baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent TW-I613084-B (TW)
Inventor: FURUKAWA JUN
IPC: G02B5/30
Filed: 2013-06-19
Granted: 2018-02-01
Abstract: 一種方法，其係依照以下順序具備：接著劑塗布步驟，其係在複數片薄膜中之至少1片薄膜的一面或兩面，塗布活性能量線硬化型接著劑；貼合步驟，其係在前述接著劑介於相鄰薄膜之間的方式積層而成之狀態下，藉由在朝搬運方向旋轉的一對貼合輥之間將前述複數片薄膜夾住而予以互相貼合；以及活性能量線照射步驟，其係對互相貼合之前述複數片薄膜照射活性能量線，而使前述接著劑硬化；其中，在前述複數片薄膜中，在前述接著劑塗布步驟未塗布前述接著劑的面而在前述貼合步驟成為與前述接著劑相接的面之表面粗糙度為200nm以下。
Patent TW-I640734-B (TW)
Inventor: WELLS SIMON PAUL
IPC: F26B3/24
Filed: 2014-03-20
Granted: 2018-11-11
Abstract: 本發明提供一種使用固體粒子材料於基材乾燥之設備和方法，該設備包括：(a)收容手段，具有安裝於其內之可旋轉安裝圓筒鼓輪；(b)出入手段；以及(c)至少一個收集手段，其中，該可旋轉安裝圓筒鼓輪另外包括捕獲暨轉送手段，其調適成有助於該固體粒子材料之收集以及該材料送轉送到至少一個收集手段。本發明亦提供一種用於濕基材乾燥之方法，該方法包括在室溫或高溫下，以固體粒子材料處理基材，該處理使用本發明之設備來進行。本設備和方法特別用於濕紡織品之乾燥。
Patent TW-I618269-B (TW)
Inventor: CHOI HYUNG JU
IPC: H01L33/48
Filed: 2014-05-12
Granted: 2018-03-11
Abstract: 一種半導體封裝包括：一基板；一晶片，其設置在所述基板的一頂表面上方；一電磁干擾(EMI)屏蔽層，其設置在所述基板上方，使得所述EMI屏蔽層包圍所述晶片；一接地襯墊，其設置在所述基板中以接觸所述基板的一底表面上的晶片與一基板；以及一測試襯墊，其設置在所述基板中以接觸所述基板的所述底表面並且與所述接地襯墊相隔開。一種測試半導體封裝的方法使用電流施加的一迴路電路來進行，所述迴路電路藉由電性耦合所述接地襯墊、所述EMI屏蔽層和所述測試襯墊而形成。
Patent TW-I665299-B (TW)
Inventor: Li si yu
IPC: B01D11/04
Filed: 2014-06-27
Granted: 2019-07-11
Abstract: 本發明係提供一種大量製備發酵產物之方法，其包含下列步驟：(a)將原料以發酵製程處理；(b)將萃取劑加入發酵製程將經發酵之原料分為有機相及水相，並添加氣體至有機相；以及(c)收集發酵產物。其中，有機相與水相之體積比為1：0.1~1：10。
Patent TW-I648529-B (TW)
Title: 利用兩個或更多個粒子束在一裝置中的樣品處理的方法以及用於此處理的裝置
Inventor: LOPOUR FILIP
IPC: H01J37/26
Filed: 2014-07-11
Granted: 2019-01-21
Abstract: 本發明相關於在一具有兩個或兩個以上的粒子束的裝置中用於樣品處理的方法及裝置，其中樣品的被研磨側(4.1)係藉由第一粒子束處理並藉由第二粒子束觀察。樣品係首先被在樣品的第一位置中的第一粒子束研磨且之後，被研磨側(4.1)傾斜在繞著樣品(4)的傾斜軸(3)的第二位置中，在該第二位置另一研磨被進行。在繞著軸(3)的樣品(4)的連續傾斜期間研磨亦可被進行。樣品(4)的傾斜軸(3)交叉被研磨側(4.1)。在所有上述的樣品(4)的位置中，第二粒子束照射在被研磨側(4.1)，其使即時監控研磨成為可能。
Patent TW-I657107-B (TW)
Title: 化學增幅型正型感光性樹脂組成物及使用其之阻劑圖型之製造方法
Inventor: IRIE MAKIKO
IPC: H01L21/027
Filed: 2014-08-21
Granted: 2019-04-21
Abstract: 本發明之課題為提供對比優良，具有高感度之化學增幅型正型感光性樹脂組成物及使用其之阻劑圖型之製造方法。
 
     其解決手段係，本發明之化學增幅型正型感光性樹脂組成物，係含有以下述式(1)表示，且於1大氣壓之融點為40℃以下之化合物；藉由酸的作用而對鹼之溶解性會增大之樹脂；與光酸產生劑。式中，R 1 表示氫原子或有機基，R 2 、R 3 、及R 4 係獨立地表示可具有取代基之1價烴基，R 2 、R 3 、及R 4 之至少2者，亦可相互鍵結而形成環狀構造。
Patent TW-I628102-B (TW)
Title: 可復位之機車腳踏板裝置
Inventor: TONG PEI-JUN
IPC: B62J25/00
Filed: 2014-09-01
Granted: 2018-07-01
Abstract: 一種可復位之機車腳踏板裝置，其包括：一固定座，用以形成於一機車腳踏板飾板上，該固定座上形成一安裝槽；一腳踏板本體，樞設在該固定座上，且具一踏板部以及一樞接部，該樞接部形成於踏板部上且以可旋轉方式設置在該安裝槽內，在該樞接部形成有一彈簧槽；一扭力彈簧，設置在該彈簧槽內，且固定於該腳踏板本體上；以及一遮蔽蓋，設置在該樞接部的彈簧槽內，遮蔽扭力彈簧，以不可轉動方式設置在該固定座之安裝槽內，且與該扭力彈簧相固定。扭力彈簧受到良好之遮蔽而可避免因灰塵或是雨水侵蝕甚至損毀的問題。
Patent TW-I622078-B (TW)
Inventor: GERLING JOHN
IPC: H01J37/244
Filed: 2014-09-05
Granted: 2018-04-21
Abstract: 本發明揭示一種帶電粒子偵測裝置，其具有一作用部分，該作用部分經組態以回應於從著陸於該作用部分上之一樣本發射之二次帶電粒子而產生一信號。該作用部分經塑形以適應一偵測器處之該等二次帶電粒子之一預期不對稱圖案。本摘要經提供以遵守要求一摘要將允許一搜尋者或其他讀者快速確定本發明之標的之規則。應瞭解，本發明不會用於解譯或限制申請專利範圍之範疇或含義。
