baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent TW-I636578-B (TW)
Inventor: RUDMANN HARTMUT
IPC: H01L31/18
Filed: 2014-08-13
Granted: 2018-09-21
Abstract: 本發明揭示一種光電感測器模組(例如，一光學近接感測器模組)，其包含：一基板；一光發射器，其經安裝於該基板之一第一表面上，該光發射器可操作以發射在一第一波長之光；及一光檢測器，其經安裝於該基板之該第一表面上，該光檢測器可操作以檢測在該第一波長之光。該模組包含：一光學構件，其經佈置成實質上平行於該基板；及一隔離構件，其經佈置於該基板與該光學構件之間。該隔離構件可包圍該光發射器及該光檢測器，且可包含自該基板延伸至該光學構件且使該光發射器及該光檢測器彼此隔離之一壁部。該隔離構件可由(例如)一熱固性聚合物材料、一紫外光固化聚合物材料或一可見光固化聚合物材料構成，其中該隔離構件進一步包含使該隔離構件實質上對可由該光檢測器檢測及/或由該光發射器發射之光非透明的一或多個無機填料及/或染料。
Patent TW-I646181-B (TW)
Title: 用於硏磨矽晶圓之化學機械硏磨組成物及其相關方法
Inventor: ITAI YASUYUKI
IPC: C09G1/18
Filed: 2014-09-25
Granted: 2019-01-01
Abstract: 本發明提供用於研磨矽晶圓之化學機械研磨組成物，包含：水；視需要地，研磨劑；根據式(I)之陽離子；根據式(II)之哌 或哌 衍生物；以及四級銨化合物；其中該化學機械研磨組成物展現9至12之pH。本發明亦提供製造和使用該化學機械研磨組成物之方法。
Patent TW-I662166-B (TW)
Inventor: TANINAKA TERUYUKI
IPC: D04H3/03
Filed: 2014-09-30
Granted: 2019-06-11
Abstract: 本發明旨在提供反復壓縮殘留應變小、反復壓縮後的硬度保持率大之反復壓縮耐久性優異的網狀構造物。
 
     網狀構造物係使由熱塑性彈性樹脂所組成之纖維度100dtex以上、60000dtex以下的連續線狀體彎曲形成不規則圈環，並使各個圈環相互以熔融狀態接觸而成之三維不規則圈環接合構造物，外觀密度為0.005g/cm 3 ~0.20g/cm 3 ，50%固定變位反復壓縮殘留應變為15%以下，50%固定變位反復壓縮後的50%壓縮時硬度保持率為85%以上，該熱塑性彈性樹脂為選自由聚烯烴系熱塑性彈性體、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚胺基甲酸酯系熱塑性彈性體及聚醯胺系熱塑性彈性體所成群組的至少1種。
Patent TW-I630123-B (TW)
Inventor: KOIKE YASUNORI
IPC: B41J2/14
Filed: 2014-10-20
Granted: 2018-07-21
Abstract: 於先前之液體收容容器中，難以降低產生液體洩漏之可能性。
 
     本發明係一種液體收容容器，其包括：液體收容部，其可收容液體；液體注入部，其可將液體注入至液體收容部；第2大氣室186，其與大氣連通；大氣導入路，其可將大氣導入至第2大氣室186；以及連通路，其使液體收容部與第2大氣室186連通；且於使液體注入部與液體收容部交叉之交叉部在與水平方向交叉之交叉方向朝向上方之姿勢下，於將大氣導入路與第2大氣室186之連接口即連通口205之交叉方向上之長度設為尺寸H2，且將連通路與第2大氣室186之連接口即連通口106之交叉方向上之長度設為尺寸H1時，連通口205位於較自第2大氣室186之上端213下降尺寸H2之位置更下方，且位於較自第2大氣室186之下端211上升尺寸H1之位置更上方。
Patent TW-I633916-B (TW)
Inventor: HAUKE GUENTER
IPC: B01D15/08
Filed: 2014-12-10
Granted: 2018-09-01
Abstract: 本發明係關於一種較佳用於純化液晶混合物之純化裝置(1)，其具有流動室(2)，該流動室具有入口開口(3)及與該入口開口相對配置之出口開口(4)，以使得能夠將該液晶混合物引入至該流動室(2)中及將其自該出口開口(4)排出，及至少一個於該流動室(2)中配置於該入口開口(3)區域中之流動分佈元件(5)及至少一個配置於該出口開口(4)區域中之過濾器元件(6)，其中在流動方向上所量測之該流動室(2)之長度比該流動室(2)橫向於該流動方向之最大內部尺寸大至少2倍。將純化劑(較佳吸附劑)配置於該流動室(2)中。該流動室(2)至少在截面中具有柱狀設計，且內部尺寸相當於此截面中之直徑。該純化裝置(1)係自金屬、塑膠或金屬/塑膠複合材料製得。將降低黏著之內部塗層施加至該流動室(2)之內表面(7)。該流動室(2)之該等內表面(7)具有小於1μm之粗糙度。將加熱及/或冷卻元件安裝於該純化裝置(1)上。
Patent TW-I661039-B (TW)
Title: 研磨用磨粒、其之製造方法、研磨方法、研磨裝置及漿料
Inventor: FUJIMOTO SHUNICHI
IPC: H01L21/302
Filed: 2015-02-02
Granted: 2019-06-01
Abstract: 本發明之課題係以高的研磨速度高品質地研磨被研磨材之表面。
 
     本發明係以濕式研磨法研磨被研磨材。漿料係將研磨用磨粒分散於純水中而成者。研磨用磨粒係使發揮機械化學作用之成分、或對研磨被研磨材時產生之摩擦熱起反應之成分等以全體一體化成粒子狀。各成分係分別保持各成分之物質固有之性質之狀態，藉由機械合金化處理而相互直接結合而成。藍寶石或碳化矽或氮化鎵等摩擦步驟中使用該漿料時，可比過去大幅縮短研磨時間，可大幅改善加工成本。研磨面為高品質。研磨用磨粒可重複使用於研磨處理。由於漿料之pH為3~9左右，故不會對研磨作業場環境造成影響，廢液之處理亦簡單。
Patent TW-I706966-B (TW)
Inventor: GOLDSTEIN JOEL E
IPC: C09J7/22
Filed: 2015-03-30
Granted: 2020-10-11
Abstract: A polymer that can be used as a release coating or a release agent in an LAB, either of which can be provided in VOC-free form and which exhibits excellent release even after aging under high humidity, includes mer that contain pendent groups that include carbamate functionalities.
