baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent DE-112010002902-T5 (DE)
Title: Siebdruckvorrichtung und Siebdruckverfahren
Inventor: TANAKA TETSUYA
IPC: B41F15/08
Filed: 2010-06-22
Abstract: Beim Siebdruck auf solchen Druckobjekten wie einer oberen Fläche eines Substrats und einer unteren Fläche eines Vertiefungsbereichs, die zu dessen oberer Fläche geöffnet ist, sind eine Siebdruckvorrichtung und ein Siebdruckverfahren geschaffen, mit denen Druckarbeit mit guter Effizienz bei gleichzeitigem Sicherstellen einer guten Druckqualität ausgeführt werden kann. Beim Siebdrucken einer Paste auf solche Druckobjekte wie ein Hochflächen-Druckgebiet, auf dem Hochflächen-Elektroden ausgebildet sind, und ein Bodenflächen-Druckgebiet, das auf einer Bodenfläche eines Vertiefungsbereichs liegt, und auf dem Bodenflächen-Elektroden ausgebildet sind, wird beim Siebdrucken der Paste auf einen Bodenflächen-Druckbereich 12a als Druckobjekt durch einen Rakelmechanismus vom geschlossenen Typ 13, der eine erste gleitende Kontaktplatte 44A und eine zweite gleitende Kontaktplatte 44B enthält, die in einem vertieften Teil verbleibende Paste durch die erste gleitende Kontaktplatte 44A abgeschöpft, um davon entfernt zu werden, die an einer Rückseite in einer Rakelrichtung positioniert ist, während beim Siebdrucken der Paste auf einen Deckflächen-Druckbereich 12b als Druckobjekt die an einer oberen Fläche klebende Paste durch die zweite gleitende Kontaktplatte 44B abgeschabt wird, die an einer Rückseite in einer Rakelrichtung positioniert ist.
Patent DE-112010005169-T5 (DE)
Title: Verbessertes Hals-Ende für einen Aerosolbehälter
Inventor: HALLMAN PAUL E
IPC: B65D41/00
Filed: 2010-01-22
Abstract: Es wird ein druckfähiger Formbehälter (50) zur Verwendung mit einer Aerosolventileinheit (12A) zum Abgeben eines fließfähigen Produkts zur Verfügung gestellt, das in dem Behälter (50) aufbewahrt wird. Die Aerosolventileinheit (12A) weist ein Aerosolventil (24) und eine Montagemanschette (23A) auf, die zur Montage des Aerosolventils (24) an dem Behälter (50) an den Behälter (50) angequetscht wird. Der Behälter (50) weist Folgendes auf: einen Formkörper (52) mit einer Kammer (54) zum Aufnehmen eines fließfähigen Produkts; einer Abgabe-Öffnung (56), die von der Kammer (54) bis in die Umgebung des Behälters (50) reicht; einem Hals-Ende-Bereich (57) in der Form eines ringförmigen Halses (58), der die Öffnung (56) umgibt; und einem ringförmigen Ansatzflansch (60) an einem hinteren Ende des ringförmigen Halses (58) zur Montage der Aerosolventileinheit (12A). Der Ansatzflansch (60) wird definiert durch einen radial ganz außen befindlichen ringf4), die sich von dem ringförmigen Rand (62) zu der Öffnung (56) erstreckt; und eine kegelstumpfförmige Fläche (66), die sich von dem ringförmigen Rand (62) zu einer Außenfläche (68) des ringförmigen Halses (58) erstreckt.
Patent DE-112010005893-T5 (DE)
Title: Auswerten einer Eingabe relativ zu einer Anzeige
Inventor: SUGGS BRADLEY NEAL
IPC: G06F3/042
Filed: 2010-10-22
Abstract: Offenbarte Ausführungsbeispiele beziehen sich auf ein Auswerten einer Eingabe relativ zu einer Anzeige. Ein Prozessor kann Informationen von einem optischen Sensor (106) und einem Tiefensensor (108) empfangen. Der Tiefensensor (108) kann die Entfernung einer Eingabe von der Anzeige erfassen. Der Prozessor kann eine Eingabe in die Anzeige basierend auf Informationen von dem optischen Sensor (106) und dem Tiefensensor (108) auswerten.
