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Patent DE-112011103534-T5 (DE)
Title: Luftgekühltes Brennstoffzellen-Fahrzeug
Inventor: MATSUMOTO SHIRO
IPC: B60K1/04
Filed: 2011-06-06
Abstract: Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es den Stauraum eines Brennstoffzellen-Fahrzeugs zu vergrößern, den Luftflusswiderstand durch die direkte Verlängerung des Abgaskanals zu reduzieren, und die Kühlleistung für ein luftgekühlten Brennstoffzellen-Stapel zu verbessern, indem die dem luftgekühlten Brennstoffzellen-Stapel zugeführte Luftmenge vergrößert wird. Zu diesem Zweck umfasst ein luftgekühltes Brennstoffzellen-Fahrzeug im hinteren Teil des Brennstoffzellen-Fahrzeugs: einen Motor konfiguriert zum Betrieb eines Hinterrads des Brennstoffzellen-Fahrzeugs; einen Brennstoffzellenstapel ausgestaltet in Kastenform und der an dessen gegenüberliegenden Wandflächen jeweils einen Luftansaugtrakt umfasst, der so konfiguriert ist, dass er Luft als Reaktionsgas und als Kühlungsmedium ansaugt, und einen Abluft-Abschnitt umfasst, der so konfiguriert ist, dass er überschüssiges Luft und Wasserstoff beinhaltendes Reaktionsgas ausstößt; einen am Luftansaugtrakt angebrachter Luftansaugkanal; und einen Abgaskanal, der am Abluft-Abschnitt angebracht ist und sich bis zu einem hinteren Endabschnitt des Brennstoffzellen-Fahrzeugs erstreckt, das Brennstoffzellen-Fahrzeug dadurch gekennzeichnet, dass der Brennstoffzellenstapel unter einem hinteren Boden des luftgekühlten Brennstoffzellen-Fahrzeugs und hinter einer Hinterradachse in Fahrzeuglängsrichtung angeordnet ist, während der Luftansaugtrakt nach oben orientiert ist und so geneigt, dass der Luftansaugtrakt näher zum hinteren Boden angeordnet ist als Verlängerung des hinteren Teil des Fahrzeugs.
Patent DE-112011104653-T5 (DE)
Title: Oberflächenschallwellen-Bauelement
Inventor: DAISUKE TAMAZAKI
IPC: H03H9/145
Filed: 2011-12-13
Abstract: Es wird ein Oberflächenschallwellen-Bauelement bereitgestellt, das eine durch eine unnötige Welle verursachte Verschlechterung der Frequenzkennlinie unterdrückt. Ein Oberflächenschallwellen-Bauelement 1 enthält ein piezoelektrisches Substrat 21, eine IDT-Elektrode 22, die auf dem piezoelektrischen Substrat 21 ausgebildet ist, eine erste dielektrische Schicht 23 und eine zweite dielektrischen Schicht 24. Die erste dielektrische Schicht 23 ist auf dem piezoelektrischen Substrat 21 gebildet. Die erste dielektrische Schicht 23 besteht aus Siliziumoxid. Die zweite dielektrische Schicht 24 ist auf der ersten dielektrischen Schicht 23 gebildet. Die zweite dielektrische Schicht 24 hat eine höhere Schallgeschwindigkeit als die erste dielektrische Schicht 23. Das Oberflächenschallwellen-Bauelement 1 enthält des Weiteren eine dritte dielektrische Schicht 25. Die dritte dielektrische Schicht 25 ist zwischen der ersten dielektrischen Schicht 23 und dem piezoelektrischen Substrat 21 gebildet. Die dritte dielektrische Schicht 25 bedeckt eine Oberfläche 21a des piezoelektrischen Substrats 21 und eine Oberseite 22a und Seitenflächen 22b und 22c der IDT-Elektrode 22.
