baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-910008411-B1 (KR)
Title: Memory expanding circuit of cpu
Inventor: CHUNG JONG-RAE
IPC: G06F12/02
Filed: 1989-09-11
Granted: 1991-10-15
Abstract: The apparatus, in the protective mode, prevents  the  program and data in a memory region (1MB) of  the  real  mode  from  being assigned to lower protective mode 1MB memory region. The apparatus includes a latch (90) for latching the address and control signals of a CPU (70) by the address latch  enable  signal,  a  tranceiver (100) for enabling and designating the flow direction of the  data according to data enable signal and DR/Rbar signal, an I/O decoder (110) for generating indicator signal of mode  change,  an  active signal latch circuit (120) for holding the protective mode  active signal till the CPU is used by an user, a memory decoder (130) for generating  the  signal  for  as  signing  the  memory  using  the protective  mode  setting  latch  signal  transmitted   from   the protective mode active signal latch circuit 9120).
Patent KR-910004950-B1 (KR)
Title: Novel cell line acg-1 for panax ginseng
Inventor: CHOI KWANG-TAE
IPC: C12N5/00
Filed: 1989-11-04
Granted: 1991-07-18
Abstract: A process for culturing ginseng cell line ACG-1,  KCTC  8973P (I) having much ginsenoside Rg1 of sapon in comprises (A)  gaining the ginseng root, (B) removing remained strain by culturing (I) in Murashige-Skoog agar medium plus 3% sucrose and 0.1-3  mg/l  2,4-D for 4-5 wks 15-25 deg.C with or w/o light. Cell mass of (I) at 0.1 mg/l of 2,4-D is similar to in 3 mg/l 2,4-D,  and  with  1000  lux light, total saponin content is 9.97 mg/flask, esp.  6.09  g/g  of ginsenoside.
Patent KR-920004030-B1 (KR)
Title: Protecting method of deteriorating of high-temperature super-conductors
Inventor: HAN TEAG-SANG
IPC: H01L39/00
Filed: 1989-12-15
Granted: 1992-05-22
Abstract: A high temperature super conductor degradation  is  protected by coating the  superconductor  bulk  or  film  circuit  with  one ceramic material of Si3N4, TiO2 or SiO2 to  isolate  the  bulk  or film circuit from atmosphere water by the plasma  chemical  vacuum deposition (CVD). The process is no film  damage  because  of  ion collision or heat and no structural transition.
Patent KR-0166581-B1 (KR)
Inventor: KAKINUMA TAKEKAZU
IPC: B25J9/04
Filed: 1990-01-22
Granted: 1999-02-01
Abstract: 내용없음
Patent KR-920006139-B1 (KR)
Title: Telephone system
Inventor: LEE SOK-KUN
IPC: H04M1/00
Filed: 1990-02-21
Granted: 1992-07-31
Abstract: The circuit includes a full wave rectifying  means  (10)  for rectifying the signals incoming through the telephone line. A ring signal generating and detecting section (20) generates and detects ring signals to supply them to a CPU (60). A line control  section (30) receives communication control signals from the CPU  (60)  to supply them through a switching means (Q2). A communication  state detecting section (40) detects the communication state  to  supply signals for the state to the  CPU  (60).  A  line  coupling  state detecting section (50) detects the line coupling state to generate an output of a certain logic.
Patent KR-940001627-B1 (KR)
Inventor: YOSHIMURA SHOJI
IPC: F04C18/16
Filed: 1990-03-03
Granted: 1994-02-28
Abstract: 내용 없음.
Patent KR-0159771-B1 (KR)
Title: Lubricant and surface conditioner for formed metal surfaces
Inventor: AWAD SAMI B
IPC: C10M105/32
Filed: 1990-08-18
Granted: 1999-02-18
Abstract: A lubricant and surface conditioner for formed metal surfaces, particularly beverage containers, which reduces the coefficient of static friction of said metal surfaces and enables drying said metal surfaces at a lower temperature. The conditioner is a water-soluble organic material selected from a phosphate ester, alcohol, fatty acid including mono-, di-, tri-, and poly-acids; fatty acid derivatives such as salts, hydroxy acids, amides, esters, ethers and derivatives thereof; and mixtures thereof.