Patent DE-112010006021-T5 (DE)
Title: Systementwurfsvorrichtung
Inventor: ISHIHARA TOMOFUMI
IPC: G05B19/05
Filed: 2010-11-24
Abstract: Um eine Speichereinheit (67B), die darin Konfigurationsdiagramme von durch eine Vorrichtung selbst entworfenen FA-Vorrichtungen aus FA-Vorrichtungen, die Bestandteilselemente eines FA-Systems sind, als Entwurfszieleinheits-Konfigurationsdiagramme speichert, und darin Konfigurationsdiagramme einer Mehrzahl von FA-Vorrichtungen, die nicht durch die Vorrichtung selbst entworfen sind, aus den FA-Vorrichtungen als ein Universalzweckeinheits-Konfigurationsdiagramm, das ein Konfigurationsdiagramm ist, speichert, zu beinhalten, weist eine Eingabeeinheit, die daran Befehlsinformationen zum Spezifizieren des Entwurfszieleinheits-Konfigurationsdiagramme und/oder des Universalzweckeinheits-Konfigurationsdiagramms eingegeben hat, eine Systemkonfigurationsdiagramm-Erzeugungsverarbeitungseinheit 63, die ein Entwurfsziel-Einheitskonfigurationsdiagramm und ein Universalzweckeinheits-Konfigurationsdiagramm aus der Speichereinheit 67 anhand von aus der Eingabeeinheit eingegebenen Befehlsinformationen liest und ein Systemkonfigurationsdiagramm des FA-Systems erzeugt, und eine Anzeigeeinheit, die ein durch die Systemkonfigurationsdiagramm-Erzeugungsverarbeitungseinheit 63 erzeugtes Systemkonfigurationsdiagramm anzeigt, wodurch eine Mehrzahl von FA-Vorrichtungen, welche nicht durch die Vorrichtung selbst entworfen sind, aus den FA-Vorrichtungen als ein Universalzweckeinheits-Konfigurationsdiagramm anzeigt, das ein Konfigurationsdiagramm ist.
Patent DE-112011102027-T5 (DE)
Title: Drossel und Verfahren zum Herstellen derselben
Inventor: INABA KAZUHIRO
IPC: H01F27/24
Filed: 2011-05-27
Abstract: Eine Drossel 1α weist eine Spule 2, einen Magnetkern 3, an dem die Spule 1 angeordnet ist, und ein Gehäuse 4 auf, das einen Aufbau 10 der Spule 2 und des Magnetkerns 3 beinhaltet. Der Magnetkern 3 weist einen Innenkernabschnitt 31, der in die Spule 2 eingesetzt ist, und einen Kopplungskernabschnitt 32 auf, der um die Spule 2 angeordnet ist. Der Kopplungskernabschnitt 32 besteht aus einer Mischung von Magnetpulver und Harz. Die Spule 2 ist mit dem Kopplungskernabschnitt 32 bedeckt und ist innerhalb des Gehäuses 4 in einem abgedichteten Zustand eingeschlossen. Die Drossel 1 weist in einer äußersten Oberflächenzone, die an einer Öffnung des Gehäuses 4 freiliegt, eine Magnetschutzschicht 5 auf, die aus aus einem Nicht-Magnetpulver, das ein kleineres spezifische Gewicht als das Magnetpulver aufweist und elektrische Leitfähigkeit aufweist, und aus dem Harz besteht. Eine kleine Drossel, die imstande ist, Magnetfluss zu reduzieren, der zu der Außenseite austritt, wird dadurch geschaffen. Ein Verfahren zum Herstellen einer kleinen Drossel, die imstande ist, Magnetfluss zu reduzieren, der zu der Außenseite austritt, wird auch geschaffen, das die Drossel 1α durch Füllen des Gehäuses 4 mit einer Mischung aus Magnetpulver, Nicht-Magnetpulver und Harz, Herstellen eines Zustands, wo das Nicht-Magnetpulver zu der Öffnungsseite des Gehäuses geschwommen ist und das Magnetpulver auf der Bodenseite des Gehäuses abgeschieden ist, und Härten des Harzes herstellt.
