Patent ES-2700210-T3 (ES)
Title: Dispositivo de potencia semiconductor y método para ensamblar un dispositivo de potencia semiconductor
Inventor: REYNES JEAN-MICHEL FRANCIS
IPC: H01L23/544
Filed: 2016-05-02
Granted: 2019-02-14
Abstract: Un dispositivo de potencia semiconductor (100, 200, 400) que comprende: - un primer sustrato (140, 240, 340) que comprende un elemento semiconductor de conmutación (144, 244, 344), teniendo el primer sustrato (140, 240, 340) una primera superficie (141, 241, 341), que comprende un primer elemento de recepción (150, 250, 350) y que comprende localmente primeras capas eléctricamente conductoras (142, 146, 246, 242, 342, 345), proporcionándose el elemento semiconductor de conmutación (144, 244, 344) en la primera superficie (141, 241, 341), - un segundo sustrato (110, 210, 310) que comprende una segunda superficie (111, 211, 311) orientada hacia la primera superficie (141, 241, 341), comprendiendo el segundo sustrato (110, 210, 310) un segundo elemento de recepción (120, 220, 320) y comprendiendo localmente segundas capas eléctricamente conductoras (112, 116, 212, 216, 312 ... 318); y - una estructura de interconexión para proporcionar al menos una conexión eléctrica entre al menos una de las primeras capas eléctricamente conductoras (142, 146, 246, 242, 342, 345) en un lado y al menos una de las segundas capas eléctricamente conductoras (112, 116, 212, 216, 312 ... 318) en el otro lado, comprendiendo la estructura de interconexión una pluralidad de elementos de interconexión (130, 132, 230, 232, 332, 332', 430) de un material eléctricamente conductor, al menos uno de la pluralidad de elementos de interconexión es un elemento de interconexión de alineación (130, 230, 430), siendo recibido parcialmente el elemento de interconexión de alineación (130, 230, 430) por el primer elemento de recepción (150, 250, 350) y siendo parcialmente recibido por el segundo elemento de recepción (120, 220, 320) para alinear una posición relativa del primer sustrato (140, 240, 340) con respecto al segundo sustrato (110, 210, 310), en donde dichos elementos de recepción (120, 150, 220, 250, 320, 350) que tienen un rebaje conformado para recibir al menos parcialmente el elemento de interconexión de alineación (130, 230, 430) y una forma del elemento de interconexión de alineación (130, 230, 430) se selecciona para afectar un posicionamiento del elemento de interconexión de alineación (130, 230, 430) en una posición fija única con respecto a cada uno de los elementos de recepción (120, 150, 220, 250, 320, 350), cuando uno de los respectivos elementos de recepción (120, 150, 220, 250, 320, 350) y el elemento de interconexión de alineación (130, 230, 430) se aplican entre sí y cuando el elemento de interconexión de alineación respectivo (130, 230, 430) o dicho elemento de recepción (120, 150, 220, 250, 320, 350) reciben una fuerza, en donde al menos uno de los primeros elementos de recepción (150, 250, 350) y el segundo elementos de recepción (120, 220, 320) son un orificio o un rebaje en una de dichas primeras capas eléctricamente conductoras (142, 146, 242, 246, 342, 345) y una de dichas segundas capas eléctricamente conductoras (112, 116, 212, 216, 316, 312, 314, 318), respectivamente.