Patent KR-940004262-B1 (KR)
Title: MANUFACTURING METHOD OF GaAs MIS FET
Inventor: LEE KYONG-HO
Filed: 1990-12-26
Granted: 1994-05-19
Abstract: preparing a GaAs substrate; depositing a Si layer on the substrate; forming a first photoresist pattern on the Si layer; etching the Si layer using the first photoresist pattern as a mask to define ohmic contact regions of source/drain electrodes; forming a second photoresist pattern on the substrate after removal of the first photoresist pattern to define a channel region and injecting a predetermined quantity of Si ions into the substrate; depositing a protective layer around the substrate after removal of the second photoresist pattern; and annealing the substrate to activate Si ions of the remaining Si layer and diffusing the activating Si ions into the deep direction of the substrate.
Patent KR-930005933-B1 (KR)
Title: Catalysts and process for formaldehyde free durable press finishing of cutton textiles with polycarboxylic acids
Inventor: WELCH CLARK M
IPC: D06M11/72
Filed: 1989-06-16
Granted: 1993-06-29
Abstract: Catalysts for the rapid esterification and crosslinking of fibrous cellulose in textile form by polycarboxylic acids at elevated temperatures are disclosed. The catalysts are acidic or weakly basic salts selected from the alkali metal salts of phosphorous, hypophosphorous, and polyphosphoric acids. Suitable polycarboxylic acids include saturated, unsaturated and aromatic acids, as well as alpha-hydroxy acids. The textiles so treated exhibit high levels of wrinkle resistance and smooth drying properties durable to repeated laundering in alkaline detergents, and do not contain or release formaldehyde.
Patent KR-920005555-B1 (KR)
Title: Method and apparatus for drawing film
Inventor: HOMMES WILLIAM J
IPC: B65H23/032
Filed: 1989-05-18
Granted: 1992-07-06
Abstract: Apparatus and method for producing a novel drawn film by propelling individual carriages along opposed loops from a first speed abutted in stacks in carriage collection sections to a second speed space apart in a drawing section of a tenter frame and to a third speed in stack forming sections where the carriages return to the first speed in the stacks. First primaries positioned adjacent one part of each loop develop electromagnetic waves for engaging synchronous secondaries attached to active carriages to provide controlled spacing of such carriages, and second primaries adjacent another part of the loop develop other electromagnetic waves for engaging hysteresis secondaries attached to active and to passive carriages to provide controlled abutting of the carriages.
Patent KR-920007684-B1 (KR)
Inventor: LUKACSOVICH TAMAS
IPC: C12N9/38
Filed: 1989-07-11
Granted: 1992-09-14
Abstract: 내용 없음.
Patent KR-970006957-B1 (KR)
Inventor: SHIGA KIYOTAKA
IPC: B23B51/08
Filed: 1989-08-04
Granted: 1997-05-01
Abstract: 내용없음
Patent KR-0168440-B1 (KR)
Inventor: HENLEY FRANCOIS J
IPC: G01R31/309
Filed: 1991-02-13
Granted: 1999-03-20
Abstract: 테스트되는 패널의 다수 전압 테스트 점에서 표면에 걸친 전압분포의 이차원 영상이 전자광학 모듈레이터를 통하여 광학에너지의 비임으로 표면을 밝게함으로써 추출되는데, 여기에서 모듈레이터는 테스트되는 패널의 표면상의 전압이 테스트되는 패널의 표면상에서 공간적으로 대응하는 전압상태를 직접나타내는 이차원적 공간 종속 파우워 변조 영상을 직접 만들도록 사용하기 위한 영역 광학 감지기(카메라)를 통하여 관찰될 수 있는 광학에너지에서의 파우워변조를 일으키기 위하여 길이방향의 탐침모양을 허용하도록 배치된다. 표면혼선은 모듈레이터의 면을 테스트되는 패널에서 전압위치의 간격보다 테스트되는 패널에 더 가깝게 둠으로써 최소화된다. 장치는 통과 모드 또는 반사모드에서 작동될 수 있다.
Patent KR-940009000-B1 (KR)
Title: Semiconductive rubber foam
Inventor: TOJO TETSUO
IPC: G03G15/00
Filed: 1991-03-13
Granted: 1994-09-28
Abstract: A semiconductive rubber foam having a volume resistivity that can be controlled to a practical level and retaining an initial softness even after the lapse of time, is obtained by foaming and curing a rubber composition comprising 100 parts by weight of a chlorinated ethylene/ alpha -olefin copolymer rubber and 10 to 50 parts by weight of carbon black. The volume resistivity of this semiconductive rubber foam is in the range of from 10<5> to 10<1><1>  OMEGA -cm.