Patent DE-112012000987-T5 (DE)
Title: Magnesium-Legierungsmaterial und Verfahren zu dessen Erzeugung
Inventor: OISHI YUKIHIRO
IPC: B21B3/00
Filed: 2012-02-23
Abstract: Angegeben wird ein dickes Magnesium-Legierungsmaterial mit hoher Korrosionsresistenz und Oberflächenaufrauhresistenz und ein Verfahren zur Erzeugung des Magnesium-Legierungsmaterials. In einem Magnesium(Mg)-Legierungsmaterial (z. B. Magnesium-Legierungslage) mit einem lagenförmigen Bereich mit einer Dicke von 1,5 mm oder mehr ist, wenn ein Bereich mit 1/4 der Dicke des lagenförmigen Bereiches in einer Dickenrichtung von einer Oberfläche des lagenförmigen Bereiches als Oberflächenbereich und ein verbleibender Bereich als interner Bereich definiert wird, das Verhältnis OF/OC des basalen Ebenen-Peakverhältnisses OF im Oberflächenbereich zum basalen Ebenen-Peakverhältnis OC (Orientierungsgrad der (002)-Ebenen) im internen Bereich 1,5 < OF/OC. Das Mg-Legierungsmaterial setzt dich durch eine Textur zusammen, worin (002)-Ebenen, die basalen Ebenen von Mg-Legierungskristallen sind, stark in der Oberfläche des lagenförmigen Bereiches im Vergleich zum Inneren des lagenförmigen Bereiches orientiert sind. Weil die Kristallkorngröße im Oberflächenbereich kleiner ist als die im internen Bereich, wird eine hohe Korrosionsresistenz erzielt. Zusätzlich wird eine hohe Oberflächenaufrauhresistenz erzielt und somit wird ein geformtes Produkt mit guter Oberflächentextur durch Durchführen des Preßformens erhalten. Ein lagenförmiges Mg-Legierungsmaterial wird erhalten durch Durchführen des Walzens mit einem kontinuierlichen Doppelwalzen-Gußmaterial mit mehreren Durchläufen bei einem Reduktionsverhältnis von jedem Durchlauf von 25% oder weniger.
Patent DE-112012002452-T5 (DE)
Title: Anpassungsfähiges Zwischenspeichern von Datensätzen für Halbleiterplatten
Inventor: HYDE II JOSEPH S
IPC: G06F12/08
Filed: 2012-06-26
Abstract: Eine Speichersteuereinheit empfängt eine Anfrage, die einem Zugriff auf eine Spur in einem Cachespeicher entspricht. Es wird eine Bestimmung durchgeführt, ob die Spur Daten entspricht, die auf einer Halbleiterplatte gespeichert sind. Als Reaktion darauf, dass die Spur Daten entspricht, die auf der Halbleiterplatte gespeichert sind, wird ein Bereitstellen eines Datensatzes von der Halbleiterplatte in den Cachespeicher ausgeführt, wobei jede Spur eine Vielzahl von Datensätzen aufweist.
Patent DE-112012004501-T5 (DE)
Title: Optisches Element
Inventor: SCHALL MICHAEL
IPC: C03C17/34
Filed: 2012-10-26
Abstract: Um sowohl gute Laserbeständigkeit aus auch gute Antireflexionseigenschaften zu ermöglichen, wird ein optisches Element (2), insbesondere für die UV-Lithographie, umfassend ein Substrat (20) und eine Beschichtung auf dem Substrat mit mindestens vier Lagen, vorgeschlagen, bei dem – auf dem Substrat (20) eine erste Lage (21) angeordnet ist, die eine niedrigbrechende anorganische Fluoridverbindung aufweist, – als vom Substrat (20) entfernteste Lage eine Lage (23) angeordnet ist, die eine anorganische oxidhaltige Verbindung aufweist, und – zwischen der ersten (21) und der entferntesten (23) Lage mindestens zwei weitere Lagen (222, 223) angeordnet sind, die abwechselnd eine anorganische Fluoridverbindung oder eine anorganische oxidhaltige Verbindung aufweisen.
