Patent DE-10221847-B4 (DE)
Title: Filmbildungsvorrichtung mit einem Substratdrehmechanismus
Inventor: KOMENO JUNJI
IPC: H01L21/3065
Filed: 2002-05-16
Granted: 2019-10-10
Abstract: Filmbildungsvorrichtung mit einem Substratdrehmechanismus, umfassend:- einen Aufnehmer (30), der die Form einer kreisförmigen Scheibe hat und am Außenumfang mit einem Umlauf-Eingabeabschnitt (31) versehen ist;- eine Grundplatte (6), die unter dem Aufnehmer (30) angeordnet ist und den Aufnehmer (30) drehbar hält;- einen ersten Drehmechanismus, der wenigstens einen umlauferzeugenden Abschnitt (5) enthält, wobei der umlauferzeugende Abschnitt (5) den Aufnehmer (30) am Außenumfang des Aufnehmers (30) durch die Übertragung einer Drehkraft auf den Umlauf-Eingabeabschnitt (31) dreht;- eine Mehrzahl von Substrateinsatz-Halteabschnitten (23), die auf einem Umkreis um eine Drehachse (C1) des Aufnehmers (30) angeordnet sind;- eine Mehrzahl von ringförmigen Substrateinsätzen (20), die am Außenumfang mit einem Dreh-Eingabeabschnitt (21) versehen sind und in den entsprechenden Substrateinsatz-Halteabschnitten (23) drehbar gelagert sind;- einen zweiten Drehmechanismus, der einen drehungserzeugenden Abschnitt (4) enthält, wobei der drehungserzeugende Abschnitt (4) die Substrateinsätze (20) durch die Übertragung einer Drehkraft auf jeden Dreh-Eingabeabschnitt (21) dreht; und- eine Mehrzahl von Substraten (W), die in den entsprechenden Substrateinsätzen (20) gehalten sind, wobei die Substrate (W) durch die Drehung des Aufnehmers (30) in Umlauf versetzt werden und durch die Drehung der Substrateinsätze (20) gedreht werden, um einen bestimmten Filmbildungsprozess anzuwenden;dadurch gekennzeichnet,dass der erste Drehmechanismus (1) den Aufnehmer (30) über ein Lager (B1) drehbar hält, das zwischen Lagernuten (32, 62) gelagert ist, die jeweils am Aufnehmer (30) und der Grundplatte (6) vorgesehen sind, und dass der zweite Drehmechanismus (2) die Substrateinsätze (20) über ein Lager (B2) drehbar hält, das zwischen Lagernuten (23, 33) gelagert ist, die jeweils an den Substrateinsätzen (20) und dem Aufnehmer (30) vorgesehen sind;wobei bei dem ersten Drehmechanismus (1) die Lagernut (32) des Aufnehmers (30) und die Lagernut (62) der Grundplatte (6) jeweils mit einer horizontalen und einer vertikalen Planfläche versehen sind, wobei die Lagernut (32) des Aufnehmers (30) das Lager (B1) an einem oberen Lagerabschnitt (3a) und einem radial auf die Drehachse (C1) bezogenen äußeren Lagerabschnitt (3b) lagert, wobei der obere und der äußere Lagerabschnitt (3a, 3b) über dem Lager (B1) angeordnet sind und in den horizontalen und vertikalen Planflächen vorgesehen sind, unddie Lagernut (62) der Grundplatte (6) das Lager (B1) an einem unteren Lagerabschnitt (6a) und einem bezogen auf die Drehachse (C1) gegenüber dem äußeren Lagerabschnitt (3b) radial nach innen versetzten inneren Lagerabschnitt (6b) lagert, wobei der untere und der innere Lagerabschnitt (6a, 6b) unter dem Lager (B1) angeordnet sind und in den horizontalen und vertikalen Planflächen vorgesehen sind, undwobei der obere Lagerabschnitt (3a) und der untere Lagerabschnitt (6a) an der obersten Position und der untersten Position des Lagers (B1) angeordnet sind und der äußere Lagerabschnitt (3b) und der innere Lagerabschnitt (6b) in der horizontalen Richtung an beiden Enden des Lagers angeordnet sind.