Vorschlag für eine VERORDNUNG DES RATES zur Änderung und Aktualisierung der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 über eine Gemeinschaftsregelung für die Kontrolle der Ausfuhr von Gütern und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck

(von der Kommission vorgelegt)

BEGRÜNDUNG

Gemäß der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 des Rates vom 22. Juni 2000 müssen Güter (einschließlich Software und Technologien) mit doppeltem Verwendungszweck bei ihrer Ausfuhr aus der Gemeinschaft wirksam kontrolliert werden.

Um sicherzustellen, dass diese Kontrolle wirksam ist und im Einklang mit den multilateralen Verpflichtungen der Mitgliedstaaten steht, ist nach Artikel 3 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 des Rates für die Ausfuhr der in Anhang I aufgeführten Güter mit doppeltem Verwendungszweck eine Genehmigung erforderlich.

Nach Artikel 11 der Verordnung Nr. 1334/2000 sollen die Listen der Güter mit doppeltem Verwendungszweck in Anhang I und Anhang IV im Einklang mit den Verpflichtungen und Zusagen und deren Änderungen, die jeder Mitgliedstaat als Mitglied der jeweiligen internationalen Nichtverbreitungsregime und Ausfuhrkontrollvereinbarungen oder durch die Ratifizierung einschlägiger internationaler Verträge eingegangen ist, aktualisiert werden.

Im Laufe des Jahres 2000 wurden im Rahmen der internationalen Nichtverbreitungsregime und Ausfuhrkontrollvereinbarungen eine Reihe von Änderungen ihrer Listen der Güter mit doppeltem Verwendungszweck vorgenommen. Die wichtigsten Änderungen in Bezug auf die Kontrolle wurden umgehend in der Verordnung (EG) Nr. 458/2001 vom 6. März 2001 berücksichtigt, und zwar noch bevor - nach gebührender technischer Prüfung - eine konsolidierte Fassung des Anhangs I mit allen im Jahr 2000 auf multilateraler Ebene beschlossenen Änderungen vorgeschlagen wurde.

Diese Prüfung zur Aufnahme der Änderungen in eine konsolidierte Fassung des Anhangs I wurde inzwischen vorgenommen. Anhang II (Allgemeine Ausfuhrgenehmigung der Gemeinschaft Nr. EU001 nach Artikel 6 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000) und Anhang IV (Liste nach Artikel 21 Absatz 1 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000) werden auch erneut veröffentlicht, um sie ebenfalls an diese Änderungen anzupassen und eine konsolidierte Fassung aller in der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 genannten Anhänge mit Listen der Güter mit doppeltem Verwendungszweck zu erstellen.

Anhang III mit dem Muster der Ausfuhrgenehmigung bleibt unverändert, wird aber aus Gründen der Übersichtlichkeit erneut veröffentlicht.

Ferner sollten aus Gründen der Klarheit die Verweise in Artikel 14 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 auf die Verordnung (EWG) Nr. 2454/93 der Kommission vom 2. Juli 1993 mit Durchführungsvorschriften zu der Verordnung (EWG) Nr. 2913/92 des Rates zur Festlegung des Zollkodex der Gemeinschaften angepasst werden.

Vorschlag der Kommission

In Anbetracht der vorstehenden Erwägungen ist es erforderlich, die Anhänge zu der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 zu ersetzen und Artikel 14 dieser Verordnung zu ändern.

Vorschlag für eine VERORDNUNG DES RATES zur Änderung und Aktualisierung der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 über eine Gemeinschaftsregelung für die Kontrolle der Ausfuhr von Gütern und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck

DER RAT DER EUROPÄISCHEN UNION -

gestützt auf den Vertrag zur Gründung der Europäischen Gemeinschaft, insbesondere auf Artikel 133,

auf Vorschlag der Kommission [1],

[1] ABl. C ..., ..., S. ...

in Erwägung nachstehender Gründe:

(1) Gemäß der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 des Rates vom 22. Juni 2000 über eine Gemeinschaftsregelung für die Kontrolle der Ausfuhr von Gütern und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck [2] müssen diese Güter (einschließlich Software und Technologien) bei ihrer Ausfuhr aus der Gemeinschaft wirksam kontrolliert werden.

[2] ABl. L 159 vom 30.6.2000, S. 1, zuletzt geändert durch Verordnung (EG) Nr. 458/2001 (ABl. L 65 vom 7.3.2001, S. 19).

(2) Damit die Mitgliedstaaten und die Gemeinschaft ihren internationalen Verpflichtungen nachkommen können, enthält Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 die gemeinsame Liste der Güter und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck, auf die in Artikel 3 der genannten Verordnung verwiesen wird und mit der die international vereinbarten Kontrollen dieser Güter und Technologien - einschließlich der Wassenaar-Vereinbarung, des Trägertechnologie -Kontrollsystems (Missile Technology Control Regime - MTCR), der Gruppe der Nuklearen Lieferländer (Nuclear Suppliers' Group - NSG), der Australiengruppe und des Chemiewaffen-Übereinkommens (CWC) - umgesetzt werden.

(3) Artikel 11 der Verordnung Nr. 1334/2000 des Rates sieht vor, dass Anhang I und Anhang IV im Einklang mit den Verpflichtungen und Zusagen und deren Änderungen, die jeder Mitgliedstaat als Mitglied der jeweiligen internationalen Nichtverbreitungsregime und Ausfuhrkontrollvereinbarungen oder durch die Ratifizierung einschlägiger internationaler Verträge übernommen hat, aktualisiert werden.

(4) Zur Berücksichtigung der Veränderungen, die auf der Plenartagung über die Wassenaar-Vereinbarung vom 1. Dezember 2000, auf der Plenartagung der Australiengruppe vom 5. Oktober 2000, der Plenartagung über das Trägertechnologie-Kontrollsystem vom 13. Oktober 2000 und von der Gruppe der Nuklearen Lieferländer am 23. Juni 2000 angenommen wurden, ist eine Änderung der Anhänge I und IV erforderlich.

(5) Um die Bezugnahme für die Ausfuhrkontrollbehörden und -stellen zu erleichtern, ist es erforderlich, eine aktualisierte und konsolidierte Fassung der Anhänge zu der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 zu veröffentlichen unter Berücksichtigung aller von den Mitgliedstaaten auf internationalen Foren im Jahr 2000 angenommenen Änderungen.

(6) Ferner sollten aus Gründen der Klarheit die Verweise in der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 auf die Verordnung (EWG) Nr. 2454/93 der Kommission vom 2. Juli 1993 mit Durchführungsvorschriften zu der Verordnung (EWG) Nr. 2913/92 des Rates zur Festlegung des Zollkodex der Gemeinschaften [3] angepasst werden.

[3] ABl. L 253 vom 11.10.1993, S. 1, zuletzt geändert durch Verordnung (EG) Nr. 2787/2000 (ABl. L 330 vom 27.12.2000, S. 1).

(7) Die Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 des Rates ist daher entsprechend zu ändern -

HAT FOLGENDE VERORDNUNG ERLASSEN:

Artikel 1

Die Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 wird wie folgt geändert:

1) In Artikel 14 wird "Die Bestimmungen der Artikel 463 bis 470 und des Artikels 843 der Verordnung (EWG) Nr. 2454/93" durch "Die Bestimmungen des Artikels 843 und der Artikel 912a bis 912g der Verordnung (EWG) Nr. 2454/93" ersetzt.

2) Die Anhänge werden durch den Wortlaut im Anhang zu dieser Verordnung ersetzt.

Artikel 2

Diese Verordnung tritt am dreißigsten Tag nach ihrer Veröffentlichung im Amtsblatt der Europäischen Gemeinschaften in Kraft.

Diese Verordnung ist in allen ihren Teilen verbindlich und gilt unmittelbar in jedem Mitgliedstaat.

Geschehen zu Brüssel am

Für den Rat

Der Präsident

FINANZBOGEN

1. BEZEICHNUNG DER MASSNAHME: Vorschlag für eine Verordnung des Rates zur Änderung und Aktualisierung der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 über eine Gemeinschaftsregelung für die Kontrolle der Ausfuhr von Gütern und Technologien mit doppeltem Verwendungszweck

2. HAUSHALTSLINIE: A-7030

3. RECHTSGRUNDLAGE: Artikel 133 EG-Vertrag

4. BESCHREIBUNG DER MASSNAHME:

4.1 Allgemeines Ziel der Maßnahme: Änderung des Artikels 14 und der Anhänge I, II und IV zu der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000 des Rates (Güter mit doppeltem Verwendungszweck)

4.2 Dauer der Maßnahme und ggf. Bestimmungen über ihre Erneuerung oder Verlängerung

unbefristet

5. EINSTUFUNG DER AUSGABEN/EINNAHMEN: entfällt

6. ART DER AUSGABEN/EINNAHMEN: entfällt

7. FINANZIELLE BELASTUNG: entfällt

8. BETRUGSBEKÄMPFUNGSMASSNAHMEN: entfällt

9. KOSTENWIRKSAMKEITSANALYSE: entfällt

10. VERWALTUNGSAUSGABEN (Einzelplan III, Teil A des Haushaltsplans)

Dieser Teil des Finanzbogens ist gleichzeitig der GD XIX und der GD IX zuzuleiten; die GD IX übermittelt ihn dann mit ihrer Stellungnahme der GD XIX.

Die Bereitstellung der erforderlichen Verwaltungsressourcen erfolgt nach Maßgabe des jährlichen Beschlusses der Kommission über die Mittelzuweisung unter Berücksichtigung der von der Haushaltsbehörde bewilligten Planstellen und zusätzlichen Haushaltsmittel.

10.1 Auswirkung auf den Personalbestand

>PLATZ FÜR EINE TABELLE>

Bei zusätzlich erforderlichem Personal ist anzugeben, in welchem zeitlichen Rhythmus dieses bereitgestellt werden muss.

10.2 Gesamtkosten für zusätzliches Personal

(EUR)

>PLATZ FÜR EINE TABELLE>

Handelt es sich um eine befristete Maßnahme, so drücken die angegebenen Beträge die Kosten für die Gesamtlaufzeit der Maßnahme aus; bei unbefristeten Maßnahmen sind die Kosten für ein Jahr anzugeben.

10.3 Sonstige zusätzliche Verwaltungsausgaben infolge der Maßnahme

(EUR)

>PLATZ FÜR EINE TABELLE>

Handelt es sich um eine befristete Maßnahme, so drücken die angegebenen Beträge die Kosten für die Gesamtlaufzeit der Maßnahme aus; bei unbefristeten Maßnahmen sind die Kosten für ein Jahr anzugeben.

ANHANG I

LISTE DER DUAL-USE-GÜTER UND -TECHNOLOGIE

(Gemäß Artikel 3 der Verordnung (EG) Nr. 1334/2000)

Mit dieser Liste werden die international vereinbarten Kontrollen für Dual-Use-Güter - einschließlich des Wassenaar Arrangement, des Missile Technology Control Regime (MTCR), der Nuclear Suppliers' Group (NSG), der Australischen Gruppe und des Chemiewaffen-Übereinkommens (CWÜ) - umgesetzt. Anträge von Mitgliedstaaten auf einen Ausschluss bestimmter Güter wurden nicht berücksichtigt. Ferner wurden keine nationalen Kontrollen (nicht auf Regimen basierende Kontrollen) berücksichtigt, die von den Mitgliedstaaten beibehalten werden können.

ALLGEMEINE ANMERKUNG ZU ANHANG I

1. Für die Kontrolle von Gütern, die für militärische Zwecke entwickelt oder geändert sind, gelten die entsprechenden Kontrolllisten für militärische Güter, die von den einzelnen Mitgliedstaaten geführt werden. Bei den in Anhang I verwendeten Verweisen mit dem Inhalt « SIEHE AUCH TEIL I A » sind genau diese Listen gemeint.

2. Der Zweck der in Anhang I angegebenen Kontrollen darf nicht dadurch unterlaufen werden, dass nicht erfasste Güter (einschließlich Anlagen) mit einem oder mehreren erfassten Bestandteilen ausgeführt werden, wenn das (die) erfasste(n) Bestandteil(e) ein Hauptelement des Ausfuhrgutes ist (sind) und leicht entfernt oder für andere Zwecke verwendet werden kann (können).

Anmerkung: Bei der Beurteilung darüber, ob das (die) erfasste(n) Bestandteil(e) ein Hauptelement bildet (bilden), müssen Menge, Wert und eingesetztes technologisches Know-how sowie andere besondere Bedingungen berücksichtigt werden.

3. Die von Anhang I erfassten Güter umfassen sowohl neue als auch gebrauchte Güter.

NUKLEARTECHNOLOGIE-ANMERKUNG (NTA)

(gültig im Zusammenhang mit Gattung E der Kategorie 0)

Die Kontrolle der Ausfuhr von "Technologie", die direkt mit den von Kategorie 0 erfassten Gütern in Verbin dung steht, erfolgt entsprechend den Vorgaben der Kategorie 0.

"Technologie" für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von erfassten Gütern bleibt auch dann erfasst, wenn sie für nicht erfasste Güter einsetzbar ist.

Mit einer Genehmigung der Ausfuhr von Gütern wird auch die Ausfuhr der "Technologie" an denselben Endverwender genehmigt, die für Aufbau, Betrieb, Wartung und Reparatur der jeweiligen Güter unbedingt erforderlich ist.

Die Beschränkungen hinsichtlich der Ausfuhr von "Technologie" gelten nicht für "allgemein zugängliche" Informationen oder "wissenschaftliche Grundlagenforschung".

ALLGEMEINE TECHNOLOGIE-ANMERKUNG (ATA)

(gültig im Zusammenhang mit Gattung E der Kategorien 1 bis 9)

Die Kontrolle der Ausfuhr von "Technologie", die für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" der von den Kategorien 1 bis 9 erfassten Güter "unverzichtbar" ist, erfolgt entsprechend den Vorgaben der Kategorien 1 bis 9.