Patent DE-112012004768-T5 (DE)
Title: Metallkontaktstellenstruktur für eine Erhöhung der Dicke eines Polymers, das für eine elektrische Verbindung eines Halbleiter-Chips mit einem Halbleiter-Chip-Gehäusesubstrat mit einem Lötkontakthügel verwendet wird
Inventor: DAUBENSPECK TIMOTHY H
IPC: H01L23/48
Filed: 2012-08-29
Abstract: Ein topographisches Merkmal (305) ist in unmittelbarer Nähe zu einer leitfähigen Bond-Kontaktstelle (235) ausgebildet, die dazu verwendet wird, einen Lötkontakthügel (160) mit einem Halbleiter-Chip (140) zu verbinden. Das topographische Merkmal (305) ist durch einen Zwischenraum (310) von der leitfähigen Bond-Kontaktstelle (235) getrennt. Bei einer Ausführungsform ist das topographische Merkmal (305) an einer Stelle ausgebildet, die sich etwas jenseits der äußeren Begrenzung des Lötkontakthügels (160) befindet, wobei eine Kante des Kontakthügels (160) vertikal so ausgerichtet ist, dass sie mit dem Zwischenraum (310) zusammenfällt, der die leitfähige Bond-Kontaktstelle (235) von dem topographischen Merkmal (305) trennt. Das topographische Merkmal (305) stellt eine Erhöhung der Dicke einer nichtleitfähigen Schicht (240), die über dem Halbleiter-Chip (140) und der leitfähigen Bond-Kontaktstelle (235) angeordnet ist, und eine Verspannungspufferung bereit.
Patent DE-112012006754-T5 (DE)
Title: Flüssigkristallvorrichtung und Rückwandplatinenmodul für dieselbe
Inventor: QUE CHENGWEN
IPC: G09F9/35
Filed: 2012-09-05
Abstract: Es ist ein Verfahren zur Herstellung einer Kühlkörpervorrichtung angegeben, welche an ein Hintergrundbeleuchtungsmodul einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung montiert werden kann, wobei das Verfahren die Schritte umfasst: a) Bereitstellen eines Hohlprofils, welches einen im wesentlichen rechteckigen Querschnitt hat, und wobei das Hohlprofil einen ersten Trägerteil, einen zweiten Träger, einen ersten vertikalen Abschnitt und einen zweiten vertikalen Abschnitt umfasst, welche untereinander verknüpft sind; und b) Schneiden des Hohlprofils entlang der ersten und zweiten vertikalen Abschnitts entlang einer Längsrichtung derart, dass eine erste Kühlkörpereinheit mit dem ersten Tragabschnitt und dem ersten vertikalen Abschnitt und eine zweite Kühlkörpereinheit mit dem zweiten Trägerteil und dem zweiten vertikalen Abschnitt ausgebildet werden. Gemäß vorliegender Erfindung werden auf einfache Art und Weise Materialkosten eingespart, während derweil die Gestaltung eines leichten, schmalen und kompakten Produkts verbessert wird.
Patent DE-112012006801-T5 (DE)
Title: Operationsschnittstellenvorrichtung und Operationsschnittstellenverfahren
Inventor: HIRAI MASATO
IPC: G06F3/041
Filed: 2012-08-10
Abstract: Es sind ein Berührungspaneel (3), das auf der Anzeigefläche einer in der Hand gehaltenen Operationsanzeigevorrichtung (2) angebracht ist, ein Drehwählschalter (4), der eine Fernbetätigung annimmt, und ein Berührungsdetektor (5), der eine Berührung des Drehwählschalters (4) durch eine Bedienungsperson erfasst, vorgesehen. Eine Bildanzeigeeinheit (10) zeigt, wenn die Berührung durch die Bedienungsperson nicht von dem Berührungsdetektor (5) erfasst wird, ein Berührungspaneel-Operationsbild, das für die Operation des Berührungspaneels (3) geeignet ist, auf einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung (1) und der in der Hand gehaltenen Operationsanzeigevorrichtung (2) an und zeigt, wenn die Berührung durch die Bedienungsperson von dem Berührungsdetektor (5) erfasst wird, ein Drehwählschalter-Operationsbild, das für die Operation des Drehwählschalters (4) geeignet ist, auf der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung (1) und der in der Hand gehaltenen Operationsanzeigevorrichtung (2) an.
