baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-100188808-B1 (KR)
Inventor: BAE SUNG-DOO
IPC: E06B3/00
Filed: 1995-06-14
Granted: 1999-06-01
Abstract: 본 발명은 주택용 발코니와 베란다 및 창문 샤시의 시공장치와 그 시공방법에 관한 것으로, 건축공법상 특히, 아파트의 발코니(1)나 베란다(1a) 및 창문(1c)등에 수직도(H)와 수평도(W)가 약 0mm - 50mm의 편차를 이루면서 형성된 샤시공간(2)에 대한 수직도(H)와 수평도(W)를 그 길이를 조절하면서 상부부위인 천장부위에 대한 1차수평을 측정하는 기준바아(31)와, 이 기준바아(31)에 의해 측정된 1차수평을 천정(3) 부위에 대향되는 바닥부위인 옹벽(4)에 대한 수평을 측정하여 규격화된 샤시(8)에 따른 완벽한 샤시안착공간(2c)을 형성하도록 2차수평을 맞드는 오일수평게이지(36)에 의해 샤시(8)에 따른 종류별로 샤시(8)가 설치되는 모든 가구의 예비적인 샤시안착공간(2c)이 설정된 후, 이어 수평/수직기준지그(9,41,18)와 중앙간격맞춤/측면삽입지그(21,40) 및 제1/2측면간격맞춤지그(25,28)로 구성된 시공장치를 매개로 상기 완전한 샤시안착공간(2c)에 설치되는 샤시(8)를 지지하고 고정함은 물론, 샤시(8)와 건물외부와의 색을 일치시키고 샤시(8)와의 개구된 간격공간의 간격차에 따라 조절되어져 상기 개구간격을 완전히 밀폐시킬 뿐 아니라, 샤시와 건물외부와의 색의 일치로 외관미를 향상하고, 모든 샤시안착공간이 미리 설정돼 적은인원과 적은시간 내에 다수의 샤시를 설치하게 된다.
Patent KR-100356364-B1 (KR)
Title: System for recycling coolant water
Inventor: CHO YEONG HWAN
IPC: H01J9/46
Filed: 1995-06-19
Granted: 2002-12-16
Abstract: PURPOSE: A system for recycling coolant water is provided to reduce the outflow of noxious substances and prevent the environmental pollution by installing a wastewater processing device at a coolant water recycling system. CONSTITUTION: A main tank(2) is used for storing coolant water used in a polishing process for a funnel of a cathode ray tube. An auxiliary tank(4) is connected to the main tank(2). A solid-liquid separator(6) is connected to the auxiliary tank(4) and the main tank(2). A drier(8) is connected to the solid-liquid separator(6). A wastewater processing portion(10) is connected to a connection tube(14). The connection tube(14) is connected to a transferring tube(12) connected between the auxiliary tank(4) and the solid-liquid separator(6).
Patent KR-100191092-B1 (KR)
Inventor: DACESHIDA MIJIMASA
IPC: F24F1/0325
Filed: 1995-06-30
Granted: 1999-06-15
Abstract: 본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위한 것이다. 
     본 발명의 제1 목적은 공기조화장치가 커다란 크기로 제작되며 제작비가 증가될 수 있는 어떤 가능성이 없이 고성능을 실현할 수 있다는 것을 보장하는 공기조화장치를 제공하는 데 있다. 
     본 발명의 제2 목적은 열교환기의 앞면에서 단위 면적당 열전도면적이 증가될 수 있고, 열교환기가 습기찬 상태에서 사용되더라도 열교환량이 감소되지 않고 또 필요한 열교환량이 달성될 수 있다는 것을 보장하는 열교환기를 제공하는 데 있다. 
     상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 한 견지에 따라, 앞면과 상부면 중 적어도 하나에 배치된 흡입구와, 하부에 배치된 배기구와, 상기 흡입구와 배기구를 연통시키도록 형성된 공기 통로를 갖는 하우징과, 공기 통로를 차단하도록 흡기구의 후방 스테이지에 배치된 필터와, 공기 통로를 차단하도록 필터의 후방 스테이지에 배치된 열교환기와, 공기 통로 안에서 열교환기의 후방 스테이지에 배치된 송풍기를 구비하고, 여기서 상기 열교환기가 공기 통로를 차단하도록 배열되어 있는 열전도관 그룹의 횡렬(row)을 하나 이상 가지고, 각 열전도관 그룹은 예정 거리를 두고 이격되어 서로 평행하게 배열된 다수의 열전도관과, 인접한 열전도관 주위에 나선형으로 감겨 있는 열전도율이 우수한 금속재료로 제조된 전열선을 구비하는 구성의 공기조화장치를 제공한다. 
     본 발명의 다른 견지에 따라, 일정거리를 두고 이격되어 적어도 하나의 횡렬의 형태로서 배열된 다수의 열전도관과, 우수한 열전도율을 갖는 금속재료로 제조된 다수의 전열선을 꼬아서 감기(winding)에 의해 형성된 다수의 연선을 구비하고, 상기 연선은 각 열전도관의 횡방향에 관하여 직각으로 연장하는 열전도관의 한 측면 및 대향측면과 교대로 접촉하고 또한 열전도관의 종방향으로 연장하는 각 열전도관의 한 측면 및 대향측면과 교대로 접촉하도록 짜여지는(knit) 구성의 열교환기를 제공한다. 
     본 발명의 또다른 견지에 따라, 일정 거리를 두고 이격되어 2개 이상의 횡렬의 형태로서 배열된 다수의 열전도관과, 우수한 열전도율을 갖는 금속재료로 제조된 다수의 전열선을 꼬아서 감기에 의해 형성된 다수의 연선을 구비하고, 여기에서 연선은 횡렬과는 다른 방향에서 연장하는 각 열전도관의 한 측면 및 대향 측면과 교대로 접촉하고 또한 열전도관의 종방향에서 연장하는 각 열전도관의 한 측면 및 대향측면과 교대로 접촉하도록 짜여지는 구성의 열교환기를 제공한다.