"Technologie", die für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" von erfassten Gütern "unverzicht bar" ist, bleibt auch dann erfasst, wenn sie für nicht erfasste Güter einsetzbar ist.

Nicht erfasst ist "Technologie", die das unbedingt notwendige Minimum für Aufbau, Betrieb, Wartung und Reparatur derjenigen Güter darstellt, die nicht erfasst sind oder für die eine Ausfuhrgenehmigung erteilt wurde.

Anmerkung Hierdurch werden die von den Unternummern 1E002e, 1E002f, 8E002a und 8E002b erfassten Reparatur-"Technologien" nicht freigestellt.

Die Beschränkungen hinsichtlich der Ausfuhr von "Technologie" gelten nicht für "allgemein zugängliche" Informationen, "wissenschaftliche Grundlagenforschung" oder für die für Patentanmeldungen erforderlichen Informationen.

ALLGEMEINE SOFTWARE-ANMERKUNG (ASA)

(Soweit in Gattung D der Kategorien 0 bis 9 "Software" erfasst wird, entfallen die Kontrollen, wenn nachstehende Voraussetzungen erfüllt sind.)

Die Gattungen der Kategorien 0 bis 9 dieser Liste erfassen keine "Software", die entweder:

a) frei erhältlich ist und

1. im Einzelhandel ohne Einschränkungen mittels einer der folgenden Geschäftspraktiken verkauft wird:

a) Barverkauf;

b) Versandverkauf oder

c) Telefonverkauf

und

2. dazu entwickelt ist, vom Benutzer ohne umfangreiche Unterstützung durch den Anbieter installiert zu werden,

oder

Anmerkung: Buchstabe a der Allgemeinen Software-Anmerkung stellt keine "Software" frei, die von Kategorie 5, Teil 2 ("Informationssicherheit") erfasst wird.

b) "allgemein zugänglich" ist.

BEGRIFFSBESTIMMUNGEN

Anmerkung:

Begriffe in 'einfachen Anführungszeichen' werden in einer Anmerkung zu dem entsprechenden Eintrag erläutert.

Begriffe in "doppelten Anführungszeichen" werden in folgenden Begriffsbestimmungen erläutert:

Ergänzende Anmerkung:

Der Bezug zur Kategorie steht in Klammern nach dem definierten Begriff.

"Abgereichertes Uran" (0) (depleted uranium): Uran, dessen Gehalt an 235U-Isotopen so verringert wurde, dass er geringer ist als bei natürlichem Uran.

"Abschrecken aus der Schmelze" (1) (splat quenching): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur 'schnellen Erstarrung' auf einen Abschreck-Block aufprallt, wobei ein flockiges Erzeugnis entsteht.

Anmerkung: 'Schnelle Erstarrung' (solidify rapidly) ist die Er starrung geschmolzenen Materials bei Abküh lungs raten größer als 1.000 K/s.

"Abstimmbar" (6) (tunable): die Fähigkeit eines "Lasers", eine Ausgangsstrahlung mit jeder beliebigen Wellen länge über den Bereich von mehreren "Laser"übergängen zu erzeugen. Ein "Laser", der verschiedene auswähl bare Linien mit diskreten Wellen längen innerhalb eines "Laser"übergangs erzeugt, gilt nicht als abstimmbar.

"Adaptive Steuerung" (2) (adaptive control): ein Steuerungssystem, das die Gegebenheiten berück sichtigt, die sich während des Arbeitsganges ergeben (Bezug: ISO 2806 - 1980).

"Aktives Bildelement" (6 8) (active pixel): das kleinste Einzelelement einer Halbleiter-Matrix (Sensor), das eine fotoelektrische Übertragungsfunktion hat, wenn es Licht (elektromagnetischer Strah lung) ausgesetzt ist.

"Aktives Flugsteuerungssystem" (7) (active flight control system): Funktionseinheit zur Vermeidung uner wünschter "Luftfahrzeug"- und Flugkörperbewegungen oder unerwünschter Strukturbelastungen durch die autonome Verarbeitung der von mehreren Sensoren gelieferten Signale und die Bereitstellung der erforderlichen Steuerbefehle für die automatische Steue rung.

"Alle verfügbaren Kompensationen" (2) (all compensation available): alle dem Hersteller zur Verfügung stehenden Maßnahmen zur Minimierung aller systematischer Positionsfehler für die betreffende Werkzeug maschine sind berücksichtigt.

"Allgemein zugänglich" (ASA ATA NTA) (in the public domain): bezieht sich auf "Technologie" oder "Soft ware", die ohne Beschränkung ihrer weiteren Verbreitung erhältlich ist (Copyright-Beschränkungen heben die allge meine Zugänglichkeit nicht auf).

"Anwenderzugängliche Programmierbarkeit" (6) (user-accessible programmability): die Möglichkeit für den Anwender, "Programme" einzufügen, zu ändern oder auszutauschen durch andere Maßnahmen als durch

a) eine physikalische Veränderung der Verdrahtung oder von Verbindungen oder

b) das Setzen von Funktionsbedienelementen einschließlich Parametereingaben.

"Äquivalente Dichte" (6) (equivalent density): die Masse einer Optik pro Einheit der optischen Fläche, die auf die optisch wirksame Oberfläche pro jiziert wird.

"Asymmetrischer Algorithmus" (5) (asymmetric algorithm): ein kryptografischer Algorithmus, der für die Verschlüsselung und die Entschlüsselung unterschied liche, mathematisch miteinander verknüpfte Schlüssel verwendet.

Anmerkung: Eine übliche Anwendung asymmetrischer Algorithmen ist das Schlüsselmanagement.

"Asynchronous Transfer Mode" (5) (ATM): ein Transferverfahren, bei dem die Information in Zellen aufge gliedert ist; es arbeitet insoweit asyn chron, als die Weiterleitung der Zellen von der ge wünschten oder momentanen Bitrate abhängig ist.

"ATM" (5): siehe "Asynchronous Transfer Mode".

"Auflösung" (2) (resolution): das kleinste Inkrement einer Messeinrichtung, bei di gitalen Geräten das kleinste bedeutsame Bit (Bezug: ANSI B-89.1.12).

"Automatische Zielverfolgung" (6) (automatic target tracking): ein Verarbeitungsverfahren, bei dem automatisch ein extrapolier ter Wert der wahrscheinlichsten Position des Ziels in Echtzeit ermittelt und ausgegeben wird.

"Bahnsteuerung" (2) (contouring control): zwei oder mehr "numerisch gesteuerte" Bewegungen, die nach Befehlen ausgeführt werden, welche die nächste benötigte Position und die zum Erreichen dieser Posi tion benötigten Vorschubgeschwindig keiten vorgeben. Diese Vorschubgeschwindigkeiten werden im Verhältnis zueinander so geändert, dass eine gewünschte Bahn er zeugt wird (Bezug: ISO/DIS 2806 - 1980).

"Band" (1) (tape): ein Material aus geflochtenen oder in eine Richtung verlaufenden "Einzelfäden" (mono filaments), 'Litzen', "Faserbündeln" (rovings), "Seilen" oder "Garnen" usw., die normalerweise mit Harz imprägniert sind.

Anmerkung: 'Litze' (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (mono filaments), die annähernd parallel verlaufen.

"Besonderes spaltbares Material" (0) (special fissile material): Plutonium-239, Uran-233, 'mit den Isotopen 235 oder 233 angereichertes Uran' und jedes Material, das die vor genannten Stoffe enthält.

Anmerkung: 'Mit den Isotopen 235 oder 233 angereichertes Uran' (uranium enriched in the isotopes 235 or 233): Uran, das die Isotope 235 oder 233 oder beide zusammen im Verhältnis zum Isotop 238 in einer größeren Menge enthält als natürliches Uran (Isotopen ver hältnis im na türlichen Uran: 0,72 %).

"Bildverarbeitung" (4) (image enhancement): Verarbeitung von außen abgeleiteter, informationstra gender Bild daten durch Algorithmen wie Zeit kompres sion, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Konvo lution oder Trans formation zwischen Bereichen (z.B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Transforma tion). Dazu gehören keine Algorithmen, die nur li neare oder Drehtransformation eines einzelnen Bildes verwenden wie Translation, Merkmalauszug, Bilderfas sung oder Falschfarbendarstellung.

"CE" (4): siehe "Rechenelement".

"CEP-Wert" (7) ((Kreisfehlerwahrscheinlichkeit) CEP - Circular Error Probability): ein Maß für die Genauig keit; der Wert wird als der Radius des bei einer spezifischen Entfernung auf das Ziel zentrierten Kreises definiert, innerhalb dessen die Nutzlasten in 50 % der Fälle auftreffen.

"Chemischer Laser" (6) (chemical laser): ein "Laser", bei dem die angeregten Elemente durch die Ausgangs energie einer chemischen Reaktion erzeugt werden.

"CTP" (3 4): siehe "zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (composite theoretical performance).

"Datenübertragungsrate" (5) (data signalling rate): die Bitrate entsprechend ITU-Empfehlung 53-36, wobei zu berücksichtigen ist, dass für nichtbinäre Modula tion «Baud» und Bit pro Sekunde nicht gleich sind. Bits für die Kodierung, Prüfung und Synchronisierung sind einzubeziehen.

Anmerkung 1: Bei der Bestimmung der "Datenübertragungsrate" sind Kanäle für Service und Über wachung auszu nehmen.

Anmerkung 2: Es ist die höchste Übertragungsrate in einer Richtung, d.h. die höchste Rate entweder in Sende- oder Empfangsrichtung, anzunehmen.

"Diffusionsschweißen" (1 2 9) (diffusion bonding): Molekulares Zusammenfügen von mindestens zwei ver schiedenen Metallen im festen Zustand zu einem Stück mit einer Festigkeit der Schweißverbin dung, die der des schwächsten Werkstoffs entspricht.

"Digitale Übertragungsrate" (5) (digital transfer rate): die gesamte Informationsbitrate, die direkt über ein beliebiges Medium übertragen wird (siehe auch "gesamte digitale Übertragungsrate").

"Digitalrechner" (4 5) (digital computer): Geräte, die alle folgenden Operationen in Form einer oder mehrerer diskreter Variablen ausführen können:

a) Daten aufnehmen,

b) Daten oder Befehle in einem festen oder veränder baren (beschreibbaren) Speicher speichern,

c) Daten durch eine gespeicherte und veränderbare Befehlsfolge verarbeiten und

d) Daten ausgeben.

Anmerkung: Veränderungen einer gespeicherten Befehlsfolge schließen den Austausch von festpro grammierten Speichervorrichtungen mit ein, nicht aber physische Veränderungen der Verdrahtung oder von Verbindun gen.

"Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssysteme mit regelbarer Zirkulation" (7) (circulation-con trolled anti-torque or circulation controlled direction control systems): Systeme, bei denen Luft über aero dyna mi sche Ober flächen geblasen wird, um die von den Oberflächen er zeugten Luftkräfte zu erhöhen oder zu steuern.

"Dreidimensionale (3-D) Vektorrate" (4) (three dimensional vector rate): Anzahl von Vektoren, die je Sekunde erzeugt werden, aus Polygonzügen mit 10 Bildelementen (Pixeln), die auf Überschreiten des Darstellungs bereichs getestet (clip tested) und zufällig orientiert (randomly oriented) sind, mit einer X-Y-Z-Koordinaten darstel lung im Festkomma- oder Gleitkommaformat (es ist die Darstellung zu nehmen, die die höchste 3-D Vektorrate ergibt).

"Driftrate" (Kreisel) (7) (drift rate (gyro)): Abweichung des Kreiselausgangssignals vom Sollwert als Funktion der Zeit. Die Abweichung besteht aus statistisch verteilten und systematischen Komponenten und wird als äquivalente Winkelverschie bung pro Zeiteinheit in bezug auf den Inertialraum ausge drückt.

"Druckmessgeräte" (2) (pressure transducers): Geräte, die Druckmessungen in elektrische Signale umwandeln.

"Dynamisch adaptive Leitweglenkung" (5) (dynamic adaptive routing): automatische Verkehrsumleitung, basierend auf Erken nung und Auswertung des momentanen aktuellen Netzzu standes.

Anmerkung: Hierzu gehören keine Verkehrsleitungsentscheidun gen, die auf vorher festgelegter Information beru hen.

"Dynamische Signalanalysatoren" (3) (dynamic signal analysers): "Signalanalysatoren", die digitale Abtast- und Umset zungsverfahren verwenden, um eine Fourier-Spektren-Darstellung der vorhandenen Wellenform ein schließ lich Amplituden- und Phaseninforma tion zu liefern.

"Echtzeit-Bandbreite" (3) (real-time bandwidth): bei "dynamischen Signalanalysatoren" die größte Fre quenz bandbreite, die der Analysator zur Anzeige oder Massenspeicherung ausgeben kann, ohne bei der Analyse der Eingabedaten eine Unstetigkeit zu verursachen. Bei Analysatoren mit mehr als einem Kanal wird für die Berech nung die Kanalanord nung verwendet, die die größte Echtzeitbandbreite ergibt.

"Echtzeitverarbeitung" (2 4 6 7) (real-time processing): Verarbeitung von Daten durch ein Rechnersystem, das in Abhängigkeit der verfügbaren Mittel eine bestimmte Leistung innerhalb einer garantierten Antwortzeit als Reak tion auf ein äußeres Ereignis erbringt, unabhän gig von der aktuellen Systemauslastung.

"Effektives Gramm" (0 1) (effective gramme): von "besonderem spaltbarem Material" ist

a) für Plutonium und Uran-233 die Isotopen-Masse in Gramm,

b) für angereichertes Uran mit 1 % oder mehr Uran-235 die Uran-Masse in Gramm multipliziert mit dem Quadrat seiner Anreicherung (in dezimaler Schreibweise),

c) für angereichertes Uran mit weniger als 1 % Uran-235 die Uran-Masse in Gramm multipliziert mit 0,0001.