Patent DE-112012001273-T5 (DE)
Title: Elektrische Bremse mit Parkmechanismus
Inventor: IKEGAMI HIROSHI
IPC: F16D65/14
Filed: 2012-03-16
Abstract: Gebildet wird eine Parksperrvorrichtung (5a) von einem Rotierseiteneingriffselement (11a), das an einer Ausgabewelle (15a) eines Elektromotors (6a) befestigt ist, und einem Rückhalteseiteneingriffselement (12a), das in einem Gehäuse (31) gestützt ist, um nur in der Axialrichtung verschiebbar zu sein. Eine elastische Kraft in einer Richtung weg von dem Rotierseiteneingriffselement wird an das Rückhalteseiteneingriffselement (12a) durch eine Kompressionsfeder (13a) abgegeben. Wird ein Solenoid (14a) mit Elektrizität versorgt, so wird das Rückhalteseiteneingriffselement (12a) hin zu dem Rotierseiteneingriffselement (11a) verschoben und Rotierseiteneingriffsvorsprünge (18a) und Rückhalteseiteneingriffsvorsprünge (27a) treten miteinander in Eingriff.
Patent DE-112012002075-T5 (DE)
Title: Laterale Halbleitervorrichtung
Inventor: TOKURA NORIHITO
IPC: H01L21/329
Filed: 2012-05-10
Abstract: Eine laterale Halbleitervorrichtung (1) beinhaltet eine Halbleiterschicht (16), eine isolierende Schicht (37) und eine Widerstandsfeldplatte (30). Die Halbleiterschicht (16) beinhaltet eine erste Halbleiteregion (28) und eine zweite Halbleiteregion (23) an einem Teil der Oberfläche und die zweite Halbleiterregion (23) beschreibt einen Kreis um die erste Halbleiteregion (28). Die isolierende Schicht (37) ist auf einer Oberfläche der Halbleiterschicht (16) ausgebildet und ist zwischen den ersten und zweiten Halbleiterregionen (28, 23) angeordnet. Die Widerstandsfeldplatte (30) ist auf einer Oberfläche der isolierenden Schicht (37) ausgebildet. Zwischen den ersten und zweiten Halbleiteregionen (28, 23) liegen ein erster und zweiter Abschnitt nebeneinander in Umfangsrichtung um die erste Halbleiteregion (28). Die Widerstandsfeldplatte (30) beinhaltet einen ersten und einen zweiten Widerstandsfeldplattenabschnitt, der jeweils im ersten und zweiten Abschnitt ausgebildet ist und die ersten und zweiten Widerstandsfeldplattenabschnitte (34) sind voneinander getrennt.
Patent DE-112013001656-T5 (DE)
Title: Verbessertes Implantationsverfahren zur Bildung von Zerbrechlichkeit von Substraten
Inventor: BEN MOHAMED NADIA
IPC: H01L21/762
Filed: 2013-03-14
Abstract: Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren für die Implantation von Atom- oder Ionenarten in eine Charge von Substraten, die aus einem Halbleitermaterial hergestellt sind, wobei: – jedes aus dem Halbleitermaterial hergestellte Substrat auf einem jeweiligen Träger eines Chargenimplanters positioniert wird, wobei jedes Substrat eine dünne Schicht eines elektrischen Isolators auf seiner Oberfläche umfasst, und – eine Dosis wenigstens einer Ionen- oder Atomart über der ganzen Oberfläche der Substrate durch ihre Isolatorschicht implantiert wird, um einen Bereich mit Zerbrechlichkeit innerhalb jedes Substrats zu bilden und um dort eine dünne Schicht des Halbleitermaterials zwischen der dünnen Isolatorschicht und dem Bereich mit Zerbrechlichkeit des Substrats zu begrenzen, wobei das Implantationsverfahren dadurch gekennzeichnet ist, dass während des Verfahrens jeder Träger, auf dem ein Substrat positioniert ist, wenigstens zwei getrennte Neigungen bezüglich der Ebene aufweist, die zu der Richtung der Implantation der Arten orthogonal ist, um die Implantationstiefe der Arten in dem Substrat zu verbessern. Die Erfindung bezieht sich außerdem auf Strukturen des Halbleiter-auf-Isolators-Typs, die durch die Implementierung des Implantationsverfahrens erhalten werden.
