baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-100331693-B1 (KR)
Title: 핸드포인팅장치
IPC: G06F3/0488
Filed: 1998-10-27
Granted: 2002-09-26
Abstract: 본 발명은 핸드포인팅 장치에 관한 것으로서 투시법에 따라 가상적으로 3-D 공간을 나타내는 화상을 디스플레이상에 표시하고 정보입력자를 복수대의 비데오 카메라로 서로 다른 방향으로부터 촬상한다.  표시화상이 나타나는 가상의 3-D 공간내의 임의의 장소를 정보입력자가 지시하는 상태에서 각 비데오 카메라로부터 얻은 복수의 화상으로부터 정보입력자의 등에 상당하는 기준점 및 손가락 끝에 상당하는 특징점을 각각 추출하여 3-D 좌표를 구한다.  기준점에서 특징점으로 향하는 방향에 기초하여 가상 3-D 공간내의 지시장소가 존재하는 방향을 판단하고 기준점과 특징점 사이의 거리에 기초하여 가상 3-D 공간내의 정보입력자와 정보입력자에 의해 지시된 위치사이의 거리를 판단한다.  그 결과, 가상 3-D 공간내의 정보입력자에 의해 지시된 장소의 3-D 좌표를 판단할 수 있다.
Patent KR-100335286-B1 (KR)
Title: 발수(撥水)코팅방법및그에이용하는코팅장치
IPC: B05C1/14
Filed: 1998-11-04
Granted: 2002-10-04
Abstract: 피도포물의 형상에 관계없이 효율적으로 코팅하기 위한 방법 및 장치를 제공하는 것. 
     (a)적어도 발수처리제를 포함하는 코팅액을, 환상벨트형상지지체에 부착시키는 공정, (b)상기 지지체를 피도포물에 접촉시킴으로써 상기 피도포물 상에 코팅액을 도포하는 공정, 및 (c)상기 피도포물 상에 발수성피막을 형성시키는 공정을 포함하는 발수코팅 방법.
Patent KR-100327897-B1 (KR)
Title: 상호이득변조방식의광파장변환기
IPC: G02F1/01
Filed: 1998-11-10
Granted: 2002-08-08
Abstract: 본 발명은 반도체 광 증폭기의 상호이득변조 특성을 이용하는 상호이득변조방식의 광파장 변환기에 관한 것으로서, 반도체 광 증폭기에서의 상호이득변조 특성을 이용하여 파장 변환할 때, 입력신호의 세기의 범위 즉, 입력 다이너믹(dynamic) 영역이 확장되도록 한다. 
     이러한 본 발명은, 펌프 광의 신호 세기에 따라 프로우브 광의 강도를 변조하는 반도체 광 증폭기와, 상기 프로우브 광을 생성하여 상기 반도체 광 증폭기로 제공하는 연속발진 광원을 포함하는 상호이득변호방식의 광파장 변환기에 있어서, 상기 펌프 광의 세기에 따라 가변되는 바이어스전류를 상기 연속발진 광원에 제공하여, 상기 펌프 광의 세기에 따라 상기 프로우브 광의 세기가 가변되도록 하는 프로우브 광 제어수단을 포함한 것을 특징으로 하는 상호이득변조방식의 광파장 변환기를 제공한다.
Patent KR-100327898-B1 (KR)
IPC: G02B6/34
Filed: 1998-11-12
Granted: 2002-08-21
Abstract: 파장 역다중화 소자에서 발생하는 광 도파로의 곡률 손실(Bending Loss)을 최소화시킬 수 있는 직선형 광 도파로를 구비한 파장 역다중화 소자가 개시된다. 본 발명은 광 도파로의 곡률 손실을 최소화시킬 수 있도록 서로 다른 폭을 갖는 단일 물질로 구성된 직선형 도파로를 사용하거나 유효 굴절률이 서로 다른 물질로 구성된 직선형 도파로를 사용하여 각 채널 별로 광 경로차를 부여한다. 본 발명에 따르면, 광 도파로의 구조를 직선화시킴으로써 광 도파 손실을 최소화함과 아울러 파장 분리 특성을 향상시킬 수 있다.
Patent KR-100304537-B1 (KR)
Title: 절수식 급수밸브
IPC: F16K21/00
Filed: 1998-11-28
Granted: 2001-11-30
Abstract: 본 발명에 따른 절수식 급수밸브는 피스톤과, 피스톤을 감싸고 있는 본체와, 피스톤의 작동에 의해 대유량을 토출하는 제1누름부와, 본체의 외주면에 형성되고, 피스톤의 작동에 의해 소유량을 토출하는 제2누름부를 포함하여 이루어진다.
Patent KR-100289944-B1 (KR)
Title: 폐석분을 이용한 석분 경량벽돌
IPC: B28B1/00
Filed: 1998-12-04
Granted: 2001-05-15
Abstract: 본 발명은, 폐석분을 이용한 석분 경량벽돌에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 폐석분, 고운 모래, 석회, 알루미늄 분말, 및 물을 배합하고 100 내지 250℃의 온도, 1 내지 20 bar의 압력하에서 1 내지 10시간 동안 양생하여서 된, 압축강도 2.5N/㎟ 이상의 폐석분을 이용한 석분 경량벽돌에 관한 것이다. 
     본 발명에 따라 원석의 절단과정에서 발생되는 폐석분을 이용하여 종래의 벽돌재와는 다른 성분을 갖는 석분 경량벽돌로 제조하여 재활용함으로써, 자원 대체 효과를 볼 뿐만아니라, 벽돌재의 강도를 향상시키고, 비용 효과면에 있어서도 폐석분의 처리비용을 줄일 수 있다. 
     본 발명에 따른 공정에서는 약 100 내지 200℃의 낮은 온도와 압력을 사용하므로 제조비가 낮게 되고, 또한 공정에 특별한 장치가 필요치 않은 관계로 비용절감 효과가 크고 건축 산업 현장의 필요에 따라 중량이 가벼운 석분 경량벽돌로서 작업의 능률을 향상시킬 수 있다.
Patent KR-100362662-B1 (KR)
Title: 열간압연강판의 폭방향으로의 형상제어방법
IPC: B21B37/00
Filed: 1998-12-09
Granted: 2003-02-19
Abstract: 본 발명은 열연강판의 폭방향으로의 형상을 제어하는 방법에 관한 것으로서, 롤 벤더력을 적절히 제어하여 페어크로스와 작업롤 벤더의 과설정에 의한 판의 중심부에서의 프로필 불량을 방지하므로써 열연강판의 폭방향으로의 양호한 형상 을 얻을 수 있는 열연강판의 폭방향으로의 형상 제어방법을 제공하고자 하는대, 그 목적이 있다. 
