baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-100891530-B1 (KR)
IPC: H01L23/12
Filed: 2007-07-27
Granted: 2009-04-06
Abstract: 반도체 패키지 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. 반도체 패키지는 본딩 패드를 갖는 반도체 칩, 상기 반도체 칩을 덮고 상기 본딩 패드를 노출하는 개구를 갖는 제1 절연막 패턴, 상기 제1 절연막 패턴 상에 배치되고, 상기 본딩 패드와 전기적으로 접촉되며, 전도성 고분자를 포함하는 재배선 패턴 및 상기 제1 절연막 패턴을 덮고 상기 재배선 패턴의 일부를 노출하는 개구를 갖는 제2 절연막 패턴을 포함한다. 웨이퍼 레벨 패키지와 같은 반도체 패키지에서 본딩 패드와 전기적으로 연결되는 재배선 패턴을 형성하는 공정수를 크게 감소시켜 반도체 패키지의 전체 제조 공정수를 크게 감소 시킬 뿐만 아니라 불량률을 크게 감소시킬 수 있는 효과를 갖는다.
Patent KR-100911084-B1 (KR)
IPC: H01R13/52
Filed: 2007-09-03
Granted: 2009-08-06
Abstract: 본 발명은 방수 커넥터에 관한 것으로서; 피복이 벗겨진 상태의 전선의 심선이 삽입되는 다수의 제1단자부가 돌출 구비되는 제1전도체의 외부를 제1절연피복으로 감싼 제1커넥팅부재와, 상기 전선의 심선이 상기 제1커넥팅부재의 제1단자부에 삽입된 상태에서 그 제1단자부의 외부를 감싸는 제1절연튜브로 구성되는 방수커넥터와; 피복이 벗겨진 상태의 전선의 심선이 삽입되는 제2심선삽입공이 형성되는 제2단자부가 일측에 구비되고 타단에는 피복이 구비되는 전선의 단부가 끼워지는 제3단자부가 형성되는 제2전도체와, 상기 제2전도체의 제2 및 제3단자부에 각각 삽입된 전선의 접속부위를 감싸는 제2절연튜브로 구성되는 방수커넥터와; 몸체의 중앙에 심선의 외부를 피복이 감싸고 있는 상태의 전선이 삽입되는 제2전선삽입부가 형성되고 그 몸체의 상측에는 상기 삽입부로 관통되는 체결공이 형성되고 그 몸체의 하부 일측에는 외측으로 돌출되는 단자가 형성되는 제3전도체의 외부에 제3절연피복를 감싼 제3커넥팅부재와, 상기 체결공에 체결되어 상기 제2전선삽입부에 삽입된 전선의 피복 및 심선 측부를 파고드는 제2 전도성 나사부재와, 상기 삽입부의 측면을 감싸며 상기 전선과 제2 전도성 나사부재의 접속부위를 커버하는 방수커버체로 구성되는 방수커넥터를 제공한다. 
     본 발명에 따른 방수 커넥터를 이용하여 전선을 접속하는 경우 전선연결부위에 습기가 침투되는 것을 완벽하게 차단하여 줌으로서 습기 등으로 인한 누전사고 등을 예방하는 효과가 있다. 
       
     전선, 접속, 방수
Patent KR-100866329-B1 (KR)
Title: Plasma burner and diesel particulate filter trap
Inventor: LEE DAE HOON
IPC: F01N3/00
Filed: 2007-09-21
Granted: 2008-10-31
Abstract: A plasma burner and diesel particulate filter trap are provided to remove particulate matters within exhaust gas through oxidation of exhaust gas and maximize space arrangement surrounding a muffler. A diesel particulate filter trap comprises the following elements. A filter is connected to a muffler on the opposite side of an engine. A plasma burner(100) heats exhaust gas using plasma discharge between the engine and the filter. A fuel inlet pipe(12) connects the plasma burner and a fuel tank. The plasma burner comprises the following elements. A fuel inlet(22) supplies fuel, connected to the fuel inlet pipe. An electrode tube(50) provides a space in which fuel flows, connected to the fuel inlet. A ground electrode(70) is installed away from one end of the electrode tube. A discharge gas inlet(26) takes in discharge gas mixed with fuel. A base(40) forms the fuel inlet. A reactor(60) is connected to the discharge gas inlet, with the electrode built in away from the inner wall.
Patent KR-100878880-B1 (KR)
Title: Cleaning robot of building outside wall
Inventor: LEE EUNG HYUK
IPC: A47L1/02
Filed: 2007-09-27
Granted: 2009-01-15
Abstract: A window cleaning robot for building exterior is provided to attach to the outside of window through vacuum-suctioning and automatically cleaning the window, thereby eliminating the risk of falling of worker. A window cleaning robot for building exterior comprises a main frame in which first and second vacuum motors, first and second transfer rails and a back and forth transfer member are provided, a transfer plate in which first and second transfer plates, a third transfer rail equipped with a right and left transfer member and a fastener are provided, a first reference axis inserted into both ends of a main axis in which first to third joint grooves are formed, a second reference axis in which one end of a direction changing member is fixed to the upper side of a circular rail by a bolt, a drive motor unit in which first through seventh servo motors are installed on the backside of an auxiliary axis, a support leg in which suction pads are connected to the other side of first through sixth support legs, respectively, and a cleaning apparatus in which a timing belt is connected to an axis and a silicon plate for removing the residual cleaning material on the window and a battery are provided.
Patent KR-100959055-B1 (KR)
IPC: G06F12/00
Filed: 2007-10-04
Granted: 2010-05-20
Abstract: 본 발명은 유한 상태 머신(FSM) 및 스페어 메모리의 행과 열에 재배치할 수 있는 알고리즘을 이용하여 기존의 결함 모델뿐만 아니라 새롭게 모델링된 결함까지도 검출해 낼 수 있고 메모리 생산 과정의 안정화에 따라 좀 더 다양한 알고리즘을 선택하여 적용할 수 있는 내장 자체 테스트 회로와 검출된 결함을 효율적으로 복구하기 위한 내장 복구 회로를 제공한다. 본 발명에 따른 메모리 장치는 데이터를 저장하고 저장된 데이터를 출력하기 위한 데이터 저장부, 외부에서 입력되는 선택 신호에 대응하여 다수개의 알고리즘 중 하나를 선택하여 출력하는 알고리즘 생성부 및 알고리즘 생성부에서 출력된 알고리즘을 이용하여 데이터 저장부를 테스트하여 결함이 있는 영역을 검출해 내는 테스트 제어부를 포함한다. 본 발명은 여러 가지의 메모리를 포함하는 SOC의 경우 다양한 결함이 발생하여도 결함을 검출하여 SOC를 정상동작시킬 수 있으며 SOC 내 메모리 장치를 스페어 행과 열 메모리를 이용하여 결함을 복구하여 사용할 수 있어 메모리의 수율을 증가시킬 수 있다. 
       
