 5, deel
2 (Informatiebeveiliging), te boven gaan.
Noot: In 4A001.b zijn niet bedoeld elektronische computers
en aanverwante apparatuurwanneer zij voor persoon-
lijk gebruik bestemd zijn en door de gebruiker worden
meegevoerd.
4A002 "Hybride computers", als hieronder, en "samenstellingen" en
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
N.B.: ZIE OOK 4A102.
a. omvattende "digitale computers" vermeld in 4A003;
b. omvattende analoog/digitaalomzetters of digitaal/analoogom-
zetters met de volgende kenmerken:
1. 32 of meer kanalen; en
2. een scheidend vermogen van 14 bit (plus tekenbit) of meer
met een conversiesnelheid van 200 000 omzettingen/s of
meer.
4A003 "Digitale computers", "samenstellingen" en aanverwante appara-
tuur daarvoor, zoals hieronder vermeld, en speciaal daarvoor
ontworpen onderdelen:
Noot 1: In 4A003 zijn mede bedoeld:
a. vectorprocessoren;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 126
▼M3
b. «array» processoren;
c. digitale signaalprocessoren;
d. logische processoren;
e. apparatuur voor "beeldverbetering";
f. apparatuur voor "signaalverwerking".
Noot 2: De embargostatus van de in 4A003 omschreven
"digitale computers" of aanverwante apparatuur wordt
bepaald door de embargostatus van andere apparatuur
of systemen, mits:
a. de "digitale computers" of aanverwante apparatuur
essentieel zijn voor de werking van de andere
apparatuur of systemen;
b. de "digitale computers" of de aanverwante appara-
tuur niet een "voornaamste deel" van de andere
apparatuur of systemen vormen; en
N.B. 1: De embargostatus van apparatuur voor
"signaalverwerking" of "beeldverbete-
ring" speciaal ontworpen voor andere
apparatuur, waarvan de functies beperkt
zijn tot die welke noodzakelijk zijn voor
die andere apparatuur, wordt bepaald
door de embargostatus van die andere
apparatuur, ook indien het criterium
betreffende het "voornaamste deel" wordt
overschreden.
N.B. 2: Zie categorie 5 (deel 1 — Telecommuni-
catie) voor de embargostatus van
"digitale computers" of aanverwante
apparatuur voor telecommunicatie-
uitrusting.
c. de "technologie" voor de "digitale computers" en
aanverwante apparatuur wordt bepaald door 4E.
a. ontworpen of aangepast voor "storingstolerantie";
Noot: "Digitale computers" en aanverwante apparatuur als
bedoeld in 4A003.a zijn niet ontworpen of aangepast
voor "storingstolerantie" als zij gebruikmaken van een
of meer van de volgende voorzieningen:
1. in het "werkgeheugen" opgeslagen algoritmen voor
het opsporen of corrigeren van storingen;
2. de koppeling van twee "digitale computers",
zodanig dat, als de actieve centrale verwerkings-
eenheid uitvalt, een niet actieve maar identieke
centrale verwerkingseenheid het functioneren van
het systeem kan voortzetten;
3. de koppeling van twee centrale verwerkingseen-
heden met behulp van gegevenskanalen of door
middel van een gemeenschappelijk geheugen,
zodanig dat één centrale verwerkingseenheid
ander werk kan verrichten totdat de tweede
centrale verwerkingseenheid uitvalt, op welk
moment de eerste centrale verwerkingseenheid
het werk overneemt teneinde het functioneren van
het systeem voort te zetten; of
4. de synchronisatie van twee centrale verwerkings-
eenheden met behulp van "programmatuur",
zodanig dat de ene centrale verwerkingseenheid
merkt wanneer de andere uitvalt en meteen taken
van de uitgevallen eenheid overneemt.
b. "digitale computers" met een "totale theoretische prestatie"
("CTP") groter dan 28 000 miljoen theoretische bewerkingen
per seconde (Mtops);
c. "samenstellingen", speciaal ontworpen of aangepast voor
verhoging van de prestaties door samenvoeging van "rekene-
lementen" ("CE's"), zodat de "CTP" van de samengevoegde
"rekenelementen" de limiet van 4A003b overschrijdt;
Noot 1: 4A003.c is uitsluitend van toepassing op "samen-
stellingen" en programmeerbare onderlinge
verbindingen die de limieten van 4A003.b niet te2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 127
▼M3
boven gaan, wanneer deze als niet geïntegreerde
"samenstellingen" worden geëxporteerd. 4A003.c is
niet van toepassing op "samenstellingen" die van
zichzelf door de aard van hun ontwerp beperkt zijn
tot gebruik als aanverwante apparatuur vermeld in
4A003.d of 4A003.e.
Noot 2: In 4A003.d zijn niet bedoeld "samenstellingen"
speciaal ontworpen voor een product of groep van
producten waarvan de maximale configuratie de
limiet van 4A003.b niet te boven gaat.
d. grafische versnellers of grafische co-processors meteen
"driedimensionale vectorsnelheid" groter dan 200 000 000;
e. apparatuur die analoog-naar-digitaal-omzettingen kan uitvoeren
en de limieten van 3A001.a.5 te boven gaat;
f. nietgebruikt ;
g. apparatuur, speciaal ontworpen voor het extern onderling
verbinden van "digitale computers" of aanverwante apparatuur,
welke communicatie met een gegevenssnelheid groter dan 1,25
Gbyte/s mogelijk maakt.
Noot: In 4A003.g worden niet bedoeld interne onderlinge
verbindingen (zoals «backplanes», «buses»), passieve
onderlinge verbindingen, "netwerktoegangsbestu-
ringseenheden" of
"communicatiekanaalbesturingseenheden".
4A004 Computers, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen
aanverwante apparatuur, "samenstellingen" en onderdelen:
a. "«systolic array»-computers";
b. "neurale computers";
c. "optische computers".
4A101 Analoge computers, "digitale computers" of digitale differentiaal-
analysators, anders dan bedoeld in 4A001.a.1, geschikt voor ruw
gebruik en ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelan-ceervoertuigen vermeld in 9A004 of sonderingsraketten vermeld in
9A104.
4A102 "Hybride computers", speciaal ontworpen voor het modelleren,
simuleren of integreren van het ontwerp van ruimtelanceervoer-
tuigen vermeld in 9A004 of sonderingsraketten vermeld in 9A104.
Noot: Deze post is alleen van toepassing als de apparatuur
wordt geleverd met programmatuur vermeld in 7D103 of
9D103.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 128
▼M3
4B Test-, inspectie- en productieapparatuur
Geen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 129
▼M3
4C Materialen
Geen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 130
▼M3
4D Programmatuur
Noot: De embargostatus van "programmatuur" voor de
"ontwikkeling", de "productie", of het "gebruik" van
apparatuur omschreven in andere categorieën, wordt in
de desbetreffende categorie behandeld. De embargo-
status van "programmatuur" voor apparatuur
omschreven in de onderhavige categorie wordt hier
behandeld.
4D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur,
materialen of "programmatuur" vermeld in 4A001 tot en met
4A004 of 4D.
4D002 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor onder-
steuning van "technologie" vermeld in 4E.
4D003 Specifieke "programmatuur", als hieronder:
a. "programmatuur" voor bedrijfssystemen, ontwikkelingsinstru-
menten voor "programmatuur" en compileerprogramma's,
speciaal ontworpen voor apparatuur voor "verwerking van
meervoudige stromen van gegevens", in "broncode";
b. nietgebruikt ;
c. "programmatuur" met kenmerken of functies die de limieten
van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging), te boven gaan.
Noot: In 4D003.c is niet bedoeld programmatuur wanneer
zij voor persoonlijk gebruik bestemd is en door de
gebruiker wordt meegevoerd.
d. besturingssystemen («operating systems») speciaal ontworpen
voor apparatuur voor "tijdgebonden verwerking" waardoor een
"globale onderbrekingswachttijd" van minder dan 20 µs
verzekerd is.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 131
▼M3
4E Technologie
4E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur,
materialen of "programmatuur" vermeld in 4A of 4D.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 132
▼M3
Technische noot betreffende de totale "theoretische prestatie" (composite
theoretical performance (CTP))
Afkortingen in deze technische noot
"CE" «computing element» ("rekenelement" — doorgaans een rekenkundige
logische eenheid)
FP «floating point» (drijvende komma)XP 'fixed point' (vaste komma)
t uitvoeringstijd
XOR «exclusive OR» (exclusieve OF)CPU 'central processing unit' (centrale verwerkingseenheid)
TP 'theoretical performance' (theoretische prestatie van één enkel CE)
"CTP" «composite theoretical performance» ("totale theoretische prestatie" van
verscheidene CE's)
R 'effective calculating rate' (effectieve rekensnelheid)
WL woordlengteL compensatiefactor voor de woordlengte× vermenigvuldiging
De uitvoeringstijd "t" wordt uitgedrukt in microseconden, TP en "CTP" worden
uitgedrukt in miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops) en WL
wordt uitgedrukt in bits.
De berekening van "CTP"
"CTP" is een maat voor de rekenprestaties, uitgedrukt in Mtops. Om de "CTP"
van een combinatie van "CE's" te berekenen, worden de volgende drie stappen
gevolgd:
1. bereken de effectieve rekensnelheid R voor elk "CE";
2. bepaal de theoretische prestatie (TP) voor elk "CE" door de compensatiefactor
voor de woordlengte (L) in de effectieve rekensnelheid (R) te verrekenen;
3. combineer in hetgeval van meer dan één "CE" de TP's t oteen "CTP" voor de
combinatie.
Hieronder worden deze stappen nader uiteengezet.
Noot 1: Voor combinaties van een aantal "CE's" met zowel gemeenschappe-
lijke als niet gemeenschappelijke geheugensubsystemen vindt de
berekening van "CTP" hiërarchisch plaats in twee stappen: eerst
wordt de groep van "CE's" met gemeenschappelijk geheugen samen-
gevoegd, vervolgens wordt de "CTP" van de groepen berekend
volgens de methode voor verscheidene "CE's" die geen gemeenschap-
pelijk geheugen hebben.
Noot 2: "CE's" die zijn beperkt tot «input/output» en randapparatuurfuncties
(bv. «disk drive», communicatie en «video display controllers»)
worden bij de berekening van "CTP" niet in aanmerking genomen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 133
▼M3
In de onderstaande tabel wordt aangegeven hoe de effectieve rekensnelheid (R)
voor elk rekenelementCE wordtberekend:
Stap 1: De effectieve rekensnelheid R
Voor CE's metdaarin geïmplement eerd:
Noot Elk CE afzonderlijk behandelenEffectieve rekensnelheid R
Alleen XP
Rxp¼1
3/C2txp add/C0/C1
als geen add (optellen) is geïmplementeerd dan:
Rxp¼1
txp mult/C0/C1
Als noch add noch multiply (vermenigvuldigen)
is geïmplementeerd, gebruik dan de snelste
beschikbare rekenkundige bewerking als volgt:
Rxp¼1
3/C2txp
Zie noten X en Z
Alleen FP
Rfp¼max1
tfp add/C0/C1 ;1
tfp mult/C0/C1
Zie noten X en Y
Zowel FP als XP Bereken Rxp,Rfp
Voor eenvoudige logische processoren zonder
de genoemde rekenkundige bewerkingen R¼1
3/C2tlog
Waarin tlogde uitvoeringstijd van de XOR is, of
voor logische apparatuur zonder de XOR-
functie de snelste eenvoudige logische
bewerking
Zie noten X en Z
Voor speciale logische processoren zonder de
genoemde rekenkundige of logische bewerk-
ingenR=R′× WL/64
waarin R ′het aantal resultaten per seconde is,
WL het aantal bits waarop de logische
bewerking plaatsvindt en 64 een factor om op
een 64-bitbewerking te normeren2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 134
▼M3
Noot W: Voor een pijplijn CE die per klokcyclus, nadat de pijplijn vol is,
maximaal één rekenkundige of logische bewerking kan uitvoeren, kan
een pijplijnsnelheid worden bepaald. In dat geval wordt van de
pijplijnsnelheid en de verwerkingssnelheid zonder pijplijn de hoogste
waarde als effectieve rekensnelheid genomen.
Noot X: Voor CE's die verscheidene bewerkingen van een bepaald type in één
cyclus verrichten (bv. twee optellingen of twee identieke logische
bewerkingen per cyclus), wordt de uitvoeringstijd t gegeven door:
t¼cyclustijd
aantal identieke bewerkingen per machinecyclus
CE's die verschillende typen rekenkundige of logische bewerkingen in
één machinecyclus verrichten, worden behandeld als verschillende
afzonderlijke CE's die gelijktijdig werken (bv. een CE dat een
optelling en een vermenigvuldiging in één cyclus verricht, wordt
behandeld als twee CE's die respectievelijk één optelling in één cyclus
en één vermenigvuldiging in één cyclus verrichten).
Als een afzonderlijk CE zowel een scalaire functie als een
vectorfunctie heeft, wordt de kortste uitvoeringstijd genomen.
Noot Y: Als in het CE geen «FP add» of «FP multiply» zijn geïmplementeerd
maar het CE «FP divide» (delen) verricht:
Rfp¼1
tfpdivide/C0/C1
Als in het CE «FP reciprocal» is geïmplementeerd, maar niet «FP
add», «FP multiply» of «FP divide», dan:
Rfp¼1
tfpreciprocal/C0/C1
Als geen van de genoemde instructies is geïmplementeerd, is de
effectieve FP-snelheid 0.
Noot Z: In eenvoudige logische bewerkingen wordt door één instructie één
enkele logische manipulatie met ten hoogste twee operanden met
gegeven lengte verricht. In complexe logische bewerkingen wordt
door één instructie een aantal logische manipulaties verricht om met
twee of meer operanden een of meer resultaten te verkrijgen.
Voor alle ondersteunde operandlengtes dienen de snelheden te
worden berekend voor zowel pijplijn- (indien ondersteund) als niet-
pijplijnbewerkingen, waarbij wordt uitgegaan van de snelste uitvoe-
ringsopdracht voor elke operandlengte gebaseerd op:
1. pijplijn- of register-naar-register-bewerkingen. Houd geen reke-
ning met extreem korte uitvoeringstijden voor bewerkingen met een
of meer specifieke operanden (bv. vermenigvuldiging met 0 of 1).
Als geen register-naar-register-bewerkingen zijn geïmplementeerd,
ga dan naar 2;
2. de snelste van de volgende twee bewerkingen: register naar
geheugen of geheugen naar register; als deze eveneens ontbreken,
ga dan naar 3;
3. geheugen naar geheugen.
Gebruik in elk van de bovengenoemde gevallen de kortste door de
fabrikant opgegeven uitvoeringstijd.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 135
▼M3
Stap 2: TP voor elke ondersteunde operandlengte WL
Pas de compensatiefactor L voor de woordlengte toe op de effectieve snelheid R
(of R′) als volgt:
T P=R×L
waarin L = (1/3 + WL/96)
Noot: In deze berekeningen is de woordlengte WL de operandlengte in bits.
(Als in een bewerking operanden van verschillende lengte worden
gebruikt, neem dan de grootste woordlengte.)
De combinatie van een mantisse ALU en een exponent ALU van een
«floating point processor» of eenheid wordt voor de berekening van
CTP beschouwd als één CE met een woordlengte (WL) gelijk aan het
aantal bits in de datarepresentatie (gewoonlijk 32 of 64).
Deze compensatie wordt niet toegepast op gespecialiseerde logische processoren
die geen XOR-opdrachten gebruiken. In dat geval is TP = R.
Neem de hoogste verkregen waarde van TP voor:elk CE metalleen XP (R
xp);
elk CE metalleen FP (Rfp);
elk CE metzowel FP als XP (R);elke eenvoudige logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige
bewerkingen geïmplementeerd is; en
elke speciale logische processor waarin geen van de genoemde rekenkundige of
logische bewerkingen geïmplementeerd is.
Stap 3: CTP voor combinaties van CE's met inbegrip van CPU's
Voor een CPU metéén enkel CE
CTP = TP
(Voor CE's metzowel vast e als drijvende komma,
TP = max (TP
fp,T Pxp))
Voor combinaties van een aantal gelijktijdig werkende CE's wordt CTP als volgt
berekend:
Noot 1: Voor combinaties waarin niet alle CE's simultaan kunnen werken,
wordt de mogelijke combinatie van CE's gebruikt die de grootste CTP
oplevert. Voor elk bijdragend CE wordt de theoretische maximale
waarde van TP berekend voordat de CTP van de combinatie wordt
berekend.
N.B.: Om de mogelijke combinaties van gelijktijdig werkende CE's
te bepalen, wordt een instructiesequentie gegenereerd die
bewerkingen in verscheidene CE's initieert, beginnend met
het traagste CE (d.w.z. dat voor het voltooien van een
bewerking het grootste aantal cyclussen nodig is) en
eindigend met het snelste CE. In elke cyclus van de sequentie
is de combinatie van CE's die tijdens die cyclus in bedrijf
zijn, een mogelijke combinatie. In de instructiesequentie moet
rekening worden gehouden met alle hardware- en/of
architectuurbeperkingen voor overlappende bewerkingen.
Noot 2: Eén enkele IC of kaart kan verscheidene CE's bevatten.
Noot 3: Aangenomen wordt dat er simultane bewerkingen zijn als de
computerfabrikant in een handleiding of brochure van de computer
concurrente, parallelle of simultane bewerking of verwerking
vermeldt.
Noot 4: CTP-waarden worden niet samengevoegd voor combinaties van CE's
die zijn verbonden via lokale netwerken, «wide area networks»,
gemeenschappelijke aansluitingen/apparatuur voor «input/output»,
«input/output controllers» en eventuele via programmatuur geïmple-
menteerde communicatieverbindingen.
Noot 5: CTP-waarden worden samengevoegd voor verscheidene CE's die
speciaal zijn ontworpen om hogere prestaties te leveren doordat zij
worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen delen, of
combinaties van verscheidene geheugens/CE's die gelijktijdig werken
met behulp van speciaal daarvoor ontworpen apparatuur. Waarden
voor samenstellingen bedoeld in 4A003.c worden niet samengevoegd.
CTP = TP1+C2×T P2+…+Cn×T Pn,2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 136
▼M3
waarin de TP's zo naar waarde zijn gerangschikt dat TP1de hoogste
waarde heeft, TP2de op één na hoogste, … en TPnde laagste waarde.
Ciis een coëfficiënt die als volgt wordt bepaald door de aard van de
interconnectie:
Voor meerdere CE's die gelijktijdig werken en een gemeenschappelijk geheugen
hebben:
C2=C3=C4=…=Cn= 0,75
Noot 1: Als CTP, berekend volgens bovenstaande methode, niet groter is dan
194 Mtops, kan de volgende formule worden gebruikt voor de
berekening van Ci:
Ci¼0;75ﬃﬃﬃ ﬃmpi¼2;... ;n ðÞ
waarin m = aantal CE's of groepen van CE's met gemeenschappelijke
toegang.
op voorwaarde dat:
1. de TPivan elk CE of groep van CE's niet groter is dan 30 Mtops;
2. de CE's of groepen van CE's gemeenschappelijk toegang hebben
tot een werkgeheugen (uitgezonderd cachegeheugen) via één enkel
kanaal;en
3. slechts één CE of groep van CE's op een gegeven tijdstip gebruik
van het kanaal kan maken.
N.B. Dit geldt niet voor goederen bedoeld in categorie 3.
Noot 2: CE's hebben een gemeenschappelijk geheugen als zij een gemeen-
schappelijk segment van een halfgeleidergeheugen benaderen. Dit
geheugen kan een cachegeheugen, werkgeheugen of ander intern
geheugen zijn. Externe geheugens zoals 'disk drives', 'tape drives' of
RAM-disks vallen hier niet onder.
Voor meerdere CE's of groepen CE's zonder gemeenschappelijk geheugen die via
een of meer datakanalen met elkaar in verbinding staan:
Ci= 0,75 × ki(i = 2, …, 32) (zie onderstaande noot)
= 0,60 × ki(i = 33, …, 64)
= 0,45 × ki(i = 65, …, 256)
= 0,30 × ki(i > 256)
De waarde van Ciis gebaseerd op hetaant al CE's, nietop hetaant al
knooppunten.waarin
ki= min (Si/Kr,1 )e n
Kr= normalisatiefactor van 20 Mbyte/s
Si= som van de maximale gegevenssnelheden (in Mbyte/s) voor alle
gegevenskanalen die zijn aangesloten op het ideCE of de idegroep CE's
metgemeenschappelijk geheugen.
Bij de berekening van een Civoor een groep CE's is hetnummer van heteerst e
CE in een groep bepalend voor de waarde die Cikrijgt. Zo zal in een combinatie
van groepen van drie CE's elke 22e groep bestaan uit CE64,C E65en CE66.D e
waarde van Civoor deze groep is 0,60.
Het combineren (van CE's of groepen CE's) dient te geschieden van de snelste
naar de langzaamste, d.w.z.:
TP1≥TP2≥…T Pn,e n
indien TPi=T Pi+1van de grootste naar de kleinste, d.w.z.:
Ci≥Ci+1
Noot: De ki-factor wordt niet toegepast op de CE's 2 tot en met 12 als de TPivan het CE of de groep CE's meerbedraagt dan 50Mtops,d.w.z.Civoor
de CE's 2 tot en met 12 is 0,75.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 137
▼M3
CATEGORIE 5
TELECOMMUNICATIE EN "INFORMATIEBEVEILIGING"2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 138
▼M3
DEEL 1
TELECOMMUNICATIE
Noot 1: In categorie 5, deel 1, wordt de embargostatus
omschreven van onderdelen, "lasers", test- en
"productie"-apparatuur en "programmatuur"daarvoor,
die speciaal zijn ontworpen voor telecommunicatie-
apparatuur of -systemen.
Noot 2: Wanneer "digitale computers", aanverwante appara-
tuur of "programmatuur" essentieel zijn voor de
werking en ondersteuning van in deze categorie
omschreven telecommunicatieapparatuur, worden
deze beschouwd als speciaal ontworpen onderdelen,
mits het de standaarduitvoering betreft die gewoonlijk
wordt geleverd door de fabrikant. Hieronder zijn mede
begrepen computersystemen voor bediening, beheer,
onderhoud, technische wijzigingen en facturering.
5A1 Systemen, apparatuur en onderdelen
5A001 a. Alle soorten telecommunicatieapparatuur met een van de
volgende kenmerken, functies of eigenschappen:
1. speciaal ontworpen om bestand te zijn tegen kortstondige
elektronische gevolgen of elektromagnetische impulsie ten
gevolge van een kernexplosie;
2. speciaal versterkt om bestand te zijn tegen gamma-,
neutronen- of ionenstraling; of
3. speciaal ontworpen voor werktemperaturen buiten het
gebied van 218 K (− 55 ºC) tot 397 K (124 ºC).
Noot: 5A001.a.3 is uitsluitend van toepassing op elek-
tronische apparatuur.
Noot: 5A001.a.2 en 5A001.a.3 zijn niet van toepassing op
apparatuur ontworpen of aangepast voor gebruik aan
boord van satellieten.
b. Telecommunicatie-transmissieapparatuur of -systemen, en
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, met
een van de volgende kenmerken, functies of eigenschappen:
1. Systemen voor communicatie onder water met een of meer
van de volgende kenmerken:
a. een akoestische draagfrequentie buiten het gebied tussen
de 20 en 60 kHz;
b. gebruikmakend van een elektromagnetische draagfre-
quentie lager dan 30 kHz; of
c. gebruikmakend van elektronenbundelbesturingstech-
nieken;
2. radiotransmissieapparatuur met werkfrequentie in de 1,5-
87,5 MHz band en meteen van beide volgende kenmerken:
a. met adaptieve technieken die meer dan 15 dB onder-
drukking van storende signalen verschaffen; of
b. 1. automatisch aangeven en kiezen van frequenties en
het bereiken van optimale transmissie; en
2. met een lineaire vermogensversterkerconfiguratie die
verscheidene signalen tegelijk kan onderhouden bij
een uitgangsvermogen van 1 kW of meer in het
frequentiegebied van 2,5 tot 30 MHz of van 250 W of
meer in het frequentiegebied van 30 tot 87,5 MHz,
over een "momentele bandbreedte" van één octaaf of
meer en meteen harmonisch/vervormingsuit gangs-
niveau beter dan 80 dB;
3. radioapparatuur die gebruikmaakt van "spread spectrum"-
technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-tech-
nieken metéén van de volgende kenmerken:
a. voor de gebruiker programmeerbare 'spreading'-codes; of
b. een totaal uitgezonden bandbreedte die 100-maal of meer
zo groot is als de bandbreedte van enig informatiekanaal
en groter dan 50 kHz;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 139
▼M3
Noot: 5A001.b.3.b is niet van toepassing op radio-
apparatuur speciaal ontworpen voor gebruik
met civiele cellulaire radiocommunicatiesys-
temen.
Noot: 5A001.b.3 is niet van toepassing op apparatuur
ontworpen voor een uitgangsvermogen van maxi-
maal 1,0 W.
4. digitaal bestuurde radio-ontvangers
a. metmeer dan 1 000 kanalen;
b. die een "frequentiewisseltijd" hebben korter dan 1 ms;
c. die de ontvangen signaalfrequentie of het zendertype
identificeren; en
d. die automatisch een deel van het elektromagnetische
spectrum afzoeken of aftasten; of
Noot: 5A001.b.4 is niet van toepassing op radio-
apparatuur speciaal ontworpen voor gebruik
met civiele cellulaire radiocommunicatiesys-
temen.
5. die gebruikmaken van digitale "signaalverwerkings"-func-
t ies methetoog op spraakcodering meteen snelheid van
minder dan 2 400 bit/s;
c. glasvezel-communicatiekabel, glasvezels en toebehoren, als
hieronder:
1. glasvezels meteen lengt e van meer dan 500 m die volgens
de specificaties van de fabrikant een tijdens de "normtest"
uitgeoefende trekspanning weerstaan van 2 × 109N/m2of
meer;
Technische noot:
'Normtest' houdt in het steekproefsgewijs testen tijdens of
buiten de productie waarbij dynamisch een voorgeschreven
trekspanning wordt uitgeoefend op vezel met een lengte
tussen de 0,5 en 3 m, terwijl deze met een snelheid van 2 à
5 m/s tussen rollen met een diameter van ongeveer 150 mm
doorloopt. De omgevingstemperatuur is hierbij nominaal
293 K (20 ºC) en de relatieve vochtigheidsgraad 40 %. Voor
het uitvoeren van de 'normtest' mogen gelijkwaardige
nationale normen worden gehanteerd;
2. glasvezelkabels en toebehoren, ontworpen voor gebruik
onder water.