"Einstellzeit" (3) (settling time): die Zeit, welche der Ausgang beim Umschalten zwischen zwei beliebigen Werten benötigt, um bis auf ein hal bes Bit den Endwert zu erreichen.

"Einzelfaden" (1) (monofilament): die kleinste Unterteilung einer Faser, normalerweise mit einem Durchmesser von einigen µm.

"Elektronische Baugruppe" ( 3 4 5) (electronic assembly): eine Anzahl elektronischer Bauelemente (d.h. 'Schal tungs elemente', 'diskrete Bauelemente', integrierte Schaltungen u.ä.), die miteinander verbunden sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere bestimmte Funk tionen zu erfüllen. Die "elektronische Baugruppe" ist als Ganzes aus tauschbar und normalerweise demontierbar.

Anmerkung 1: 'Schaltungselement' (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionsein heit einer elektronischen Schaltung, z.B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kon densator.

Anmerkung 2: 'Diskretes Bauelement' (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befind liches Schaltungselement mit eigenen äußeren Anschlüs sen.

"Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen" (5 6) (electronically steerable phased array antenna): eine Antenne, deren Strahl durch Phasenkopplung ge bildet wird (d.h. die Strahlungsrichtung wird durch die komplexen Erregungskoeffizienten der Strahlere lemente gesteuert), und die Strahlungs richtung (beim Sen den und beim Empfang) kann durch ein elektrisches Signal im Azimut und/oder Höhenwinkel verändert werden.

"Endeffektoren" (2) (end-effectors): umfassen Greifer, 'aktive Werkzeugeinheiten' und alle anderen Werkzeuge, die am Anschlussflansch am Ende des "Roboter"-Greifarms bzw. der -Greifarme angebaut sind.

Anmerkung: 'Aktive Werkzeugeinheit' (active tooling unit): eine Einrichtung, die dem Werkzeug Bewegungs kraft, Prozessenergie oder Sensorsignale zuführt.

"Entwicklung" (ATA NTA 0 bis 9) (development): schließt alle Stufen vor der Serienfertigung ein, z.B. Konstruktion, Forschung, Analyse, Konzepte, Zusammenbau und Test von Prototypen, Pilotserienpläne, Konstruktionsdaten, Verfahren zur Umsetzung der Konstruktionsdaten ins Produkt, Konfigurationsplanung, Integrationsplanung, Layout.

"Erfassungsbereich" (6) (instrumented range): der spezifizierte Sichtanzeigebereich eines Radar geräts, in dem Ziele eindeutig dargestellt werden.

"Expertensysteme" ( 4 7) (expert systems): Systeme, die Ergebnisse durch Anwendungen von Regeln auf Daten erzielen, die unabhängig von einem "Programm" gespeichert sind, mit einer der fol genden Fähigkeiten:

a) automatische Modifikation des vom Benutzereingegebenen "Quellcodes",

b) Bereitstellung von Kenntnissen zu Problemklas sen in quasi-natürlicher Sprache oder

c) Erwerb des zur systemeigenen Weiterentwicklung nötigen Wissens (symbolisches Training).

"FADEC" (7 9): siehe "Volldigitale Triebwerksregelung" (full authority digital engine control).

"Faserbündel" (1) (roving): ein Bündel von typischerweise 12 - 120 annähernd parallel verlaufenden 'Litzen'.

Anmerkung: 'Litze' (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (mono filaments), die annähernd parallel verlaufen.

"Faser- oder fadenförmige Materialien" (0 1 8) (fibrous or filamentary materials): umfassen

a) endlose "Einzelfäden" (monofilaments),

b) endlose "Garne" und "Faserbündel" (rovings),

c) "Bänder", Webwaren, regellos geschichtete Matten und Flechtwaren,

d) geschnittene Fasern, Stapelfasern und zusammen hängende Oberflächenvliese,

e) frei gewachsene Mikrokristalle (Whiskers), monokristallin oder polykristallin, in jeder Länge,

f) Pulpe aus aromatischen Polyamiden.

"Fehlertoleranz" (4) (fault tolerance): die Fähigkeit eines Rechnersystems, nach beliebiger Fehlfunktion einer beliebigen Hardware- oder "Software"komponente ohne menschlichen Eingriff mit einer bestimmten Leistung weiterzuarbeiten, die eine Auf rechterhaltung des Betriebs, die Datenintegrität und die Wiederherstellung der vollen Funktionsfä higkeit innerhalb einer bestimmten Zeit garantiert.

"Fest" (5) (fixed): die Codier- oder Kompressions-Algorithmen sind nicht durch externe Parameter (z. B.: krypto grafische oder Schlüssel-Variable) beeinflussbar und können nicht durch den Anwender geändert werden.

"Flugkörper" (1 3 5 6 7 9) (missiles): vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme, die eine Nutzlast von mindestens 500 kg über eine Reichweite von mindestens 300 km verbringen können.

Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Flugkörper", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt sind.

"Flugwegoptimierung" (7) (Flight path optimization): ein Verfahren, mittels dessen Abweichungen von einem vierdimensionalen (Raum und Zeit) gewünschten Flugweg auf der Grundlage einer Maximierung der Leistung oder Effektivität für Ein sätze minimiert werden.

"Focal plane array" (6): Eine lineare oder zweidimensionale planare Schicht aus einzelnen Detektorelementen bzw. die Kombination aus mehreren solchen Schichten, die in der fokalen Ebene arbeitet. Die Detektor elemente können sowohl mit als auch ohne Ausleseelektronik sein.

Anmerkung: Diese Definition beschreibt keine schichtweise An ordnung (Stack) von einzelnen Detektor elementen oder beliebige Detektoren mit zwei, drei oder vier Elementen, vorausgesetzt, sie arbei ten nicht nach dem «Time-delay-and-integration»-Prinzip.

"Frequenzsprung" (Radar) (6) (radar frequency agility): jedes Verfahren, bei dem die Trägerfrequenz eines Im pulsradarsenders in pseudo-zufälliger Folge zwischen einzelnen Radarimpulsen oder Gruppen von Radarimpul sen um einen Betrag verändert wird, der gleich der oder größer als die Bandbreite des Radarimpulses ist.

"Frequenzsprungverfahren" (5) (frequency hopping): ein Verfahren des "gespreizten Spektrums". Dabei wird die Übertragungsfrequenz eines einzelnen Nachrichtenkanals durch eine zufällige oder pseudozufällige Folge von diskreten Stufen geändert.

"Frequenz-Syntheziser" (3) (frequency syntheziser): ungeachtet der im Einzelfall benutzten Technik jede Art von Frequenzquelle oder Messsender, die an einem oder mehreren Ausgängen eine Vielfalt gleichzeitig oder ab wech selnd vorhandener Ausgangs frequenzen lie fert, die durch eine kleinere Anzahl von Normal- oder Steuer frequenzen geregelt, von ihr abgeleitet oder von ihr gesteuert sind.

"Frequenzumschaltzeit" (3 5) (frequency switching time): die maximal benötigte Zeit (d.h. Verzögerung) eines Signals bei der Umschaltung von einer gewähl ten Aus gangsfrequenz zu einer anderen gewählten Ausgangsfre quenz zur Erreichung einer der fol genden Eigenschaften:

a) einer Frequenz innerhalb von 100 Hz der Endfre quenz oder

b) eines Ausgangspegels innerhalb von 1,0 dB des Endausgangspegels.

"Für den Kriegsgebrauch" (1) (adapted for use in war): jede Änderung oder zielgerichtete Auslese (z.B. Ände rung der Reinheit, Lagerbeständigkeit, Virulenz, Ver breitungsmerkmale oder Widerstandsfähigkeit gegen UV-Strahlung), die für die Steige rung der Wirksamkeit bei der Außergefechtsetzung von Menschen oder Tieren, der Schädigung von Ausrüstung oder Vernichtung von Ernten oder der Umwelt ausgeführt wird.

"Garn" (1) (yarn): ein Bündel von verdrillten 'Litzen'.

Anmerkung: 'Litze' (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 "Einzelfäden" (mono filaments), die annähernd parallel verlaufen.

"Gaszerstäubung" (1) (gas atomisation): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metalllegierungsschmelze durch einen Hochdruck-Gasstrom zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 µm zerstäubt wird.

"Genauigkeit" (2 6) (accuracy): die maximale positive oder negative Abweichung eines angezeigten Wertes von einem anerkannten Richtmaß oder dem wahren Wert. Sie wird gewöhnlich als Unge nauigkeit (Positions un sicher heit, Messunsicherheit) gemessen.

"Geografisch verteilt" (6) (geographically dispersed): Sensoren gelten als geografisch verteilt, wenn der Ab stand zwischen jedem Sensor mehr als 1.500 m in je der Richtung beträgt. Mobile Sensoren gelten grund sätzlich als geografisch verteilt.

"Gesamte digitale Übertragungsrate" (5) (total digital transfer rate): die Anzahl Bits einschließlich der für Leitungs codie rung, Overhead usw. pro Zeiteinheit, die zwi schen korrespondierenden Geräten in einem digitalen Über tragungssystem übertragen wird (siehe auch "digitale Übertragungsrate").

"Gesamtstromdichte" (3) (overall current density): die Gesamtzahl der Amperewindungen in der Spule (das ist die Summe der Windungen multipliziert mit dem ma ximalen Strom, der in jeder Windung fließt), geteilt durch die gesamte Querschnittfläche der Spule (einschließlich der supraleitenden Drähte, der metal lischen Matrizen, in denen die supra leitenden Drähte eingebettet sind, des Ummantelungsmaterials, aller Kühlkanäle u.ä.).

"Gespreiztes-Spektrum-Verfahren" (5) (spread spectrum): die Technik, bei der die Energie in einem relativ en gen Nachrichtenkanal über ein wesentlich breite res Spektrum verteilt wird.

"Gespreiztes Spektrum (Radar)" (6) (radar spread spectrum): jedes Modulationsverfahren, um die Bandbreite des re lativ schmalbandigen Spektrums eines Signals durch Zufalls- oder Pseudozufallscodierung zu verbreitern.

"Gütegeschalteter Laser" (6) (Q-switched laser): ein "Laser", bei dem die Energie in der Besetzungsin version oder im optischen Resonator gespeichert und nachfolgend in einem Puls emittiert wird.

"Hauptbestandteil" (4) (principal element): ein Bestandteil, dessen Austauschwert mehr als 35 % des Gesamt wertes für das vollständige System beträgt. Bestandteilwert ist der vom Systemhersteller oder -integrator für den Bestandteil gezahlte Preis. Gesamtwert ist der übliche internationale Verkaufspreis an unverbundene Käufer im Zeitpunkt der Fertigstel lung oder Lieferung.

"Hauptspeicher" (4) (main storage): Primärspeicher für Daten oder Befehle zum schnellen Zugriff durch eine Zentraleinheit. Er besteht aus dem internen Speicher eines "Digitalrechners" und jeder Art von hierarchischer Erweiterung wie Puffer speicher (cache) oder zusätzliche Speicher mit nichtsequenti ellem Direktzugriff.

"Hauptsteuerung" (7) (primary flight control): Steuerorgane zum Stabilisieren oder Manövrieren eines "Luft fahr zeugs" unter Verwendung von Kraft/Momenterzeugern, d.h. aerodynamischer Steuerflächen oder Schubvektor steuerung.

"Heißisostatisches Verdichten" (2) (hot isostatic densification): ein Verfahren, bei dem ein Gussstück bei Temperaturen größer als 375 K (+102°C) in einer geschlos senen Kammer über ein Medium (Gas, Flüssigkeit, Feststoffteilchen, usw.) gleichmäßig in allen Richtungen so mit Druck beaufschlagt wird, dass Hohlräume im Innern des Gussstücks verkleinert oder beseitigt werden.

"Herstellung" (ATA NTA 0 bis 9) (production): schließt alle Fabrikationsstufen ein, z.B. Fertigungs vor be rei tung, Fertigung, Integration, Zusammenbau, Kontrolle, Prüfung (Test), Qualitätssicherung.

"Herstellungsanlagen" (9) (production facilities): Ausrüstung und besonders entwickelte "Software" hier für, eingebaut in Anlagen für die "Entwicklung" oder für eine oder mehrere Phasen der "Herstellung".

Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Herstellungsanlagen", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt sind.

"Herstellungsausrüstung" (1 9) (production equipment): Werkzeuge, Schablonen, werkzeugführende Vorrichtun gen, Dorne, Gussformen, Gesenke, Spann- und Ausrich tungsvorrichtungen, Prüfeinrichtungen sowie andere Einrichtungen und Bestandteile hierfür, besonders konstruiert oder geändert für die "Entwicklung" oder für eine oder mehrere Phasen der "Herstellung".

Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf "Herstellungsausrü stung", die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Teil I C) genannt ist.

"Hybridrechner" (4) (hybrid computer): Geräte, die alle folgenden Operationen ausführen können:

a) Daten aufnehmen,

b) Daten sowohl in analoger als auch in digitaler Darstellung verarbeiten und

c) Daten ausgeben.

"Hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung" (2) (direct acting hydraulic pressing): ein Umform verfahren, bei dem ein flüssigkeitsgefüll tes, elastisches Kissen in unmittelbarem Kontakt mit dem Werkstück steht.

"Immunotoxin" (1) (immunotoxin): ein Konjugat eines zellspezifischen monoklonalen Antikörpers und eines "Toxins" oder einer "Toxinuntereinheit", das selektiv erkrankte Zellen befällt.

"Impfstoff" (1) (vaccine):ein Arzneimittel, das dazu bestimmt ist, eine schützende Immunreaktion bei Menschen oder Tieren zur Verhütung einer Krankheit hervorzurufen.