     임베디드 메모리, 자가 테스트, 자가 복구, 마치 요소, 유한상태머신
Patent KR-100921374-B1 (KR)
IPC: A23B7/10
Filed: 2007-10-05
Granted: 2009-10-14
Abstract: 본 발명은 식품저장고 제어방법에 관한 것으로써, 특히, 저장고의 온도에 따라 제상운전하는 제상단계와 상기 제상운전 시간이 한계시간 이상인지를 판단하는 판단단계와 상기 제상운전 시간이 한계시간 이상인 횟수를 카운팅하는 카운팅단계를 포함하여, 불량 검지의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 식품저장고 제어방법에 관한 것이다. 
       
     제상, 운전
Patent KR-101380784-B1 (KR)
IPC: G02F1/1343
Filed: 2007-10-10
Granted: 2014-04-04
Abstract: 본 발명은 액정표시장치의 단위화소영역 내에 형성되는 공통전극과 화소전극을 모두 ITO(Indium Tin Oxide)로 형성하는 경우, 그 전극 선폭을 줄여 고개구율을 구현하려는 액정표시장치의 제조방법에 관련된 것으로서, TFT부와 화소부로 구분되는 유리기판상에 투명전극을 증착하는 단계와; 상기 투명전극이 증착된 유리기판상에 PR(photo resist)을 도포하는 단계와; 상기 PR이 도포된 유리기판의 화소부상에 제1마스크를 적용하여 광이 차단되어 제1선폭(W1)을 이루는 광 차단영역과, 광에 노출되어 소정 간격(d)을 갖는 광 노광영역이 슬릿 형태로 번갈아 형성되도록 1차 노광하는 단계와; 상기 PR이 도포된 유리기판의 화소부상에서 제2마스크를 적용하여 제1선폭(W1)을 이루는 차단영역상에 소정 간격(d)을 갖는 노광영역을 형성하도록 2차 노광하는 단계와; 상기 유리기판상의 노광된 PR을 현상하는 단계와; 상기 PR이 현상된 유리기판상의 투명전극을 식각하여 공통전극 및 화소전극을 형성하는 단계; 및 상기 유리기판상의 잔여 PR을 스트립하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 
       
     IPS, ITO, 공통전극, 화소전극, 전극선폭
Patent KR-100902580-B1 (KR)
IPC: H01L27/146
Filed: 2007-10-11
Granted: 2009-06-11
Abstract: 본 발명은 CMOS(Complemetary Metal Oxide semiconductor) 이미지 센서 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 CMP 공정 중 엔드 포인트 탐지(End Point Detection) 역할을 하는 탐지 물질을 반도체 기판에 포함시켜 균일도를 향상시킨 CMOS 이미지 센서 및 그 제조방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 반도체 기판의 제1 면에 요철을 생성하는 단계; 상기 요철을 생성한 후에, 상기 요철 및 상기 제1 면에 CMP 공정 중 엔드 포인트 탐지(End Point Detection) 역할을 하는 탐지 물질을 생성하는 단계; 상기 요철을 채워 넣는 단계; 및 상기 탐지 물질을 포함하는 반도체 기판의 제2 면에 광다이오드(Photodiode) 및 트랜지스터를 생성하는 단계; 및 그라인딩(Grinding) 및 CMP 공정을 통해, 상기 요철에 존재하는 탐지 물질의 위치까지 상기 반도체 기판의 제1 면을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는  시모스 이미지 센서 제조 방법을 제공한다. 
       
     탐지물질, CMOS, CMP
Patent KR-101328805-B1 (KR)
IPC: B63B25/08
Filed: 2007-10-22
Granted: 2013-11-13
Abstract: 본 발명은 화물 하역 펌프(cargo oil pump)의 주 날개(main impeller)의 허브 하부면에 장착되어 화학제품 운반선과 같은 선박에서 화물 하역 시, 화물의 잔량이 선급이 정하는 기준을 만족할 수 있도록 화물펌프의 스트리핑 성능을 향상시킬 수 있는 스트리핑용 보조 흡입구에 관한 것이다. 
     상기 스트리핑용 보조 흡입구는, 화물 하역 펌프 주 날개의 허브 하부면에 설치되는 하단부에 흡입구가 형성되는 흡입 콘; 상기 흡입 콘 내주면에 나선 형태로 돌출 형성된 다수개의 보조 날개; 및 상기 서로 이웃하는 보조 날개 사이에 위치하도록 상기 흡입 콘의 상단부에 일정간격으로 천공된 다수개의 화물 분출 공;으로 구성된다. 
       
     화물 하역 펌프, 주 날개, 스트리핑용 보조 흡입구, 화물창, 흡입 콘
Patent KR-101370288-B1 (KR)
IPC: H04N19/463
Filed: 2007-10-24
Granted: 2014-03-05
Abstract: DCT보다 더 효율적인 압축을 제공하면서도 최소의 오버헤드 정보를 가지는 이미지 신호의 압축 방식을 제공한다. 본 발명에서는 DCT 변환 매트릭스의 행들 간과 열들 간의 부분적인 교환의 정도를 나타내는 앵글 파라메터에 대하여 여러 값을 적용하여  DCT 변환 매트릭스의 행과 열간의 부분적인 교환을 수행한다. 이와 같은 DCT 변환 매트릭스의 수정을 통하여, 더 효율적인 압축 계수 매트릭스를 생성한다. 파라메터로 사용된 앵글 파라메터를 그대로 저장하거나 전송한다면 오버헤드가 너무 크게 된다. 본 발명에서는 앵글 파라메터의 랜덤 시퀀스를 생성하고, 시퀀스 상의 각각의 앵글 파라메터에 대하여 압축 계수 매트릭스를 생성하고 압축률을 구하는 과정을 반복하여 가장 높은 압축률을 가지는 앵글 파라메터를 구한다. 여기서 가장 높은 압축률을 가지는 앵글 파라메터 자체를 저장하거나 전송하지 아니하고, 해당 앵글 파라메터의 랜덤 시퀀스 상에서의 번호를 구하여 이를 저장하거나 전송한다. 본 발명을 적용함에 의하여 평균 6%정도의 압축률 증가를 가져올 수 있다.
Patent KR-100824140-B1 (KR)
IPC: G09G3/291
Filed: 2007-10-29
Granted: 2008-04-21
Abstract: 흑 표시의 발광 휘도를 저하시키고, 동작이 안정적이며, 또한 고 콘트라스트의 ALIS 방식의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법을 실현한다.  제1(X) 및 제2(Y)의 전극(1, 2)과, 제3 전극(3)을 구비하고, 제1 전극과 제2 전극 사이의 모든 표시 라인에서 표시를 행하는 ALIS 방식의 PDP 구동 방법에 있어서, 리세트 기간과, 어드레스 기간과, 유지 방전 기간을 구비하는 PDP 구동 방법에 있어서, 리세트 기간은 제1 전극과 제2 전극 사이에 시간적으로 전압이 완만하게 변화하는 기울기를 갖고, 이전의 서브 필드에서의 점등 표시 셀 및 점등 표시 셀에 인접한 한쪽 셀 이외의 셀에서는 방전 개시 전압 이하가 되는 리세트 방전 전압 파형을 인가하는 기입 기간과, 제1 전극과 제2 전극 사이에 시간적으로 전압이 완만하게 변화하는 기울기를 갖고, 점등 표시 셀에 인접한 다른 셀 이외의 셀에서는 방전 개시 전압 이하가 되는 전압 파형을 인가하는 인접 기입 기간을 포함한다.   
       