Noot: 5A001.c.2 is niet van toepassing op standaardka-
bels voor civiele telecommunicatiesystemen en
toebehoren.
N.B.1: Zie 8A002.a.3 voor voedingsleidingen en koppe-
lingen daarvoor voor gebruik onder water.
N.B.2: Zie 8A002.c. voor doorvoeren en doorvoercon-
nectoren voor rompen uit glasvezel.
d. elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een
aantal identieke antennes («phased array antennae») met een
werkfrequentie hoger dan 31 GHz.
Noot: In 5A001.d. worden niet bedoeld elektronisch fase-
gestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal
identieke antennes voor landingssystemen met instru-
menten die voldoen aan de ICAO-normen
(International Civil Aviation Organisation) (microgolf
landingssystemen (MLS)).
5A101 Apparatuur voor telemetrie en afstandsbesturing, geschikt voor
"raketten".
Noot: In 5A101 wordt niet bedoeld apparatuur speciaal
ontworpen voor het op afstand besturen van modelvlieg-
tuigen, -boten of -auto's en met een elektrische
veldsterkte van niet meer dan 200 microvolt per meter
op een afstand van 500 m.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 140
▼M3
5B1 Test-, inspectie- en productieapparatuur
5B001 a. Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en
toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling", de
"productie" of het "gebruik" van apparatuur, functies of
eigenschappen bedoeld in 5A001, 5B001, 5D001 of 5E001.
Noot: In 5B001.a zijn niet bedoeld apparatuur voor het
karakteriseren van glasvezels waarin geen gebruik
wordt gemaakt van halfgeleider-"lasers".
b. Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en
toebehoren, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van een
of meer van de volgende soorten telecommunicatietransmissie-
of "met opgeslagen programma bestuurde" schakelapparatuur:
1. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale
technieken, inclusief "asynchrone transfer modus"
("ATM"), ontworpen voor het werken bij een "totale digitale
overbrengsnelheid" hoger dan 1,5 Gbit/s;
2. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser",
en die een van de volgende kenmerken heeft:
a. een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm;
b. met de functie "optische versterking";
c. gebruikmakend van coherente optische transmissietech-
nieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel
optische heterodyne of homodyne technieken genoemd);
d. gebruikmakend van analoge technieken en met een
bandbreedte groter dan 2,5 GHz;
Noot: 5B001.b.2.d. is niet van toepassing op appara-
tuur speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling"
van commerciële TV-systemen.
3. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch
schakelen";
4. radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadra-
tuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau
128; of
5. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaal-
signalering" («common channel signalling») in niet-
verbonden of quasi-verbonden bedrijfswijze.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 141
▼M3
5C1 Materialen
Geen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 142
▼M3
5D1 Programmatuur
5D001 a. "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur,
functies of eigenschappen bedoeld in 5A001 of 5B001;
b. "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor
ondersteuning van "technologie" bedoeld in 5E001;
c. specifieke "programmatuur", als hieronder:
1. "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het
verschaffen van kenmerken, functies of eigenschappen van
apparatuur bedoeld in 5A001 of 5B001;
2. nietgebruikt ;
3. "programmatuur", anders dan in machinegerichte vorm,
speciaal ontworpen voor "dynamische adaptieve routebepa-
ling";
d. "programmatuur", speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling"
van een van de volgende soorten telecommunicatietransmissie-
of "met opgeslagen programma bestuurde" schakelapparatuur:
1. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale
technieken, inclusief "asynchrone transfer modus"
("ATM"), ontworpen voor het werken bij een "totale digitale
overbrengsnelheid" hoger dan 1,5 Gbit/s;
2. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser",
en die een van de volgende kenmerken heeft:
a. een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm; of
b. gebruikmakend van analoge technieken en met een
bandbreedte groter dan 2,5 GHz;
Noot: 5D001.d.2.b. is niet van toepassing op
"programmatuur"speciaal ontworpen of aange-
past voor de "ontwikkeling" van commerciële
TV-systemen.
3. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch
schakelen"; of
4. radioapparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van kwadra-
tuur-amplitudemodulatie (QAM)-technieken boven niveau
128.
5D101 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het
"gebruik" van in 5A101 bedoelde apparatuur.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 143
▼M3
5E1 Technologie
5E001 a. "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" (de
bediening niet inbegrepen) van apparatuur, functies, eigen-
schappen of "programmatuur" bedoeld in 5A001, 5B001 of
5D001;
b. specifieke "technologie", als hieronder:
1. "noodzakelijke" "technologie" voor de "ontwikkeling" of de
"productie" van telecommunicatieapparatuur speciaal
ontworpen voor gebruik aan boord van satellieten;
2. "technologie" voor de "ontwikkeling" of het "gebruik" van
"laser"-communicatietechnieken die geschikt zijn voor het
automatisch verzamelen en volgen van signalen en die
communicatie onderhouden via de exosfeer, onder de grond
of onder water;
3. "technologie" voor de "ontwikkeling" van digitale cellulaire
radiosystemen («cellular radiosystems»);
4. "technologie" voor de "ontwikkeling" van "spread spec-
trum"-technieken, met inbegrip van "frequency hopping"-
technieken;
c. "technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
voor de "ontwikkeling" of de "productie" van een van de
volgende soorten telecommunicatietransmissie- of "met opge-
slagen programma bestuurde" schakelapparatuur, functies of
eigenschappen:
1. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van digitale
technieken, inclusief "asynchrone transfer modus"
("ATM"), ontworpen voor het werken bij een totale digitale
overbrengsnelheid hoger dan 1,5 Gbit/s;
2. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van een "laser",
en die een van de volgende kenmerken heeft:
a. een transmissiegolflengte groter dan 1 750 nm;
b. met de functie "optische versterking", waarbij gebruik
wordtgemaaktvan verst erkers van praseodymium-
gedoteerde fluorvezel fluorvezel (PDFFA);
c. gebruikmakend van coherente optische transmissietech-
nieken of coherente optische detectietechnieken (ook wel
optische heterodyne of homodyne technieken genoemd);
d. gebruikmakend van golflengteverdeling-multiplexing
(«wave length division multiplexing»)-technieken,
waarbij de afzonderlijke optische vensters uit meer dan
acht optische dragers bestaan; of
e. gebruikmakend van analoge technieken en met een
bandbreedte groter dan 2,5 GHz;
Noot: 5E001.c.2.e. is niet van toepassing op "techno-
logie" voor de "ontwikkeling" of "productie"
van commerciële TV-systemen.
3. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "optisch
schakelen";
4. radioapparatuur:
a. waarin gebruik wordt gemaakt van kwadratuur-amplitu-
demodulatie (QAM)-technieken boven niveau 128; of
b. met een in- of uitvoerwerkfrequentie hoger dan 31 GHz;
Noot: Niet bedoeld wordt in 5E001.c.4.b "techno-
logie" voor de "ontwikkeling" of de "productie"
van apparatuur ontworpen of aangepast voor
werking in een frequentieband die is "toege-
wezen door de ITU" voor
radiocommunicatiediensten, maar niet voor
radiodeterminatie.
5. apparatuur waarin gebruik wordt gemaakt van "eenkanaal-
signalering" («common channel signalling»).
5E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur
bedoeld in 5A101.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 144
▼M3
DEEL 2
"INFORMATIEBEVEILIGING"
Noot 1: In categorie 5, deel 2, wordt de embargostatus
omschreven van apparatuur, "programmatuur",
systemen, voor specifieke toepassingen bestemde"samenstellingen", modulen, geïntegreerde schake-
lingen, onderdelen of functies ten behoeve van
"informatiebeveiliging", ook indien het onderdelen of
"samenstellingen" van andere apparatuur betreft.
Noot 2: Categorie 5, deel 2, is niet van toepassing op producten
wanneer deze door de gebruiker voor persoonlijk
gebruik worden meegevoerd.
Noot 3: Cryptografienoot
5A002 en 5D002 gelden niet voor goederen die aan
alle onderstaande criteria voldoen:
a. de goederen zijn algemeen voor het publiek
verkrijgbaar doordat ze zonder beperkingen via de
detailhandel uit voorraad wordt verkocht via:
1. winkelverkoop;
2. postorderverkoop;
3. elektronische verkoop; of
4. telefonische verkoop;
b. de cryptografische werking kan niet eenvoudig door
de gebruiker worden veranderd;
c. de goederen zijn ontworpen voor installatie door de
gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de
leverancier; en
d. zo nodig zijn er over deze goederen nadere gegevens
beschikbaar, die op verzoek worden verstrekt aan de
bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de
exporteur gevestigd is, zodat kan worden vastgesteld
of aan de onder a. tot en met c. beschreven
voorwaarden wordt voldaan.
Technische noot:
In categorie 5, deel 2, worden pariteitsbits niet meegerekend voor
de sleutellengte.
5A2 Systemen, apparatuur en onderdelen
5A002 a. Systemen, apparatuur, voor specifieke toepassingen bestemde
"samenstellingen", modulen of geïntegreerde schakelingen ten
behoeve van "informatiebeveiliging", als hieronder, en andere
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
N.B.: Zie 7A005 voor de embargostatus van satellietont-
vangers voor wereldwijde navigatiesystemen met of
gebruikmakend van ontcijfering (GPS of GLONASS).
1. ontworpen of aangepast voor het hanteren van "cryptografie"
met gebruikmaking van digitale technieken ter uitvoering
van cryptografische functies, met uitzondering van authenti-
ficatie en digitale handtekening, met behulp van:
Technische noten:
1. Onder authentificatie- en digitalehandtekeningfuncties
valt ook de daarmee samenhangende sleutelbeheers-
functie.
2. Onder authentificatie vallen alle aspecten van
toegangscontrole waarbij geen encryptie van
bestanden of tekst betrokken is, behalve wanneer
deze rechtstreeks verband houdt met de bescherming
van wachtwoorden, persoonlijke identificatienummers
(PIN-codes) of vergelijkbare informatie ter voorko-
ming van toegang zonder toestemming.
3. Tot "cryptografie" worden niet gerekend: technieken
van "vaste" gegevenscomprimering of -codering.
Noot: 5A002.a.1. is ook van toepassing op apparatuurdie
is ontworpen of aangepast voor het gebruik van2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 145
▼M3
"cryptografie" op grond van analoge principes,
wanneer deze met behulp van digitale technieken
worden toegepast.
a. een "symmetrisch algoritme" met een sleutellengte van
meer dan 56 bits; of
b. een "asymmetrisch algoritme" waarvan de beveiliging
wordtgewaarborgd door:
1. ontbinding van gehele getallen van meer dan 512 bits
(bv. RSA);
2. berekening van discrete logaritmen in een groep van
een eindig veld met een grootte van meer dan 512 bits
(bv. Diffie-Hellman over Z/pZ); of
3. discrete logaritmen in een andere dan de in
5A002.a.1.b.2 genoemde groepen van meer dan
112 bits (bv. Diffie-Hellman over een elliptische
curve);
2. ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van cryptanaly-
tische functies;
3. nietgebruikt ;4. speciaal ontworpen of aangepast voor het reduceren van
ongewenste lekken van informatiedragende signalen, afge-
zien van hetgeen noodzakelijk is om aan de normen voor
gezondheid, veiligheid en elektromagnetische interferentie te
voldoen;
5. ontworpen of aangepast voor het hanteren van cryptogra-
fische technieken voor het genereren van de spreidcode voor
"spread spectrum"-systemen, met inbegrip van de
«hopping»-code voor "frequency hopping"-systemen;
6. ontworpen of aangepast voor het verschaffen van gecertifi-
ceerde of certificeerbare "veiligheid op verscheidene
niveaus" of gebruikersisolatie op een niveau dat klasse B2
van de «Trusted Computer System Evaluation Criteria»
(TCSEC) of een equivalent daarvan te boven gaat;
7. communicatiekabelsystemen die met mechanische, elektri-
sche of elektronische middelen zijn ontworpen of aangepast
voor hetopsporen van clandest iene binnendringing;
Noot: In 5A002 zijn niet bedoeld:
a. "persoonsgebonden slimme kaarten", waarvan de
cryptografische functie beperkt is tot het gebruik in
apparatuur of systemen die van embargo zijn uitge-
sloten krachtens de punten b. tot en met f. van deze
noot. Indien een "persoonsgebonden slimme kaart"
verscheidene functies heeft, wordt de embargostatus
van elke functie afzonderlijk beoordeeld;
b. ontvangstapparatuur voor radio-uitzendingen, betaal-
televisie of gelijksoortige uitzendingen voor een
beperkt aantal kijkers, bedoeld voor de consument,
zonder digitale versleuteling, met uitzondering van de
apparatuur die uitsluitend wordt gebruikt om de
factuur of programma-informatie aan de zenders
terug te sturen;
c. apparatuur waarvan het cryptografisch vermogen niet
voor gebruik toegankelijk is, en die speciaal is
ontworpen voor uitsluitend een of meer van de
volgende functies:
1. het laten functioneren van tegen kopiëren bevei-
ligde "programmatuur";
2. toegang tot:
a. tegen kopiëren beveiligde inhoud, vastgelegd op
read-only-media; of
b. informatie die in gecodeerde vorm in een
medium is opgeslagen (bv. in verband met de
bescherming van de intellectuele eigendom),
wanneer de media in identieke partijen aan het
publiek te koop worden aangeboden; of
3. het eenmalig kopiëren van door auteursrecht
beschermde audio- of videogegevens.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 146
▼M3
d. cryptografieapparatuur die speciaal is ontworpen
voor uitsluitend gebruik voor bank- of 'geldtrans-
acties';
Technische noot:
Onder 'geldtransacties' in 5A002, noot d, valt ook het
betalen van vervoerbewijzen, alsmede het uitvoeren
van crediteringsfuncties.
e. draagbare of mobiele radiotelefoons voor civiel
gebruik, bv. voor toepassing in cellulaire commerciële
civiele radiocommunicatiesystemen, niet geschikt voor
eind-tot-eindversleuteling;
f. draadloze telefoonapparatuur die niet geschikt is voor
eind-tot-eind-versleuteling, waarvan het maximale
bereik zonder versterking (d.w.z. één enkele afstand
tussen het eindstation en het thuisbasisstation, die niet
met elkaar in verbinding staan) volgens de gegevens
van de fabrikant minder dan 400 meter is.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 147
▼M3
5B2 Test-, inspectie- en productieapparatuur
5B002 a. Apparatuur speciaal ontworpen voor:
1. de "ontwikkeling" van apparatuur of functies bedoeld in
5A002, 5B002, 5D002 of 5E002, metinbegrip van meet - of
testapparatuur;
2. de "productie" van apparatuur of functies bedoeld in 5A002,
5B002, 5D002 of 5E002, met inbegrip van meet-, test-,
reparatie- of productieapparatuur;
b. meetapparatuur speciaal ontworpen voor het evalueren en
valideren van de "informatiebeveiligings"-functies bedoeld in
5A002 of 5D002.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 148
▼M3
5C2 Materialen
Geen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 149
▼M3
5D2 Programmatuur
5D002 a. "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur
of "programmatuur" bedoeld in 5A002, 5B002 of 5D002;
b. "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het
ondersteunen van technologie bedoeld in 5E002;
c. specifieke "programmatuur", als hieronder:
1. "programmatuur" die de kenmerken heeft of de functies
uitoefent of simuleert van de apparatuur bedoeld in 5A002
of 5B002;
2. "programmatuur" voor het certificeren van "programmatuur"
bedoeld in 5D002.c.1.
Noot: In 5D002 is niet bedoeld:
a. "programmatuur" "noodzakelijk" voor het
"gebruik" van apparatuur die krachtens de
noten bij 5A002 niet onder embargo valt;
b. "programmatuur" die een of meer van de
functies verschaft van apparatuur die krachtens
de noten bij 5A002 niet onder embargo valt.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 150
▼M3
5E2 Technologie
5E002 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur of
"programmatuur" bedoeld in 5A002, 5B002 of 5D002.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 151
▼M3
CATEGORIE 6
SENSOREN EN LASERS2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 152
▼M3
6A Systemen, apparatuur en onderdelen
6A001 Akoestische apparatuur
a. Akoestische systemen voor gebruik ter zee, apparatuur of
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:
1. actieve (zend- of zend/ontvang-)systemen, of apparatuur of
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:
Noot: In 6A001.a.1 worden niet bedoeld:
a. echoloden die verticaal onder de apparatuur
werken en die geen aftastfunctie van meer dan
± 20º hebben, en die uitsluitend worden
gebruikt voor het meten van de waterdiepte of
de afstand tot zich onder water of ondergronds
bevindende objecten of voor het lokaliseren van
vis;
b. akoestische bakens, als hieronder:
1. akoestische bakens voor noodsignalen;
2. «pingers» speciaal ontworpen voor het
verplaatsen of het terugkeren naar een
positie onder water.
a. breedbaan-dieptemetingssystemen voor het topografisch
verkennen van de zeebodem, metde volgende
kenmerken:
1. ontworpen voor het verrichten van metingen bij een
hoek groter dan 20º van de normaal; en
2. ontworpen voor het meten van diepten groter dan
600 m onder de waterspiegel; en
3. ontworpen:
a. voor hetint egreren van meervoudige bundels
waarvan één of meer smaller zijn dan 1,9 º; of
b. voor hetverschaffen van gegevens meteen nauw-
keurigheid groter dan 0,3 % van de waterdiepte
over de breedte van de baan berekend als het
gemiddelde van de afzonderlijke metingen binnen
de baan;
b. systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van
objecten, met één of meer van de volgende kenmerken:
1. een zendfrequentie lager dan 10 kHz;
2. een geluidsdrukniveau hoger dan 224 dB (referentie: 1
micropascal op 1 m) voor apparatuur met een
werkfrequentie in het gebied van 10 tot en met 24 kHz;
3. een geluidsdrukniveau hoger dan 235 dB (referentie: 1
micropascal op 1 m) voor apparatuur met een
werkfrequentie in het gebied van 24 tot en met 30 kHz;
4. metvorming van bundels kleiner dan 1º op enige as en
meteen werkfrequent ie lager dan 100 kHz;
5. ontworpen voor een ondubbelzinnig schaalbereik
groter dan 5 120 m; of
6. ontworpen om een druk te weerstaan tijdens normaal
bedrijf op een diepte van meer dan 1 000 m en met
omzetters:
a. metdynamische drukcompensat ie;
b. met een transductie-element anders dan loodzirko-
naat-titanaat;
c. akoestische projectors, met inbegrip van omzetters, die
piëzo-elektrische, magnetostrictieve, elektrostrictieve,
elektrodynamische of hydraulische elementen bevatten
die afzonderlijk werken of in een ontworpen combinatie,
metéén of meer van de volgende kenmerken:
Noot 1: De embargostatus van akoestische projectors,
met inbegrip van omzetters die speciaal zijn
ontworpen voor andere apparatuur, wordt
bepaald door de embargostatus van die
andere apparatuur.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 153
▼M3
Noot 2: In 6A001.a.1.c worden niet bedoeld bronnen
die het geluid uitsluitend verticaal uitzenden,
of mechanische bronnen (bv. door middel van
luchtdruk of stoomstoten) of chemische
bronnen (bv. door middel van explosieven).
1. een momentele uitgestraalde 'akoestische vermogens-
dichtheid' groter dan 0,01 mW/mm2/Hz voor toestellen
die werken bij een frequentie lager dan 10 kHz;
2. een continu uitgestraalde 'akoestische vermogens-
dichtheid' groter dan 0,001 mW/mm2/Hz voor
toestellen die werken bij een frequentie lager dan
10 kHz;
Technische noot:
De 'akoestische vermogensdichtheid' wordt verkregen
door het akoestische uitgangsvermogen te delen door
het product van uitstralend oppervlak en de werk-
frequentie.
3. metonderdrukking van de zijlobben van meer dan
22 dB;
d. akoestische systemen, apparatuur en speciaal ontworpen
onderdelen voor hetlokaliseren van oppervlakt evaar-
tuigen of onderwatervaartuigen, ontworpen om te werken
over een bereik van meer dan 1 000 m meteen effect ieve
(rms) positionele nauwkeurigheid kleiner dan 10 m
wanneer wordt gemeten op een afstand van 1 000 m;
Noot: In 6A001.a.1.d wordt mede bedoeld:
a. apparatuur die gebruikmaakt van coherente
"signaal-verwerking" tussen twee of meer
bakens en de door het oppervlakte- of
onderwatervaartuig meegevoerde hydro-
fooneenheid;
b. apparatuur die geschikt is voor het auto-
matisch corrigeren van
voortplantingssnelheidsfouten voor de bere-
kening van een plaats.
2. passieve (ontvangertype, al dan niet gewoonlijk toegepast
tezamen met afzonderlijke actieve apparatuur) systemen,
apparatuur of speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als
hieronder:
a. hydrofoons meteen of meer van de volgende kenmerken:
Noot: De embargostatus van hydrofoons die speciaal
zijn ontworpen voor andere apparatuur, wordt
bepaald door de embargostatus van die andere
apparatuur.
1. metdoorlopende flexibele sensoren of samenst el-
lingen van afzonderlijke sensorelementen waarvan
ofwel de diameter ofwel de lengte kleiner is dan
20 mm en waarbij de scheiding tussen de elementen
kleiner is dan 20 mm;
2. metéén of meer van de volgende sensorelement en:
a. glasvezels;
b. piëzo-elektrische polymeren; of
c. flexibele piëzo-elektrische keramische materialen;
3. meteen 'gevoeligheid van de hydrofoon' bet er dan −
180 dB op iedere diepte zonder versnellingscompen-
satie;
4. indien ontworpen voor werkdiepten groter dan 35 m
metversnellingscompensat ie; of
5. ontworpen om te werken bij een diepte groter dan
1 000 m;
Technische noot:
Onder de 'gevoeligheid van een hydrofoon' wordt
verstaan: 20-maal de logaritme bij het grondgetal 10
van de verhouding tussen de effectieve (rms) uitgangs-
spanning en een effectieve (rms) referentiespanning van
1 V, als de hydrofoonsensor zonder voorversterker wordt2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 154
▼M3
geplaatst in een akoestisch veld met vlakke golffronten
met een effectieve (rms) druk van 1 micropascal.
Bijvoorbeeld: een hydrofoon met een gevoeligheid van
− 160 dB (referentie: 1 V per micropascal) zal in een
dergelijk veld een uitgangsspanning afgeven van 10−8V,
terwijl een hydrofoon met een gevoeligheid van -180 dB
een uitgangsspanning zal afgeven van slechts 10−9V.
Dientengevolge is − 160 dB beter dan − 180 dB.
b. gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte
akoestische hydrofoons («towed acoustic hydrophone
arrays») meteen of meer van de volgende kenmerken:
1. een onderlinge afstand tussen de hydrofoongroepen
van minder dan 12,5 m;
2. ontworpen voor of 'met de mogelijkheid van aanpas-
sing' voor werkdiepten groter dan 35 m;
Technische noot:
Onder 'met de mogelijkheid van aanpassing' wordt in
6A001.a.2.b.2 verstaan dat er voorzieningen zijn
getroffen waardoor het mogelijk is de onderlinge
afstand tussen de hydrofoongroepen of de limiet van
de werkdiepte te wijzigen door een wijziging in de
elektrische bedrading of onderlinge verbindingen.
Deze voorzieningen bestaan uit: reservebedrading
uitgaande boven 10 % van het aantal draden, blokken
voor aanpassing van de onderlinge afstand van de
hydrofoongroepen of inwendige dieptebegrenzings-
elementen die verstelbaar zijn of meer dan één
hydrofoongroep regelen.
3. richtingssensoren als bedoeld in 6A001.a.2.d;
4. overlangs versterkte «array»-omhulsels;5. een samengestelde «array» waarvan de diameter
kleiner is dan 40 mm;
6. metmult iplexverzending van de signalen van de
hydrofoongroep ontworpen voor werking op diepten
van meer dan 35 m en metverst elbare of afneembare
dieptesensoren, om te kunnen werken op diepten van
meer dan 35 m;
of
7. metkenmerken van de hydrofoon als omschreven in
6A001.a.2.a;
c. verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor
gesleepte samenstellen van regelmatig gerangschikte
hydrofoons («towed hydrophone arrays»), met «toegan-
kelijkheid van hetprogramma voor de gebruiker» en
verwerking en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen,
met inbegrip van spectrumanalyse, digitale filtering en
bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-trans-
formatie («Fast Fourier transform») of andere
herleidingen of processen;
d. richtingsensoren
1. meteen nauwkeurigheid bet er dan ± 0,5 º, en
2. ontworpen om te kunnen werken bij een diepte groter
dan 35 m of meteen regelbaar of t e verwijderen
dieptesensorelement om te kunnen werken op diepten
groter dan 35 m;
e. bodemkabelsystemen met een van de volgende
kenmerken:
1. metingebouwde hydrofoons als vermeld in
6A001.a.2.a; of
2. metingebouwde mult iplex-verzendingsmodules voor
de signalen van de hydrofoongroep, metalle volgende
kenmerken:
a. ontworpen om te kunnen werken op een diepte van
meer dan 35 m of meteen verst elbare of
afneembare dieptesensor om te kunnen werken op
diepten van meer dan 35 m;
b. ontworpen om operationeel te kunnen worden
uitgewisseld met gesleepte samenstellen van regel-2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 155
▼M3
matig gerangschikte akoestische hydrofoons
(«towed acoustic hydrophone array»-modules);
f. verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor bodem-
kabelsystemen, met "toegankelijkheid van het
programma voor de gebruiker" en verwerking en
correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip
van spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming
met toepassing van snelle Fourier-transformatie of andere
herleidingen of processen;
b. sonar-logapparatuur voor correlatiesnelheidsbepaling,
ontworpen voor het meten van de horizontale snelheid van de
drager van de apparatuur ten opzichte van de zeebodem bij een
afstand tussen de drager en de zeebodem groter dan 500 m.
6A002 Optische sensoren
N.B.: ZIE OOK 6A102.
a. Optische detectoren, als hieronder:
Noot: In 6A002.a worden niet bedoeld lichtgevoelige
elementen van germanium of silicium.
1. voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stofdetec-
toren, als hieronder:
a. voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stof-
detectoren met de volgende kenmerken:
1. een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer
dan 10 nm maar nietmeer dan 300 nm; en
2. een reactie van minder dan 0,1 % ten opzichte van de
grootste gevoeligheid bij een golflengte groter dan
400 nm;
b. voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stof-
detectoren met de volgende kenmerken:
1. een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer
dan 900 nm doch nietmeer dan 1 200 nm; en
2. een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder;
c. voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde vaste-stof-
detectoren met een grootste gevoeligheid bij een
golflengte van meer dan 1 200 nm doch niet meer dan
30 000 nm;
2. beeldversterkerbuizen en speciaal ontworpen onderdelen
daarvoor, als hieronder:
a. beeldversterkerbuizen met alle volgende kenmerken:
1. een grootste gevoeligheid bij een golflengte van meer
dan 400 nm doch nietmeer dan 1 050 nm;
2. een microkanalenplaatvoor elekt ronische beeldver-
sterking met een afstand tussen de gaten (kanalen)
(hart op hart gemeten) van minder dan 15 micrometer;
en
3. fotokathoden, als hieronder:
a. een S-20, S-25 of multi-alkali-fotokathode met een
lichtgevoeligheid van meer dan 240 µA/lm; of
b. een GaAs- of GaInAs-fotokathode; of
c. andere op III-V-verbindingen gebaseerde halfge-
leiderfotokathoden;
Noot: 6A002.a.2.a.3.c is niet van toepassing op
dergelijke kathoden wanneer hun stra-
lingsgevoeligheid maximaal 10 mA/W
bedraagt.
b. speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:
1. microkanalenplaten met afstand tussen de gaten
(kanalen) (hart op hart gemeten) van 15 micrometer
of minder;
2. GaAs- of GaInAs-fotokathoden;3. andere op III/V-verbindingen gebaseerde halfgelei-
derfotokathoden;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 156
▼M3
Noot: 6A002.a.2.b.3 is niet van toepassing op
dergelijke kathoden wanneer hun stralings-
gevoeligheid maximaal 10 mA/W bedraagt.
3. «focal plane arrays», niet"gekwalificeerd voor gebruik in de
ruimte", als hieronder:
Technische noot:
Lineaire of tweedimensionale uit verscheidene elementen
bestaande detector arrays worden «focal plane arrays»
genoemd.
Noot 1: In 6A002.a.3 zijn mede bedoeld fotogeleidende
en fotovoltaïsche 'arrays'.
Noot 2: Niet bedoeld in 6A002.a.3 zijn:
a. «focal plane arrays» van silicium;
b. omhulde, uit meerdere elementen (maximaal
16 elementen) bestaande fotogeleidende
cellen waarbij gebruik wordt gemaakt van
loodsulfide of loodselenide;
c. pyro-elektrische detectoren waarbij een of
meer van de volgende materialen zijn
gebruikt:
1. triglycinesulfaat en varianten daarvan;
2. lood-lanthaan-zirkoniumtitanaat en vari-
anten daarvan;
3. lithiumtantalaat;
4. polyvinylideenfluoride en varianten
daarvan; of
5. strontium-bariumniobaat en varianten
daarvan.
a. "focal plane arrays", niet"gekwalificeerd voor gebruik in
de ruimte", met alle volgende kenmerken:
1. afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid
bij een golflengte van meer dan 900 nm doch niet
meer dan 1 050 nm; en
2. een "reactietijdconstante" van minder dan 0,5 ns;
b. "focal plane arrays", niet"gekwalificeerd voor gebruik in
de ruimte", met de volgende kenmerken:
1. afzonderlijke elementen met een grootste gevoeligheid
bij een golflengte van meer dan 1 050 nm doch niet
meer dan 1 200 nm; en
2. een "reactietijdconstante" van 95 ns of minder;
c. «focal plane arrays», niet"gekwalificeerd voor gebruik in
de ruimte", met afzonderlijke elementen met een grootste
gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 1 200 nm
doch nietmeer dan 30 000 nm;
b. "monospectrale beeldsensoren" en "multispectrale beeldsen-
soren", ontworpen voor toepassing bij het aftasten op afstand,
meteen van beide volgende kenmerken:
1. een momenteel gezichtsveld (Instantaneous-Field-of-View,
IFOV) kleiner dan 200 microradiaal; of
2. gespecificeerd om te werken bij golflengten van meer dan
400 nm doch nietmeer dan 30 000 nm; en
a. de uitgevoerde beeldgegevens zijn digitaal opgemaakt; en
b. 1. de sensoren zijn "gekwalificeerd voor gebruik in de
ruimte", of
2. ontworpen voor gebruik in de lucht, gebruikmakend
van andere dan siliciumdetectoren, en met een
momenteel gezichtsveld (IFOV) van minder dan
2,5 milliradiaal;
c. apparatuur voor 'directe beeldvorming', werkend in het zicht-
bare of infrarode spectrum, met een van beide volgende
artikelen:
1. beeldversterkingsbuizen, vermeld in 6A002.a.2; of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 157
▼M3
2. «focal plane arrays», vermeld in 6A002.a.3;
Technische noot:
Met 'directe beeldvorming' wordt bedoeld beeldapparatuur
werkend in het zichtbare of infrarode spectrum, die de
menselijke waarnemer een visueel beeld geeft zonder omzetting
van het beeld in een elektronisch signaal voor televisieweer-
gave en die het beeld noch fotografisch, noch elektronisch noch
op enige andere wijze kan registreren of opslaan.
Noot: Niet bedoeld wordt in 6A002.c onderstaande appara-
tuur met fotokathoden anders dan van GaAs of
GaInAs:
a. inbraakalarmsystemen voor industriële of civiele
toepassing of systemen voor het regelen en tellen
van bewegingen in het verkeer of in de industrie;
b. medische apparatuur;
c. industriële apparatuur die wordt gebruikt voor
inspectie, selectie of analyse van de eigenschappen
van materialen;
d. vlamdetectors voor industriële ovens;
e. apparatuur die speciaal is ontworpen voor gebruik
in het laboratorium.
d. speciale ondersteunende onderdelen voor optische sensoren, als
hieronder:
1. "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" cryogene
koelers;
2. niet"voor gebruik in de ruimt e gekwalificeerde" cryogene
koelers met een koelbrontemperatuur lager dan 218 K (−
55 ºC), als hieronder:
a. meteen geslot en kringloop meteen gespecificeerd
gemiddeld interval vóór storing (MTTF) of gemiddeld
storingsvrij interval (MTBF) groter dan 2 500 uur;
b. zelfregulerende Joule-Thomson (JT)-minikoelers voor
een boorgatmeteen middellijn kleiner dan 8 mm;
3. glasvezels voor aftasten die qua samenstelling of structuur
speciaal zo zijn geconstrueerd of door bekleding zodanig
aangepast dat zij akoestische, thermische, traagheids- of
elektromagnetische gevoeligheid bezitten of gevoeligheid
voor nucleaire straling;
e. "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" «focal plane
arrays» met meer dan 2 048 elementen per array en een grootste
gevoeligheid bij een golflengte van meer dan 300 nm doch niet
meer dan 900 nm.
6A003 Camera's
N.B.: ZIE OOK 6A203.
N.B.: Zie 8A002.d en 8A002.e voor camera's die speciaal
zijn ontworpen of aangepast voor gebruik onder
water.
a. Instrumentatiecamera's en speciaal daarvoor ontworpen onder-
delen, als hieronder:
Noot: De in 6A003.a.3. tot en met 6A003.a.5. bedoelde
instrumentatiecamera's met modulaire structuren
moeten worden beoordeeld op hun maximumcapaci-
teit door gebruik te maken van «plug-ins» die
overeenkomstig de specificaties van de fabrikant van
de camera beschikbaar zijn.
1. filmcamera's voor hoge opnamesnelheden waarbij gebruik
wordtgemaaktvan elk filmformaatvan 8 t oten met16 mm,
waarin de film gedurende de registratietijd ononderbroken
wordtvoort bewogen en geschiktvoor opnamesnelheden van
meer dan 13 150 beelden per seconde;
Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.a.1 filmcamera's die
voor civiele doeleinden ontworpen zijn.
2. mechanische camera's voor hoge opnamesnelheden waarin
de film nietwordtvoort bewogen, en geschiktvoor
opnamesnelheden van meer dan 1 000 000 beelden per2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 158
▼M3
seconde bij volle beeldhoogte van standaard 35 mm-film of
naar verhouding hogere snelheden bij een kleinere beeld-
hoogte, of lagere snelheden bij een grotere beeldhoogte;
3. mechanische of elektronische «streak»-camera's met opna-
mesnelheden groter dan 10 mm per microseconde;
4. elektronische beeld-(«framing»-)camera's met een snelheid
groter dan 1 000 000 beelden per seconde;
5. elektronische camera's met:
a. een elektronische sluitertijd (venstervermogen) van
minder dan 1 microseconde per volledig beeld; en
b. een uitleestijd die een opnamesnelheid van meer dan 125
volledige beelden per seconde mogelijk maakt;
6. «plug-ins», metalle volgende kenmerken:
a. speciaal ontworpen voor instrumentatiecamera's met
modulaire structuren en als vermeld in 6A003.a; en
b. waarmee die camera's beantwoorden aan de kenmerken
vermeld in 6A003.a.3, 6A003.a.4 of 6A003.a.5, overeen-
komstig de specificaties van de fabrikant;
b. beeldcamera's, als hieronder:
Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.b televisie- of vide-
ocamera's die speciaal zijn ontworpen voor televisie-
uitzendingen.
1. videocamera's die halfgeleidersensoren bevatten, met een of
meer van de volgende kenmerken:
a. meer dan 4 × 106"actieve pixels" per halfgeleider-
«array» voor monochroom- (zwart/wit) camera's;
b. meer dan 4 × 106«actieve pixels» per halfgeleider-
«array» voor kleurencamera's metdrie halfgeleider-
"arrays", of
c. meer dan 12 × 106"actieve pixels" voor halfgeleider-
"array"-kleurencamera's metéén halfgeleider-«array»;
Technische noot:
Voor de toepassing van dit punt moeten digitale videoca-
mera's worden beoordeeld volgens het maximumaantal
"actieve pixels" die gebruikt worden om bewegende beelden
op te nemen.
2. aftastcamera's en aftastcamerasystemen met de volgende
kenmerken:
a. met lineaire detectie-«arrays» met meer dan 8 192
elementen per «array», en
b. met mechanische aftasting in één richting;
3. beeldcamera's metverst erkerbuizen vermeld in 6A002.a.2.a;4. met«focal plane arrays» vermeld in 6A002.a.3.
Noot: Niet bedoeld worden in 6A003.b.4 beeldcamera's
met lineaire «focal plane arrays»met 12 elementen
of minder, zonder tijdvertraging en integratie in
het element, voor een of meer van de volgende
doelen:
a. inbraakalarmsystemen voor industriële of
civiele toepassing, of systemen voor het regelen
en tellen van bewegingen in het verkeer of de
industrie;
b. industriële apparatuur die wordt gebruikt voor
inspectie van of toezicht op hittestromen in
gebouwen, apparatuur of industriële processen;
c. industriële apparatuur die wordt gebruikt voor
inspectie, selectie of analyse van de eigen-
schappen van materialen;
d. apparatuur die speciaal is ontworpen voor
gebruik in het laboratorium; of
e. medische apparatuur.
6A004 Optische apparatuur2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 159
▼M3
a. Optische spiegels (reflectoren), als hieronder:
1. "vervormbare spiegels" meteen ongesegment eerd of
gesegmenteerd oppervlak en speciaal daarvoor ontworpen
onderdelen, geschiktvoor dynamische herinst elling van
gedeelten van het oppervlak van de spiegel met snelheden
groter dan 100 Hz;
2. lichtgewicht monolithische spiegels met een gemiddelde
"equivalente dichtheid" van minder dan 30 kg/m2en een
totale massa van meer dan 10 kg;
3. lichtgewicht "composiete" of schuimspiegelstructuren met
een gemiddelde "equivalente dichtheid" van minder dan
30 kg/m2en een totale massa van meer dan 2 kg;
4. spiegels met bundelsturing met een diameter of lengte van
de hoofdas groter dan 100 mm die een vlakheid handhaven
van lambda/2 of beter (lambda = 633 nm) en met een
regelbandbreedte groter dan 100 Hz;
b. optische onderdelen vervaardigd van zinkselenide (ZnSe) of
zinksulfide (ZnS) met voortplanting in het golflengtegebied van
3 000 nm tot 25 000 nm en met een van de volgende
kenmerken:
1. een volume groter dan 100 cm3;of
2. een diameter of lengte van de hoofdas groter dan 80 mm en
een dikte (diepte) groter dan 20 mm;
c. "voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde" onderdelen voor
optische systemen, als hieronder:
1. lichtgewicht gemaakt tot minder dan 20 % "equivalente
dichtheid" in vergelijking met een massief onafgewerkt
model metdezelfde opening en van dezelfde dikt e;
2. ruwe substraten, bewerkte substraten met oppervlaktebekle-
ding (met een of met meer lagen, metalliek of diëlektrisch,
geleidend, halfgeleidend of isolerend) of meteen bescherm-
laag;
3. segmenten of samenstellingen van spiegels die zijn
ontworpen om in de ruimte te worden samengevoegd tot
een optisch systeem met een opvangopening gelijk aan of
groter dan één enkel optisch onderdeel met een diameter van
1 meter;
4. vervaardigd van "composiet"-materiaal met een lineaire
thermische uitzettingscoëfficiënt gelijk aan of kleiner dan
5×1 0−6in elk der coördinaatrichtingen;
d. optische regelapparatuur, als hieronder:
1. speciaal ontworpen voor handhaving van het oppervlakte-
patroon of de richting van de "voor gebruik in de ruimte
gekwalificeerde" onderdelen bedoeld in 6A004.c.1 of
6A004.c.3;
2. met bandbreedten voor sturen, volgen, stabiliseren of
resonatorrichten gelijk aan of groter dan 100 Hz en een
nauwkeurigheid van 10 microradiaal of minder;
3. cardanusringen («gimbals») met:
a. een maximale zwenking groter dan 5 º;
b. een bandbreedte gelijk aan of groter dan 100 Hz;
c. meteen hoekaanwijsfoutgelijk aan of minder dan
200 microradiaal; en
d. een van de volgende kenmerken:
1. met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan
0,15 m doch nietgrot er dan 1 m en geschiktvoor
hoekversnellingen groter dan 2 radiaal/s2;of
2. met een diameter of lengte van de hoofdas groter dan
1 m en geschiktvoor hoekversnellingen grot er dan
0,5 radiaal/s2;
4. speciaal ontworpen voor handhaving van de richting
(«alignment») van «phased array»- of «phased segment»-
spiegelsystemen bestaande uit spiegels met een diameter of
lengte van de hoofdas per segment van 1 m of meer.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 160
▼M3
e. 'Asferische optische elementen' met alle volgende kenmerken:
1. de grootste afmeting van de optische apertuur bedraagt meer
dan 400 mm;
2. de oppervlakteruwheid is minder dan 1 nm (rms) voor het
bemonsteren van lengten van 1 mm of meer; en
3. de absolute orde van grootte van de lineaire thermische
uitzettingscoëfficiënt is kleiner dan 3 × 10−6/K bij 25 ºC.
Technische noten:
1. Een 'asferisch optisch element' is een in een optisch
systeem gebruikt element waarvan het beeldvormings-
oppervlak of de beeldvormingsoppervlakken dusdanig
ontworpen zijn dat zij afwijken van de ideale bolvorm.
2. De fabrikanten hoeven de in 6A004.e.2 vermelde opper-
vlakteruwheid niet te meten, tenzij het optisch element is
ontworpen of vervaardigd om aan de controleparameter
te voldoen of die parameter te overtreffen.
Noot: Niet bedoeld worden in 6A004.e asferische
optische elementen met een of meer van de
volgende kenmerken:
a. een grootste afmeting van de optische aper-
tuur kleiner dan 1 m en een verhouding
brandpuntsafstand/apertuur gelijk aan of
groter dan 4,5:1;
b. een grootste afmeting van de optische aper-
tuur gelijk aan of groter dan 1 m en een
verhouding brandpuntsafstand/apertuur
gelijk aan of groter dan 7:1;
c. ontworpen als een optisch element van het
Fresnel-, fly-eye-, lijn- («stripe»), prisma- of
diffractieve type;
d. gefabriceerd van borosilicaatglas met een
lineaire thermische uitzettingscoëfficiënt
groter dan 2,5 × 10−6/K bij 25 ºC; of
e. optisch element voor röntgenstraling met
interne spiegeling (bv. buisvormige spiegels).
N.B.: Voor asferische optische elementen speciaal
ontworpen voor lithografische apparatuur, zie
3B001.
6A005 "Lasers", onderdelen en optische apparatuur, anders dan vermeld
in 0B001.g.5 of 0B001.h.6, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 6A205.
Noot 1: Onder gepulseerde "lasers" worden mede begrepen
"lasers" die werken in continugolf (CW)-modus met
gesuperponeerde impulsen.
Noot 2: Onder "lasers" met pulsexcitatie worden mede
begrepen "lasers" die werken in CW (continugolf)-
modus met gesuperponeerde pulsexcitatie.
Noot 3: De embargostatus van Raman-"lasers" wordt bepaald
door de parameters van de als pomp gebruikte "laser".
De als pomp gebruikte "laser" kan elk der hieronder
omschreven "lasers" zijn.
a. gas-"lasers", als hieronder:
1. excimeer-"lasers" meteen of meer van de volgende
kenmerken:
a. een golflengte aan de uitgang van niet meer dan 150 nm
en meteen of meer van de volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls;
of
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W;
b. een golflengte aan de uitgang van meer dan 150 nm doch
nietmeer dan 190 nm, en meteen of meer van de
volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 161
▼M3
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
120 W;
c. een golflengte aan de uitgang van meer dan 190 nm doch
nietmeer dan 360 nm en meteen of meer van de
volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 10 J per impuls; of
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
500 W; of
d. een golflengte aan de uitgang van meer dan 360 nm en
meteen of meer van de volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls; of
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 30 W;
N.B.: Voor excimeer-'lasers' die speciaal zijn
ontworpen voor lithografische apparatuur, zie
3B001.
2. metaaldamp-"lasers", als hieronder:
a. koper (Cu)-"lasers" meteen gemiddeld uit gangsver-
mogen van meer dan 20 W;
b. goud (Au)-"lasers" meteen gemiddeld uit gangsvermogen
van meer dan 5 W;
c. natrium (Na)-"lasers" met een uitgangsvermogen van
meer dan 5 W;
d. barium (Ba)-"lasers" meteen gemiddeld uit gangsver-
mogen van meer dan 2 W;
3. koolstofmonoxide (CO)-"lasers" met een of meer van de
volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie van meer dan 2 J per impuls en een
"piekvermogen" per impuls van meer dan 5 kW; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 5 kW;
4. koolstofdioxide (CO2)-"lasers" meteen of meer van de
volgende kenmerken:
a. een CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan
15 kW;
b. een gepulseerd vermogen meteen "pulsduur" van meer
dan 10 microseconde; en:
1. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
10 kW; of
2. een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 100 kW;
of
c. een gepulseerd vermogen meteen "pulsduur" gelijk aan
of minder dan 10 microseconden, en:
1. een pulsenergie van meer dan 5 J per impuls; of
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
2,5 kW;
5. "chemische lasers", zoals:
a. waterstoffluoride (HF)-"lasers";
b. deuteriumfluoride (DF)-"lasers";
c. "transfer lasers":
1. zuurstofjood (O2-I)-"lasers";
2. deuteriumfluoride-koolstofdioxide (DF-CO2)-"lasers";
6. krypton-ion- of argon-ion-"lasers", met een of meer van de
volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en een
gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 50 W; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 50 W;
7. andere gas-"lasers" meteen of meer van de volgende
kenmerken:2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 162
▼M3
Noot: 6A005.a.7is niet van toepassing op stikstof-
"lasers".
a. een golflengte aan de uitgang van niet meer dan 150 nm,
en een of meer van de volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls
en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W;
of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 1 W;
b. een golflengte aan de uitgang van meer dan 150 nm maar
nietmeer dan 800 nm, en een of meer van de volgende
kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 1,5 J per impuls en
een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 30 W;
of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 30 W;
c. een golflengte aan de uitgang van meer dan 800 nm maar
nietmeer dan 1 400 nm en een of meer van de volgende
kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 0,25 J per impuls en
een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 10 W;
of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 10 W, of
d. een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 400 nm en
een gemiddeld of CW (continu-golf)-uitgangsvermogen
van meer dan 1 W;
b. halfgeleider-"lasers", als hieronder:
1. afzonderlijke halfgeleider-"lasers" metenkelvoudige t rans-
versale modus, metalle volgende kenmerken:
a. een golflengte van niet meer dan 950 nm of meer dan
2 000 nm; en
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 100 mW;
2. afzonderlijke halfgeleider-"lasers" metverschillende t rans-
versale modi, metalle volgende kenmerken:
a. een golflengte van niet meer dan 950 nm of van meer dan
2 000 nm; en
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 10 W;
3. afzonderlijke halfgeleider-"lasers" metseries («arrays»), met
een van de volgende kenmerken:
a. een golflengte van niet meer dan 950 nm en een
gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen vanmeer dan 60 W; of
b. een golflengte van 2 000 nm of meer en een gemiddeld of
CW (continugolf)-uitgangsvermogen van meer dan 10 W;
Technische noot:
Halfgeleider-"lasers" worden gewoonlijk "laser"-dioden
genoemd.
Noot 1: Onder 6A005.b vallen ook halfgeleider-"lasers" met
optische uitgangsconnectoren (bv. aanstralings-
vezel).
Noot 2: De embargostatus van halfgeleider-"lasers" die
speciaal zijn ontworpen voor andere apparatuur
wordt bepaald door de embargostatus van die
andere apparatuur.
c. vastestof-"lasers", als hieronder:
1. "afstembare" "lasers" met een of meer van de volgende
kenmerken:
Noot: In 6A005.c.1 worden tevens bedoeld titaan-saffier
(Ti: Al2O3)-, thulium-YAG (Tm: YAG)-, thulium-2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 163
▼M3
YSGG (Tm: YSGG)-, alexandriet (Cr: BeAl2O4)- en
kleur-centrum-"lasers".
a. een golflengte aan de uitgang van minder dan 600 nm, en
meteen of meer van de volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls
en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W,
of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 1 W;
b. een golflengte aan de uitgang van 600 nm of meer doch
nietmeer dan 1 400 nm, en meteen of meer van de
volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 1 J per impuls en
een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 20 W,
of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 20 W, of
c. een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 400 nm, en
meteen of meer van de volgende kenmerken:
1. een uitgangsenergie van meer dan 50 mJ per impuls
en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W,
of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 1 W;
2. niet-afstembare "lasers", als hieronder:
Noot: In 6A005.c.2 worden mede bedoeld vastestof-
"lasers" met atomaire overgang.
a. neodymium glas-"lasers", als hieronder:
1. "Q-switched lasers" met een of meer van de volgende
kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 20 J
doch nietmeer dan 50 J en een gemiddeld
uitgangsvermogen van meer dan 10 W, of
b. een uitgangsenergie van meer dan 50 J per impuls;
2. niet-"Q-switched lasers" met een of meer van de
volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie van meer dan 50 J per impuls
doch nietmeer dan 100 J per impuls en een
gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W,
of
b. een uitgangsenergie van meer dan 100 J per
impuls;
b. neodymium-gedoopte (anders dan glas) "lasers", zoals
hieronder vermeld, met een golflengte aan de uitgang van
meer dan 1 000 nm doch nietmeer dan 1 100 nm:
Noot: Zie 6A005.c.2.d voor neodymium-gedoopte
(anders dan glas) "lasers" met een golflengte
aan de uitgang van niet meer dan 1 000 nm of
meer dan 1 100 nm.
1. "Q-switched lasers" met pulsexcitatie en geblokkeerde
modus meteen "pulsduur" kort er dan 1 ns en meteen
of meer van de volgende kenmerken:
a. een "piekvermogen" van meer dan 5 GW;
b. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
10 W; of
c. een gepulseerde energie van meer dan 0,1 J;
2. "Q-switched lasers" met pulsexcitatie met een "puls-
duur" gelijk aan of langer dan 1 ns, en meteen of
meer van de volgende kenmerken:
a. een uitvoer volgens enkelvoudige transversale
modus met:
1. een "piekvermogen" van meer dan 100 MW;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 164
▼M3
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
20 W; of
3. een gepulseerde energie van meer dan 2 J; of
b. een uitvoer volgens verschillende transversale
modi met:
1. een "piekvermogen" van meer dan 400 MW;
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
2 kW; of
3. een gepulseerde energie van meer dan 2 J;
3. niet-"Q-switched lasers" met pulsexcitatie, met:
a. een uitvoer volgens enkelvoudige transversale
modi met:
1. een "piekvermogen" van meer dan 500 kW; of
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan
150 W; of
b. een uitvoer volgens verschillende transversale
modi met:
1. een "piekvermogen" van meer dan 1 MW; of
2. een gemiddeld vermogen van meer dan 2 kW;
4. continu geëxciteerde "lasers" met:
a. een uitvoer volgens enkelvoudige transversale
modus met:
1. een "piekvermogen" van meer dan 500 kW; of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangs-
vermogen van meer dan 150 W; of
b. een uitvoer volgens verschillende transversale
modi met:
1. een "piekvermogen" van meer dan 1 MW; of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangs-
vermogen van meer dan 2 kW;
c. andere niet-"afstembare" "lasers" met een of meer van de
volgende kenmerken:
1. een golflengte van minder dan 150 nm en met een of
meer van de volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ
en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan
1W ; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 1 W;
2. een golflengte van 150 nm of meer doch niet meer dan
800 nm, en meteen of meer van de volgende
kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J
en een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan
30 W; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 30 W;
3. een golflengte van meer dan 800 nm doch niet meer
dan 1 400 nm, als hieronder:
a. "Q-switched lasers" met:
1. een uitgangsenergie per impuls van meer dan
0,5 J en een gepulseerd "piek-vermogen" van
meer dan 50 W; of
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan:
a. 10 W voor "lasers" metenkelvoudige t rans-
versale modus;
b. 30 W voor "lasers" metverschillende t rans-
versale modi;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 165
▼M3
b. niet-"Q-switched lasers" met:
1. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 2 J
en een gepulseerd "piekvermogen" van meer
dan 50 W; of
2. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangs-
vermogen van meer dan 50 W; of
4. een golflengte van meer dan 1 400 nm en een of meer
van de volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan
100 mJ en een gepulseerd "piekvermogen" van
meer dan 1 W; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsver-
mogen van meer dan 1 W;
d. kleurstof- en andere vloeistof-"lasers", met een of meer van de
volgende kenmerken:
1. een golflengte van minder dan 150 nm, en met een of meer
van de volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 50 mJ en
een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 1 W;
2. een golflengte van 150 nm of meer doch niet meer dan
800 nm en meteen of meer van de volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 1,5 J en een
gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 20 W;
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 20 W; of
c. een gepulseerde oscillator met enkelvoudige longitudi-
nale modus meteen gemiddeld uit gangsvermogen van
meer dan 1 W en een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz
indien de "pulsduur" korter is dan 100 ns;
3. een golflengte van meer dan 800 nm doch niet meer dan
1 400 nm en meteen of meer van de volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 0,5 J en een
gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 10 W; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 10 W; of
4. een golflengte van meer dan 1 400 nm en met een of meer
van de volgende kenmerken:
a. een uitgangsenergie per impuls van meer dan 100 mJ en
een gepulseerd "piekvermogen" van meer dan 1 W; of
b. een gemiddeld of CW (continugolf)-uitgangsvermogen
van meer dan 1 W;
e. onderdelen, als hieronder:
1. spiegels met'act ieve koeling' of buiskoeling;
Technische noot:
'Actieve koeling' is een koeltechniek voor optische onder-
delen waarbij gebruik wordt gemaakt van stromende
vloeistoffen onder het oppervlak (nominaal minder dan
1 mm onder het optische oppervlak) van het optische
onderdeel voor de afvoer van warmte van het optische
element.