Patent DE-112012007239-T5 (DE)
Title: Fluidausstossvorrichtung mit partikeltoleranter Schichterweiterung
Inventor: RIVAS RIO
IPC: B41J2/145
Filed: 2012-12-20
Abstract: In einer Ausführungsform umfasst eine Fluidausstoßvorrichtung einen Dünnschichtfilm, der über einem Substrat ausgebildet ist. Eine Primer-Schicht ist über der Dünnfilmschicht ausgebildet, und eine Kammerschicht ist über der Primer-Schicht ausgebildet, die einen Fluidikkanal definiert, der zu einer Freisetzungskammer führt. Die Fluidausstoßvorrichtung umfasst einen Schlitz, der sich durch das Substrat und in die Kammerschicht durch ein Tintenzuführloch in die Dünnfilmschicht erstreckt. Die Fluidausstoßvorrichtung umfasst auch eine partikeltolerante Erweiterung der Primer-Schicht, die in den Schlitz hineinragt. In einigen Ausführungen erstreckt sich die partikeltolerante Primer-Schichterweiterung über eine ganze Breite des Schlitzes.
Patent DE-112013005585-T5 (DE)
Title: Vertikaler Nanodraht-Transistor mit axial konzipiertem Halbleiter und Gate-Metallisierung
Inventor: DOYLE BRIAN S
IPC: H01L29/78
Filed: 2013-06-24
Abstract: Vertikal ausgerichtete Nanodraht-Transistoren, die Halbleiterschichten oder Gateelektroden mit Zusammensetzungen umfassen, die über eine Länge des Transistors variieren. In Ausführungsformen sind die Kanalregionen des Transistors zum Induzieren von Verspannung in der Zusammensetzung abgestuft, oder entlang einer Länge des Kanals geschichtet, und/oder sie umfassen eine Injektionsschicht mit hoher Mobilität. In Ausführungsformen wird ein Stapel aus Gateelektroden, der eine Mehrzahl von Gateelektrodenmaterialien umfasst, abgeschieden, um die Austrittsarbeit der Gateelektrode entlang der Gate-Länge zu modulieren.
Patent DE-112014000125-T5 (DE)
Title: Netzwerksynthesedesign von Mikrowellenakustikwellenfiltern
Inventor: SILVER RICHARD N
IPC: H03H9/54
Filed: 2014-03-14
Abstract: Ein Verfahren des Designens eines Akustikmikrowellenfilters in Übereinstimmung mit Frequenzantworterfordernissen. Das Verfahren umfasst Auswählen einer anfänglichen Filterschaltkreisstruktur, die eine Mehrzahl von Schaltkreiselementen umfassend zumindest ein resonantes Element und zumindest ein anderes reaktives Schaltkreiselement einschließt, Auswählen von dämpfungslosen Schaltkreisantwortvariablen auf der Grundlage der Frequenzantworterfordernisse, Auswählen eines Wertes für jede der Schaltkreiselemente auf der Grundlage der ausgewählten Schaltkreisantwortvariablen, um ein anfängliches Filterschaltkreisdesign zu erzeugen, Transformieren des oder der resonanten Elemente und des oder der reaktiven Schaltkreiselemente des anfänglichen Filterschaltkreisdesigns in zumindest ein Akustikresonatormodell, um ein Akustikfilterschaltkreisdesign zu erzeugen, Addieren von parasitären Effekten zu dem Akustikfilterschaltkreisdesign, um ein voroptimiertes Filterschaltkreisdesign zu erzeugen, Optimieren des voroptimierten Filterschaltkreisdesigns, um ein abschließendes Filterschaltkreisdesign zu erzeugen und Aufbauen des Akustikmikrowellenfilters auf der Grundlage des abschließenden Filterschaltkreisdesigns.
