Patent ES-2632610-T3 (ES)
Title: Compuestos de dimetilciclobutilo sustituidos, su preparación y uso en medicamentos
Inventor: CUBERES ALTISEN MARÍA ROSA
IPC: C07C69/74
Filed: 2007-08-03
Granted: 2017-09-14
Abstract: Un compuesto de dimetilciclobutilo sustituido de fórmula general I,**Fórmula** en la que m es 1, ó 2; n es 0, ó 1; X e Y son diferentes; X representa un resto -OR5 o un resto -NR6R7; o un radical (hetero)cicloalifático seleccionado del grupo que consiste en pirrolidinilo, piperidinilo, morfolinilo, tiomorfolinilo, piperazinilo, pirazolidinilo, indolinilo, isoindolinilo, (1,2,3,4)-tetrahidroquinolinilo y (1,2,3,4)-tetrahidroisoquinolinilo, que puede estar no sustituido u opcionalmente sustituido con 1, 2, 3, 4 ó 5 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en oxo (>= O), tioxo (>= S), metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, terc-butilo, sec-butilo, isobutilo, n-pentilo, -O-CH3, -O-C2H5, F, Cl, Br, I, -CN, -CF3, -OH,-SH y -NH2; Y representa un resto -OR8; un resto -NR9R10; un resto -C(>=O)-OR11; o un radical (hetero)cicloalifático seleccionado del grupo que consiste en pirrolidinilo, piperidinilo, morfolinilo, tiomorfolinilo, piperazinilo, pirazolidinilo, indolinilo, isoindolinilo, (1,2,3,4)-tetrahidroquinolinilo y (1,2,3,4)-tetrahidroisoquinolinilo, que puede estar no sustituido u opcionalmente sustituido con 1, 2, 3, 4 ó 5 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, terc-butilo, sec-butilo, isobutilo, n-pentilo, -O-CH3, -O-C2H5, F, Cl, Br, I, -CN, -CF3, -OH, -SH y -NH2; R1 representa un átomo de hidrógeno o un radical seleccionado del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, terc-butilo y n-pentilo; R2 representa un átomo de hidrógeno; un radical seleccionado del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, terc-butilo y n-pentilo; o un radical arilo seleccionado del grupo que consiste en fenilo y naftilo, que puede estar no sustituido u opcionalmente sustituido con 1, 2, 3, 4 ó 5 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, terc-butilo, sec-butilo, isobutilo, n-pentilo, -O-CH3, -O-C2H5, -S-CH3, -S-C2H5, -C(>=O)-OH, -C(>=O)-O-CH3, -C(>=O)-O-C2H5, - C(>=O)-CH3, -C(>=O)-C2H5, F, Cl, Br, I, -CN, -CF3, -OCF3, -SCF3, -OH, -SH, -NH2, -NO2, -CHO, -CF2H y -CFH2; R3 y R4 representan ambos un átomo de hidrógeno; R5 y R8, independientemente entre sí, representan cada uno un átomo de hidrógeno; un radical seleccionado del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, terc-butilo y n-pentilo; un radical arilo seleccionado del grupo que consiste en fenilo y naftilo, que puede estar unido mediante un grupo - (CH2)1, 2 ó 3 y que puede estar no sustituido u opcionalmente sustituido con 1, 2, 3, 4 ó 5 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, terc-butilo, sec-butilo, isobutilo, n-pentilo, -O-CH3, -O-C2H5, -S-CH3, -S-C2H5, -C(>=O)-OH, -C(>=O)-O-CH3, -C(>=O)-O-C2H5, - C(>=O)-CH3, -C(>=O)-C2H5, F, Cl, Br, I, -CN, -CF3, -OCF3, -SCF3, -OH, -SH, -NH2, -NO2, -CHO, -CF2H, -CFH2 y - S(>=O)2-CH3 o un resto -C(>=O)-R12; con la condición de que si R5 representa hidrógeno y m es 1, R1 representa un radical seleccionado del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, terc-butilo y n-pentilo; y R2 representa un radical seleccionado del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, terc-butilo y n-pentilo; o un radical arilo seleccionado del grupo que consiste en fenilo y naftilo, que puede estar no sustituido u opcionalmente sustituido con 1, 2, 3, 4 ó 5 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, terc-butilo, sec-butilo, isobutilo, n-pentilo, -O-CH3, -O-C2H5 -S-CH3, -S-C2H5, -C(>=O)-OH, -C(>=O)-O-CH3, -C(>=O)-O-C2H5, -C(>=O)-CH3, - C(>=O)-C2H5, F, Cl, Br, I, -CN, -CF3,-OCF3, -SCF3, -OH, -SH, -NH2, -NO2, -CHO, -CF2H y -CFH2; R6, R7, R9 y R10, independientemente entre sí, representan cada uno un radical seleccionado del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, terc-butilo y n-pentilo;o un radical arilo seleccionado del grupo que consiste en fenilo y naftilo, que puede estar unido mediante un grupo -(CH2)1,2 o 3 y que puede estar no sustituido u opcionalmente sustituido con 1, 2, 3, 4 ó 5 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, terc-butilo, sec-butilo, isobutilo, -O-CH3, -O-C2H5, -S-CH3, -S-C2H5, -C(>=O)-OH, -C(>=O)-O-CH3, -C(>=O)-O-C2H5, -C(>=O)-CH3, -C(>=O)-C2H5, F, Cl, Br, I, -CN, -CF3, -OCF3, -SCF3, -OH, -SH,-NH2, -NO2, -CHO, -CF2H, -CFH2,-C(>=O)-NH2 y -S(>=O)2-CH3; o R6 y R7, junto con el átomo de nitrógeno puente forman un resto seleccionado del grupo que consiste en**Fórmula** que puede estar no sustituido u opcionalmente sustituido en cualquier posición incluyendo los grupos -NH con 1, 2, 3, 4 ó 5 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en oxo (>=O), metilo, etilo, npropilo, isopropilo, n-butilo, terc-butilo, sec-butilo, -O-CH3, -O-C2H5, -S-CH3, -S-C2H5, -C(>=O)-OH, -C(>=O)-O-CH3, - C(>=O)-O-C2H5, -C(>=O)-O-CH2-CH2-CH3, -C(>=O)-O-CH(CH3)2, -C(>=O)-O-C(CH3)3, -C(>=O)-CH3, -C(>=O)-C2H5, -C(>=O)- CH2-CH2-CH3, -C(>=O)-CH(CH3)2, -C(>=O)-C(CH3)3, F, Cl, Br, I, -CN, -CF3, -OCF3, -SCF3, -OH, -SH, -NH2, -NO2, - CHO, -CF2H, -CFH2, -C(>=O)-NH2, -C(>=O)-NH-CH3, -C(>=O)-NH-C2H5, -C(>=O)-N(CH3)2, -C(>=O)-N(C2H5)2, -S(>=O)2- CH3, fenilo, fenetilo y bencilo, mediante lo cual dichos sustituyentes cíclicos pueden estar no sustituidos o sustituidos con 1, 2 ó 3 sustituyente(s) seleccionado(s) independientemente del grupo que consiste en metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, metoxi, etoxi, F, Cl, Br, -CN, -CF3, -OCF3, -SCF3, -OH, -SH, -NH2 y -NO2; o R9 y R10 junto con el átomo de nitrógeno puente forman un resto seleccionado del grupo que consiste en**Fórmula**