Patent KR-940003583-B1 (KR)
Title: Method of making semiconductor device
Inventor: SHIN BONG-JO
IPC: H01L21/28
Filed: 1991-04-13
Granted: 1994-04-25
Abstract: The manufacturing method comprises including the steps of; forming LTO, BPSG on substrate, forming a contact using a masking process to form a first metal and P/R, etching said P/R and sputter etching to remove natural oxide layer, forming a second metal on said P/R to fill said second metal around a groove of said first metal, forming a first insulating layer on said first metal, forming SOG around a groove formed in said first insulating layer and forming a second inter-insulating layer, thereby increasing the metal step coverage of the contact and improving planarization of the insulating layer.
Patent KR-100200275-B1 (KR)
Inventor: MATSUOKA NORIYUKI
IPC: H01R24/00
Filed: 1991-05-14
Granted: 1999-06-15
Abstract: 접속기본체, 접속기본체에 장착된 가동판, 조작레버를 포함하며 접촉 및 접촉해제 상태가 가동판의 횡운동에 의해 형성되는 접속기, 이 접속기는 상하향운동으로 하기 위해 조작레버위에 배치된 상부조작부재, 조작레버의 한쪽끝부분상에 형성되며 상부조작부재를 지지하기에 적합한 압력지지부로 구성되어 있으며, 상부조작부재의 압하조작은 압력지지부가 아랫쪽으로 눌려지게하여 가동판을 횡방향으로 이동시킨다.
Patent KR-930008859-B1 (KR)
Title: Coating method of photo resist
Inventor: SONG KI-HUN
IPC: H01L21/31
Filed: 1991-05-24
Granted: 1993-09-16
Abstract: The method increases or decreases the RPM of the  spinner  by times to adjust the coating uniformity and the coating  thickness. To coat photo resist in a curved  pattern  following  the  stepped first and second  patterns  on  the  wafer,  the  spinner  RPM  is increased to a scheduled 2nd stage RPM  to  be  maintained  for  a scheduled time during which to RPM is increased to the prearranged 3rd stage for 1-2 sec.  and  return  to  the  2nd  stage  RPM  for maintaining.
Patent KR-0178398-B1 (KR)
Title: Television device with processing of teletext signals
Inventor: ROWE JOHN MICHAEL
IPC: H04N7/025
Filed: 1991-06-14
Granted: 1999-05-01
Abstract: A digital teletext signal is transmitted during part of a vertical blanking period of a television signal. A clock oscillator synchronized by the teletext signal is coupled to a synchronizing input of a logic circuit providing clock and data signals for teletext processing. To prevent high harmonics that are included in the clock and data signals from producing interference within the reproduced picture, the amplitude of an output signal of the clock oscillator is reduced, during vertical trace, when the teletext signal is not transmitted to prevent switching operations in the logic circuit.
Patent KR-940005299-B1 (KR)
Title: Dental implant for an anchored prosthesis
Inventor: DURR WALTER
IPC: A61C13/12
Filed: 1991-09-09
Granted: 1994-06-16
Abstract: Dental implant for an anchored prosthesis, its securing arrangements comprising a securing head and a metal implant post which can be connected to a main body via a screw connection, if appropriate via an intermediate spacer part, in particular made of metal, and which projects from the open distal end of the main body, the implant post near the distal edge of the main body being surrounded concentrically in areas by an intermediate element made of elastic-viscous material, such as plastic, in particular polyoxymethylene, the intermediate element consisting of a retention ring (18) with essentially plane, smooth end faces; the main body (10) and/or the intermediate spacer part has/have, near the distal circumferential edge, an annular recess (14) which is provided with a bearing shoulder (16) for the proximal end face of the retention ring and which is intended for receiving the retention ring (18) essentially circumferentially flush, at least over almost the whole longitudinal extent; the implant post (12) and/or the spacer part has/have an annular shoulder (22) for bearing on the distal end face of the retention ring (18); and at least a part of the surfaces of the main body (10), the implant post (12) and/or the spacer part coming into pressure engagement with the retention ring (18), when the implant post (12) and/or the spacer part is/are screwed into the circular body (10) or the spacer part, being provided with positive-lock depressions (20, 24) into which the material of the retention ring (18) can be inwardly deformed under the screwing-in pressure and with formation of a positive-locking against rotation between the implant elements (10, 12) adjoining the retention ring (18). 
