baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent DE-102018123909-B4 (DE)
Title: Kompakt-Gleitlager mit Dichtungsanordnung und Wasserpumpe mit demselben
Inventor: PAWELLEK FRANZ
IPC: F04D29/12
Filed: 2018-09-27
Granted: 2020-06-10
Abstract: Es wird ein durch ein Gleitlager realisiertes Kompaktlager mit einer Dichtungsanordnung für Wasserpumpen vorgeschlagen, aufweisend: eine Gleitlagerbuchse (11), die eine innenliegende Gleitfläche sowie wenigstens eine radiale Ausnehmung (13) mit einer axialen Gleitfläche umfasst; wenigstens einen Wellenbund (31); eine nassseitige Wellendichtung (24), die zwischen der nassen Seite (4, 40) und der Gleitlagerbuchse (11) angeordnet ist; eine trockenseitige Wellendichtung (25), die zwischen der Gleitlagerbuchse (11) und der trockenen Seite (5, 50) angeordnet ist; und ein Schmierstoffdepot (20) mit einem zumindest bereichsweise porösen Substrat (21), das zumindest zwischen der nassseitigen Wellendichtung (24) und der Gleitlagerbuchse (11) angeordnet ist; wobei das Schmierstoffdepot (20) in Poren des Substrats (21) einen wasserunlöslichen Schmierstoff enthält, und ein Volumen des Schmierstoffdepots (20) und ein Volumen einer Schmierstofffüllung ein Gesamtvolumen von Freiräumen zwischen der nassseitigen Wellendichtung (24) und der trockenseitigen Wellendichtung (25) einnehmen.
Patent DE-102018127998-B4 (DE)
Title: Umkehren eines Strömungsmodells unter Verwendung eines mehrdimensionalen Suchalgorithmus
Inventor: GIRAUDO GABRIELE
IPC: F01P7/16
Filed: 2018-11-08
Granted: 2023-07-13
Abstract: Kühlmittelsteuerungssystem, umfassend:ein Strömungsumkehrmodul (304), das:eine von einer Vielzahl von Zonenströmungsanforderungen (320) für Motorkühlmittel basierend auf einer Vielzahl von Kühlmitteltemperatursensoren (164-194) erzeugt, wobei jede der Zonenströmungsanforderungen (320) einer jeweiligen Zone eines Kühlmittelsystems entspricht;als Reaktion auf das Empfangen der Vielzahl von Zonenströmungsanforderungen (320) für Motorkühlmittel eine erste Suchzone (408) erzeugt;eine Vielzahl von Schlüsselpunkten (412 und 510-524) für die erste Suchzone (408) bestimmt;eine eindeutige Kombination von Befehlen für jeden Schlüsselpunkt der Vielzahl von Schlüsselpunkten (412 und 510-524) in der ersten Suchzone (408) bestimmt, wobei die eindeutige Kombination von Befehlen einen Stellgliedbefehl für jedes Stellglied einer Vielzahl von Stellgliedern des Kühlmittelsystems umfasst;eine Durchflussrate bestimmt, die jedem Befehl für jeden Schlüsselpunkt der Vielzahl von Schlüsselpunkten (412 und 510-524) zugeordnet ist;die Gesamtkosten für jeden Schlüsselpunkt der Vielzahl von Schlüsselpunkten (412 und 510-524) in der ersten Suchzone (408) berechnet, wobei die Gesamtkosten unter Verwendung eines absoluten normierten Fehlers für jede Durchflussrate jedes Befehls für jeden Schlüsselpunkt der Vielzahl von Schlüsselpunkten (412 und 510-524) in der ersten Suchzone (408) berechnet werden;einen ersten gewinnenden Schlüsselpunkt in der ersten Suchzone (408) bestimmt, der den niedrigsten Gesamtkosten aus der Vielzahl von Schlüsselpunkten (412 und 510-524) zugeordnet ist; undBefehle bezüglich des ersten gewinnenden Schlüsselpunktes erzeugt; undein Strömungssteuermodul (324), das die Vielzahl von Stellgliedern basierend auf den Befehlen steuert, die durch das Strömungsumkehrmodul (304) erzeugt werden;wobei die erste Suchzone (408) als Reaktion auf eine erste Bestimmung gekürzt wird, dass mindestens eine aus einer Vielzahl von Grenzen (416) der ersten Suchzone (408) mindestens eine aus einer Vielzahl von Grenzen einer vorgewählten Befehlszone (404) überschreitet.