2. optische spiegels of doorlatende of deels doorlatende
optische of elektro-optische onderdelen die speciaal zijn
ontworpen voor toepassing met onder embargo vallende
"lasers";
f. optische apparatuur, als hieronder:
N.B.: Zie de Lijst militaire goederen voor optische
elementen met gezamenlijke opening, geschikt om te
werken in "SHPL"-toepassingen ("Super-High Power
Laser").2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 166
▼M3
1. dynamische golffront (fase)-meetapparatuur, geschikt voor
het in kaart brengen van ten minste 50 punten op een
bundelgolffrontmet :
a. een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 100 Hz en een
faseverschil van ten minste 5 % van de golflengte van de
bundel; of
b. een beeldsnelheid gelijk aan of groter dan 1 000 Hz en
een faseverschil van ten minste 20 % van de golflengte
van de bundel;
2. diagnostische "laser"-apparatuur geschikt voor het meten
van bundelhoekbesturingsfouten in "Super-High Power
Laser" (SHPL)-systemen gelijk aan of kleiner dan 100 micro-
radiaal;
3. optische apparatuur en onderdelen, speciaal ontworpen voor
een «phased array»-"SHPL"-systeem voor coherente samen-
voeging van bundels meteen nauwkeurigheid van het
kleinste van lambda/10 bij de aangewezen golflengte, of van
0,1 micrometer;
4. projectietelescopen, speciaal ontworpen voor gebruik met
"SHPL"-systemen.
6A006 "Magnetometers", "magnetische gradiëntmeters", "intrinsieke
magnetische gradiëntmeters", en compensatiesystemen, en
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:
Noot: Niet bedoeld worden in 6A006 instrumenten die speciaal
zijn ontworpen voor biomagnetische metingen ten
behoeve van de medische diagnostiek.
a. "magnetometers" die gebruikmaken van "supergeleidende",
optisch gepompte of kernprecessie (proton/Overhauser)-"tech-
nologie" meteen "ruisniveau" (gevoeligheid) lager (bet er) dan
0,05 nT effectieve waarde;
b. inductor "magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoeligheid)
lager (beter) dan:
1. 0,05 nT effectieve waarde bij frequenties lager dan 1 Hz;
2. 1 × 10−3nT effectieve waarde bij frequenties van 1 Hz of
meer doch niethoger dan 10 Hz; of
3. 1 × 10−4nT effectieve waarde bij frequenties hoger dan
10 Hz;
c. glasvezel-"magnetometers" met een "ruisniveau" (gevoelig-
heid) lager (beter) dan 1 nT effectieve waarde;
d. "magnetische gradiëntmeters" waarbij gebruik wordt gemaakt
van meervoudige "magnetometers" bedoeld in 6A006.a,
6A006.b of 6A006.c;
e. "intrinsieke magnetische gradiëntmeters" van glasvezels met
een "ruisniveau" (gevoeligheid) van de gradiëntvan het
magnetische veld lager (beter) dan 0,3 nT/m effectieve waarde;
f. "intrinsieke magnetische gradiëntmeters", waarbij gebruik
wordt gemaakt van andere technologie dan glasvezeltechno-
logie, meteen "ruisniveau" (gevoeligheid) van de gradiëntvan
het magnetische veld lager (beter) dan 0,015 nT/m effectieve
waarde;
g. magnetische compensatiesystemen voor magnetische sensoren,
ontworpen voor bedrijf op mobiele tafels;
h. "supergeleidende" elektromagnetische sensoren, die onderdelen
bevatten vervaardigd van "supergeleidende" materialen, met
alle volgende kenmerken:
1. ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de
"kritische temperatuur" van ten minste één van de
"supergeleidende" componenten (met inbegrip van
Josephson-effect-elementen en "supergeleidende" quantum-
interferentie-elementen («Squids»));
2. ontworpen voor het meten van magnetische veldsterkte-
schommelingen bij een frequentie van 1 kHz of minder; en2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 167
▼M3
3. meteen of meer van de volgende kenmerken:
a. metdunne-laag-«Squids» meteen minimale element af-
meting kleiner dan 2 micrometer en met bijbehorende
koppelschakelingen voor in- en uitvoer;
b. ontworpen om te werken met een zwenking van het
magnetische veld groter dan 1 × 106quanta magnetische
flux per seconde;
c. ontworpen om te werken in het aardveld zonder
magnetische afscherming; of
d. met een temperatuurcoëfficiënt lager (kleiner) dan
0,1 quantum magnetische flux/K.
6A007 Zwaartekrachtmeters (gravimeters) en zwaartekrachtgradiëntme-
ters, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 6A107.
a. zwaartekrachtmeters ontworpen of aangepast voor gebruik te
land met een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan
10 microgal;
Noot: Niet bedoeld worden in 6A007.a landzwaartekracht-
meters van het type met kwartselement (Worden-type).
b. zwaartekrachtmeters ontworpen voor mobiele tafels met alle
volgende kenmerken:
1. een statische nauwkeurigheid kleiner (beter) dan 0,7 milligal;
en
2. een nauwkeurigheid tijdens gebruik (operationele nauw-
keurigheid) kleiner (beter) dan 0,7 milligal waarbij het
minder dan twee minuten duurt voordat een stationair
werkende toestand is bereikt onder willekeurig welke
combinatie van bijkomende corrigerende compensaties en
bewegingsbeïnvloeding;
c. zwaartekrachtgradiëntmeters.
6A008 Radarsystemen, -apparatuur en -samenstellingen met een of meer
van de volgende eigenschappen, en speciaal daarvoor ontworpen
onderdelen:
N.B.: ZIE OOK 6A108.
Noot: In 6A008 worden niet bedoeld:
a. secundaire loodsradar («secondary surveillance
radar» (SSR));
b. boordradar voor auto's, ontworpen ter voorkoming
van botsingen;
c. beeldschermen of monitors, gebruikt ten behoeve van
luchtverkeersleiding («air traffic control», ATC) met
niet meer dan twaalf oplosbare elementen per mm;
d. meteorologische (weer)radar.
a. werkend in het frequentiegebied van 40 GHz tot 230 GHz en
meteen gemiddeld uit gangsvermogen van meer dan 100 mW;
b. met een afstembare bandbreedte groter dan ± 6,25 % van de
centrale werkfrequentie;
Technische noot:
De centrale werkfrequentie is gelijk aan de helft van de som
van de hoogste en de laagste gespecificeerde werkfrequentie.
c. geschikt om gelijktijdig te werken op meer dan twee
draagfrequenties;
d. geschikt om te werken in de radarmodus met kunstmatig
ingestelde apertuur («synthetic aperture radar», SAR), met
omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur («inverse synthetic
aperture», ISAR) of in vliegtuigen in de zijwaarts stralende
('sidelooking airborne', SLAR) radarmodus;
e. met "elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesystemen,
opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" («phased
array antennae»);
f. geschiktvoor hetpeilen van de hoogt e van nietmeewerkende
doelen;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 168
▼M3
Noot: In 6A008.f wordt niet bedoeld landingsradarappara-
tuur (PAR) conform de ICAO-standaarden.
g. speciaal ontworpen om te werken in de lucht (gemonteerd in
een ballon of vliegtuigstructuur) en met Doppler-"signaalver-
werking" voor hetopsporen van bewegende doelen;
h. mett oepassing van radarsignaalverwerking metgebruikmaking
van:
1. "radar «spread spectrum»"-technieken; of
2. "radar «frequency agility»"-technieken;
i. metbediening vanaf de grond meteen maximaal "geïnst ru-
menteerd bereik" groter dan 185 km;
Noot: In 6A008.i worden niet bedoeld:
a. loodsradar voor visgronden;
b. grondradarapparatuur speciaal ontworpen voor
luchtverkeersleiding (ATC) op voorwaarde dat de
hierna vermelde eisen vervuld zijn:
1. zij heeft een maximaal "geïnstrumenteerd
bereik" van 500 km of minder;
2. zij is zodanig geconfigureerd dat de radardoel-
gegevens uitsluitend in één richting kunnen
worden doorgegeven van de radarlocatie naar
een of meer civiele ATC-centra;
3. zij bevat geen voorzieningen voor besturing op
afstand van de radaraftastsnelheid vanuit het
vluchtbegeleidings-ATC-centrum; en
4. zij is bestemd voor een vaste installatie;
c. radars voor het volgen van weerballonnen.
j. "laser"-radar of lichtdetectie- en afstandsbepalings (LIDAR)-
apparatuur, met een van beide volgende kenmerken:
1. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte"; of
2. gebruikmakend van coherente heterodyne of homodyne
detectietechnieken en met een hoekresolutie kleiner (beter)
dan 20 microradiaal;
Noot: Niet bedoeld wordt in 6A008.j LIDAR-apparatuur
speciaal ontworpen voor landmetingen of meteorolo-
gische waarnemingen.
k. metsubsyst emen voor signaalverwerking die gebruikmaken
van "impulscompressie" meteen of meer van de volgende
kenmerken:
1. een "impulscompressie"-verhouding groter dan 150; of
2. een "pulsduur" korter dan 200 ns; of
l. met subsystemen voor gegevensverwerking met:
1. "automatisch volgen van het doel" waarbij bij iedere
omwenteling van de antenne de positie van het doel kan
worden voorspeld voor een tijdstip later dan de volgende
bestraling met de bundel;
Noot: Niet bedoeld wordt in 6A008.l.1 de mogelijkheid
van waarschuwing voor botsingen in ATC-
systemen, of zee- of havenradar.
2. snelheidsberekening van hetdoel via een primaire radar met
niet periodieke (variabele) aftastsnelheid;
3. verwerking ten behoeve van automatische patroonherken-
ning (opsporen van kenmerken) en vergelijking met
gegevensbestanden van doelkenmerken (golfvormen of
beeldvormen) voor de identificatie of classificatie van
doelen; of
4. superpositie en correlatie, of samenvoeging, van gegevens
over een doel van twee of meer "geografisch gespreide" en
"onderling verbonden radar-sensoren" ter verduidelijking en
onderscheiding van doelen.
Noot: Niet bedoeld worden in 6A008.l.4 systemen,
apparatuur en samenstellingen, gebruikt voor de
regeling van het verkeer op zee.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 169
▼M3
6A102 Stralingbestendige 'detectoren', anders dan vermeld in 6A002,
speciaal ontworpen of aangepast ter bescherming tegen nucleaire
effecten (bv. elektromagnetische puls (EMP), röntgenstraling,
combinatie van drukgolf en hitte) en geschikt voor gebruik in
"raketten", ontworpen of gespecificeerd als zijnde bestand tegen
stralingsniveaus die overeenkomen met een totale stralingsdosis
van 5 × 105rad silicium of meer.
Technische noot:
In 6A102 is een 'detector' gedefinieerd als een mechanisch,
elektrisch, optisch of chemisch element dat een prikkel, bv. een
verandering van de omgevingsdruk of -temperatuur, een elektrisch
of elektromagnetisch signaal of straling van radioactief materiaal
automatisch herkent en vastlegt of registreert. Dit omvat
elementen die een werking of storing per keer waarnemen.
6A107 Zwaartekrachtmeters (gravimeters) en onderdelen voor zwaar-
tekrachtmeters, en zwaartekracht-gradiëntmeters, als hieronder:
a. zwaartekrachtmeters, anders dan vermeld in 6A007.b,
ontworpen of gewijzigd voor gebruik in luchtvaartuigen of op
zee, met een statische of operationele nauwkeurigheid van
7×1 0−6m/s2(0,7 milligal) of minder (beter) waarbij het twee
minuten of minder duurt voordat een stationair werkende
toestand is bereikt;
b. speciaal ontworpen onderdelen voor zwaartekrachtmeters
vermeld in 6A007.b of 6A107.a en zwaartekrachtgradiëntme-
ters vermeld in 6A007.c.
6A108 Radarsystemen en volgsystemen, anders dan vermeld in 6A008,
als hieronder:
a. radar- en laserradarsystemen ontworpen of aangepast voor
gebruik in ruimtelanceervoertuigen vermeld in 9A004 of
sonderingsraketten vermeld in 9A104;
Noot: In 6A108.a wordt mede bedoeld:
a. apparatuur voor het bepalen van het profiel van
het aardoppervlak;
b. beeldapparatuur;
c. apparatuur voor situationele afbeelding en corre-
latie (numeriek of analoog);
d. apparatuur voor navigatie met behulp van
Doppler-radar.
b. precisievolgsystemen, geschikt voor "raketten", als hieronder:
1. volgsystemen die gebruikmaken van een vertaalsysteem
voor codes gecombineerd met referentiepunten op aarde of
in vliegtuigen of navigatiesatellietsystemen om onvertraagde
(«real time»)-metingen van vluchtpositie en -snelheid te
verrichten;
2. radar voor afstandsmeting, met inbegrip van de bijbehorende
optische/infrarood volgsystemen met alle onderstaande
kenmerken:
a. hoekresolutie beter dan 3 milliradiaal (0,5 mils);
b. bereik van 30 km of meer meteen effect ieve (rms)
afstandsresolutie beter dan 10 m;
c. snelheidsresolutievermogen beter dan 3 m/s.
6A202 Fotomultiplicatorbuizen met de volgende twee kenmerken:
a. oppervlak van de fotokathode groter dan 20 cm2;en
b. stijgtijd van de anodepuls korter dan 1 ns.
6A203 Camera's en onderdelen, anders dan vermeld in 6A003, als
hieronder:
a. mechanisch roterende spiegelcamera's, als hieronder, en
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
1. beeld(«framing»)-camera's met een registratiesnelheid groter
dan 225 000 beelden per seconde;
2. «streak»-camera's met een opnamesnelheid groter dan
0,5 mm per microseconde;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 170
▼M3
Noot: De in 6A203.a bedoelde onderdelen van zulke
camera's zijn onder meer synchroniserende elektro-
nische eenheden en rotorsamenstellen bestaande uit
turbines, spiegels en lagers.
b. elektronische «streak»-camera's, elektronische beeld
(«framing»)-camera's, elementen en buizen, als hieronder:
1. elektronische «streak»-camera's met een tijdresolutie van
50 ns of minder;
2. «streak»-buizen voor camera's bedoeld in 6A203.b.1;
3. elektronische (of met een elektronische sluiter uitgeruste)
beeld(«framing»)-camera's met een belichtingstijd van 50 ns
of minder per beeld;
4. beeld(«framing»)-buizen en halfgeleiderelementen voor
beeldvorming, voor gebruik metcamera's bedoeld in
6A203.b.3, zoals:
a. beeldversterkerbuizen met zeer korte brandpuntsafstand
waarbij de fotokathode wordt afgezet op een transparante
geleidende bekledingslaag ter vermindering van de
weerstand van de fotokathodelaag;
b. vidiconbuizen metsiliciumverst erkerbeeldplaat(«silicon
intensifier target», SIT) van het poorttype, waarbij doormiddel van een snelschakelsysteem het doorlaten van de
van de fotokathode afkomstige foto-elektronen wordt
geregeld alvorens deze op de SIT-plaatbot sen;
c. elektro-optische sluiters welke gebruikmaken van een
Kerr- of «pockel»-cel;
d. andere beeld («framing»)-buizen en halfgeleiderele-
menten voor beeldvorming met een venstertijd van
minder dan 50 ns, speciaal ontworpen voor camera's
bedoeld in 6A203.b.3;
c. stralingbestendige televisiecamera's of lenzen daarvoor,
speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen
een stralingsniveau hoger dan 50 × 10
3Gy (silicium)
(5 × 106rad(silicium)) zonder verslechtering van de werking.
Technische noot:
De term Gy(silicium) verwijst naar de energie in Joule per
kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermde
hoeveelheid silicium bij blootstelling aan ioniserende straling.
6A205 "Lasers", 'laser'-versterkers en -oscillatoren, anders dan bedoeld in
0B001.g.5, 0B001.h.6 en 6A005, als hieronder:
a. argon-ionen-"lasers" metde t wee volgende kenmerken:
1. werkend bij een golflengte van 400 nm tot 515 nm; en
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 40 W;
b. afstembare gepulseerde monomodus kleurstoflaseroscillatoren
metalle volgende kenmerken:
1. een golflengte van 300 nm tot 800 nm;
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W;
3. een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; en
4. een pulsduur korter dan 100 ns;
c. afstembare gepulseerde kleurstof-"laser"-versterkers en oscilla-
toren met alle volgende kenmerken:
1. een golflengte van 300 nm tot 800 nm;
2. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 30 W;
3. een herhalingssnelheid groter dan 1 kHz; en
4. een pulsduur korter dan 100 ns;
Noot: Niet bedoeld in 6A205.c zijn monomodus oscillatoren.
d. gepulseerde koolstofdioxide "lasers" met alle volgende
kenmerken:
1. een golflengte van 9 000 nm tot 11 000 nm;
2. een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz;
3. een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 500 W; en2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 171
▼M3
4. een pulsduur korter dan 200 ns;
e. para-waterstof-Ramanfrequentieverschuivers, ontworpen om te
werken bij een golflengte aan de uitgang van 16 micrometer en
een herhalingssnelheid groter dan 250 Hz;
f. neodymium gedoopte (anders dan glas), «Q-switched» "lasers"
met pulsexcitatie, met de volgende kenmerken:
1. een golflengte aan de uitgang van meer dan 1 000 nm doch
nietmeer dan 1 100 nm;
2. een pulsduur van minstens 1 ns; en
3. een uitvoer volgens verschillende transversale modi met een
gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 W.
6A225 Snelheidsinterferometers voor het meten van snelheden van meer
dan 1 km per seconde over een tijdsinterval van minder dan
10 microseconden.
Noot: In 6A225 zijn bedoeld snelheidsinterferometers zoals
VISARs («Velocity interferometer systems for any
reflector») en DLI's (Doppler laser interferometers),
enz.).
6A226 Druksensoren, als hieronder:
a. manganinedrukmeters voor drukken hoger dan 10 GPa;
b. kwartsdrukopnemers voor drukken hoger dan 10 GPa.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 172
▼M3
6B Test-, inspectie- en productieapparatuur
6B004 a. Optische apparatuur voor het meten van absolute reflectie-
coëfficiënten met een nauwkeurigheid van ± 0,1 % van de
reflectiecoëfficiëntswaarde;
b. andere apparatuur dan optische meetapparatuur voor de
verstrooiing aan oppervlakken, met een vrije apertuur van
meer dan 10 cm, speciaal ontworpen voor contactloze optische
meting van een niet vlak zijnd optisch oppervlak (profiel) met
een "nauwkeurigheid" van 2 nm of minder (beter) ten opzichte
van hetgewenst e profiel.
Noot: Microscopen zijn niet bedoeld in 6B004.
6B007 Apparatuur voor de productie, het richten en het ijken van op de
grond gestationeerde zwaartekrachtmeters met een statische
nauwkeurigheid beter dan 0,1 milligal.
6B008 Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwarsdoorsnede
meteen zendimpulsduur van 100 ns of minder en speciaal
daarvoor ontworpen onderdelen.
N.B.: ZIE OOK 6B108.
6B108 Systemen, anders dan vermeld in 6B008, speciaal ontworpen voor
hetmet en van radardwarsdoorsnedes geschiktvoor gebruik in
"raketten", alsmede subsystemen daarvan.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 173
▼M3
6C Materialen
6C002 Materialen voor optische sensoren, als hieronder:
a. elementair telluur (Te) met een zuiverheidsgraad gelijk aan of
hoger dan 99,9995 %;
b. eenkristallen (met inbegrip van epitaxiale wafers daarvan) van
een van de volgende stoffen:
1. cadmiumzinktelluride (CdZnTe) met een zinkgehalte van
minder dan 6 % per 'molfractie';
2. cadmiumtelluride (CdTe), met iedere zuiverheidsgraad; of
3. cadmiumkwiktelluride (CdHgTe), met iedere zuiverheids-
graad.
Technische noot:
Onder 'molfractie' wordt verstaan de verhouding tussen het
aantal mol van ZnTe en de som van de aantallen mol van CdTe
en ZnTe in het kristal.
6C004 Optische materialen, als hieronder:
a. "onafgewerkte substraten" van zinkselenide (ZnSe) en zinksul-
fide (ZnS) vervaardigd door middel van chemische afzetting uit
de dampfase:
1. meteen volume grot er dan 100 cm3;of
2. met een diameter groter dan 80 mm en een dikte gelijk aan
of groter dan 20 mm;
b. eenkristallen van de volgende elektro-optische materialen:
1. kaliumtitanylarsenaat (KTA);
2. zilvergalliumselenide (AgGaSe2);
3. thalliumarsenicumselenide (Tl3AsSe3, ook bekend als TAS);
c. niet-lineaire optische materialen met:
1. een gevoeligheid van de derde orde (chi 3) gelijk aan 10−
6m2/V2of meer; en
2. een reactietijd van minder dan 1 ms;
d. "onafgewerkte substraten" bekleed met siliciumcarbide of
beryllium beryllium (Be/Be), met een diameter of lengte van
de hoofdas groter dan 300 mm;
e. glas, met inbegrip van gesmolten siliciumoxide, fosfaatglas,
fluorfosfaatglas, zirkoniumfluoride (ZrF4) en hafniumfluoride
(HfF4), metalle volgende kenmerken:
1. een hydroxylion (OH)-concentratie van minder dan 5 ppm;
2. een geïntegreerd metaalzuiverheidsniveau van minder dan
1 ppm; en
3. sterke homogeniteit (variantie van de brekingsindex) minder
dan 5 × 10−6;
f. kunstmatig geproduceerd diamantmateriaal met een absorptie
van minder dan 10−5cm−1bij een golflengte groter dan 200 nm
doch nietgrot er dan 14 000 nm;
6C005 Synthetisch kristallijn "laser"-materiaal in onafgewerkte vorm,
zoals hieronder vermeld:
a. titaangedoopt saffier;
b. alexandriet.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 174
▼M3
6D Programmatuur
6D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" of
de "productie" van apparatuur vermeld in 6A004, 6A005, 6A008
of 6B008.
6D002 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor het "gebruik" van
apparatuur vermeld in 6A002.b, 6A008 of 6B008.
6D003 Overige "programmatuur", als hieronder:
a. 1. "programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische
bundelvorming voor de "tijdgebonden verwerking" van
akoestische gegevens voor passieve ontvangst met gebruik-
making van gesleepte samenstellen van regelmatig
gerangschikte hydrofoons («towed hydrophone arrays»);
2. "broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoes-
tische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking
van «towed hydrophone arrays»;
3. "programmatuur", speciaal ontworpen voor akoestische
bundelvorming voor "tijdgebonden verwerking" van akoes-
tische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking
van bodem- of baaikabelsystemen met bundelvorming;
4. "broncode" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoes-
tische gegevens voor passieve ontvangst met gebruikmaking
van bodem- of baaikabelsystemen;
b. 1. "programmatuur", speciaal ontworpen voor magnetische
compensatie-systemen voor magnetische sensoren
ontworpen voor bedrijf op mobiele tafels;
2. "programmatuur", speciaal ontworpen voor magnetische
afwijkingsdetectie op mobiele tafels;
c. "programmatuur", speciaal ontworpen voor het corrigeren van
bewegingsbeïnvloeding van zwaartekrachtmeters of zwaarte-
krachtgradiëntmeters;
d. 1. toepassings-"programma's" van luchtverkeersleidings
(ATC)-"programmatuur" die zijn geïnstalleerd op universele
computers geplaatst in een luchtverkeersleidingscentrum en
geschiktvoor een of meer van de volgende funct ies:
a. verwerking en op hetscherm t onen van meer dan 150
gelijktijdige "systeemsporen"; of
b. ontvangst van radargegevens over een doel afkomstig van
meer dan vier primaire radars;
2. "programmatuur" voor het ontwerpen of de "productie" van
radarkoepels die:
a. speciaal zijn ontworpen voor het beschermen van de
"elektronisch bestuurbare fasegestuurde antennesys-
temen, opgebouwd uit een groot aantal identieke
antennes" («phased array antennae») bedoeld in
6A008.e; en
b. resulteert in een antennepatroon met een 'gemiddeld
zijlobbenniveau' datmeer dan 40 dB onder de piek van
het voornaamste bundelniveau ligt.
Technische noot:
Het 'gemiddelde zijlobbenniveau' in 6D003.d.2.b wordt
gemeten over de gehele «array», met uitzondering van de
hoek bestreken door de hoofdbundel en de eerste twee
zijlobben aan beide zijden van de hoofdbundel.