Patent TW-I652464-B (TW)
Title: 旋轉取樣閥及多點抽吸氣體或煙檢測系統
Inventor: WILLIAMSON ALASDAIR JAMES
IPC: G08B17/10
Filed: 2014-11-14
Granted: 2019-03-01
Abstract: 一種用於多點抽吸氣體或煙檢測系統的旋轉取樣閥，該旋轉取樣閥包含多組的入口孔組，而，在一第一操作模式時，空氣係經由全部的入口孔同時地被抽取，且在一第二操作模式時，空氣係經由各入口孔組之一入口孔同時地被抽取。一種包含一旋轉取樣閥的多點軸吸氣體或煙檢測系統亦被描述。
Patent TW-I678261-B (TW)
Inventor: BENVEGNU DOMINIC J
IPC: B24B49/10
Filed: 2014-11-17
Granted: 2019-12-01
Abstract: 一種控制研磨之方法，該方法包括：以第一研磨速率研磨基板之區域；在研磨期間用原位監控系統量測基板之區域的序列特徵值；決定針對研磨終點時間前的複數個調整時間之各者的研磨速率調整；及調整研磨參數以第二研磨速率研磨基板。該時段比調整時間之間的時段更長且預估時間處於研磨終點時間之前。第二研磨速率係藉由研磨速率調整所調整之第一研磨速率。
Patent TW-I630637-B (TW)
Inventor: BEZEL ILYA
IPC: H05H1/24
Filed: 2014-12-12
Granted: 2018-07-21
Abstract: 一種用於形成光維持電漿之電漿單元包含：一透射元件，其經組態以容納一氣體體積；一第一終端凸緣，其經安置於該透射元件之一開口處或附近；一第二終端凸緣，其經安置於該透射元件之另一開口處或附近；一浮動凸緣，其經安置於該第一終端凸緣或該第二終端凸緣與該透射元件之間。該浮動凸緣係可移動以補償該透射元件之熱膨脹。此外，該浮動凸緣經組態以圍封該透射元件之內部體積，以將一氣體體積容納於該透射元件內。該透射元件經組態以接收來自一照明源之照明，以便在該氣體體積內產生電漿。該透射元件對來自該照明源之該照明的一部分及由該電漿發射之寬頻輻射的一部分透明。
Patent TW-I661889-B (TW)
Inventor: MARJANOVIC SASHA
IPC: B23K26/18
Filed: 2014-12-17
Granted: 2019-06-11
Abstract: 在此敘述使用雷射對於任意形狀的玻璃或其他基材的邊緣，進行去角及/或使成斜角的處理。揭示三種在玻璃基材上產生去角的一般方法。第一方法與用超短脈衝雷射將該邊緣以需要的去角形狀切除有關。在以超短雷射處理之後，可以選擇性以二氧化碳(CO 2 )雷射進行完全的自動分離。第二方法係以一尖銳邊緣角的熱應力剝除為基礎，且其已被證明能與超短脈衝及/或CO 2 雷射的不同組合一起工作。第三方法依賴於離子交換所引致的應力，以沿著由超短雷射所產生之裂紋線，形成材料的分離，以形成所需要形狀的去角邊緣。
Patent TW-I623362-B (TW)
Inventor: MATSUI YASUYOSHI
IPC: B21J5/06
Filed: 2015-01-13
Granted: 2018-05-11
Abstract: 本發明係關於一種鍛造裝置，此類型之鍛造裝置包含一油壓迴路(70)，其用於藉由液壓以在模具組(12)即將到達一鍛造過程中之一下死點前釋放液壓之一方式支撐複數個衝頭(26，28)之一或多個所選擇者，其中一撞擊部件(40)設置於一模具座(14)上，且一旁通閥(50)設置於一衝頭座(16)上，用於敞開及封閉油壓迴路之一流動路徑。在模具座即將到達鍛造過程中之下死點前，撞擊部件即使旁通閥之一閥元件(51)沿一開閥之方向移動，以藉此機械地敞開油壓迴路之流動路徑。
Patent TW-I668995-B (TW)
Inventor: CHIEN HOW WEN
IPC: H04N5/58
Filed: 2015-01-23
Granted: 2019-08-11
Abstract: 本發明提供一種增加鏡頭功能的軟體控制系統，包括：驅動模組，用於控制鏡頭自動開啟；儲存模組，用於將鏡頭每隔預設時間段拍攝的圖像儲存於記憶體中；判斷模組，用於比較記憶體中儲存的當前時間點的圖像與前一個時間點的圖像的變化；及控制模組，用於根據圖像的變化控制顯示螢幕做相應的變換。另外，還提供了一種增加鏡頭功能的軟體控制方法。
Patent TW-I720941-B (TW)
Title: Method for operating a chiller
Inventor: SCHREIBER JEB W
IPC: F25B49/02
Filed: 2015-02-26
Granted: 2021-03-11
Abstract: A method of operating a chiller having a closed refrigerant loop including a compressor, a condenser and an evaporator. The refrigerant used in the loop defining a pressure-enthalpy curve representative of different phases (vapor, liquid and vapor, and liquid) of the refrigerant at different combinations of pressure and enthalpy. The loop defining a process cycle (compression, condensation, expansion, and evaporation) of the refrigerant during operation of the loop relative to the pressure-enthalpy curve of the refrigerant. The method including continuously operating the compressor when a segment of the process cycle corresponds to the refrigerant being in the liquid phase.