"Impulskompression" (5) (pulse compression): die Codierung und Verarbeitung eines Radarimpulses großer Impulsbreite mit dem Resultat eines Impulses geringerer Breite und höherer Auflösung unter Beibe haltung der Vorteile hoher Impuls energie.

"Informationssicherheit" (4 5) (information security): sämtliche Mittel und Funktionen, die die Zugriffsmög lich keit, die Vertraulichkeit oder Unversehrt heit von Information oder Kommunikation sichern, ausgenommen die Mittel und Funktionen zur Absicherung gegen Funk tionsstörungen. Eingeschlossen sind: "Kryptotechnik", "Kryptoanalyse", Schutz gegen kompromittierende Ab strahlung und Rechnersicherheit.

Anmerkung: "Kryptoanalyse" (cryptanalysis): die Analyse eines Kryptosystems oder seiner Eingänge und Ausgänge, um vertrauliche variable oder sensitive Daten einschließlich Klartext abzuleiten (ISO 7498-2-1988 (E), Paragraph 3.3.18).

"Innenbeschichtung" (9) (interior lining): geeignet für die Nahtstelle zwischen dem Festtreib stoff und dem Gehäuse oder der Isolierschicht; norma lerweise eine flüssige Dispersion auf Polymerbasis aus feuerfestem oder isolierendem Material, z.B. koh lenstoffgefülltes Hydroxyl Terminated Polybutadiene (HTPB) oder ein anderes Polymer mit Aushärtungszusatz, mit dem das Gehäuseinnere durch Besprühen oder Aufziehen beschichtet wird.

"Integrierte Hybrid-Schaltung" (3) (hybrid integrated circuit): jede Kombination aus integrierten Schaltungen oder integrierter Schaltung mit "Schaltungselementen" oder "diskreten Bauelementen", die miteinander ver bun den sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere be stimmte Funktionen zu erfüllen, mit allen folgenden Eigen schaften:

a) mit mindestens einem Bauelement ohne eigenes Ge häuse,

b) miteinander verbunden unter Verwendung typischer IC-Herstellungsverfahren,

c) als Ganzes austauschbar und

d) üblicherweise nicht zerlegbar.

Anmerkung 1: "Schaltungselement" (circuit element): eine unteilbare aktive oder passive Funktions ein heit einer elektronischen Schaltung, z.B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kon densator.

Anmerkung 2: "Diskretes Bauelement" (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befind liches Schal tungselement mit eigenen äußeren Anschlüssen.

"Integrierte Multichip-Schaltung" (3) (multichip integrated circuit): zwei oder mehrere "monolithisch integrierte Schaltun gen", die auf ein gemeinsames "Substrat" aufge bracht sind.

"Integrierte optische Schaltung" (3) (optical integrated circuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder eine "in tegrierte Hybrid-Schaltung" mit einem oder meh reren integrierten Elementen, die als Fotosensor oder Fo tosender oder zur Durchführung einer optischen oder elektrooptischen Funktion oder mehrerer optischer oder elektrooptischer Funktionen konstruiert sind.

"Integrierte Schichtschaltung" (3) (film type integrated circuit): eine Anordnung von "Schaltungselementen" und metalli schen Leitverbindungen, die durch Abscheiden einer dicken oder dünnen Schicht auf einem isolierenden "Substrat" gebildet wird.

Anmerkung: "Schaltungselement" (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktions ein heit einer elektronischen Schaltung, z.B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

"Intrinsische Magnetfeldgradientenmesser" (6) (intrinsic magnetic gradiometers): Geräte zur Messung des Gradienten eines Magnetfelds, die einen einzelnen Magnetfeldgradienten-Messwertauf nehmer sowie zuge hörige Elektronikschaltungen enthal ten und ein zum gemessenen Magnetfeldgradienten proportionales Ausgangssignal liefern (siehe auch "Ma gnetfeldgradienten messer").

"Isolierte lebende Kulturen" (1) (isolated livecultures): schließen lebende Kulturen in gefrorener Form und als Trockenpräparat ein.

"Isolierung" (9) (insulation): für die Bestandteile eines Raketenmotors (d.h. Ge häuse, Düseneinlass, Gehäuse deckel); schließt gehärte tes oder halbgehärtetes Gummiverbundmaterial ein, das isolierendes oder feuerfestes Material enthält, und kann auch zur Spannungsentlastung eingebracht sein.

"Isostatische Pressen" (2) (isostatic presses): haben eine geschlossene Druckkammer, in der über ver schiedene Medien (Gas, Flüssigkeit, Fest stoffteil chen) ein in allen Richtungen gleicher, auf Werkstück oder Werkstoff wirkender Druck erzeugt wird.

"Kernreaktor" (0) (nuclear reactor): umfasst alle Bauteile im Inneren des Reaktorbehälters oder die mit dem Reaktor behälter direkt verbundenen Bauteile, die Einrichtungen für die Steuerung des Leistungspegels des Reaktor kerns und die Bestand teile, die üblicherweise das Primärkühlmittel des Re aktorkerns enthalten und damit in unmittelbaren Kon takt kommen oder es steuern.

"Kohlenstofffaser-Preform" (1) (carbon fibre preform): eine geregelte Anordnung unbeschichteter oder be schichteter Fasern für die Errichtung der Rahmen kon struktion von einem Teil, bevor die "Matrix" zur Bil dung eines "Verbundwerkstoffs" eingefügt wird.

"Kombinierter Schwenkrundtisch" (2) (compound rotary table): ein Tisch, mit dem ein Werkstück in zwei nicht pa rallelen Achsen gedreht und geschwenkt werden kann, wobei die Achsen simultan durch eine "Bahn steuerung" koordiniert werden können.

"Kommunikationskanalsteuerung" (4) (communications channel controller): physikalische Schnittstelle zur Steuerung des Ablaufs von synchronen oder asynchronen digitalen Datenströ men. Es handelt sich um eine Bau gruppe, die in Rech ner oder in Telekommunikations einrichtungen inte griert werden kann, um Kommunikation zu ermöglichen.

"Kritische Temperatur (auch als Sprungtemperatur bezeichnet)" (1 3 6) (critical temperature (or transition temperature)): eines speziellen "supraleitenden" Materials ist die Temperatur, bei der das Material den Wider stand gegen den Gleichstromfluss vollständig verliert.

"Kryptotechnik" (5) (cryptography): die Technik der Prinzipien, Mittel und Methoden zur Transformation von Daten, um ihren Informa tionsinhalt unkenntlich zu machen, ihre unbemerkte Änderung oder ihren unerlaubten Gebrauch zu verhindern. Kryptotechnik beschränkt sich auf die Transfor mation von Informationen unter Benut zung eines oder mehrerer 'geheimer Parameter' (z.B. Schlüssel-Variable) oder des zugehörigen Schlüs sel-Mana ge ments.

Anmerkung: 'Geheimer Parameter' (secret parameter): eine Konstante oder ein Schlüssel, der vor anderen geheim gehalten wird oder nur innerhalb einer Gruppe bekannt ist.

"Laser" (0 2 3 5 6 7 8 9) (laser): eine Anordnung von Bauteilen zum Erzeugen von räumlich und zeitlich ko hären tem Licht, das durch stimulierte Emission von Strahlung verstärkt wird.

Anmerkung: siehe auch "Chemische Laser",

"Gütegeschaltete Laser",

"Super-High Power Laser",

"Transfer-Laser".

"Leistungsmanagement" (7) (power management): verändert die auf das Höhenmessersignal übertragene Leistung so, dass die erhaltene Leistung in der "Luftfahrzeug"-Höhe stets die geringstnötige zur Bestimmung der Höhe ist.

"Linearität" (2) (linearity): die maximale Abweichung der Ist-Kennlinie (Mittelwert der oberen und unteren Messwerte), in posi tiver oder negativer Richtung, von einer Geraden, die so gelegt ist, dass die größten Abweichungen ausgeglichen und so klein wie möglich gehalten werden.

"Local Area Network" (4) (local area network): ein Datenkommunikationssystem mit allen folgenden Eigen schaften:

a) es erlaubt die direkte Kommunikation einer beliebigen Anzahl unabhängiger 'Datengeräte' mit einander, und

b) es ist beschränkt auf einen engen geografischen Bereich (z.B. Bü rohaus, Fabrik, Universi täts gelände, Warenhaus).

Anmerkung: 'Datengerät' (data device): Geräte, die digitale Datenfolgen senden oder em pfangen können.

"Luftfahrzeug" (1 7 9) (aircraft): ein Fluggerät mit feststehenden, schwenkbaren oder rotierenden (Hub schrau ber) Tragflächen, mit Kipprotoren oder Kippflügeln (siehe auch "zivile Luftfahr zeuge").

"Magnetfeldgradientenmesser" (6) (magnetic gradiometers): Geräte zur Messung der räumlichen Veränderung der Magnetfelder von Quellen außerhalb des Geräts. Ein Magnetfeldgradientenmesser besteht aus mehreren "Magnetometern" sowie zugehörigen Elektronikschaltun gen, deren Ausgangssignal ein Maß für den Magnet feld gradienten ist (siehe auch "intrinsische Magnetfeld gradientenmesser").

"Magnetometer" (6) (magnetometers): Geräte zur Messung der Magnetfelder von Quellen außerhalb des Geräts. Ein Magnetometer besteht aus einem einzelnen Magnetfeld-Messwertaufnehmer sowie zu gehörigen Elektronik schaltungen und liefert ein zum gemessenen Magnetfeld proportionales Ausgangssignal.

"Matrix" (1 2 8 9) (matrix): eine im wesentlichen einheitliche Phase, die den Raum zwischen Partikeln, Whiskern oder Fasern füllt.

"Mechanisches Legieren" (1) (mechanical alloying): ein Legierungsverfahren, das sich aus der Bindung, Zer brechung und Wiederbindung elementarer und Vorle gierungspulver durch mechanischen Aufprall ergibt. Nicht metallische Teilchen können durch Zugabe des ge eigneten Pulvers in die Legierung eingebracht werden.

"Mehrfachdatenstromverarbeitung" (4) (multi-data-stream processing): 'Mikroprogramm'- oder Rechner architektur-Technik zur simultanen Verarbeitung von mindestens zwei Datenfol gen unter der Steuerung mindestens einer Befehlsfolge, wie:

a) SIMD (single instruction multiple data) für z.B. Vektor- oder Array-Rechner,

b) MSIMD (multiple single instruction multiple data),

c) MIMD (multiple instruction multiple data) ein schließlich straff (tightly), eng (closely) oder lose (loosely) gekoppelter Architekturen oder

d) strukturierte Anordnungen (Datenfelder) von Recheneinheiten einschließlich "systolischer Array-Rechner".

Anmerkung: 'Mikroprogramm' (microprogramme): eine in einem speziellen Speicherbereich dauer haft gespeicherte Folge von elementaren Befehlen, deren Ausführung durch das Ein bringen des Referenzbefehls in ein Befehlsregister eingeleitet wird.

"Mehrstufige Sicherheit" (5) (multilevel security): ein System, das Informationen mit unterschiedlichen Ver trau lichkeitsstufen enthält und simultanen Zu griff von Anwendern unterschiedlicher Sicherheits ermächtigun gen (Benutzergruppen) erlaubt, aber ver hindert, dass Anwender Zugang zu Informationen er halten, für die sie nicht autorisiert sind.

Anmerkung: "Mehrstufige Sicherheit" betrifft Rechnersicher heit, nicht aber Rechnerzuverlässigkeit, die sich auf die Verhinderung von Fehlern oder generelles menschliches Versagen bezieht.

"Messunsicherheit" (2) (measurement uncertainty): die Kenngröße, die angibt, in welchem Bereich um den an ge gebenen Wert der richtige Wert der Messgröße mit einer statistischen Sicherheit von 95 % (Bezug: VDI/VDE 2617, Blatt 1) oder 100 % (Bezug: ISO 10360-2) liegt. Sie umfasst die nicht korrigierten, systematischen Abwei chungen, die nicht korrigierte Umkehrspanne und die zufälligen Abweichungen.

"Mikrocomputer" (3) (microcomputer microcircuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder "inte grierte Multichip-Schaltung" mit einer arithmeti schen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, allge meine Befehle aus einem internen Speicher zur Abar beitung von Daten, die in dem internen Speicher enthalten sind, auszuführen.

Anmerkung: Der interne Speicher kann durch einen externen Speicher erweitert werden.

"Mikroorganismen" (1 2) (microorganisms): Bakterien, Viren, Mycoplasma, Rickettsiae, Chlamydiae oder Pilze in natürlicher, adaptierter oder modifizierter Form entweder in Form "isolierter lebender Kulturen" oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert wurde.

"Mikroprozessor" (3) (microprocessor microcircuit): eine "monolithisch integrierte Schaltung" oder "inte grierte Multichip-Schaltung" mit einer arithmeti schen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, eine Reihe allgemeiner Befehle von einem externen Spei cher auszuführen.

Anmerkung 1: Der "Mikroprozessor" enthält üblicherweise kei nen anwenderzugänglichen Speicher als inte gralen Bestandteil, es kann jedoch auf dem Chip vorhandener Speicherplatz zur Erfüllung seiner Logikfunktionen genutzt werden.

Anmerkung 2: Diese Definition schließt auch Chipsets ein, die entwickelt wurden, um zusammen geschaltet wie ein "Mikroprozessor" zu arbeiten.

"Mischungen von Chemikalien" (1) (chemical mixture): ein festes, oder flüssiges oder gasförmiges Produkt, zu sammen gesetzt aus zwei oder mehreren Komponenten, die unter den Bedingungen, unter denen die Mischung gelagert wird, nicht miteinander reagieren.

"Miteinander verbundene Radarsensoren" (6) (interconnected radar sensors): zwei oder mehrere Radarsensoren, die miteinander Daten in Echtzeit austauschen können.