6D102 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het
"gebruik" van in 6A108 bedoelde goederen.
6D103 "Programmatuur" voor het na de vlucht verwerken van geregi-
streerde gegevens, waarmee de positie tijdens het gehele
vluchttraject kan worden bepaald, speciaal ontworpen of aangepast
voor "raketten".2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 175
▼M3
6E Technologie
6E001 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de
"ontwikkeling" van apparatuur, materialen of "programmatuur"
vermeld in 6A, 6B, 6C of 6D.
6E002 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de
"productie" van apparatuur of materialen vermeld in 6A, 6B of 6C.
6E003 Overige "technologie":
a. 1. "technologie" voor de optische bekleding en behandeling
van hetoppervlak, benodigd voor hetverkrijgen van een
uniformiteit van 99,5 % of beter voor optische bekleding-
slagen met een diameter of lengte van de hoofdas van
500 mm of meer en met een totaal verlies (absorptie en
verstrooiing) van minder dan 5 × 10−3;
N.B.: Zie ook 2E003.f.
2. optische fabricagetechnologieën met eenpuntsdiamant-draai-
technieken die afgewerkte oppervlakken leveren met een
nauwkeurigheid beter dan 10 nm effectief (rms) op niet
vlakke oppervlakken groter dan 0,5 m2;
b. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling", de
"productie" of het "gebruik" van speciaal ontworpen diagnos-
tische instrumenten of trefplaten in testvoorzieningen voor
"SHPL"-systemen ("super high power laser") of voor het testen
of onderzoek van door "SHPL"-bundels bestraalde materialen;
c. technologie, "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de
"productie" van "magnetometers" of "magnetometer"-systemen
metaardinduct ie, meteen of meer van de volgende kenmerken:
1. een ruisniveau van minder dan 0,05 nT effectieve waarde bij
een frequentie lager dan 1 Hz; of
2. een ruisniveau van 1 × 10−3nT effectieve waarde bij een
frequentie van 1 Hz of meer.
6E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
het "gebruik" van apparatuur en "programmatuur" vermeld in
6A002, 6A007.b, 6A007.c , 6A008, 6A102, 6A107, 6A108,
6B108, 6D102 of 6D103.
Noot: In 6E101 wordt alleen "technologie" bedoeld voor
apparatuur vermeld in 6A008, wanneer deze is
ontworpen voor gebruik in vliegtuigen en geschikt is
voor gebruik in "raketten".
6E201 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
hetgebruik van apparat uur vermeld in 6A003, 6A005.a.1.c,
6A005.a.2.a, 6A005.c.1.b, 6A005.c.2.c.2, 6A005.c.2.d.2.b,
6A202, 6A203, 6A205, 6A225 of 6A226.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 176
▼M3
CATEGORIE 7
NAVIGATIE EN VLIEGTUIGELEKTRONICA2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 177
▼M3
7A Systemen, apparatuur en onderdelen
N.B. 1: Voor automatische piloten voor onderwatervoertuigen,
zie categorie 8.
Voor radar: zie categorie 6.
N.B. 2: Voor traagheidsnavigatieapparatuur voor schepen of
duikboten, zie Lijst militaire goederen.
7A001 Lineaire versnellingsmeters ontworpen voor gebruik in traagheids-
navigatie- of geleidingssystemen en met een of meer van de
volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
N.B.: ZIE OOK 7A101. Voor hoek- of rotatieversnellings-
meters, zie 7A002.
a. een "stabiliteit" van de "bias" kleiner (beter) dan 130 micro g
ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een periode van één
jaar;
b. een "stabiliteit" van de "schaalfactor" kleiner (beter) dan
130 ppm ten opzichte van een vaste ijkwaarde over een
periode van één jaar; of
c. gespecificeerd voor gebruik bij lineaire versnellingsniveaus van
meer dan 100 g.
7A002 Gyroscopen en hoek- of rotatieversnellingsmeters met een of meer
van de volgende kenmerken en speciaal daarvoor ontworpen
onderdelen:
N.B.: ZIE OOK 7A102.
a. een "stabiliteit" van de "verloopsnelheid", indien gemeten bij
een versnellingsniveau van 1 g over een periode van drie
maanden en ten opzichte van een vaste ijkwaarde, van:
1. minder (beter) dan 0,1 graad per uur indien de gyroscoop is
gespecificeerd om ononderbroken te werken bij een lineair
versnellingsniveau onder de 10 g; of
2. minder (beter) dan 0,5 graad per uur indien de gyroscoop is
gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus
van 10 t/m 100 g; of
b. gespecificeerd om te werken bij lineaire versnellingsniveaus
van meer dan 100 g.
7A003 Traagheidsnavigatiesystemen (zowel met cardanische ophanging
als vast) en traagheidsapparatuur ontworpen voor "vliegtuigen",
voor voertuigen voor gebruik aan land of voor "ruimtevaartuigen",
voor standregeling, geleiding of besturing met een of meer van de
volgende kenmerken, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
N.B.: ZIE OOK 7A103.
a. (vrije-traagheids)navigatiefout van 0,8 zeemijl per uur (50 %
«circular error probable» (CEP)) of minder (beter) na normale
uitrichting; of
b. gespecificeerd om te werken bij liniaire versnellingsniveaus
van meer dan 10 g.
Noot 1: De parameters van 7A003.a zijn van toepassing onder
alle hierna vermelde omgevingsomstandigheden:
1. invoer van willekeurige trillingen met een totale
magnitude van 7,7 g rms tijdens het eerste halfuur
en een totale testduur van anderhalf uur per as voor
elk van de drie loodrechte assen, wanneer de
willekeurige trillingen aan de volgende voor-
waarden voldoen:
a. een constante spectrale vermogensdichtheid
(PSD) van 0,04 g2/Hz bij een frequentie-interval
van 15 tot 1000 Hz; en
b. de PSD verkleint naar gelang van de frequentie
van 0,04 g2/Hz tot 0,01 g2/Hz bij een frequentie-
interval van 1 000 tot 2000 Hz; of
2. een slinger- en giersnelheid van + 2,62 radiant/s
(150 graden/s) of meer; of
3. overeenkomstig nationale normen die gelijkwaardig
zijn aan bovenstaande punten 1 en 2.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 178
▼M3
Noot 2: 7A003 is niet van toepassing op traagheidsnavigatie-
systemen die gecertificeerd zijn voor gebruik in "civiele
vliegtuigen" door de civiele autoriteiten van een
"deelnemende staat".
7A004 Astrogyrokompassen en andere apparaten voor het bepalen van
plaats en richting door het automatisch volgen van hemellichamen
of satellieten, met een azimutnauwkeurigheid gelijk aan of kleiner
(beter) dan 5 boogseconden.
N.B.: ZIE OOK 7A104.
7A005 Ontvangstapparatuur voor wereldwijde satellietnavigatiesystemen
(bv. GPS of GLONASS) meteen van beide volgende kenmerken,
en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
N.B.: ZIE OOK 7A105.
a. maakt gebruik van omzetting/ontcijfering van gegevens in
geheime codering; of
b. met een bestuurbare antenne met nulstand.
7A006 Hoogtemeters voor gebruik in luchtvaartuigen met werkfrequen-
ties buiten het gebied van 4,2 tot en met 4,4 GHz, met een van
beide volgende kenmerken:
N.B.: ZIE OOK 7A106.
a. "vermogensaanpassing"; of
b. maaktgebruik van fasemodulat ie («phase shiftkey modula-
tion»).
7A007 Richtingzoekende apparatuur met een werkfrequentie van meer
dan 30 MHz en metalle volgende kenmerken, en speciaal
daarvoor ontworpen onderdelen:
a. een "momentele bandbreedte" van 1 MHz of meer;
b. parallelle verwerking van meer dan 100 frequentiekanalen; en
c. een verwerkingssnelheid van meer dan 1 000 resultaten van het
richting zoeken per seconde en per frequentiekanaal.
7A101 Versnellingsmeters, anders dan bedoeld in 7A001, als hieronder,
en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:
a. versnellingsmeters met een drempelwaarde van 0,05 g of
minder of een lineariteitsafwijking binnen 0,25 % van de gehele
schaal, die ontworpen zijn voor gebruik in traagheidsnavigatie-
systemen of in geleidingssystemen van alle soorten;
Noot: Versnellingsmeters die speciaal ontworpen en ontwik-
keld zijn als sensoren voor gebruik in boorputten als
sensoren voor gebruik tijdens het boren («Measure-
ment While Drilling» (MWD-sensoren)) zijn niet
bedoeld in 7A101.a.
b. versnellingsmeters met continue output, gespecificeerd om te
werken bij lineaire versnellingsniveaus van meer dan 100 g.
7A102 Alle types gyroscopen, anders dan bedoeld in 7A002, geschikt
voor gebruik in "raketten" met een gespecificeerde "stabiliteit" van
de "verloopsnelheid" (een gespecificeerde vrije precessie) van
minder dan 0,5 (1 sigma of effectief (rms)) per uur bij een
versnellingsniveau van 1 g, en speciaal daarvoor ontworpen
onderdelen.
7A103 Instrumentatie, navigatieapparatuur en systemen, anders dan
bedoeld in 7A003, als hieronder, en speciaal ontworpen onder-
delen daarvoor:
a. apparatuur voor traagheidsnavigatie of andere apparatuur, die
gebruikmaaktvan versnellingsmet ers als bedoeld in 7A001 of
7A101, of gyroscopen als bedoeld in 7A002 of 7A102, en
systemen die dergelijke apparatuur bevatten;
Noot: 7A103.a. heeft geen betrekking op apparatuur die
versnellingsmeters als bedoeld in 7A001 bevat indien
die versnellingsmeters speciaal ontworpen en ontwik-
keld zijn voor gebruik in boorputten als sensoren voor
gebruik tijdens het boren («Measurement While
Drilling»-sensoren).
b. geïntegreerde besturingssystemen voor vliegtuigen, bevattende
gyrostabilisatoren of automatische piloten, ontworpen of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 179
▼M3
aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen bedoeld in
9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104.
7A104 Astrogyrokompassen en andere apparaten, anders dan bedoeld in
7A004, voor het bepalen van plaats en richting door het
automatisch volgen van hemellichamen of satellieten, en speciaal
daarvoor ontworpen onderdelen.
7A105 GPS-systemen («global positioning systems») of vergelijkbare
satellietontvangers, anders dan bedoeld in 7A005, geschikt om
navigatiegegevens te leveren bij de volgende bedrijfsomstandig-
heden en ontworpen of aangepast voor gebruik in
ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten
bedoeld in 9A104;
a. bij snelheden boven 515 m/s; en
b. op hoogten boven 18 km.
7A106 Hoogtemeters, anders dan bedoeld in 7A006, van het radar- of
laserradartype, ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimte-
lanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld
in 9A104.
7A115 Passieve sensoren voor het bepalen van de positie ten opzichte van
bepaalde elektromagnetische bronnen (richtingsbepalingsappara-
tuur) of van karakteristieken van het terrein, ontworpen of
aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen bedoeld in
9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104.
Noot: 7A115 bevat onder meer sensoren voor:
a. apparatuur voor het bepalen van het profiel van het
aardoppervlak;
b. beeldapparatuur (zowel actieve als passieve);
c. passieve interferometerapparatuur.
7A116 Vluchtregelsystemen, als hieronder, ontworpen of aangepast voor
gebruik in ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonde-
ringsraketten bedoeld in 9A104:
a. hydraulische, mechanische, elektro-optische, elektromechani-
sche vluchtregelsystemen, met inbegrip van «fly-by-wire»-
vluchtregelsystemen;
b. standregelapparatuur.
7A117 "Geleidingssystemen" geschikt voor gebruik in "raketten" met een
systeemnauwkeurigheid van 3,33 % of minder van het bereik (een
"CEP" («circle of equal probability») van 10 km of minder bij een
bereik van 300 km).2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 180
▼M3
7B Test-, inspectie- en productieapparatuur
7B001 Test-, ijk- of uitrichtapparatuur, speciaal ontworpen voor appara-
tuur bedoeld in 7A.
Noot: 7B001 is niet van toepassing op test-, ijk- of uitricht-
apparatuur voor onderhoudsniveau I ofonderhoudsniveau II.
Technische noten:
1. Onderhoudsniveau I
De storing van een traagheidsnavigatie-eenheid wordt aan
boord van het vliegtuig ontdekt via aanwijzingen van de
besturings- en beeldeenheid («control and display unit»
(CDU)) of via de toestandinformatie van het overeenkomstige
subsysteem. Aan de hand van het handboek van de fabrikant
kan de storing worden gelokaliseerd op het niveau van de niet
goed functionerende «line replaceable unit» (LRU). De
operateur verwijdert vervolgens de LRU en vervangt deze
door een reserve-eenheid.
2. Onderhoudsniveau II
De defecte LRU wordt naar de onderhoudswerkplaats gestuurd
(van de fabrikant of van de voor onderhoudsniveau II
verantwoordelijke operateur). In de werkplaats wordt de
defecte LRU getest met de daarvoor geëigende middelen
teneinde het defecte, in de werkplaats vervangbare («shop
replaceable assembly» (SRA)) moduul dat voor de storing
verantwoordelijk is, te controleren en te lokaliseren. Dit SRA-
moduul wordt verwijderd en vervangen door een goedwerkend
reservemoduul. De defecte SRA (of eventueel de complete LRU)
wordt vervolgens naar de fabrikant gezonden.
N.B.: Onderhoudsniveau II omvat niet het verwijderen van
onder embargo vallende versnellingsmeters of gyro-
sensoren uit de SRA.
7B002 Apparatuur, als hieronder, speciaal ontworpen voor het bepalen
van de karakteristieken van spiegels voor ring-"laser"-gyroscopen:
N.B.: ZIE OOK 7B102.
a. verstrooiingsmeters met een meetnauwkeurigheid van 10 ppm
of minder (beter);
b. profielmeters met een meetnauwkeurigheid van 0,5 nm (5
ångström) of minder (beter).
7B003 Apparatuur speciaal ontworpen voor de productie van apparatuur
bedoeld in 7A:
Noot: 7B003 omvat:
a. proefbanken voor het afstemmen van gyroscopen;
b. dynamische uitbalanceerbanken voor gyroscopen;
c. proefbanken voor het inlopen/testen van de gyro-
motor;
d. apparatuur voor het leegmaken en vullen van
gyroscopen;
e. centrifugale bevestigingen voor gyroscooplagers;
f. uitlijnbanken voor versnellingsmeters.
7B102 Reflectometers, speciaal ontworpen voor het karakteriseren van
spiegels voor "laser"-gyroscopen meteen meet nauwkeurigheid van
minder (of beter) dan 50 ppm.
7B103 "Productiefaciliteiten" en "productieapparatuur", als hieronder:
a. speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor apparatuur
bedoeld in 7A117;
b. "productieapparatuur" en andere test-, ijk- of uitrichtapparatuur,
anders dan bedoeld in 7B001 tot en met 7B003, ontworpen of
aangepast om te worden gebruikt met apparatuur bedoeld in
7A.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 181
▼M3
7C Materialen
Geen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 182
▼M3
7D Programmatuur
7D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling" of de "productie" van apparatuur bedoeld in 7A
of 7B.
7D002 "Broncode" voor het "gebruik" van iedere traagheidsnavigatie-
apparatuur met inbegrip van traagheidsapparatuur die niet is
bedoeld in 7A003 of 7A004, of stand- en koersreferentiesystemen
("Attitude and Heading Reference Systems" (AHRS)).
Noot: 7D002 is niet van toepassing op "broncode" voor het
"gebruik" van AHRS met cardanische ophanging.
Technische noot:
Het verschil tussen AHRS en traagheidsnavigatiesystemen (INS) is
dat in het algemeen AHRS standkoersgegevens verschaft en
gewoonlijk niet de gegevens omtrent versnelling, snelheid en
positie verschaft die een INS wel levert.
7D003 Overige programmatuur, als hieronder:
a. "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor
verbetering van de operationele prestaties of vermindering
van de navigatiefout van systemen tot de niveaus vermeld in
7A003 of 7A004;
b. "broncode" voor hybride geïntegreerde systemen waardoor de
operationele prestaties van het systeem worden verbeterd of de
navigatiefout wordt verkleind tot het niveau vermeld in 7A003,
door middel van continue combinatie van traagheidsgegevens
meteen of meer van de volgende navigat iegegevens:
1. Doppler-radarsnelheidsbepaling;
2. Referentiegegevens van wereldwijde satellietnavigatiesys-
temen (bv. GPS of GLONASS); of
3. terreingegevens uit gegevensbestanden;
c. "broncode" voor geïntegreerde vliegtuigelektronica- of vlucht-
profielsystemen die gegevens van sensoren combineren en
gebruikmaken van "expert-systemen";
d. "broncode" voor de "ontwikkeling" van:
1. digitale systemen voor een totale vluchtbeheersing;
2. geïntegreerde voorstuwings- en vluchtregelsystemen;
3. elektrische of opto-elektronische vluchtregelsystemen («fly
by wire»/«fly by light»);
4. foutbestendige of zichzelf herconfigurerende "actieve vluch-
tregelsystemen";
5. automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in
vliegtuigen;
6. vluchtgegevenssystemen gebaseerd op statische gegevens
van hetgrondoppervlak; of
7. voorruitpresentatie («head up») van het rastertype of met
driedimensionale presentatie;
e. "programmatuur" voor het computerondersteund ontwerpen
(CAD), speciaal ontworpen voor de ontwikkeling van "actieve
vluchtregelsystemen", elektrische of opto-elektronische bestu-
ringen («fly by wire»/«fly by light») of luchtstroombeheerste
antitorsie of richtingregelsystemen voor meerassige hefschroef-
vliegtuigsystemen, waarvoor de technologie is gespecificeerd in
7E004.b, 7E004.c.1 of 7E004.c.2.
7D101 Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor vlieg-
tuigelektronica als bedoeld in 7A001 tot en met 7A006, 7A101 tot
en met7A106, 7A115, 7A116.a, 7A116.b, 7B001, 7B002, 7B003,
7B102 of 7B103.
7D102 Integratie-"programmatuur", als hieronder:
a. integratie-"programmatuur" voor apparatuur als bedoeld in
7A103.b;
b. integratie-"programmatuur" speciaal ontworpen voor appara-
tuur als bedoeld in 7A003 of 7A103.a.
7D103 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor het modelleren of
simuleren van de "geleidingssystemen" bedoeld in 7A117, of voor2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 183
▼M3
de ontwerpintegratie met de ruimtelanceervoertuigen bedoeld in
9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104.
Noot: "Programmatuur" bedoeld in 7A103 blijft bedoeld, ook
wanneer deze wordt gecombineerd met de speciaal
ontworpen apparatuur bedoeld in 4A102.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 184
▼M3
7E Technologie
7E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in
7A, 7B of 7D.
7E002 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "productie" van apparatuur bedoeld in 7A of 7B.
7E003 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
reparatie, opknappen of revisie van apparatuur bedoeld in 7A001
tot en met 7A004.
Noot: 7E003 is niet van toepassing op onderhoudstechnologie
die direct verband houdt met de ijking, verwijdering of
vervanging van beschadigde of onbruikbare LRU's en
SRA's van "civiele vliegtuigen" als omschreven in
onderhoudsniveau I en onderhoudsniveau II.
N.B.: Zie de technische noten bij 7B001.
7E004 Overige "technologie", als hieronder:
a. technologie voor de "ontwikkeling" of "productie" van:
1. automatische richtingzoekende apparatuur voor gebruik in
vliegtuigen met een werkfrequentie hoger dan 5 MHz;
2. vluchtgegevenssystemen die uitsluitend zijn gebaseerd op
statische gegevens van het grondoppervlak, d.w.z. die geen
conventionele richtantennes nodig hebben;
3. voorruitpresentatie («head up») van het rastertype of met
driedimensionale presentatie voor "vliegtuigen";
4. traagheidsnavigatiesystemen of astrogyrokompassen die
versnellingsmeters of gyroscopen bevatten die zijn bedoeld
in 7A001 of 7A002;
5. elektrische aandrijvers (d.w.z. elektromechanische, elektro-
hydrostatische en geïntegreerde aandrijverpakketten) die
speciaal zijn ontworpen voor "primaire vluchtregeling";
6. optische sensor-«arrays» voor vluchtregeling die speciaal
zijn ontworpen voor de implementatie van actieve vluchtre-
gelsystemen;
b. "ontwikkelings"-"technologie", als hieronder, voor «actieve
vluchtregelsystemen» met inbegrip van elektrische of opto-
elektronische besturing («fly by wire»/«fly by light»):
1. "technologie" voor het ontwerpen van de configuratie voor
het koppelen van meervoudig samengestelde micro-elektro-
nische verwerkingselementen (boordcomputers) voor het
verkrijgen van "tijdgebonden («real time») gegevensverwer-
king" ter uitvoering van de besturingswet («control law»);
2. "technologie" voor «control law»-compensatie voor de
plaatsing van de sensoren en voor dynamische belastingen
op de romp, d.w.z. compensatie voor het trillen van de
sensoren en voor variatie in de plaats van de sensoren ten
opzichte van het zwaartepunt;
3. "technologie" voor elektronische manipulatie van gegevens-
of systeemredundantie voor het opsporen van storingen,
storingsbestendigheid, de isolatie van storingen of hercon-
figuratie;
Noot: Niet bedoeld wordt in 7E004.b.3 "technologie"
voor het ontwerpen van fysieke redundantie.
4. "technologie" voor het ontwerpen van vluchtregelapparatuur
die tijdens de vlucht herindeling van kracht- en momentre-
geleenheden mogelijk maakt ten behoeve van autonome
tijdgebonden («real time») besturing van het luchtvoertuig;
5. "technologie" voor het integreren van digitale vluchtregel-,
navigatie- en voortstuwingsregelgegevens in een digitaal
systeem voor "totale vluchtregeling";
Noot: 7E004.b.5 is niet van toepassing op:
a. "ontwikkelings"-"technologie" voor de inte-
gratie van digitale vluchtregel-, navigatie- en
voortstuwingsregelgegevens in een digitaal
vluchtbeheerssysteem voor "optimalisering van
de vliegroute";2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 185
▼M3
b. "ontwikkelings"-"technologie" voor vluchtin-
strumentsystemen welke uitsluitend worden
geïntegreerd voor navigatie of aanvliegen met
behulp van VOR, DME, ILS of MLS;
6. volledig zelfstandige digitale systemen voor vluchtbeheer-
sing of systemen voor vluchtprofielbeheersing met behulp
van meerdere sensoren die gebruikmaken van "expert-
systemen";
N.B.: Zie 9E003.a.10 voor technologie voor «full autho-
rity digital engine control» ("FADEC").
c. "technologie" voor de "ontwikkeling" van hefschroefvliegtuig-
systemen, als hieronder:
1. meerassige elektrische of opto-elektronische besturingen
(«fly by wire»/«fly by light») die ten minste twee van de
volgende functies in één regelelement verenigen:
a. collectieve bladverstelling («collective control»);
b. cyclische bladverstelling («cyclic control»);
c. gierbesturing («yaw control»);
2. "luchtstroombeheerste antitorsie of richtingsregelsystemen";
3. rotorbladen met "aërodynamische vlakken met variabel
profiel" voor toepassing in systemen die gebruikmaken
van afzonderlijke besturing van de rotorbladen.
7E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
het "gebruik" van apparatuur bedoeld in 7A001 tot en met 7A006,
7A101 tot en met 7A106, 7A115 tot en met 7A117, 7B001, 7B002,
7B003, 7B102, 7B103, 7D101 tot en met 7D103.
7E102 Ontwerp-"technologie" voor bescherming van elektronische vlieg-
tuigsystemen en elektrische subsystemen tegen elektromagnetische
impulsen (EMP) en elektromagnetische storingen (EMI) door
buiten het systeem gelegen bronnen, zoals:
a. "technologie" voor het ontwerpen van afschermsystemen;
b. "technologie" voor het ontwerpen van de configuratie van
stralingbestendige elektrische schakelingen en subsystemen;
c. bepaling van criteria voor het stralingbestendig maken van de
onder 7E102.a en 7E102.b bedoelde systemen.
7E104 "Technologie" voor het integreren van vluchtregel-, navigatie- en
voortstuwings-regelgegevens in een vluchtregelingssysteem om de
baan van raketten te optimaliseren.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 186
▼M3
CATEGORIE 8
ZEEWEZEN EN SCHEPEN2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 187
▼M3
8A Systemen, apparatuur en onderdelen
8A001 Onderwatervoertuigen of oppervlaktevaartuigen, zoals hieronder
vermeld:
Noot: Voor de embargostatus van apparatuur voor onderwater-
voertuigen zie:
categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging) voor commu-
nicatieapparatuur met cryptografie;
categorie 6 voor sensoren;
categorieën 7en 8 voor navigatieapparatuur;categorie 8A voor onderwaterapparatuur.
a. getuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik, ontworpen
voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m;
b. ongetuide onderwatervoertuigen voor bemand gebruik met een
of meer van de volgende kenmerken:
1. ontworpen om 'autonoom te opereren' en met een hijsver-
mogen van:
a. 10 % of meer van heteigen gewichtin de lucht ;
en
b. 15 kN of meer;
2. ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m; of
3. al de volgende kenmerken:
a. ontworpen voor een bemanning van vier of meer
personen;
b. ontworpen om gedurende tien uur of meer 'autonoom te
opereren';
c. meteen 'bereik' van 25 zeemijlen of meer; en
d. met een lengte van 21 m of korter;
Technische noten:
1. Voor de toepassing van 8A001.b moet onder 'autonoom
opereren' het volgende worden verstaan: geheel onder
water, zonder ventilatiepijp, met alle systemen in werking
en zich voortbewegend met de minimumsnelheid waarbij
het onderwatervoertuig uitsluitend door middel van zijn
diepteroeren zijn diepgang veilig en dynamisch kan
regelen, zonder dat er een ondersteuningsvaartuig of
een ondersteunende basis aan de oppervlakte, op de
zeebodem of aan wal nodig is, en met een voortstuwings-
systeem voor gebruik onder water of aan de oppervlakte.