Patent KR-0146315-B1 (KR)
Inventor: LEE JANG-HWAN
IPC: F24F13/14
Filed: 1995-07-21
Granted: 1998-08-17
Abstract: 본발명은 직류모터를 사용하여 루버의 회전각을 정확하게 제어할 수 있도록한 공기조화기의 루버제어장치에 관한 것이다.  본발명은 가역가능한 냉각사이클을 구비하고, 실내의 공기를 흡입하여 상기 냉각사이클내를 흐르는 냉매와 열교환시킨 후에 이렇게 열교환된 공기를 토출구(12)를 통하여 실내로 토출하여 냉반방을 수행하며, 토출구(12)에는 토출풍향을 결정하는 풍향조절루버(13)가 구비된 냉난방겸용 공기조화기에 있어서, 풍향조절루버(13)를 구동하는 직류모터(40), 직류모터(40)의 회전속도를 소정의 비율로 낮추는 감속부재(20), 직류모터(40)를 구동하는 루버모터구동부(70), 원하는 풍향각을 설정하기 위한 기능선택부(60), 풍향조절루버(13)의 완전개방위치를 감지하는 루버개방감지부(30) 및 풍향조절루버(13)의 완전개방위치를 기준으로 하여 상기 설정된 풍향각이 형설될 때까지의 직류모터(40)의 구동시간(M)을 산출하고, 상기 산출된 시간(M)동안 직류모터(40)가 정회전 또는 역회전하도록 루버모터구동부(70)에 제어신호를 출력하는 마이크로프로세서(50)를 구비한 것을 특징으로 한다.
Patent KR-0162916-B1 (KR)
Inventor: OKUMURA TOMOHIRO
IPC: H01J37/32
Filed: 1995-09-14
Granted: 1999-02-01
Abstract: 본 발명은, 반도체 및 박막회로의 제조과정에 있어서의 드라이에칭, 스퍼터링, 플라즈마CVD등에 이용할 수 있는 플라즈마처리장치에 관하여, 특히 고주파유도결합방식의 플라즈마처리장치에 관한 것으로서, 이 고주파유도결합방식플라즈마처리장치에 있어서, 방전코일용매칭회로의 매칭용 병렬코일에 의한 전력효율의 저하를 작게 해서, 온도상승을 작게 하는 것을 목적으로 한 것이며, 그 구성에 있어서, 진공용기(3)와, 기판전극(4)과, 방전코일과, 고주파전원과, 방전코일에 도선에 의해서 접속되고 고주파전원(9)에 접속케이블에 의해서 접속된 매칭회로(9)를 구비하고, 방전코일에 고주파전압을 인가하므로써 진공용기내(3)에 플라즈마를 발생시켜서 기판전극(4)위의 기판(5)을 처리하는 플라즈마처리장치에 있어서 방전코일을 그일부 또는 전부가 다중의 소용돌이형의 방전코일(1) 또는 다중나선형의 방전코일(2)에 의해서 구성한 것을 특징으로한 것이다.
Patent KR-0155888-B1 (KR)
Inventor: LEE YONG-HYUN
IPC: H04N5/44
Filed: 1995-09-27
Granted: 1998-11-16
Abstract: 본 발명은 어드레스 쉬프팅(shifting)에 의해 화면축소를 위한 스크롤링 화면축소장치에 관한 것으로서, 어드레스의 건너뛰우기 방식으로 1/2배, 1/4배, 또는 그 이하의 화면 축소를 간단히 수행할 수 있다.
Patent KR-100395191-B1 (KR)
Title: 플라즈마증진된진공건조법
IPC: F26B5/00
Filed: 1995-10-11
Granted: 2003-12-24
Abstract: 본 발명은 플라즈마-증진된 진공 건조법에 관한 것이다. 이것은 특히 플라즈마 멸균 공정에 유리하게 적용되며, 일반적인 배기 건조법에 대한 상당한 개선을 나타낸다. 멸균시킬 용품을 밀폐된 챔버내에 넣고 챔버를 배기시킨다. 초기 배기 단계 도중에 잔여의 가스 종들의 플라즈마가 챔버내에 형성된다. 
     이것은 용품의 건조를 촉진시키며, 플라즈마를 사용하지 않는 경우보다 더 빠르게 목적하는 압력에 유리하게 도달하도록 한다. 멸균 가스들 챔버내에 주입하고, 제2 플라즈마를 형성시켜 멸균가스 플라즈마를 활성화시키며, 이에 의해 챔버내에서 용품을 멸균시킨다.
Patent KR-100195537-B1 (KR)
Inventor: CHOO KWANG-CHUL
IPC: H04N5/66
Filed: 1995-10-18
Granted: 1999-06-15
Abstract: 본 발명은 발광소자를 이용한 영상 표시장치에 관한 것으로서, 특히 입력되는 영상신호에 따라 점등 제어되는 다수의 발광소자가 일렬로 배열된 표시수단을 구비하여 좌/우 방향으로 고속 이송시킴으로서 잔상효과에의해 사용자에게 일정 영상을 제공하며, 또한 전자총을 사용하지 않으므로 인해 평면 제작이 용이하고, 얇은 두께를 가진 대형의 영상 표시기기를 제공할 수 있도록 한 발광소자를 이용한 영상 표시장치에 관한 것이다. 
     종래의 대표적인 영상 표시기기인 브라운관은 진공 유리관과 전자총을 사용해야 하므로 부피가 크고, 편향부의 사용으로 전력소모가 많아지며, 대형 화면 제작시 균일 초점을 맞추기가 어렵다. 
     그리고, 무엇보다도 평면제작이 어려운 문제점이 있다. 
     또한, 상기 문제점이 제시된 브라운관과 함께 종래 영상 표시기기로 많이 사용되는 것으로, 액정(엘씨디(LCD) :Liqude Crystal Display)화면이 있는데, 이 액정 화면은 평면으로 제작은 가능하나 밝기와 해상도에 제한이 있으며, 대형으로 제작하기 어려운 문제점이 있다. 