     본 발명은 다수개의 롤스탠드를 구비하고 페어크로스와 롤벤더에 의해 판크라운 및 형상을 제어하는 열간 다듬질 압연에 있어서, 목표 판프로필을 설정하는 단계; 초기 벤더력(F0)하에서 압연을 행하고, 이때의 판프로필을 측정하는 단계; 상기와 같이 측정된 판프로필을 근사함수로 나타내는 단계; 최소자승법에 의해 상기 근사함수의 계수를 구하는 단계;상기와 같이 구한 계수값을 상기 근사함수에 대입하여 판폭방향으로의 다수의 지점에 대한 두께를 구하여 평균프로필을 구하는 단계; 판의 폭방향으로의 중앙부에서의 상기 목표 판프로필과 평균 판프로필과의 차이(Ch)를 구하는 단계; 상기와 같이 구한 목표 판프로필과 평균 판프로필과의 차이(Ch)값을 이용하여 보정 벤더력(F)를 구하는 단계; 및상기와 같이 구한 보정 벤더력(F)만큼을 상기 초기 벤더력(F0)에 보정해 주는 단계를 포함하여 구성되는 압연강판의 폭방향 형상제어방법을 그 요지로 한다.
Patent KR-100644906-B1 (KR)
Title: 고로의 탈규슬래그 포밍진정제
IPC: C21B3/00
Filed: 1998-12-18
Granted: 2007-01-31
Abstract: 본 발명은 고로에서 탈규(Si)처리시 발생하는 포밍현상을 억제하거나 진정 시키기 위한 탈규슬래그의 포밍진정제에 관한 것으로, 고로의 용선탈규처리시 발생하는 슬래그 포밍현상을 억제 또는 진정시키는 진정제에 있어서, Metal Al chip 20 - 60 wt%와, 100% 탄소를 함유하는 탄화왕겨 10 - 30wt%와, 페펄프 10 - 30wt%와, 결합제로 당밀을 사용하여 5 - 20㎜의 입도를 95% 이상 갖도록 하여서 됨을 요지로 한다.
Patent KR-100286798-B1 (KR)
Title: 비가역소자의 상,하 케이스 결합장치
IPC: H01P1/36
Filed: 1998-12-21
Granted: 2001-04-16
Abstract: 본 발명은 비가역소자의 상,하 케이스의 결합시, 솔더링의 접합면적을 확대하여 접합부의 강도와, 비가역소자의 차폐성을 향상시킬 수 있도록한 비가역소자의 상,하 케이스 결합장치에 관한 것으로 이는 특히, 내부에 내부단자(110)와 가네트 페라이트(130)등이 내설되는 하부 케이스(100)의 양측단부인 결합부(170)와, 상부 케이스(160)의 양측 결합단부 내측으로 다수의 굴곡홈(190)이 요설되어, 상기 상,하 케이스(160)(100)의 양측단부에 형성된 굴곡홈(180)(190) 내에 땜납이 유입되도록 하는 것을 요지로 한다. 
     이에따라서, 상,하 케이스의 결합부에 형성되는 굴곡홈내에 솔더링에 의한 땜납이 유입되어 솔더링 작업이 원할하게 이루어질 수 있는 것이다.
Patent KR-100568018-B1 (KR)
Title: 백라이트 어셈블리
IPC: G02F1/1335
Filed: 1998-12-29
Granted: 2006-06-07
Abstract: 램프와 마주보는 확산판의 하부면에 확산도트들을 형성하거나 또는 램프와 대응되는 부분에 오목한 홈을 형성하여 램프의 중앙부분에서 발산되는 빛을 충분히 확산시켜 램프의 중앙부분에서 발산되는 빛의 밝기와 램프의 가장자리에서 발산되는 빛의 밝기를 동일하게 조절한다. 
     따라서, LCD 패널에서 램프와 대응되는 부분이 다른 부분보다 밝아 보이는 현상을 방지하여 빛의 균일성을 향상시킬 수 있다.
Patent KR-100288320-B1 (KR)
Title: 금속 표면으로부터의 경화깊이를 1밀리미터 이상 형성시키는 플라즈마를 이용한 질화공정 방법 및 그 장치
IPC: C23C8/36
Filed: 1998-12-31
Granted: 2001-05-02
Abstract: 본 발명은 플라즈마를 이용한 질화공정 기술에 관한 것으로서, 금속 표면에 질소가 침투되는 경화깊이를 1mm 이상 형성시킬 수 있도록 하여 표면 부하를 크게 요구하는 공구강 및 기계부품의 경화처리에 적용할 수 있는 플라즈마를 이용한 질화공정 방법 및 그 장치를 제공함에 그 목적이 있다.  이를 위해 구성되는 본 발명은 금속재료에 인가되는 질화공정의 반응온도는 600∼700℃로 가열하고, 혼합가스의 투입시 황(S) 가스를 추가 투입시키며, 금속재료에 인가되는 펄스형 음전압을 1kV 이상 인가하는 한편, 반응로 내의 플라즈마 밀도를 높이는 유도 플라즈마 발생 공정의 추가에 의해 금속재료와 질화 활성인자인 활성 중성 질소입자와 질소 라디칼의 에너지 및 그 수를 증대시켜 금속재료의 표면과 이온의 반응 작용을 증대시킬 수 있도록 한 것이다.  또한, 본 발명의 기계적인 구성은 이온질화 반응이 일어나는 반응로, 금속재료를 올려놓는 시료대, 반응로를 진공 상태로 만드는 로터리 펌프, 반응로의 반응온도를 승온시키는 히터, 가스를 투입시키는 가스 투입부, 금속재료에 펄스형 음전압을 인가하는 펄스 음전압 발생기 및 유도 플라즈마 발생 공정을 가능하게 하는 유도 전압 발생기를 포함하여 이루어진다.
Patent KR-100570251-B1 (KR)
IPC: A23L1/30
Filed: 1996-10-30
Granted: 2006-06-21
Abstract: 본 발명은 사람에게 의약 또는 비타민으로 사용하기 위한, 특히 황반 변성을 앓는 환자를 치료하기 위한 유일한 검출가능한 이성질체로서 제아산틴의 3R-3'R 입체이성질체를 제조 및 정제하는 방법 및 제형화를 개시하고 있다.  필요한 3R-3'R 입체이성질체만을 함유하는 제아산틴 제제는 플라보박테리움 멀티보럼 ( Flavobacterium multivorum ) (ATCC 기탁 번호 제55238호) 균주를 이용하여 제조할 수 있다.  미생물 발효를 이용하여 합성한 후, 용매 추출과 같은 간단하고 저렴한 수단을 이용하여 제아산틴을 5 내지 20 중량% 수준으로 농축시킬 수 있다.  또한, 필요하다면 다른 방법들을 사용하여 더 높은 농도로 제아산틴을 정제할 수 있다.
