Patent AR-078381-A1 (AR)
Title: Compuestos de benceno- carboxamida, metodo para su sintesis y uso de los mismos en medicina y tambien en cosmetica
Inventor: CHAMBON SANDRINE
Filed: 2010-09-16
Abstract: Su uso en composiciones farmacéuticas utiles para utilizar en medicina humana o en veterinaria o también para su uso en composiciones cosméticas. Reivindicacion 1: Compuesto de formula general (1) en la cual R1 representa un hidrogeno, un radical alquilo C1-10, un radical alquilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical alquenilo C2-10, un radical alquenilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical alquinilo C2-10, un radical alquinilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical aralquilo, un radical aralquilo sustituido, un radical heteroaralquilo, un radical heteroaralquilo sustituido por uno o más grupos de átomos seleccionados entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, un halogeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro, un radical -C(O)-R4, un radical -SO2-R4, o un radical C(O)OR4, donde R4 tiene los significados dados más adelante; R2 es un átomo de hidrogeno o un radical alquilo inferior C1-4; R3 es un radical alquilo C1-10, un radical alquilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical alquenilo C2-10, un radical alquenilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical alquinilo C2-10, un radical alquinilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical arilo, un radical arilo sustituido por uno o más grupos de átomos seleccionados entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, un halogeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro, un radical aralquilo, un radical aralquilo sustituido, un radical heterocíclico, un radical heterocíclico sustituido por uno o más grupos de átomos seleccionados entre un aIquilo, un alcoxi, un halogeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro, un radical cicloalquilo, un radical cicloalquilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical heteroarilo, un radical heteroarilo sustituido por uno o más grupos de átomos seleccionados, por ejemplo, entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, un arilo sustituido, un halogeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro, un radical heteroaralquilo, un radical heteroaralquilo sustituido por uno o más grupos de átomos seleccionados entre un alquilo, un alcoxi, un halogeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro, R4 es un radical alquilo C1-10, un radical alquilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical alquenilo C2-10, un radical alquenilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical alquinilo C2-10, un radical alquinilo sustituido por uno o más radicales seleccionados entre un átomo de halogeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical arilo, un radical arilo sustituido por uno o más grupos de átomos seleccionados entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, un halogeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro, un radical aralquilo o un radical aralquilo sustituido; n puede tomar los valores 0, 1, 2 o 3; y también las sales de adicion de los compuestos de formula general (1) con un ácido farmacéuticamente aceptable, las sales de adicion de los compuestos de formula general (1) con una base farmacéuticamente aceptable, y los enantiomeros de los compuestos de formula general (1).