     따라서, 상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 입력되는 영상신호에 따라 점등 제어되는 다수의 발광소자가 일렬로 배열된 표시수단을 구비하여 좌/우 방향으로 고속 이송시킴으로서 잔상효과에의해 사용자에게 일정 영상을 제공하며, 또한 전자총을 사용하지 않음므로 인해 평면 제작이 용이하고, 얇은 두께를 가진 대형의 영상 표시기기를 제공할 수 있도록 한 발광소자를 이용한 영상 표시장치이다.
Patent KR-0139339-B1 (KR)
Inventor: KIM CHUN-HO
IPC: G09G3/36
Filed: 1995-10-24
Granted: 1998-07-15
Abstract: 이 발명은 액정구동 집적회로에서 사용자가 임의로 콤몬라인을 일정라인으로 교류화시킴으로써 모드설정이 가능한 액정구동출력 교류화 제어회로에 관한 것이다. 
     이 발명의 구성은, 입출력 제어신호와 8비트 디스플레이 데이터를 입력받고, 설정모드를 모드설정 레지스터에 전달하는 입출력 버퍼; 일정 라인 N을 사용자가 설정하기 위한 모드설정 레지스터(MODE SET REGISTER); 디스플레이 데이터 램에 데이터를 저장하기 위한 데이터 레지스터와 명령을 저장하는 명령레지스터; 입력된 명령레지스터의 명령에 따라 디스플레이 데이터를 저장하는 디스플레이 데이터 램;과 상기 디스플레이 데이터 램으로부터 받은 데이터를 변환 출력시키기 위한 데이터 변환/래치회로; 교류화신호(M)에 의해, 가로측(Column)을 디스플레이하는 출력인 세그먼트 출력을 하는 세그먼트드라이버; 클럭을 제공하기 위한 오실레이터; 상기 오실레이터로부터 받은 클럭을 분주시키고, 액정구동출력 교류화신호(M)와 프레임신호(RFM)를 출력하는 분주회로; 상기 분주회로에 의해 데이터를 변환하기 위한 데이터 변환회로; 교류화신호(M)에 의해, 세로측(Row)을 디스플레이하는 출력은 콤몬출력을 하는 콤몬드라이버로 이루어져 있다. 
     이 발명의 효과는, 액정이 커질 경우 액정구동출력의 교류를 사용자가 임의의 N라인(n≥N)으로 설정할 수 있게하여 액정의 깜빡임을 막아서 액정의 수명 및 동작 특성을 개선할 수 있다.
Patent KR-0172905-B1 (KR)
Inventor: CHO JAE-KYU
IPC: D06F39/00
Filed: 1995-10-27
Granted: 1999-05-01
Abstract: 본 발명은 세탁시 고속회전하는 회전날개가 세탁수에 부여하는 원심력으로 인해 세탁수가 가압 분사되어 상기 회전날개와 세탁물과의 마찰없이 세탁이 수행되도록 하므로서 세탁물의 포손상 및 엉킴을 줄임과 동시에 세탁 성능 및 헹굼 성능을 향상시킬 수 있도록 한 것이다. 
     이를 위해, 본 발명은 세탁조(1)에 모터(2)의 동력을 전달받아 고속회전하여 세탁물의 세탁이 수행되도록 세탁수를 케이스(3)의 축방향 및 반경방향으로 가압 분사하는 세탁수류 형성수단이 장착되는 세탁기의 세탁날개이다.
Patent KR-0164732-B1 (KR)
Inventor: LEE JOO-YONG
IPC: G11B27/10
Filed: 1995-11-07
Granted: 1999-03-20
Abstract: 본 발명은 디스크 상태 표시방법 및 이 기능을 가진 광디스크 재생장치에 관한 것으로서, 표시방법은 광디스크로부터 데이터를 리드하고 리드된 데이터를 순환 에러정정 알고리즘에 의해 에러검출 및 에러정정하여 오디오 신호를 재생하는 광디스크 재생장치에 있어서, 상기 광디스크의 상태를 표시하는 방법은, 에러정정 결과 정정이 불가능한 데이터에 대한 플래그 펄스를 발생하는 단계; 플래그 펄스의 수를 계수하는 단계; 및 계수치에 따라 디스크의 상태를 시각적으로 표시하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다. 
     따라서, 본 발명에서는 디스크 상태의 좋고 나쁨을 시각적으로 표시할 수 있다.
Patent KR-100398666-B1 (KR)
Title: 회절광학장치를이용한표면윤곽묘사방법및묘사기
IPC: H04N13/00
Filed: 1995-11-07
Granted: 2003-12-11
Abstract: 본 발명은 광원(30), 2개 이상의 회절격자로 이루어진 회절 광학조립체(70,72,73), 홀로그램 또는 기타의 회절 광학장치(120,130; 122,132; 123,133), 전자 검출수단 및 간섭 데이타로 부터 표면 높이를 결정하는 디지탈 신호처리수단(10,110)을 구비하는 표면 윤곽 측정용 광학 시스템에 관한 것이다. 
     회절 광학 조립체(70,72,73)는 입사광을 2개의 광선(150,160;152,162; 153,163)으로 분할하며, 그 광선들은 계속해서 대상물(20) 표면(70)상의 같은 위치에 다른 입사각으로 부딪힌다. 그 광선들은 대상물 표면으로 부터 반사된 후 뒤로 분리하여 회절 광학 조립체를 통과하며, 그후, 그 광선들이 다시 한번 조합하여 표면윤곽을 나타내는 간섭 패턴을 형성한다. 결과적으로 간섭 패턴의 등가 파장은 조명 파장보다 훨씬 더 길다.
Patent KR-0158043-B1 (KR)
Inventor: SUZUKI KIYOSHI
IPC: B41J31/16
Filed: 1995-11-11
Granted: 1999-05-01
Abstract: 본 발명은 프린터에서 잉크를 함유한 잉크 리테이너와 인접한 압박 부재를 갖는 잉크 공급 장치에 관한 것이다. 압박 부재가 잉크 리테이너를 압박할 때, 리테이너를 압박할 때, 리테이너 내의 잉크 농도는 증가된다. 또한, 압박 부재는 위크로 부터 멀리 떨어지고 리테이너 내에 있는 잉크를 위크쪽으로 이동시킨다. 그러므로, 그 장치는 리테이너 내에서 사용가능한 잉크의 효율적 사용을 증대시킨다.