Patent KR-100365567-B1 (KR)
Title: 판독전용메모리셀어레이및그의제조방법
IPC: H01L27/112
Filed: 1996-11-28
Granted: 2003-04-21
Abstract: 본 발명은 반도체 물질로 구성되고, 메인 표면(3)에 배열된 메모리 셀을 가지는 기판(1)을 구비한 판독 전용 메모리 셀에 관한 것이다.  각각의 메모리 셀은 소오스 영역(8), 드레인 영역(17,18), 채널 영역, 게이트 유전층(11) 및 게이트 전극(13)을 구비한 적어도 하나의 MOS 트랜지스터를 포함한다.  상기 드레인 영역(17,18)은 비트 라인(25,29)에 접속되며, 게이트 전극(13)은 워드 라인(26,27)에 접속되고, MOS 트랜지스터(T1,T2)는 기판(3)의 메인 영역(3)에서 시작하여 소오스 영역(8)에 까지 확장되는 트랜치(7)에 의해 형성된다.  본 발명은 MOS 트랜지스터(T1,T2)의 트랜치(7)의 측벽(9,10)이 기판(10)의 메인 표면(3)에 대해 약 45° 내지 80°의 각으로 배열되고 MOS 트랜지스터의 프로그래밍을 설정하기 위해 미리 정해진 레벨의 도전성의 도핑 물질을 사용하여 도핑된다.
Patent KR-100461292-B1 (KR)
Title: 수직형열처리장치,수직형열처리장치의분해방법및수직형열처리장치의유지보수방법
IPC: H01L21/00
Filed: 1997-10-21
Granted: 2005-02-28
Abstract: 반도체 웨이퍼(W)를 위한 수직형 열처리 장치는 열처리로(19)를 갖고, 열처리로(19)내에 있어서, 웨이퍼(W)는 보트(16)에 탑재된 상태로 일괄식으로 처리를 받는다.  열처리로(19)의 하측에는 매니홀드(33)를 거쳐 진공 예비실(102)이 기밀하게 접속된다.  매니홀드(33)는 분할 가능하게 결합된 제 1 및 제 2 부품(33a, 33b)을 갖고, 이들은 각각 열처리로(19) 및 진공 예비실(102)에 접속된다.  제 2 부품(33b)은  덮개(22)가 밀착하여 열처리로(19)와 진공 예비실(102)의 연통을 차단하기 위한 밸브 시트를 규정한다.  덮개(22)를 밸브 시트에 밀착시켜 진공 예비실(102)을 기밀하게 유지한 상태로, 열처리로(19)를 매니홀드의 제 1 부품(33a)과 동시에, 진공 예비실(102) 및 매니홀드의 제 2 부품(33b)부터 분리할 수 있다.
Patent KR-100278237-B1 (KR)
IPC: C08L3/06
Filed: 1997-01-27
Granted: 2001-01-15
Abstract: Thermoplastic compositions comprising a starch ester and microfibers of cellulose can be formed into biodegradable articles of superior mechanical properties.
Patent KR-100497675-B1 (KR)
Title: 무선전화기용케이싱및무선전화기를가진케이싱을포함하는조립체
IPC: H04M11/00
Filed: 1997-11-17
Granted: 2005-10-04
Abstract: 무선전화기는 베이스와 그에 상대적으로 이동할 수 있는 덮개를 가진 케이싱 내에 수용되고, 상기 베이스와 덮개 사이에는 전화기를 위한 저장 공간이 형성된다. 케이싱에는 예비 배터리, 배터리 충전 장치, 전화기에 전기적으로 연결하기 위한 하나 또는 몇 개의 커넥터, 자동 응답기, 모뎀, 컴퓨터, 외부 컴퓨터에 연결하기 위한 인터페이스 수단, 또는 마이크로폰 및 확성기를 가진 오디오 증폭기와 같은, 전화기에 연결되는 하나 또는 몇 개의 부착물들이 제공된다.
Patent KR-100388516-B1 (KR)
Title: 보조 영상내의 공간경계를 제거하도록 주영상과 함께 보조영상을샘플링및 디스플레이하는 장치
IPC: H04N5/45
Filed: 1997-03-06
Granted: 2003-10-10
Abstract: 본 발명에 따른 보조 영상과 주영상을 합성하는 장치는 주영상 비디오 신호원과 연속 필드를 갖는 보조 영상 비디오 신호를 나타내는 샘플의 소스를 포함한다. 대각 서브샘플러는 상기 보조 영상 샘플 소스에 결합되고, 제어 신호에 응답하여 샘플이 제1 수평 위치 세트에서 취해지는 제1 샘플 패턴, 또는 샘플이 상기 제1 세트 사이의 실질적으로 중간인 제2 수평 위치 세트에서 취해지는 제2 샘플 패턴중 하나로 상기 보조 영상 샘플을 서브샘플링한다. 신호 합성기는 상기 대각 서브샘플러 및 상기 주영상 신호원에 결합되어 상기 주 및 보조 영상의 합성 영상을 나타내는 신호를 발생하도록 상기 주영상 신호와 상기 대각 서브샘플링된 보조 영상 샘플을 나타내는 신호를 합성한다. 제어 회로는 상기 대각 서브샘플러가 각 보조 영상 비디오 신호 필드의 개시에서는 상기 샘플 패턴중 하나로, 그리고 상기 합성 영상내의 모든 대각 서브샘플링된 보조 영상 샘플이 동일한 샘플 패턴으로 취해지도록 계산된 스위치 시간 후에는 다른 샘플 패턴으로 샘플을 취하도록 상기 대각 서브샘플러 제어 신호를 발생한다.
Patent KR-100307244-B1 (KR)
Title: 대체연료
IPC: C10L1/18
Filed: 1997-05-01
Granted: 2001-12-05
Abstract: 본 발명은 기본적으로 올레핀, 방향제, 벤젠, 및 황이 없으며, 5 내지 8개의 탄소원자가 직접 연결되거나 또는 브랜치되는 알칸으로부터 선택되는 하나 이상의 탄화수소를 포함하는 탄화수소 성분―여기서 탄화수소 성분은 ASTM D-2699 및 D-2700에 의해 측정된 노킹 방지 지수의 최소값으로 65를 가지며, ASTM D-5191에 의해 측정된 DVPE의 최대값으로 15 psi를 가짐―; 연료 등급 알콜; 및 상기 탄화수소 성분 및 연료 등급 알콜용 공동 용매로 이루어지며, 상기 탄화수소 성분, 연료 등급 알콜, 및 공동 용매는 ASTM D-2699 및 D-2700에 의해 측정된 노킹 방지 지수의 최소값으로 87을 가지며, ASTM D-5191에 의해 측정된 DVPE의 최대값으로 15 psi를 갖는 자동차용 연료를 제공하도록 선택되는 양이 존재하는 스파크 점화 자동차용 연료 조성물을 제공한다. 