Patent TW-I659787-B (TW)
Inventor: AHLIN ASA
IPC: B22F1/10
Filed: 2015-05-22
Granted: 2019-05-21
Abstract: 本發明係關於用於製造壓實部件之金屬粉末組合物，其包含：海綿鐵粉末及潤滑劑混合物。
Patent TW-I638269-B (TW)
Title: Wireless terminal and method for communicating
Inventor: WATANABE SHINGO
IPC: G06F9/48
Filed: 2015-08-18
Granted: 2018-10-11
Abstract: 安裝於該無線終端裝置(10)處理器(103)藉由執行通訊服務應用程式，來執行做為使用通訊服務的客戶的動作。當處於無法存取通訊服務的營運者的伺服器系統(50)的異常狀態時，不透過該伺服器系統(50)，處理器(103)在該無線終端裝置(10)執行既定的啟動程序，藉此在該無線終端裝置(10)啟動特殊帳號。例如，能夠在無法存取線上服務伺服器的異常狀態時，使用安裝於無線終端裝置的線上服務應用程式來執行特殊帳號的通訊。
Patent TW-I709485-B (TW)
Title: 半導體晶圓加工用片材用基材、半導體晶圓加工用片材、及半導體裝置之製造方法
Inventor: NAKAMURA MASATOMO
IPC: C09J7/29
Filed: 2015-09-30
Granted: 2020-11-11
Abstract: 具有樹脂層(A)、積層於樹脂層(A)之一方的面上之樹脂層(B)之半導體晶圓加工用片材用基材2，半導體晶圓加工用片材用基材2之一方之面由樹脂層(B)之面構成，樹脂層(A)含有維卡軟化點為50℃以上87℃以下之熱塑性彈性體，樹脂層(B)含有維卡軟化點為91℃以上220℃以下之熱塑性彈性體，半導體晶圓加工用片材用基材2之厚度t及樹脂層(A)之厚度t A 滿足下述式(1)及(2)。
 
     t≦150μm   (1) 
 
     t A /t≧78%   (2)
 
     上述半導體晶圓加工用片材用基材具有復元性同時作為半導體晶圓加工用片材使用時，即使被加熱亦難以融著。
Patent TW-I701337-B (TW)
Inventor: CHOI BO RA
IPC: C12Q1/68
Filed: 2015-10-30
Granted: 2020-08-11
Abstract: 本發明涉及利用肽核酸檢測探針的人乳頭瘤病毒基因型檢測方法，更詳細地涉及能夠以基因型特異性的方式與人乳頭瘤病毒(Human Papillomavirus，HPV)去氧核糖核酸(DNA，Deoxyribonucleic acid)相結合的檢測探針、包含其的檢測試劑盒及利用其的人乳頭瘤病毒基因型檢測方法。本發明可準確地檢測在子宮頸中發現的22種人乳頭瘤病毒的基因型，並且還可診斷一種以上的人乳頭瘤病毒基因型的多重感染，可檢測除了22種之外是否存在其他人乳頭瘤病毒的基因型，並且能夠以高的靈敏度和特異度檢測人乳頭瘤病毒基因型。
Patent TW-I667760-B (TW)
Inventor: Lin meng liang
IPC: H01L23/49
Filed: 2015-11-05
Granted: 2019-08-01
Abstract: 本發明係提供半導體裝置及其製造方法，一實施例的裝置包括一導電墊，位於一基底上。一鈍化層位於基底上，且覆蓋導電墊的至少一部分。一第一導電特徵位於導電墊上，且具有一平坦的頂表面。第一導電特徵具有一第一高度，第一高度係從導電墊測量至第一導電特徵的平坦的頂表面。一第二導電特徵位於鈍化層上，且具有一非平坦的頂表面。第二導電特徵具有一第二高度，第二高度係從鈍化層測量至第二導電特徵的非平坦的頂表面。
Patent TW-I728960-B (TW)
Title: Novel formulation of cilostazol, a quinolinone-derivative used for alleviating the symptom of intermittent claudication in patients with peripheral vascular disease
Inventor: CHEN FENGCHU
IPC: A61K31/4709
Filed: 2015-11-12
Granted: 2021-06-01
Abstract: A pharmaceutical composition in solid form containing particulate cilostazol or a salt thereof, a cellulose, a diluent, and a lubricant. The pharmaceutical composition features an in vivo plasma profile for cilostazol of C 24h /C max  > 0.25. Also disclosed is a method of preparing the above-described pharmaceutical composition.
Patent TW-I647141-B (TW)
Inventor: HASHIMOTO AKINORI
IPC: B62M25/08
Filed: 2016-01-05
Granted: 2019-01-11
Abstract: 一種自行車無線控制系統基本上設置有第一電組件及第二電組件。第一電組件包含無線發送器，此無線發送器回應至少一個操作構件的單一操作而無線地發送多個控制訊號。所述的多個控制訊號的每一個係於在所述的多個控制訊號中相鄰的兩個之間的預定非發送區間被發送一段預定發送週期。第二電組件包含無線接收器及控制器。無線接收器無線地接收控制訊號。控制器週期性地操作無線接收器至少兩段預定監聽週期，而每一段預定監聽週期包含一組初始及結束預定監聽週期及在二者之間的中間預定非監聽區間。兩段預定監聽週期之間還設置有預定非監聽區間，而此預定非監聽區間大於中間預定非監聽區間的每一個。
Patent TW-I617656-B (TW)
Inventor: LI TONG
IPC: G11B5/84
Filed: 2016-02-03
Granted: 2018-03-11
Abstract: 本發明提供化學機械拋光組合物，其含有(a)磨料，其選自溼法二氧化矽、α氧化鋁、煙霧狀氧化鋁、二氧化鈰、二氧化鋯、二氧化鈦及其組合，(b)氧化觸媒，(c)非過渡金屬硫酸鹽，(d)錯合劑，(e)過氧化氫，(f)非離子表面活性劑，(g)陰離子表面活性劑及(h)水。該拋光組合物之pH為約1至約5，且該拋光組合物大體上不含過氧二硫酸鹽。本發明亦提供化學機械拋光基板、尤其鎳磷基板之方法，該方法藉由使基板與拋光墊及該化學機械拋光組合物接觸，相對於該基板移動該拋光墊及該拋光組合物，及研磨該基板之至少一部分以拋光該基板。
Patent TW-I713508-B (TW)
Title: Alignment system, lithographic apparatus and method of determining the position of an alignment mark
Inventor: MATHIJSSEN SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
IPC: G03F9/00
Filed: 2016-03-29
Granted: 2020-12-21
Abstract: An alignment system, method and lithographic apparatus are provided for determining the position of an alignment mark, the alignment system comprising a first system configured to produce two overlapping images of the alignment mark that are rotated by around 180 degrees with respect to one another, and a second system configured to determine the position of the alignment mark from a spatial distribution of an intensity of the two overlapping images.