"Momentan-Bandbreite" (3 5 7) (instantaneous bandwidth): die Bandbreite, bei der die Ausgangsleistung inner halb einer Toleranz von 3 dB konstant bleibt, ohne dass an dere Funktionsparameter angepasst werden müssen.

"Monolithische Substrate" (6) (substrate blanks): monolithische Verbindungen mit Abmessungen, die geeig net sind zur Herstellung optischer Bauteile wie Spiegel oder Linsen.

"Monolithisch integrierte Schaltung" (3) (monolithic integrated circuit): eine Kombination aus passiven oder aktiven 'Schaltungse lementen' oder aus beiden, die

a) durch Diffusions-, Implantations- oder Abschei dungsverfahren in oder auf einem einzelnen Halb lei ter-Substrat, einem sogenannten Chip, gebildet sind,

b) unteilbar miteinander verbunden sind und

c) eine oder mehrere Funktionen einer Schaltung aus führen.

Anmerkung: 'Schaltungselement' (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktions einheit einer elektronischen Schaltung, z.B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

"Monospektrale Bildsensoren" (6) (monospectral imaging sensors): können Bilddaten von einem diskreten Spektral band erfassen.

"Multispektrale Bildsensoren" (6) (multispectral imaging sensors): können Bilddaten von zwei oder mehreren diskreten Spektralbändern gleichzeitig oder seriell erfas sen. Senso ren mit mehr als zwanzig diskreten Spektral bändern wer den auch als hyperspektrale Bild sensoren bezeichnet.

"Natürliches Uran" (0) (natural uranium): Uran mit einer natürlich vorkommenden Mischung von Iso topen.

"Netzzugangssteuerung" (network access controller): physikalische Schnittstelle zu einem dezentralen Netz werk. Hierbei wird ein gemeinsames Übertragungsmedium eingesetzt, das überall mit derselben "digitalen Über tra gungs rate" arbeitet und beliebige Übermittlung durch das Netz bietet (z.B. «Token» oder «Carrier sense»). Es wer den voneinander unab hängige Datenpakete oder Daten gruppen, die entsprechend adressiert sind, ange nom men (z.B. IEEE 802). Die Netzzugangssteuerung ist eine Bau gruppe, die in Rechnern oder Telekommuni kations ein rich tungen integriert sein kann, um diesen Telekommunikati onszugang zu verschaffen.

"Neuronaler Rechner" (4) (neural computer): Rechengerät, konstruiert oder geändert zur Nachahmung des Ver haltens eines oder mehrerer Neuronen, d.h. ein Rechengerät, das durch seine Hardwareeigenschaften ge eignet ist, die Gewichtun gen und Anzahl von Verbindun gen einer Vielzahl von Recheneinheiten in Abhängigkeit von verarbeiteten Daten zu regulieren.

"(Nicht-) Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" (1) (states (not) party to the Chemical Weapons Convention): solche Staaten, die das Übereinkommen über das Verbot der Entwicklung, Herstellung, Lagerung und des Einsatzes chemischer Waffen (nicht) ratifiziert haben. (Siehe www.opcw.org)

"Normierte Bandbreite" (3) (fractional bandwidth): die "Momentan-Bandbreite" geteilt durch die Mitten frequenz, angegeben in Prozent.

"Nullpunkt" (Beschleunigungsmesser) (7) (bias (accelerometer)): das von einem Beschleunigungsmesser ohne vorhandene Be schleunigung ausgegebene Signal.

"Numerische Steuerung" (2) (numerical control): die automatische Steuerung eines Prozesses durch ein Gerät, das numerische Daten benutzt, die normalerweise während des Arbeitsgangs eingegeben werden (Bezug: ISO 2382).

"Objektcode" (9) (object code): die maschinenlauffähige Form einer geeigneten Beschreibung einer oder mehrerer Prozesse, die durch ein Programmiersystem umgewandelt wurde.

"Optische Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke" (7) (Flight control optical sensor array): miteinander ver bundene optische Sensoren auf "Laser"basis, die Echtzeit-Flugdaten für die bordseitige Verarbeitung liefern.

"Optische Vermittlung" (5) (optical switching): das Vermitteln oder Durchschalten optischer Signale ohne Umwandlung in elektrische Signale.

"Optische Verstärkung" (5) (optical amplification): eine Verstärkertechnik für die optische Kommunikation, die eine Verstärkung optischer Signale, die durch eine separate optische Quelle generiert werden, ohne Umwandlung in elektrische Signale erlaubt, z.B. durch Verwendung von optischen Halbleiterverstärkern, LWL-Luminiszenz verstärkern.

"Optischer Rechner" (4) (optical computer): Rechner, konstruiert oder geändert zur Darstellung von Daten durch Licht. Seine logischen Schaltun gen basieren auf direkt gekoppelten Optoschaltelementen.

"Personenbezogene Mikroprozessor-Karte" (5) (personalized smart card): eine Chip-Karte mit einer Mikro prozessor-/Mikrocomputerschaltung, die für eine bestimmte Anwen dung programmiert wurde und die vom Benutzer nicht für eine andere Anwendung umprogrammiert werden kann.

"Planlaufabweichung" (2) (camming): die axiale Verlagerung bei einer Umdrehung der Hauptspindel, gemessen senk recht zur Stirnfläche der Spindel in der Nähe des Umfangs der Stirnfläche (Bezug ISO 230/1 1986, Nr. 5.63).

"Programm" (2 4 5 6) (programme): eine Folge von Befehlen zur Ausführung eines Prozesses in einer Form oder umsetzbar in eine Form, die von einem Elektronenrechner ausführbar ist.

"Prozess-Reaktionszeit" (4) (Reaktionszeit auf eine globale Unterbrechung) (global interrupt latency time): die Zeit, die ein Rechnersystem benötigt, um eine durch ein Ereignis verursachte Unterbrechung (interrupt) zu er kennen, die Unterbrechung zu bedienen und auf ein an deres speicherresidentes Programm (task) zur Bearbei tung dieser Unterbrechung umzuschalten.

"Pulsdauer" (6) (pulse duration): Dauer eines "Laser"-Pulses, gemessen als volle Halbwerts breite des Intensitäts maximums (FWHI).

"Pulverisierung" (1) (comminution): ein Verfahren, bei dem ein Material durch Zerbrechen, Zerstoßen oder Zerreiben zu Teilchen zerklei nert wird.

"Quellcode oder Quell-Programmiersprache" (4 5 6 7 9) (source code or source language): geeignete Beschrei bung eines oder mehrerer Prozesse, die durch ein Programmiersystem in maschinenablauffähigen Code ("Object code" oder Object-Programmiersprache) umgewandelt werden kann.

"Raumfahrzeuge" (7 9) (spacecraft): aktive und passive Satelliten und Raumsonden.

"Rauschpegel" (6) (noise level): ein Maß, basierend auf der spektralen Leistungsdichte eines elektrischen Sig nals. Der Spitze-Spitze-Wert des Rauschpegels ist gleich S2pp = 8 No (f2-f1), wobei Spp die Spitze-Spitze-Ampli tude des Signals (z.B. in nT), No die spektrale Leistungsdichte (z.B. nT2/Hz) und f2-f1 die interessierende Band breite ist.

"Rechenelement" (4) (computing element, CE): kleinste rechnende Einheit, die ein arithmetisches oder logisches Ergebnis liefert.

"Roboter" (2 8) (robot): ein Handhabungssystem, das bahn- oder punktgesteuert sein kann, Sensoren benutzen kann und alle folgenden Eigenschaften aufweist:

a) multifunktional,

b) fähig, Material, Teile, Werkzeuge oder Spezialvor richtungen durch veränderliche Bewegun gen im drei dimensionalen Raum zu positionieren oder auszurich ten,

c) mit drei oder mehr Regel- oder Stellantrieben, die Schrittmotoren einschließen können, und

d) mit "anwenderzugänglicher Programmierbarkeit" durch Eingabe-/Wiedergabe-Verfahren (teach/playback) oder durch einen Elektronenrechner, der auch eine spei cherprogrammierbare Steuerung sein kann, d.h. ohne mechanischen Eingriff.

Anmerkung: Diese Definition umfasst nicht folgende Geräte:

1. ausschließlich hand- oder fernsteuerbare Handha bungssysteme,

2. Handhabungssysteme mit festem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mecha nisch fest gelegte Bewegungen ausführen. Das Programm wird durch feste Anschläge wie Stifte oder Nocken mechanisch begrenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Winkel können mechanisch, elektro nisch oder elektrisch nicht geändert werden,

3. mechanisch gesteuerte Handhabungssysteme mit ver änderlichem Ablauf (Be we gungs automaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Pro gramm wird durch feste, aber verstellbare An schläge wie Stifte und Nocken me chanisch be grenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Win kel sind innerhalb des fest gelegten Programmablaufs veränderbar. Verände run gen oder Modifikationen des Programmablaufs (z.B. durch Wechsel von Stiften oder Austausch von Nocken) in einer oder mehreren Bewegungsachsen werden nur durch mechanische Vorgänge ausgeführt,

4. nicht antriebsgeregelte Handhabungssysteme mit veränderlichem Ablauf (Be we gungs automaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Pro gramm ist veränderbar, der Ablauf erfolgt aber nur nach dem Binärsignal von me chanisch festge legten elektrischen Binärgeräten oder verstell baren An schlä gen,

5. Regalförderzeuge, die als Handhabungssysteme mit kartesischen Koordinaten bezeich net werden und als wesentlicher Bestandteil vertikaler Lagerein rich tungen gefertigt und so konstruiert sind, dass sie Lagergut in die Lager ein rich tungen einbringen und aus diesen entnehmen.

"Rotationszerstäubung" (1) (rotary atomization): ein Verfahren, bei dem ein schmelzflüssiger Metall strom oder eine Metallschmelze durch Zentrifu galkraft zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 µm zer stäubt wird.

"Rundlaufabweichung" (2) (run-out): die radiale Verlagerung bei einer Umdrehung der Hauptspindel, gemessen senkrecht zur Spindelachse auf der zu prüfenden inneren und äußeren Oberfläche der Spindel (Bezug ISO 230/1 1986, Nr. 5.61).

"Schmelzextraktion" (1) (melt extraction): ein Verfahren, bei dem zur 'schnellen Erstarrung' und Extraktion eines streifen förmigen Legierungs erzeug nisses ein kurzes Segment eines rotierenden Ab schreckblockes in eine Metall legierungs schmelze einge taucht wird.

Anmerkung: 'Schnelle Erstarrung' (solidify rapidly) ist die Er starrung geschmolzenen Materials bei Abküh lungsra ten größer als 1.000 K/s.

"Schmelzspinnen" (1) (melt spinning): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur 'schnellen Erstarrung' auf einen rotierenden Ab schreckblock aufprallt, wobei flockige, streifen- oder stäbchenförmige Erzeugnisse entstehen.

Anmerkung: 'Schnelle Erstarrung' (solidify rapidly) ist die Er starrung geschmolzenen Materials bei Abküh lungsra ten größer als 1.000 K/s.

"Schwenkspindel" (2) (tilting spindle): eine Werkzeugspindel, die die Winkelposition ihrer Spindel-Mittellinie zu jeder anderen Achse während des Bearbeitungsvorgangs verändert.

"Seil" (1) (tow): ein Bündel von "Einzelfäden" (monofilaments), die normalerweise annähernd parallel ver laufen.

"SHPL" (6): siehe "Super-High Power Laser".

"Signalanalysatoren" (3) (signal analysers): Geräte, die Hauptmerkmale der Einzelfrequenzanteile aus Mehr frequenzsignalen messen und anzei gen können. Siehe auch "dynamische Signalanalysatoren".

"Signaldatenverarbeitung" (3 4 5 6) (signal processing): die Verarbeitung von außen kommender, informations tragender Signale durch Algorithmen wie Zeitkompression, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Kon volu tion oder Transformationen zwi schen Be reichen (z.B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Trans for mation).

"Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal" (5) (common channel signalling): ein Signalisierungs ver fahren zwischen Vermittlungen, bei dem über einen einzelnen Kanal Signalisie rungsin formationen für eine Vielzahl von Verbindungen oder Rufen und anderen Informationen, z.B. für die Netz werksteuerung (Network Management), übermittelt wer den, wobei adressierte Nach richten (labelled messages) verwendet werden.

"Signallaufzeit des Grundgatters" (3) (basic gate propagation delay time): der Wert der Signallaufzeit, bezogen auf das Grund gatter, welches in einer "monolithisch integrierten Schaltung" verwendet wird. Für eine Fami lie von "monolithisch inte grierten Schaltungen" kann dieser Wert entweder als Signallauf zeit je typisches Grund gatter in dieser Familie oder als typische Signallaufzeit je Gatter in dieser Familie angegeben werden.

Anmerkung 1: Die "Signallaufzeit des Grundgatters" ist nicht mit der Eingangs-/Ausgangs verzöge rungszeit einer kom plexen, monolithisch integrierten Schaltung zu ver wechseln.

Anmerkung 2: Eine Familie besteht aus allen Integrierten Schaltungen, bei denen alle folgenden Eigen schaften bei ihren Herstellmethoden und -regeln sowie Spezifikationen an ge wendet worden sind, ausgenommen ihre speziellen Funktionen:

a) gemeinsame Hard- und Softwarearchitektur,

b) gemeinsame Entwurfs- und Prozess- Technologie und

c) gemeinsame Grundcharakteristiken.

"Skalierungsfaktor" (Kreisel oder Beschleunigungsmesser) (7) (scale factor (gyro or accelerometer)): das Verhältnis zwischen einer Änderung der Ausgangs größe und der Änderung der zu messenden Größe. Als Skalierungs faktor wird im allgemeinen die Steigung einer geraden Linie bezeichnet, die nach dem Verfah ren der kleinsten Quadrate an die Ein- und Ausgangs werte angepasst werden kann, indem die Eingangsgröße zyklisch über den Eingangsgrößenbereich verändert wird.