Patent DE-102018211873-B4 (DE)
Title: Verarbeitungsverfahren für mikroelektromechanische Systeme und Verarbeitungseinrichtung für mikroelektromechanische Systeme
Inventor: WATANABE KEIJI
IPC: H01J37/30
Filed: 2018-07-17
Granted: 2021-05-20
Abstract: Bearbeitungsverfahren für mikroelektromechanische Systeme welches mittels einer Verarbeitungseinrichtung durchgeführt wird, wobei die Verarbeitungseinrichtung Folgendes umfasst:eine Bestrahlungseinheit (8), die eine Probe (13) mit einem Ladungsträgerstrahl (7) bestrahlt;eine Formmesseinheit (14), die eine Form der Probe (13) misst; undeine Steuereinheit, wobeidie mikroelektromechanischen Systeme durch einen ersten Schritt und einen zweiten Schritt bearbeitet werden,wobei in dem ersten Schrittdie Bestrahlungseinheit (8) mehrere einzelne Punkte im Sichtfeld mit dem Ladungsträgerstrahl (7) in einer ersten Region der Probe (13) bestrahlt;die Formmesseinheit (14) die Form eines Lochs, das in der ersten Region der Probe (13) durch Bestrahlung des jeweiligen Punktes im Sichtfeld ausgebildet wird, misst; unddie Steuereinheit basierend auf Messergebnissen der Form des Lochs eine Abtastungsbedingung des Ladungsträgerstrahls (7) oder eine Formmaske des Ladungsträgerstrahls (7) an jedem der einzelnen Punkte im Sichtfeld einstellt, undin dem zweiten Schrittdie Bestrahlungseinheit (8) basierend auf der in dem ersten Schritt eingestellten Abtastungsbedingung oder Formmaske eine zweite Region der Probe (13) mit dem Ladungsträgerstrahl (7) bestrahlt, um in der zweiten Region der Probe (13) das mikroelektromechanische System zu bilden.
Patent DE-102018216146-B4 (DE)
Title: Herstellungsverfahren eines III-V-Verbindungskristalls oder einer Halbleitervorrichtung
Inventor: MORI YUSUKE
IPC: C30B29/38
Filed: 2018-09-21
Granted: 2021-03-25
Abstract: Herstellungsverfahren eines III-V-Verbindungskristalls oder einer Halbleitervorrichtung, wobei das Herstellungsverfahren enthält:einen Schritt der Zurverfügungstellung eines Keimkristall-gebildeten Substrates zur Verfügungstellung eines Keimkristall-gebildeten Substrates, worin ein III-V-Verbindungskeimkristall auf einem Substrat gebildet ist,einen Keimkristall-Trennschritt zum Trennen eines Teils eines Bereiches, der mit dem Substrat in dem III-V-Verbindungskeimkristall in Kontakt steht, von dem Substrat,worin der Teil des Bereiches, der mit dem Substrat in dem III-V-Verbindungskeimkristall in Kontakt steht, durch Bestrahlen des III-V-Verbindungskeimkristalls mit einem Laserstrahl von einer Seite des Substrates des Keimkristall-gebildeten Substrates in dem Keimkristall-Teiltrennschritt getrennt wird, undeinen Kristall-Wachstumsschritt zum Erzeugen und Wachsen lassen des III-V-Verbindungskristalls durch Reaktion eines Elementes der Gruppe III und eines Elementes der Gruppe V durch Verwendung des III-V-Verbindungskeimkristalls als Nukleus nach dem Keimkristall-Teiltrennschritt,einen Substrat-Trennschritt zum Trennen des Substrates von dem III-V-Verbindungskristall nach dem Kristallwachstumsschritt,wobei das Substrat von dem III-V-Verbindungskristall auf der Basis eines Unterschiedes einer Expansionsrate oder einer Kontraktionsrate zwischen dem III-V-Verbindungskristall und dem Substrat aufgrund der Temperaturänderung im Substrat-Trennschritt getrennt wird, undder III-V-Verbindungskristall und das Substrat in dem Substrat-Trennschritt gekühlt werden.