     휘도, 방전, 점등, 콘트라스트, 기입 기간, 방전 개시
Patent KR-100909757-B1 (KR)
Title: 반도체 소자의 층간절연막 형성 방법
IPC: H01L21/31
Filed: 2007-10-31
Granted: 2009-07-29
Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 층간절연막 형성 방법에 관한 것으로, 구체적으로 활성 영역 패턴이 형성된 반도체 기판 전면에 SOD (spin on dielectric) 막을 매립한 다음, 상기 SOD 막 전면에 전자빔을 조사하는 단계를 포함함으로써, 보이드 발생 없이 균일한 층간절연막을 형성할 수 있는 방법에 관한 것이다.
Patent KR-101418052-B1 (KR)
IPC: B21B39/00
Filed: 2007-11-02
Granted: 2014-07-21
Abstract: 봉강을 이송하면서 표면 결함이 있는 봉강을 분류할 수 있는 봉강 분류 장치를 제공한다.  본 발명의 일 실시예에 따른 봉강 분류 장치는, i) 봉강을 회전시켜 봉강의 측면을 외부로 노출시키면서 이송하는 봉강 회전 이송 유닛, ii) 봉강이 회전하는 중에 봉강의 표면 결함을 감지하는 표면 검사 유닛, 및 iii) 봉강의 표면 결함 구비 유무에 따른 표면 검사 유닛의 신호에 의해 봉강을 분류하는 봉강 분류 유닛을 포함한다. 
     
     봉강, 표면 결함, 돌기부, 회전 이송 롤, 레이저
Patent KR-100947218-B1 (KR)
IPC: B22F3/00
Filed: 2007-11-02
Granted: 2010-03-11
Abstract: 본 발명은 혼합분말의 계량에서부터 프레스 가공에 이르는 분말 성형을 자동화 및 기계화하여 안전사고를 미연에 방지하고, 제품의 생산성을 향상시킬 수 있도록 한 다이아몬드 공구 제조를 위한 분말 성형장치에 관한 것이다. 
     이를 위해, 혼합분말을 계량배럴 내부에 일정량만큼 자동 투입하여 이동호스 내부에 공급하고, 다수의 실린더 구동을 통해 분말컵조립체를 회전시킴과 아울러 분말컵에 혼합분말을 투입하여 하부성형금형에 혼합분말을 공급하며, 진동플레이트에 진동볼부재를 이송시켜 혼합분말을 균일하게 분산하고, 하부성형금형 중앙에 구비한 생크를 고정함과 동시에 하부성형금형 둘레에 공급한 혼합분말을 가압 성형하는 것을 특징으로 한다. 
     상기한 구성에 따라, 대부분의 성형과정을 자동화 및 기계화하여 작업자가 입을 수 있는 안전사고의 위험을 차단하는 효과가 있고, 필요한 인력의 수를 줄여 인건비를 절감하는 효과도 있으며, 또한 연속적인 성형체 제조 작업을 통해 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 효과도 있다. 
       
     다이아몬드 공구, 혼합분말, 실린더, 생크, 진동.
Patent KR-100924659-B1 (KR)
IPC: B23K37/00
Filed: 2007-11-07
Granted: 2009-11-03
Abstract: 본 발명은 입체문자채널용 용접장치에 관한 것으로서, 특히 중앙부에 용접홀이 형성된 테이블을 구비하고,  상기 테이블의 저면부에는 제 1 및 제 2 용접토치가 토치홀더에 지지된 상태로 끝단부가 용접홀을 향하도록 대향되게 설치되며, 상기 용접홀의 가장자리에는 용접대상물을 용접위치에 위치시킬 수 있도록 맞대어줄 수 있는 스토퍼를 돌출 형성하므로서, 입체문자채널 제작시 채널용 입체바와 바닥판을 테크용접 결합할 때 입체바와 바닥판을 밀착시킨 상태에서 양손으로 구조물을 잡고 입체바를 스토퍼에 밀착시킨 후 입체바의 재질(갈바 또는 스텐,  알루미늄)에 따라 제 1 또는 제 2 용접토치를 선택적으로 작동시키거나 또는 용접토치를 회전시켜 간편하게 용접할 수 있게되어 용접작업을 보다 용이하게 실시할 수 있고, 테크용접시 불꽃이 외부로 발산되지 않으므로 작업자의 시력을 보호할 수 있음은 물론 작업자가 얼굴을 용접위치에 근접시키지 않아도 되므로 테크용접시 발생되는 화상으로부터 안전해질 수 있도록 한 입체문자채널용 용접장치에 관한 것이다. 
       
