Patent ES-2867598-T3 (ES)
Title: Un dispositivo y un método para el secado de una chapa, y un método para la adaptación de un secador para formar un dispositivo para el secado de una chapa
Inventor: WUORISTO ANTTI
IPC: F26B15/12
Filed: 2018-11-26
Granted: 2021-10-20
Abstract: Un dispositivo (100) para el secado de una chapa (111), comprendiendo el dispositivo (100) - un primer par de rodillos (210) configurados para hacer desplazar la chapa (111) en una dirección longitudinal (Sx), comprendiendo el primer par de rodillos (210) - un primer rodillo primario (211) que se extiende en una dirección que es substancialmente paralela a una dirección transversal (Sy) y - un primer rodillo secundario (212) substancialmente paralelo al primer rodillo primario (211), por medio de lo cual - se define un primer hueco (215) entre el primer rodillo primario (211) y el primer rodillo secundario (212), - un segundo par de rodillos (220) dispuestos en la dirección longitudinal (Sx) desde el primer par de rodillos (210), comprendiendo el segundo par de rodillos (220) - un segundo rodillo primario (221) que se extiende en una dirección que es substancialmente paralela a la dirección transversal (Sy) y - un segundo rodillo secundario (222) substancialmente paralelo al segundo rodillo primario (221), por medio de lo cual - se define un segundo hueco (225) entre el segundo rodillo primario (221) y el segundo rodillo secundario (222), y - el primer hueco (215) y el segundo hueco (225) definen una trayectoria de diseño plano (T) para la chapa (111), en el que - una distancia (gh1) entre las superficies exteriores del primer rodillo primario (211) y del primer rodillo secundario (212) es de 0,5 mm a 3,5 mm, caracterizado por - una primera caja de inyectores de chorro primaria (311), de la cual al menos una parte está dispuesta entre el primer rodillo primario (211) y el segundo rodillo primario (221), teniendo la primera caja de inyectores de chorro primaria (311) una superficie de soporte primaria (313) y estando configurada para el suministro de un medio de secado gaseoso (120) a través de la superficie de soporte primaria (313) hacia la trayectoria de diseño plano (T), en el que - la superficie de soporte primaria (313) está configurada para soportar la chapa (111), y - el primer par de rodillos (210), el segundo par de rodillos (220) y la superficie de soporte primaria (313) de la primera caja de inyectores de chorro primaria (311) están dispuestos de forma que - un plano imaginario primario (P1) que está definido por el primer hueco (215) y la superficie de soporte primaria (313) de tal manera que (i) el plano imaginario primario (P1) hace contacto con la superficie de soporte primaria (313) y (ii) que se minimiza un ángulo (β1) que se forma entre el plano imaginario primario (P1) y la trayectoria de diseño plano (T): [A] - interseca una superficie del segundo rodillo primario (221) en una primera línea de intersección primaria (I11) y en una segunda línea de intersección primaria (I21), en el que - la primera línea de intersección primaria (I11) está más cerca de la primera caja de inyectores de chorro primaria (311) que la segunda línea de intersección primaria (I21), y - un ángulo primario (α1), que se forma entre el plano imaginario primario (P1) y un plano tangente (TP1) del segundo rodillo primario (221) en la primera línea de intersección primaria (I11) y que se abre hacia la trayectoria de diseño plano (T) y hacia el primer par de rodillos (210), es de al menos 115 grados, o [B] - está dispuesto entre el segundo rodillo primario (221) y el segundo rodillo secundario (222), o [C] - interseca una superficie del segundo rodillo secundario (222).