Patent KR-100348828-B1 (KR)
Title: Staggered wire bonding method
Inventor: MUN YEONG GYU
IPC: H01L21/60
Filed: 1995-11-17
Granted: 2002-12-26
Abstract: PURPOSE: A staggered wire bonding method is provided to be capable of minimize the moving distance of an X-Y table, reducing VLL(Video Lead Locating) time, and improving productivity. CONSTITUTION: After designating a bonding pad(P1) and a lead(L1) as the first points for teaching, the most adjacent bonding pad(P2) and lead(L2) are designated as the next bonding pad and lead for teaching according to a predetermined direction. Then, bonding pads(P3,P4,P5,P6,P7,P8) are sequentially designated as the next pads for teaching corresponding to the leads(L3,L4,L5,L6,L7,L8) without differentiating inner and outer portions of the pad. At this time, the teaching process is completed by a single-revolution process, so that a wire bonding process is simplified.
Patent KR-100229572-B1 (KR)
Inventor: JEROM A FRANKENY
IPC: H01L23/538
Filed: 1995-11-20
Granted: 1999-11-15
Abstract: 본 발명의 목적은 전력 분배, 신호 분배 및 용량성 감결합을 제공하는 스택 가능형 층상의 기판층을 포함한 미소 피치 패턴의 다층 인쇄 회로 기판을 제조하기 위한 방법 및 장치를 제공하는데 있다. 일실시예의 경우, 본 발명은 금속 코어에서 시작하고, 코어를 패터닝하고, 코어를 유전체로 선택적으로 밀폐시키고, 비어, 플러그 및 신호 라인을 형성하기 위한 금속을 선택적으로 증착시키고, 비어 및 플러그 상에 결합 야금과 함께 덴드라이트를 형성시킴으로써 기판 상의 평면 위 또는 아래로부터 스택 가능형 연결을 제공하는 기판층의 제조에 관한 것이다. 다른 실시예에서는, 본 발명은 금속 시트 상에 박막의 고유전율 결정막을 형성하고 이어서 고유전율 결정막 상에 금속층을 증착시키기 위한 졸-겔 처리의 사용에 관한 것이다. 고유전율 결정막은 캐패시터층의 유전체로서 작용하여, 그 후에 연속하여 팬턴화되고, 유전체에 의해 피복되고, 캐패시터를 상호 접속시키고 비어를 형성하기 위한 금속층이 선택적으로 증착되어 있다. 다음에 비어들의 단부들은 덴드라이트 성장 및 결합 야금 처리를 받아 스택 가능형 상호 접속 능력이 제공된다. 금속 코어를 갖는 층들과 용량성으로 구성된 코어를 갖는 층들을 적절하게 사용하여 다층의 복합 스택 가능형 층상의 회로 기판 구제체를 제조한다. 층상의 스택 가능형 회로 기판 구조체는 표면 실장형 전자 회로 소자들과 복합 회로 기판의 전력, 신호 및 용량성 감결합 층들 간에 비어 및 플러그 형성의 덴드라이트 및 결합 야금을 통한 직접 수직 연결을 제공한다.
Patent KR-0172300-B1 (KR)
Inventor: RYU DAL-RAE
IPC: H01L21/28
Filed: 1995-11-23
Granted: 1999-03-30
Abstract: 본 발명은 전도막 상에 평탄화된 제1레시스트를 도포하고 하드베이크 하는 단계; 해상도 및 촛점 여유도가 충분한 두께로, 전도막 패턴이 형성될 부위와 오버랩 되는 부위가 노출되는 제2레지스트 패턴을 형성하고 하드베이크 하는 단계; 상기 제2레지스트 패턴간의 공간에 상기 레지스트와 식각선택비를 갖는 박막 패턴을 형성하는 단계; 상기 박막 패턴을 식각장벽으로 상기 제2레지스트 및 제1레지스트를 건식식각하는 단계; 및 노출되는 상기 전도막을 식각 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 선폭을 갖는 전도막 형성 방법에 관한 것으로, 반도체 소자 제조공정중 특히 미세패턴 형성이 필요한 게이트 전극 형성시 본 발명의 기술을 사용하면 종래의 제조 장치를 가지고도 종래 방법에 의한 리소그라피 해상한계를 뛰어 넘는 미세선폭의 게이트 전극을 너칭 또는 촛점불량(Defocus)등과 같은 또다른 문제점 없이 안정적으로 형성시킬 수 있으므로 차세대 소자개발을 앞당길 수 있고, 생산이 적용시 공정능력 향상으로 수율 향상을 가져오는 효과가 있다.
Patent KR-0151563-B1 (KR)
Inventor: KIM BYUNG-SOOK
IPC: F24J2/40
Filed: 1995-11-30
Granted: 1998-10-01
Abstract: 본 발명은 태양광 집광기의 광추적장치 및 방법에 관한 것으로, 다수의 집광렌즈를 구비하여 태양광을 수집하는 렌즈체와, 상기 렌즈체의 상단 중앙에 돌출 설치되어 태양의 이동을 근사치로 추적하기 위한 광각용 관센서체와, 상기 렌즈체의 중앙에 설치되어 태양의 이동을 정확히 추적하기 위한 정밀측정용 광센서체와, 상기의 광각용 광센서체 및 정밀측정용 광센서체로 부터 입력되는 광량의 상태에 따라 광추적에 따른 동작을 제어하는 마이크로 프로세서, 상기 마이크로 프로세서에 의해 제어되는 기기들의 초기상태에 해당하는 정보를 비롯하여 제어의 순서 및 방법에 따른 정보를 저장하여 요구가 있을시 출력하는 프로그램 메모리와, 상기 마이크로 프로세서의 제어를 받으면서 데이타를 일시 저장하였다가 요구에 의해 출력하는 메모리와, 상기 마이크로 프로세서로 부터의 펄스신호에 따라 렌즈체의 수직축을 동쪽이나 서쪽으로 회전시키면서 수평축을 남쪽이나 북쪽으로 회전시키는 모터구동부와, 상기 모터구동부에 의해 회전하는 모터가 오버런(Over Run)하는 경우를 인지하여 상기의 마이크로 프로세서에 알려주는 오버런 감지부와, 상기 마이크로 프로세서의 제어에 따라 오버런하는 모터의 구동을 강제로 정지시키는 오버런 제어부들로 구성함으로써, 태양의 이동을 정확하게 인식하면서 렌즈체를 동작시켜 항상 최대의 광량을 수집할 수 있도록 한 것이다.