Patent TW-I666391-B (TW)
Inventor: POWELL ROBIN JOHN WILLIAM
IPC: F16C32/06
Filed: 2015-04-27
Granted: 2019-07-21
Abstract: 一種負載感測式氣體軸承心軸裝置，包含一氣體軸承總成及一軸係被軸頸套裝於該氣體軸承總成內。該軸承總成包含一套殼部份及一內徑向軸承部份設在其內且相對於該套殼部份彈性地安裝，該內徑向軸承部份包含一部份具有一軸承面會面對該軸。該軸承總成係被設成由於該彈性安裝，該內徑向軸承部份會回應於該軸上的徑向負載而相對於該套殼部份經歷徑向位移，且該心軸裝置包含感測裝置用以感測該徑向位移，而可感測該軸承上的負載。
Patent TW-I646237-B (TW)
Title: Marking machine
Inventor: LIN ZHEN-CHANG
IPC: E01C23/22
Filed: 2015-04-28
Granted: 2019-01-01
Abstract: 一種劃線機，適用於在道路上劃出一道標線，該標線包括一層基料，及黏附於該基料之數個具有反光功能的第一微粒與數個具有防滑功能的第二微粒，該劃線機包含一個用於將基料導於該道路上的鋪塗單元，及一個撒粒單元。該撒粒單元包括一個用以容裝第一微粒的第一供料桶、一個用以容裝第二微粒的第二供料桶、一個將第一微粒撒於該道路上之基料的第一撒粒模組，及一個將第二微粒撒於該道路上之基料的第二撒粒模組。藉由該撒粒單元的設計，可在一次劃線作業就劃出具有反光及防滑功能以提升安全性的標線，並能有效的節省人力與作業時間。
Patent TW-I616627-B (TW)
Title: Drinking water supply device
Inventor: IWASAKI HIROMI
IPC: B67D3/02
Filed: 2015-05-28
Granted: 2018-03-01
Abstract: 現有之飲用水供給裝置中，為了利用水質改善材進一步改善水質，要求充分確保原水與水質改善材接觸之時間。
 
     於槽等原水供給機構之下游，設置容納有水質改善材之水質改善機構，於水質改善機構之下游，設置設有給水機構之淨水積存機構，該給水機構係積存經水質改善後之水且將所積存之潔淨水作為飲用水取出，於上述水質改善機構之原水導入部設置滿水位置決定機構來決定規定的滿水位置，且使上述水質改善機構之上部及潔淨水積存機構之上部與大氣連通，從而能使水因自重而於水質改善材中自然流下。
Patent TW-I667731-B (TW)
Inventor: TONG EDRIC
IPC: H01L21/683
Filed: 2015-06-10
Granted: 2019-08-01
Abstract: 本發明所述的實施例一般係關於用於將基座耦接至處理腔室的桿組件。桿組件包括樞軸機構、第一彈性密封件、第二彈性密封件、板、殼體與運動組件，其中第一彈性密封件耦接至樞軸機構，第二彈性密封件耦接至板的第一側上之板，該板具有耦接至第一彈性密封件的第二側，殼體耦接至第二彈性密封件，運動組件經調整而在X軸與Y軸上移動殼體並將基座相對於處理腔室的X-Y平面以角度地定位。
Patent TW-I614310-B (TW)
Inventor: HSU LI TAO
IPC: G02F1/1337
Filed: 2015-06-18
Granted: 2018-02-11
Abstract: 本發明係有關一種液晶配向劑，該液晶配向劑包含聚合物(A)、含環氧基之聚矽氧烷(B)及溶劑(C)，其中該聚合物(A)係由包含四羧酸二酐化合物(a1)與二胺化合物(a2)之混合物所製得。根據本發明之液晶配向劑具有低殘屑之優點。此外，本發明亦提供一種由上述液晶配向劑所形成之液晶配向膜、一種液晶配向膜之製造方法及一種包含上述配向膜之液晶顯示元件。
Patent TW-I612257-B (TW)
Inventor: PO HSUN LIN
IPC: G08C17/02
Filed: 2015-06-24
Granted: 2018-01-21
Abstract: 本發明揭露了一種基於無線網路之瓦斯遮斷控制系統以及基於無線網路之瓦斯遮斷控制方法。基於無線網路之瓦斯遮斷控制系統包含：一瓦斯遮斷閥，依據一瓦斯閥控制訊號呈一開啟或關閉狀態，以控制一家用瓦斯管路導通或不導通；一無線網路基地台；一瓦斯閥控制器，電連接該瓦斯遮斷閥，以無線的方式透過該無線網路基地台接收一控制命令，並依據該控制命令產生該瓦斯閥控制訊號；以及一行動裝置，透過一連網功能與該無線網路基地台連線，用以產生該控制命令。
Patent TW-I659929-B (TW)
Inventor: MACHIDA KEISUKE
IPC: C01B35/18
Filed: 2015-08-31
Granted: 2019-05-21
Abstract: 本發明提供一種具有廣泛範圍之近紅外吸收的透明之新穎近紅外吸收微粒子。本發明提供一種六硼化物微粒子集合體，集合體所含之微粒子之個數中，將粒子形狀近似地視為橢球體時，縱橫比[長軸長度]/[短軸長度]為1.5以上且未滿5.0之微粒子存在20%以上且未滿80%，5.0以上且未滿20.0之微粒子存在20%以上且未滿80%。
Patent TW-I670287-B (TW)
Title: 環氧樹脂組成物及其硬化物
Inventor: ARITA KAZUO
IPC: H05K3/46
Filed: 2015-10-01
Granted: 2019-09-01
Abstract: 為了提供一種可於硬化物中表現出優異之難燃性，並且低介電損耗正切、低介電常數等介電特性優異，進而兼具優異之導熱率之環氧樹脂組成物及其硬化物、使用該環氧樹脂組成物之預浸體、電路基板、增層膜、增層基板、半導體密封材料、半導體裝置、纖維強化複合材料、成形品等，而使用使三聚氰胺、對烷酚、及福馬林反應而獲得之含三 環之酚樹脂。
Patent TW-I628385-B (TW)
Inventor: NAKAKURA MASAHIRO
IPC: F16D121/02
Filed: 2015-10-15
Granted: 2018-07-01
Abstract: 一種液壓軟管接頭基本上設置有第一連接部份及第二連接部份。第一連接部份被建構成被附接於液壓裝置。第一連接部份具有有第一中心縱向軸線的第一流體通道、及包含緊固件接收孔及附接螺樁中之一者的緊固件結構，此緊固件結構具有不垂直於第一中心縱向軸線且不與第一中心縱向軸線同軸的第二中心縱向軸線。第二連接部份被建構成被附接於液壓軟管。第二連接部份具有與第一流體通道流體連通的第二流體通道。