     본 발명에서는 또한 탄화수소-알콜 혼합물에 알콜과 탄화수소용 공동 용매를 첨가함으로써 탄화수소-알콜 혼합물의 증기압을 감소시키는 방법이 개시된다.
Patent KR-100295284-B1 (KR)
Title: 발광단을 함유한 디아세틸렌계 중합체 및 이를 이용한 전계발광소자
IPC: H01L51/30
Filed: 1999-01-15
Granted: 2001-07-03
Abstract: 본 발명에 따라 전계발광 소자의 발광재료로서 사용되는 다음 화학식 1의 발광단을 함유한 디아세틸렌계 중합체가 제공된다. 또한 본 발명에 따라 상기 발광단을 함유한 디아세틸렌계 중합체 발광층의 발광재료로서 사용한 양극/발광층/음극, 또는 필요시 여기에 전달층 및/또는 반사층이 포함되도록 구성된 전계 발광 소자의 구성뿐아니라 본 발명의 상기 중합체들은 여러 범용 고분자와 쉽게 블렌딩할 수 있어 이를 이용한 전계 발광 소자의 구성도 제공된다. 
     화학식 1
Patent KR-100581794-B1 (KR)
IPC: C09B67/20
Filed: 1999-01-19
Granted: 2006-05-24
Abstract: 본 발명은 20㎛ 이하의 평균 입자 크기를 갖는 3-히드록시-4-메틸-6-클로로티오나프텐의 산화에 의해 안정한 결정 변형체 I로서 수득되는 것으로서, 회절 각도 2θ(˚)에서 하기 고강도 선 및 중강도 선을 나타냄을 특징으로 하는 4,4'-디메틸-6,6'-디클로로티오인디고에 관한 것이다:  
     고강도 선: 25.99; 27.26,  
     중강도 선: 10.27; 12.48; 22.39; 23.91; 24.82; 28.87.
Patent KR-100285395-B1 (KR)
Title: 화장료용 안료의 표면개질 방법 및 이 방법에 의해 개질된 안료를 함유하는 화장료
IPC: C09C3/12
Filed: 1999-03-06
Granted: 2001-03-15
Abstract: 본 발명은 화장료용 안료를 표면개질하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 안료를 함유하는 화장료에 관한 것으로, 화장료용 안료의 표면을 하기 일반식 (Ⅰ)의 불소치환 실리콘폴리머 지방산 에스테르로 표면개질하거나, 불소치환 실리콘폴리머 지방산 에스테르로 표면개질된 안료를 N-지방산-L-아미노산으로 2차 처리하는 것에 의해 내수성, 내유성 및 피부밀착감이 우수하고, 화장료내에서의 상용성이 우수한 안료 및 이를 함유하는 화장료를 제공할 수 있다. 
           (Ⅰ) 
     식중, R은 에스테르 결합된 탄소수 12 내지 18의 포화 또는 불포화 지방산이고, 
     n은 20,000∼50,000이며, 
     X와 Y는 n/1,000∼n/5,000이다.
Patent KR-100306926-B1 (KR)
Title: 분포지 용착 장치
IPC: B29C65/08
Filed: 1999-03-12
Granted: 2001-09-24
Abstract: 본 발명은 소비 전력이 작아 경제적이면서 안전성이 높고, 재봉틀 눈을 양호하게 형성할 수 있으며, 또한 여러가지 크기의 분포체를 제조할 수 있는 분포지 용착 장치를 제공하기 위한 것으로, 분포지 3을 용착하기 위한 분포지 용착 장치 6의 초음파 용착 기구 11을, 분포지 3의 표면을 따라 이동 자유로운 혼 15와, 이 혼 15와의 사이에서 분포지 3을 끼워 지지하는 수용 지그 16을 갖는 구성으로 하고, 수용 부재 16은 용착부 형성 부재 40과 재봉틀 눈 형성 부재 41을 구비하는 구성으로 된다.
Patent KR-100301947-B1 (KR)
Title: 보조노즐을 이용한 아크용접토치 시스템
IPC: B23K9/127
Filed: 1999-03-31
Granted: 2001-09-22
Abstract: 본 발명은 보조노즐을 통하여 불활성 가스를 포함하는 보조가스나 플럭스를 분사하여 용접아크를 안정시키고 용융부의 젖음을 향상시켜 생산성과 용접품질을 향상시키는 보조노즐을 이용한 아크용접토치 시스템을 제공하는 데 그 목적이 있다. 
     위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면, 아크용접용 토치(10)의 외면에는 분위기 가스의 조성비를 변화시켜 용접아크의 특성과 용융부의 젖음특성을 제어할 수 있도록 불활성 가스 등과 같은 보조가스를 분사하는 보조노즐(28)이 설치되어 있다.   그리고, 보조노즐(28)의 분사위치는 아크용접용 토치(10)에 대해 상하로 자유롭게 이동하는 상하이동부재(22)에 의해 조절되고, 보조노즐(28)의 분사각도는 상하이동부재(22)에 대해 좌우로 자유롭게 회전하는 링크부재(29)에 의해 조절된다.   또한, 보조가스와 플럭스(flux)를 보조노즐(28)을 통해 동시 또는 선택적으로 분사하여 용접아크와 용융부의 특성을 변화시키고, 보조노즐(28)은 용접진행방향과 반대방향에서 보조가스를 분사(후방분사)할 수 있도록 설치되어 있다.