Patent KR-0166857-B1 (KR)
Inventor: KIM DO-HYUNG
IPC: H01L21/265
Filed: 1995-12-04
Granted: 1999-02-01
Abstract: 본 발명은 박막형성에 관한 것으로, 반도체 기판에 TiNx(X1) 박막을 형성한 후에 N + (Nitrogen Ion)을 사각을 가지면서 회전방식으로 이온주입하여, 상기 TiNx 박막의 일부 또는 전체의 조성과 결정립계 구조를 TiNy 박막(Y1)으로 변화시키는 것을 포함하여 이루어진 본 발명의 확산억제 특성을 갖는 박막형성방법은 Ti-rich TiNx 박막(21)에 N + (Nitrogen Ion)을 사각을 가지면서 회전방식으로 이온주입하여 TiN 박막의 일부 또는 전체를 N-rich TiNy(22)로 하므로써 Cu 확산 베리어 특성을 2배 정도 향상시키는 것이 가능하게 된다.
Patent KR-100197394-B1 (KR)
Inventor: UM MIN-SIK
IPC: G02F1/015
Filed: 1995-11-30
Granted: 1999-06-15
Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치를 제작하기 위한 방법에 관한 것으로서 구동 기판상에 소정 형상의 희생층을 형성하는 단계와, 상기 희생층상에 점차적인 조성변화에 따라 안정한 응력구배를 갖는 멤브레인을 형성시키는 단계와, 상기 멤브레인상에 하부 전극, 변형부, 상부 전극을 순차적으로 적층시켜서 액츄에이터를 형성시키는 단계와, 상기 액츄에이터의 일단부를 식각시키는 단계와, 그리고 상기 희생층을 제거하는 단계로 이루어지고, 상기 멤브레인은 저압 화학 기상 증착 공정을 이용하여 적층되며, 상기 멤브레인을 구성하는 실리콘 질화물의 조성변화는 멤브레인의 상부로 갈수록 실리콘 조성비가 상대적으로 증가하여 그 결과 액츄에이터의 와핑현상을 방지한다.
Patent KR-100217650-B1 (KR)
Inventor: LEE HEE YONG
IPC: F16H59/00
Filed: 1995-12-15
Granted: 1999-09-01
Abstract: 본 발명은 자동변속기의 쉬프트 패턴 제어방법에 관한 것으로, 특히 저속 운행시 쉬프트 쇼크가 발생되지 않는 범위의 RPM에서만 다운 쉬프트가 이루어지도록 쉬프트 패턴을 제어하므로, 저속 운행시 쉬프트 특성 및 구동력을 향상시킬 수 있다.
Patent KR-100205003-B1 (KR)
Inventor: YOON SAE-SEOUNG
IPC: G11C5/14
Filed: 1995-12-18
Granted: 1999-06-15
Abstract: 본 발명은 최소의 레이아웃 면적을 갖고 V INT 의 클램핑 구간에서 클램핑되는 Vpp를 제공하는 반도체 장치의 내부전원승압회로를 제공하기 위한 것으로, 본 발명의 내부전원승압회로는 액티브 킥커 인에이블 신호 PAKE의 레벨 천이에 따라서 다수의 제어신호들을 생성하는 제어신호생성회로(100)와, 4개의 MOS 커패시터들(211,212,213,214)과, 스위칭 회로(350) 및, MOS 커패시터들을 '프리챠징'하기 위한 프리챠지 회로로 구성되며, 제3노드(430)의 펄스 폭을 조절하는 것에 의해 제4노드(440)의 프리챠지 레벨을 제어하여 Vcc 레벨의 변동에 상관없이 일정한 Vpp 레벨을 얻을 수 있다.
Patent KR-0153908-B1 (KR)
Inventor: CHOE JONG-WON
IPC: H04L12/931
Filed: 1995-12-19
Granted: 1998-11-16
Abstract: 본 발명은 비동기 전달모드 계층과 물리 계층간 접속 시스템에 관한 것으로, 물리계층의 전달매체 및 전달 속도를 지원하기 위한 송수신 ATM 계층 인터페이스(301,302) 및 송수신 물리계층(328,329); 범용 제어 프로세서와 상기 물리계층들과의 인터페이스가 용이하게 이루어지도록 하는 프로세서 인터페이스(330); 상기 인터페이스(301 내지 303)들에 접속되는 다양한 물리계층을 식별하기 위한 물리계층 식별자(304)를 구비하는 것을 특징으로 한다.
Patent KR-0160920-B1 (KR)
Inventor: HWANG JUNG-NAM
IPC: H01L21/265
Filed: 1995-12-20
Granted: 1999-02-01
Abstract: 본 발명은 이온선 혼합법을 이용한 금속-고분자간 계면접촉력 향상방법에 관한 것이다.  좀 더 구체적으로, 본 발명은 이온선 혼합법(ion-mixing)에 의해 질소이온을 가속화시켜 금속이 증착된 고분자 시료에 주입함으로써, 금속과 고분자 사이의 계면접착력(interfacial adhesion)을 대폭적으로 향상시킬 수 있는 방법에 관한 것이다. 
     본 발명의 금속-고분자간 계면접촉력 향상방법은, 이온선 혼합법에 의해 일정전압으로 가속화된 질소이온을 금속이 증착된 고분자로 이루어진 금속-고분자 시료에 주입시키는 단계를 포함한다. 
     이때, 상기한 본 발명의 계면접촉력 향상방법에는 상기한 질소이온 주입단계 이전에 금속과 고분자 사이에 알루미늄으로 이루어진 버퍼(buffer)층을 삽입하는 단계를 추가로 포함하는 것이 바람직하다.