Patent TW-I679692-B (TW)
Inventor: ATTUR SREENIDHI
IPC: H01L21/304
Filed: 2015-11-23
Granted: 2019-12-11
Abstract: 於此揭露的CMP工具中之部件具有表面和沉積在表面上的疏水層。在一例子中，該部件是用於在CMP工具中輸送流體的部件。用於在CMP工具中輸送流體的部件包含具有第一端和第二端的細長構件，及在兩端之間延伸的細長上表面。疏水層係沉積在細長上表面上。在另一例子中，部件是具有上側和下側的環形本體。疏水層係沉積在上側和下側兩者的內表面上。在另一例子中，部件是具有頂表面、底表面和由頂表面和底表面所界定之凸耳的盤形本體。疏水層係沉積在表面和凸耳上。
Patent TW-I707929-B (TW)
Title: 光學薄膜及其製造方法、以及光學阻隔薄膜及色轉換薄膜
Inventor: HARADA GENKI
IPC: C08J7/044
Filed: 2016-03-30
Granted: 2020-10-21
Abstract: 一種光學薄膜，其係具備薄膜基材、及在該薄膜基材的一方的面上形成的墊料層，墊料層係由含有(A)多元醇樹脂、(B)異氰酸酯系硬化劑、及(C)具有羥基之抗靜電劑的樹脂組成物所形成。
Patent TW-I634702-B (TW)
Inventor: WANG CHAO-JEN
IPC: H01R12/77
Filed: 2016-05-11
Granted: 2018-09-01
Abstract: 一種片狀結構物，包括片狀本體。片狀本體具有多個封閉路徑，沿每一個封閉路徑設置多個狹縫以及多個接點部，且各接點部位於相鄰兩個狹縫之間。片狀本體具備可撓性。在一展開狀態下，狹縫形成多個展開開口。展開開口至少一者為對稱開口，使片狀本體展開成片狀結構物。片狀結構物架構出一立體曲面，其中多個接點部位於立體曲面的多條等高線上。
Patent TW-I616279-B (TW)
Title: Chemical mechanical polishing dresser and manufacturing method thereof
Inventor: CHOU JUI-LIN
IPC: B24B53/12
Filed: 2016-08-01
Granted: 2018-03-01
Abstract: 一種化學機械研磨修整器，包含一底部基板、一中間基板以及一鑽石膜，該中間基板設置於該底部基板上，該中間基板包括一中空部、一圍繞該中空部的環形部以及至少一遠離該底部基板而自該環形部凸出的凸出環，該凸出環包括沿一環帶區域相隔排列的複數個凸塊，該凸塊係沿該中間基板之一徑向延伸，該鑽石膜設置於該中間基板上，該鑽石膜係順應該凸塊形成複數個研磨凸起。
Patent TW-I659465-B (TW)
Title: 基板處理裝置及基板處理方法
Inventor: KAGAWA KOJI
IPC: H01L21/304
Filed: 2016-08-01
Granted: 2019-05-11
Abstract: 從表面形成有凹凸圖案的基板，去除填充於凹凸圖案的凹部內之含有昇華性物質及雜質的固形物，並且防止從基板暫時去除的昇華性物質及雜質再附著於基板。
 
     在藉由使含有昇華性物質與雜質的昇華性物質溶液中之溶媒蒸發的方式，形成填充於基板(W)之凹部內的固形物時，藉由排氣部(62)及排氣部(63)的一者或兩者，一面排出處理室(52)內的氛圍，一面藉由基板加熱部(57)，將配置於處理室(52)內的基板(W)加熱至第2溫度以上的溫度，該昇華性物質，係於處理室(52)內的氛圍壓力下，在供給至前述凹部內之第1溫度以上的溫度昇華，該雜質，係於處理室(52)內的氛圍壓力下，在高於第1溫度之第2溫度以上的溫度蒸發。
Patent TW-I709268-B (TW)
Title: 金屬空氣電池單元及金屬空氣電池
Inventor: TAKAHASHI MASAKI
IPC: H01M12/06
Filed: 2016-08-10
Granted: 2020-11-01
Abstract: 本發明之目的係提供一種金屬空氣電池單元，其係特別包含供水空間與電氣系統空間的小型化結構。本發明之金屬空氣電池單元包含：單元本體，具有複數個金屬空氣電池組；以及供水空間(27)及電氣系統空間(28)，設於該單元本體的外表面，該供水空間(27)對該金屬空氣電池組供給電解質溶液，該電氣系統空間(28)，與該金屬空氣電池組的正極及負極連接，且控制電池輸出。
Patent TW-I725047-B (TW)
Title: Brake assembly for a height-adjustable walker apparatus and walker apparatus
Inventor: LIU JULIAN
IPC: A61G5/10
Filed: 2016-08-25
Granted: 2021-04-21
Abstract: There is provided a brake assembly for a height-adjustable walker apparatus. The brake assembly includes a brake actuator, a wheel-engaging brake member and a brake cable assembly. The brake cable assembly includes a flexible, inner cable. The brake cable assembly includes a flexible, outer casing through which the inner cable extends and is moveable relative to. The inner cable has a first end coupled to the brake actuator and a second end coupled to the wheel-engaging brake member. The brake assembly includes a brake cable housing shaped to enclose a slack portion of the brake cable assembly.