Patent DE-112013007066-T5 (DE)
Title: Antriebssystem für ein Hybridfahrzeug
Inventor: OKUWAKI SHIGERU
IPC: B60L50/16
Filed: 2013-05-13
Abstract: Ein Antriebssystem (10A) der Erfindung enthält: einen Leistungsverteilungsmechanismus (20) mit einer Planetengetriebeeinheit (21), bei welchem ein Hohlrad (R) mit einer Verbrennungskraftmaschine (11) verbunden ist, ein Sonnenrad (S) mit einem ersten MG (12) verbunden ist und ein Träger (C) mit einer Vorgelegewelle (17) verbunden ist, in einer Art und Weise, um Leistung übertragen zu können; einen Verriegelungsmechanismus (24), welcher das Sonnenrad (S) verriegeln bzw. arretieren kann; und einen Kupplungsmechanismus (25), welcher das Sonnenrad (S) und das Hohlrad (R) in Eingriff bringen kann. Die Verbrennungskraftmaschine (11), der Leistungsverteilungsmechanismus (20), der erste MG (12), der Verriegelungsmechanismus (24) und der Kupplungsmechanismus (25) sind auf der gleichen Achse angeordnet. Der Verriegelungsmechanismus (24) und der Kupplungsmechanismus (25) sind auf einer gegenüberliegenden Seite der Verbrennungskraftmaschine (11) angeordnet, wobei der Leistungsverteilungsmechanismus (20) und der erste MG (12) zwischen diesen eingefügt sind.
Patent DE-112014000716-T5 (DE)
Title: Nichtlineare Zeitbereichs-Kanalschätzung in OFDM-Systemen
Inventor: THOMPSON STEVEN C
IPC: H04L27/26
Filed: 2014-03-07
Abstract: Ein OFDM-Empfänger erzeugt eine Anfangs-Kanalimpulsantwort als Reaktion auf ein empfangenes OFDM-Signal. Der Empfänger bestimmt die Zeitspanne innerhalb der Anfangs-Kanalimpulsantwort, in der signifikante Wege anwesend sind. Ein Zwischen-Kanalimpulsantwortschätzer identifiziert Wege in der Anfangs-Kanalimpulsantwort und erzeugt eine verbesserte Zwischen-Kanalimpulsantwort. Ein Kanalimpulsantwortschätzer führt einen zweiten nichtlinearen Prozess aus, um eine Kanalimpulsantwort zu erzeugen. Ein Entzerrer reagiert auf die Kanalimpulsantwort und das OFDM-Symbol, um das OFDM-Symbol zu entzerren. Es werden Metriken erzeugt, die zum effektiven Stoppen des ersten iterativen nichtlinearen Prozesses verwendet werden können.
Patent DE-112014006413-T5 (DE)
Title: Herstellungsverfahren für epitaktischen Siliciumwafer und epitaktischer Siliciumwafer
Inventor: ONO TOSHIAKI
IPC: H01L21/324
Filed: 2014-12-19
Abstract: Ein Herstellungsverfahren für einen epitaktischen Siliciumwafer, umfassend einen mit Bor dotierten Siliciumwafer mit einem spezifischen Widerstand von 100 mΩ·cm oder weniger und einem auf einer Oberfläche des Siliciumwafers gebildeten epitaktischen Film, umfasst: Aufwachsen des epitaktischen Films auf dem Siliciumwafer (Schritt S2); sowie Anwenden einer Hitzebehandlung auf den epitaktischen Siliciumwafer bei einer Temperatur von weniger als 900°C (Schritt S3).