Patent DE-102019001966-B4 (DE)
Title: Vorrichtung, System und Verfahren zur Audiosignalverarbeitung
Inventor: BRODERSEN MICHAEL
IPC: H04R3/00
Filed: 2019-03-21
Granted: 2023-05-25
Abstract: Vorrichtung (100) zur geräuschabhängigen Audiosignalverarbeitung, aufweisend:- ein Korrekturmikrofon (110),welches in einer unmittelbaren Nachbarschaft eines für ein Ohr eines Trägers der Vorrichtung vorgesehenen Bereichs (114) angeordnet ist, undwelches ausgebildet ist, akustische Signale in dem für das Ohr vorgesehenen Bereich (114) aufzunehmen und als Korrektursignal (118) weiterzuleiten;- ein Referenzmikrofon (120),welches angeordnet und ausgebildet ist, Umgebungsgeräusche (124) aus einer Umgebung des Trägers der Vorrichtung (100) aufzunehmen und als Referenzsignal (128) weiterzuleiten;- eine Klassifikationseinheit (130),die dazu ausgebildet ist, das Referenzsignal (128) zu empfangen und das Referenzsignal (128) entsprechend seines Spektrums und seiner Amplitude in Signalanteile von mehr als zwei Klassen aufzuteilen und das Referenzsignal (128) in den Signalanteilen von den mehr als zwei Klassen als klassifiziertes Signal (134) auszugeben;- eine Active Noise Cancellation (ANC-) Einheit (140),die dazu ausgebildet ist, das Korrektursignal (118) zu empfangen, basierend auf dem klassifizierten Signal (134) zu verarbeiten und ein entsprechendes Audiosignal (144) auszugeben;- einen ersten Lautsprecher (150),der ausgebildet ist, das Audiosignal (144) zu empfangen und eine entsprechende akustische Signalausgabe (154) bereitzustellen,wobei die Active Noise Cancellation-Einheit (140) dazu ausgebildet ist,den Klassen des klassifizierten Signals (134) eine entsprechende Signal- und/oder Geräuschgruppe zuzuordnen, undbasierend auf dem mindestens einer vordefinierten Signal- und/oder Geräuschgruppe zugeordneten Signalanteil des klassifizierten Signals (134) das Korrektursignal (118) derart zu verarbeiten, dass die auf dem Audiosignal (144) basierende akustische Signalausgabe (154) geeignet ist, mit Teilen der Umgebungsgeräusche (124), die Signalanteilen des Referenzsignals (128) aus der mindestens einen vordefinierten Signal- und/oder Geräuschgruppe entsprechen, derart zu interferieren, dass Umgebungsgeräusche (124) dieser mindestens einen vordefinierten Signal- und/oder Geräuschgruppe in dem für das Ohr des Trägers der Vorrichtung vorgesehenen Bereich (114) mit einer vordefinierten Amplitude wahrnehmbar sind.
Patent DE-102019101777-B4 (DE)
Title: Mikroskopieverfahren
Inventor: NIETEN CHRISTOPH
IPC: G01N21/64
Filed: 2019-01-24
Granted: 2023-11-02
Abstract: Mikroskopieverfahren, umfassend:Beleuchten eines Objekts (10) mit Beleuchtungslicht (7), sodass ein Fluoreszenzfarbstoff in dem Objekt (10) zur Fluoreszenz angeregt wird;Aufnehmen eines ersten Farbbilds des beleuchteten Objekts (10) mittels eines Farbbildsensors (17), welcher zur Aufnahme von Farben eines ersten Gamut (33) geeignet ist, wobei das erste Farbbild Bildpunkte umfasst, denen jeweils eine Farbe des ersten Gamut (33) zugeordnet ist;Erzeugen eines zweiten Farbbilds des Objekts (10), wobei das zweite Farbbild Bildpunkte umfasst, denen jeweils eine Farbe eines zweiten Gamut (37) zugeordnet ist;Darstellen des zweiten Farbbildes mittels einer Anzeigevorrichtung (19), welche zur Wiedergabe von Farben des zweiten Gamut (37) geeignet ist;wobei das Erzeugen des zweiten Farbbilds umfasst:Bestimmen der Farben an den Bildpunkten des zweiten Farbbilds durch Anwenden einer Farbtransferfunktion auf die Farben der korrespondierenden Bildpunkte des ersten Farbbilds,wobei die Farbtransferfunktion Eingabefarben (47) auf Ausgabefarben (49) abbildet,wobei die Farbtransferfunktion diejenigen Eingabefarben (47), die zu dem ersten Gamut (33), aber nicht zu dem zweiten Gamut (37) gehören, auf Ausgabefarben (49), die zu dem zweiten Gamut (37) gehören, abbildet.