Patent TW-I726945-B (TW)
Inventor: WANG AN BANG
IPC: B05C11/02
Filed: 2016-12-01
Granted: 2021-05-11
Abstract: 本發明係提供一加速在有孔性材質上均勻反應之方法，且本發明與傳統西方墨點法相比，僅需1/9的檢驗時間及1/100的試劑用量即可達相同的偵測信號強度。
Patent TW-I640723-B (TW)
Title: Ash discharge system
Inventor: OZEKI YASUTAKA
IPC: F23J1/02
Filed: 2016-12-07
Granted: 2018-11-11
Abstract: 灰渣排出系統，具備：輸送機裝置，自鍋爐爐膛之爐底之下方搬出熟料灰渣；以及分離裝置，設置於自爐底至輸送機裝置之熟料灰渣之流路，具有容許熟料灰渣中之既定尺寸以下之熟料灰渣通過且阻止超過既定尺寸之熟料灰渣即大塊狀熟料通過之分離器。
Patent TW-I746494-B (TW)
Inventor: VEIRMAN JORDI
IPC: C30B29/06
Filed: 2016-12-13
Granted: 2021-11-21
Abstract: 本發明涉及一種製造由半導體材料所製成的錠的方法，包含下述步驟：在特定拉升條件下，由含氧的第一熔化的填料結晶出被稱為基準錠的第一錠；在沿著該基準錠分布的不同區域，測量填隙氧濃度；在該基準錠的不同區域，測量在該基準錠的結晶期間所形成的熱施體的濃度；由該填隙氧濃度和該熱施體濃度的測量，決定在該基準錠的結晶期間、由其不同區域所經歷的熱施體的形成退火的有效時間；計算為了使第二錠在結晶後具有按照目標曲線圖的軸向電阻所需得到的該熱施體濃度值；由熱施體濃度值和由該熱施體的形成退火的有效時間，決定與該軸向電阻目標曲線圖相應的該填隙氧濃度的軸向曲線圖；在該特定拉升條件下，由含氧的第二熔化的填料結晶出該第二錠，其中隨著結晶進行而調整該第二熔化的填料的氧濃度以在第二錠中得到該填隙氧濃度的軸向曲線圖。
Patent TW-I618974-B (TW)
Title: Dust-proof frame structure for reticle
Inventor: WANG CHING-BORE
IPC: G03F1/64
Filed: 2016-12-28
Granted: 2018-03-21
Abstract: 一種用於光罩的防塵框架結構，係透過有機膠黏固於一光罩的表面上，主要包含一框架本體，該框架本體係具有一個頂面、一個底面及四個外側壁面的結構，該框架本體頂面結合有一保護薄膜，以在框架本體形成一內腔，且該四個外側壁面處上係至少設置有一個含以上環繞狀的環狀內凹口，該環狀內凹口用以吸收由該頂面來的下壓壓力，以減少該底面受到的下壓壓力，以將光罩微變形由習知的2-3nm下降至1nm以下。
Patent TW-I700784-B (TW)
Title: Recess filling method and storage medium
Inventor: CHIBA YOICHIRO
IPC: H01L23/053
Filed: 2017-02-24
Granted: 2020-08-01
Abstract: There is provided a method of filling a recess with a germanium-based film composed of germanium or silicon germanium in a substrate to be processed on which an insulating film having the recess formed therein is formed, the method including: forming a silicon film on a surface of the insulating film at a thickness as not to completely fill the recess; subsequently, etching the silicon film such that the silicon film remains only in a bottom portion of the recess; and subsequently, selectively growing the germanium-based film composed of germanium or silicon germanium on 
the silicon film remaining in the bottom portion of the recess and selectively filling the recess with the germanium-based film.
Patent TW-I645585-B (TW)
Inventor: HSIEH HSIN PO
IPC: H01L33/56
Filed: 2017-03-03
Granted: 2018-12-21
Abstract: 一種光半導體裝置包括一基座、一光電半導體晶片以及一封裝件。光電半導體晶片設置於基座上。封裝件覆蓋光電半導體晶片於基座上，並包含一耐紫外光透光接著劑及多個耐紫外光透光粒子，該些耐紫外光透光粒子混合於耐紫外光透光接著劑中；其中，該些耐紫外光透光粒子在封裝件的重量百分比大於50%，該些耐紫外光透光粒子與耐紫外光透光接著劑的折射率差距小於0.02，該些耐紫外光透光粒子的紫外光耐久度優於耐紫外光透光接著劑。本發明更揭露一種光電半導體裝置的封裝件。
Patent TW-I711588-B (TW)
Title: 高硬度排水之處理方法
Inventor: SATO NAGAHISA
IPC: C02F9/14
Filed: 2017-03-09
Granted: 2020-12-01
Abstract: 本發明之一種態樣的高硬度排水之處理方法，是鈣硬度為100以上的高硬度排水之處理方法，其是具備：將凝集劑添加入上述高硬度排水的工序；將上述凝集劑添加工序後的高硬度排水利用過濾層進行粗過濾的工序；將上述粗過濾工序後的高硬度排水利用精密過濾膜或限外超過濾膜進行膜過濾的工序；將上述精密過濾膜或限外超過濾膜利用酸性水進行逆清洗的工序。上述凝集劑係可採用聚合氯化鋁。上述酸性水係可含有鹽酸或檸檬酸。亦可又具備：將上述膜過濾後的高硬度排水利用逆滲透膜進行膜處理的工序。上述過濾層係可採用無煙煤。上述高硬度排水可以是已經過生物處理後的排放污水(下水)。
Patent TW-I645453-B (TW)
Inventor: OKUTANI MANABU
IPC: H01L21/30
Filed: 2017-03-14
Granted: 2018-12-21
Abstract: 本發明之基板處理方法係向保持水平之基板之上表面供給處理液，形成覆蓋基板上表面整個區域之處理液之液膜。加熱基板而使與基板之上表面接觸之處理液蒸發，於基板之上表面與處理液之液膜之間形成氣相層。形成氣相層之後，對基板上之液膜吹送氣體而於液膜開孔。向液膜之孔內之區域吹送氣體而於氣相層上使液膜移動。變更基板外周部之氣流之方向而將基板外周部之液膜排除。
Patent TW-I646670-B (TW)
Title: 二維材料的製作方法
Inventor: HOU TUO HUNG
IPC: H01L27/13
Filed: 2017-04-07
Granted: 2019-01-01
Abstract: 本發明二維材料的製作方法包含以下步驟：於基板上形成具有至少一二維材料元素之薄膜；於薄膜上形成至少一包覆層；於包覆層形成後將薄膜進行退火，以形成二維材料膜。
Patent TW-I640147-B (TW)
Inventor: HUANG JEN-HSUEN
IPC: H02J9/06
Filed: 2017-04-25
Granted: 2018-11-01
Abstract: 一種控制電路，用於管理一系統機板之一電源供應單元(power supply unit,PSU)，控制電路將系統機板之一待機電源埠路由至PSU之一待機電源埠。控制電路藉由使用一感測器監視系統機板之待機電源埠之至少一電性參數；及決定至少一電性參數符合一準則。控制電路回應於決定至少一電性參數符合此準則，傳送一致能訊號以用於致能PSU的一主要電源埠，並將系統機板的待機電源埠重新路由至PSU的主要電源埠。
Patent TW-I645647-B (TW)
Inventor: SUN HAO
IPC: H02J7/04
Filed: 2017-05-10
Granted: 2018-12-21
Abstract: 本案關於一種充電系統及其控制方法，充電系統包含供電設備、充電模組及電池模組，充電模組系可分離地與供電設備耦接，且與電池模組耦接，並包含電能轉換模組、電壓調整模組及充電控制模組，其中，供電設備與充電模組耦接時，充電模組之電能轉換模組進行反向電能轉換，以利用電池模組之電能來對匯流排電容進行預充電，當匯流排電容之電壓因預充電而高於或等於第一門檻值時，系調整充電模組內之調整端之電壓，進而使充電系統處於正常工作模式。
Patent TW-I637904-B (TW)
Title: Hydrogen sulfide mixture and its manufacturing method and filling container
Inventor: TANIMOTO YOSUKE
IPC: C01B17/16
Filed: 2017-05-24
Granted: 2018-10-11
Abstract: 本發明提供不易腐蝕金屬的硫化氫混合物。硫化氫混合物含有硫化氫與水。而且，硫化氫混合物係以至少一部分成為液體之方式填充至填充容器內，氣相的水分濃度為0.001莫耳ppm以上且未達75莫耳ppm。
Patent TW-I777956-B (TW)
Title: Package with passivated interconnects
Inventor: BOYAPATI SRI RANGA SAI
IPC: H01L25/065
Filed: 2017-06-02
Granted: 2022-09-21
Abstract: Semiconductor packages with interconnects having passivation thereon is disclosed. The passivation layer may be any suitable dielectric material that may overlie a build-up dielectric layer and metal traces of an interconnect layer in a semiconductor package. Via holes may be formed in the build-up dielectric and the passivation layer may be removed from the bottom of the via hole. By removing the passivation layer at the bottom of the via hole, any residual build-up dielectric may also be removed from the bottom of the via hole. Thus removal of the residual build-up dielectric may not require a desmear process that would otherwise roughen metal and/or dielectric surfaces. The resulting smoother metal and/or dielectric surfaces enabled by the use of the passivation layer may allow greater process latitude and/or flexibility to fabricate relatively smaller dimensional interconnect features and/or relatively improved signaling frequency and integrity.