<IMAGE>
Patent KR-940003117-B1 (KR)
Title: Paper-feeding apparatus of an electrophotographic processor
Inventor: JO HAE-SOK
IPC: G03G15/00
Filed: 1991-11-19
Granted: 1994-04-13
Abstract: The paper feeding device keeps proper frictional force between paper and the feeding roller to prevent papers in folds from following the feeding paper. The device includes a paper feeding cassette (1) which has a grandient side (2), a link (13) which has two ends, one to contact with the gradient side (2) and the other to engage with a bracket (8) through its projection (16) received in a slot (14) of link (13) to be moved with bracket (8), and torsion bar (10) which has two bent ends, one to be on the bracket (8) and the other to be on the paper prop (4) of paper feeding cassette (1).
Patent KR-920003155-B1 (KR)
Inventor: UESAWA KAORU
IPC: H01J23/15
Filed: 1991-11-20
Granted: 1992-04-20
Abstract: 내용 없음.
Patent KR-940002269-B1 (KR)
Title: D.c. voltage margin and a.c. power on/off checking apparatus and method
Inventor: KIM YONG-KWON
IPC: G06F11/00
Filed: 1991-12-13
Granted: 1994-03-19
Abstract: The checking system employs a micro controller to reduce labor charge and increase test reliability. The apparatus comprises the following: a micro controller which includes the program controlling the test apparatus; a control buffer; an address decoder; a bidirectional data buffer; an I/O control whose input connecting to the output of the register and outputting control signal for the variable resistor.
Patent KR-100235378-B1 (KR)
Title: Substrate of improving melt sprayed surface morphology
Inventor: LYNNE M ERNES
IPC: C23C4/06
Filed: 1991-12-26
Granted: 1999-12-15
Abstract: A metal surface is now described having enhanced adhesion of subsequently applied coatings. The substrate metal of the article, such as a valve metal as represented by titanium, is provided with a highly desirable surface characteristic for subsequent coating application. This can be achieved by a plasma sprayed coating of well defined surface morphology, the plasma spraying being with one or more metals usually valve metals. The metal of the coating may be the same or different from the metal of the substrate. Subsequently applied coatings, by penetrating into the coating of well defined surface morphology, and desirably locked onto the resulting metal article an provide enhanced lifetime even in rugged commercial environments.
Patent KR-940008597-B1 (KR)
Title: Control apparatus and method of washing machine
Inventor: KIM YONG-AN
IPC: D06F33/02
Filed: 1991-12-27
Granted: 1994-09-24
Abstract: The control equipment and method uses a liquid crystal display to display usage and operation state of the washing machine. The controller consists of a main microcomputer which detects occurance of error and a ROM which stores Hangul fonts for display of error states, a servo microcomputer which samples data for display, a liquid crystal display which displays usage and error state in Hangul, and an LCD back lighting for seeing in a dark place.
Patent KR-940011811-B1 (KR)
Title: Nonvolatile semiconductor memory device and fabricating method thereof
Inventor: CHOE JONG-HYOK
IPC: H01L27/115
Filed: 1991-12-27
Granted: 1994-12-26
Abstract: The method includes the steps of forming a tunnel oxide film (2) on the substrate (1) to deposit a 1st conducting layer (3) to form a floating gate pattern, forming an interlayered insulating layer (4) and a 2nd conducting layer (5) thereon to etch the layers (5,4,3) to form a memory cell, depositing insulating layers (7,8,9) thereon to etch-back the layer (9) to form a spacer (9') on the side wall of the cell to etch the exposed layer (8), implanting P type impurities to remove the spacer to form a mini field oxide film (11), and implanting n-type impurities to form a source region to deposit and etch-back a 3rd conducting layer (12) thereon to form a source line (12).
Patent KR-100220300-B1 (KR)
Inventor: KIM HAK-YOUL
IPC: H01L21/768
Filed: 1991-12-31
Granted: 1999-09-15
Abstract: 본 발명은 고집적 반도체 소자의 접속장치에 관한 것으로 실리콘 기판에 절연막이 형성되고, 이 절연막이 제거된 버리드 콘택영역을 통해 상부에 형성되는 도전층 패턴이 실리콘 기판으로 콘택되는 접속장치에서, 도전층 패턴을 형성하는 식각공정시 도전층 패턴의 측면의 노출되는 실리콘 기판에 홈이 형성되는 것을 방지하기 위해 절연막의 버리드 콘택영역을 작게 하는 기술에 관한 것이다.