Patent TW-I618593-B (TW)
Title: Manufacturing device of welded steel and manufacturing method of welded steel
Inventor: ASADA HIROSHI
IPC: B23K26/21
Filed: 2016-03-30
Granted: 2018-03-21
Abstract: 本發明之課題為提供一種熔接形鋼的製造裝置及熔接形鋼的製造方法，即使是熔接後於凸緣材的各部產生的熱變形量相異的非對稱型的熔接形鋼，亦可輕易地矯正為本來的剖面形狀。本發明具有矯正裝置100，係使腹板材3的端部直角地頂接於第一凸緣材1、第二凸緣材2，將其頂接的部分熔接接合後，藉由熔接時的熱量輸入而將熱變形的凸緣材的形狀予以矯正。矯正裝置係含有：凸緣材矯正輥24，藉由按壓凸緣材的端部的腹板材側，而將從凸緣材的端部起至頂接腹板材的部分為止的熱變形予以矯正，配設於每個凸緣材的端部；以及腹板材支持輥44、45，將腹板材的腹板面予以支持。配設於各凸緣材的端部的凸緣材矯正輥係於每個凸緣材的各端部以獨立的按壓力將前述熱變形予以矯正。
Patent TW-I637478-B (TW)
Inventor: LEE TZUNG HAN
IPC: H01L23/544
Filed: 2016-05-04
Granted: 2018-10-01
Abstract: 本發明提供一種晶圓及其形成方法。所述晶圓具有晶粒區域及鄰近晶粒區域的切割道區域，並包含導電接合墊於晶圓之晶粒區域中，以及晶圓接受度測試(wafer acceptance test，WAT)墊於晶圓之切割道區域中，且WAT墊之頂面低於導電接合墊之頂面。
Patent TW-I672572-B (TW)
Title: 電壓調節器
Inventor: TOMIOKA TSUTOMU
IPC: G05F1/56
Filed: 2016-05-06
Granted: 2019-09-21
Abstract: 本發明提供一種即使存在電源電壓的變動亦會抑制輸出電壓的變動，且穩定地動作的電壓調節器。本發明的電壓調節器包括控制電路，所述控制電路包括連接於輸出電晶體的汲極的第一輸入端子、連接於電源端子的第二輸入端子、連接於第一輸入端子的過衝檢測電路、以及連接於第二輸入端子的電源電壓檢測電路，且當輸出電壓與電源電壓發生變動而大於規定的電壓時，使增壓電流流至誤差放大電路。
Patent TW-I702671-B (TW)
Inventor: DUVALL ANDREW
IPC: H01L21/67
Filed: 2016-05-25
Granted: 2020-08-21
Abstract: Method and apparatus for reducing backside deposition by controlling one or more wafer supports are disclosed.  A processing chamber, such as a processing chamber for atomic layer deposition, can include a pedestal and one or more wafer supports configured to extend from the pedestal.  A wafer can be provided over the pedestal, the one or more wafer supports can contact the backside of the wafer to support the wafer, and the one or more wafer supports can be positioned to a height to cause an outer edge of the wafer to sag.  The outer edge of the wafer can sag to substantially contact the pedestal or a carrier ring surrounding the pedestal.  This can create an edge seal to limit access by process gases to the backside of the wafer during a deposition process.
Patent TW-I617825-B (TW)
Inventor: GEIGER JENS
IPC: G01S17/08
Filed: 2016-06-02
Granted: 2018-03-11
Abstract: 本發明闡述各種光電模組，該等光電模組包含：一發射器，其可操作以產生光(例如，處於可見或非可見範圍中之電磁輻射)；一發射器光學總成，其與該發射器對準以便用由該發射器產生之光照射該模組外部之一物件；一偵測器，其可操作以偵測由該發射器產生之處於一或多個波長之光；及一偵測器光學總成，其與該偵測器對準以便朝向該偵測器引導由該物件反射之光。在某些實施方案中，該等模組包含用於使該偵測器之線性光電流回應擴展或移位之特徵。
Patent TW-I695426-B (TW)
Title: Workpiece processing technique
Inventor: EVANS MORGAN D
IPC: H01L21/306
Filed: 2016-06-15
Granted: 2020-06-01
Abstract: Methods for processing of a workpiece are disclosed. The actual rate at which different portions of an ion beam can process a workpiece, referred to as the processing rate profile, is determined by measuring the amount of material removed from, or added to, a workpiece by the ion beam as a function of ion beam position. An initial thickness profile of a workpiece to be processed is determined. Based on the initial thickness profile, a target thickness profile, and the processing rate profile of the ion beam, a first set of processing parameters are determined. The workpiece is then processed using this first set of processing parameters. In some embodiments, an updated thickness profile is determined after the first process and a second set of processing parameters are determined. A second process is performed using the second set of processing parameters. Optimizations to improve throughput are also disclosed.