Patent DE-102019102587-B4 (DE)
Title: Drehbare Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung und Vorrichtung hiermit zur Beschichtung von Halbleiter- oder sonstigen Oberflächen
Inventor: ERES ZELJKO
IPC: C23C14/04
Filed: 2019-02-01
Granted: 2023-02-23
Abstract: Drehbare Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung (10) mit einem Drehkörper (100), der eine Mehrzahl von Ausnehmungen (102), die von einer Drehkörperoberseite (104, 304) in den Drehkörper (100) hineinragen und jeweils zur Aufnahme von Verdampfungsmaterial oder zur Aufnahme eines Tiegels (5) für Verdampfungsmaterial ausgebildet sind, wobei der Drehkörper (100) mehrstückig mit einem Basiskörper (2) und einer reversibel auf einer Basiskörperoberseite (204) angeordneten Oberseitenplatte (3) ausgebildet ist, wobei die jeweilige Ausnehmung (102) ausgebildet sind durch eine Basiskörperausnehmung (20) und eine zugeordnete Oberseitenplattenausnehmung (30), die sich durch die gesamte Oberseitenplatte 3 von einer ersten zu einer zweiten Oberseitenplattenoberfläche (302, 304) hindurch erstreckt und zur Basiskörperausnehmung (20) fluchtet, wobei jeweils ein reversibler Blendenring (4) derart in der zugeordneten Ausnehmung (102) angeordnet ist, dass eine Oberkante (44) des Blendenrings (4) mit der Drehkörperoberseite (104, 304) bündig abschließt und, wobei der Blendenring (4) auf einer Auflagekante (22) der Ausnehmung (102) aufliegt.
Patent DE-102019108125-B4 (DE)
Title: Cd28 t-zellkulturen, zusammensetzungen und verfahren zu deren verwendung
Inventor: ALPERT AMIR
IPC: A61K35/17
Filed: 2019-03-28
Granted: 2022-02-03
Abstract: Verfahren zur Herstellung von T-Zellen mit verbesserter Wirksamkeit für die adoptive Immuntherapie, umfassenda) Bestimmen des Prozentsatzes von CD28+ CD8+ T-Zellen in einer isolierten CD8+ T-Zellpopulation, undb) Aktivieren der bestimmten Population mit dem Anti-CD3-Antikörper und Anti-CD28-Antikörper, vorausgesetzt, dass die bestimmte Population mindestens etwa 50% von CD28+ CD8+ T-Zellen umfasst, oder Aktivieren der bestimmten Population mit dem Anti-CD3-Antikörper in der Abwesenheit eines Anti-CD28-Antikörpers, vorausgesetzt, dass die bestimmte Population weniger als etwa 50% von CD28+ CD8+ T-Zellen umfasst.