Patent KR-940008780-B1 (KR)
Title: No.7 common channel signalling method
Inventor: HAN UN-YONG
IPC: H04M3/00
Filed: 1991-12-30
Granted: 1994-09-26
Abstract: The processor is designed for minimizing the additional load applied to a T-bus (12) by distributing the message traffic between a signal processor (1) in the message transferring part and a number of relay channel processors (2) to a B-bus (11). The processor includes a maintenance processor (3) managing the processor (1), a trunk interface (TIM) connecting a number of trunks, a switch (5) switching the signal channel, a switching controller (6) controlling the channel on/off, and a processor (4) for managing the system and connecting on the T-bus.
Patent KR-100245903-B1 (KR)
Inventor: MOORWOOD CHARLES A
IPC: H04L12/44
Filed: 1992-01-17
Granted: 2000-03-02
Abstract: 본 발명은 버스/트리 구내 정보 통신망의 세그먼트를 접속시키는 리피터 인터페이스 제어 장치(RIC)의 여러 특징에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 있어서, 상기 RIC는 IEEE 802.3 리피터 사양을 구현한다. 
     본 발명의 일면에 따르면, RIC는 기능적 엔티티의 분포형 아키텍쳐를 사용한다. 즉, RIC 아키텍쳐는 2개의 노드 형태를 포함하는 스포크 휘일(spoke wheel)의 아키텍쳐이다. 중간 노드는 IEEE 802.3 리피터 사양에서 한정된 대부분의 동작을 이행한다. 한 포트 노드는 각 스포크 단부에 상주하며 통신망 세그먼트 및 리피터 시스템 사이의 접속된다. 통신망 세그먼트에 접속되어 있기 때무에, 각각의 포트 노드는 그와 관련된 세그먼트상의 전송 동작을 제어하며 패킷 수신이나 충돌시 회선 경쟁이 있는 경우에는 언제든지 다른 포트와 중재한다. 
     본 발명의 또 다른 일변에 따르면, RIC는 다중 RIC를 서로 접속하여 단일 피리터의 논리적 기능을 유지하는 프로토콜을 구현하는 RIC간 버스를 포함한다. 상기 RIC간 버스 프로토콜은 수 백개의 세그먼트의 접속을 허용한다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC는 상태 LED 갱신 및 RIC의 내부 레지스터의 프로세서 판독/기록 액세스용으로 모두 사용되는 데이타버스를 포함한다. 데이타 버스의 마스터 관계는 LED 갱신이 진행중인 동안 RIC가 상기 버스에 계속 유지할 수 있게 함으로써 상기 프로세서에 의한 동시적인 액세스를 해결하는 버스 중재기에 의해 결정된다. 전용이네이블 신호는 상기 버스의 마스터로서 상기 프로세서를 인식함으로써, 리피터 시스템이 공유 데이타 버스와 접속 될 수 있게 한다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC는 RIC 포트 및 상기 포트가 반복중인 패킷의 상태에 관한 정보의 형태로 허브 관리를 지원한다. 이러한 데이타는, 계수된 이벤트, 기록된 이벤트 및 상태 패킷과 같은 3가지의 형태로 사용될 수 있다. 이러한 정보는 RIC의 인터페이스를 통해 입수될 수 있다. 상기 계수기 및 이벤트 기록 레지스터는 사용자가 한정가능한 마스크를 지니는데, 이러한 마스크에 의해 상기 계수기 및 이벤트 기록 레지스터가 다양한 이벤트를 계수·기록하도록 구성될 수 있다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC는 최대 통신망 대역폭으로 통계치를 관리한다. 상기 통계치는 패킷 반복이 진행중인 동안 로깅(logging)되고, 동일 패킷의 전송이 종료된 후에 계수기 및 플래그 어레이에 공급된다. 상기 정보를 로깅하며 공급하는 개별 동작은 최소의 프레임간 갭을 지닌 연속 패킷의 관리 통계를 낼 수 있다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC는 데이타 및 관리 통계치를 통신망 제어 장치에 전송하기 위한 허브 관리 버스를 포함한다. 전송된 데이타는 부가된 통계 정보의 다수의 바이트를 지닌 수신 패킷을 포함한다. RIC의 허브 관리 인터페이스에 의해 제공된 패킷 압축 특징은 시스템 메모리를 최소한으로 사용할 수 있다는 점이다. 또한, 허브 관리 아키텍쳐는 프로그램가능한 특징을 포함하는 데, 상기 프로그램가능한 특징에 의해 허브 관리 아키텍쳐가 통신망 제어 장치에서 프레임간 처리 지연을 보상할 수 있다. 이로 인해 상기 RIC는, 통신망 제어 장치가 관리 데이타를 모니터할 수 없는 경우에 관리 데이타를 공급하지 못하게 한다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC는 통신망 세그먼트에 접속될 수 있는 방법은 (1) AUI 케이블을 거쳐 송수신기 박스에 접속되는 방법, (2) 직접 보드 장착 송수신기에 접속되는 방법, (3) 단순한 인터페이스를 거쳐 연선 케이블에 접속되는 방법이 있다. 