"Software" (ASA 0 bis 9) (software): eine Sammlung eines oder mehrerer "Programme" oder 'Mikroprogramme', die auf einem beliebigen greifbaren (Ausdrucks-)Medium fixiert sind.

Anmerkung: 'Mikroprogramm' (microprogramme):eine in einem speziellen Speicherbereich dauer haft gespeicherte Folge von elementaren Befehlen, deren Ausführung durch das Ein brin gen des Referenzbefehls in ein Befehlsregister eingeleitet wird.

"Speicherprogrammierbar" (2 3 5) (stored programm controlled): eine Steuerung, die in einem elektronischen Speicher Befehle speichert, die ein Prozessor zur Ausführung von vorher festgelegten Funktionsabläufen ver wenden kann.

Anmerkung: Ausrüstung kann unabhängig davon "speicherprogrammierbar" sein, ob sich der elektronische Spei cher innerhalb oder außerhalb der Ausrüstung befindet.

"Spezifischer Modul" (0 1 9) (specific modulus): der Young'sche Modul gemessen in Pascal entsprechend N/m2, dividiert durch das spezifische Gewicht gemes sen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ±2 K (23°C ±2°C) und bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50 % ±5 %.

"Spezifische Zugfestigkeit" (0 1 9) (specific tensile strength): Höchstfestigkeit gemessen in Pascal entsprechend N/m2, dividiert durch das spezifische Gewicht gemes sen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ±2 K (23°C ±2°C) und bei einer relativen Luft feuchtigkeit von 50 % ±5 %.

"Spitzenleistung" (6) (peak power): Energie je Puls in Joule geteilt durch die Pulsdauer in Sekunden.

"Stabilität" (7) (stability): Die Standardabweichung (1 sigma) der Änderung eines bestimmten Parameters von seinem Kalibrierwert, der unter stabilen Temperaturbedingungen gemessen wurde. Die Stabilität kann als Funk tion der Zeit ausgedrückt werden.

"Steuerungssysteme" (7) (guidance set): Systeme, die das Mess- und Berechnungsverfahren zur Ermittlung von Position und Geschwindigkeit (d.h. zur Navigation) eines "Flugkörpers" mit dem Verfahren inte grieren, das für die Berechnung und Übertragung von Kommandos zu den Flugsteuerungssystemen des "Flugkör pers" einge setzt wird, um die Flugbahn zu korrigieren.

"Substrat" (3) (substrate): ein Träger aus Basismaterial mit oder ohne Leiterbah nen, auf oder in dem 'diskrete Bauelemente' oder inte grierte Schaltungen oder beide angebracht werden kön nen.

Anmerkung 1: 'Diskretes Bauelement' (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse befind liches 'Schaltung selement' mit eigenen äußeren Anschlüssen.

Anmerkung 2: 'Schaltungselement' (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionsein heit einer elektronischen Schaltung, z.B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kon densator.

"Super-High Power Laser" (6) (SHPL): ein "Laser", der eine Ausgangsleistung von mehr als 1 kJ über 50 ms oder eine mittlere oder eine Dauer strich-Ausgangsleistung von mehr als 20 kW abgeben kann.

"Superlegierungen" (2 9) (superalloys): Legierungen auf der Basis von Nickel, Kobalt oder Ei sen mit höheren Festig keiten als denen in der AISI-300-Serie bei Temperaturen über 922 K (649°C) unter schweren Umwelt- und Betriebsbedin gun gen.

"Superplastisches Umformen" (1 2) (superplastic forming): ein Warmumformverfahren für Metalle, deren im her kömmlichen Zugversuch bei Raumtemperatur ermit telte Bruchdehnung weniger als 20 % beträgt; durch Wärmezufuhr werden Dehnungen erzielt, die mindestens das Zweifache des vorgenannten Wertes betragen.

"Supraleitend" (1 3 6 8) (superconductive): Materialien (d.h. Metalle, Legierungen oder Verbindungen), die ihren elektrischen Widerstand vollständig verlieren können, d.h., sie können unbegrenzte elektrische Leit fähig keit erreichen und sehr große elektrische Ströme ohne Joulesche Erwär mung übertragen.

Anmerkung: Der supraleitende Zustand eines Materials ist je weils gekennzeichnet durch eine "kriti sche Tempe ra tur", ein kritisches Magnetfeld, das eine Funktion der Temperatur ist, und eine kritische Strom dichte, die eine Funktion des Magnetfelds und der Tempera tur ist.

"Symmetrischer Algorithmus" (5) (symmetric algorithm): ein kryptografischer Algorithmus, der für die Ver schlüsselung und die Entschlüsselung den identischen Schlüssel verwendet.

Anmerkung: Eine übliche Anwendung symmetrischer Algorithmen ist die Gewährleistung der Vertraulichkeit von Daten.

"Systemzieldaten" (6) (system tracks): die verarbeiteten, korrelierten und aktualisierten Informationen über die Flugpositionen von Luftfahr zeugen, die dem Personal einer Luftverkehrskontroll zentrale zur Verfügung ge stellt werden. Bei diesen Informationen handelt es sich um mit Flugplanpositio nen kombinierte Radarzieldaten.

"Systolischer Array-Rechner" (4) (systolic array computer): ein Rechner, bei dem Datenfluss und -modifikation durch den Benutzer auf der Ebene der Schalt kreistech nik dynamisch gesteuert werden können.

"Technologie" (ATA NTA 0 bis 9) (technology): spezifisches technisches Wissen, das für die "Entwicklung", "Herstellung" oder "Verwendung" eines Produkts nötig ist. Das technische Wissen wird in der Form von 'tech nischen Unterlagen' oder 'technischer Unterstützung' verkörpert.

Anmerkung 1: 'Technische Unterlagen' (technical data): können verschiedenartig sein, z.B. Blau pau sen, Pläne, Diagramme, Modelle, Formeln, Tabellen, Konstruktions pläne und -spe zi fikationen, Beschreibungen und Anwei sungen in Schriftform oder auf anderen Medien aufge zeichnet, wie Magnetplatten, Bänder oder Lesespei cher.

Anmerkung 2: 'Technische Unterstützung' (technical assistance): kann verschiedenartig sein, z.B. Unterweisung, Ver mittlung von Fertigkeiten, Schulung, Arbeits hilfe, Beratungs dienste, und kann auch die Weitergabe von technischen Unterlagen einbeziehen.

"Teilnehmerstaat" (7 9) (participating state): Mitgliedsstaat des Wassenaar Arrangement.

Anmerkung: Mitgliedsstaaten des Wassenaar Arrangements sind zur Zeit folgende Länder: Argentinien, Australien, Belgien, Bulgarien, Dänemark, Deutschland, Finnland, Frankreich, Griechenland, Irland, Italien, Japan, Kanada, Luxemburg, Neuseeland, Niederlande, Norwegen, Österreich, Polen, Portugal, Rumänien, Russische Föderation, Schweden, Schweiz, Slowakische Republik, Spanien, Südkorea, Tschechische Republik, Türkei, Ungarn, Ukraine, Vereinigtes Königreich, Vereinigte Staaten von Amerika.

"Toxine" (1 2) (toxins): Toxine in der Form gezielt isolierter Zubereitung oder Mischungen, unabhängig von ihrer Herstel lungs art, mit Ausnahme von Toxinen als Kontaminanten ande rer Materialien wie pathologische Prä parate, Kultur pflanzen, Lebensmittel oder Mutterkulturen von "Mikro organismen".

"Toxinuntereinheit" (1) (sub-unit toxin): ein strukturell und funktional diskreter Bestandteil eines ganzen "Toxins".

"Transfer-Laser" (6) (transfer laser): ein "Laser", bei dem das Laser-Material durch den Ener gietransfer erregt wird, der durch Stoß ei nes Nicht-Laser-Atoms oder -Moleküls mit einem Laser-Atom oder -Molekül bewirkt wird.

"Übertragungsrate" (4 5): siehe auch "Datenübertragungsrate", "Digitale Übertragungsrate", "Gesamte digitale Übertragungsrate".

"UF6-resistente Werkstoffe" (0) (materials resistant to corrosion by UF6): können - je nach Art des Trennver fah rens- Kupfer, nichtrostender Stahl, Aluminium, Aluminiumoxid, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickel legierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel und UF6-resi stente vollfluorierte Kohlenwasserstoff-Polymere sein.

"Unverzichtbar" (ATA 1 bis 9) (required): auf "Technologie" angewendet, bezieht sich ausschließlich auf den Teil der "Technologie", der besonders dafür verantwortlich ist, dass die erfassten Leistungsmerkmale, Charakteristi ken oder Funktionen erreicht oder überschritten werden. Diese "unverzichtbare" "Technologie" kann auch für ver schiedenartige Produkte einsetzbar sein.

"Vakuum-Zerstäubung" (1) (vacuum atomisation): ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze durch die schnelle Abgabe eines verflüssigten Gases, das einem Vakuum ausgesetzt wird, zu Tröpfchen mit einem Durch messer kleiner/gleich 500 µm zerstäubt wird.

"Vektorrate" (4) (vector rate): siehe "Dreidimensionale Vectorrate".

"Verbundwerkstoff" (1 2 6 8 9 ) (composite): eine "Matrix" und eine oder mehrere zusätzliche Phasen, die aus Partikeln, Whiskern, Fasern oder beliebigen Kombinationen hiervon bestehen und die zum Erreichen von be stimmten Eigenschaften eingebracht werden.

"Verformbare Spiegel" (6) (deformable mirrors):

a) Kontinuierlich verformbarer Spiegel (Einzelspiegel), dessen optisch wirksame Oberflä che dyna misch durch Drehmomente oder Kräfte ver formt werden kann, um Verzerrungen der Form der opti schen Welle, die auf den Spiegel auftrifft, auszugleichen, oder

b) Segmentierter Spiegel, aus mehreren Einzelelemen ten bestehend; diese können jeweils für sich dy namisch durch Drehmomente oder Kräfte positio niert werden, um Verzerrungen der Form der opti schen Welle, die auf den Gesamtspiegel auftrifft, auszugleichen.

"Verformbare Spiegel" werden auch adaptive Spiegel ge nannt.

"Vermischt" (1) (commingled): Mischung von Filamenten aus thermoplastischen Fasern und Verstärkungsfasern zur Herstellung eines Gemischs von Verstärkungs- und "Matrix"-Material in Form von Fa sern.

"Verstellbare Blattprofilgeometrie" (7) (variable geometry airfoils): Verwendung von Klappen oder Trimm blechen an der Blatthinterkante oder an der Blattvorderkante, ange bauten Vorflügeln oder einer beweglichen Blattnase, deren Position während des Fluges gesteuert werden kann.

"Vertragsstaaten des Chemiewaffenübereinkommens" (1): siehe "(Nicht-) Vertragsstaaten des Chemiewaffen über einkommens"

"Verwendung" (ATA NTA 0 bis 9) (use): Betrieb, Aufbau (einschließlich Vor-Ort-Aufbau), Wartung (Test), Reparatur, Überholung, Wiederaufarbeitung.

"Vollautomatische Regelung eines Fluges" (7) (total control of flight): bedeutet eine automatisierte Regelung der Zustandsgrößen oder des Flugweges von Flugkörpern zur Erfüllung von Einsatzzielen, die auf Echtzeit ände run gen von Daten bezüglich Zielen, Gefahren oder anderer Flugkörper anspricht.

"Volldigitale Triebwerksregelung" (FADEC)" (7 9) (full authority digital engine control): ein elektronisches Regelungssystem für Gasturbinentriebwerke oder Triebwerke mit kombiniertem Arbeitszyklus unter Ver wen dung eines Digitalrechners zur Steuerung der Variablen, die für die Regelung des Triebwerksschubes oder der Trieb werks wellenleistung über den gesamten Betriebs bereich des Triebwerkes vom Beginn der Kraftstoff zu messung bis zum Absperren des Kraftstoffes erforderlich sind.

"Von der ITU zugewiesen" (3 5) (allocated by ITU): die Zuweisung von Frequenzbändern in Übereinstimmung mit den ITU Radio Regulations (Ausgabe 1998) für primäre, zugelassene und sekundäre Funkdienste.

Anmerkung: Zusätzliche und alternative Zuweisungen sind nicht eingeschlossen.

"Vorher abgetrennt" (0 1) (previously separated): Material, das nach seiner Abtrennung durch einen Prozess hergestellt wurde, der zu einer Erhöhung der Kon zentration des erfassten Isotops führt.

"Weltraumgeeignet" (3 6) (space qualified): Produkte, die so konstruiert, gefertigt und geprüft wurden, dass sie die besonderen elektrischen, mechani schen oder umgebungsbedingten Anforderun gen für die Verwendung beim Start und Einsatz von Satelliten oder Höhen-Flugsystemen, die in Höhen von 100 km und mehr operieren, erfüllen.

"Winkelpositionsabweichung" (2) (angular position deviation):die maximale Differenz zwischen der angezeigten Winkelposition und der richtigen Winkelposition, die mit Hilfe eines genauen Messverfahrens nach Drehung der Werkstückaufnahme eines Drehtisches aus einer An fangsposition ermittelt wird (Bezug: VDI/VDE 2617, Blatt 4/Teil 4 «Drehtische auf Koordinatenmaschi nen»).

"Wissenschaftliche Grundlagenforschung" (ATA NTA) (basic scientific research):Experimentelle oder theore tische Arbeiten zur Erlangung von neuen Erkenntnissen über grundlegende Prinzipien von Phänomenen oder Tatsachen, die nicht in erster Linie auf ein spezifisches praktisches Ziel oder einen spe zifischen praktischen Zweck gerichtet sind.

"Zeitkonstante" (6) (time constant): die Zeit, gerechnet vom Beginn des Lichteinfalls, in der der Strom auf das

1-1/e-fache des Endwertes an wächst (das sind 63 % des Endwertes).