Patent DE-112015003641-T5 (DE)
Title: Strahlungsquelle für extremes Ultraviolett (EUV)
Inventor: DESHPANDE VEERESH VIDYADHAR
IPC: H05G2/00
Filed: 2015-09-01
Abstract: Ein Pellet als Strahlungsquelle für extremes Ultraviolett (EUV) enthält mindestens ein Metallpartikel, das von einem schweren Edelgascluster umschlossen ist, das wiederum innerhalb eines Edelgashüllenclusters enthalten ist. Das EUV-Strahlungsquellengebilde kann durch aufeinander folgende Bestrahlung mit mindestens einem ersten Laserimpuls und mit mindestens einem zweiten Laserimpuls aktiviert werden. Durch jeden ersten Laserimpuls wird ein Plasma erzeugt, indem Elektronen der äußeren Orbitale von dem mindestens einen Metallpartikel abgetrennt und in den schweren Edelgascluster freigesetzt werden. Durch jeden zweiten Laserimpuls wird das von dem schweren Edelgascluster umschlossene Plasma verstärkt und ein laserinduzierter Selbstverstärkungsprozess ausgelöst. Durch das verstärkte Plasma werden Übergänge zwischen Orbitalen von Elektronen des schweren Edelgases und anderen enthaltenen Atomen ausgelöst, wodurch es zur Emission von EUV-Strahlung kommt. Die Laserimpulseinheiten können mit einer Einheit zum Erzeugen von Strahlungsquellenpellets kombiniert werden, um ein komplettes EUV-Strahlungsquellensystem zu bilden.
Patent DE-112015005307-T5 (DE)
Title: Polymerverbindung, intermediäre zusammensetzung, negativelektrode elektrizitätsspeichervorrichtung, aufschlämmung für negativelektroden, verfahren zum herstellen einer polymerverbindung und verfahren zum herstellen einer negativelektrode
Inventor: SUGIYAMA YUSUKE
IPC: H01M4/1395
Filed: 2015-10-30
Abstract: Eine Polymerverbindung, welche als ein Bindemittel für eine Negativelektrode einer Elektrizitätsspeichervorrichtung verwendet wird, wird durch Kondensation eines Vinylpolymers, das eine Carboxylgruppe enthält, und einer dritten Verbindung, die ausgewählt ist unter einem aromatischen multifunktionalen Amin, phosphoriger Säure, Phosphorigsäureester, Trialkoxysilan und Phosphorsäure, erhalten.
Patent DE-112015006093-T5 (DE)
Title: Schätzvorrichtung für zukünftige form, einführ-/entfernungssystem, einführ-/entfernungsunterstützungssystem, schätzverfahren für zukünftige form und schätzprogramm für zukünftige form
Inventor: HANE JUN
IPC: A61B1/00
Filed: 2015-01-30
Abstract: Eine Schätzvorrichtung für eine zukünftige Form enthält einen Einführabschnitt (7), einen Formsensor (8) und einen Schätzabschnitt (33) für die zukünftige Form des Einführabschnitts. Der Einführabschnitt (7) hat Flexibilität und ist ein Beobachtungszielobjekt einführbar. Der Formsensor (8) erkennt einen Biegezustand des Einführabschnitts und gibt ein Erkennungssignal aus. Der Schätzabschnitt (33) für die zukünftige Form des Einführabschnitts schätzt eine zukünftige Form des Einführabschnitts nach Verstreichen einer bestimmten Zeit auf der Grundlage einer Information von dem Erkennungssignal, das vom Formsensor ausgegeben wird und gibt die zukünftige Form als zukünftige geschätzte Forminformation aus.
Patent DE-112016000903-T5 (DE)
Title: Motorvorrichtung
Inventor: YAMAMOTO KAZUYUKI
IPC: H02K11/21
Filed: 2016-01-26
Abstract: Eine Motorvorrichtung (1) umfasst einen Sensormagneten (38), der dazu ausgelegt ist, sich einstückig mit einer Antriebswelle (10) eines Motors (2) zu drehen; ein Gehäuse (16) mit einem Sensorgehäusebereich (32), in dem sich der Sensormagnet befindet; eine Impulsausgabeplatine (22) mit einer magnetisch durchlässigen Basis (40) und einem Rotationserfassungselement (42), das an einer Montagefläche (40a) der Basis angebracht und dazu eingerichtet ist, eine Drehung des Sensormagneten zu erfassen und einen Impuls auszugeben; und ein Anschlussteil (18), das mit der Impulsausgabeplatine elektrisch verbunden ist, wobei das Anschlussteil einen Einschubschlitz (18c) aufweist, in welchen die Impulsausgabeplatine eingeschoben wird, und der Einschubschlitz sich zum Sensorgehäusebereich hin öffnet, und wobei, wenn die Impulsausgabeplatine eingeschoben ist, der Einschubschlitz die Impulsausgabeplatine im Nahbereich des Sensormagneten mit einer Rückfläche (40b) auf einer zur Montagefläche der Basis entgegengesetzten Seite abstützt, die dem Sensormagneten zugewandt ist, und eine elektrische Verbindung mit der Impulsausgabeplatine herstellt.