Patent KR-0172198-B1 (KR)
Inventor: MIZOE KIYOSHI
IPC: G03G15/02
Filed: 1995-12-22
Granted: 1999-03-30
Abstract: 대전 부재를 전하 수용 부재와 접촉상태로 배치시키고 대전 부재에 전압을 인가하여 전자사진 감광 부재 등의 전하 수용 부재를 대전시키기 위한 대전 부재는 전기전도성 담지체, 탄성층 및 2,000kgf/㎠ 내지 30,000kgf/㎠의 인장 모듈러스를 갖는 피복층을 나열 순서대로 배치시킴으로써 구성된다. 피복층은 바람직하게는 아크릴계 중합체 개질된 우레탄 수지인 것이 좋다. 대전 부재는 우수한 화상을 제공하기 위해 장기간 동안 균일한 전기 저항성 분포를 나타내는 닢 부위를 전하 수용 부재에 제공하는데 있어 효과적이다.
Patent KR-100251602-B1 (KR)
Inventor: NETZER AMORAI MORIYA
IPC: H01L21/302
Filed: 1995-12-29
Granted: 2000-05-01
Abstract: 스트레인된 반도체 구조체상에 스트레인 패턴들을 제조하는 새로운 방법이 기술된다. 이러한 방법은 횡 방향으로 균질한 스트레인 구조의 뒷면을 에칭하는 새로운 개념에 기초하며, 뒷면의 에칭 처리의 결과로서 스트레인 변화가 앞면의 사전에 스트레인된 영역에 유도될 수 있게 된다. 양자 와이어, 양자 도트, 및 양자 웰과 같은 반도체 구조체는, 일반적으로 반도체 기판의 활성 영역이며 대부분 민감한 영역인 앞면을 처리하지 않고서 반도체 구조체 재료 특성의 스트레인 제어를 제공하는 뒷면 에칭에 대하여 기술된 방법에 의해 형성될 수 있다. 그러한 반도체 구조체는, 반도체 구조체의 앞면에 스트레인된 층을 형성하고, 앞면에 스트레인 패턴을 형성하도록 기판의 뒷면을 에칭하여, 선택적으로 스트레인된 영역들을 형성하게 되는 단계들을 포함하는 프로세스에 의해 형성될 수 있다.
Patent KR-100342338-B1 (KR)
IPC: F25B23/00
Filed: 1993-12-01
Granted: 2002-11-07
Abstract: PCT No. PCT/GB93/02472 Sec. 371 Date Jun. 1, 1995 Sec. 102(e) Date Jun. 1, 1995 PCT Filed Dec. 1, 1993 PCT Pub. No. WO94/12785 PCT Pub. Date Jun. 9, 1994An internal combustion engine has a compression cylinder with a liquid spray apparatus for spraying sufficient liquid into the cylinder such that the liquid absorbs the heat of the gas as it is compressed without vaporizing. A separator removes the liquid from the gas/liquid mixture as it leaves the cylinder. The gas is then directed to a expansion cylinder for combustion with fuel delivered by a fuel supply apparatus. The cylinders being coupled together by a crankshaft.
Patent KR-100339322-B1 (KR)
Title: Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate of non-metallic material
IPC: H01J9/02
Filed: 1994-11-08
Granted: 2002-10-31
Abstract: PCT No. PCT/NL94/00277 Sec. 371 Date Jul. 7, 1995 Sec. 102(e) Date Jul. 7, 1995 PCT Filed Nov. 8, 1994 PCT Pub. No. WO95/13623 PCT Pub. Date May 18, 1995A method of providing a plurality of cavities and/or apertures in a plate or layer wherein, after the plate or layer has been provided with a mask having a plurality of apertures arranged in a pattern, at least one jet of abrasive powder particles is moved relative to the plate. On its exposed surface, the mask is provided with a coating which prevents substantial mechanical stresses from being generated in the mask during the process by the jet of powder particles.
Patent KR-100342929-B1 (KR)
Title: 알켄 올리고머화 및 공-올리고머화를 위한 촉매조성물
IPC: C08F4/6592
Filed: 1994-04-26
Granted: 2003-02-11
Abstract: 본 발명은 금속에 부착되고 양이온과 반응할 수 있는 치환체를 또한 함유하는 치환된-비스(시클로펜타디에닐) 티타늄, 지르코늄 또는 하프늄 화합물인 제 1 성분, 및 반응 조건 하에서 실질적으로 배위하지 않는 부피가 크고 불안정한 음이온 및 양이온을 갖는 화합물인 제 2 성분을 포함하고, 치환된 비스-시클로펜타디에닐 리간드 쌍이 비스-테트라메틸시클로펜타디에닐인 촉매 조성물에 관한 것이다.
Patent KR-0174662-B1 (KR)
Title: 인쇄환경 변화에 따른 현상 및 공급 바이어스전압 제어방법
IPC: G03G15/06
Filed: 1996-04-10
Granted: 1999-04-01
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 
     전자사진 현상방식을 이용하는 화상형성장치의 현상 및 공급 바이어스전압 제어방법에 관한 것이다. 
     2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제 
     온도 혹은 습도 등의 인쇄환경 변화에 따라 현상 및 공급 바이어스전압을 가변시켜줌으로서 최적의 화상농도를 얻을 수 있는 현상 및 공급 바이어스전압 제어 방법을 제공함에 있다. 
     3. 발명의 해결방법의 요지 
     호스트컴퓨터와 같은 외부장치로부터 수신되는 이미지데이타에 따른 화상을 전자사진 현상방식으로 인쇄하기 위한 각종 롤러들과, 제어수단의 제어하에 상기 롤러들에 고압 바이어스전압을 인가하는 고압전원공급수단과 제어수단을 구비하는 화상형성장치의 현상 및 공급 바이어스전압 제어방법에 있어서, 상기 외부장치로부터 인쇄명령이 수신되는 경우 소정의 이미지데이타에 따른 화상을 인쇄하기 위해 상기 롤러들에 바이어스전압을 인가하는 과정과, 상기 고압 전원공급수단으로부터 피드백되어 입력되는 전류량을 통해 인쇄환경 변화를 감지하는 과정과, 상기 감지된 인쇄환경에 따라 상기 장치의 현상롤러 및 공급롤러에 인가되는 바이어스전압을 제어하는 과정으로 이루어짐을 특징으로 한다. 