Patent TW-I612936-B (TW)
Inventor: LU TE-JUNG
IPC: A61B10/00
Filed: 2016-06-17
Granted: 2018-02-01
Abstract: 一種糞便檢驗器，係由一採集組與一檢驗組所構成，該採集組具有一採集容器，該採集容器內部具有一採集室，該採集室的頂端蓋設有一接合蓋與一取便件，另該採集室近底部處設有一濾網與通孔，所述檢驗組具有一檢驗容器，該檢驗容器內部具有一檢驗室，在該檢驗室的底部設有漏斗、墊圈與一出口，該出口外並裝設有一擠出裝置與一底蓋，藉之，該檢驗組透過擠出裝置來將欲鏡檢的溶液流出或封阻，提昇便利性且更為衛生，而該漏斗與墊圈，使固定體積檢體內的細小物質，在擠壓時避免與上清液混合，防止擠壓時欲觀察之檢體內細小物質濃度被稀釋。
Patent TW-I621293-B (TW)
Title: Positive electrode for lithium secondary battery, manufacturing method thereof and lithium secondary battery
Inventor: HARUNA HIROSHI
IPC: H01M4/1391
Filed: 2016-07-29
Granted: 2018-04-11
Abstract: 本發明提供一種能夠減輕放電容量之經時性降低的鋰二次電池用等之非水電解液、鋰二次電池用正極及其製造方法、與鋰二次電池等蓄電裝置。非水電解液中添加有POF 2 或其鹽、及PO 2 F 2   - 或其鹽或者PO 3 F 2- 或其鹽、或者添加有環硼氧烷化合物與六氟磷酸鋰之反應生成物。關於本發明之鋰二次電池用正極，複合氧化物之表層所存在之過渡金屬於非充電狀態下之平均氧化數如下：Mn高於4價、Co高於3價、Ni高於2價，於複合氧化物之表面存在含硼化合物。本發明之鋰二次電池(1)具備上述非水電解液或上述鋰二次電池用正極。
Patent TW-I616130-B (TW)
Inventor: FU TSUNG-CHUN
IPC: H05K7/14
Filed: 2016-08-01
Granted: 2018-02-21
Abstract: 本發明揭露一種元件載具，其具有框架、接合且可收入框架內之第一元件滑軌、安裝在第一元件滑軌前部的風扇模塊、以及於第一元件滑軌上方及風扇模塊的後部之接合且可收入框架內的第二元件滑軌。第一元件滑軌和第二元件滑軌皆可轉換於展開位置和收回位置之間。展開位置具有至少部分地在框架外的各元件滑軌，而收回位置具有實質上收置到框架內的各元件滑軌。第一元件滑軌從收回位置到展開位置的轉換，從框架移動風扇模塊，但不移動第二元件滑軌，而第二元件滑軌從收回位置到展開位置的轉換，將第一元件滑軌移動到展開位置。
Patent TW-I618028-B (TW)
Inventor: DANE GOKCE
IPC: B60W40/06
Filed: 2016-08-15
Granted: 2018-03-11
Abstract: 本發明描述一種藉由一電子器件執行之方法。該方法包括執行一深度圖之垂直處理以判定一垂直非障礙估計。該方法亦包括執行該深度圖之水平處理以判定一水平非障礙估計。該方法進一步包括組合該垂直非障礙估計與該水平非障礙估計。該方法另外包括基於該垂直非障礙估計與該水平非障礙估計之該組合而產生一非障礙圖。
Patent TW-I613269-B (TW)
Inventor: CHOI JUNG MIN
IPC: C09G1/02
Filed: 2016-09-30
Granted: 2018-02-01
Abstract: 本發明提供一種用於有機膜的CMP漿料組成物及使用其的研磨方法。所述CMP漿料組成物包含氧化鈰及硝酸鈰且具有約100或大於約100的選擇性比，如由方程式1所計算： 選擇性比=α/β --- （1）， 其中α是對有機膜的研磨速率（埃/分鐘）且β是對無機膜的研磨速率（埃/分鐘）。
Patent TW-I693472-B (TW)
Title: 增強化學性之正型光阻組成物及圖型的形成方法
Inventor: HIRANO YOSHINORI
IPC: C08F220/18
Filed: 2016-10-26
Granted: 2020-05-11
Abstract: 本發明係一種增強化學性之正型光阻組成物，其包含：(A)可溶於鹼水溶液的高分子化合物，該高分子化合物具有式(1)之重複單元，
     
(R 14 表示H、甲基等，R 15 表示H、甲基等，R 16 表示三級烷基，R 17 表示H、可取代烷基、可取代烷氧基、-C(CF 3 ) 2 -OH基、各烷基各自表示三烷基矽烷氧基、氧代烷氧基、四氫哌喃氧基、四氫呋喃氧基、或三烷基甲矽烷基，R 18 表示H或甲基，R 19 表示H、甲基等，R 20 表示烷基等，u為0~4，t為0~5，p、r、s為0或正數，q為正數，p+q+r+s=1)；(B)鹼水溶液可溶性高分子化合物；(C)光酸產生劑；(D)有機溶劑。
 
     藉由本發明可得到在圖型側壁未產生凹陷，並能以高感度且短顯影時間形成圖型的組成物。
Patent TW-I629243-B (TW)
Inventor: TSENG WEN JEA
IPC: B01J20/06
Filed: 2016-11-18
Granted: 2018-07-11
Abstract: 本發明提供一種二氧化鈦粒子多孔性材料的製備方法，其先提供複數個二氧化鈦粒子，且各二氧化鈦粒子包含複數個為中孔結構之第一孔洞。接著，進行表面改質步驟使界面活性劑結合至各二氧化鈦粒子之部分表面，再將改質後之二氧化鈦粒子導入水中形成懸浮液並使懸浮液發泡而形成泡沫體。最後，將泡沫體置入模具中乾燥形成胚體，再鍛燒胚體以製得二氧化鈦多孔性材料。藉此，本發明製得之二氧化鈦多孔性材料具有高孔隙率，將其作為吸油材料時具有高吸油效果。此外，本發明之二氧化鈦多孔性材料的機械強度佳且可重複使用，而可有效應用於處理污水。
Patent TW-I610540-B (TW)
Inventor: CHEN ZAN YU
IPC: H04B10/116
Filed: 2016-12-06
Granted: 2018-01-01
Abstract: 可見光通訊方法以一可見光源來進行可見光通訊。於搜尋該可見光源的一中心頻率時，送出複數個中心頻率訓練封包，該些中心頻率訓練封包包括複數個候選中心頻率，以及依據對該些中心頻率訓練封包的一第一解碼結果，從該些候選中心頻率中擇一，以當成該可見光源的該中心頻率；於搜尋該可見光源的一頻寬時，送出複數個頻寬訓練封包，該些頻寬訓練封包包括複數個候選頻寬與該可見光源的該中心頻率；以及依據對該些頻寬訓練封包的一第二解碼結果，從該些候選頻寬中擇一，以當成該可見光源的該頻寬。