2. Voor de toepassing van 8A001.b moet onder 'bereik'
worden verstaan de helft van de maximumafstand die
door het onderwatervoertuig kan worden afgelegd.
c. getuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik,
ontworpen voor een werkdiepte van meer dan 1 000 m:
1. ontworpen voor zelfaangedreven manoeuvreren met gebruik
van druk- of stuwmotoren bedoeld in 8A002.a.2; of
2. meteen gegevensverbindingskabel van glasvezels;
d. ongetuide onderwatervoertuigen voor onbemand gebruik:
1. ontworpen voor het bepalen van een koers ten opzichte van
een geografisch referentiepunt zonder tijdgebonden («real
time») ingrijpen van de mens;
2. met een akoestische gegevens- of besturingsverbinding; of
3. meteen gegevens- of best uringsverbindingskabel van glas-
vezels langer dan 1 000 m;
e. systemen voor berging op zee met een hijscapaciteit groter dan
5 MN voor berging van voorwerpen die zich op een diepte van
meer dan 250 m bevinden en meteen of meer van de volgende
systemen:
1. dynamische positioneersystemen geschikt voor het hand-
haven van een positie binnen 20 m van een door het
navigatiesysteem opgegeven punt; of
2. systemen voor navigatie op de zeebodem en voor navigatie-
integratie voor een diepte groter dan 1 000 m met een2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 188
▼M3
positioneernauwkeurigheid tot op 10 m nauwkeurig van een
vooraf vastgesteld punt;
f. vaart uigen metgrondeffect(volledig metschort en («fully
skirted variety»)) met de volgende kenmerken:
1. een maximale ontwerpsnelheid bij volle lading van meer dan
30 knopen in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het
zeeoppervlak («sea state»): 3);
2. een luchtkussendruk van meer dan 3 830 Pa; en
3. een ongeladen-volgeladen waterverplaatsingsverhouding
van minder dan 0,70;
g. vaartuigen met grondeffect (met vaste zijwand («rigid side-
wall»)) meteen maximale ont werpsnelheid bij volle lading van
meer dan 40 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand
van het zeeoppervlak («sea state»): 5);
h. draagvleugelboten met actieve systemen voor automatische
besturing van de vleugelsystemen, met een maximale ontwerp-
snelheid bij volle lading van 40 knopen of meer in golven van
3,25 m of hoger (toestand van het zeeoppervlak («sea state»):
5);
i. 'vaart uigen metgeringe rompdoorsnede' meteen of meer van de
volgende kenmerken:
1. een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan 500 ton
meteen maximale ont werpsnelheid bij volle lading van
meer dan 35 knopen in golven van 3,25 m of hoger (toestand
van het zeeoppervlak («sea state»): 5); of
2. een waterverplaatsing bij volle lading van meer dan
1 500 ton met een maximale ontwerpsnelheid bij volle
lading van meer dan 25 knopen in golven van 4 m of hoger
(toestand van het zeeoppervlak («sea state»): 6).
Technische noot:
Voor 'vaartuigen met geringe rompdoorsnede' geldt de
volgende formule als definitie: rompdoorsnede bij een opera-
tionele ontwerpdiepgang kleiner dan 2 × (waterverplaatsing bij
de operationele ontwerpdiepgang)2/3.
8A002 Systemen en apparatuur, als hieronder vermeld:
Noot: Zie categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie), voor
communicatiesystemen voor gebruik onder water.
a. systemen of apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor
onderwatervoertuigen ontworpen voor een werkdiepte van
meer dan 1 000 m, zoals:
1. drukvaste omhullingen of rompen met een maximale
inwendige diameter groter dan 1,5 m;
2. gelijkstroom-druk- of -stuwmotoren;3. voedingsleidingen en koppelingen daarvoor waarin glas-
vezels zijn gebruikt en met synthetische versterkingen;
b. systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor het auto-
matisch besturen van de bewegingen van apparatuur voor
onderwatervoertuigen bedoeld in 8A001, waarbij gebruik
wordt gemaakt van navigatiegegevens en teruggekoppelde
servobesturingen zodat:
1. het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt
in de waterkolom gebracht kan worden;
2. het voertuig binnen 10 m van een van tevoren bepaald punt
in de waterkolom gehouden kan worden;
of
3. het voertuig binnen 10 m van een te volgen kabel op of
onder de zeebodem gehouden kan worden;
c. glasvezeldoorvoeren of -doorvoerkoppelingen voor rompen;
d. systemen voor onderwaterzien, zoals:
1. televisiesystemen en televisiecamera's, als hierna vermeld:
a. televisiesystemen (bestaande uit camera, lampen, contro-
leapparatuur en apparatuur voor de overdracht van
signalen) met een systeemoplossend vermogen, gemeten
in de lucht, van meer dan 800 lijnen, die speciaal2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 189
▼M3
ontworpen of aangepast zijn om op afstand bediend te
worden in een onderwatervoertuig;
b. onderwatertelevisiecamera's met een systeemoplossend
vermogen, gemeten in de lucht, van meer dan 1 100
lijnen;
c. televisiecamera's voor gebruik bij gering lichtniveau,
speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik onder
water, welke omvatten:
1. beeldversterkingsbuizen bedoeld in 6A002.a.2.a; en
2. meer dan 150 000 "actieve pixels" per halfgeleider-
«array»;
Technische noot:
Het systeemoplossende vermogen voor televisie is een
maat voor het horizontale oplossende vermogen dat
gewoonlijk wordt uitgedrukt als het maximale aantal
lijnen per beeldschermhoogte dat op een testkaart
onderscheiden kan worden, met toepassing van IEEE
Standard 208/1960 of een equivalente norm.
2. systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de bedie-
ning op afstand in een onderwatervoertuig, waarbij gebruik
wordt gemaakt van technieken, zoals speciaal gerichte
verlichting («range-gated illuminators») of "laser"-
systemen, om de weerkaatsing van het licht zo laag
mogelijk te houden;
e. fotografische camera's, speciaal ontworpen of aangepast voor
gebruik onder water, met een filmformaat van 35 mm of
groter, en met een of meer van de volgende kenmerken:
1. de film kan worden voorzien van gegevens vanuiteen bron
van buiten de camera;
2. met automatische nacorrectie van de brandpuntsafstand; of
3. met automatische compensatieregeling, speciaal ontworpen
om het gebruik van onderwatercamerahuizen op een diepte
van meer dan 1 000 m mogelijk te maken;
f. elektronische beeldsystemen, speciaal ontworpen of aangepast
voor gebruik onder water, geschikt voor digitale opslag van
meer dan 50 belichte beelden;
g. lichtbronnen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik
onder water, zoals:
1. stroboscopische lichtbronnen met een lichtopbrengst van
meer dan 300 J per flits en een flitssnelheid van meer dan
vijf flitsen per seconde;
2. argonbooglichtbronnen, speciaal ontworpen voor gebruik
op een diepte van meer dan 1 000 m;
h. "robots", speciaal ontworpen voor gebruik onder water,
bestuurd door middel van een "met opgeslagen programma
bestuurde" toepassinggerichte computer, en met een of meer
van de volgende kenmerken:
1. met systemen die voor de besturing van de "robot"
gebruikmaken van gegevens van sensoren die krachten of
koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot
een extern voorwerp of de aanraking tussen de "robot" en
een extern voorwerp meten; of
2. geschiktvoor hetuit oefenen van een krachtvan 250 N of
meer of een koppel van 250 Nm of meer en gebruikmakend
van op titaan gebaseerde legeringen of "stapel- of
continuvezel" -"composiet"-materialen in hun constructie-
elementen;
i. op afstand bediende, scharnierende manipulators, speciaal
ontworpen of aangepast voor gebruik met onderwatervoer-
tuigen en met een of meer van de volgende kenmerken:
1. met systemen die voor de besturing van de manipulator
gebruikmaken van gegevens van sensoren die krachten of
koppels uitgeoefend op een extern voorwerp, de afstand tot
een extern voorwerp of de aanraking tussen de manipulator
en een extern voorwerp meten; of
2. bestuurd met behulp van evenredige meester-slaaf-tech-
nieken of door gebruik te maken van een toepassinggerichte2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 190
▼M3
"met opgeslagen programma bestuurde" computer, en met
een aantal vrijheidsgraden van beweging van 5 of meer;
Noot: Bij de bepaling van het aantal vrijheidsgraden van
beweging worden uitsluitend meegeteld de func-
ties met evenredige besturing die gebruikmaken
van positieterugkoppeling of van een "met opge-
slagen programma bestuurde" computer.
j. geen lucht vereisende aandrijfsystemen, speciaal ontworpen
voor gebruik onder water, zoals:
1. geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van
het type Brayton of Rankinecyclus, met een of meer van de
volgende kenmerken:
a. chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal
ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide,
koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaat-
gassen van de motor;
b. speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van
eenatomige gassen;
c. toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor
geluiddemping onder water voor frequenties lager dan
10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen;
of
d. systemen die speciaal zijn ontworpen:
1. voor hetonder druk brengen van verbrandings-
producten of voor het opnieuw vormen van brandstof;
2. voor de opslag van verbrandingsproducten; en
3. voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een
druk in van 100 kPa of meer;
2. geen lucht vereisende systemen met een dieselmotor met
alle volgende kenmerken:
a. chemische reinigings- of absorptiesystemen, speciaal
ontworpen voor het verwijderen van kooldioxide,
koolmonoxide en deeltjes uit de teruggevoerde uitlaat-
gassen van de motor;
b. speciaal ontworpen systemen voor het gebruik van
eenatomige gassen;
c. toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor
geluiddemping onder water voor frequenties lager dan
10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen;
en
d. speciaal ontworpen uitlaatsystemen die niet zonder
onderbreking verbrandingsproducten uitstoten;
3. geen lucht vereisende brandstofcelsystemen met een
uitgangsvermogen van meer dan 2 kW met een van beide
volgende kenmerken:
a. toestellen of omhullingen, speciaal ontworpen voor
geluiddemping onder water voor frequenties lager dan
10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen;
of
b. systemen die speciaal zijn ontworpen:
1. voor hetonder druk brengen van verbrandings-
producten of voor het opnieuw vormen van brandstof;
2. voor de opslag van verbrandingsproducten; en
3. voor de lozing van verbrandingsproducten tegen een
druk in van 100 kPa of meer;
4. geen lucht vereisende aandrijfsystemen met motoren van
het type Stirling-cyclus, met alle volgende kenmerken:
a. toestellen of omhullingen speciaal ontworpen voor
geluiddemping onder water voor frequenties lager dan
10 kHz, of speciale schokdempende ophanginrichtingen;
en
b. speciaal ontworpen uitlaatsystemen voor de lozing van
verbrandingsproducten tegen een druk van 100 kPa of
meer;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 191
▼M3
k. schorten, afdichtingen en zogenaamde vingers, zoals hieronder
vermeld:
1. ontworpen voor een luchtkussendruk van 3 830 Pa of meer,
werkend in golven van 1,25 m of hoger (toestand van het
zeeoppervlak («sea state»): 3) en speciaal ontworpen voor
vaartuigen met grondeffect (type volledig met schorten
(«fully skirted variety»)) bedoeld in 8A001.f;
2. ontworpen voor een luchtkussendruk van 6 224 Pa of meer,
werkend in golven van 3,25 m of hoger (toestand van het
zeeoppervlak («sea state»): 5) en speciaal ontworpen voor
vaartuigen met grondeffect (type met vaste zijwand («rigid
sidewalls»)) bedoeld in 8A001.g;
l. stuwventilatoren gespecificeerd voor meer dan 400 kW,
speciaal ontworpen voor vaartuigen met grondeffect bedoeld
in 8A001.f of 8A001.g;
m. geheel onder water werkende sub- of supercaviterende
draagvleugels, speciaal ontworpen voor vaartuigen bedoeld in
8A001.h;
n. actieve systemen, speciaal ontworpen of aangepast voor de
automatische beheersing van door de zee veroorzaakte
bewegingen van voertuigen of vaartuigen bedoeld in
8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of 8A001.i;
o. schroefsystemen, krachtoverbrengingssystemen, krachtopwek-
kingssystemen en geluiddempingssystemen, als hierna
vermeld:
1. scheepsschroefsystemen of krachtoverbrengingssystemen,
zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor vaar-
t uigen metgrondeffect(volledig metschort en («fully
skirted variety») of met vaste zijwand («rigid sidewall
variety»)), draagvleugelboten of vaartuigen met geringe
rompdoorsnede bedoeld in 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h of
8A001.i:
a. supercaviterende, supergeventileerde, gedeeltelijk onder
water werkende («partially submerged») of door het
wateroppervlak heen brekende schroeven voor een
vermogen van meer dan 7,5 MW;
b. systemen met tegengesteld draaiende schroeven voor een
vermogen van meer dan 15 MW;
c. systemen waarin draaikolktechnieken («pre-swirl» of
«post-swirl») worden toegepast voor het effenen van de
waterstroom naar de schroef;
d. lichtgewicht tandwieloverbrengingen voor hoge vermo-
gens (K-factor groter dan 300);
e. assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit
"composiete" materialen bevatten, geschikt voor het
overbrengen van een vermogen van meer dan 1 MW;
2. scheepsschroef-, krachtopwekkings- of krachtoverbren-
gingssystemen voor gebruik in schepen, zoals:
a. schroeven metregelbare spoed en naafsamenst ellingen
voor een vermogen van meer dan 30 MW;
b. met interne vloeistofkoeling en elektrische voortstu-
wingsmotoren met een vermogen groter dan 2,5 MW;
c. "supergeleidende" voortstuwingsmotoren, of elektrische
voortstuwingsmotoren met permanente magneet, met
een vermogen van meer dan 0,1 MW;
d. assystemen voor krachtoverbrenging die onderdelen uit
"composiete" materialen bevatten, geschikt voor het
overbrengen van een vermogen van meer dan 2 MW;
e. geventileerde of basisgeventileerde schroefsystemen
voor een vermogen van meer dan 2,5 MW;
3. geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een
waterverplaatsing van 1 000 ton of meer, zoals:
a. geluiddempingssystemen die dempen bij frequenties
lager dan 500 Hz en bestaan uit samengestelde
akoestische ophanginrichtingen voor het akoestisch
isoleren van dieselmotoren, dieselaggregaten, gastur-
bines, gasturbineaggregaten, voortstuwingsmotoren of2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 192
▼M3
tandwieloverbrengingen voor voortstuwing, speciaal
ontworpen voor geluids- of trillingsisolatie, met een
dempende massa van meer dan 30 % van de te monteren
apparatuur;
b. actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of
magnetische lagers, speciaal ontworpen voor krachto-
verbrengingssystemen, die elektronische regelsystemen
bevatten geschikt voor actieve demping van de trillingen
van de apparatuur door het voortbrengen van geluid of
trilling onderdrukkende signalen die direct naar de bron
worden teruggekoppeld;
p. waterstraal («pumpjet»)-voortstuwingssystemen met een
vermogen van meer dan 2,5 MW, welke gebruikmaken van
uitlopende straalbuizen en geleide-schoepentechnieken om de
voortstuwingsefficiëntie te verbeteren en het onderwatergeluid,
veroorzaakt door de voortstuwing, te verminderen;
q. onafhankelijk werkende duikapparatuur of apparatuur voor
onderwaterzwemmen met een gesloten of halfgesloten
systeem.
Noot: 8A002.q. is niet van toepassing op individuele
apparatuur voor persoonlijk gebruik die door de
gebruiker wordt meegevoerd.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 193
▼M3
8B Test-, inspectie- en productieapparatuur
8B001 Watertunnels, met een achtergrondruis van minder dan 100 dB
(referentie: 1 micropascal, 1 Hz) in het frequentiegebied van 0 tot
500 Hz, ontworpen voor het meten van akoestische velden
voortgebracht door een waterstroming rond modellen van voortstu-
wingssystemen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 194
▼M3
8C Materialen
8C001 'Syntactisch schuim' voor gebruik onder water:
a. ontworpen voor toepassing onder water bij een diepte groter
dan 1 000 m, en
b. meteen dicht heid lager dan 561 kg/m3.
Technische noot:
'Syntactisch schuim' bestaat uit holle bolletjes van kunststof of glas
die zijn ingebed in een harsmatrix.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 195
▼M3
8D Programmatuur
8D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur
of materialen bedoeld in 8A, 8B of 8C.
8D002 Specifieke "programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor
de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of het
opknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die
speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 196
▼M3
8E Technologie
8E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling" of de "productie" van apparatuur of materialen
bedoeld in 8A, 8B of 8C.
8E002 Overige "technologie", zoals hieronder vermeld:
a. "technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie", het
herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal
bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om
onderwatergeluid te beperken;
b. "technologie" voor de revisie of het opknappen van apparatuur
bedoeld in 8A001, 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o of 8A002.p.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 197
▼M3
CATEGORIE 9
VOORTSTUWINGSSYSTEMEN, RUIMTEVOERTUIGEN EN
VERWANTE APPARATUUR2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 198
▼M3
9A Systemen, apparatuur en onderdelen
N.B.: Zie Lijst militaire goederen voor voortstuwingssystemen
die zijn ontworpen of gespecificeerd tegen neutronenstra-
ling of kortstondige ioniserende straling.
9A001 Gasturbinemotoren voor luchtvaartuigen die technologieën
bevatten die bedoeld zijn in 9E003.a, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 9A101.
a. niet gecertificeerd voor de specifieke "civiele vliegtuigen"
waarvoor zij zijn bedoeld;
b. niet gecertificeerd voor civiel gebruik door de luchtvaartauto-
riteiten van een "deelnemende staat";
c. ontworpen om zich gedurende meer dan 30 minuten voort te
bewegen meteen snelheid van meer dan Mach 1,2.
9A002 'Gasturbinemotoren voor schepen' met een volgens ISO-normen
continu vermogen van 24 245 kW of meer en een specifiek
brandstofverbruik van minder dan 0,219 kg/kWh op elk punt
binnen hetvermogensbereik van 35 t ot100 %, en speciaal
daarvoor ontworpen samenstellingen en onderdelen.
Noot: De term 'gasturbinemotoren voor schepen' omvat tevens
industriële of oorspronkelijk voor vliegtuigen bestemde
gasturbinemotoren die zijn aangepast voor de voortstu-
wing van schepen of de opwekking van elektriciteit aan
boord van schepen.
9A003 Speciaal ontworpen samenstellingen en onderdelen, die technolo-
gieën bevatten die bedoeld zijn in 9E003.a, voor onderstaande
gasturbinemotorvoortstuwingssystemen:
a. bedoeld in 9A001;
b. die oorspronkelijk zijn ontworpen of vervaardigd in hetzij een
niet "deelnemende staat", hetzij een aan de fabrikant onbekend
land.
9A004 Ruimtelanceervoertuigen of "ruimtevaartuigen".
N.B.: ZIE OOK 9A104.
Noot: 9A004 is niet van toepassing op de nuttige lading.
N.B.: Zie voor de embargostatus van producten die
zich in de nuttige lading van "ruimtevaartuigen"
bevinden de desbetreffende categorieën.
9A005 Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof die systemen
of onderdelen bevatten die zijn bedoeld in 9A006.
N.B.: ZIE OOK 9A105 EN 9A119.
9A006 Systemen of onderdelen, als hieronder, speciaal ontworpen voor
raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof:
N.B.: ZIE OOK 9A106 EN 9A108.
a. cryogene koelinrichtingen, uiterst lichte dewarvaten, cryogene
warmtebuizen of cryogene systemen, speciaal ontworpen voor
gebruik in ruimtevoertuigen en in staat om het verlies aan
cryogene vloeistof te beperken tot minder dan 30 % per jaar;
b. cryogene vaten of koelsystemen met gesloten kringloop,
geschikt voor het bereiken van temperaturen van 100 K (−
173 ºC) of lager, voor "vliegtuigen" die ononderbroken kunnen
vliegen meteen snelheid van meer dan Mach 3, voor
lanceervoertuigen of voor "ruimtevaartuigen";
c. systemen voor opslag of transport van waterstof bij het
smeltpunt («slush hydrogen»);
d. hogedrukturbopompen (meer dan 17,5 MPa), pomponderdelen
of de aangesloten gasgenerator- of expansiecyclusturbineaan-
drijfsystemen;
e. hogedrukverbrandingskamers (meer dan 10,6 MPa) en straal-
pijpen daarvoor;
f. stuwstofopslagsystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van het
principe van capillaire insluiting of positieve uitstoting (d.w.z.
met flexibele brandstoftanks);2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 199
▼M3
g. injectoren voor vloeibare stuwstof, met individuele openingen
meteen diamet er van 0,381 mm of kleiner (een oppervlak van
1,14 × 10−3cm2of kleiner voor niet-cirkelvormige openingen)
die speciaal zijn ontworpen voor raketmotoren voor vloeibare
stuwstof;
h. uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof verbrandingskamers
of uit één stuk vervaardigde koolstof-koolstof uitlaatkegels met
een dichtheid van meer dan 1,4 g/cm3en een treksterkte van
meer dan 48 MPa.
9A007 Raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof met een of meer
van de volgende kenmerken:
N.B.: ZIE OOK 9A119.
a. totale impulsvermogen groter dan 1,1 MNs;
b. specifieke impuls van 2,4 kNs/kg of meer wanneer men de
straalpijpstroom laat uitzetten tot omgevingsomstandigheden op
zeeniveau bij een aangepaste druk in de verbrandingskamer van
7 MPa;
c. massabeladingstrap hoger dan 88 % en vaste brandstofbelading
groter dan 86 %;
d. een of meer van de onderdelen bedoeld in 9A008; of
e. isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof,
die direct met de motor zijn verbonden, ter verkrijging van een
'sterke mechanische verbinding' of een grenslaag die migratie
van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het
isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt.
Technische noot:
In 9A007.e wordt onder een 'sterke mechanische verbinding'
verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de
sterkte van de stuwstof.
9A008 Onderdelen, als hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor
raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof:
N.B.: ZIE OOK 9A108.
a. isolatiesystemen en systemen voor het binden van de stuwstof,
die gebruikmaken van een huls («liner»), ter verkrijging van
een 'sterke mechanische verbinding' of een grenslaag die
migratie van chemische stoffen tussen de vaste stuwstof en het
isolatiemateriaal van de motoromhulling voorkomt;
Technische noot:
In 9A008.a wordt onder een 'sterke mechanische verbinding'
verstaan een verbindingssterkte gelijk aan of groter dan de
sterkte van de stuwstof.
b. met vezels omwikkelde "composiete" motoromhullingen met
een diameter groter dan 0,61 m of met een 'structurele
rendementsverhouding (PV/W)' groter dan 25 km;
Technische noot:
De 'structurele rendementsverhouding (PV/W)' is de explosie-
druk (P) maal het vatvolume (V) gedeeld door het totale
gewicht van het drukvat (W).
c. straalpijpen met een stuwdruk groter dan 45 kN of met een
erosiesnelheid van de straalpijphals van minder dan 0,075 mm/
s;
d. regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van het
inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, geschikt voor:
1. bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5 ºC;
2. vectorhoekrotaties van 20º/s of meer, of
3. vectorhoekversnellingen van 40º/s2of meer.
9A009 Hybride raketvoortstuwingssystemen met:
N.B.: ZIE OOK 9A109 EN 9A119.
a. een totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs; of
b. een stuwkracht groter dan 220 kN bij vacuümcondities aan de
uitlaat.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 200
▼M3
9A010 Speciaal ontworpen onderdelen, systemen en structuren, voor
lanceervoertuigen of voortstuwingssystemen voor lanceervoer-
tuigen, of "ruimtevaartuigen", als hieronder vermeld:
N.B.: ZIE OOK 1A002 EN 9A110.
a. speciaal voor lanceervoertuigen ontworpen onderdelen en
structuren met een gewicht van meer dan 10 kg elk,
vervaardigd met gebruikmaking van metaal-"matrix" compo-
sieten, organische "composieten", keramische "matrix"
materialen of met legeringen versterkte materialen bedoeld in
1C007 of 1C010;
Noot: De gewichtsbeperking is niet relevant voor neuske-
gels.
b. speciaal voor in 9A005 tot en met 9A009 gespecificeerde
voortstuwingssystemen voor lanceervoertuigen ontworpen
onderdelen en structuren vervaardigd met gebruikmaking vanmetaal-"matrix" composieten, organische "composieten",
keramische "matrix" materialen of met legeringen versterkte
materialen bedoeld in 1C007 of 1C010;
c. structurele onderdelen en isolatiesystemen die speciaal zijn
ontworpen met het oog op de actieve regeling van de
dynamische respons of distortie van "ruimtevaartuig"-struc-
turen;
d. pulserende raketmotoren voor vloeibare stuwstof met een
verhouding stuwkracht/gewicht van 1 kN/kg of meer en een
responstijd (de tijd die vereist is om 90 % van de totale
opgegeven stuwkracht te bereiken na de start van de motor) van
minder dan 30 ms.
9A011 Stuwstraalmotoren («ramjet» en «scramjet») of motoren met een
gecombineerde thermodynamische cyclus, en speciaal daarvoor
ontworpen onderdelen.
N.B.: ZIE OOK 9A111 EN 9A118.
9A101 Lichtgewicht turbinestraal- en turbofanmotoren (met inbegrip van
turbocompoundmotoren) geschikt voor gebruik in "raketten",
anders dan bedoeld in 9A001, zoals:
a. motoren met beide onderstaande kenmerken:
1. maximale stuwkracht groter dan 1 000 N (in niet-geïnstal-
leerde toestand) met uitzondering van voor civiele
toepassingen gecertificeerde motoren met een maximale
stuwkracht groter dan 8 890 N (in niet geïnstalleerde
toestand);
en
2. specifiek brandstofverbruik 0,13 kg/N/hr of minder (stati-
sche standaardomstandigheden op zeeniveau); of
b. motoren die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik in
"raketten".
9A104 Sonderingsraketten met een bereik van minstens 300 km.
N.B.: ZIE OOK 9A004.
9A105 Raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 9A119.
a. raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in
"raketten", anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal
impulsvermogen van 1,1 MNs of meer;
b. raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in
complete raketsystemen of onbemande luchtvoertuigen met een
bereik van minstens 300 km, anders dan bedoeld in 9A005 of
9A105.a, met een totaal impulsvermogen van 0,841 MNs of
meer.