     4. 발명의 중요한 용도 
     레이저 빔 프린터, 디지탈 복사기 등에서 인쇄환경 변화시 화상농도 보상에 사용될 수 있다.
Patent KR-100208206-B1 (KR)
Inventor: IRIE HISAICHI
IPC: B65G43/00
Filed: 1996-04-26
Granted: 1999-07-15
Abstract: 본 발명의 비접촉 전력 분배시스템은, 급전선과 유도결합된 각 픽업부에 유기된 전력으로부터 정전류를 얻고, 이 정전류를 각 부하에 제공함으로써 어느 하나의 부하가 예를 들면, 개방상태로 된 경우에도 해당 부하에 정전압을 항상 인가할 수 있다.
Patent KR-100295956-B1 (KR)
Title: Method for measuring sensibility idle degree of microprocessor
Inventor: YOON JI HUN
IPC: G06F11/30
Filed: 1996-05-18
Granted: 2001-10-24
Abstract: PURPOSE: A method for measuring a sensibility idle degree of a microprocessor is provided to supply sensitive judgement standards to system operators by enabling the system operators to judge an idle degree of a global central processing unit and recognize a change of an idle degree of a local central processing unit. CONSTITUTION: The substitution of Ipre< -Icur, Dpre< -Dcur is performed(S1). After the Icur is determined, a ratio of F< -T x Dpre + (2N-T) x Icur/2N is estimated. The ratio is substituted for F(S2). It is judged whether the Icur is identical to the Ipre. In case that the Icur isn't identical to the Ipre, a ratio of (F-Dpre)/(Icur-Ipre) is estimated. The ratio is substituted for a coefficient of C(S3). In case that the Icur is identical to the Ipre, the F is substituted for Dcur(S4). It is judged whether the C is larger than 0(S5). In case that the C isn't larger than 0, the C is substituted for Dcur< -Dpre(S6). The Dcur is outputted to a screen(S7). It is judged whether the Icur is identical to the Ipre. In case that the Icur is identical to the Ipre, the fact that the Dcur isn't changed is outputted(S8). In case that the Icur isn't identical to the Ipre, a process is terminated(S9).
Patent KR-100439609-B1 (KR)
Title: 웨이퍼배향정렬방법및시스템
IPC: H01L21/68
Filed: 1996-06-04
Granted: 2004-10-14
Abstract: 본 발명은 진공을 손상시키지 않고, 최소의 시스템 가동 중단 시간으로 다중 스테이션 웨이퍼 프로세싱 시스템의 이송 아암을 캘리브레이팅하는 방법 및 장치를 제공한다. 또한, 프로세싱 전에 웨이퍼의 결정 배향을 정확히 정렬하고, 상기 프로세싱 시스템 사이에서 웨이퍼를 이동시키는 동안, 개별 웨이퍼의 배향을 모니터링하는 시스템을 제공한다.
Patent KR-0146301-B1 (KR)
Inventor: CHO YOUNG-MAN
IPC: A47L15/42
Filed: 1996-06-12
Granted: 1998-08-01
Abstract: 본 발명은 식기 세척기에 관한 것으로, 그 목적은 정역회전이 가능한 하나의 구동모터를 이용하여 세척수를 펌핑하는 세척임펠러와 배수하는 배수임펠러를 구동함으로써, 전체적인 구조를 단순화하고 이에 따른 생산성의 향상과 제조원가를 절감하는 것이다. 
     본 발명에 따른 식기 세척기는 세척임펠러(310)와 배수임펠러(320)를 정 역회전이가능한 하나의 구동모터(400)를 이용하여 구동하는데, 세척 및 헹굼 행정시에는 구동모터(400)를 정방향 회전시켜 세척임펠러(310)를 통해 식기를 세척하고 배수임펠러(320)를 통해 세척수 중에 포함된 음식물 찌꺼기를 걸르게 된다.  또한 배수 행정 중에는 구동모터(400)가 마이콤에 의해 역회전함으로써, 세척임펠러(310)와 배수임펠러(320)를 역방향 회전하여 배수임펠러(320)의 흡입 송출력에 의해 세척수는 본체(100)외부로 배출된다. 
     따라서 정역 회전이 가능한 하나의 구동모터(400)를 이용하여 세척임펠러(310)와 배수임펠러(320)를 동시에 구동함으로써, 식기 세척기의 구조가 단순화되고 이의 생산성이 향상되어 제조원가가 절감되는 이점이 있다.
Patent KR-0173659-B1 (KR)
Inventor: LEE BYUNG-RAE
IPC: B26F1/00
Filed: 1996-06-29
Granted: 1999-02-18
Abstract: 본 발명은 공작물 천공장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 천공될 공작물의 기준 구멍에 고정되는 고정부(11), 상기 고정부(11)에 일체로 형성되며 공작물의 표면상에 위치하는 베이스부(12) 및 상기 베이스부(12)로부터 상방으로 연장되는 축부(13)를 지니는 본체(10); 상기 본체(10)의 축부(13)에 삽입되는 보어(23)가 천공된 본체(21) 및 상기 본체(21)주변에 일체로 형성되며 다수의 토오치 고정구멍(24a,24b,24c,24d)이 천공된 플랜지(22)를 구비한 토오치 지지구(20); 및 상기 토오치 지지구(20)가 상기 본체(10)로부터의 이탈되는 것을 방지하기 위해 상기 본체(10)의 축부(13)에 고정되는 고정구(30); 로 구성되며, 선반 또는 드릴링 머신과 같은 대형기계없이 간단하고 정확하게 공작물에 구멍을 천공할 수 있어 작업성 및 제품성이 향상되는 장점이 있다.
