Patent WO-2017187139-A1 (WO)
Inventor: LISTER ADAM
IPC: B42D25/324
Filed: 2017-04-19
Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un motif d'image pour un dispositif de sécurité. Le procédé consiste à fournir un substrat métallisé comprenant un matériau de substrat ayant une première couche métallique sur ce dernier sur une première surface du matériau de substrat, la première couche métallique étant soluble dans une première substance de bain de morsure ; appliquer une première couche de réserve photosensible sur la première couche métallique, la première couche de réserve photosensible comprenant un agent de réticulation pouvant être activé thermiquement, qui est conçu pour réticuler de manière préférentielle des groupes fonctionnels d'une classe sélectionnée, lesquels groupes fonctionnels ne sont pas présents dans la première couche de réserve photosensible lors de l'application sur la première couche métallique. La première couche de réserve photosensible est exposée à un rayonnement d'une longueur d'onde à laquelle la couche de réserve est sensible à travers un masque à motifs, le masque à motifs comprenant des premiers éléments de motif dans lesquels le masque est sensiblement opaque au rayonnement et des seconds éléments de motif dans lesquels le masque est sensiblement transparent au rayonnement, après quoi les seconds éléments de motif exposés de la première couche de réserve photosensible réagissent, entraînant une solubilité accrue dans une seconde substance de bain de morsure, les premiers éléments de motif non exposés restant relativement insolubles par la seconde substance de bain de morsure. La première couche de réserve photosensible est exposée à une première substance de réactif, la première substance de réactif réagissant avec les seconds éléments de motif exposés de la première couche de réserve photosensible pour produire au moins un groupe fonctionnel de la classe sélectionnée, la première substance de réactif ne réagissant sensiblement pas avec les premiers éléments de motif non exposés de la première couche de réserve photosensible. L'agent de réticulation dans la première couche de réserve photosensible est activé de telle sorte que des réticulations sont formées entre l'au moins un groupe fonctionnel de la classe sélectionnée dans les seconds éléments de motif exposés, la solubilité des seconds éléments de motif exposés de la première couche de réserve photosensible dans la seconde substance de bain de morsure étant réduite. Les premiers et seconds éléments de motif de la première couche de réserve photosensible sont exposés à un rayonnement d'une longueur d'onde à laquelle la couche de réserve est sensible, après quoi les premiers éléments de motif nouvellement exposés de la première couche de réserve photosensible réagissent, entraînant une solubilité accrue par la seconde substance de bain de morsure, les seconds éléments de motif restant relativement insolubles par la seconde substance de bain de morsure. Les première et seconde substances de bain de morsure sont appliquées sur le substrat, après quoi les premiers éléments de motif de la première couche de réserve et de la première couche métallique sont dissous, les seconds éléments de motif restants de la première couche métallique formant un motif d'image.