Patent TW-I620532-B (TW)
Inventor: YANG FAN
IPC: G06F3/041
Filed: 2016-12-08
Granted: 2018-04-11
Abstract: 本發明提供一種電子箱包，包括箱包本體，箱包本體上設有背帶，電子箱包還包括顯示螢幕和控制顯示螢幕顯示不同圖案的第一觸控板，顯示螢幕設置於箱包本體的外表面，第一觸控板設置於背帶上。本發明還提供一種電子箱包控制方法。相對傳統箱包，本發明提供的電子箱包除了具有置物功能，還可以根據使用者的意圖顯示不同圖案，因此，該電子箱包具有多種功能。
Patent TW-I632555-B (TW)
Inventor: Singh Sahil Preet
IPC: H01L27/105
Filed: 2016-12-23
Granted: 2018-08-11
Abstract: 本發明實施例係關於具有低電阻值互連件的記憶體裝置。根據本發明之一些實施例，一種互連結構包括一下部互連層、一中間互連層及一上部互連層。該下部互連層中之第一導線及第二導線大體上在第一方向上跨一記憶體陣列區延伸，且該下部互連層中之額外下部導線大體上在該第一方向上跨一周邊區延伸。該中間互連層中之第一複數個導線段大體上在該第一方向上跨該記憶體陣列區延伸，且該中間互連層中之額外中間導線段大體上在一第二垂直方向上跨該周邊區延伸。該上部互連層中之第二複數個導線段大體上在該第一方向上跨該記憶體陣列區延伸，且該上部互連層中之額外上部導線段大體上在該第一方向上跨該周邊區延伸。
Patent TW-I784943-B (TW)
Inventor: KAMIMURA KENJI
IPC: B24B49/10
Filed: 2017-02-15
Granted: 2022-12-01
Abstract: 本發明提供一種能夠檢測研磨器具是否與晶圓等基板接觸，進而能夠進行研磨器具的位置檢測的研磨裝置以及研磨方法。研磨裝置具有：保持基板(W)的基板保持部(32)；用於將研磨器具(42)按壓在基板W的面的按壓部件(44)；對按壓部件(44)施加按壓力的致動器(45)；使按壓部件(44)沿著基板(W)的面移動的馬達驅動型移動裝置(55)；在向馬達驅動型移動裝置(55)供給的馬達電流小於閾值的情況下，發出警報的監視裝置(65)。
Patent TW-I652403-B (TW)
Inventor: AOYAMA MASAYUKI
IPC: F01L13/00
Filed: 2017-02-24
Granted: 2019-03-01
Abstract: 第1搖臂包含輥與按壓構件。按壓構件按壓閥。第2搖臂包含滑動部分。於引擎旋轉速度為特定之低速區域時，按壓構件隨著第1搖臂之旋轉而按壓閥。於引擎旋轉速度為特定之高速區域時，按壓構件隨著第2搖臂之旋轉而按壓閥。輥對於凸輪軸滾動接觸。滑動部分對於凸輪軸滑動接觸。自搖動軸之軸線方向觀察時，滑動部分之前端較輥之前端更靠近搖動軸之軸線。於搖動軸之軸線方向上，滑動部分之最大寬度大於輥之寬度。
Patent TW-I739810-B (TW)
Title: 聚碳酸酯系樹脂組合物及其成形品
Inventor: TAKIMOTO MASAMI
IPC: C08G77/448
Filed: 2017-03-09
Granted: 2021-09-21
Abstract: 一種聚碳酸酯系樹脂組合物及其成形品，該聚碳酸酯系樹脂組合物之特徵在於：其相對於含有特定結構之聚碳酸酯-聚有機矽氧烷共聚物(A1)之聚碳酸酯系樹脂(A)100質量份，包含0.1質量份以上且40質量份以下之白色顏料(B)，且上述白色顏料(B)於表面具有有機層，該有機層之藉由使用熱分解氣相層析裝置及FID檢測器之產生氣體分析而獲得之產生氣體分析曲線之最大波峰溫度為390℃以上。
Patent TW-I624001-B (TW)
Title: Substrate support device
Inventor: KATO MASAKI
IPC: H01L27/12
Filed: 2013-04-12
Granted: 2018-05-11
Abstract: 本發明之基板支承裝置設有：基材，其具備用以將實施光學處理之具有透過性之可撓性基板以既定之曲率彎曲之狀態或平坦之狀態支承之面；以及膜體，其係形成於上述基材之表面上，對於光學處理所使用之光(曝光用之紫外線、對準用之可見光等)之反射率為50%以下。
Patent TW-I737703-B (TW)
Inventor: LIM SUN-YOUNG
IPC: G06F3/06
Filed: 2017-03-28
Granted: 2021-09-01
Abstract: 一種操作儲存裝置的方法包括：向外部裝置發送對於內
部操作的內部操作時間的請求；自所述外部裝置接收與所述請求對應的內部操作命令；以及基於所述內部操作命令在所述內部操作時間期間實行所述內部操作。
Patent TW-I665385-B (TW)
Inventor: HART CHRISTOPHER G
IPC: F03D13/25
Filed: 2017-04-17
Granted: 2019-07-11
Abstract: 本發明提供一種發電方法。空載發電器藉由使用繫鏈線路的空中部分而被連接於漂浮結構。漂浮結構藉由使用繫鏈線路的水下部分而被連接於錨。錨被固定於水下底床。電力基於空載發電器回應於風力的移動而被產生。漂浮結構透過繫鏈線路的至少一部分而被連接於輸電系統。所產生的電力被傳輸至輸電系統。
Patent TW-I712561-B (TW)
Title: Method for producing deuterium-depleted water, and method for producing deuterium-concentrated water
Inventor: KANEKO KATSUMI
IPC: C01B5/00
Filed: 2017-04-21
Granted: 2020-12-11
Abstract: The present invention relates to an easy and low cost method which separates water into deuterium-depleted water with low deuterium concentration and deuterium-concentrated water with high deuterium concentration. 