Patent TW-I671514-B (TW)
Title: 氣體感測器
Inventor: HATTORI MASASHI
IPC: G01N1/22
Filed: 2017-06-27
Granted: 2019-09-11
Abstract: 本發明之課題在於提供一種氣體識別性較高之氣體感測器。
 
     氣體感測器具備：第1氣體檢測元件，其具有第1振子及第1吸附膜，上述第1吸附膜設置於上述第1振子上且使用包含偏二氟乙烯樹脂之2種以上之氟樹脂而形成；第2氣體檢測元件，其具有第2振子及第2吸附膜，上述第2吸附膜設置於上述第2振子上，使用包含偏二氟乙烯樹脂之2種以上之氟樹脂而形成，且具有與上述第1吸附膜不同之吸附特性；以及檢測部，其檢測上述第1及第2氣體檢測元件之共振頻率。
Patent TW-I627415-B (TW)
Inventor: WEN KUO-SHUN
IPC: G06F13/38
Filed: 2017-07-18
Granted: 2018-06-21
Abstract: 測試用纜線及使用其的測試方法。測試用纜線包括一通用串列匯流排（USB）接頭、一測試端接頭及一開關電路。通用串列匯流排接頭耦接至一電子裝置，並且具有一第一資料接腳對及一第二資料接腳對。測試端接頭耦接至一測試治具，且具有一測試資料接腳對及一第一控制接腳，測試治具用以輸出一第一控制信號至第一控制接腳。開關電路耦接第一資料接腳對、第二資料接腳對、測試資料接腳對及第一控制接腳，並且開關電路依據第一控制信號將測試資料接腳對耦接至第一資料接腳對或第二資料接腳對。
Patent TW-I757315-B (TW)
Title: Light-emitting device and manufacturing method thereof
Inventor: CHENG CHING-TAI
IPC: H01L33/50
Filed: 2017-07-28
Granted: 2022-03-11
Abstract: A light-emitting device includes a light-emitting element, a wavelength conversion layer and a reflective wall. The light-emitting element has a first top surface, a bottom surface and a lateral surface arranged between the first top surface and the bottom surface. The wavelength conversion layer has a wavelength conversion material and includes a second top surface covering the first top surface. The reflective wall surrounds the lateral surface of the light-emitting element, and directly contacts the wavelength conversion layer. A step is formed between the reflective wall and the second top surface. The light-emitting device has a light angle of 110° to 118°.
Patent TW-I646334-B (TW)
Inventor: SHIN JUNG-CHUL
IPC: H01L21/66
Filed: 2017-08-11
Granted: 2019-01-01
Abstract: 揭露一種測試裝置。所述測試裝置包括：測試座，被配置成支撐多個探針；測試電路基板，包括用於接觸所述探針的接觸點；滑動件，使所述測試座耦合至所述測試電路基板及自所述測試電路基板分離；以及滑動件操作器，包括主體及滑動件按壓部，所述主體配置在所述測試座上，所述滑動件按壓部以能夠上下移動的方式支撐於所述主體上且自所述主體朝所述滑動件向下移動以使所述滑動件能夠沿所述測試座的表面方向滑動。
Patent TW-I739891-B (TW)
Title: 含氟醚化合物之製造方法
Inventor: HOSHINO TAIKI
IPC: C08G65/00
Filed: 2017-08-23
Granted: 2021-09-21
Abstract: 本發明提供一種含氟醚化合物之製造方法，其可高產率簡便地製造一可賦予基材表面或硬塗層優異撥水撥油性等的含氟醚化合物。 即，使R f 
(CF 2 
) a 
-CF 2 
OC(=O)R f4 
或R f 
(CF 2 
) a 
-C(=O)X 1 
與HN(-R 1 
CH=CH 2 
) 2 
反應，來製造R f 
(CF 2 
) a 
-C(=O)N(-R 1 
CH=CH 2 
) 2 
之方法。以及，獲得前述目的物後使其與HSiR 2   n 
L 3-n 
反應來製造R f 
(CF 2 
) a 
-C(=O)N(-R 1 
CH 2 
CH 2 
SiR 2   n 
L 3-n 
) 2 
之方法。R f 
係於碳原子-碳原子間具有1個以上醚性氧原子之碳數2以上的直鏈狀多氟烷基，R f4 
為碳數1~30之全氟烷基等，X 1 
為鹵素原子，R 1 
為伸烷基，a為1~5之整數，R 2 
為1價烴基，L為水解性基，n為0~2之整數。
Patent TW-I664895-B (TW)
Inventor: CHEN TUNG-WEI
IPC: G06F1/20
Filed: 2017-09-07
Granted: 2019-07-01
Abstract: 基座結構包括一殼體、一第一閥門、一第二閥門、一感測器與一風扇。殼體具有相連通的一第一通風口、一第二通風口與一容置空間。第一閥門用以控制第一通風口之開關。第二閥門用以控制第二通風口之開關。感測器設置在容置空間中。風扇用以在容置空間中造成一氣流。當氣流流通第一通風口與第二通風口其中之一時，第一通風口與第二通風口其中之另一係被關閉。