     본 발명의 또 다른 일변에 따르면, RIC는 동일 디바이스 판상에서 다기능 입력 스퀄치 및 출력 구동기를 구현함으로써, IEEE AUI 및 연선 규격 모두를 지원한다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC 10BASE-T 송수신기는 수신 데이타 스트림의 극성을 자동적으로 검출·보정한다. 이러한 극성 검출스킴은 수신 링크 펄스 및 패킷 파형 단부의 극성에 의존한다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC 포트 각각은 IEEE 세그먼트 분할 알고리즘의 기능을 이행하기 위한 전용 포트 상태 기계를 포함한다. 다수의 분할 알고리즘 선택이 이용될 수 있다. 
     본 발명의 또 다른 일면에 따르면, RIC는 외부적으로 발생된 패킷(EGP)테스트에 응답하여 사용자는 RIC가 설치된 곳에서 RIC를 테스트하는 것을 허용한다.
Patent KR-950009338-B1 (KR)
Title: Powered hang glider
Inventor: LEE HUI-U
IPC: B64C31/02
Filed: 1992-03-07
Granted: 1995-08-21
Abstract: The hang glider suitable for spreading the agricultural medicine or shooting the air photo, has a simplified maneuvering and good safety. The hang glider having a main wing(10), an engine(12), a subsidiary wing(14) mounted in front of the main wing, comprises a pivot(22) such as universal joint or ball joint for pivotting the subsidiary wing(14) so as to move in the left or right directions. The subsidiary wing is slanted to the upper direction for maintaining that the support angle of the subsidiary wing is bigger than the support angle of the main wing.
Patent KR-960005384-B1 (KR)
Inventor: SATO YOSHIO
IPC: H03H9/02
Filed: 1992-03-30
Granted: 1996-04-24
Abstract: 내용 없음.
Patent KR-940003900-B1 (KR)
Title: Flange connector
Inventor: HWANG U-DOK
IPC: B21K1/14
Filed: 1992-04-23
Granted: 1994-05-09
Abstract: The flange used for connecting main gas supply pipe with a nozzle prevents the leakage of gas and improves the structural strength of the connecting part. The flange has the projecting connecting part on its body (53), boss part (54) for combining the center of the body (53) with the connecting part. The connecting part (5) comprises a reinforcing structure (8) for connecting with the circular part of a gas supply pipe (1), which has an elliptical section in order to be contacted with radial contacting area wider than lengthwise direction contacting area.
Patent KR-100210877-B1 (KR)
Inventor: SAITO JUICH
IPC: B66B29/00
Filed: 1992-05-04
Granted: 1999-07-15
Abstract: 본 발명은 이동손잡이 입구부의 안전장치와 이동손잡이와의 간격에 손가락등의 이물질이 침입한 경우, 그것을 신속하게 해방할 수가 있는 것과 동시에, 침입하기 전에 승객컨베이어의 운전을 정지시키는 것과 침입하기 전에 승객에게 위험을 감지시키는 것이 가능한 안전성이 높은 승객 컨베이어를 얻기 위하여, 순환하는 이동손잡이가 침입하는 난간내부로의 입구부에 설치한 가동체를, 이동손잡이의 진행방향의 반대쪽으로 변위가능하도록 지지한 것이다.
Patent KR-920006284-B1 (KR)
Inventor: MURAKAMI DOKUMICHI
Filed: 1992-05-25
Granted: 1992-08-03
Abstract: 내용 없음.