 
     The method for separating water into deuterium-depleted water and deuterium-concentrated water of the present invention having the characteristic wherein water vapor is supplied to an adsorbent composed of a pore body having pore 6 for a predetermined period of time and adsorbed while passing through the adsorbent, deuterium-concentrated water containing a large amount of heavy water 8 is recovered from the steam not adsorbed by the adsorbent and deuterium-depleted water containing a large amount of light water 7 is recovered from the water vapor adsorbed on the adsorbent.
Patent TW-I643523-B (TW)
Title: Fluid heating device
Inventor: TONOMURA TORU
IPC: H05B3/40
Filed: 2013-08-22
Granted: 2018-12-01
Abstract: 本發明提供一種流體加熱裝置，對供流體流動的流體配管進行通電加熱來加熱流體，可以改進電路功率因數並提高設備效率，一種流體加熱裝置(100)，對在內部形成有供被加熱流體流動的流道(R)、且由導電性材料構成的流道形成件(2)進行通電加熱來加熱被加熱流體，所述流體加熱裝置(100)包括：第一供電構件(3)，與流道形成件(2)的流道一端(2a)連接；以及第二供電構件(4)，與所述流道形成件(2)的流道另一端(2b)連接，所述第二供電構件(4)沿所述流道形成件(2)的流道方向朝向流道一端(2a)配置。
Patent TW-I620161-B (TW)
Inventor: OU YANG CHIH HUNG
IPC: A63F13/285
Filed: 2017-05-24
Granted: 2018-04-01
Abstract: 一種加強轉向側滑之體感裝置，包含一底座單元、一轉動單元、一乘載單元，及一動力單元。該底座單元包括一底座平台。該轉動單元包括一與該底座平台樞接之轉動基座，以使該轉動基座相對該底座平台左右擺動。該乘載單元包括一橫向乘載體，及一縱向支撐體，該縱向支撐體之底端與該轉動基座樞接在一起，該縱向支撐體之頂端與該橫向乘載體連接在一起。該動力單元包括一控制該橫向乘載體移動之第一動力組件，及一控制該轉動單元左右擺動之第二動力組件。
Patent TW-I628372-B (TW)
Title: Brake disc
Inventor: ZENG JIAN-RONG
IPC: F16D65/12
Filed: 2017-06-15
Granted: 2018-07-01
Abstract: 一種剎車碟盤，係一盤體有內盤層和二外盤層，內盤層具有第一孔，二外盤層各具有第二孔，二外盤層相對而覆蓋在內盤層之厚度方向的兩側面，且內盤層的外徑大於二外盤層而形成一夾持部，內盤層之第一孔和二外盤層之第二孔對應相通而形成通孔，內盤層於通孔中沒有未被二外盤層覆蓋而裸露出側面的部分，藉由內盤層和二外盤層複合構成盤體，以解決習知單層之剎車碟盤無法減輕重量或結構強度不足的問題。
Patent TW-I617233-B (TW)
Inventor: CHEN KEN CHING
IPC: F16L3/08
Filed: 2017-06-28
Granted: 2018-03-01
Abstract: 一種機架系統包含一承載物、一第一理線臂、一第二理線臂以及一支撐座。該承載物透過一對滑軌總成安裝在該機架；該第一理線臂可拆卸地連接至該對滑軌總成之一；該第二理線臂相對該第一理線臂是可活動的，該第二理線臂是可拆卸地連接至該承載物。該支撐座依附至該承載物用以支撐該第一理線臂及該第二理線臂之一。
Patent TW-I653809-B (TW)
Title: Motor unit for harmonic gear reducer
Inventor: OKAMURA KIKUO
IPC: F16H3/70
Filed: 2017-07-04
Granted: 2019-03-11
Abstract: 本發明提供一種諧波齒輪減速機用馬達單元，可相對於諧波齒輪減速機而緊湊地安裝的結構。諧波齒輪減速機用馬達單元具備：旋轉軸，沿軸線方向延伸；轉子部，與旋轉軸一體地旋轉；定子部，與轉子部相向地配置；以及馬達殼體，固定有定子部。馬達殼體具有第2罩，該第2罩從所述軸線方向的另一側覆蓋轉子部及定子部。旋轉軸朝所述軸線方向的另一側延伸，貫穿第2罩，且連接於凸輪。第2罩具有支持部，該支持部朝所述軸線方向的另一側延伸，可旋轉地支持旋轉軸，且在諧波齒輪減速機被安裝於馬達殼體中的狀態下，位於外齒輪的內方。
Patent TW-I640872-B (TW)
Inventor: LAI MING-FU
IPC: G06F13/16
Filed: 2017-07-07
Granted: 2018-11-11
Abstract: 本發明的一範例實施例提供一種記憶體儲存裝置的控制方法，其包括：偵測由主機系統控制的第一訊號串；根據第一訊號串運行開機碼並進入開機碼模式；以及於開機碼模式下接收來自主機系統的指令且不運行記憶體儲存裝置中的可複寫式非揮發性記憶體模組所儲存的韌體碼。藉此，可提升記憶體儲存裝置的操作彈性。
Patent TW-I634303-B (TW)
Inventor: NIEN YU-HSIEN
IPC: F28D15/04
Filed: 2017-07-31
Granted: 2018-09-01
Abstract: 一種均熱板與一發熱元件接觸，均熱板包括一第一板體、一第二板體、複數毛細結構、複數支撐體、複數墊塊以及複數鎖固體。第一板體貼合於發熱元件，第一板體具有複數第一開口。第二板體與第一板體連結形成一腔室。該些毛細結構設置腔室內並分佈於第一板體或第二板體的內表面。該些支撐體設置於腔室內，支撐體的兩端分別頂抵毛細結構、第一板體或第二板體。墊塊設置於腔室內並分別與第一開口對應設置，墊塊的兩端分別抵接第一板體及第二板體，墊塊朝向第一開口的表面分別具有一凹部。鎖固體穿設第一開口且與該凹部連結。
Patent TW-I614724-B (TW)
Inventor: TSENG CHUN SHUN
IPC: G06T5/50
Filed: 2017-08-01
Granted: 2018-02-11