9A106 Systemen of onderdelen, anders dan bedoeld in 9A006, geschikt
voor gebruik in "raketten", als hieronder, speciaal ontworpen voor
raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof:
a. ablatieve bekledingen voor voortstuwings- of verbrandings-
kamers;
b. straalpijpen voor raketten;
c. subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 201
▼M3
Technische noot:
Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen
zoals bedoeld in 9A106.c, zijn:
1. buigzame straalpijp;
2. vloeistof- of secundaire gasinjectie;
3. beweegbare motoren of straalpijpen;
4. afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen;
of
5. het gebruik van stuwstelvlakken.
d. regelsystemen voor vloeibare en "slurry"-stuwstof (met inbe-
grip van oxidatiemiddelen), en speciaal daarvoor ontwikkelde
onderdelen, die ontworpen of aangepast zijn om te kunnen
werken in trillingsomstandigheden van meer dan 10 g rms
tussen 20 Hz en 2000 Hz.
Noot: De enige servokleppen en pompen bedoeld in 9A106.d
zijn:
a. servokleppen ontworpen voor doorstroomsnel-
heden van 24 liter per minuut of meer, bij een
absolute druk van 7MPa of meer, en met een
responstijd van minder dan 100 ms;
b. pompen, voor vloeibare stuwstoffen, met assnel-
heden van 8 000 toeren per minuut of meer, of met
uitgangsdrukken van 7MPa of meer.
9A107 Raketmotoren voor vaste stuwstof, geschikt voor gebruik in
complete raketsystemen of onbemande luchtvoertuigen met een
bereik van 300 km, anders dan bedoeld in 9A007, met een totaal
impulsvermogen van 0,841 MNs of meer.
N.B.: ZIE OOK 9A119.
9A108 Onderdelen, anders dan bedoeld in 9A008, geschiktvoor gebruik
in "raketten", als hieronder, speciaal ontworpen voor raketvoor-
tstuwingssystemen met vaste stuwstof:
a. raketmotoromhullingen, "binnenbekleding" («lining») en
"isolatie" daarvoor;
b. straalpijpen voor raketten;
c. subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting.
Technische noot:
Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen
zoals bedoeld in 9A108.c, zijn:
1. buigzame straalpijp;
2. vloeistof- of secundaire gasinjectie;
3. beweegbare motoren of straalpijpen;
4. afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen;
of
5. het gebruik van stuwstelvlakken.
9A109 Hybride raketmotoren, geschikt voor gebruik in "raketten", anders
dan bedoeld in 9A009, en speciaal daarvoor ontworpen onder-
delen.
N.B.: ZIE OOK 9A119.
9A110 Composiete structuren, laminaten en daarvan vervaardigde
producten, anders dan bedoeld in 9A010, speciaal bestemd voor
gebruik in ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonde-
ringsraketten bedoeld in 9A104 of subsystemen bedoeld in 9A005,
9A007, 9A105.a, 9A106 tot en met 9A108, 9A116 of 9A119.
N.B.: ZIE OOK 1A002.
9A111 Pulserende straalmotoren, geschikt voor gebruik in "raketten" en
speciaal ontworpen onderdelen daarvoor.
N.B.: ZIE OOK 9A011 EN 9A118.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 202
▼M3
9A115 Lanceerinrichtingen, ontworpen of aangepast voor ruimtelanceer-
voertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in
9A104, als hieronder:
a. apparatuur en toestellen voor het hanteren, regelen, ontsteken of
lanceren;
b. voertuigen voor het transporteren, hanteren, regelen, ontsteken
of lanceren.
9A116 Terugkeervoertuigen, geschikt voor gebruik in "raketten", en
apparatuur speciaal ontworpen of aangepast daarvoor, zoals:
a. terugkeervoertuigen;
b. hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische
of ablatieve materialen;
c. koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van licht-
gewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit;
d. elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeer-
voertuigen.
9A117 Systemen voor het scheiden of afwerpen van rakettrappen en
verbindingsstukken tussen rakettrappen, geschikt voor gebruik in
"raketten".
9A118 Apparaten voor het regelen van de verbranding van stuwstof voor
motoren geschikt voor gebruik in "raketten" zoals bedoeld in
9A011 of 9A111.
9A119 Afzonderlijke rakettrappen, geschikt voor gebruik in raketten,
anders dan bedoeld in 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 en
9A109.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 203
▼M3
9B Test-, inspectie- en productieapparatuur
9B001 Uitrusting, gereedschappen en klemmen, speciaal ontworpen voor
het vervaardigen, van gasturbinebladen of -schoepen of gegoten
schoepuiteindeversterkingen, als hieronder:
a. uitrusting voor het gieten met gericht stollen of het gieten in
eenkristalvorm;
b. keramische kernen en mantels.
9B002 Gekoppelde (onvertraagde («real time»)) regelsystemen, instru-
mentatie (met inbegrip van sensoren) of geautomatiseerde
apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens,
speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van gasturbinemo-
toren, samenstellingen of onderdelen welke technologieën bevatten
die zijn bedoeld in 9E003.a.
9B003 Apparatuur speciaal ontworpen voor de "productie" of het testen
van gasturbineborstelafsluitingen ontworpen om te werken bij een
vleugeltipsnelheid groter dan 335 m/s en temperaturen boven
773 K (500 ºC), en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen of
toebehoren.
9B004 Gereedschappen, stempels of klemmen voor het maken van vaste-
fase-verbindingen van bladen waarbij hetaërodynamische vlak
doorloopt tot aan de schijf voor gasturbines, uit "superlegeringen",
titaan of intermetallieke materialen, als omschreven in 9E003.a.3.
of 9E003.a.6.
9B005 Gekoppelde (onvertraagde ("real time")) regelsystemen, instru-
mentatie (met inbegrip van sensoren) en geautomatiseerde
apparatuur voor het verzamelen en verwerken van gegevens,
speciaal ontworpen voor gebruik met onderstaande windtunnels en
toestellen:
N.B.: ZIE OOK 9B105.
a. windtunnels, ontworpen voor snelheden van Mach 1,2 of meer,
met uitzondering van windtunnels die speciaal zijn ontworpen
voor onderwijsdoeleinden, met een 'grootte van het meetge-deelte' (dwarsgemeten) kleiner dan 250 mm;
Technische noot:
Onder 'grootte van het meetgedeelte' wordt in 9B005.a, al naar
gelang van de vorm, verstaan de diameter van een cirkel, de
zijde van een vierkant of de langste zijde van een rechthoek,
gemeten waar het meetgedeelte het breedst is.
b. toestellen voor het nabootsen van omstandigheden welke
optreden bij stromingssnelheden van meer dan Mach 5, met
inbegrip van «hot shot-tunnels», plasmaboogtunnels, schok-
buizen, schoktunnels, gastunnels en gaskanonnen; of
c. windtunnels en inrichtingen, niet zijnde tweedimensionale
secties, die stromingen kunnen nabootsen met een Reynolds-
getal hoger dan 25 × 106.
9B006 Apparatuur voor het testen door middel van akoestische trillingen,
geschiktvoor hetvoort brengen van een geluidsdrukniveau van
160 dB of meer (referentiestandaard: 20 µPa) met een gespecifi-
ceerd uitgangsvermogen van 4 kW of meer bij een temperatuur
van de testruimte hoger dan 1 273 K (1 000 ºC), en speciaal
daarvoor ontworpen kwartsverwarmingselementen.
N.B.: ZIE OOK 9B106.
9B007 Apparatuur, speciaal ontworpen voor het inspecteren van raket-
motoren op de afwezigheid van defecten met gebruikmaking van
technieken die het materiaal niet beschadigen (NDT-technieken),
anders dan analyse door middel van röntgenstraling in een vlak of
elementaire fysische of chemische analyse.
9B008 Omzetters, speciaal ontworpen voor het direct meten van de
oppervlaktewrijving van de teststroming bij een stagnatietempera-
tuur van meer dan 833 K (560 ºC).
9B009 Gereedschappen, speciaal ontworpen voor de "productie", door
middel van poedermetallurgie, van rotoronderdelen voor turbine-
motoren geschikt om te werken bij een druk gelijk aan of hoger
dan 60 % van de breukspanning en bij een metaaltemperatuur van
873 K (600 ºC) of hoger.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 204
▼M3
9B105 Windtunnels voor snelheden van Mach 0,9 of meer, geschikt voor
"raketten" en subsystemen daarvan.
N.B.: ZIE OOK 9B005.
9B106 Klimaatkamers en echovrije kamers, als hieronder:
a. klimaatkamers, geschikt om de volgende vliegomstandigheden
te simuleren:
1. een trildruk van 10 g rms of meer bij frequenties tussen
20 Hz en 2 000 Hz en bij een stootkracht van 5 kN of meer;
en
2. een vlieghoogte van 15 000 m of meer; of
3. een temperatuurbereik van minimaal 223 K (− 50 ºC) tot
boven 398 K (125 ºC);
b. echovrije kamers, geschiktom de volgende vliegomst andig-
heden te simuleren:
1. een akoestische test met een algeheel geluidsdrukniveau van
140 dB of meer (referentie: 20 µPa), of die een opgegeven
vermogen van 4 kW of meer bezit; en
2. een vlieghoogte van 15 000 m of meer; of
3. een temperatuurbereik van minimaal 223 K (− 50 ºC) tot
boven 398 K (125 ºC).
9B115 Speciaal ontworpen "productieapparatuur" voor de systemen,
subsystemen en onderdelen in 9A005 tot en met 9A009, 9A011,
9A101, 9A105 tot en met 9A109, 9A111 of 9A116 tot en met
9A119.
9B116 Speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor de ruimtelanceer-
voertuigen bedoeld in 9A004, of systemen, subsystemen en
onderdelen bedoeld in 9A005 tot en met 9A009, 9A011, 9A101,
9A104 tot en met 9A109, 9A111 of 9A116 tot en met 9A119.
9B117 Testbanken en testopstellingen voor het testen van raketten of
raketmotoren met vaste of vloeibare stuwstof:
a. metmeer dan 90 kN st uwvermogen; of
b. met de mogelijkheid gelijktijdig de drie axiale stuwstraalvec-
toren te meten.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 205
▼M3
9C Materialen
9C110 Methars geïmpregneerde vezels («prepregs») en metmet aal
beklede vezels («preforms») daarvoor, voor composiete structuren,
laminaten en daarvan vervaardigde producten als bedoeld in
9A110, met een organische of metaalmatrix versterkt met stapel-
of continuvezels met een "specifieke treksterkte" van meer dan
7,62 × 104m en een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106
m.
N.B.: ZIE OOK 1C010 EN 1C210.
Noot: De enige met hars geïmpregneerde vezels («prepregs»)
bedoeld in 9C110 zijn die welke harsen gebruiken met
een glastemperatuur (Tg), na uitharden, van meer dan
418 K (145 ºC) zoals bepaald met ASTM D 4065 of een
gelijkwaardige methode.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 206
▼M3
9D Programmatuur
9D001 "Programmatuur" die speciaal ontworpen of gewijzigd is voor de
"ontwikkeling" van apparatuur of "technologie" bedoeld in 9A, 9B
of 9E003.
9D002 "Programmatuur" die speciaal ontworpen of gewijzigd is voor de
"productie" van apparatuur bedoeld in 9A of 9B.
9D003 "Programmatuur" die noodzakelijk is voor het "gebruik" van
"digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelf-
standig in de motorregeling kan ingrijpen" ("FADEC"), voor
voortstuwingssystemen bedoeld in 9A of apparatuur bedoeld in
9B, zoals:
a. "programmatuur" in digitale elektronische regelapparatuur voor
voortstuwingssystemen, testvoorzieningen voor lucht- en ruim-
tevaart of testvoorzieningen voor vliegtuigmotoren welke lucht
aanzuigen;
b. foutbestendige "programmatuur", gebruikt in "FADEC"-
systemen voor voortstuwingssystemen en daarbij behorende
testvoorzieningen.
9D004 Overige "programmatuur", als hieronder:
a. twee- of driedimensionale viskeuze («viscous») "programma-
tuur" die is gevalideerd met windtunnel- of vluchttestgegevens
die noodzakelijk zijn voor hetnauwkeurig modelleren van de
gasstroming in de motor;
b. "programmatuur" voor het testen van gasturbinemotoren voor
vliegtuigen en samenstellingen of onderdelen daarvan, speciaal
ontworpen voor het onvertraagd («real time») vergaren,
bewerken en analyseren van gegevens en geschiktvoor een
teruggekoppelde regeling, met inbegrip van het dynamisch
aanpassen van te testen producten of de testomstandigheden
tijdens het testen;
c. "programmatuur", speciaal ontworpen voor de besturing van het
gieten met gericht stollen of éénkristalgieten;
d. "programmatuur" in "broncode", "objectcode" of machinetaal
die noodzakelijk is voor het "gebruik" van actieve compensatie-
systemen voor de regeling van de rotorbladtipspeling.
Noot: Niet bedoeld wordt in 9D004 "programmatuur" die is
ingebouwd in niet onder embargo vallende appara-
tuur of die noodzakelijk is voor
onderhoudswerkzaamheden in verband met ijking,
reparatie of modernisering van het actief compense-
rende spelingsregelsysteem.
9D101 Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor het
"gebruik" van goederen bedoeld in 9B105, 9B106, 9B116 of
9B117.
9D103 Speciaal ontworpen "programmatuur" voor het modelleren, het
simuleren of de ontwerpintegratie van de ruimtelanceervoertuigen
bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten bedoeld in 9A104, of de
subsystemen bedoeld in 9A005, 9A007, 9A105.a, 9A106, 9A108,
9A116 of 9A119.
Noot: "Programmatuur" bedoeld in 9D103 blijft bedoeld, ook
wanneer deze wordt gecombineerd met speciaal
ontworpen apparatuur bedoeld in 4A102.
9D104 Speciaal ontworpen of aangepaste "programmatuur" voor het
"gebruik" van goederen bedoeld in 9A001, 9A005, 9A006.d,
9A006.g, 9A007.a, 9A008.d, 9A009.a, 9A010.d, 9A011, 9A101,
9A105, 9A106.c, 9A106.d, 9A107, 9A108.c, 9A109, 9A111,
9A115.a, 9A116.d, 9A117 en 9A118.
9D105 "Programmatuur" die de functies van meer dan één subsysteem
coördineerten die speciaal is ont worpen of aangepastvoor het
"gebruik" in ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonde-
ringsraketten bedoeld in 9A104.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 207
▼M3
9E Technologie
Noot: "Technologie" voor "ontwikkeling" of "productie" als
bedoeld in 9E001 tot en met 9E003 voor gasturbinemo-
toren blijft bedoeld ook wanneer deze wordt gebruikt als
"gebruiks"-technologie ten behoeve van reparatie,
aanbrengen van nieuwe onderdelen en revisie. Niet
bedoeld zijn technische gegevens, tekeningen of docu-
mentatie voor onderhoudswerkzaamheden die direct
verband houden met ijking, het verwijderen of vervangen
van beschadigde of onbruikbare, uit het assortiment
vervangbare, eenheden, de vervanging van gehele
motoren of motorelementen daaronder begrepen.
9E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in
9A001.c, 9A004 tot en met 9A011, 9B of 9D.
9E002 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "productie" van apparatuur bedoeld in 9A001.c, 9A004 tot en
met9A011 of 9B.
N.B.: Zie 1E002.f voor "technologie" voor de reparatie van in
de lijst bedoelde constructies, laminaten of materialen.
9E003 Overige "technologie", als hieronder:
a. "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling" of
"productie" van de volgende gasturbinemotoronderdelen of -
systemen:
1. gasturbinebladen of schoepen of schoepuiteindeverster-
kingen, gemaakt van door middel van gerichte stolling
vervaardigde of monokristallijne legeringen met (in de 001
Miller Index Direction) een levensduur tot spanningsbreuk
optreedt van meer dan 400 uur bij 1 273 K (1 000 ºC) bij
een spanning van 200 MPa, gebaseerd op de gemiddelde
waarden van de eigenschap;
2. branders metmeerdere koppen die werken bij een
gemiddelde uitlaattemperatuur hoger dan 1 813 K
(1 540 ºC), of branders die thermisch ontkoppelde bekle-
ding van de verbrandingskamer, nietmet allieke bekleding
of niet metallieke omhulsels bevatten;
3. onderdelen, vervaardigd van een of meer van de volgende
materialen:
a. organische "composiete" materialen, ontworpen voor
werktemperaturen hoger dan 588 K (315 ºC);
b. metaal-"matrix" "composiete" materialen, keramische-
"matrix"-materialen of intermetallische of met lege-ringen versterkte materialen, vermeld in 1C007;
of
c. "composiet" materiaal, bedoeld in 1C010 en vervaar-
digd metharsen bedoeld in 1C008.
4. ongekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindever-
sterkingen of andere onderdelen, ontworpen om te werken
bij een gastrajecttemperatuur van 1 323 K (1 050 ºC) of
hoger;
5. gekoelde turbinebladen, -schoepen, schoepuiteindeverster-
kingen, anders dan bedoeld in 9E003.a.1, blootgesteld aan
een gastrajecttemperatuur van 1 643 K (1 370 ºC) of hoger;
6. bladen waarbij hetaërodynamische vlak doorlooptt otaan
de schijf gemaaktdoor middel van vast e-faseverbinding;
7. gasturbinemotoronderdelen waarbij gebruik wordt gemaakt
van "technologie" voor "diffusielassen" vermeld in
2E003.b;
8. schadebestendige roterende onderdelen van gasturbinemo-
toren waarbij gebruik wordt gemaakt van
poedermetallurgiemetalen bedoeld in 1C002.b;
9. "FADEC" voor gasturbinemotoren en motoren met gecom-
bineerde thermodynamische cyclus en hun aanverwante
diagnostische onderdelen, sensoren en speciaal daarvoor
ontworpen onderdelen;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 208
▼M3
10. instelbare stromingstrajectgeometrie en daarmee verbonden
regelsystemen voor:
a. gasgeneratorturbines;
b. ventilator/vermogensturbines;
c. straalpijpmondstukken;
Noot 1: Instelbare stromingstrajectgeometrie en
daarmee verbonden regelsystemen als bedoeld
in 9E003.a.10 omvatten geen inlaatribben,
verstelbare ventilatorbladen, verstelbare stators
of aftapkleppen voor compressors.
Noot 2: Niet bedoeld wordt in 9E003.a.10 "ontwikke-
lings-" of "productie"-"technologie" voor
instelbare stromingstrajectgeometrie voor
tegengestelde stuwkracht.
11. holle ventilatorbladen met brede koorde zonder tussen-
steunen;
b. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de
"productie" van:
1. vliegtuigmodellen voor windtunnels die zijn uitgerust met
niet naar buiten uitstekende sensoren, die gegevens van de
sensoren kunnen overbrengen naar hetgegevensverzamel-
systeem; of
2. "composiete" schroefbladen of propellers, geschikt voor het
absorberen van meer dan 2 000 kW bij vluchtsnelheden
hoger dan Mach 0,55;
c. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de
"productie" van gasturbinemotoronderdelen met gebruikmaking
van "laser"-, waterstraal- of ECM/EDM-procédés voor het
boren van gaatjes met één of meer van de volgende reeksen
kenmerken:
1. alle volgende kenmerken:
a. een diepte van meer dan viermaal de gatdiameter;
b. een diameter van minder dan 0,76 mm; en
c. een invalshoek gelijk aan of kleiner dan 25 º; of
2. alle volgende kenmerken:
a. een diepte van meer dan vijfmaal de gatdiameter;
b. een diameter van minder dan 0,4 mm, en
c. een invalshoek groter dan 25 º;
Technische noot:
Voor het doel van 9E003.c wordt de invalshoek gemeten
aan een vlak dat het aërodynamische oppervlak raakt op
het punt waar de gatas het aërodynamische oppervlak
binnengaat.
d. "technologie" "noodzakelijk" voor de "productie" van krachto-
verbrengingssystemen voor hefschroefvliegtuigen of
krachtoverbrengingssystemen voor verticaal opstijgende "vlieg-
tuigen" (met gekantelde rotor of vleugel);
e. "technologie" voor de "ontwikkeling" of de "productie" van
voortstuwingssystemen voor grondvoertuigen op basis van
dieselzuigermotoren met alle volgende kenmerken:
1. een inwendige ruimte van 1,2 m3of minder;
2. een totaal uitgaand vermogen van meer dan 750 kW
gebaseerd op Richtlijn 80/1269/EEG, ISO 2534 of een
nationaal equivalent daarvan; en
3. een vermogensdichtheid van meer dan 700 kW/m3'inwen-
dige ruimte';
Technische noot::
'Inwendige ruimte' in 9E003.e.1 is het product van drie
loodrecht op elkaar staande afmetingen, als volgt gemeten:
lengte: de lengte van de krukas van voorflens tot vlieg-
wielvlak;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 209
▼M3
breedte: de grootste van de volgende drie afmetingen:
a. de buitenmaat van klepdeksel tot klepdeksel;
b. de maat van de buitenranden van de cilinder-
koppen;of
c. de diameter van de vliegwielbehuizing;
hoogte: de grootste van de volgende twee maten:
a. de afstand van de middellijn van de krukas tot aan
het bovenvlak van het klepdeksel (of cilinderkop)
plus tweemaal de slaghoogte; of
b. de diameter van de vliegwielbehuizing.
f. "technologie" "noodzakelijk" voor de "productie" van speciaal
voor dieselmotoren met hoog vermogen ontworpen onderdelen,
als hieronder:
1. "technologie" "noodzakelijk" voor de "productie" van
motorsystemen met alle volgende onderdelen, met gebruik-
making van in 1C007 vermelde keramische materialen:
a. cilinderwanden;
b. zuigers;
c. cilinderkoppen; en
d. een of meer andere onderdelen (metinbegrip van
uitlaatpoorten, turbocompressors, klepgeleiding, klepsa-
menstellingen of geïsoleerde brandstofinjectiesystemen);
2. "technologie" "noodzakelijk" voor de "productie" van
turbocompressorsystemen, met eentrapscompressors met
alle volgende kenmerken:
a. een werkdrukverhouding van 4:1 of hoger;
b. een massastroom van 30 tot 130 kg per minuut; en
c. uitgerust met variabele doorstroomoppervlakte in de
compressor- of turbinesecties;
3. "technologie" "noodzakelijk" voor de "productie" van
brandstofinjectiesystemen met speciaal ontworpen mogelijk-
heid om met verschillende brandstoffen te werken (bv.
dieselolie of straalvliegtuigbrandstof) over een viscositeits-
gebietvan dieselolie (2,5 cStbij 310,8 K (37,8 ºC) t ot
benzine (0,5 cStbij 310,8 K (37,8 ºC)), metalle volgende
kenmerken:
a. inspuithoeveelheid meer dan 230 mm3per inspuiting per
cilinder; en
b. met een speciaal ontworpen elektronische besturing voor
het automatisch omschakelen van de reulateurspecifica-
ties afhankelijk van de brandstofeigenschappen ter
verkrijging van gelijke draaimomenteigenschappen,
door middel van geschikte sensoren;
g. "technologie" "noodzakelijk" voor de "ontwikkeling" of de
"productie" van dieselmotoren met hoog vermogen voor vaste,
gas- of vloeistoffilm-cilinderwandsmering (of combinaties
daarvan), welke een werktemperatuur toelaat van meer dan
723 K (450 ºC), gemeten op de cilinderwand aan het eind van
de slag van de bovenste zuigerveer.
Technische noot:
Onder dieselmotoren met hoog vermogen worden verstaan
dieselmotoren met een gemiddelde effectieve remdruk van
1,8 MPa of meer bij een snelheid van 2 300 omwentelingen per
minuut, mits de gespecificeerde snelheid 2 300 omwentelingen
per minuut is of meer.
9E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling" of de "productie" van goederen bedoeld in
9A101, 9A104 tot en met 9A111 of 9A115 tot en met 9A119.
9E102 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
het "gebruik" van ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004, of
goederen bedoeld in 9A005 tot en met 9A011, 9A101, 9A104 tot
en met9A111, 9A115 t oten met9A119, 9B105, 9B106, 9B115,
9B116, 9B117, 9D101 of 9D103.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 210
▼M3
BIJLAGE II
COMMUNAUTAIRE ALGEMENE UITVOERVERGUNNING Nr. EU001
(bedoeld in artikel 6 van Verordening (EG) nr. 1334/2000)
Afgevende instantie: Europese Gemeenschap
Deel 1
Deze exportvergunning geldt voor de volgende goederen:Alle goederen voor tweeërlei gebruik die zijn vermeld onder een post van bijlage
I bij deze verordening, metuit zondering van de in deel 2 genoemde.
Deel 2
— Alle in bijlage IV genoemde goederen.
— 0C001 "Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm
van metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en
elk materiaal dat een of meer van de voorgaande stoffen
bevat.
— 0C002 "Speciale splijtstoffen" andere dan die welke in bijlage IV
zijn vermeld.
— 0D001 "Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de
"ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen
bedoeld in categorie 0, voorzover betrekking hebbend op
rubriek 0C001 of goederen van rubriek 0C002 die nietzijn
opgenomen in bijlage IV.
— 0E001 "Techologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot
voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van
in categorie 0 bedoelde goederen, voorzover betrekking
hebbend op rubriek 0C001 of op goederen van rubriek 0C002
die nietzijn opgenomen in bijlage IV.
— 1A102 Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-
koolstof-componenten bestemd voor ruimte-lanceervoer-
tuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in
9A104.
— 7E104 "Technologie" voor het integreren van vluchtregel-, navi-
gatie- en voortstuwingsregelgegevens in een vluchtbeheers-
systeem om de baan van raketten te optimaliseren.
— 9A009.a Hybride raketvoortstuwingssystemen met een totaal impuls-
vermogen groter dan 1,1 MNs.
— 9A117 Systemen voor het scheiden of afwerpen van rakettrappen en
verbindingsstukken tussen rakettrappen, geschikt voor
gebruik in "raketten".
Deel 3
Deze exportvergunning geldt in de gehele Gemeenschap voor export naar
onderstaande bestemmingen:
Australië
Canada
HongarijeJapanNieuw-Zeeland
Noorwegen
PolenTsjechiëVerenigde Staten van AmerikaZwitserland2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 211
▼M3
Noot: De delen 2 en 3 kunnen uitsluitend worden gewijzigd overeenkomstig de
verplichtingen en verbintenissen terzake waarmee iedere lidstaat als
partij bij de desbetreffende internationale regelingen inzake non-
proliferatie en exportcontrole heeft ingestemd en overeenkomstig de
belangen van de openbare veiligheid van iedere lidstaat zoals die tot
uiting komen in zijn verantwoordelijkheid om te beslissen over
aanvragen om exportvergunningen voor producten voor tweeërlei
gebruik krachtens artikel 6, lid 2, van deze verordening.