Patent DE-102019123621-B4 (DE)
Title: Routungsressourcenverbesserndes verfahren zum generieren von layout-diagrammen, und system dafür
Inventor: PENG SHIH-WEI
IPC: H01L21/822
Filed: 2019-09-04
Granted: 2023-03-02
Abstract: Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung (100), wobei das Verfahren - für ein Layout-Diagramm (200A, 200B), das auf einem nicht-transitorischen, computerlesbaren Medium (704) gespeichert ist, wobei die Halbleitervorrichtung (100) auf dem Layout-Diagramm (200A, 200B) basiert, wobei das Layout-Diagramm (200A, 200B) eine erste und eine darüberliegende zweite Ebene (entsprechende M_1st- und M_2nd-Ebenen) einer Metallisierung und eine erste Ebene einer Interconnect-Verbindung (VIA_1st-Ebene) dazwischen aufweist, die einer ersten und einer darüberliegenden zweiten Metallisierungsschicht (454, 458) und einer ersten Schicht einer Interconnect-Verbindung (456) dazwischen in der Halbleitervorrichtung (100) entsprechen - umfasst:das Generieren (502) des Layout-Diagramms (200A, 200B), einschließlich:Auswählen (602) einer in Frage kommenden Struktur in dem Layout-Diagramm (200A, 200B), wobei die in Frage kommende Struktur eine erste leitfähige Struktur (222(1)) in der M_2nd-Ebene (erste M_2nd-Struktur) ist;Bestimmen (604), dass die in Frage kommende Struktur ein oder mehrere Kriterien erfüllt, wobei das Bestimmen (604), dass die in Frage kommende Struktur ein oder mehrere Kriterien erfüllt, Folgendes umfasst:Bestimmen (612), dass eine erste Durchkontaktierungsstruktur (220(1)) in der ersten Ebene (erste VIA_ist-Struktur) einer Interconnect-Verbindung eine einzige VIA_1st-Struktur (220(1)) ist, die durch die erste M_2nd-Struktur (222(1)) überlappt wird; undmindestens Reduzieren (620) einer Größe der in Frage kommenden Struktur, wodurch das Layout-Diagramm (200A, 200B) überarbeitet wird.
Patent DE-102019206751-B4 (DE)
Title: Frequenzumrichter
Inventor: BURGERMEISTER ANDREAS
IPC: H02M1/08
Filed: 2019-05-09
Granted: 2021-03-25
Abstract: Frequenzumrichter (1), aufweisend:- eine Anzahl von Brückenzweigen (2), wobei ein jeweiliger Brückenzweig (2) aufweist:- einen ersten Leistungshalbleiter (3), wobei der erste Leistungshalbleiter (3) einen ersten Anschluss (3a), einen zweiten Anschluss (3b) und einen Steueranschluss (3c) aufweist, wobei der erste Leistungshalbleiter (3) an seinem ersten Anschluss (3a) mit einem ersten elektrischen Leiter (12) elektrisch verbunden ist, an dem im Betrieb des Frequenzumrichters (1) ein positives Zwischenkreispotential (DC+) ansteht,- einen zweiten Leistungshalbleiter (4), wobei der zweite Leistungshalbleiter (4) einen ersten Anschluss (4a), einen zweiten Anschluss (4b) und einen Steueranschluss (4c) aufweist, wobei der zweite Anschluss (3b) des ersten Leistungshalbleiters (3) mit dem ersten Anschluss (4a) des zweiten Leistungshalbleiters (4) an einem Mittenabgriff (11) des Brückenzweigs (2) elektrisch verbunden ist,- einen Shunt-Widerstand (5) zur Strommessung, wobei der Shunt-Widerstand (5) zwischen den zweiten Anschluss (4b) des zweiten Leistungshalbleiters (4) und einen zweiten elektrischen Leiter (13) eingeschleift ist, an dem im Betrieb des Frequenzumrichters (1) ein negatives Zwischenkreispotential (DC-) ansteht,- einen ersten Treiberbaustein (6), aufweisend:- einen ersten Spannungsversorgungsanschluss (6a) und einen zweiten Spannungsversorgungsanschluss (6b),- einen Eingangsanschluss (6d) und- einen Ausgangsanschluss (6c), der mit dem Steueranschluss (3c) des ersten Leistungshalbleiters (3) elektrisch verbunden ist,- wobei zwischen den ersten Spannungsversorgungsanschluss (6a) und den zweiten Spannungsversorgungsanschluss (6b) des ersten Treiberbausteins (6) ein Bootstrap-Kondensator (7) eingeschleift ist, und- einen zweiten Treiberbaustein (8), aufweisend:- einen ersten Spannungsversorgungsanschluss (8a) und einen zweiten Spannungsversorgungsanschluss (8b),- einen Eingangsanschluss (8d) und- einen Ausgangsanschluss (8c), der mit dem Steueranschluss (4c) des zweiten Leistungshalbleiters (4) elektrisch verbunden ist, und- einen ansteuerbaren Schalter (9), der derart verschaltet ist, dass er in geöffnetem Zustand einen Stromfluss über den Bootstrap-Kondensator (7) und den Shunt-Widerstand (5) zum zweiten elektrischen Leiter (13) verhindert, dadurch gekennzeichnet, dass- der ansteuerbare Schalter (9) derart angesteuert ist, dass er während der Strommessung einen Stromfluss über den Bootstrap-Kondensator (7) und den Shunt-Widerstand (5) zum zweiten elektrischen Leiter (13) verhindert.
