baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent KR-100258819-B1 (KR)
Title: Chemical supply method
Inventor: JEON KWANG-SU
IPC: H01L21/20
Filed: 1997-11-24
Granted: 2000-06-15
Abstract: PURPOSE: A chemical supply method used in semiconductor wafer coating equipment is provided to consistently supply the chemical of suitable amount at suitable time and exclude the usage of a select valve to prevent a safety accident. CONSTITUTION: In a first decision step, it is decided whether the chemical amount within a first tank is greater the amount used in one time by the semiconductor wafer coating equipment or not. In a second decision step, it is decided whether the semiconductor wafer coating equipment is stopped or not. A first valve between the first tank and the semiconductor wafer coating equipment is closed and the semiconductor wafer coating equipment is operated if the first and second decision steps are satisfied. At the same time, a second valve between the semiconductor wafer coating equipment and a second tank is opened.
Patent KR-100517215-B1 (KR)
IPC: G03F7/20
Filed: 1997-11-25
Granted: 2005-12-06
Abstract: 본 발명은 반도체 제조용 포토리소그래피에 사용되는 조명 장치에 관한 것으로서, 상이한 조명 영역이 레티클상의 상이한 형상 패턴 영역과 정합되게 하는 어레이 광학소자를 지니는 조명 장치에 관한 것이다. 상기 어레이 광학소자로서는 필터, 회절 광학소자, 또는 마이크로렌즈 어레이가 사용될 수 있으며, 상기 어레이 광학소자의 조명 영역에 의해 특히 4중극(重極;quadrupole), 원형(annular), 또는 톱 해트(top hat)형과 같은 상이한 유형의 조명 성질 또는 특성이 얻어질 수 있다. 상기 조명 영역 각각은 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼의 노광을 최적화시키도록 레티클상의 각각의 패턴 영역에 정합 또는 대응된다. 본 발명의 광학소자는 특정 레티클의 독특한 특성을 종래의 조명 장치에 적응시키는 데 사용될 수 있다. 더욱이, 포토리소그래피 장치의 광학기기에서의 어떤 불완전성이 있더라도 상기 광학소자에 의해 보완될 수 있다. 이로 인해 품질이 개선되고 수율(收率)이 증가되면서 피처 크기(feature size)가 감소된 반도체소자의 제조가 용이하게 된다.
Patent KR-100465938-B1 (KR)
Inventor: JANG IL SEON
IPC: A61K8/97
Filed: 1997-11-25
Granted: 2005-07-07
Abstract: 본 발명은 밀착력과 지속력이 우수한 고형분말 화장료 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 의하면, 안료의 총 중량비를 줄이고, 에스테르계 오일, 실리콘계 오일 및 왁스를 포함한 바인더를 사용하여 모관역계(capillary state)를 형성하고, 5∼15℃ 온도로 급하강시키는 급속냉각법을 시행하여 성형시킴으로써, 고형분말 화장료의 피부도포 시에 나타나는 변색을 개선함과 동시에 피부밀착력과 화장의 지속력이 우수하여 사용감이 매트한 고형분말 화장료를 제조할 수 있다.
Patent KR-100262047-B1 (KR)
Inventor: YAMASHITA KYOICHI
IPC: A47G33/02
Filed: 1997-12-02
Granted: 2000-09-01
Abstract: 본 발명은 수납성의 개선과 제조 가격의 저감을 도모할 수 있고, 예배 시설로서의 품위 향상을 도모할 수 있으며, 입체 제단 장치의 제례용 용기 전시 장치를 제공하는 것이다. 
     제례용 용기(10)의 측면에 계명 등을 표시하는 표시부(14)를 형성하고, 제단부(40)에 제례용 용기(10)의 표시부(14)만을 노출시키는 표시창(31)을 형성함과 동시에, 표시창(31)의 하부에 제례용대 시트(44)를 형성하며, 표시창(31)으로부터 노출되는 제례용 용기(10)의 표시부(14)를 제례용대 시트(44)에 합체시켜 제례용 위패를 구성한다.