Patent TW-I668544-B (TW)
Title: 遠端控制無人機的方法
Inventor: HSU JUNG KUO
IPC: G08C17/02
Filed: 2017-09-14
Granted: 2019-08-11
Abstract: 一種遠端控制無人機的方法，先提供一近端遙控裝置及一遠端遙控裝置，該近端遙控裝置包括一與該無人機預設配對且用以在該無人機出廠時預設的一遙控距離內無線操控該無人機的遙控元件；該無人機傳送一圖像數據至該近端遙控裝置；該近端遙控裝置透過一第一網路協定將該圖像數據經由網際網路傳送至該遠端遙控裝置；該圖像數據呈現於該遠端遙控裝置的一第二顯示器；該遠端遙控裝置透過一第二網路協定發送一第一控制指令至該近端遙控裝置；該近端遙控裝置透過該遙控元件令該無人機根據該第一控制指令執行相應的動作。
Patent TW-I662800-B (TW)
Title: 雷達裝置及電波干擾之迴避方法
Inventor: WADA MASAKAZU
IPC: H04B15/02
Filed: 2017-10-25
Granted: 2019-06-11
Abstract: 本實施型態之雷達裝置之構成係具備訊號處理裝置，該訊號處理裝置包含電波干擾判定部、選擇部和發送部。上述電波干擾判定部係根據經由天線而接收的電波訊號，判定有無電波干擾。上述選擇部係在藉由上述電波干擾判定部判定有電波干擾之情況下，根據具有電波干擾之迴避功能的無線通訊裝置之上述迴避功能，選擇事先定義的脈衝圖形。上述發送部係從上述天線發送與藉由上述選擇手段被選擇出之脈衝圖形相對應的電波訊號。
Patent TW-I655788-B (TW)
Title: 感測單元及其製造方法
Inventor: HSIEH HAO-LUN
IPC: H01L31/18
Filed: 2017-10-30
Granted: 2019-04-01
Abstract: 一種感測單元，包括第一絕緣層、感光元件、二極體元件和發光元件。感光元件設置於第一絕緣層上。感光元件包括第一下電極、感測層和第一上電極。第一下電極位於第一絕緣層上。二極體元件設置於第一絕緣層上。二極體元件包括第二下電極、半導體層和第二上電極。第二下電極位於第一絕緣層上。發光元件設置於感光元件上方。發光元件包括第三下電極、發光層和第三上電極。二極體元件的第二下電極和第二上電極二者之中作為陽極者和作為陰極者，係分別電性耦接至發光元件的第三下電極和第三上電極二者之中作為陰極者和作為陽極者。
Patent TW-I648360-B (TW)
Title: 壓感黏合膜的製造方法以及光學層製品
Inventor: LEE HUI JE
IPC: C09J7/20
Filed: 2017-11-03
Granted: 2019-01-21
Abstract: 本申請案是關於一種壓感黏合膜的製造方法以及光學層
製品，且根據本申請案的一個實例，提供一種包括以下步驟的壓感黏合膜的製造方法：將包括異氰酸酯化合物、金屬化合物及丙烯酸聚合物的壓感黏合組合物應用至基礎層的至少一個側面上；以及在100℃或更高溫度下將其乾燥以形成壓感黏合層。
Patent TW-I645775-B (TW)
Inventor: CHANG JIA-HUANG
IPC: A01C5/02
Filed: 2017-11-10
Granted: 2019-01-01
Abstract: 本發明係提供一種栽種裝置組，可用於栽種種子，該栽種裝置組包含一保濕塊及一可摺式鏟具。該保濕塊係供該種子放置於其上。該可摺式鏟具係為倒斜錐狀殼體，當該可摺式鏟具被收納時係為平面體，該可摺式鏟具係用於栽種該種子及該保濕塊。藉由該栽種裝置組，可以增加植物栽種活動的趣味性，吸引兒童投入植物栽種活動，同時節省植物栽種活動所要準備的工具。
Patent TW-I759360-B (TW)
Inventor: HAYASHISHITA EIJI
IPC: H01L21/683
Filed: 2017-11-20
Granted: 2022-04-01
Abstract: 本發明的黏著性積層膜依序具有耐熱性樹脂層、柔軟性樹脂層及黏著性樹脂層，依據JIS Z0237且由下述方法而測定的耐熱性樹脂層與柔軟性樹脂層之間的剝離強度為0.01N/25mm以上、2.0N/25mm以下，且以160℃對黏著性積層膜進行4小時熱處理後的耐熱性樹脂層與柔軟性樹脂層之間的剝離強度為0.05N/25mm以上、1.5N/25mm以下。(剝離強度的測定方法)以黏著性樹脂層與矽晶圓接觸的方式，將黏著性積層膜貼附於矽晶圓上。繼而，使用拉伸試驗機，以25℃、拉伸速度為300mm/min的條件，於180度方向上將耐熱性樹脂層自柔軟性樹脂層剝離，測定此時的強度2次，將其平均值作為剝離強度。
Patent TW-I654623-B (TW)
Title: 積層配線膜和其製造方法以及鉬合金濺鍍靶材
Inventor: MURATA HIDEO
IPC: H01B1/06
Filed: 2017-11-30
Granted: 2019-03-21
Abstract: 本發明提供一種可應對用以使高精細的平面顯示元件的顯示品質提高所必需的、電極或配線膜的低反射的要求的積層配線膜和其製造方法，以及用以形成擔當低反射的中間膜的鉬合金膜的鉬合金濺鍍靶材。一種積層配線膜，其具有積層結構，所述積層結構於透明基板上或形成有透明膜的透明基板上形成有膜厚為30nm~70nm且包含鉬合金的中間膜，且於該中間膜正上方形成有比電阻為15μΩ．cm以下的導電膜，所述積層配線膜自所述透明基板側測定的可見光反射率為15%以下；及一種用以形成中間膜的鉬合金濺鍍靶材。
Patent TW-I653218-B (TW)
Title: 化合物及其有機電子裝置
Inventor: Wu hui-ling
IPC: C07D251/24
Filed: 2017-11-30
Granted: 2019-03-11
Abstract: 本發明提供一種化合物及其有機電子裝置，化合物如下式(I)所示： ；
其中X 1 
和X 2 
分別獨立為C(R a 
)，該二(R a 
)彼此相同或不同，該二(R a 
)相互連接形成一第一芳香環；X 3 