Patent KR-100311041-B1 (KR)
Title: 대기 상태시 누설전류가 발생되지 않는 로우 디코더들 및 칼럼디코더들을 갖는 반도체 메모리장치
IPC: G11C11/413
Filed: 1999-05-07
Granted: 2001-11-02
Abstract: 본 발명은 대기 상태시 누설 전류가 발생되지 않는 로우 디코더들 및 칼럼 디코더들을 갖는 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 다수개의 워드라인들을 구비하는 반도체 메모리 장치에 있어서, 상기 반도체 메모리 장치의 정상 동작시 고 전압을 출력하고, 상기 반도체 메모리 장치의 대기 상태시 접지 전압을 출력하는 로우 제어부; 및 상기 로우 제어부에 각각 연결되며, 상기 로우 제어부의 출력 신호와 외부로부터 입력되는 로우 어드레스에 응답하여 상기 다수개의 워드라인들 중 대응되는 워드라인을 활성화시키는 다수개의 로우 디코더들을 구비하고, 상기 다수개의 로우 디코더들은 각각 상기 로우 제어부에 연결되며, 상기 대기 상태일 때 활성화되어 상기 고 전압을 노드로 출력하는 풀업부; 상기 로우 어드레스를 디코딩하여 상기 노드로 출력하는 디코딩부; 상기 로우 제어부의 출력 신호를 입력하며, 상기 정상 동작시 상기 디코딩부가 활성화되면 활성화되어 상기 로우 제어부로부터 출력되는 고 전압을 대응되는 워드라인으로 전달하고, 상기 대기 상태시에는 상기 대응되는 워드라인에 상기 접지 전압을 제공함과 동시에 입력단과 출력단이 상기 접지 전압 레벨로 되어 누설 전류를 발생하지 않는 드라이버; 및 상기 대기 상태시 상기 대응되는 워드라인을 상기 접지 전압 레벨로 유지시키는 래취부를 구비함으로써 반도체 메모리 장치의 전력 소모가 감소된다.
Patent KR-100331595-B1 (KR)
IPC: H03K17/10
Filed: 1999-05-18
Granted: 2002-04-06
Abstract: 본 발명은 턴 오프 시, 주전류가 하강시간으로 이행하기 전에 제어전극의 전압을 반도체소자의 임계값(Vth)이하로 저하시킴으로써, 주전극간의 전압 상승전에 전자 주입을 정지시켜, 전류 밀도의 안정성을 향상할 수 있고, 전류 집중이나 발진 등을 저지하여 신뢰성을 향상시키는 바이폴라 반도체소자의 구동방법과 바이폴라 반도체소자를 이용한 반도체장치에 관한 것으로서, 전류 밀도의 안정성을 향상할 수 있고, 전류 집중이나 발진 등을 저지하여 신뢰성의 향상을 도모하는 것을 특징으로 한다.
Patent KR-100297698-B1 (KR)
Title: 리튬이온 폴리머 전지의 극판제조방법
IPC: H01M4/139
Filed: 1999-05-28
Granted: 2001-09-26
Abstract: 본 발명은 전극활물질/세퍼레이터 슬러리의 도포 및 필름 공급과 극판 라미네이션 작업을 동시에 수행하는 리튬이온 폴리머 전지의 극판 제조방법 및 제조장치에 관한 것으로서, 회전하는 한쌍의 제1롤의 외주면에 전극활물질 슬러리가 제1분사기로부터 직접 공급되는 단계; 상기 전극활물질 슬러리가 상기 한쌍의 제1롤의 회전에 따라 건조수단에 의하여 연속적으로 건조되어 전극활물질 필름이 형성되는 단계; 상기 전극활물질 필름이 상기 한쌍의 제1롤의 회전에 따라 집전체와 연속적으로 열압착되어 전극판이 형성되는 단계; 상기 한쌍의 제1롤의 후방에서 회전하는 한쌍의 제2롤의 외주면에 세퍼레이터 슬러리가 제2분사기로부터 직접 공급되는 단계; 상기 세퍼레이터 슬러리가 상기 한쌍의 제2롤의 회전에 따라 건조수단에 의하여 연속적으로 건조되어 세퍼레이터 필름이 형성되는 단계; 및 상기 세퍼레이터 필름이 상기 한쌍의 제2롤의 회전에 따라 상기 전극판과 연속적으로 열압착되는 단계;를 포함하는 리튬이온 폴리머 전지의 극판제조방법이 개시된다.
Patent KR-100320677-B1 (KR)
Title: 사이리스터 소자의 제조방법
IPC: H01L21/328
Filed: 1999-06-15
Granted: 2002-01-17
Abstract: 본 발명에서 제안된 사이리스터 소자의 제조방법을 개시한다. 이에 의하면, P형 베이스영역에 확산계수가 작은 불순물을 이온주입하고, P+형 소자격리영역에 확산계수가 큰 불순물을 데포지션(deposition)한 후 이들을 동시에 확산하여 접합깊이가 깊은 P+형 소자격리영역과 접합깊이가 이보다 얕은 P형 베이스영역을 형성한다. 
     따라서, 본 발명은 소자격리영역의 형성을 위한 고온 확산공정에 소요되는 시간을 단축하여 생산성을 향상하고 아울러 반도체기판의 결함 발생을 줄여 소자의 특성을 향상할 수 있다.
Patent KR-100571692-B1 (KR)
IPC: B02C19/00
Filed: 1999-06-16
Granted: 2006-04-17
Abstract: 충돌부재의 수명이 길고, 유체의 매질 미립자화나 유화(乳化)처리를 효율적으로 할 수 있는 유체충돌장치를 제공한다. 
     챔버본체내의 충돌부재를 향하여 분사노즐로부터의 고압유체를 충돌시키는 유체충돌장치, 충돌부재는, 상기 챔버본체내에서, 고압유체의 분사축선으로부터 편심하여 회전할 수 있도록 지지된 경질구체로 되어 있다.
Patent KR-100325823-B1 (KR)
Title: 오일 펌프
IPC: F04C14/26
Filed: 1999-06-23
Granted: 2002-02-27
Abstract: 오일 펌프는 펌프 구성 요소, 펌프 몸체 그리고 구동 축으로 구성되어 있다.  펌프 구성요소는 로터와 상기 로터를 수납하는 캠 링사이의 펌프 챔버를 한정한다.  펌프 몸체는 전면 몸체와 후면 몸체로 구성되어 있다.  전면 몸체는 펌프 구성 요소를 수납하기 위한 수납 공간을 정의한다.  구동 축은 관통되게 연장되어 있으며, 로터를 회전 가능하게 구동하기 위해 전면 몸체에 의하여 축방향으로 지지된다.  환형 공간은 전면 몸체내의 구동 축 주변에 전면 몸체의 구동축을 회전 가능하게 구동하는 베어링과 펌프 구성요소의 펌프 챔버 사이에 형성되어 있다.  유량 제어 밸브는 환형 공간에 배치되어 펌프 챔버에서 펌프 흡입부로 송출 유체의 일부를 복귀시킨다.