Patent KR-100419948-B1 (KR)
IPC: F16H59/44
Filed: 1996-07-05
Granted: 2004-07-21
Abstract: 본 발명은 약간의 비용으로 광범위한 변속비를 변경하기에 적합한 것으로, 적합 파라미터(BZ)를 검출하기 위한 수단(11)은 적합 파라미터(BZ)의 검출이 제 1 평가 모드(109)에 의해 제 1 입력 파라미터의 시간적 변화와 최소한 1 개의 임계치(SW, SW1, SW2)와의 비교에 의해 행해지도록 구성이 되어 있다.
Patent KR-100222813-B1 (KR)
Inventor: NAKANO YASUSHI
IPC: G08B5/22
Filed: 1996-07-27
Granted: 1999-10-01
Abstract: 본 발명은, 무선 페이저에 관한 것으로, 특히 수신된 메시지의 표시 제어 기능을 갖춘 무선 페이저에 관한 것이다. 
     최근, 수신된 메시지를 기억하기 위해 메모리를 구비한 무선 페이저가 널리 사용된다. 그러나, 이것은 페이저 휴대자 이외의 제3자가 개인적인 메시지가 포함된 메시지를 쉽게 볼 수 있다는 문제점이 있다. 이에 본 발명은, 단지 페이저 휴대자만이 개인적인 수신 메시지를 볼 수 있도록 수신된 메시지를 기억할 수 있는 무선 페이저를 제공하는데 있다. 
     본 발명에 따른 무선 페이저는, 호출자로부터 보내진 호출 신호를 수신하는 수신 수단, 상기 호출 신호에 포함된 메시지를 기억하는 기억 수단, 상기 메시지의 표시를 금지하는 암호 정보가 상기 호출 신호에 부가되어 있는지의 여부를 판단하는 제1판단 수단, 상기 메시지를 표시하는 표시 수단 및, 상기 암호 정보를 갖는 메시지가 표시되어야 하는가의 여부를 판단하는 제2판단 수단을 구비한다. 
     암호 정보가 수신된 메시지에 부가되는 무선 페이저를 공급함으로써 페이저사용자 이외의 사람은 사적인 메시지를 볼 수 없도록 할 수 있는 무선 페이저를 제공한다. 그리고, 사적인 메시지가 지워지지 않고 페이저의 메모리에 저장될 수 있다.
Patent KR-100190963-B1 (KR)
Inventor: PARK SANG-YOUL
IPC: G09G1/00
Filed: 1996-07-31
Granted: 1999-06-15
Abstract: 본 발명은 동작초기 화면 지연시간 단축장치 및 방법에 관한 것으로, 종래에는 텔레비젼 수상기의 동작전원을 투입한 후 히터에 의해 음극선관의 후단이 일정온도까지 올라가기까지 열전자가 정상적으로 방출되지 않기때문에 화면이 일정시간동안 어두운 상태를 유지하다가 일정시간이 경과한 후에 서서히 밝아지는 결점을 가지고 있었다. 본 발명은 이를 극복하기 위헤서 텔레비젼 수상기가 대기상태를 유지하는 중에 텔레비젼 수상기의 메인전원이 공급되면 고압 발생용 트랜스로부터 발생되는 히터전압에 스탠바이 전원단에서 발생되는 스탠바이 전압을 가산하여 히터 동작전원으로 공급하여 히터의 가열시간을 단축하여 짧은 시간내에 화면에 밝아지도록 하는 동작초기 화면 지연시간 단축장치 및 방법을 제공한다.
Patent KR-100393980-B1 (KR)
Title: Method for processing hangul caption
Inventor: KIM SEONG SU
IPC: H04N7/08
Filed: 1996-08-24
Granted: 2003-10-22
Abstract: PURPOSE: A method for processing Hangul caption is provided to encode and decode Unicoded caption data, and reduce the capacity of a memory by using a combination code conversion table. CONSTITUTION: A TV or a VCR(Video Cassette Recorder) receives caption data recorded on a master tape and reproduced by a VTR for broadcasting(S41). The caption data is inputted for Unicode caption processing(S42). A 21st line of an NTSC(National Television System Committee), odd field of the inputted image signal is searched(S43). The caption data of 9 bits x 2 are sliced(S44). An error is searched by parity bit check(S45). If the error is generated, the error is processed(S46). If no error is generated, complete 2 byte text is output from which parity bit is removed(S47). The extracted text data is decoded by using a combination code conversion table(S48). The corresponding characters are read from a combination font ROM(S49). An image of each text is displayed on the TV(S50).
Patent KR-100205361-B1 (KR)
Inventor: LEE MYUN-JOO
IPC: C01B31/08
Filed: 1996-08-29
Granted: 1999-07-01
Abstract: 본 발명은 상수, 하수, 폐수 및 대기, 유독가스, 냄새 등을 정화하는데 사용되는 활성탄을 대상으로 활성탄의 흡착능을 향상시키는 방법으로서, 방사선을 조사하면서 동시에 수증기 또는 질소가스를 불어 넣어 흡착능(요오드 값), 비표면적, 미세공 크기 및 분포등을 향상시킨다.
Patent KR-100218786-B1 (KR)
Inventor: JANG CHANG-WOOK
IPC: F16D13/64
Filed: 1996-08-30
Granted: 1999-09-01
Abstract: 구동측과 변속측 사이에서 유압에 의해 마찰력을 증대시켜 구동측의 동력을 변속측으로 전달하는 클러치 디스크와 클러치 페이싱을 포함하는 자동 변속기의 클러치 디스크에 있어서, 클러치 페이싱 연결부의 박리 현상을 방지하고, 이 연결부의 압축성형을 자동으로 이루어지게 하여 생산성을 향상시킨 자동변속기용 클러치 디스크를 제공하기 위하여, 상기한 클러치 페이싱은 다수개로 분리되어 있고, 각각의 분리된 클러치 페이싱의 양단에 결합홈과 돌출부를 마련하여 상호간 연결되어 있고, 이 연결부는 압축성형에 의해 클러치 디스크의 지름 방향으로 홈이 형성되고, 이 홈의 내측 원주의 수직방향으로 형성된 키홈으로 이루어진 자동 변속기용 클러치 디스크를 제공한다.