       
     입체문자채널, 입체바, 바닥판, 용접,
Patent KR-100910377-B1 (KR)
IPC: B21D28/00
Filed: 2007-11-07
Granted: 2009-08-04
Abstract: 본 발명은 펀칭 장치에 관련된 것으로써, 더욱 구체적으로는 핸드폰 케이스와 같이 단품 제조물의 특정 부위에 대한 펀칭 공정이 안정적이면서도 정확히 진행될 수 있도록 한 새로운 형태의 펀칭용 금형 장치에 관한 것이다. 
     이를 위해, 본 발명은 상하 이동 가능하게 설치된 상부 금형; 상기 상부 금형의 직하방에 고정 설치된 하부 금형; 상기 하부 금형의 상면에 설치되며, 상면으로는 제품이 안착됨과 더불어 일측면으로는 상기 제품의 절곡된 둘레면 일부가 안착되는 안착 블럭; 상기 하부 금형 중 상기 안착 블럭의 하부 공간에 수평 이동 가능하게 설치되며, 상기 안착 블럭에 안착된 제품의 절곡된 둘레면에 구멍을 성형하는 펀치부; 상기 하부 금형 중 제품의 절곡된 둘레면을 사이에 두고 상기 펀치부의 설치 위치와는 대응되는 곳에 수평 이동 가능하게 설치되며, 상기 안착 블럭의 상면에 안착된 제품의 절곡된 둘레면에 선택적으로 밀착되는 제품 고정부; 그리고, 상기 상부 금형에 설치되면서 상기 상부 금형의 하향 이동에 따라 상기 펀치부 및 상기 제품 고정부를 서로 대응되는 방향을 향해 수평 이동시키는 동작부:를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 펀치용 금형 장치가 제공된다. 
       
     펀칭용 금형 장치, 상부 금형, 하부 금형, 안착 블럭, 동작부
Patent KR-100901320-B1 (KR)
IPC: B29C45/07
Filed: 2007-11-08
Granted: 2009-06-09
Abstract: 본 발명은 사출성형기에 관한 것으로서, 상단부에 힌지부를 갖는 베이스 프레임과; 상기 베이스 프레임의 힌지부에 회동 가능하게 결합되는 고정반과; 상기 고정반을 관통하여 슬라이드 구동되는 복수의 가동실린더와, 상기 복수의 가동실린더의 일단부에 결합하여 상기 가동실린더의 구동 시 상기 고정반에 접근 또는 이격되도록 슬라이드 되는 가동반과, 상기 가동반에 일체로 결합되는 노즐유닛을 구비하는 가동성형부; 및 일단부가 상기 베이스 프레임에 지지되고 타단부가 상기 가동성형부에 지지되어, 구동 시 상기 힌지부를 중심으로 상기 가동성형부와 상기 고정반을 회동시킴으로써 상기 고정반과 상기 가동반이 수평으로 나란히 위치되는 수평사출상태와 수직으로 나란히 위치하는 수직사출상태를 선택적으로 설정하는 유압실린더부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 수평형 사출성형기 또는 수직형 사출성형기로서 선택적으로 사용할 수 있도록 구조가 개선된 수평 및 수직 겸용 사출성형기가 제공된다. 
       
     사출성형기, 수직형(vertical type), 수평형(horizontal type), 겸용
Patent KR-100956764-B1 (KR)
IPC: G01N33/48
Filed: 2007-11-27
Granted: 2010-05-12
Abstract: 본 발명은 헤모글로빈-알파 서브유닛을 바이오 마커로 이용한 뇌졸중의 진단방법에 관한 것으로, 구체적으로 혈청에 포함된 헤모글로빈-알파 서브유닛의 발현량을 SELDI-TOF 분석 및 웨스턴 블랏을 통해 측정함으로써 뇌졸중을 진단하는 방법에 관한 것이다.  본 발명의 방법에 따라 헤모글로빈 알파 서브유닛의 혈청 내 농도를 결정함으로써 소동맥 폐색증을 동반하는 뇌졸중을 신속하고 정확하게 진단할 수 있다. 
     
     헤모글로빈 알파 서브유닛, 뇌졸중 진단 마커, SELDI-TOF-MS
Patent KR-100932979-B1 (KR)
Title: 중공형 캡슐 구조체 및 이의 제조 방법
IPC: B01J13/02
Filed: 2007-11-28
Granted: 2009-12-21
Abstract: 본 발명은 중공형 캡슐 구조체 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 중공형 캡슐 구조체는 구형의 나노기공을 포함하는 외각을 포함한다. 
     본 발명에 따른 중공형 캡슐 구조체는 기공이 상호 연결되어 있어 전자 전도성이 우수하며, 비표면적이 넓다. 또한 외각에 포함된 나노기공에 의한 모세관 현상에 의해 물질 전달이 용이하다. 그 결과 촉매 담지체, 카본나노튜브 성장용 지지체, 활물질, 도전제, 분리제, 탈취제, 정수제, 흡착제, 디스플레이용 에미터층 형성용 물질, 필터 등 다양한 분야에 사용가능하다. 
       
     중공형 캡슐 구조체, 마크로기공, 나노기공, 비표면적, 물질전달
Patent KR-100932526-B1 (KR)
Title: 고무장식 혁대용 버클
IPC: A44B11/00
Filed: 2007-12-05
Granted: 2009-12-17
Abstract: 본 발명은 고무장식 혁대용 버클에 관한 것으로, 버클몸체에 결속되어 정면으로 노출되는 버클장식을 형태 변형이 용이하면서 접착성이 우수한 고무장식으로 채용함으로서, 전체적으로 금속재질의 버클몸체가 갖는 내구성과 함께 피부에 가까운 고무재질이 갖는 안정성과 편안함을 부여할 수 있고, 더불어 조립공정 및 생산단가도 획기적으로 줄일 수 있으면서 다양한 형태 변화 및 로고의 인쇄가 가능하여 단순화면서도 세련된 장식성을 제공할 수 있다. 이를 달성하기 위해 본 발명은 상측 주연으로 일정높이의 이탈방지턱(14)이 돌출되어 상측이 장식수용홈(16)의 공간을 형성하는 금속재질의 버클몸체(10)와, 저부에 접착면(26)이 형성되어 상기 버클몸체의 장식수용홈(16)에 삽입 부착되는 고무재질의 고무장식(20)을 기본적으로 포함하여 구성되며, 특히 상기 고무장식(20)은 노출되는 상측 표면에 다양한 로고문양(40)이 형성 또는 인쇄된 구성관계를 기술적 특징으로 한다. 
       