Patent DE-112016002544-T5 (DE)
Title: Spannmechanismus
Inventor: LAN GUANG PING
IPC: B25J15/08
Filed: 2016-04-25
Abstract: Für einen Spannmechanismus, bei dem mit einer einfachen Konfiguration die Klemmung weit zu öffnen ist, ohne ein Rohr zu beschädigen oder zu quetschen, wird zur Größenreduzierung eine horizontal angeordnete Spindel (1) und ein Rahmen (2) vorgeschlagen, wobei zwei beinförmige Elemente (3, 4) in oberen und unteren Teilen des Rahmens (2) schwenkbar gelagert sind und jedes der Elemente (3, 4) einen zur Innenseite hin gebogenen Teil aufweist. Diese sind zusammen mit Verbindungselementen (5, 6) am Rahmen (2) schwenkbar gelagert, so dass die Verbindungselemente (5, 6) parallel zu den jeweiligen vorderen Abschnitten (3b, 4b) der beinförmigen Elemente sind. Zwei Klemmbacken (7, 8) mit einander gegenüberliegenden Klemmflächen sind jeweils an der Spitze des beinförmigen Elements (3) und am Ende des Verbindungselements (5) sowie an der Spitze des beinförmigen Elements (4) und am Ende des Verbindungselements (6) schwenkbar gelagert, wobei die hinteren Bereiche (3c, 4c) der beinförmigen Elemente schwenkbar angetrieben sind.
Patent DE-112016005140-T5 (DE)
Title: Elektrische Speichervorrichtung
Inventor: MINAGATA Atsushi
IPC: B23K26/21
Filed: 2016-09-06
Abstract: Ein Gehäuse einer elektrischen Speichervorrichtung weist einen röhrenförmigen Gehäusekörper, der eine Bodenwand und eine Öffnung hat, und einen Deckel auf, der die Öffnung schließt. Der Gehäusekörper hat eine gehäuseseitige Fügefläche, die gegen den Deckel anliegt. Der Deckel hat eine deckelseitige Fügefläche, die der gehäuseseitigen Fügefläche zugewandt ist. Das Gehäuse hat einen geschweißten Abschnitt an einem Anlageabschnitt, welcher ein Abschnitt ist, an dem die gehäuseseitige Fügefläche und die deckelseitige Fügefläche gegeneinander anliegen. Die Richtung, die die Bodenwand des Gehäusekörpers und den Deckel in dem kürzesten Abstand verbindet, ist als eine Erstreckungsrichtung des Gehäuses definiert. In einer Querschnittsansicht des Gehäuses entlang der Erstreckungsrichtung hat der geschweißte Abschnitt ein Interface beziehungsweise eine Schnittfläche, die an einer Grenze des geschweißten Abschnitts mit dem Gehäusekörper und dem Deckel vorliegt. Die maximale Abmessung von der Oberfläche des geschweißten Abschnitts, die von der Außenfläche des Gehäuses freiliegt, zu der Schnittfläche beziehungsweise dem Interface ist als eine Schweißtiefe X definiert. Die Abmessung von dem Anlageabschnitt zu einem Rand des geschweißten Abschnitts in der Richtung entlang der Oberfläche des geschweißten Abschnitts, die von der Außenfläche des Gehäuses freiliegend ist, ist als eine Schweißbreite Y definiert. Der geschweißte Abschnitt ist gestaltet, um über den gesamten Umfang des Gehäuses in einer Form vorzuliegen, die einen Ausdruck Y/X > 1 erfüllt.