Patent DE-102019212400-B4 (DE)
Title: Verfahren zur Entfernung von Werkstoffen eines Substrats mittels elektromagnetischer Strahlung
Inventor: HARTMANN PETER
IPC: B23K26/352
Filed: 2019-08-20
Granted: 2021-05-12
Abstract: Bei dem Verfahren zur Entfernung von Werkstoffen eines Substrats weisen ein erster Werkstoff und ein zweiter Werkstoff eine unterschiedliche komplexe optische Brechzahl auf. Ein erster Laserstrahl mit einer Arbeitswellenlänge λ1, einer Polarisation, einer Pulsdauer, Pulsfrequenz und einem Einfallswinkel α1wird auf die Oberfläche des Substrats gerichtet, bei dem eine Reflexion im Bereich des minimalen Reflexionskoeffizienten des ersten Werkstoffs auftritt und dabei ein Verhältnis der Reflektivität R2 des zweiten Werkstoffs in Bezug zur Reflektivität R1 des ersten Werkstoffs bei dem der Einfallswinkel α1, das im Bereich von 100 % bis 75 % des Einfallswinkels, der dem Maximum des Verhältnisses entspricht, liegt, eingehalten wird. Alternativ kann der erste Laserstrahl auf die Oberfläche des Substrats gerichtet werden, bei dem für den ersten Laserstrahl eine Reflexion im Bereich des minimalen Reflexionskoeffizienten des ersten Werkstoffs auftritt, dass mit dem ersten Laserstrahl ein Plasma des ersten Werkstoffs generiert und mit dem einem zweiten Laserstrahl erste Werkstoff lokal definiert zumindest überwiegend durch Ablation entfernt wird.
Patent DE-102020103018-B4 (DE)
Title: Verfahren zur Selbstüberwachung eines verfahrenstechnischen Prozesses
Inventor: REICHART WALTER
IPC: G07C3/00
Filed: 2020-02-06
Granted: 2022-08-18
Abstract: Verfahren zur Selbstüberwachung eines verfahrenstechnischen Prozesses, wobei zur Bestimmung der Strömungsgeschwindigkeit eines strömungsfähigen Mediums durch eine Rohrleitung ein Strömungsmessgerät vorgesehen ist,und wobei das Strömungsmessgerät eine Signalverarbeitungseinheit mit einem Mikrocontroller aufweist, die ein Ausgangssignal für eine Steuereinheit zur Überwachung und Steuerung des Prozesses zur Verfügung stellt,dadurch gekennzeichnet, dass der zeitliche Verlauf der Strömungsgeschwindigkeit im Mikrocontroller ausgewertet wird und dabei die Fälle gezählt werden, bei denen die Strömungsänderung Δv in einem Zeitintervall Δt im Verhältnis zu einem Systemparameter G größer als ein Grenzwert g ist,wobei die Berechnung nach folgender Formel erfolgt:∑>gΔνΔtGund dabei der Systemparameter G aus dem Quotienten der Differenz von einem anlagenspezifischen oberem und unterem zulässigen Strömungsbereich und einer anlagenspezifischen Anstiegszeit tSgebildet wird und ein Wartungs- bzw. Kalibrierungsbedarf angezeigt wird, wenn diese Summe einen bestimmten Wert erreicht hat.