Patent DE-112014000680-T5 (DE)
Title: Verfahren und System zum aseptischen Befüllen einer Verpackung
Inventor: PARTHUN WILLIAM
IPC: B65B55/02
Filed: 2014-02-04
Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und ein System zum aspetischen Befüllen von flexiblen Verpackungen, die ein trockenes Tuch enthalten. Ein derartiges Verfahren kann eine erste Stufe beinhalten, die in einer nicht-sterilen Umgebung durchgeführt wird. Die erste Stufe kann das Zuschneiden eines ersten im Wesentlichen trockenen Tuchs auf eine zuvor festgelegte Größe; das Einbringen des ersten Tuchs in eine flexible Verpackung; das Versiegeln eines ersten Endes der flexiblen Verpackung und das Sterilisieren der flexiblen Verpackung beinhalten. Das Verfahren kann eine zweite Stufe beinhalten, die in einer sterilen Umgebung durchgeführt wird. Die zweite Stufe kann das Befüllen der flexiblen Verpackung mit einer medizinischen Lösung, so dass das im Wesentlichen trockene Tuch zumindest einen Teil der medizinischen Lösung absorbiert, und das Versiegeln eines offenen Endes der flexiblen Verpackung beinhalten.
Patent DE-112014001131-T5 (DE)
Title: Verfahren, Vorrichtung und Computerprogramm zum Steuern  eines drahtlosen Geräts
Inventor: SCHOBER KAROL
IPC: H04B7/04
Filed: 2014-01-20
Abstract: Es wird ein doppelt strukturiertes Codebuch beschrieben, das einen Breitband-Codebuchabschnitt C(W1) und einen frequenzselektiven Codebuchabschnitt C(W2) hat. Der Abschnitt C(W2) ist dadurch gekennzeichnet, dass für wenigstens einen Rangindex RI jedes Codewort von C(W2) durch wenigstens zwei Strahlauswahlvektoren pro Schicht eindeutig gegenüber allen anderen Codeworten von C(W2) unterschieden wird. Ein Gerät (UE, eNB, etc.) verwendet die wenigstens zwei verschiedenen Strahlauswahlvektoren pro Schicht, um ein Codewort W2 eindeutig aus C(W2) auszuwählen (404) und konstruiert einen Vor-Codierer W aus dem ausgewählten Codewort W2 und aus einem anderen Codewort W1, das aus dem Breitband-Codebuchabschnitt C(W1) ausgewählt wird, um Kanalbedingungen zu signalisieren (406). Ein zusätzlicher Cophasing-Ausdruck zum Sicherstellen von Orthogonalität kann mit den Strahlauswahlvektoren pro Schicht verwendet werden, um das Codewort eindeutig aus C(W2) auszuwählen, und die zwei verschiedenen Strahlauswahlvektoren pro Schicht entsprechen verschiedenen Polarisationen (410).
Patent DE-112014001868-T5 (DE)
Title: Ladeverbinder
Inventor: OHMURA TAKENORI
IPC: H01R13/639
Filed: 2014-04-08
Abstract: Beim Ladeverbinder (1) bewegt sich bei einem Bewegungsablauf eines Freigabehebels (40) von einer Startposition zu einer Endposition ein Halteverriegelungsstück (51) an einer ebenen Fläche (47) des Freigabehebels (40) mit einer Drängkraft einer Sprungfeder (53), und gleitet ebenso ein Hilfsverriegelungsstück (27) über einen Spitzenpunkt (45E) zwischen der ebenen Fläche (47) und der geneigten Fläche (45D) mit einer Drängkraft einer Sprungfeder (28). An der Endposition des Freigabehebels (40) fällt das Halteverriegelungsstück (51) von der ebenen Fläche (47) des Freigabehebels (40) zu einem oberseitigen Verriegelungsnutabschnitt (45) mit der Drängkraft der Sprungfeder (53), um an einer Verriegelungsfläche (45A) verriegelt zu werden, und somit kommt ein Spitzenende des Halteverriegelungsstücks (51) nicht mit einer Unterteilfläche (45B) in Kontakt.