Patent DE-112016007186-T5 (DE)
Title: Assistenzvorrichtung zum Ausfahren aus einem Parkplatz
Inventor: IWAMI HIROSHI
IPC: B62D6/00
Filed: 2016-08-31
Abstract: Diese Assistenzvorrichtung (12) zum Ausfahren aus einem Parkplatz umfasst: ein Assistenzsteuermittel (60) zur Durchführung einer Assistenzsteuerung zum Ändern des Lenkwinkels (θ) eines Fahrzeugs (10) zu einem Soll-Lenkwinkel (θtar); sowie ein Ausparkmöglichkeitsbestimmungsmittel (58) zum Bestimmen auf der Basis des Detektionsergebnisses eines von einem Vorwärtsdetektionsmittel (91 bis 94) detektierten vorwärtigen Hindernisses (101), ob das Fahrzeug (10) ausparken kann oder nicht. Wenn bestimmt wird, dass das Fahrzeug (10) ausparken kann, führt das Assistenzsteuermittel (60) eine Assistenzsteuerung durch, um den Lenkwinkel (θ) des Fahrzeugs (10) vom Soll-Lenkwinkel (θtar) zu einem neutralen Winkel (θo) oder einem neutral-benachbarten Winkel (θnn) zu ändern.
Patent DE-112017001230-T5 (DE)
Title: Ozongenerierungs-Bauelement und Ozongenerierungsvorrichtung
Inventor: KAWATA SHUICHI
IPC: C01B13/11
Filed: 2017-01-12
Abstract: Ein Ozongenerierungs-Bauelement (10) umfasst ein dielektrisches Substrat (13) und eine Elektrode (erste Kammelektrode) (21A) sowie eine weitere Elektrode (zweite Kammelektrode) (21B). Die Elektrode (21A) weist einen Anschlusselektrodenabschnitt (23A) und mehrere Elektrodenelemente (22A) auf, welche den Anschlusselektrodenabschnitt (23A) kreuzen. Die Elektrode (21B) weist einen Anschlusselektrodenabschnitt (23B) und mehrere Elektrodenelemente (22B) auf, welche den Anschlusselektrodenabschnitt (23B) kreuzen. Die Elektrodenelemente (22A) und (22B) sind wechselweise in +x-Richtung angeordnet. Ein erster Abstand (W11) zwischen einem der Elektrodenelemente (22A) und dem davon in -x-Richtung benachbarten Elektrodenelement (22B) unterscheidet sich von einem anderen Abstand (zweiter Abstand) W12 zwischen dem Elektrodenelement (22A) und dem davon in +x-Richtung benachbarten Elektrodenelement (22B). Das Verhältnis des zweiten Abstandes (W12) zum ersten Abstand (W11) liegt in einem Bereich zwischen 1,1 und 4,0.
Patent DE-112017004163-T5 (DE)
Title: Abstandsschätzsystem
Inventor: OKADA NORIAKI
IPC: H04B1/7183
Filed: 2017-06-29
Abstract: Ein Abstandsschätzsystem enthält erstes Endgerät (1) und ein zweites Endgerät (2), die eine drahtlose Kommunikation durchführen. Das erste Endgerät sendet ein Antwortanforderungssignal aus und sendet nachfolgend Impulssignale als Synchronisationssignale aus. Das zweite Endgerät empfängt das Antwortanforderungssignal, demoduliert das empfangene Antwortanforderungssignal, verschiebt ein Bit von erzeugten Antwortdaten um eins in Richtung einer hinteren Seite von einem führenden Bit zu einem nachfolgenden Bit jedes Mal, wenn das Synchronisationssignal empfangen wird, sendet das Impulssignal in einem Fall aus, in dem ein Wert eines Bits, das ein Sendeziel ist, zu einem Zeitpunkt des Empfangs des Synchronisationssignals ein vorbestimmter Wert ist, der im Voraus als ein Wert bestimm wurde, der angibt, dass das Impulssignals auszusenden ist, und sendet kein Impulssignal in einem Fall aus, in dem der Wert des Bits nicht der vorbestimmte Wert ist. Das erste Endgerät misst außerdem eine Umlaufzeit, bestimmt eine Laufzeit des Impulssignals und schätzt einen Abstand zu dem zweiten Endgerät.