和X 4 
分別獨立為C(R b 
)，該二(R b 
)彼此相同或不同，該二(R b 
)相互連接形成一第二芳香環，該第二芳香環為一多環芳香環。
Patent TW-I640473-B (TW)
Inventor: HSIAO TA CHING
IPC: C30B29/36
Filed: 2017-12-07
Granted: 2018-11-11
Abstract: 本揭露提供之除硼方法，包括：(a)在腔室中混合碳源材料與矽源材料，形成固態混合物；(b)將固態混合物加熱到1000℃至1600℃之間，並調整腔室的壓力到1torr至100torr之間；(c)將第一載氣與水蒸汽的混合氣體通入腔室中，以除去固態混合物中的硼；以及(d)將第二載氣通入腔室。
Patent TW-I660317-B (TW)
Inventor: LIANG CHE WEI
IPC: G06Q30/02
Filed: 2017-12-21
Granted: 2019-05-21
Abstract: 一種行銷標的熱門度預測方法，包括：取得對應於一行銷類型之複數文章；取得對應於行銷類型之複數關鍵字；自上述文章取得對應於關鍵字之每一者之時序資料；根據每兩個關鍵字之時序資料計算對應的一相關性；根據相關性取得對應於每兩個關鍵字之一領先關係；根據領先關係以及關鍵字之每一者之時序資料建立一預測模型；根據預測模型以及一預測詞彙取得一推薦清單；以及根據推薦清單決定對應於預測詞彙之一行銷標的。
Patent TW-I663182-B (TW)
Inventor: OH MI OK
IPC: B29C48/885
Filed: 2017-12-22
Granted: 2019-06-21
Abstract: 一具體例有關於一種聚酯樹脂(它不僅具有一低結晶熱和在壓延加工性能上優秀的，而且亦是經濟的和環境友善的)，以及一種用於製備其的製程。此外，另一個具體例有關於一種用於藉由一使用該聚酯樹脂的壓延製程製備一共聚聚酯膜的製程(該薄膜是經濟的、環境友善的，並且在表面硬度、UV抗性等等上優秀的)，以及關於一種因此所製備的薄膜。再者，又另一個具體例有關於一種用於壓延的聚酯樹脂組成物(它具有一低結晶熱和在壓延加工性能上優秀的)，以及關於一種用於使用其製備一聚酯膜(它是經濟的、環境友善的，並且在表面硬度、化學抗性等等上優秀的)的製程。
Patent TW-I653463-B (TW)
Inventor: JHANG JIA-SIN
IPC: G02B7/02
Filed: 2018-01-12
Granted: 2019-03-11
Abstract: 一種光學成像鏡頭，從物側至像側沿光軸依序包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡、第六透鏡、第七透鏡及第八透鏡。第一透鏡以及第二透鏡皆具有正屈光率。第五透鏡的物側面的光軸區域為凹面。第五透鏡的像側面的圓周區域、第六透鏡的物側面的光軸區域及第七透鏡的物側面的光軸區域為凸面。第三透鏡、第四透鏡及第八透鏡為塑膠材質。光學成像鏡頭中具有屈光率的透鏡只有上述八片。
Patent TW-I682181-B (TW)
Title: 控制基板溫度裝置及對應製造方法
Inventor: REITINGER KLEMENS
IPC: G01R1/42
Filed: 2018-01-15
Granted: 2020-01-11
Abstract: 本發明提供一種用於控制基板溫度的裝置及一種相對應的製造方法。該裝置係配備有具一基板置放區（SF）的一平板式主要本體（1；1a、1b）；用於利用一第一溫度控制流體控制該主要本體的溫度之一第一溫度控制裝置，其具有在該主要本體（1；1a、1b）內部、用於循環該第一溫度控制流體的一第一複數分離環形通道（R1F-R4F）；用於利用一第二溫度控制流體控制該主要本體的溫度之一第二溫度控制裝置，其具有在該主要本體（1；1a、1b）內部、用於循環該第二溫度控制流體之一第二複數分離環形通道（R1L-R5L），其中該第一溫度控制流體可經由一第一管件（K1F）而被供應至該第一複數環形通道（R1F-R4F）並經由一第二管件（K2F）而從其移除，其中該第二溫度控制流體可經由一第三管件（K1L）而被供應至該第二複數環形通道（R1L-R5L）並經由一第四管件（K2L）而從其移除，其中該主要本體（1；1a、1b）具有在各情況中與該第一複數分離環形通道（R1F-R4F）和該第二複數分離環形通道（R1L-R5L）連通的一第一至第四孔洞（B1F、B2F、B1L、B2L），其中該第一至第四管件（K1F；K2F；K1L；K2L）係置於該主要本體（1；1a、1b）的該第一至第四孔洞（B1F；B2F；B1L；B2L）中。
Patent TW-I757407-B (TW)
Title: 基板之塗佈方法及基板之塗佈裝置
Inventor: XIA CHENG XIONG
IPC: B05C11/10
Filed: 2018-01-16
Granted: 2022-03-11
Abstract: 本發明之課題，在於提供在同時開始進行噴嘴之移動及塗佈液自噴嘴之吐出之情形時，可容易地使自開始塗佈之數秒鐘之期間之塗膜厚度儘可能地一定，而使基板之利用面積不會減少之基板之塗佈方法及基板之塗佈裝置。  
     於同時開始進行吐出塗佈液D之噴嘴3之移動及塗佈液自噴嘴之吐出而對基板8塗佈塗佈液時，使噴嘴之移動速度Vt逐漸地增速(Vt1、Vt2、Vt3)，而使基板每單位面積之塗佈液量成為一定，從而使塗膜厚度一定。
Patent TW-I692797-B (TW)
Title: 電漿處理裝置
Inventor: KAWAMATA YOSHIO
IPC: H01J37/32
Filed: 2018-03-28
Granted: 2020-05-01
Abstract: 本發明提供一種電漿處理裝置，其可根據旋轉體的表面的經過速度不同的位置來對藉由旋轉體而循環搬送的工件進行所期望的電漿處理。本發明包括：真空容器；旋轉體；藉由旋轉體的旋轉而以圓周的搬送路徑循環搬送工件的搬送部；筒部，在一端的開口朝向真空容器的內部的搬送路徑的方向上延伸存在；窗部，將筒部的氣體空間與外部之間加以劃分；供給部，將製程氣體供給至氣體空間；以及天線，藉由施加電力而在氣體空間的製程氣體中產生對經過搬送路徑的工件進行電漿處理的電感耦合電漿，且具有調節部。