     버클몸체, 돌기결속공, 장식수용홈, 장식고무, 고정구체결홈, 접착면
Patent KR-101425889-B1 (KR)
IPC: H04N9/68
Filed: 2007-12-07
Granted: 2014-08-05
Abstract: 액티브 매트릭스 구동형의 자체 발광 표시 모듈에서의 피크 강도 레벨을 제어하는 피크 강도 레벨 제어장치가 개시된다. 상기 장치는 자체 발광 표시 모듈에 공급되는 표시 데이터의 평균 계조값을 계산하는 평균 계조값 계산부; 상기 피크 강도 레벨에 대한 강도 증가 구동을 실행할 때, 상기 평균 계조값에 따른 피크 강도 레벨을 유도할 수 있도록 상기 자체 발광 표시 모듈의 구동조건을 제어하는 구동조건 제어부; 및 상기 피크 강도 레벨에 대한 강도 증가 구동을 실행할 때, 표준값의 피크 강도 레벨로 구동하는 경우와 비교하여 소비 전력을 증가시키지 않도록 상기 표시 데이터에 감마 변환을 적용하는 감마 변환부를 포함한다. 
     
     액티브 매트릭스, 자체 발광, 피크 강도, 계조값, 감마 변환, 액정, 유기 EL 표시
Patent KR-100923905-B1 (KR)
IPC: G01N35/00
Filed: 2007-12-11
Granted: 2009-10-28
Abstract: 본 발명은 오염수 중의 질소이온 농도를 측정하는 시스템에 있어서, 
     오염수 중의 질소이온 농도를 연속적으로 측정하기 위한 측정부(100)와; 
     측정센서에서 발생하는 미세 전위를 증폭하는 전위계부(200) 및; 
     전위계에서 발생하는 디지털 신호를 저장하는 데이터 처리부(300); 
     로 구성되는 것을 특징으로 하는 오염수의 질소이온 연속 측정 시스템에 관한 것이다.  
     따라서 상기의 구성을 갖는 본 발명은 오염수 중의 질소이온의 농도를 신속하고 연속적으로 측정가능하게 하여 기존의 전처리 등의 과정을 통하여 회분식으로 측정하는 장치에 비해 공정의 적용성을 높여 공정의 질소이온 농도의 제어과정에 쉽게 적용할 수 있도록 한 것이 장점이다. 또한 기존 전극법이 생물막에 의한 오염, 내부 전해질의 오염 등으로 주기적인 청소와 보정이 필요하고 이에 따른 정도가 낮아지는 점을 극복하고자 미소 질소이온 이온센서를 사용하여 약 주 1회의 미소 이온센서의 교체만으로도 우수한 정확도를 가짐에 따라 측정 데이터의 신뢰성을 높여 질소이온의 제어 편이성을 제고하였다.  
     특히 본 발명은 본 발명에 따른 측정장치를 이용하여 하수, 폐수 및 정수의 처리공정 중의 오염수의 질소이온의 농도를 연속적으로 측정하여 모니터링이 가능 하여  효율적인 질소이온의 제거가 가능함에 따라, 정수처리공정에서 질산성 질소에 의해 유발되는 청색증의 위험을 제어 가능하게 하고 또한 하수 및 폐수처리공정에서의 암모니아성 질소의 제거 즉, 질산화의 효율을 높이고, 질산성 질소의 탈질시 요구되는 외부탄소원의 주입량을 제어함에 따른 약품비 등의 운영비를 줄일 수 있게 한 것이 장점이다.  
       
     질소이온, 미소 이온센서, 연속 측정, 무진동테이블, 패러데이 용기
Patent KR-101473877-B1 (KR)
IPC: B29C59/02
Filed: 2007-12-13
Granted: 2014-12-26
Abstract: 본 발명은 잉크 조성물에 관한 것으로, 특히 임프린트 리소그래피 및 롤 프린트를 이용한 패턴형성에 적용되어 패턴 지지체의 역할과 더불어 잉크조성물로 인한 팽윤현상의 발생을 최소화하여 패턴 형성의 정밀도를 높일 수 있고, 또한 패턴 전사율을 높여서 수율 개선 및 공정의 효율성을 향상시킬 수 있는 임프린트 리소그래피 및 롤 프린트용 잉크 조성물에 관한 것이다. 
       
     잉크, 임프린트 리소그래피, 롤 프린트, 점착성 부여제
Patent KR-100948901-B1 (KR)
IPC: G02B6/35
Filed: 2007-12-17
Granted: 2010-03-24
Abstract: 본 발명은 광 크로스톡이 향상된 PLC(Planar Lightwave Circuit)형 디지털 광스위치에 관한 것으로, 방사형 감쇠기의 Y-분기 암(arm)의 직선 광도파로에 테이퍼 구조를 적용하여 광 가둠(optical confinement)이 약해지도록 함으로써, 동일한 온도차에서 광 감쇠가 더욱 효과적으로 발생되어 광 크로스톡이 향상되는 것을 특징으로 한다. 또한, 방사형 감쇠기의 열광학 히터를 상기 Y-분기 암의 직선 광도파로의 중심 상부에서 옆쪽으로 배치하여 입사된 광의 회절 및 방사를 가속화시킴으로써, 추가적인 광 감쇠에 의해 광 크로스톡을 더욱 향상시킬 수 있다. 
       
     광스위치, DOS, PLC, 평면광회로, 폴리머, 광 크로스톡, 가변 광감쇠기, VOA
Patent KR-100938288-B1 (KR)
IPC: G06F19/00
Filed: 2007-12-24
Granted: 2010-01-22
Abstract: 본 발명은 광화학 옥시던트 저감을 위한 1차 원인물질 배출량 규제기준 평가시스템 및 방법에 관한 것으로, 전지구의 지형·지리정보, 기상정보, 1차 원인물질 배출량 데이터를 저장하는 데이터베이스; 사용자 단말기로부터 입력되는 1차 원인물질 배출량 규제 대상지역의 위/경도 정보에 대응하여, 상기 데이터베이스에 저장된 대상지역의 지형·지리정보, 기상정보를 토대로 1차 원인물질의 배출원인별 배출량 규제비율에 따른 광화학 옥시던트 농도변화 예측치를 산출하여 데이터베이스에 저장하거나 그 도식화된 자료를 네트워크를 통해 상기 사용자 단말기에 제공하는 배출량 규제기준 평가서버; 1차 원인물질 배출량 규제 대상지역의 위/경도 정보를 상기 평가서버에 전송하며 상기 평가서버에서 제공되는 대상지역의 광화학 옥시던트 농도변화 예측치를 수신하여 디스플레이하는 사용자 단말기;를 포함하는 1차 원인물질 배출량 규제기준 평가시스템 및 그에 의한 평가방법을 제공하여, 2차 대기오염물질인 광화학 옥시던트(Ox) 저감정책을 수립하고 시행하는데 있어 1차 원인물질(전구물질)인 질소산화물(NOx)과 반응성 탄화수소(RH)의 배출량을 경제적이고 효율적으로 규제하기 위한 규제기준을 제공한다. 
       