Patent KR-950003459-B1 (KR)
Title: Crt
Inventor: LEE CHOL-HO
IPC: H01J29/88
Filed: 1992-06-09
Granted: 1995-04-13
Abstract: The leakage current flowing through inner layer of a neck is prevented by a leakage current protector so that the distortion of the electron beam is prevented. The cathode ray tube includes an inner conduction layer (15), a neck unit (16a), and a leakage current protector (20) placed between an inner conduction layer (15) and the neck unit. The leakage current protector is formed by spraying the silicon which protects the layer of a the neck unit charged by high voltage which is applied to the inner conduction layer.
Patent KR-100254133-B1 (KR)
Inventor: MIZUNO FUMIO
IPC: G03F1/68
Filed: 1992-07-10
Granted: 2000-06-01
Abstract: 반도체 장치 또는 반도체 집적 회로 장치의 제조 방법 또는 노출 방법 및 그것에 사용하는 마스크로서, 반도체 장치 또는 반도체 집적 회로 장치의 제조 공정에 있어서 다양하고 또한 미세한 패턴의 노출을 가능하게 하기 위해서, 일정한 모드의 마스크 패턴 영역의 끝부 또는 여러개의 모드의 마스크 패턴 영역의 경계부에 소정의 보정 패턴을 마련한 위상 시프트 마스크를 사용해서 축소 투영 노출을 실행한다. 
     이러한 반도체 장치 또는 반도체 집적 회로 장치의 제조 방법 또는 노출 방법 및 그것에 사용하는 마스크를 이용하는 것에 의해, 보정 패턴에 의해서 끝부 효과등이 상쇄되므로, 다양하고 또한 미세한 패턴의 노출을 가능하게 할 수가 있다.
Patent KR-0175071-B1 (KR)
Inventor: TAKEKUMA TAKASHI
IPC: H01L21/027
Filed: 1992-07-24
Granted: 1999-04-01
Abstract: 도포장치는, 반도체웨이퍼를 흡착하는 척과, 반도체웨이퍼에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급계와, 반도체웨이퍼를 회전시켜서 반도체웨이퍼에 공급된 레지스트액을 반도체웨이퍼의 전체면으로 펴기 위한 모우터와, 반도체웨이퍼가 얹어놓이고 이것에 온도분포를 형성하기 위한 플레이트를 구비한다.
Patent KR-100243260-B1 (KR)
Inventor: LEE BYUNG-HOON
IPC: H01L27/10
Filed: 1992-10-21
Granted: 2000-02-01
Abstract: 본 발명은 단위면적당 셀커패시턴스를 증가시키고 소자의 전기적 특성을 향상시킬 수 있는 반도체 메모리장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 반도체기판내의 소정위치에 횡방향으로 연장된 모양으로 형성된 매몰산화층, 상기 매몰산화층을 관통하는 모양으로 형성된 트렌치와, 상기 트렌치를 통하여 상기 트렌치에 의해 관통된 부분의 매몰산화층을 부분식각함으로써 형성된 트렌치 외벽의 돌기에 형성된 커패시터를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치 및 그 제조방법을 제공한다. 
     본 발명에 따르면, 단위면적당 셀커패시턴스를 증가시킬 수 있으며, 트렌치의 깊이를 줄이고도 같은 정전용량을 얻을 수 있으므로 공정상 유리하며, 매몰산화층으로 인해 소자분리특성이 향상되는 이점이 있다.
Patent KR-960001459-B1 (KR)
Inventor: MATSUDA DETSUO
IPC: B65D83/08
Filed: 1992-11-25
Granted: 1996-01-30
Abstract: 내용 없음.
Patent KR-950004400-B1 (KR)
Title: Focusing electrode for electron gun and manufacturing method for the same
Inventor: LEE HUI-SONG
IPC: H01J29/02
Filed: 1992-12-07
Granted: 1995-04-28
Abstract: The manufacturing method involves the usage of a heating part having lengths along two different axis, incorporated on an ordinary focussing electrode. A hole is provided to perform primary heating process thereby heating the electrode material. The electrode gives out electrons which form a circular spot beam of a screen. The beam obtained by primary processing again undergoes secondary processing along the shaft of the electrode, by heating the electrode placed at a different position thereby generating another circular beam of light on the screen which has a larger cross sectional area than that obtained by primary processing.