Patent TW-I647615-B (TW)
Title: 使用多嵌入式控制器韌體的韌體系統的開機方法
Inventor: LIN WEN-TAI
IPC: G06F9/24
Filed: 2018-03-29
Granted: 2019-01-11
Abstract: 一種開機方法，可利用包括多個嵌入式控制器韌體的韌體系統執行，藉以載入電子裝置系統所對應的嵌入式控制器的真正嵌入式控制器韌體到嵌入式控制器的記憶體中。在韌體系統具有檔頭的格式的情況時，在檔頭加入真正嵌入式控制器韌體的辨識資訊，使得嵌入式控制器依據檔頭的辨識資訊取得真正嵌入式控制器韌體的開頭編碼位址。上述方法可使得具有多個不同嵌入式控制器韌體的電子裝置系統仍可共用一發行的執行檔。
Patent TW-I644653-B (TW)
Inventor: YANG FAN PEI
IPC: G06F17/00
Filed: 2018-03-30
Granted: 2018-12-21
Abstract: 本發明提供一種應用於腦部造影的顯影系統，包括第一顯影裝置、第二顯影裝置、第三顯影裝置及中央處理器。第一顯影裝置用於擷取第一腦部造影影像和根據第一濃度曲線來計算腦血流流速、腦血流體積、腦血流平均通過時間及第一顯影劑高峰時間。第二顯影裝置用於擷取第二腦部造影影像和根據第二濃度曲線來計算腦血流流速、腦血流體積、腦血流平均通過時間及第二顯影劑高峰時間。第三顯影裝置用於計算腦部皮質體積。中央處理器根據第一腦部造影影像的血管阻塞區域及第二腦部造影影像的血管阻塞區域經由演算法產生腦部血管阻塞區域影像。第三顯影裝置根據腦部皮質體積產生大腦萎縮區域。
Patent TW-I680255-B (TW)
Inventor: YUDOVSKY JOSEPH
IPC: F17D1/04
Filed: 2012-10-19
Granted: 2019-12-21
Abstract: 提供了一種具有輸送通道的氣體分配設備，其中輸送通道具有一入口端、一出口端與沿著長度而分隔之複數個縫隙。入口端係可連接至一惰性氣體源，且出口端係可連接於一真空源。同時提供了一種具有螺旋輸送通道、互相纏繞之螺旋輸送通道、分流之輸送通道、匯合之輸送通道、以及成形之輸送通道的氣體分配設備，其中入口端與出口端係配置以使氣體在輸送通道內快速交換。
Patent TW-I652146-B (TW)
Inventor: SU CHENG WEI
IPC: B25B7/14
Filed: 2018-04-12
Granted: 2019-03-01
Abstract: 本發明可快速調整開口之工具包括有一個第一夾持件、一個第二夾持件及一個鎖緊裝置，第一夾持件穿設有一個樞槽，第二夾持件的兩端之間設置有一個樞孔，鎖緊裝置包括有一個滑移件、一個第一鎖緊件及一個第二鎖緊件，滑移件的兩端之間設置有一個滑移部，滑移部穿設於樞孔且能夠相對第一夾持件滑移地滑設於樞槽，第一鎖緊件與第二鎖緊件能夠相對轉動使鎖緊裝置在鎖緊位置與活動位置之間切換，鎖緊裝置在鎖緊位置時，鎖緊裝置夾緊第一夾持件，鎖緊裝置在活動位置時，鎖緊裝置釋放第一夾持件，工具透過上述結構能夠快速地調整開口寬度。
Patent TW-I672577-B (TW)
Inventor: CHENG YAN FONG
IPC: G06F1/16
Filed: 2018-04-17
Granted: 2019-09-21
Abstract: 一種筆記型電腦包括一主機、一轉軸機構以及一螢幕。主機包括一殼體；樞接座設置於殼體內；以及防護蓋樞接於樞接座。轉軸機構連接於主機，包括一第一樞軸，設置於殼體內；以及一連接元件，連接於第一樞軸。螢幕連接於該轉軸機構。當螢幕相對於主機轉動時，連接元件跟隨第一樞軸轉動，並使防護蓋相對於殼體轉動。
Patent TW-I664797-B (TW)
Inventor: CHEN SHIN JU
IPC: H02M1/42
Filed: 2018-04-27
Granted: 2019-07-01
Abstract: 本發明係有關於一種高電壓增益之直流電源轉換器，其主要係令轉換器達成達到高電壓增益，但轉換器不必操作在極大的開關導通比，且轉換器採用交錯式操作，使得兩相分支電流漣波相消，降低輸入電流漣波的大小，並讓功率開關電壓應力遠低於輸出電壓，因此可使用額定電壓低且導通電阻較小的MOSFET，降低導通損失，又令耦合電感的漏電感減緩輸出二極體的反向恢復損失問題，而且漏電感能量能夠轉移到輸出端而提高效率，也能避免開關的電壓突波問題。
Patent TW-I676894-B (TW)
Inventor: CHEN SHIH-CHOU
IPC: G06F13/40
Filed: 2018-05-15
Granted: 2019-11-11
Abstract: 本發明公開了一種可變電壓的USB type-C通用序列匯流排裝置，利用數位類比轉換器作可變電壓的電壓信號產生單元並搭配分壓電阻，達成type-C通用序列匯流排通信協定下雙用途介面(DRP,Dual Role Port)的功能：當通用序列匯流排裝置被識別為一種放電裝置時，電壓信號產生單元在配置通道接腳處建立特定非零電壓的分壓；當通用序列匯流排裝置被識別為一種被充電裝置時，配置通道接腳處獲得一分壓，並讓分壓電阻接地。外接裝置通過分壓確認通用序列匯流排裝置的放電能力，在元件數量與裝置體積獲得減少的好處下，同時達成合理的供電配置。
Patent TW-I682234-B (TW)
Title: 相移空白罩幕以及相移光罩
Inventor: NAM KEE-SOO
IPC: G03F1/26
Filed: 2018-05-16
Granted: 2020-01-11
Abstract: 本發明公開了一種相移空白罩幕和相移光罩，其包括位於透明基板上的由矽（Si）或矽（Si）化合物製成並具有高透射率特性的相移膜。在根據本公開的相移空白罩幕中，相移膜具有50%以上的高透射率，由此獲得小於或等於32 nm、優選小於或等於14 nm、更優選小於或等於10 nm的半導體器件（例如DRAM、快閃記憶體、邏輯器件）用的微圖案。