Patent KR-100311846-B1 (KR)
Title: 신규 아크릴레이트계 살균제
IPC: A01N37/52
Filed: 1999-07-05
Granted: 2001-10-18
Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 신규 아크릴레이트계 화합물인 N-메틸 E-2-((2-메틸페닐)옥시메틸)-6-메틸페닐글리옥실아미드 O-메틸 옥심, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 농업용 살균제에 관한 것으로서,  본 발명의 화합물은 식물에 병을 일으키는 병원곰팡이에 대하여 기존의 살균제에 비해 저약량으로 강력한 살균 효과를 가질 뿐만 아니라 넓은 살균 스펙트럼을 갖고 있으며, 식물체내에 침투이행성이 뛰어나 치료 효과가 우수하고, 약해가 없어서 농업용 살균제로 유용하게 사용할 수 있으며, 저약량으로 강력한 살균효과를 나타내므로 환경친화적인 살균제로서 유용하게 사용될 수 있다.
Patent KR-100312735-B1 (KR)
Title: 칩 써미스터 및 이의 제조방법
IPC: H01C7/00
Filed: 1999-07-08
Granted: 2001-11-03
Abstract: 본 발명의 칩 써미스터는 한 쌍의 전극이 표면에 형성된 직사각의 판 형상의 써미스터 블록(block)을 제공함으로써 제조된다. 이 전극은 각각 써미스터 블록의 각 주면의 일부에 적어도 한 측면까지 연속적으로 연장하게 형성되어 있다. 이렇게 준비된 써미스터 블록은 그 후에 길이 방향에 대한 횡단 방향으로 절단되어, 복수개의 써미스터 소자를 얻게 된다. 따라서, 소정수의 써미스터 소자는 주면들이 상호 대향하게 정렬되어 적층된다. 두께 10㎛를 초과하는 글래스(glass) 등의 절연성 재료층은 상호 인접하게 적층된 써미스터 소자들 사이에 삽입된다. 적층체의 외면에는 외부전극이 형성되어, 정렬된 단면에서 적층된 써미스터 소자의 전극들에 전기적으로 접속된다.
Patent KR-100380773-B1 (KR)
Title: 비휘발성 반도체 메모리 장치 및 그 제조 방법
IPC: H01L21/8247
Filed: 1999-07-21
Granted: 2003-04-18
Abstract: 전기적으로 기입 및 소거 가능한 비휘발성 반도체 메모리 장치에 있어서, 기판 상에 적어도 제어 게이트 전극을 따라 배치되어 있는 소스 확산층은 그 한 부분에 이온 주입 각도보다 큰 각도를 갖는 경사 부분을 갖는다.  본 발명에 따르면, 상기 소스 확산층의 저항을 낮추기 위해서 소자 분리 기술이 사용된다.
Patent KR-100319365-B1 (KR)
Title: 위궤양의 예방 및 치료에 효과가 있는 생약 추출물 및 그 용도
IPC: A61K36/8968
Filed: 1999-07-23
Granted: 2002-01-09
Abstract: 본 발명은 위궤양 원인균인 헬리코박터 필로리에 대한 항균활성 및 헬리코박터 필로리( Helicobacter pylori ) 우레아제 활성억제 효과를 갖는 것을 특징으로 하는 생약 추출물과 그 용도에 관한 것으로서, 특히 소목을 열수추출하여 얻어진 열수추출물 또는 에탄올로 환류 또는 침적 추출한 용매 추출물을 포함하는 것을 특징으로 하는 생약 추출물이다.  본 발명에 따른 추출물은 위궤양 원인균인 헬리코박터 필로리( Helicobacter pylori )에 대한 항균활성 및 헬리코박터 필로리의 우레아제 활성 억제효과를 나타내므로써 위궤양 예방과 치료효과를 갖는다.
Patent KR-100626354-B1 (KR)
IPC: G06F11/22
Filed: 1999-07-27
Granted: 2006-09-20
Abstract: 여기에 개시된 컴퓨터 시스템의 디스크 복구 방법은, 디스크 정보를 저장하기 위한 특정 영역을 할당하는 단계, 할당된 영역에 상기 디스크 정보를 저장하는 단계, 그리고 디스크에 손상이 발생한 경우, 상기 할당된 영역에 저장되어 있는 디스크 정보를 디스크의 원래의 위치로 복구하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이와 같은 디스크 복구 방법은, 별도의 외부 저장 장치 또는 별도의 프로그램 없이 BIOS에 저장된 루틴에 의해 디스크 자체에서 수행된다.
Patent KR-100417522-B1 (KR)
Title: 용접장치
IPC: B23K9/127
Filed: 1999-08-14
Granted: 2004-02-05
Abstract: 구조의 간단화 및 제작코스트의 저감을 도모할 수 있음과 동시에, 고정밀도로 안정하게 다점용접을 행할 수 있는 용접장치를 제공하는 것이다. 
     하전극부(5)와, 상전극부(6)와, 상전극부(6)의 용접전극가압 실린더 건(13)에 냉각수를 순환공급하는 냉각수순환유로(14)를 구비하고 있다. 또한, 냉각수순환유로(14)에 있어서 실린더 건(13)보다도 상류측에, 체크밸브(15)를 배설한다. 더욱이, 냉각수순환유로(14)에 있어서 실린더 건(13)보다도 하류측에, 부스터(16)를 배설하고, 부스터(16)로부터 실린더 건(13)을 경유하여 체크밸브(15)까지의 유로(14)내의 냉각수를 가압하여, 실린더 건(13)을 신장하여 용접한다.
Patent KR-100308548-B1 (KR)
Inventor: KIM WAN SOO
IPC: A01B43/00
Filed: 1999-09-13
Granted: 2001-09-24
Abstract: PURPOSE: A device for recovering waste vinyl is provided, thereby recovering waste vinyl labor effectively and storing it easily by highly compressing it. CONSTITUTION: The device for recovering waste vinyl comprises a shaft(1), a reel being combined with the shaft(1) using an outer motive power, and a frame(5) supporting the shaft, in which the reel consists of a circular plate typed fixing plate(2), a stumbling bundle being narrowly projected from the circular plate typed fixing plate(2), and a separating plate(4) passing through the fixing plate(2) and the stumbling bundle and removably combined with the shaft(1) to recover waste vinyl with rotation of the reel by an outer motive power.
Patent KR-100339416-B1 (KR)
Title: 칼럼 리던던시 회로를 구비한 비휘발성 강유전체 메모리 장치 및 그의 페일 어드레스 구제방법
IPC: G11C14/00
Filed: 1999-09-15
Granted: 2002-05-31
Abstract: 칼럼 어드레스에 페일이 발생했을 때 리드용 버스와 라이트용 버스를 공용할 수 있는 새로운 계층구조의 증폭기를 이용하여 효율적으로 칼럼 어드레스를 구제하기 위한 칼럼 리던던시 회로를 구비한 비휘발성 강유전체 메모리 장치 및 그의 페일 어드레스 구제방법을 제공하기 위한 것이다. 