     광화학 옥시던트, 1차 원인물질, 배출량, 규제기준, 평가
Patent KR-101044548-B1 (KR)
IPC: G03F7/039
Filed: 2007-12-28
Granted: 2011-06-27
Abstract: 본 발명은 유-무기 복합 양성 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 양성 포토레지스트 조성물은, 특정 화학식으로 표시되는 바인더 수지 3 내지 50중량%; 감광제 2 내지 40중량%; 금속 질화물 또는 금속 산화물로 이루어지는 유전상수 조절제 1 내지 40중량%; 및 유기용매 10 내지 94중량%를 포함한다. 본 발명의 양성 포토레지스트 조성물은, 알칼리 현상액으로 현상되어 패턴 형성이 가능하며 내열성 및 전기 절연 특성이 매우 우수하고 동시에 유전상수 조절이 가능한 박막을 형성할 수 있다. 
     양성 포토레지스트, 절연막
Patent KR-101256424-B1 (KR)
IPC: B05C5/00
Filed: 2005-08-22
Granted: 2013-04-19
Abstract: 본 발명은 프린트 헤드(3)의 복수의 노즐(4)로부터 잉크 비흡수성을 지닌 피도포물(2)상에 잉크를 토출해서 피도포물(2)상에 막(B) 형성하는 막 형성 공정, 막 형성 공정에서 피도포물(2)상에 형성된 막(B)의 막 두께를 각 노즐(4)의 잉크 토출 위치와 관련하여 측정하는 막 두께 측정 공정, 막 두께 측정 공정에서 측정된 각 노즐(4)의 잉크 토출 위치에서의 막 두께와 목표 막 두께(Ba)의 차이에 의거해서 각 노즐(4)로부터의 잉크의 토출량을 증감 보정하는 토출량 보정 공정을 갖는 잉크젯 프린터(1)의 토출량 제어 방법을 제공한다. 
       
     잉크젯 프린터, 피도포물, 막 두께 측정 수단, 토출량 보정 수단
Patent KR-101354345-B1 (KR)
IPC: A61Q17/04
Filed: 2005-10-26
Granted: 2014-01-22
Abstract: 본 발명은 자외선-차단 조성물 중의 자외선 필터의 자외선 흡수를 증폭시키기 위한 중합체 입자의 용도에 관한 것으로, 중합체 입자는 275nm 이상의 λ 최대 에서 자외선 흡수 최대를 보이는, 공유결합된 하나 이상의 발색단을 포함하는 하나 이상의 중합체 입자를 포함한다.
Patent KR-100899242-B1 (KR)
IPC: G11C16/00
Filed: 2006-09-27
Granted: 2009-05-27
Abstract: 메모리 시스템은 n(n은 자연수임)개의 기입 단위 영역들로 이루어진 제1 오리지널 블록 및 복수의 기입 단위 영역들로 이루어진 제1 서브블록을 포함하는 불휘발성 반도체 메모리를 포함한다.  제어기는 제1 내지 제p(p는 n보다 작은 자연수임) 어드레스 중 하나를 갖고 있는 데이터를 제1 오리지널 블록에 기입한다.  또한, 제어기는 제1 내지 제p 어드레스 중 하나의 제1 기입 어드레스를 갖고 있는 데이터의 기입 요구를 수신하고, 제1 기입 어드레스를 갖고 있는 데이터가 제1 오리지널 블록에 존재하는 경우에 제1 기입 어드레스를 갖고 있는 데이터를 제1 서브블록에 기입한다. 
       
     기입 데이터, 오리지널 블록, 기입 요구, 제어기, 실데이터
Patent KR-100881108-B1 (KR)
IPC: H01L21/301
Filed: 2006-11-22
Granted: 2009-02-02
Abstract: 본 발명은, 반도체 웨이퍼를 복수의 반도체 칩의 매트릭스로 분할하는 스크라이브 라인을 갖는 반도체 웨이퍼를 개시하고 있다. 반도체 웨이퍼는 폴리실리콘 층, 폴리실리콘 층 상에 형성된 폴리-메탈 층간 절연막, 및 폴리-메탈 층간 절연막 상에 형성된 제1 금속 배선 층을 포함한다. 반도체 웨이퍼는, 스크라이브 라인의 다이싱 영역 상에 형성된 공정-모니터 전극 패드를 포함한다. 공정-모니터 전극 패드는 다이싱 영역의 폭보다 더 넓은 폭을 갖는다. 공정-모니터 전극 패드는, 제1 금속 배선 층을 폴리실리콘 층에 접속시키기 위해, 폴리-메탈 절연막에 형성된 접속 홀을 포함한다. 
       