Patent DE-112014003072-T5 (DE)
Title: Haltesysteme für Bodeneingriffswerkzeuge
Inventor: KNIGHT GARRETT D
IPC: E02F9/28
Filed: 2014-07-10
Abstract: Offenbart werden verschiedene beispielhafte Ausführungsformen eines Haltesystems (50) für ein Bodeneingriffswerkzeug (50). In einer beispielhaften Ausführungsform kann das Haltesystem (50) eine Verriegelung (60) umfassen, die dazu ausgebildet ist, einen Abschnitt eines Trägerelements aufzunehmen, das mit dem Bodeneingriffswerkzeug (50) verriegelt werden soll, sowie eine Haltebuchse (70) mit einer inneren Oberfläche (75), die dazu ausgebildet ist, die Verriegelung (60) drehbar aufzunehmen. Die Verriegelung (60) kann relativ zu der inneren Oberfläche (75) der Haltebuchse (70) zwischen einer entriegelten Stellung und einer verriegelten Stellung drehbar sein. Das Haltesystem (50) kann auch einen Stopfen (80) umfassen, der dazu ausgebildet ist, zumindest einen Raum zwischen der Verriegelung (60) und der inneren Oberfläche (75) der Haltebuchse (70) im Wesentlichen zu füllen, wenn die Verriegelung (60) in der verriegelten Stellung ist.
Patent DE-112014003594-T5 (DE)
Title: Hybridionenquelle und Massenspektrometervorrichtung
Inventor: SATAKE HIROYUKI
IPC: H01J49/10
Filed: 2014-07-09
Abstract: Um eine Ionenquelle zu schaffen, die einfach mit hoher Empfindlichkeit und in kurzer Zeit umgeschaltet werden kann, enthält die Ionenquelle eine Ionisationssonde 1 zum Sprühen einer Probe, eine Heizkammer 11 zum Erwärmen und Verdampfen der Probe; und Antriebsabschnitte 31 und 33 zum Ändern des Abstands zwischen einem Auslassende (d. h. einem Ende auf der Sprühseite) 8 und der Ionisationssonde und einen Einlassende (d. h. einem Ende auf der Seite der Ionisationssonde) der Heizkammer. Die Positionen der Ionisationssonde und der Heizkammer werden durch die Antriebsabschnitte gesteuert, so dass ein Ionisationsbereich 21, der die Ionisationssonde verwendet, oder ein Ionisationsbereich 22, der die Heizkammer verwendet, nahe dem Ioneneinlasseingang 25 des Massenspektrometers 24 positioniert ist.
Patent DE-112014003728-T5 (DE)
Title: Unterstützungspunktverwaltungssystem, Verfahren und Programm
Inventor: KODAN TOMOKI
IPC: G08G1/16
Filed: 2014-09-16
Abstract: [AUFGABE] Es ist eine Technologie zum Vermeiden eines unnötigen Ausführens einer Verzögerungsunterstützung bereitgestellt.  [MITTEL ZUM LÖSEN DES PROBLEMS] Ein Unterstützungspunktverwaltungssystem gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst: eine Unterstützungspunktbezugseinrichtung zum Beziehen eines Unterstützungspunkts, der als ein Subjekt einer Verzögerungsunterstützung registriert ist; und eine Ausschlusseinrichtung zum Ausschließen des Unterstützungspunkts als das Subjekt einer Verzögerungsunterstützung in einem Fall, in dem ein Fahrzeug auf einer neuen Straße fährt, nachdem der Unterstützungspunkt ohne Verzögern am Unterstützungspunkt durchfahren wurde.
Patent DE-112014003791-T5 (DE)
Title: Elektronenmikroskop
Inventor: YOTSUJI TAKAFUMI
IPC: H01J37/22
Filed: 2014-03-14
Abstract: Es wird ein Elektronenmikroskop beschrieben, bei dem ein Detektor, an den eine Spannung angelegt werden muß, zum Erhalten einer Mikrofotographie von einer Probe verwendet wird, die sich in einer Gasatmosphäre befindet. Das Elektronenmikroskop ist mit einer Gaseinlaßvorrichtung zur Abgabe von Gas auf die Probe versehen, und eine Gassteuervorrichtung steuert die Gasmenge, die von der Gaseinlaßvorrichtung abgegeben wird, derart, daß während der Gasabgabe durch die Gaseinlaßvorrichtung der Vakuumgrad in dem Raum mit dem Detektor (49–51, 55) kontinuierlich auf kleiner als ein eingestellter Wert gehalten wird.