Patent PL-175685-B1 (PL)
Inventor: NAZIMOK VLADIMIR FILIPPOVICH
IPC: C07C63/26
Filed: 1993-11-30
Abstract: 1 1. Sposób wytwarzania wysoce oczyszczonych izomerów kwasów benzenodwukarboksylowych bez stosowania dodatkowego etapu oczyszczania katalityczno-redukcyjnego, w którym prowadzi sie: (a) etap pierwszego utleniania, w którym izomer ksylenu utlenia sie tlenem czasteczkowym albo gazem zawierajacym tlen czasteczkowy wobec ukladu katalitycznego stanowiacego kompozycje kobaltu, manganu, bromu i co najmniej jednego z metali wybranych sposród niklu, chromu, cyrkonu i ceru, w nizszym alifatycznym kwasie karboksylowym w temperaturze 150 - 230°C przez 20 - 60 min; (b) etap drugiego utleniania, w którym produkt wytworzony w etapie pierwszego utleniania, jest dodatkowo utleniany wobec wspomnianego ukladu katalitycznego w temperaturze 150 - 230°C przez 20 - 60 min; i (c) etap ekstrakcji/utleniania wtórnego, w którym krystalizuje sie produkt wytworzony w etapie drugiego utleniania, otrzymuje osad surowego izomeru kwasu benzenodwukarboksylowego, z osadu tego sporzadza sie zawiesine p r zez dodanie nizszego alifatycznego kwasu karboksylowego i uzyskana zawiesine ogrzewa sie do temperatury 200 - 280°C przez 5 - 60 min w celu wyekstrahowania zanieczyszczen zawartych w osadzie do rozpuszczalnika, po czym zawiesine te utlenia sie wobec wymienionego powyzej ukladu katalitycznego w temperaturze od 2 C do 80°C nizszej od temperatury ogrzewania, znam ienny tym, ze w uk lad zie........................ 7. Sposób wytwarzania wysoce oczyszczonych izomerów kwasów benzenodwukarboksylowych bez dodatkowego etapu oczyszczania katalityczno-redukcyjnego, w którym prowadzi sie: (a) etap pierwszego utleniania, w którym izomer ksylenu utlenia sie tlenem czasteczkowym albo gazem zawierajacym tlen czasteczkowy wobec ukladu katalitycznego stanowiacego kompozycje kobaltu, manganu, bromu i co najmniej .............................. (b) etap drugiego utleniania, w którym produkt wytworzony w etapie pierwszego utleniania jest dodatkowo utleniany wobec wspomnianego ukladu katalitycznego w temperaturze od 150 - 230 C przez 20 - 60 minut; (c) etap pierwszej ekstrakcji/utleniania wtórnego, w którym krystalizuje sie produkt wytworzony w etapie utleniania, uzyskujac osad surowego izomeru kwasu benzenodwukarboksylowego, z osadu tego sporzadza sie zawiesine przez d o d a n ie.............. (d) etap drugiej ekstrakcji/utleniania wtórnego, w którym produkt wytworzony w etapie pierwszej ekstrakcji/utleniania wtórnego krystalizuje sie uzyskujac osad surowego izomeru kwasu benzenodwukarboksylowego, z osadu sporzadza sie zawiesine przez dodanie nizszego alifatycznego kwasu karboksylowego i uzyskana zawiesine ogrzewa sie do temperatury 200 - 280°C przez 5-60 minut w celu wyekstrahowania zanieczyszczen zawartych w osadzie do rozpuszczalnika, i zawiesine te utlenia sie wobec wymienionego ukladu katalitycznego w temperaturze od 2°C do 80°C nizszej od temperatury ogrzewania, znamienny tyra, ze w ukladzie ..................... 13. Sposób wytwarzania wysoce oczyszczonych izomerów kwasów benzenodwukarboksylowych bez dodatkowego etapu oczyszczania katalityczno redukcyjnego, w którym prowadzi sie: (a) etap pierwszego utleniania, w którym izomer ksylenu utlenia sie tlenem czasteczkowym albo gazem zawierajacym tlen czasteczkowy wobec ukladu katalitycznego stanowiacego kompozycje kobaltu, manganu, bromu i co najmniej jednego z metali wybranych sposród niklu, chromu, cyrkonu i ceru, w nizszym alifatycznym kwasie karboksylowym w tem peraturze 150 - 230°C przez 20 - 60 minut; (b) etap pierwszej ekstrakcji/utleniania wtórnego, w którym krystalizuje sie produkt uzyskany z utleniania, wytwarzajac osad surowego izomeru kwasu benzenodwukarboksylowego, z osadu tego sporzadza sie zawiesine przez dodanie nizszego alifatycznego kwasu karboksylowego i uzyskana zawiesine ogrzewa sie do temperatury 200 - 280 C.............................................................................. PL PL PL PL