Patent ES-2904945-T3 (ES)
Title: Método y sistema de identificación de un implante dental para un sitio de implante optimizado
Inventor: MANES FEDERICO
IPC: A61C8/00
Filed: 2018-02-15
Granted: 2022-04-06
Abstract: Método implementado por ordenador para identificar, en un paciente, al menos un implante dental (MI) para un sitio de implante (SI), que comprende los pasos de: (f1) simular gráficamente a través de tomografía computarizada (TAC) la anatomía de una prótesis dental (PD) prevista, un respectivo sitio edéntulo (LR) correspondiente a un diente identificado (Tn) y un hueso maxilar (OM), en donde dicha prótesis dental (PD) prevista es acoplable a un implante dental (ID) insertable en el hueso maxilar (OM) (f2) calcular un eje protésico ideal (PI) para dicha prótesis dental (PD) prevista basándose en dicha tomografía computarizada (TAC), en donde dicho eje protésico ideal (PI) es un eje que cruza un punto ideal de la prótesis dental prevista (PD) en función del tipo de diente (Tn) considerado; (f3) calcular una primera distancia cervical (CT) y una primera distancia apical (ET) de dicho hueso maxilar (OM) en dicho sitio edéntulo (LR) basándose en dicha tomografía computarizada (TAC), en donde las distancias se calculan en una primera dirección relativa a dicho hueso maxilar (OM), en donde dicha primera distancia cervical (CT) se detecta en una primera porción cervical (q1) con respecto a una porción de referencia; (f4) calcular una segunda distancia cervical (CW) y una segunda distancia apical (EW) de dicho hueso maxilar (OM) en dicho sitio edéntulo (LR) basándose en dicha tomografía computarizada (TAC), en donde las distancias se calculan en una segunda dirección relativa al hueso maxilar OM; (f5) calcular un eje quirúrgico ideal (CI) sobre dicho hueso maxilar (OM) como un eje que pasa por dos puntos, un primer punto (Cx) obtenido como una intersección entre segmentos representativos de las distancias cervicales (CT, CW), y un segundo punto (Ex) obtenido como una intersección entre segmentos representativos de las distancias apicales (ET, EW), en donde dicho eje quirúrgico ideal (CI) es un eje configurado para llevar a cabo una reducción ideal a la mitad de la cantidad ósea del hueso maxilar (OM) en el sitio edéntulo (LR), en donde el eje protésico ideal (PI) y el eje quirúrgico ideal (CI) determinan un sistema de referencia (REF_ID) para dicho implante dental (ID), en donde dicho eje protésico ideal (PI) y dicho eje quirúrgico ideal (CI) están desplazados por un ángulo de desviación (α); (f6) calcular la altura ósea (HR) de dicho hueso maxilar (OM) como una distancia en dicho eje quirúrgico ideal (CI) entre dicha primera distancia cervical (CT) y dicha primera distancia apical (ET), en donde dicha altura ósea ( HR) es representativa de la disponibilidad ósea de dicho hueso maxilar (OM) en dicho sitio edéntulo (LR); (f7) mover dicho eje quirúrgico ideal (CI) para determinar un eje de compromiso quirúrgico (CI_i;i=1..n) correspondiente a un ángulo de desviación variable (αi; i=1..n) con respecto a dicho ideal eje protésico (PI); (f8) simular un sitio de implante optimizado (SI) en dicho hueso maxilar (OM), en donde dicho sitio de implante optimizado (SI) tiene una forma volumétrica (VSI) al menos parcialmente cilíndrica inscrita en un volumen circunscrito (V) previsto, llevándose a cabo dicha simulación al menos en función de: - dicho diente identificado (Tn); - una mencionada primera distancia cervical (CTi) y una mencionada primera distancia apical (ETi); - una mencionada segunda distancia cervical (CWi) y una mencionada segunda distancia apical (EWi); - una mencionada primera altura ósea (HRi); - dicho ángulo de desviación variable (αi); en donde el sitio de implante optimizado (SI) se simula adicionalmente en función de los primeros parámetros representativos (PSI) del mismo, que comprenden al menos: - un diámetro (DTi) de dicha forma volumétrica (VSI) al menos parcialmente cilíndrica; - una altura (LIi) de dicha forma volumétrica (VSI) al menos parcialmente cilíndrica; en donde dichos primeros parámetros representativos (PSI) tienen valores variables en función de dicho ángulo de desviación variable (αi); (f9) proporcionar una base de datos (BD_IE) que comprende unos segundos parámetros representativos (PIE) de implantes dentales (IE) existentes; (f10) comparar dichos primeros parámetros representativos (PSI) con dichos segundos parámetros representativos (PIE); (f11) identificar uno o más implantes dentales (Mli) para dicho sitio de implante optimizado (SI) en función de la comparación entre dichos primeros parámetros representativos (PSI) y dichos segundos parámetros representativos (PIE), en donde: - en dicho paso (f8) de simulación de dicho sitio de implante (SI), dichos primeros parámetros representativos (PSI) comprenden adicionalmente: - uno o más valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, RDO) de dicho sitio de implante optimizado (SI) definido en función de una comparación entre dichos primeros parámetros representativos (PSI) y dichos valores umbral de referencia; en donde dicho sitio de implante (SI) se identifica con una calificación (R) definida como una función combinada de dichos valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, RDO), en donde dicho paso (f11) identifica uno o más implantes dentales óptimos (BMIi) en función de la comparación entre los primeros parámetros representativos (PSI) y los segundos parámetros representativos (PIE) cuando se minimiza la calificación (R), en donde dichos primeros parámetros representativos (PSI) y dichos segundos parámetros representativos (PIE) comprenden respectivamente dicho diámetro (DTi) de dicha forma volumétrica (VSI) al menos parcialmente cilíndrica y dicho diámetro de implante (EDTi) para el implante existente (IE).