Abstract: 本發明揭示一種基於人類視覺暫留特性(persistence of vision)以去除影像中一或複數個動態物件的方法，其中該一或複數個動態物件係由輸入視訊影像(video)中複數幀(frames)間的灰階差異所界定出，該方法包至少含有下列步驟：縮小影像及進行濾波處理以獲得幀的集合 S ；從 S 中選取 k 張幀，並對該些幀進行第一影像處理程序以獲得一靜態背景 B(t) ；複製 n 張 B(t) ， n <= k ，續於 S 中選取( k-n )張幀與該 n 張 B(t) 疊合成一高度為 k 之疊合影像資訊進行第二影像處理程序以獲得更新後的靜態背景 B(t,k,n) ，此步驟可比擬為人類視覺感受中的視覺暫留；對每一時間單位 t ，以 B(t,k,n) 取代 B(t) 即可獲得去除影像中一或複數個動態物件的靜態背景影像。
Patent TW-I634965-B (TW)
Title: Combined chain mechanism
Inventor: CHANG CHING-SAN
IPC: B23Q7/02
Filed: 2017-08-18
Granted: 2018-09-11
Abstract: 一種組合式鏈條機構，用以搭載多數個加工用刀具。其包括一基架與多數個鏈帶單元彼此樞接形成條帶狀結構，其中鏈帶單元受到水平方向及垂直方向的限制，使得其結構能適用於搭載水平向或是垂直向擺設的刀具。另外，鏈帶單元與基架的軌道以滾動方式配合，降低摩擦阻力，使得鏈條機構運轉更為順暢。
Patent TW-I663176-B (TW)
Inventor: CUI LI
IPC: G03F7/42
Filed: 2017-08-28
Granted: 2019-06-21
Abstract: 本發明提供包含一或多種包含含Si-O鍵的主鏈的含矽聚合物、一或多種有機摻合物聚合物及固化催化劑的可濕剝離底層組合物。此等組合物適用於製造多種電子裝置。
Patent TW-I653607-B (TW)
Inventor: LIU SHAN
IPC: H04N19/00
Filed: 2017-08-29
Granted: 2019-03-11
Abstract: 本發明的方面提供一種用於封裝全向視訊中球面圖像的二維投影圖像以形成壓縮圖像的方法。該方法可以包括接收透過將全向視訊序列的球面圖像投影到多面體的多個面上而產生的二維投影圖像。二維投影圖像具有多個區域，其中每個區域對應於所述多面體的一個面。該方法還包括重新排列多個區域，以形成壓縮圖像。對應於在多面體上沿著一邊緣相互相鄰的兩個面的二維投影圖像中的至少兩個非相鄰區域被排列成在壓縮圖像中沿著相同的邊緣相互相鄰。因此，可以保持兩個非相鄰區域之間的連續性。
Patent TW-I661363-B (TW)
Inventor: Zhang xue-qin
IPC: G06K9/78
Filed: 2017-09-21
Granted: 2019-06-01
Abstract: 本發明涉及一種智慧型機器人及人機交互方法。該方法應用在該智慧型機器人中。該方法包括步驟：從獲取的語音資訊及圖像資訊中識別一目標物件；確定出與該目標物件對應的基本資訊及相關事件資訊，並將該目標物件的基本資訊與該相關事件資訊進行關聯；從該目標物件對應的相關事件資訊中提取關鍵資訊；根據所提取的關鍵資訊利用神經網路分析演算法確定該目標物件的情緒類別，根據所提取的關鍵資訊檢索預設的公共基礎知識庫，並利用深度學習演算法根據檢索結果及該目標物件的情緒類別確定出一回饋模型；及執行該回饋模型。
Patent TW-I647593-B (TW)
Inventor: YANG HUNG YI
IPC: G06F3/14
Filed: 2017-09-29
Granted: 2019-01-11
Abstract: 本案涉及一種模擬環境顯示系統及方法，其中，系統包含第一穿戴裝置、第二穿戴裝置以及計算裝置。第一穿戴裝置用以輸出模擬環境的景象以及輸出第一音訊。第二穿戴裝置用以收集鄰近該第二穿戴裝置的環境音並將其傳送至計算裝置。計算裝置用以根據索引值將環境音融合至第一音訊中，並將經融合的第一音訊傳送至第一穿戴裝置。其中此索引值係根據第一和第二穿戴裝置於模擬環境中被指派的兩座標之間的相對距離和相對方向所決定。
Patent TW-I774698-B (TW)
Title: Scheduling for positioning reference signal (prs) in narrowband-internet of things (nb-iot)
Inventor: PALANIVELU ARUL DURAI MURUGAN
IPC: H04W74/04
Filed: 2017-09-29
Granted: 2022-08-21
Abstract: Wireless communications systems and methods related to communicating positioning reference signals (PRSs) for narrowband communication are provided. A first wireless communication device determines a time-frequency PRS pattern based at least in part on a narrowband communication frequency band configuration and a PRS subframe configuration mode associated with a set of subframes. The first wireless communication device communicates, with a second wireless communication device, a plurality of PRSs using the determined PRS time-frequency pattern in the set of subframes. The PRS subframe configuration mode can indicate a first configuration including a bitmap indicating a set of PRS subframes positioned within a group of contiguous subframes, a second configuration indicating a subset of the group of contiguous subframes that may carry the PRSs, or a combination thereof. The first configuration and/or the second configuration can be used to indicate the set of subframes.