Voorwaarden en eisen voor het gebruik van deze vergunning
1. Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt, indien de exporteur
door de bevoegde instanties van de lidstaat waar hij is gevestigd, ervan in
kennis is gesteld dat de producten in kwestie geheel of gedeeltelijk bestemd
zijn of kunnen zijn voor gebruik in verband met de ontwikkeling, de productie,
de behandeling, de bediening, hetonderhoud, de opslag, de opsporing, de
herkenning of de verspreiding van chemische, biologische of nucleaire wapens
of andere nucleaire explosiemiddelen, of voor de ontwikkeling, de productie,
het onderhoud of de opslag van raketten die dergelijke wapens naar hun doel
kunnen voere ņof indien de exporteur er kennis van draagt dat de betrokken
producten voor een dergelijk gebruik zijn bestemd.
2. Deze algemene vergunning mag niet worden gebruikt, indien de exporteur
door de bevoegde instanties van de lidstaat waar hij is gevestigd, is
meegedeeld dat de producten in kwestie bestemd zijn of kunnen zijn voor
militair eindgebruik zoals gedefinieerd in artikel 4, lid 2, van deze verordening
in een land waarvoor een wapenembargo geldtvan de EU, de OVSE of de VN,
of indien de exporteur er kennis van draagt dat de betrokken producten voor
een dergelijk gebruik bestemd zijn.
3. Deze algemene vergunning mag nietworden gebruiktindien de bet rokken
producten worden uitgevoerd naar een douanevrije zone of een vrij entrepot,
gelegen in een onder deze vergunning vallende bestemming.
4. De aan het gebruik van deze algemene vergunning verbonden registratie- en
meldingseisen, en de aanvullende informatie over krachtens deze vergunning
uitgevoerde producten die kan worden vereist door de lidstaat waaruit ze
worden uitgevoerd, worden door de lidstaten bepaald. Deze eisen moeten
gebaseerd zijn op de eisen die bepaald zijn voor hetgebruik van algemene
uitvoervergunningen die worden verstrekt door de lidstaten die dergelijke
vergunningen afgeven.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 212
▼M3
BIJLAGE IIIa
(Modelformulier)
(Bedoeld in artikel 10, lid 1)
2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 213
▼M3
2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 214
▼M3
2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 215
▼M3
BIJLAGE IIIb
PUNTEN DIE IN ALLE BEKENDMAKINGEN VAN ALGEMENE
UITVOERVERGUNNINGEN MOETEN WORDEN VERMELD
(Bedoeld in artikel 10, lid 3)
1. Titel van de algemene exportvergunning
2. Instantie die de vergunning afgeeft3. Geldigheid in de EG. Onderstaande tekst dient te worden gebruikt: "Dit is een
algemene uitvoervergunning krachtens artikel 6, lid 2, van Verordening (EG)
nr. 1334/2000. Deze vergunning is, overeenkomstig artikel 6, lid 2, van die
verordening, geldig voor alle lidstaten van de Europese Gemeenschap."
4. Betrokken producten: onderstaande inleidende tekst dient te worden gebruikt:
"Deze exportvergunning geldt voor de volgende producten:"
5. Betrokken bestemmingen: onderstaande inleidende tekst dient te worden
gebruikt: "Deze exportvergunning geldt voor export naar de volgende
bestemmingen:"
6. Voorwaarden en vereisten.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 216
▼M3
BIJLAGE IV
(Lijst bedoeld in artikel 21, lid 1, van Verordening (EG) nr. 1334/2000)
De punten bevatten niet altijd de volledige omschrijving van de post en de
noten die erop betrekking hebben in bijlage I (1). Alleen bijlage I bevat de
volledige omschrijving van de posten.
Vermelding van een product in deze bijlage laat de toepassing van de
bepalingen betreffende massaproducten in bijlage I onverlet.
DEEL I
(Mogelijkheid van een nationale algemene vergunning voor intracommu-
nautair handelsverkeer)
Producten voor «stealth»-technologie
1C001 Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het
absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek gelei-
dende polymeren.
N.B.: ZIE OOK 1C101.
1C101 Materialen of inrichtingen voor het beperken van de zichtbaarheid
zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische
beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor
gebruik in "raketten" en subsystemen daarvan.
1D103 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor de analyse van de
beperking van de waarneembaarheid van bv. radarreflectie,
ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld.
1E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende het "gebruik" van goederen bedoeld in 1C101 of
1D103.
1E102 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur" bedoeld in
1D103.
6B008 Gepulseerde radarsystemen voor het meten van de dwars-
doorsnede meteen zendimpulsduur van 100 ns of minder en
speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.
N.B.: ZIE OOK 6B108.
6B108 Systemen, speciaal ontworpen voor radardwarsdoorsnedemeting,
te gebruiken voor "raketten" en subsystemen daarvan.
Producten voor communautaire strategische controle
1C239 Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst militaire
goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan
2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldicht-
heid groter dan 1,8 g/cm3en een detonatiesnelheid groter dan
8 000 m/s.
3A002.g.2. Atomaire frequentiestandaarden met een van de volgende
kenmerken:
2. "gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte".
3A229 Ontstekingstoestellen en gelijkwaardige pulsgeneratoren met
hoge stroomsterkte, als hieronder …
N.B.: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.
3A232 Detonators en meervoudige ontstekingssystemen, als hieronder …
N.B.: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN.
6A001 Akoestische apparatuur, beperkt tot:
6A001.a.1.b. systemen voor de opsporing of plaatsbepaling van objecten, met
een of meer van de volgende kenmerken:
1. een zendfrequentie lager dan 5 kHz ;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 217
(1) De verschillen in formulering en werkingssfeer tussen de bijlagen I en IV zijn
gecursiveerd en vetgedrukt.
▼M3
2. een geluidsdrukniveau hoger dan 224 dB (referentie: 1 micro-
pascal op 1 m) voor apparatuur met een werkfrequentie in het
gebied van 5 tot en met 24kHz ;
3. een geluidsdrukniveau …;4. metvorming van bundels …;
5. ontworpen voor …;
of
6. ontworpen om een druk te weerstaan …;
6A001.a.2.a.1. Hydrofoons … metdoorlopende …
6A001.a.2.a.2. Hydrofoons … meteen of meer …
6A001.a.2.a.5. Hydrofoons … ontworpen om …6A001.a.2.b. Gesleepte samenstellen van …
6A001.a.2.c. Verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor tijdgebonden
(«real-time») toepassing met gesleepte samenstellen van regel-
matig gerangschikte akoestische hydrofoons («towed acoustic
hydrophone arrays»), met"t oegankelijkheid van hetprogramma
voor de gebruiker" en verwerking en correlatie van tijd- of
frequentiedomeinen, met inbegrip van spectrumanalyse, digitale
filtering en bundelvorming met toepassing van snelle Fourier-
transformatie («Fast Fourier transform») of andere herleidingen of
processen;
6A001.a.2.d. Richtingsensoren …6A001.a.2.e. Bodemkabelsystemen met een van de volgende kenmerken:
1. metingebouwde hydrofoons …;
of
2. metingebouwde mult iplex-verzendingsmodules …;
6A001.a.2.f. Verwerkingsapparatuur, speciaal ontworpen voor tijdgebonden
(«real-time») toepassing metbodemkabelsyst emen, met"t oegan-
kelijkheid van hetprogramma voor de gebruiker" en verwerking
en correlatie van tijd- of frequentiedomeinen, met inbegrip van
spectrumanalyse, digitale filtering en bundelvorming met toepas-
sing van snelle Fourier-transformatie of andere herleidingen ofprocessen.
6D003.a. "Programmatuur" voor de "tijdgebonden verwerking" van akoes-
tische gegevens;
8A002.o.3 Geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een
waterverplaatsing van 1 000 ton of meer, zoals:
a. geluiddempingssystemen die dempen bij frequenties lager dan
500 Hz en bestaan uit samengestelde akoestische ophang-
inrichtingen voor het akoestisch isoleren van dieselmotoren,
dieselaggregaten, gasturbines, gasturbineaggregaten, voortstu-
wingsmotoren of tandwieloverbrengingen voor voortstuwing,
speciaal ontworpen voor geluids- of trillingsisolatie, met een
dempende massa van meer dan 30 % van de te monteren
apparatuur;
b. actieve geluiddempings- of uitdovingssystemen of magneti-
sche lagers, speciaal ontworpen voor
krachtoverbrengingssystemen, die elektronische regelsystemen
bevatten geschikt voor actieve demping van de trillingen van
de apparatuur door het voortbrengen van geluid of trilling
onderdrukkende signalen die directnaar de bron worden
teruggekoppeld.
8A002.p. Waterstraal («pumpjet»)-voortstuwingssystemen met een
vermogen van meer dan 2,5 MW, welke gebruikmaken van
uitlopende straalbuizen en geleide-schoepentechnieken om de
voortstuwingsefficiëntie te verbeteren en het onderwatergeluid
veroorzaakt door de voortstuwing te verminderen.
8D002 Specifieke "programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast
voor de "ontwikkeling", de "productie", het herstel, de revisie of
hetopknappen (opnieuw machinaal bewerken) van schroeven die
speciaal zijn ontworpen om onderwatergeluid te beperken.
8E002.a. "Technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie", het
herstel, de revisie of het opknappen (opnieuw machinaal
bewerken) van schroeven die speciaal zijn ontworpen om
onderwatergeluid te beperken.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 218
▼M3
Producten voor communautaire strategische controle — cryptografie —
categorie 5, deel 2
5A002.a.2. Apparatuur ontworpen of aangepast voor het uitvoeren van
cryptanalytische functies.
5D002.c.1. Uitsluitend programmatuur die de kenmerken heeft of de functies
uitoefent of simuleert van de apparatuur bedoeld in 5A002.a.2.
5E002 Uitsluitend "technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie"
of het"gebruik" van de in 5A002.a.2. of 5D002.c.1. bedoelde
goederen.
Producten voor MTCR-technologie
7A117 "Geleidingssystemen" geschikt voor gebruik in "raketten" met een
systeemnauwkeurigheid van 3,33 % of minder van het bereik (een
"CEP" («circle of equal probability») van 10 km of minder bij een
bereik van 300 km), uitgezonderd "geleidingssystemen"
ontworpen voor raketten met een bereik van minder dan
300 km of voor bemande luchtvaartuigen .
7B001 Test-, ijk- of uitrichtapparatuur, speciaal ontworpen voor
apparatuur bedoeld in 7A117 hierboven.
Noot: 7B001 is niet van toepassing op test-, ijk- of uitricht-
apparatuur voor onderhoudsniveau I of
onderhoudsniveau II.
7B003 Apparatuur, speciaal ontworpen voor de "productie" van appara-
tuur bedoeld in 7A117 hierboven.
7B103 "Productiefaciliteiten", speciaal ontworpen voor apparatuur
bedoeld in 7A117 hierboven.
7D101 "Programmatuur", speciaal ontworpen voor vliegtuigelektronica
als bedoeld in 7B003 of 7B103 hierboven.
7E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur" bedoeld in
7A117, 7B103 of 7D101 hierboven.
7E002 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "productie" van apparatuur bedoeld in 7A117, 7B003 en
7B103 hierboven.
7E101 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
het"gebruik" van apparat uur bedoeld in 7A117, 7B003, 7B103 en
7D101 hierboven.
9A004 Ruimtelanceervoertuigen of "ruimtevaartuigen" die een nuttige
last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand
van ten minste 300 km .
N.B.: ZIE OOK 9A104.
Noot 1: 9A004 is niet van toepassing op de nuttige lading.
9A005 Raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuwstof die systemen
of onderdelen bedoeld in 9A006 bevatten en die bruikbaarzijn in
ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004hierboven of sonde-
ringsraketten bedoeld in 9A104hierna .
N.B.: ZIE OOK 9A105 EN 9A119.
9A007.a. Raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof die bruikbaar
zijn in ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004hierboven of
sonderingsraketten bedoeld in 9A104hierna , meteen of meer
van de volgende kenmerken:
N.B.: ZIE OOK 9A119.
a. totaal impulsvermogen groter dan 1,1 MNs;
9A008.d. Onderdelen, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen voor
raketvoortstuwingssystemen met vaste stuwstof:
N.B.: ZIE OOK 9A108.c.
d. regelsystemen voor het richten van de stuwkrachtvector van
het inspuitstuk of de secundaire vloeistofinjectie, die bruik-
baar zijn in ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A0042000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 219
▼M3
hierboven of sonderingsraketten bedoeld in 9A104hierna ,e n
die geschiktzijn voor:
1. bewegingen langs alle assen over een hoek groter dan ± 5 ºC;
2. vectorhoekrotaties van 20º/s of meer; of
3. vectorhoekversnellingen van 40º/s2of meer.
9A104 Sonderingsraketten met een bereik van minstens 300 km die een
nuttige last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren .
N.B.: ZIE OOK 9A004.
9A105.a. Raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:
N.B.: ZIE OOK 9A119.
a. raketmotoren voor vloeibare stuwstof, geschikt voor gebruik in
"raketten", anders dan bedoeld in 9A005, met een totaal
impulsvermogen van 1,1 MNs of meer; uitgezonderd
apogeummotoren voor vloeibare stuwstof, ontworpen of
aangepast voor satelliettoepassingen en met alle volgende
kenmerken:
1.de diameter van de straalpijphals bedraagt ten hoogste
20 mm; en
2.de verbrandingskamerdruk bedraagt ten hoogste 15 bar.
9A106.c. Systemen of onderdelen, andere dan bedoeld in 9A006, geschikt
voor gebruik in "raketten", zoals hieronder vermeld, speciaal
ontworpen voor raketvoortstuwingssystemen met vloeibare stuw-
stof:
c. subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting,
uitgezonderd subsystemen die zijn ontworpen voor raket-
systemen die niet een nuttige last van ten minste 500 kg
kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km ;
Technische noot
Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen
zoals bedoeld in 9A106.c, zijn:
1. buigzame straalpijp;
2. vloeistof- of secundaire gasinjectie;3. beweegbare motoren of straalpijpen;
4. afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen;
of
5. het gebruik van stuwstelvlakken.
9A108.c. Onderdelen, andere dan bedoeld in 9A008, geschiktvoor het
gebruik in raketten, zoals hieronder vermeld, speciaal ontworpen
voor raketvoortstuwingssystemen met vaste brandstof:
c. subsystemen voor het regelen van de stuwstraalrichting,
uitgezonderd subsystemen die zijn ontworpen voor raket-
systemen die niet een nuttige last van ten minste 500 kg
kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km .
Technische noot:
Voorbeelden van methoden om de stuwstraalrichting te regelen
zoals bedoeld in 9A108.c, zijn:
1. buigzame straalpijp;
2. vloeistof- of secundaire gasinjectie;3. beweegbare motoren of straalpijpen;4. afbuiging van de uitlaatgasstroom door vinnen of kleppen;
of
5. het gebruik van stuwstelvlakken.
9A116 Terugkeervoertuigen, geschikt voor gebruik in "raketten", en
apparatuur speciaal ontworpen of aangepast daarvoor, uitgezon-
derd terugkeervoertuigen die zijn ontworpen voor het vervoeren
van nuttige lading anders dan bewapening , zoals:
a. terugkeervoertuigen;
b. hitteschilden en onderdelen daarvan, gemaakt van keramische
of ablatieve materialen;
c. koelelementen en onderdelen daarvan, gemaakt van licht-
gewichtmaterialen met een hoge warmtecapaciteit;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 220
▼M3
d. elektronische apparatuur, speciaal ontworpen voor terugkeer-
voertuigen.
9A119 Individuele rakettrappen geschikt voor gebruik in complete
raketsystemen of onbemande luchtvoertuigen die een nuttige
last van ten minste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand
van ten minste 300 km, andere dan bedoeld in 9A005 of 9A007.a
hierboven.
9B115 Speciaal ontworpen "productieapparatuur" voor de systemen,
subsystemen en onderdelen in 9A005, 9A007.a, 9A008.d,
9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 of 9A119 hierboven.
9B116 Speciaal ontworpen "productiefaciliteiten" voor de ruimtelanceer-
voertuigen bedoeld in 9A004, of systemen, subsystemen en
onderdelen bedoeld in 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9A104,
9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 of 9A119 hierboven.
9D101 "Programmatuur" die speciaal is ontworpen voor het gebruik van
de in 9B116 hierboven omschreven goederen.
9E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
de "ontwikkeling" van apparatuur of programmatuur als
omschreven in 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115,
9B116 of 9D101 hierboven.
9E002 "Technologie", overeenkomstig de algemene technologienoot,
voor de "productie" van uitrusting als omschreven in 9A004,
9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115 en 9B116 hierboven.
Noot: Zie 1E002.f voor "technologie" voor de reparatie van in
de lijst bedoelde constructies, laminaten of materialen.
9E101 "Technologie", overeenkomstig de algemene technologienoot,
voor de "ontwikkeling" of de "productie" van uitrusting als
omschreven in 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 of
9A119 hierboven.
9E102 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
het "gebruik" van ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004,
9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c,
9A116, 9A119, 9B115, 9B116 of 9D101.
Vrijstellingen
Bijlage IV is niet van toepassing op producten voor MTCR-technologie die:
1. worden overgebracht ingevolge een bestelling krachtens een contractuele
verbintenis, van het Europees Ruimteagentschap (ESA) of die door het ESA
worden overgebracht teneinde zijn officiële taken te vervullen;
2. worden overgebracht ingevolge bestellingen krachtens een contractuele
verbintenis, van de nationale ruimteorganisatie van een lidstaat of die door
deze organisatie worden overgebracht om haar officiële taken te vervullen;
3. worden overgebracht ingevolge bestellingen krachtens een contractuele
verbintenis, in verband met een communautair ruimtevaartprogramma voor
ontwikkeling en productie dat door twee of meer Europese regeringen is
ondertekend;
4. worden overgebracht naar een door de staat gecontroleerde ruimtevaartbasis
op het grondgebied van een lidstaat, tenzij die lidstaat krachtens deze
verordening de overbrenging van de betrokken producten controleert.
DEEL II
(Nationale algemene vergunningen voor intracommunautair handelsverkeer
niet mogelijk)
Producten uit hoofde van het Verdrag inzake chemische wapens
1C351.d.4. Ricine1C351.d.5. Saxitoxine
Producten voor NSG-technologie
Categorie 0 van bijlage I is in haar geheel opgenomen in bijlage IV, met
uitzondering van de volgende materialen:
— 0C001: deze rubriek is nietopgenomen in bijlage IV;2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 221
▼M3
— 0C002: deze rubriek is nietopgenomen in bijlage IV metuit zondering van
speciale splijtstoffen als hieronder:
a. gescheiden plutonium;
b. uraan, verrijkt in de isotopen 233 of 235 tot meer dan 20 %;
— 0D001 (Programmatuur) is opgenomen in bijlage IV, behoudens voorzover
betrekking hebbend op rubriek 0C001 of goederen van rubriek 0C002 die niet
zijn opgenomen in bijlage IV;
— 0E001 (Technologie) is opgenomen in bijlage IV, behoudens voorzover
betrekking hebbend op rubriek 0C001 of op goederen van rubriek 0C002 die
nietzijn opgenomen in bijlage IV.
N.B.: Voor0C003 en0C004 alleen indien voor gebruik in "kernreactoren"
(binnen 0A001.a).
1B226 Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitge-
rustmetenkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een
totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren.
Noot: 1B226 omvat tevens scheiders:
a. geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen;
b. waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het
magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze
zich buiten het veld bevinden.
1C012 Materialen, als hieronder:
Technische noot:
Deze materialen worden doorgaans voor nucleaire warmte-
bronnen gebruikt.
a. plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte
aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent;
Noot: 1C012.a is niet van toepassing op:
a. zendingen die hoogstens 1 g plutonium bevatten;
b. zendingen van hoogstens 3 "effectieve grammen"
in een afgesloten gedeelte van een meetelement in
instrumenten.
b. "door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.
Noot: 1C012.b. is niet van toepassing op zendingen die
hoogstens 1 gram neptunium-237bevatten.
1B231 Tritiuminstallaties of -fabrieken, en apparatuur daarvoor, zoals:
a. installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen,
extraheren, concentreren of behandelen van tritium;
b. apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, zoals:
1. waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot
23 K (− 250 ºC) of lager, met een warmteafvoercapaciteit
groter dan 150 W; of
2. opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die
gebruikmaken van metaalhydriden als opslag- of zuive-
ringsmedium.
1B233 Installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen en
apparatuur daarvoor, zoals:
a. installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen;
b. apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, zoals:
1. gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselko-
lommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen;
2. kwik- en/of lithiumamalgaampompen;
3. lithiumamalgaam-elektrolysecellen;
4. verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplos-
singen.
1C233 Lithium, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot meer dan de
natuurlijke abundantie, of producten of toestellen die verrijkt
lithium bevatten, als hierna: elementair lithium, legeringen,
lithiumverbindingen, mengsels die lithium bevatten, fabrikaten
daarvan en afval of schrootvan deze st offen.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 222
▼M3
Noot: 1C233 is niet van toepassing op thermoluminescentie-
stralingsmeters.
Technische noot:
De natuurlijke abundantie van de lithium-6-isotoop is ongeveer
6,5 gewichtspercenten (7,5 % op atomaire basis).
1C235 Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten,
waarin de verhouding van het aantal tritiumatomen tot het aantal
waterstofatomen groter is dan 1:1 000, en producten of toestellen
die een van voorgaande stoffen bevatten.
Noot: 1C235 is niet van toepassing op een product of toestel
dat minder dan 1,48 × 103GBq (40 Ci) tritium in welke
vorm dan ook bevat.
1E001 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
het "ontwikkelen" of "vervaardigen" van apparatuur of materialen
bedoeld in 1C012.
1E201 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot
betreffende het "gebruik" van goederen bedoeld in 1B226,
1B231, 1B233, 1C202, 1C233, 1C235, 1C239.
3A201 Elektronische onderdelen, anders dan bedoeld in 3A001, als
hieronder:
a. condensators met een van de volgende groepen van
kenmerken:
1. a. een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV;
b. energieopslag groter dan 10 J;
c. capaciteit groter dan 0,5 µF; en
d. serie-inductantie minder dan 50 nH; of
2. a. een toelaatbare spanning hoger dan 750 V;
b. capaciteit groter dan 0,25 µF; en
c. serie-inductantie minder dan 10 nH;
3A228 Nietin 0B001.j.5 omschreven schakelelement en, namelijk:
a. buizen metkoude kat hode, al dan nietmetgas gevuld, die op
dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende
kenmerken hebben:
1. drie of meer elektroden;
2. een maximale anodespanning van 2 500 V of meer;
3. een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer; en
4. een anodevertragingstijd van 10 microseconden of minder;
Noot: Onder 3A228 vallen met gas gevulde krytronbuizen
en vacuümsprytronbuizen.
b. gestuurde vonkbruggen met beide volgende kenmerken:
1. een anodevertragingstijd van 15 microseconden of minder;
en
2. een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer;
c. modulen of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met
alle volgende kenmerken:
1. een maximale anodespanning hoger dan 2 kV;
2. een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer; en
3. een inschakeltijd van 1 microseconde of minder.
3A231 Neutronengeneratorsystemen, met inbegrip van buizen, met beide
volgende kenmerken:
a. ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem; en
b. gebruikmakend van elektrostatische versnelling voor het
opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie.
3E201 "Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het
"gebruik" van apparatuur bedoeld in 3A201, 3A228, 3A229,
3A231 en 3A232.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 223
▼M3
6A203 Camera's en onderdelen, anders dan bedoeld in 6A003, als
hieronder:
a. hieronder aangegeven mechanisch roterende spiegelcamera's,
en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:
1. beeld(«framing»)-camera's met een registratiesnelheid
groter dan 225 000 beelden per seconde;
2. «streak»-camera's met een opnamesnelheid groter dan
0,5 mm per microseconde;
Noot: De in 6A203.a. bedoelde onderdelen van zulke
camera's zijn onder meer synchroniserende elektro-
nische eenheden en rotorsamenstellen bestaande uit
turbines, spiegels en lagers.
b. elektronische «streak»-camera's, elektronische beeld
(«framing»)-camera's, elementen en buizen, namelijk:
1. elektronische «streak»-camera's met een tijdresolutie van
50 ns of minder;
2. «streak»-buizen voor camera's bedoeld in 6A203.b.1;
3. elektronische (of met een elektronische sluiter uitgeruste)
beeld(«framing»)-camera's met een belichtingstijd van 50 ns
of minder per beeld;
4. beeld(«framing»)-buizen en halfgeleiderelementen voor
beeldvorming, voor gebruik metcamera's bedoeld in
6A203.b.3, zoals:
a. beeldversterkerbuizen met zeer korte brandpuntsafstand
waarbij de fotokathode wordt afgezet op een trans-
parante geleidende bekledingslaag ter vermindering van
de weerstand van de fotokathodelaag;
b. vidiconbuizen metsiliciumverst erkerbeeldplaat(«silicon
intensifier target» (SIT)) van het poorttype, waarbij door
middel van een snelschakelsysteem het doorlaten van de
van de fotokathode afkomstige foto-elektronen wordt
geregeld alvorens deze op de SIT-plaatbot sen;
c. elektro-optische sluiters welke gebruikmaken van een
Kerr- of «pockel»-cel;
d. andere beeld («framing»)-buizen en halfgeleiderele-
menten voor beeldvorming met een venstertijd van
minder dan 50 ns, speciaal ontworpen voor camera's
bedoeld in 6A203.b.3;
6A225 Snelheidsinterferometers voor het meten van snelheden van meer
dan 1 km per seconde over een tijdsinterval van minder dan
10 microseconden.
Noot: In 6A225 zijn bedoeld snelheidsinterferometers zoals
VISARs (Velocity interferometer systems for any
reflector) en DLI's (Doppler laser interferometers),
enz.).
6A226 Druksensoren, zoals:
a. manganinedrukmeters voor druk hoger dan 10 GPa;
b. kwartsdrukopnemers voor druk hoger dan 10 GPa.
6E201 "Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor
hetgebruik van apparat uur bedoeld in 6A203.a, 6A203.b, 6A225
en 6A226.2000R1334 — NL — 19.01.2002 — 003.001 — 224