     상기와 같은 목적을 달성하기 위한 칼럼 리던던시 회로를 구비한 비휘발성 강유전체 메모리 장치는 스플릿 구조의 워드라인들과 그에 수직한 비트라인들을 포함하는 셀 어레이를 갖는 메인셀 어레이 블록부와 칼럼 레퍼런스셀 어레이 블록부, 상기 메인셀 어레이 블록부와 동일하게 구성되고 칼럼 어드레스에 페일이 발생될 때 상기 메인셀 어레이 블록의 칼럼 어드레스를 대체하여 사용하기 위한 리던던시셀 어레이 블록부와, 데이터의 리드와 라이트시 공통으로 사용되는 데이터버스를 이용하여 상기 메인셀 어레이 블록부의 비트라인 신호를 3단계에 걸쳐서 증폭시키기 위한 제 1, 제 2, 제 3 증폭부와, 상기 메인셀 어레이 블록부의 칼럼 어드레스에 페일이 발생되었을 때 상기 리던던시셀 어레이 블록부의 비트라인 신호를 증폭하는 리던던시 제 1 증폭부와, 데이터의 리드와 라이트시 공통으로 사용되며 상기 리던던시 제 1 증폭부의 출력신호를 인터페이스 하는 제 1 데이터 버스와, 상기 제 1 데이터 버스의 신호를 증폭하는 리던던시 제 2 증폭부와, 데이터의  리드와 라이트시 공통으로 사용되며 상기 리던던시 제 2 증폭부의 출력신호를 인터페이스 하는 제 2 데이터 버스와, 상기 제 2 데이터 버스의 신호를 증폭하는 리던던시 제 3 증폭부와, 상기 메인셀 어레이 블록의 칼럼 어드레스에 페일이 발생될 경우 상기 메인셀 어레이 블록의 페일 칼럼을 리던던시셀 어레이 블록의 칼럼으로 대체하여 구제하는 칼럼 리던던시 구동회로부와, 상기 구제된 칼럼 데이터를 입/출력 패드에 전달하기 위한 데이터 입/출력 버퍼부를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
Patent KR-100584722-B1 (KR)
IPC: B01D33/06
Filed: 1999-11-18
Granted: 2006-05-30
Abstract: 본 발명은 폐수의 슬러지 제거용 드럼필터장치에 관한 것으로 그 목적은, 페수의 슬러지를 제거하는 필터부재의 교체 및 보수작업을 용이토록 하는 데에 있다. 
     상기와 같은 목적을 달성하기 위한 기술적인 구성은, 저장조의 상측으로 회전 가능토록 설치되는 드럼(10) 및, 상기 드럼(10)의 외표면에 페수의 슬러지를 필터링 제거토록 장착되는 필터부재(20)를 포함하는 폐수의 슬러지 제거용 드럼필터장치(1)에 있어서,   상기 드럼(10)의 외주면(10a)에 장착되는 복수의 제 1 고정수단(30)과,   상기 제 1 고정수단(30)에 슬라이딩 고정되며, 내측으로 상기 필터부재(20)를 결합토록 몸체(42)와 상,하부 고정플레이트(44)(46)를 구비하여 세트화된 복수의 제 2 고정수단(40)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 
     이에 따라서, 필터부재가 세트화되어 드럼의 외측으로 배열 장착됨으로써, 드럼필터장치의 필터교환이 용이하면서도 그 설치구조는 견고하고, 결국 페수의 슬러지 제거를 위한 필터링 작업성이 향상되는 효과가 있는 것이다. 
       
     슬러지, 유기물 폐수, 드럼필터, 필터크로스, 슬러지 제거장치
Patent KR-100328528-B1 (KR)
Title: 유리절단가공기
IPC: C03B33/00
Filed: 1999-12-10
Granted: 2002-03-22
Abstract: 본 발명은 유리절단가공기에 관한 것으로, 유리(45)를 일정크기로 절단 또는 모따기하거나 특정부위에 천공 및 거친 절단면을 매끄럽게 마무리처리하는 등의 각종 유리절단가공작업을 해당 가공팁(41)(42)(43)만 교환장착시켜 편리하게 작업처리할 수 있도록 하고자, 작동스위치(15)의 온동작에 따른 상기 상하이동모터(20)의 구동에 따라 원동크랭크(22)와 종동크랭크(23)가 회전되면서 케이싱링크(24)를 통해 구동축케이싱(35)이 가이드롤러(34)(37)를 매개로 작동실(39)의 가이드레일(33) (36)을 따라 수직방향으로 왕복이동되는 동시에 상기 구동축케이싱(35) 내부에 회전가능하게 설치된 구동축(32)이 케이싱걸림턱(29)과 구동축걸림홈(40)의 끼움결합을 통해 상기 구동축케이싱(35)과 함께 일체로 왕복이동되며, 아울러 또다른 작동스위치(47)의 온동작에 따른 회전모터(26)의 구동에 따라 회전스핀들(28)을 매개로 조인트케이싱(30) 내부에 회전가능하게 설치된 스핀들케이싱(50)이 회전되면서 치합돌기(54)와 축돌기(52)의 끼움결합을 통해 상기 스핀들케이싱(50) 내부의 구동축 (32)이 함께 일체로 회전되도록 구성되어, 상하이동모터(20)와 회전모터(26)의 구동력에 의해 구동축(32)이 회전만되거나 또는 수직방향으로 왕복이동 및 회전되면서 해당작업에 맞게 구동축(32) 단부에 선택장착되는 가공팁(41)(42)(43)에 의해서 유리(45)를 절단 또는 천공 및 면취처리할 수 있도록 함을 특징으로 한다.
Patent KR-100337656-B1 (KR)
Title: 오피씨드럼과 오피씨드럼의 디엘씨코팅장치 및디엘씨코팅방법
IPC: C23C4/00
Filed: 1999-12-13
Granted: 2002-05-23
Abstract: 본 발명은 오피씨드럼에 경도와 내마모성이 강한 디엘씨코팅막을 형성하여 오피씨드럼의 수명을 획기적으로 증대시키는 동시에 잔류전위를 낮추지 않고 광투과도를 거의 저하시키지 않음으로써 복사성능이 떨어지지 않는 오피씨드럼과 오피씨드럼의 디엘씨코팅장치 및 디엘씨코팅방법에 관한 것으로서, 본 발명의 오피씨드럼은, 복사기, 레이저 프린터, 팩시밀리 등의 전자복사기기에 적용되는 오피씨드럼(Organic PhotoConductor Drum)을 구성함에 있어, 상기 오피씨드럼의 표면에 디엘씨(Diamond-Like Carbon)코팅막이 형성된 것을 특징으로 하고, 본 발명의 오피씨드럼의 디엘씨코팅장치는, 디엘씨코팅막의 증착속도를 향상시키기 위하여 자장형성수단을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하며, 본 발명의 오피씨드럼의 디엘씨코팅방법은, 화학기상증착설비에 오피씨드럼을 로딩하고, 설비 내부에 주가스와 보조가스를 공급하며, 설비 내부에 플라즈마를 발생시켜서 상기 오피씨드럼에 디엘씨코팅막을 코팅하고, 오피씨드럼을 설비 외부로 언로딩하는 단계들을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하기 때문에, 오피씨드럼의 수명을 획기적으로 증대시켜서 자원의 낭비를 방지하고, 유지비를 절감할 수 있게 하며, 디엘씨코팅막이 형성된 오피씨드럼의 잔류전위를 낮추고, 광투과도를 향상시켜서 양질의 복사를 가능하게 하며, 생산성을 증대시킬 수 있게 하는 효과를 갖는다.