     반도체 웨이퍼, 스크라이브 라인, 다이싱 공정, 공정-모니터 전극 패드
Patent KR-101332739-B1 (KR)
IPC: C23C16/455
Filed: 2006-01-17
Granted: 2013-11-25
Abstract: 원자층증착(ALD) 박막증착장치는, 그 내부에 형성된 공간부 내에 배치된 웨이퍼 상에 박막을 증착하도록 구성된 증착 챔버를 포함한다.  상기 증착 챔버는 상기 공간부와 연결된 가스 입구를 포함한다.  가스 시스템은 상기 증착 챔버의 가스 입구로 가스를 이송하도록 구성된다.  상기 가스 시스템의 적어도 일부분은 상기 증착 챔버 위에 위치한다.  상기 가스 시스템은 복수의 가스 흐름들을 혼합하도록 구성된 혼합기를 포함한다.  이송 부재는 상기 혼합기 및 상기 가스 입구와 유체 연통된다.  상기 이송 부재는, 상기 가스가 상기 가스 입구로 들어오기 전에 상기 가스를 수평 방향으로 확산시키도록 구성된, 수평 방향으로 분기하는 한 쌍의 벽을 포함한다.
Patent KR-101292137-B1 (KR)
IPC: G02B6/00
Filed: 2006-01-19
Granted: 2013-08-09
Abstract: 본 발명은 전자기 방사선(5)을 가이드 하기 위한 광학 소자(1)에 관한 것으로서, 상기 광학 소자는 베이스 바디(2) 및 적어도 하나의 박막(3)을 포함한다.  상기 박막(3)은 상기 베이스 바디(2) 상에 접착되어 상기 베이스 바디(2)와 직접 결합을 형성하며, 상기 박막(3)은 전자기 방사선(5)이 상기 박막을 관통하도록 배치되어 있다.  본 발명은 또한 사출 성형 방식으로 상기 광학 소자를 제조하기 위한 방법과도 관련이 있다.
Patent KR-100997339-B1 (KR)
IPC: H04L27/26
Filed: 2006-03-15
Granted: 2010-11-29
Abstract: 콰지-직교 시스템에서 전송 전력 및 오버래핑의 양을 제어하기 위한 기법들이 설명된다.  섹터에 대한 기지국은 상기 섹터 및 인접 섹터들에 있는 터미널들로부터의 전송들을 수신하고 상기 섹터에 있는 터미널들에 대한 성능 메트릭들(예를 들어, 전체 스루풋) 및/또는 QoS 메트릭들(예를 들어, 최소 데이터 레이트)을 결정한다.  상기 기지국은 상기 성능 메트릭들에 기반하여 오버래핑 인자를 업데이트하고 상기 QoS 메트릭들에 기반하여 QoS 전력 제어 파라미터를 업데이트한다.  오버래핑 인자는 데이터 전송을 위해 사용할 수 있는 각각의 시간-주파수 블록을 통해 동시에 전송된 오버래핑 전송들의 평균 개수를 나타낸다.  QoS 전력 제어 파라미터는 상기 섹터에 있는 터미널들이 최소 QoS 요구들을 달성할 수 있도록 보장한다.  다수의 루프들을 가지는 전력 제어 메커니즘은 각각의 터미널의 전송 전력을 조절하는데 이용된다.  오버래핑 인자 및 QoS 전력 제어 파라미터는 루프들 중 두 개의 루프들에 의해 업데이트된다.
Patent KR-101292144-B1 (KR)
IPC: H01L51/50
Filed: 2006-05-16
Granted: 2013-08-09
Abstract: 본 발명은 상단 전극의 적어도 하나가 복수의 다이오드(5,5')에 공통이고, 제 1 전도층(31)과 제 2 전도층(33), 및 상기 2개의 전도층(31, 33) 사이에 개재되고, 상기 공통 전극(3)의 2개 전도층(31, 33) 사이에 직접 접촉존(4)을 제공하는 윈도우로 관통된 격리되고 투명한 버퍼층(32)을 포함하는 패널에 관한 것으로서, 상기 접촉존(4)은 다이오드(5, 5')의 활성화 존으로부터 분리된다. 2개의 전도층사이의 상기 직접 접촉존의 존재는 중간 버퍼층이 절연되면서도 상단 전극에 의해 제공되도록 전류의 양호한 분배를 가능하게 한다.  
     
     발광, 디스플레이, 패널, 다이오드, ITO
Patent KR-101366793-B1 (KR)
IPC: H01L21/027
Filed: 2006-04-11
Granted: 2014-02-25
Abstract: [과제]	반도체 장치 제조의 리소그라피 프로세스에 있어 포토레지스트의 하층에 사용되고, 포토레지스트에 비해 큰 드라이 에칭 속도를 갖고, 포토레지스트와의 인터믹싱을 일으키지 않고, 어스펙트비가 큰 홀을 갖는 반도체 기판의 표면을 평탄화 할 수 있는 하층막 및 이 하층막을 형성하기 위한 하층막 형성 조성물을 제공하는 것이다. 
     [해결수단]	포토레지스트의 하층에 사용되는 하층막을 광 조사에 의해 형성하기 위한 조성물로써 중합성 물질 및 광중합 개시제를 포함하는 하층막 형성 조성물이다. 
       
     반도체 장치, 리소그라피 프로세스, 포토레지스트, 하층막
Patent KR-101297282-B1 (KR)
IPC: C08F220/12
Filed: 2006-06-08
Granted: 2013-08-16
Abstract: 본 발명은 고속·고분리에 적합하고 또 친수성이 풍부하며, 고농도의 알칼리 수용액에 내성이 있는 충전제를 제공하는 것을 목적으로 한다. 
     본 발명에 의하면, 하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴로일계 모노머로부터 유도되는 반복 단위를 20 내지 95 몰% 함유하는 것을 특징으로 하는 가교 중합체 입자로 이루어진 충전제가 제공된다: 
     [화학식 1] 
     
       
     
     [화학식 1 중, R 2 는 수소원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고; R 1 은 -NR 3 -R 4 -R 5  또는 -O-R 4 -R 5 를 나타내며; R 3 는 수소원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고; R 4 는 지방족 고리를 포함하는 탄소수 6 내지 15의 알킬렌기 또는 탄소수 4 내지 8의 직쇄 알킬렌기를 나타내며; R 5 는 할로겐 원자, 알코올성 OH기, 아미노기, 글리시딜기 또는 에폭시기를 나타낸다]. 
     (메타)아크릴로일계 모노머, 가교 중합체, 충전제
Patent KR-101001610-B1 (KR)
IPC: B01D21/01
Filed: 2006-08-17
Granted: 2010-12-17
Abstract: 본 발명은, 흄드 실리카를 분체로 취급하는 공정에서, 폐기물로 되는 흄드 실리카를 물에 분산시켜 회수하고, 회수한 흄드 실리카를 함유하는 배수를 처리할 때, 흄드 실리카 농도가 0.05∼3.0질량%인 흄드 실리카 함유 배수 또는, 흄드 실리카 농도가 0.05∼3.0질량%로 되도록 조정한 흄드 실리카 함유 배수에, 금속을 함유하는 무기 응집제를, 금속 환산으로 15∼300mg/L의 농도로 되도록 함유시킨 다음, 유기 고분자 응집제를 첨가하는 흄드 실리카 함유 배수의 처리 방법에 관한 것이다. 
     흄드 실리카, 흄드 실리카 함유 배수, 무기 응집제, 유기 고분자 응집제
Patent KR-100914688-B1 (KR)
IPC: G01M3/00
Filed: 2008-01-28
Granted: 2009-08-28
Abstract: 본 발명은 차량용 파워스티어링의 피니언하우징 누설검사방법에 관한 것으 로,  피니언하우징의 밸브공을 차단하여 오일에 누설이 없이 밀폐하는 형태의 밸브공차단부재를 형성하고, 밸브튜브 측으로 차단하여 오일의 누설이 없이 밀폐하는 형태의 밸브튜브차단부재를 형성하여 밸브공 측과 밸브튜브를 차단하는 형태로 제작하는 밸브차단부재 제작단계와, 상기 밸브차단부재 제작단계에서 밸브공과 밸브튜브를 차단하는 차단부재를 제작한 상태로 복수로 형성된 밸브포트를 차단하여 오일에 누설이 없이 밀폐하는 형태의 밸브포트차단부재를 제작하는 밸브포트차단부재 제작단계와, 상기 밸브포트차단부재 제작단계에서 밸브포트차단부재를 제작한 상태로 피니언하우징의 밸브공에 밸브공차단부재를 설치하고, 밸브튜브에 밸브튜브차단부재를 설치하여 밸브공과 밸브튜브를 차단하여 밀폐시키는 밸브 밀폐단계와, 상기 밸브 밀폐단계에서 밸브부분을 차단 밀폐한 상태에서 밸브포트 측으로 밸브포트차단부재를 설치하여 외부로 오일이 누수되지 않도록 밀폐시키는 밸브포트 밀폐단계와, 상기 밸브포트 밀폐단계에서 밸브포트를 밀폐한 상태로 압력을 가한 유압을 유압공급구로 공급시키면 밸브공을 밸브공차단부재로 차단되고, 밸브튜브차단부재로 차단 밀폐된 상태로 밸브포트를 밸브포트차단부재로 차단하여 내부를 밀폐한 상태로 가압된 유압오일이 공급시키는 유압오일 공급단계와, 상기 유압오일 공급단계에서 밸브공, 밸브튜브 및 밸브포트를 밀폐하여 오일을 공급한 상태로 피니언하우징의 외측으로 누설을 검사하는 누설검사단계를 포함하여 구성한다. 
       