"Zivile Luftfahrzeuge" (1 7 9) (civil aircraft): sind solche "Luftfahrzeuge", die mit genauer Bezeichnung in ver öffentlichten Zulassungsverzeichnissen der zivilen Luftfahrtbehörde für den zivilen Verkehr auf Inlands- und Aus lands routen oder für recht mäßige zi vile Privat- oder Geschäftsflüge registriert sind (siehe auch "Luftfahr zeug").

"Zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate" (3 4) (composite theoretical performance, "CTP"): eine Maßzahl für die Rechnerleistung, angegeben in Millionen theoretischer Operationen je Sekunde (Mtops) und berechnet durch die Summierung von "Rechenelementen" "CEs".

Anmerkung: siehe Kategorie 4, Technische Anmerkung.

VERZEICHNIS DER VERWENDETEN ABKÜRZUNGEN

Abkürzungen, für die eine Definition vorliegt: Siehe Begriffsbestimmungen

ABKÜRZUNG BEDEUTUNG

ABEC Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Wälzlagerhersteller (Annular Bearing Engineers Committee)

AGMA Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Getriebehersteller (American Gear Manufacturers' Association)

AHRS Lage- und Kurs-Referenzsystem (attitude and heading reference systems)

ALU Arithmetisch-Logische Einheit (arithmetic logic unit)

ATC Luftverkehrskontrolle (air traffic control)

AVLIS Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren (Atomic Vapour Laser Isotope Separation)

C3I Führung, Information und Aufklärung (command, communications, control & intelligence)

CAD Rechnerunterstützter Entwurf (computer-aided-design)

CAS Chemical Abstracts Service

CDU Bedienungs- und Anzeigeeinheit (control and display unit)

CEP CEP-Wert (circular error probable)

CNTD Thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (controlled nucleation thermal deposition)

CRISLA Laserangeregtes chemisches Verfahren (Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation)

CVD Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition)

CW Chemische Kampfführung (chemical warfare)

CW (für Laser) Dauerstrich (continuous wave)

DEW Waffensysteme mit gerichteter Energie (directed energy weapon systems)

DME Entfernungsmesseinrichtung (distance measuring equipment)

DS Gerichtete Erstarrung (directionally solidified)

EB-PVD Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (electron beam physical vapour deposition)

EBU European Broadcasting Union

ECM Elektrochemische Abtragung (electro-chemical machining)

ECR Elektronenzyklotonresonanz (electron cyclotron resonance)

EDM Funkenerosionsmaschinen (electrical discharge machines)

EEPROM Elektrisch programmierbarer und löschbarer Festwertspeicher (electrically erasable programmable read only memory)

EIA Verband der Elektronikindustrie (Electronic Industries Association)

ABKÜRZUNG BEDEUTUNG

EMC Elektromagnetische Verträglichkeit (electromagnetic compatibility)

FFT Schnelle Fouriertransformation (Fast Fourier Transform)

GLONASS Globales Satellitennavigationssystem (global navigation satellite system)

GPS Globales Positionierungssystem (global positioning system)

HBT Hetero-Bipolartransistor (hetero-bipolar transistors)

HDDR Digitale Aufzeichnung hoher Dichte (high density digital recording)

HEMT Transistor auf der Basis hoher Elektronenbeweglichkeit (high electron mobility transistors)

ICAO Internationale zivile Luftfahrtorganisation (International Civil Aviation Organisation)

IEC Internationale Elektrotechnische Kommission (International Electrotechnical Commission)

IEEE Institute of Electrical and Electronic Engineers

IFOV Momentaner Bildfeldwinkel (instantaneous-field-of-view)

ILS Instrumentenlandesystem (instrument landing system)

IRIG Ausschuss zur Normung von Aufzeichnungsmethoden (inter-range instrumentation group)

ISAR Radar mit inverser künstlicher Apertur (inverse synthetic aperture radar)

ISO Internationale Organisation für Standardisierung (International Organization for Standardization)

ITU Internationale Fernmeldeunion (International Telecommunication Union)

JIS Japanischer Industriestandard (Japanese Industrial Standard)

JT Joule-Thomson (Joule-Thomson)

LIDAR Laser- oder Lichtradar (light detection and ranging)

LRU Auswechselbare Einheit (line replaceable unit)

MAC Datensicherungscode (message authentication code)

Mach Verhältnis der Geschwindigkeit eines Objektes zu der von Schall (nach Ernst Mach) (ratio of speed of an object to speed of sound (after Ernst Mach))

MLIS Isotopentrennung nach dem molekularen Laserverfahren (Molecular Laser Isotope Separation)

MLS Mikrowellenlandesystem (microwave landing systems)

MOCVD CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition)

MRI Magnetresonanzbilderzeugung (magnetic resonance imaging)

MTBF Mittlere ausfallfreie Zeit (mean-time-between-failures)

Mtops Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde (million theoretical operations per second)

MTTF Mittlere Zeit bis zum beobachteten Fehler (mean-time-to-failure)

ABKÜRZUNG BEDEUTUNG

NBC ABC (Nuclear, Biological and Chemical)

NDT Zerstörungsfreier Test (non-destructive test)

PAR Präzisionsanflugradar (precision approach radar)

PIN Persönliche Identifikationsnummer (personal identification number)

ppm Entspricht 1 x 10-6 (parts per million)

PSD Spektrale Leistungsdichte (power spectral density)

QAM Quadratur-Amplituden-Modulation (quadrature-amplitude-modulation)

RF Hochfrequenz (radio frequency)

RPV Ferngesteuerte Flugobjekte (remotely piloted air vehicles)

SACMA Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Hersteller von modernen Verbund werk stoffen (Suppliers of Advanced Composite Materials Association)

SAR Radar mit künstlicher Apertur (synthetic aperture radar)

SC Einkristall [monokristallin] (single crystal)

SLAR Seitensicht-Luftfahrzeug-Bordradarsystem (sidelooking airborne radar)

SMPTE Society of Motion Picture & Television Engineers

SRA Auswechselbare Baugruppe (shop replaceable assembly)

SRAM Statischer Schreib-Lese-Speicher (static random access memory)

SRM Ausschuss zur Normung von Materialprüfmethoden (SACMA Recommended Methods)

SSB Einseitenband (single sideband)

SSR Sekundärüberwachungsradar (secondary surveillance radar)

TCSEC Amerikanische Beurteilungsnorm für die Informationssicherheit von Rechner systemen (trusted computer system evaluation criteria)

TIR Gesamtmessuhrausschlag (total indicated reading)

UTS Zugfestigkeit (ultimate tensile strength)

VOR UKW-Drehfunkfeuer (very high frequency omni-directional range)

YAG Yttrium-Aluminium-Granat (yttrium/aluminum garnet)

KATEGORIE 0 - KERNTECHNISCHE MATERIALIEN, ANLAGEN UND AUSRÜSTUNG

0A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile

0A001 "Kernreaktoren" und besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung und Bestandteile hier für wie folgt:

a) "Kernreaktoren", geeignet für den Betrieb mit einer kontrollierten, sich selbst erhaltenden Kernspaltungs-Kettenreaktion;

b) Metallbehälter oder wichtige vorgefertigte Teile hierfür, besonders konstruiert oder herge richtet zur Aufnahme des Kerns eines "Kernreaktors", einschließlich des Reaktorbehälter-Deckels des Reaktordruckbehälters;

c) Bedienungseinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet zum Be- und Entladen von Kernbrennstoff in einem "Kernreaktor";

d) Steuerstäbe, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Steuerung der Spaltprozesse in einem "Kernreaktor", Trage- oder Aufhängevorrichtungen hierfür, Steuerstabantriebe und Stabführungsrohre;

e) Druckrohre, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Aufnahme der Brennelemente und des Primärkühlmittels in einem "Kernreaktor" bei einem Betriebsdruck von mehr als 5,1 MPa;

f) Rohre oder Rohrsysteme aus Zirkoniummetall oder -legierungen, bei denen der Hafnium gehalt weniger als 0,2 Gew.-% beträgt, besonders konstruiert oder hergerichtet zur Verwen dung in einem "Kernreaktor";

g) Kühlmittelpumpen, besonders konstruiert oder hergerichtet für den Kreislauf des Primär kühlmittels von "Kernreaktoren";

h) 'innere Einbauten eines Kernreaktors', besonders konstruiert oder hergerichtet für die Ver wen dung in einem "Kernreaktor", einschließlich Trägerkonstruktionen für den Reaktor kern, Brennelementkanäle, thermische Abschirmungen, Leitbleche, Kerngitter- und Strömungs platten;

Anmerkung: 'Innere Einbauten eines Kernreaktors' (nuclear reactor internals) im Sinne von Unternummer 0A001h sind Hauptstrukturen innerhalb des Reaktorbehälters mit einer oder mehreren Aufgaben wie z.B. Stützfunk tion für den Kern, Aufrechterhaltung der Brennstoff-Anordnung, Führung des Kühlmittelflusses, Bereitstellung von Strahlungsabschirmungen für den Reaktorbehälter und Steuerung der Innenkern-Instrumentierung.

i) Wärmetauscher (Dampferzeuger), besonders konstruiert oder hergerichtet für die Verwen dung im Primärkühlmittel-Kreislauf eines "Kernreaktors";

j) Neutronenerfassungs- und -messeinrichtungen, besonders konstruiert oder hergerichtet für die Bestimmung von Neutronenflusshöhen innerhalb des Kerns eines "Kernreaktors".

0B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen

0B001 Anlagen für die Isotopentrennung von "natürlichem Uran", "abgereichertem Uran" und "beson derem spaltbaren Material" sowie besonders konstruierte oder hergerichtete Ausrüstung und Bestandteile hierfür, wie folgt:

a) Anlagen, besonders konstruiert für die Isotopentrennung von "natürlichem Uran", "abge reichertem Uran" und "besonderem spaltbaren Material", wie folgt:

1. Gaszentrifugen-Trennanlagen,

2. Gasdiffusions-Trennanlagen,

3. aerodynamische Trennanlagen,

4. Trennanlagen durch chemischen Austausch,

5. Trennanlagen durch Ionenaustausch,

6. Isotopentrennanlagen nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation),

7. Isotopentrennanlagen nach dem molekularen "Laser"verfahren (MLIS = Molecular Laser Isotope Separation),

8. Plasmatrennanlagen,

9. Trennanlagen nach dem elektromagnetischen Verfahren;

b) Gaszentrifugen sowie Zentrifugensysteme und Bestandteile, besonders konstruiert oder her gerichtet für das Gaszentrifugen-Trennverfahren, wie folgt:

Anmerkung: 'Hochfeste Materialien' im Sinne von Unternummer 0B001b sind die folgen den Materialien:

a) martensitaushärtender Stahl (maraging steel) mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 2.050 MPa,

b) Aluminiumlegierungen mit einer erreichbaren Zugfestigkeit größer/gleich 460 MPa oder

c) "faser- oder fadenförmige Materialien" mit einem "spezifischen Modul" größer als 3,18 x 106 m und einer "spezifischen Zugfestigkeit" größer als 76,2 x 103 m.

1. Gaszentrifugen,

2. vollständige Rotorsysteme,

3. Rotorrohre mit einer Wandstärke kleiner/gleich 12 mm, einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm, hergestellt aus 'hochfesten Materialien',

4. Ringe oder Sickenbänder mit einer Wandstärke kleiner/gleich 3 mm, einem Durch messer zwischen 75 mm und 400 mm und konstruiert für die Verstärkung oder Ver bindung der Rotorteile untereinan der, hergestellt aus 'hochfesten Materialien',

5. Leitbleche mit einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm zur Montage innerhalb der Rotorrohre, hergestellt aus 'hochfesten Materialien',

6. obere und untere Deckel mit einem Durchmesser zwischen 75 mm und 400 mm als Rotorrohrenden, hergestellt aus 'hochfesten Materialien',

7. magnetisch aufgehängte Lager, die aus einem Ringmagneten bestehen, der innerhalb eines Gehäuses aufgehängt ist, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", das ein Dämpfungsmedium enthält. Der Magnet ist mit einem am Rotordeckel montierten Polstück oder zweiten Magneten gekoppelt,

0B001 b) (Fortsetzung)

8. besonders hergerichtete Lager, die ein halbkugelförmiges Gegenlager (pivot-cup) enthalten und auf einem Dämpfer montiert sind,

9. Molekularpumpen aus Zylindern mit inneren spiralförmigen gepressten oder ge frästen Nuten und inneren Bohrungen,

10. ringförmige Motorstatoren für mehrphasige Wechselstromhysteresemotoren (oder -reluktanzmotoren) für Synchronbetrieb unter Vakuumbedingungen im Frequenz bereich von 600 Hz bis 2.000 Hz und mit einem Leistungsbereich von 50 VA bis 1.000 VA,

11. Zentrifugenrezipienten- oder Zentrifugengehäuse, um den Gesamtrotor der Gas zentrifuge aufzunehmen, bestehend aus einem starren Zylinder mit einer Wandstärke bis zu 30 mm mit präzisionsgefertigten Enden und hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

12. Entnahmevorrichtungen, bestehend aus Röhren mit Innendurchmessern bis zu 12 mm, zur Entnahme von UF6-Gas aus dem Inneren des Zentrifugenrotors nach dem Pitot-Prinzip, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

13. Frequenzumwandler (Konverter oder Inverter), besonders konstruiert oder herge richtet für die Spannungsversorgung von Motorstatoren für die Gaszentrifugen anreicherung, mit allen folgenden Eigenschaften und besonders konstruierte Bestandteile hierfür:

a) Mehrphasenausgang von 600 Hz bis 2.000 Hz,

b) Frequenzstabilisierung besser als 0,1 %,

c) Klirrfaktor kleiner als 2 % und

d) Wirkungsgrad besser als 80 %;

c) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Gasdiffusions-Trennverfahren, wie folgt:

1. Gasdiffusionstrennwände aus porometallischen, polymeren oder keramischen "UF6-resistenten Werkstoffen" mit einer Porengröße von 10 nm bis 100 nm, einer Dicke kleiner/gleich 5 mm und, bei Röhrenform, mit einem Durchmesser kleiner/gleich 25 mm,

2. Gasdiffusorgehäuse, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werk stoffen",

3. Kompressoren (volumenfördernd in Zentrifugal- oder Axialbauweise) oder Venti latoren mit einem Ansaugvermögen größer/gleich 1 m3/min UF6 und einem Förder druck bis zu 666,7 kPa, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werk stoffen",

4. Wellendichtungen für Kompressoren oder Ventilatoren, erfasst von Unternummer 0B001c3, konstruiert für eine Einwärtsleckrate des Puffergases von weniger als 1.000 cm3/min,

5. Wärmetauscher, hergestellt aus Aluminium, Kupfer, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel oder bei Verwendung plattierter Rohre aus Kombi nationen dieser Metalle unterein ander und konstruiert für den Betrieb bei Unter druck mit einer Leckrate, die den Druckanstieg auf weniger als 10 Pa/h bei einem Druckunterschied von 100 kPa begrenzt,

6. Federbalgventile, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einer Nennweite von 40 mm bis 1.500 mm;

0B001 (Fortsetzung)

d) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das aero dyna mische Trennverfahren, wie folgt:

1. Trenndüsen mit schlitzförmigen, gekrümmten Kanälen mit einem Krümmungsradius kleiner als 1 mm, hergestellt aus "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Trenn blech innerhalb der Düse, welches das durch die Düse strömende Gas in zwei Ströme teilt,

2. zylindrische oder konische Wirbelrohre mit tangentialem Gaseintritt, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Durchmesser zwischen 0,5 cm und 4 cm, mit einem Verhältnis Länge/Durchmesser von kleiner/gleich 20 zu 1 und mit einem oder mehreren tangentialen Gaseinlässen,

3. Kompressoren (volumenfördernd in Zentrifugal- oder Axialbauweise) oder Ventila toren mit einem Ansaugvermögen von 2 m3/min oder mehr, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", und Kompressorwellendichtungen hierfür,

4. Wärmetauscher, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen",

5. Gehäuse für aerodynamische Trennelemente, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", entwickelt zur Aufnahme von Wirbelrohren oder Trenndüsen,

6. Federbalgventile, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", mit einem Durchmesser von 40 mm bis 1.500 mm,

7. Verfahrenssysteme zur Trennung von UF6 und Trägergas (Wasserstoff oder Helium) bis zu einem UF6-Gehalt von kleiner/gleich 1 ppm, einschließlich:

a) Tieftemperatur-Wärmetauscher und -Trennanlagen, ausgelegt für Tempera turen kleiner/gleich 153 K (-120°C),

b) Tieftemperatur-Gefriergeräte, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 153 K (-120°C),

c) Trenndüsen oder Wirbelrohre zum Trennen von UF6 und Trägergas,

d) UF6-Kühlfallen, ausgelegt für Temperaturen kleiner/gleich 253 K (-20°C);

e) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Trennverfah ren durch chemischen Austausch, wie folgt:

1. Pulsationskolonnen für schnelle Flüssig-Flüssig-Extraktion mit Stufenverweilzeiten kleiner/gleich 30 Sekunden und resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl) (z. B. hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Kunststoffmaterialien wie Fluor kohlen wasserstoff-Polymere oder Glas),

2. Zentrifugalextraktoren für schnelle Flüssig-Flüssig-Extraktionen mit Stufenverweil zeiten kleiner/gleich 30 Sekunden und resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl) (z.B. hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Kunststoffmaterialien wie Fluor kohlenwasserstoff-Polymere oder Glas),

3. elektrochemische Reduktionszellen, resistent gegen konzentrierte Salzsäure (HCl), entwickelt zur Reduktion von Uran von einer Valenzstufe zu einer anderen,

0B001 e) (Fortsetzung)

4. elektrochemische Reduktionszellen, Einspeiseausrüstung zur Aufnahme von U4+ aus dem organischen Materialstrom und Teile, die im Kontakt mit dem Prozessstrom stehen, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten Materialien (z.B. Glas, Fluor kohlenwasserstoff-Polymere, Polyphenylsulfat, Polyethersulfon und harzimpräg nierte Graphite),

5. Einspeise-Aufbereitungssysteme zur Herstellung hochreiner Uranchloridlösung, bestehend aus Lösemitteltrennungs-, Lösungsabscheidungs- und/oder Ionenaus tausch ausrüstung für die Reinigung, sowie Elektrolysezellen zur Reduzie rung von U6+ oder U4+ zu U3+,

6. Uranoxidationssysteme zur Oxidation von U3+ zu U4+;

f) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Trennverfah ren durch Ionenaustausch, wie folgt:

1. schnell reagierende Ionenaustauschharze, membranartig- oder porös-makro ver netzte Harze, in denen die aktiven chemischen Austauschgruppen auf eine Ober flächen schicht eines inaktiven porösen Trägermaterials begrenzt sind und andere zusam men gesetzte Strukturen in geeigneter Form, einschließlich Teilchen oder Fasern mit Durchmessern von 0,2 mm oder weniger, resistent gegen konzentrierte Salzsäure, präpariert für eine Austauschhalbwertszeit von weniger als 10 Sekunden und ge eignet für den Betrieb bei Temperaturen im Bereich von 373 K (100°C) bis 473 K (200°C),

2. Ionenaustauschsäulen (zylindrisch) mit einem Durchmesser größer als 1.000 mm, hergestellt aus oder geschützt mit Materialien, die resistent sind gegen konzentrierte Salzsäure (z.B. Titan oder fluorkohlenwasserstoffhaltige Kunststoffe) und die ge eignet sind zum Betrieb bei Temperatu ren im Bereich von 373 K (100°C) bis 473 K (200°C) und Drücken oberhalb 0,7 MPa,

3. Ionenaustausch-Rückflusssysteme (chemische oder elektrochemische Oxidations- oder Reduktionssysteme) zur Wiederaufbereitung der chemischen Reduktions- oder Oxidationsmittel, die in Anreicherungskaskaden nach dem Ionenaustauschverfahren benutzt werden;

g) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), wie folgt:

1. Hochleistungs-Elektronenstrahlkanonen, linienbestrahlend oder rasternd, mit einer Auftreffleistung von mehr als 2,5 kW/cm zur Verwendung in Uranverdampfungs systemen,

2. Handhabungssysteme für flüssiges Uranmetall oder Uranlegierungen, bestehend aus Tiegeln, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten wärme- und korrosionsbestän digen Materialien (z.B. Tantal, yttriumoxid(Y2O3)-beschichtetem Graphit, Graphit, beschichtet mit anderen Oxiden «Seltener Erden», oder Mischungen daraus) und Aus rüstung zur Kühlung der Tiegel,

Anmerkung: Siehe auch Nummer 2A225.

3. Product(angereichertes Uran)- und Tails("abgereichertes Uran")-Sammler, hergestellt aus oder beschichtet mit Materialien, die wärme- und kor rosions beständig gegenüber Uranmetalldampf oder flüssigem Uran sind, wie yttrium oxid(Y2O3)-beschichteter Graphit oder Tantal,

4. Behälter für Seperatoren (zylindrische oder rechteckige Kessel) zur Aufnahme der Uranmetalldampfquelle, der Elektronenstrahlkanone und der Sammler für Product(angereichertes Uran) und Tails("abgereichertes Uran"),

0B001 g) (Fortsetzung)

5. "Laser" oder "Laser"systeme zur Trennung von Uranisotopen mit einer Wellen längenstabilisierung, geeignet für den Betrieb über längere Zeitabstände;

Anmerkung: Siehe auch Nummern 6A005 und 6A205.

h) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem molekularen "Laser"verfahren (MLIS = Molecular Laser Isotope Separation) oder nach dem laserangeregten chemischen Verfahren (CRISLA = Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation), wie folgt:

1. Überschallexpansionsdüsen zur Kühlung von Mi schungen aus UF6 und Trägergas auf Temperaturen kleiner/gleich 150 K (-123°C), hergestellt aus "UF6-resistenten Werkstoffen",

2. Uranpentafluorid(UF5)-Product-Sammler, bestehend aus Filter, Prallabscheider, Zyklonen oder Kombinationen daraus, hergestellt aus UF5/"UF6-resistenten Werk stoffen",

3. Kompressoren, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", und Kompressorwellendichtungen hierfür,

4. Ausrüstung zur Fluorierung von UF5 (fest) zu UF6 (gasförmig),

5. Verfahrenssysteme zur Trennung von UF6 und Trägergas (z.B. Stickstoff oder Argon), einschließlich:

a) Tieftemperatur-Wärmetauscher und -Trennanlagen, geeignet für Tempera turen kleiner/gleich 153 K (-120°C),

b) Tieftemperatur-Kühlgeräte, geeignet für Tem peraturen kleiner/gleich 153 K (-120°C),

c) UF6-Kühlfallen, geeignet für Temperaturen kleiner/gleich 253 K (-20°C),

6. "Laser" oder "Laser"systeme zur Trennung von Uranisotopen mit einer Wellen längen stabilisierung, geeignet für den Betrieb über längere Zeitab stände;

Anmerkung: Siehe auch Nummern 6A005 und 6A205.

i) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für das Plasma trenn verfahren, wie folgt:

1. Mikrowellenleistungsquellen und -sender zur Produktion oder Beschleunigung von Ionen mit einer Ausgangsfrequenz größer als 30 GHz und einer mittleren Ausgangs leistung größer als 50 kW,

2. Anregungsspulen für Radiofrequenzen größer als 100 kHz und geeignet für eine mittlere Leistung größer als 40 kW,

3. Uranplasmaerzeugungssysteme,

4. Handhabungssysteme für flüssiges Uranmetall oder Uranlegierungen, bestehend aus Tiegeln, hergestellt aus oder geschützt mit geeigneten wärme- und korrosionsbe stän digen Materialien (z.B. Tantal, yttriumoxid(Y2O3)-beschichtetem Graphit, Graphit, beschichtet mit anderen Oxiden «Seltener Erden», oder Mischungen daraus) und Aus rüstung zur Kühlung der Tiegel,

Anmerkung: Siehe auch Nummer 2A225.

0B001 i) (Fortsetzung)

5. Product(angereichertes Uran)- und Tails("abgereichertes Uran")-Sammler, herge stellt aus oder geschützt mit Materialien, die wärme- und korrosionsbeständig gegenüber Urandampf sind, wie yttriumoxid(Y2O3)-beschichteter Graphit oder Tantal,

6. Separatorbehälter (zylindrisch) zur Aufnahme der Uranplasmaquelle, Anregungs spulen der Radiofrequenz und der Product- und Tails-Sammler und her gestellt aus geeigneten nichtmagnetischen Materialien (z.B. Edelstahl);

j) Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für den Trennprozess nach dem elektromagnetischen Verfahren, wie folgt:

1. Einzel- oder Mehrfach-Ionenquellen, die eine Strahlquelle enthalten, Ionisierer und Strahlbeschleuniger, hergestellt aus geeigneten Materialien (z.B. Graphit, Edelstahl oder Kupfer) und geeignet zur Erzeugung eines Gesamtionenstroms größer/gleich 50 mA,

2. Ionenkollektorplatten zum Aufsammeln von angereicherten oder abgereicherten Uranionenstrahlen, die zwei oder mehr Spalte einschließlich Sammelbehälter ent halten und hergestellt sind aus geeigneten nichtmagnetischen Materialien (z.B. Graphit oder Edelstahl),

3. Vakuumbehälter für elektromagnetische Uranseparatoren, hergestellt aus nicht magnetischen Materialien (z.B. Edelstahl) und konstruiert zum Betrieb bei Drücken kleiner/gleich 0,1 Pa,

4. Magnetpolstücke mit einem Durchmesser größer als 2 m,

5. Hochspannungsversorgungen für Ionenquellen mit allen folgenden Eigenschaften:

a) geeignet für kontinuierlichen Betrieb,

b) Ausgangsspannung größer/gleich 20.000 V,

c) Ausgangsstrom größer/gleich 1 A und

d) Spannungsstabilisierung besser als 0,01 % über eine Zeitdauer von 8 Stunden,

Anmerkung: Siehe auch Nummer 3A227.

6. Leistungsversorgungen für die Magnete (Hochleistung, Gleichstrom) mit allen folgenden Eigenschaften:

a) geeignet für kontinuierlichen Betrieb mit einem Ausgangsstrom größer/gleich 500 A bei einer Spannung größer/gleich 100 V und

b) Strom- oder Spannungsstabilisierung besser als 0,01 % über eine Zeitdauer von 8 Stunden.

Anmerkung: Siehe auch Nummer 3A226.

0B002 Zusatzsysteme, Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für von Nummer 0B001 erfasste Anlagen zur Isotopentrennung, hergestellt aus oder geschützt mit "UF6-resistenten Werkstoffen", wie folgt:

a) Speiseautoklaven, Öfen oder Systeme, mit denen UF6 zum Anreicherungsort geleitet wird;

b) Desublimierer (Phasenübergang gasförmig-fest) oder Kühlfallen zur Entnahme von UF6 aus dem Anreicherungsprozess und zur nachfolgenden Weiterleitung mittels Heizung;

0B002 (Fortsetzung)

c) Product- und Tails-Ausspeisesysteme zur Weiterleitung von UF6 in Behälter;

d) Verflüssigungs- oder Erstarrungsstationen zur Entnahme von UF6 aus dem Anreicherungs prozess mittels Kompression, Kühlung und Umwandlung von UF6 in die flüssige oder feste Form;

e) Rohr- und Verteilersysteme, besonders konstruiert zur Führung von UF6 innerhal