Patent DE-112017004219-T5 (DE)
Title: Positionserfassungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Positionserfassungsvorrichtung
Inventor: ITO TAKESHI
IPC: G01D5/12
Filed: 2017-08-14
Abstract: Eine Positionserfassungsvorrichtung beinhaltet ein IC-Package (10), eine erste Anschlussleitung (21), eine Masse-Anschlussleitung (22), eine Leistungszufuhr-Anschlussleitung (23), eine zweite Anschlussleitung (24), eine Bypass-Anschlussleitung (25), Motor-Anschlussleitungen (28 und 29) sowie einen Verbinderabschnitt (31). Eine Bypass-Anschlussleitung (25) ist auf einer gegenüberliegenden Seite der Masse-Anschlussleitung über die erste Anschlussleitung oder die zweite Anschlussleitung positioniert und ist mit einem Bypass-Abschnitt (222) der Masse-Anschlussleitung verbunden, welche den Masse-Verbindungsabschnitt in einer ersten Richtung des Masse-Verbindungsabschnitts verbindet. Bei dem Verbinderabschnitt sind ein anderer Endabschnitt (283 und 293) der Motor-Anschlussleitung, ein Endabschnitt (253) der Bypass-Anschlussleitung gegenüber einer Seite, die mit dem Bypass-Abschnitt verbunden ist, ein Endabschnitt (243) der zweiten Anschlussleitung gegenüber dem zweiten Verbindungsabschnitt, ein Endabschnitt (233) der Leistungszufuhr-Anschlussleitung gegenüber dem Leistungszufuhr-Verbindungsabschnitt, und ein Endabschnitt (213) der ersten Anschlussleitung gegenüber dem ersten Verbindungsabschnitt in dieser Reihenfolge platziert.
Patent DE-112017006096-T5 (DE)
Title: Aortapumpenvorrichtungen
Inventor: MENON ARES K
IPC: A61M60/861
Filed: 2017-12-01
Abstract: Eine offenbarte Vorrichtung oder ein offenbarter Vorgang kann ein nicht-transluminal implantierbares Blutpumpengehäuse enthalten oder verwenden, das zum Implantieren an einer Aortenklappe des Menschen dimensioniert und geformt ist, wobei das Pumpengehäuse aufweisen kann: ein Pumpengehäuse-Querschnittsprofil, das zu groß zum Passieren eines Blutgefäßes des Menschen ist; und einen Stromanschluss, der dazu eingerichtet ist, elektrisch mit einer intravaskulären Leitung verbunden zu sein, die so dimensioniert und geformt ist, dass sie sich vom Pumpengehäuse durch eine Arteria subclavia des Menschen erstreckt.
Patent DE-112017006487-T5 (DE)
Title: Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines suchmusters für einen ereignisort
Inventor: LIM BING QIN
IPC: G06T19/00
Filed: 2017-12-13
Abstract: Ein tragbares Kommunikationsgerät empfängt Beweisinformation, die sich auf einen Ereignisort bezieht, zusammen mit einer Vielzahl von Ereignisortkontextfaktoren, die sich auf die Ereignisinformation und den Ereignisort beziehen. Ein optimales Suchmuster wird als Teil einer Augmented-Reality des Ereignisorts berechnet und angezeigt. Die Kontextfaktoren können gewichtet sein, um ein optimiertes Suchmuster zu erzeugen, wie für verschiedene individuelle Nutzerermittler, die an dem Ereignisort arbeiten, oder für gewisse Werkzeuge, die an dem Ereignisort genutzt werden.