     피니언하우징, 파워스티어링, 밸브공, 밸브튜브, 밸브포트, 누설검사
Patent KR-100870987-B1 (KR)
IPC: G11B27/031
Filed: 2008-02-11
Granted: 2008-12-01
Abstract: 본 발명은 제 1저장매체를 갖는 제 1장치와 제 1장치에 데이터를 전송하는 제 2장치를 포함하는 통신시스템에 관한 것으로서, 제 2장치는 제 1장치에 전송되는 데이터의 관리정보를 저장하는 제 2저장매체와, 제 1장치와 데이터를 통신하는 통신수단과, 관리정보를 편집할 수 있는 편집수단과, 편집수단에 의해 편집된 관리정보에 기초하여 통신수단을 경유하여 제 2저장매체에 저장된 데이터를 제 1저장매체에 전송하도록 제어하는 제어수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 통신시스템에 관한 것이다. 
     
     음악서버, 인터넷서버, 장착, 기록매체, 압축 디코더
Patent KR-100925224-B1 (KR)
IPC: G11B7/1263
Filed: 2008-02-14
Granted: 2009-11-06
Abstract: 본 발명은, 광디스크 디바이스의 광파워 조절장치 및 방법에 관한 것으로, 예를 들어 디브이디 레코더(DVD-Recorder) 등과 같은 다양한 유형의 광디스크 디바이스에서, 사전에 설정된 삭제 및 기록 비율(Default E/W Ratio)을 적용하여, 1 차 오피씨(OPC) 동작을 수행하되, 상기 1 차 오피씨 동작을 통해 최적의 광파워 값이 산출되면, 상기 최적의 광파워 값 범위 내에서, 삭제 비율과 기록 비율의 합이 100%가 되도록, 상기 삭제 비율과 기록 비율을 서로 다르게 증가 및 감소시켜 가면서, 2 차 오피씨 동작을 수행하여, RF 지터(Jitter)와 에러 레이트(Error Rate)가 최소이면서, 비대칭(Asymmetry) 값의 변화가 최소일 때의 삭제 비율과 기록 비율을, 최적의 삭제 및 기록 비율로 결정 및 적용한 후, 데이터 기록 동작을 수행함으로써, 개별적인 광디스크의 고유 특성에 보다 적합한 삭제 및 기록 비율을 적용할 수 있게 되므로, 데이터 기록 품질을 효율적으로 향상시킬 수 있게 된다.  
       
     광파워 조절, 삭제 및 기록 비율, 지터, 에러 레이트, 비대칭
Patent KR-100962252-B1 (KR)
IPC: H01P1/203
Filed: 2008-02-22
Granted: 2010-06-11
Abstract: 본 발명은 간섭 신호를 억제한 필터 모듈에 관한 것으로, 특히 고주파 신호의 날카로운 스커트 특성 및 높은 아이솔레이션 특성을 얻을 수 있도록, BPF 및 LNA를 직렬로 연결하며, BSF 및 방향성 필터를 이용하여 LNA의 신호 증폭으로 발생된 리플을 보상할 수 있는 보상 회로가 구비된 간섭 신호를 억제한 필터 모듈을 제공하기 위한 것이다. 
     그 기술적 구성은 일정 대역의 주파수 신호를 통과 또는 저지시키고, 통과된 상기 주파수 신호를 증폭시키는 간섭 신호를 억제한 필터 모듈; 상기 간섭 신호를 억제한 필터 모듈에서 발생된 리플을 보상하는 보상 회로; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 
       
     리플, 삽입 손실, 보상, 필터, ISS-FM, LNA, BPF, BSF
Patent KR-100968838-B1 (KR)
IPC: A61K38/16
Filed: 2008-02-25
Granted: 2010-07-09
Abstract: 본 발명은 스태빌린-2의 EGF-유사 도메인의 반복부위 단편을 포함하는 폴리펩티드, 이를 포함하는 포스파티딜세린 검출용 조성물 및 이의 용도에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스태빌린-2(stabilin-2)의 EGF-유사 도메인의 반복부위(EGF-like domain repeat protein)에서 두 번째 비정형 EGF-유사 도메인 및 3개 이상의 EGF-유사도메인이 순차적으로 연결된 폴리펩티드가 포스파티딜세린과 특이적으로 결합한다는 점을 이용하여 상기 폴리펩티드, 상기 폴리펩티드를 포함하는 포스파티딜세린 검출용 조성물 및 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명의 스태빌린-2(stabilin-2)의 EGF-유사 도메인의 반복부위(EGF-like domain repeat protein, EGFrp)에서 두 번째 비정형 EGF-유사 도메인 및 3개 이상의 EGF-유사도메인이 순차적으로 연결된 폴리펩티드는 세포 표면의 포스파티딜세린과 특이적으로 결합할 수 있다. 따라서, 본 발명은 포스파티딜세린을 세포 표면으로 발현하는 세포에 대한 약물 전달, 종양 세포에 대한 약물 또는 표지물질의 전달을 통한 종양성 질환의 예방, 치료 또는 영상화 등에 다양하게 사용될 수 있다. 
       
     스태빌린-2, EGFrp, 포스파티딜세린, 사멸세포, 종양성질환