Patent DE-102013213307-B4 (DE)
Title: Ladungsträgerteilchenstrahl-Schreibvorrichtung und Bestrahlungszeit-Einteilungsverfahren von Ladungsträgerteilchenstrahlen zum mehrfachen Schreiben
Inventor: YASHIMA JUN
IPC: H01J37/30
Filed: 2013-07-08
Granted: 2024-02-01
Abstract: Ladungsträgerteilchenstrahl-Schreibvorrichtung (100) zum Schreiben eines Musters auf einem Zielobjekt (101) mit einem Ladungsträgerteilchenstrahl, umfassend:eine Gesamtsummen-Bestrahlungszeit-Berechnungseinheit (21), eingerichtet zum Erhalten eines bestimmten Werts durch Berechnen eines ganzzahligen Werts durch eine Division einer Gesamtbestrahlungszeit „n“ von Ladungsträgerteilchenstrahlen einer Vielzahl von Schüssen auf eine gleiche Position durch einen multiplizierten Wert, der erhalten wird durch Multiplizieren einer Mehrfachen-Schreibeinheit-Bereichszahl, wobei es sich um eine Anzahl einer Vielzahl von mehreren Schreibeinheit-Bereichen zum Durchführen eines mehrfachen Schreibens handelt, während eine Position verschoben wird, mit einer Anzahl von Wiederholungen „r“, wobei es sich um eine Anzahl von Wiederholungen zum Durchführen eines mehrfachen Schreibens ohne eine Verschiebung einer Position in jeder der Vielzahl von mehreren Schreibeinheit-Bereichen handelt, und durch Multiplizieren des ganzzahligen Werts mit der Anzahl von Wiederholungen „r“,zum Addieren der Anzahl von Wiederholungen „r“ zu dem bestimmten Wert, wenn ein mehrfacher Schreibeinheit-Bereich in der Vielzahl von mehreren Schreibeinheit-Bereichen ist und kein bestimmter mehrere Schreibeinheit-Bereich ist, der vorher in der Vielzahl von mehreren Schreibeinheit-Regionen eingestellt wurde, und wenn eine Mehrere-Schreibeinheit-Bereichszahl des Mehreren- Schreibeinheit-Bereichs, definiert mit Ausnahme des bestimmten mehreren Schreibeinheit-Bereichs, kleiner als oder gleich zu einem Wert ist, der erhalten wird durch Dividieren der Gesamtbestrahlungszeit „n“ durch den multiplizierten Wert, der berechnet wird durch Multiplizieren der Mehreren-Schreibeinheit-Bereichszahl „m“ mit der Anzahl von Wiederholungen „r“, um einen ersten Rest zu erhalten, und ferner zum Dividieren des ersten Rests durch die Anzahl von Wiederholungen „r“, und zum Behandeln eines addierten Werts von „r“ und des bestimmten Werts, als eine Gesamtbestrahlungszeit eines Ladungsträgerteilchenstrahls in dem mehrfachen Schreibeinheit-Bereich, in den Ladungsträgerteilchenstrahlen der Vielzahl von Schussvorgängen auf die gleiche Position,zum Behandeln des bestimmten Werts, als die Gesamtbestrahlungszeit des Ladungsträgerteilchenstrahls in dem mehrfachen Schreibeinheit-Bereich, in den Ladungsträgerteilchenstrahlen der Vielzahl von Schussvorgängen der gleichen Position, wenn der mehrfache Schreibeinheit-Bereich in der Vielzahl von mehrfachen Schreibeinheit-Bereichen ist und nicht der bestimmte mehrfache Schreibeinheit-Bereich, der vorher in der Vielzahl von mehreren Schreibeinheit-Bereichen eingestellt wurde, und wenn die mehrfache-Schreibeinheit-Bereichszahl des mehrfachen Schreibeinheit-Bereichs, definiert mit Ausnahme des bestimmten mehrfachen Schreibeinheit-Bereichs, nicht kleiner als oder gleich zu dem Wert ist, der erhalten wird durch Dividieren des ersten Rests durch die Anzahl von Wiederholungen „r“, undzum Addieren eines zweiten Rests zu dem bestimmten Wert, wenn der mehrfache Schreibeinheit-Bereich der bestimmte mehrfache Schreibeinheit-Bereich ist, der vorher in der Vielzahl von mehrfachen Schreibeinheit-Bereichen eingestellt wurde, wobei der zweite Rest erhalten wird durch Dividieren der Gesamtbestrahlungszeit „n“ durch die Anzahl von Wiederholungen „r“, und zum Behandeln eines addierten Werts des zweiten Rests und des bestimmten Werts, als die Gesamtbestrahlungszeit des Ladungsträgerteilchenstrahls in dem mehrfachen Schreibeinheit-Bereich, in den Ladungsträgerteilchenstrahlen der Vielzahl von Schussvorgängen auf die gleiche Position; undeine Schreibeinheit (150), eingerichtet zum Schreiben eines Musters auf einem Zielobjekt (101) durch Bestrahlen des Zielobjekts (101) mit den Ladungsträgerteilchenstrahlen, sodass die Gesamtbestrahlungszeit jedem der Vielzahl von mehrfachen Schreibeinheit-Bereichen entspricht.