Patent DE-102020110177-B4 (DE)
Title: Filterpresse
Inventor: BERTHOLD JÜRGEN
IPC: B01D35/30
Filed: 2020-04-14
Granted: 2022-06-09
Abstract: Filterpresse, umfassend ein eine abzutrennende Partikel (46) enthaltende, zu filtrierende Flüssigkeit aufnehmendes Gehäuse (2) sowie eine im Gehäuse angeordnete Presseinrichtung (4) zum Durchpressen der Flüssigkeit durch eine Filtereinrichtung (3), dadurch gekennzeichnet, dass die um eine vertikale Achse (9) rotierende Presseinrichtung (4) wenigstens ein um eine, zur vertikalen Achse (9) unter einem Winkel stehende, Drehachse (20) rotierendes, im Querschnitt rundes Presselement (5) mit einem aus einem elastischen Material gebildeten Außenmantel (18) aufweist, mit dem das Presselement (5) auf der Filtereinrichtung (3) abrollt, wobei die Filtereinrichtung (3) ein Filtermittel (39) sowie eine dem Filtermittel (39) vorgeschaltete, mehrere zum Presselement (5) hin offene Durchbrechungen (38) aufweisende Filterplatte (37) umfasst, von denen jede einen sich zum Filtermittel (39) hin reduzierenden Querschnitt aufweist.
Patent DE-102021133677-B4 (DE)
Title: Vorrichtung und Verfahren zur Verpackung von kleinstückigen Artikeln unter Ausbildung und ggf. Fixierung von sich überlappenden Packmittelfalten
Inventor: RATTAY JAKOB
IPC: B65B11/28
Filed: 2021-12-17
Granted: 2023-07-20
Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Verpackung von kleinstückigen Artikeln (A) unter Ausbildung und ggf. Fixierung von sich überlappenden Packmittelfalten.Um eine solche Vorrichtung und ein solches Verfahren zu vereinfachen, stellt die Erfindung einen um eine Drehachse (X1) drehbaren Arbeitskopf (1) bereit, der wenigstens eine Arbeitsstation (10) zur Aufnahme eines Artikels (A) und zur Bearbeitung eines dem Artikel (A) zugeordneten Packmittels (P) aufweist. Erfindungsgemäß wird der Artikel (A) nach dessen Aufnahme in der Arbeitsstation (10) unter Ausbildung und ggf. Fixierung von sich überlappenden Packmittelfalten mit dem Packmittel (P) verpackt und anschließend aus der Arbeitsstation (10) ausgegeben.
Patent DE-112005003645-B4 (DE)
Title: Verstärkerschaltung mit einstellbarer Verstärkung
Inventor: STUECKE THOMAS
IPC: H03F1/56
Filed: 2005-07-29
Granted: 2012-07-26
Abstract: Common-Gate-Verstärkerschaltung (51; 71), mit: einem Verstärkerelement (55; 13), das einen Verstärkerelement-Eingang aufweist; einer Verstärker-Einstellungs-Einrichtung (57), die ausgelegt ist, eine Verstärkung des Verstärkerelements (55; 13) einzustellen; einem Verstärkerschaltungs-Eingang (53), der mit dem Verstärkerelement-Eingang gekoppelt ist; einem Impedanzelement (61; 75), das einen veränderbaren Impedanzwert aufweist und mit dem Verstärkerschaltungs-Eingang gekoppelt ist; und einer Impedanz-Einstellungs-Einrichtung (59), die ausgelegt ist, um abhängig von der Verstärkung des Verstärkerelements (55; 13) den Impedanzwert des Impedanzelements (61; 75) einzustellen; wobei das veränderbare Impedanzelement (61; 75) an einem ersten Anschluss des veränderbaren Impedanzelements (61; 75) mit dem Verstärkerelement-Eingang gekoppelt ist und an einem zweiten Anschluss des veränderbaren Impedanzelements (61; 75) mit einem Masse- oder einem Versorgungsspannungsanschluss gekoppelt ist; und wobei das Verstärkerelement (55) einen Feldeffekttransistor (13) aufweist, der einen Sourceanschluss, einen Gateanschluss und einen Drainanschluss aufweist, wobei der eine des Sourceanschlusses oder des Drainanschlusses mit einer Lastimpedanz (15) gekoppelt ist, und...