Patent ES-2442624-T3 (ES)
Title: Compuestos de N-[2-hidroxicarbamoil-2-(piperazinil)etil]benzamida, su preparación y su uso como inhibidores de TACE
Inventor: CHAMBON SANDRINE
IPC: A61K31/495
Filed: 2010-09-16
Granted: 2014-02-12
Abstract: Compuesto de fórmula general (I) dada a continuación: en la que: R1 representa un hidrógeno; un radical alquilo que comprende de 1 a 10 átomos de carbono; un radical alquilosustituido con uno o más radicales seleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radicalhidroxilo; un radical alquenilo que comprende de 2 a 10 átomos de carbono; un radical alquenilo sustituido con unoo más radicales seleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo; un radicalalquinilo que comprende de 2 a 10 átomos de carbono; un radical alquinilo sustituido con uno o más radicalesseleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical aralquilo, unradical aralquilo sustituido; un radical heteroaralquilo; un radical heteroaralquilo sustituido con uno o más gruposde átomos seleccionados de entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, un halógeno, un hidroxilo, un ciano, untrifluorometilo y un nitro; un radical -C(O)-R4; un radical -SO2-R4 o un radical C(O)OR4, teniendo R4 los significadosque se dan a continuación; R2 es un átomo de hidrógeno o un radical alquilo inferior que comprende de 1 a 4 átomos de carbono; R3 es un radical alquilo que comprende de 1 a 10 átomos de carbono; un radical alquilo sustituido con uno o másradicales seleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo; un radical alquenilo que comprende de 2 a 10 átomos de carbono; un radical alquenilo sustituido con uno o másradicales seleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo; un radical alquiniloque comprende de 2 a 10 átomos de carbono; un radical alquinilo sustituido con uno o más radicalesseleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical arilo; un radicalarilo sustituido con uno o más grupos de átomos seleccionados de entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, unhalógeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro; un radical aralquilo, un radical aralquilo sustituido; unradical heterocíclico; un radical heterocíclico sustituido con uno o más grupos de átomos seleccionados de entreun alquilo, un alcoxi, un halógeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro; un radical cicloalquilo; unradical cicloalquilo sustituido con uno o más radicales seleccionados de entre un átomo de halógeno, un radicalalcoxi y un radical hidroxilo; un radical heteroarilo; un radical heteroarilo sustituido con uno o más grupos deátomos seleccionados, por ejemplo, de entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, un arilo sustituido, un halógeno, unhidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro; un radical heteroaralquilo; un radical heteroaralquilo sustituido conuno o más grupos de átomos seleccionados de entre un alquilo, un alcoxi, un halógeno, un hidroxilo, un ciano, untrifluorometilo y un nitro; R4 es un radical alquilo que comprende de 1 a 10 átomos de carbono; un radical alquilo sustituido con uno o másradicales seleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo; un radicalalquenilo que comprende de 2 a 10 átomos de carbono; un radical alquenilo sustituido con uno o más radicalesseleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo; un radical alquinilo que comprende de 2 a 10 átomos de carbono; un radical alquinilo sustituido con uno o másradicales seleccionados de entre un átomo de halógeno, un radical alcoxi y un radical hidroxilo, un radical arilo; unradical arilo sustituido con uno o más grupos de átomos seleccionados de entre un alquilo, un alcoxi, un arilo, unhalógeno, un hidroxilo, un ciano, un trifluorometilo y un nitro; un radical aralquilo o un radical aralquilo sustituido;n puede tomar los valores de 0, 1, 2 o 3; y también las sales de adición de los compuestos de fórmula general (I) con un ácido farmacéuticamenteaceptable, las sales de adición de los compuestos de la fórmula genera (I) con una base farmacéuticamenteaceptable y los enantiómeros de los compuestos de fórmula general (I).