Patent KR-100341622-B1 (KR)
Title: 차동 차지펌프를 이용한 위상동기루프의 필터부
IPC: H03L7/083
Filed: 1999-12-17
Granted: 2002-06-22
Abstract: 본 발명은 차동 차지펌프의 전류를 가변함으로써 영점을 조정하고 시스템의 주파수 대역폭을 가변할 수 있도록 구조를 개선한 차동 차지펌프를 이용한 위상동기루프(Phase Locked Loop : PLL)의 필터부에 관한 것으로서, 
     디지털 주파수의 위상을 비교하는 위상비교기에 출력되는 업/다운(UP/DOWN) 신호를 받아서 부하에 일정한 전류를 공급하거나 흡수하는 차지펌프(charge pump)와, 상기 차지펌프에 연결되어 특정대역의 주파수를 통과시키는 루프필터를 포함하되; 상기 차지펌프는 위상비교기의 업/다운신호 입력에 따라서 I1 만큼의 전류를 부하에 공급하거나 흡수하는 주 차지펌프와, 상기 위상비교기의 업/다운신호를 인버터를 통해 입력받아 주 차지펌프와 반대로 업/다운신호가 인가되었을 때 전류를 흡수하거나 방출하는 보조 차지펌프를 구비하고; 상기 루프필터는 저항과 제1 커패시터가 직렬로 연결되어 이루어지되, 상기 주 차지펌프의 출력단에 저항의 일단이 연결되고, 보조 차지펌프의 출력단은 저항과 제1 커패시터의 공통노드에 연결된 것을 특징으로 한다.
Patent KR-100352238-B1 (KR)
Title: 제어국 관리 시스템의 메시지 동적 버퍼링 방법
IPC: H04B7/26
Filed: 1999-12-23
Granted: 2002-09-12
Abstract: 본 발명은 CDMA 이동통신 시스템의 제어국 관리 시스템(BSM)에서 기지국과 제어국으로부터 전송받은 메시지를 동적으로 버퍼링하여 메시지 유실을 방지하기 위한 방법을 제공하기 위한 것으로, 이러한 본 발명은 BSM이 기지국이나 제어국으로부터 많은 이벤트(event) 메시지를 보고받았을 때 이들 메시지를 쓰레드가 동적 메모리를 할당받아 저장하고, 그 동적 메모리를 동적 버퍼에 연결하며, 상태/장애 처리 프로세스는 이 동적 버퍼로부터 메시지를 가져와 처리한 후 그 메시지가 저장되었던 동적 메모리를 해제시킴으로써, 메시지 처리 속도가 메시지 유입 속도를 따르지 못해 메시지가 유실되는 것을 방지할 수 있도록 한다.
Patent KR-100258749-B1 (KR)
Title: Process for the preparation of organic luminescentdevices using novel beryllium complex
Inventor: SON SE HWAN
IPC: C07F3/00
Filed: 1999-12-27
Granted: 2000-05-15
Abstract: PURPOSE: Provided is a method for manufacturing an organic luminous element using beryllium complex compound. The organic luminous element can be operated by low voltage and improves its efficiency. CONSTITUTION: Beryllium complex compound is represented by the formula (1) wherein, R1-R8 are same or different each other, individually represent hydrogen atom, alkoxy group, aryl group, carbonyl group, aromatic group, low hydrocarbon group of C1-5 and nitrile group. The compound of the formula (1) is prepared by reacting halogenated beryllium of the formula (2). The organic luminous element is manufactured by the steps of: vacuum depositing injections on the glass plate coated with conductive clear electrode to form injection layer; vacuum depositing luminous thin film containing the compound of the formula (1) to form luminous layer; and forming metallic electrode thereon.
Patent KR-100348208-B1 (KR)
Title: 팔라듐 흡착성 침윤수지의 제조 및 그 적용방법
IPC: B01J20/26
Filed: 1999-12-29
Granted: 2002-08-09
Abstract: 본 발명은 새로운 팔라듐 흡착성 침윤수지, 그 제조방법 및 그것을 사용하여 팔라듐을 회수하는 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 하기 화학식 1로 표시되는 벤즈이미다졸 또는 하기 화학식 2로 표시되는 이미다졸을 포함하는 헤테로고리형 아민이 고분자 수지 중합체 세공 내로 침윤된 형태의 팔라듐 흡착성 침윤수지, 헤테로고리형 아민을 고분자 수지 중합체 세공 내로 침윤시킨 후 헤테로고리형 아민의 질소 원자를 알킬화하여 팔라듐 흡착성 침윤수지를 제조하는 방법 및 산 용액으로 용출된 팔라듐을 선택적으로 회수하는데 있어서 상기 팔라듐 흡착성 침윤수지를 산 용액으로 포화시켜 할로겐 음이온과의 염 형태인 침윤수지를 산염 형태의 침윤수지로 바꾼 후 팔라듐을 흡착시키고 팔라듐이 흡착된 팔라듐 흡착성 침윤수지를 착화제를 포함하는 산 용액에 넣어 팔라듐을 탈착시킴으로써 팔라듐을 회수하는 방법에 관한 것으로, 본 발명에 의한 팔라듐 흡착성 침윤수지는 팔라듐에 대한 흡착성 및 선택성이 향상되었고 빠른 속도로 팔라듐을 흡착 및 탈착시키므로 산 용액으로 용출된 팔라듐을 고수율로 회수할 수 있으며 종래의 방법에 비하여 반응 단계가 줄어들었고 수율도 높을 뿐만 아니라 제조 단가도 낮아진 장점이 있다. 
     
       
         
       
     
     
       
         
       
     
     상기 화학식 1 및 화학식 2에서, X 는 할로겐 원소, NO 3   - 을 포함하는 음이온을 나타내고 R은 C 1 ∼C 10 의 알킬기를 나타낸다.