Patent KR-100253221-B1 (KR)
Title: Damper for washing machine
Inventor: JANG JAE WON
IPC: D06F37/24
Filed: 1997-12-16
Granted: 2000-05-01
Abstract: PURPOSE: A damper is provided to reduce vibration and noise by appropriately acting damping force according to a vibration characteristic at an initial driving of a dehydrating process and a steady state. CONSTITUTION: A damper of a full automatic washing machine comprises a cylindrical cap(11) having a sliding slot(11a) and an air inlet(11b); a snubber bar(12) inserted in the sliding slot(11a) to be slid; a moving member(13) combined with the snubber bar(12); a spring(14) installed inside the cap(11) to support the moving member(13); a flexible member(16) installed outside the moving member(13) and contained an upper and a lower openings(15,15'); and C typed ring springs(17) to stick the flexible member(16) to an inner wall of the cap(11) by inserting in the openings. In a transient state, a damping is performed with large force by vertically moving the flexible member(16) to be contacted with the cap(11) through the ring springs(17). In a steady state, the small damping force is acted by flexibly transforming the flexible member(16) without sliding friction force between the cap(11) and the flexible member(16).
Patent KR-100251973-B1 (KR)
Title: Latch structure for a flap door
Inventor: LEE YOUNG-SUK
IPC: E05B83/22
Filed: 1997-12-17
Granted: 2000-04-15
Abstract: PURPOSE: A latch structure for a flap door is provided which simplifies the latch structure used for a flap door of a bus and improves sealing effect. CONSTITUTION: A latch structure used for a flap door is constructed of a bracket body(2), a moving member(4), a hinge assembly(7), left and right operation plates(11,13), the second spring(21) and a top cover(27). The bracket body includes a recess inside and has a striker insertion part(1). The moving member is placed on the left wall inside the bracket body and moved by the first spring(3). The hinge assembly is located on the right wall inside the bracket body and connected with a key load to be turned to the left and right. The operation plates are placed above a plurality of bolt holes(9) set at the center of the inside of the bracket body to be turned to the left and right. The second spring revolves the operation plates to the left and right according to the elastic force of the spring. The top cover covers the bracket body.
Patent KR-100281640-B1 (KR)
Title: 내환경 평면형 광소자 부품의 패키지 구조
Filed: 1997-12-19
Granted: 2001-02-15
Abstract: 본 발명은 광부품의 패키징 및 접속기술에 있어서, 평명형 광도파로 소자와 광섬유 캐리어의 접속의 문제 뿐만 아니라 도파로 소자의 외부 환경에 대한 문제를 해결하기 위한 패키지 구조를 제시하고 있다. 본 발명은 평면형 광도파로 소자와 광섬유 캐리어 간의 안정된 접속을 위한 구조 및 광섬유가 접속된 평면형 광도파로 소자가 외부 케이스 안에서 외부 환경에 영향을 많이 받지 않고 안정되게 손실 특성을 유지하게 하는 구조이다. 평면형 광도파로 소자와 광섬유 캐리어의 안정된 접속을 위해서 소자에 커버 플레이트(Cover Plate)를 장착하고 에폭시로 접착한 후 크램프형 플라스틱 재질의 'ㄷ'자형 구조물로 양쪽의 광섬유 캐리어를 지지하도록 하고, 외부 케이스 내에서 평면형 광도파로 소자의 고정을 위해 상하에 각각 편형의 탄성을 갖도록 설계된 플라스틱 구조물로 소자를 잡아주어 외부 충격 등 환경에 의한 영향을 흡수할 수 있다.
Patent KR-100321376-B1 (KR)
Title: Pulse generator for improving energy transmission efficiency
Inventor: MOK YEONG SEON
IPC: H01T15/00
Filed: 1997-12-20
Granted: 2002-03-08
Abstract: PURPOSE: A pulse generator is provided to increase an efficiency of an energy transmission from the pulse generator to a reactor and improve an energy usage efficiency during removing air contamination. CONSTITUTION: A direct current high voltage supply device(10) provides an output voltage to a charge resistor(11), a pulse forming battery(13), and a resistor(15) to charge the pulse forming battery(13). A spark contact point(14) is installed at one side of the pulse forming battery(13). A coil(16) is connected to the other side of the pulse forming battery(13). A capacity of the pulse forming battery(13) is determined based on a geometrical capacity of a reactor(17). The spark contact point(14) is designed by a globular high density graphite. The capacity of the pulse forming battery(13) is 5 times of that geometrical capacity of a reactor.
Patent KR-100248158-B1 (KR)
Inventor: JUNG IN-CHEUL
IPC: H01L21/265
Filed: 1997-12-20
Granted: 2000-03-15
Abstract: 본 발명은 이온주입방향에 대하여 직선으로 작용하는 전·자기장을 형성하여 전·자기장에 접근하는 이온입자가 회전하면서 반도체 기판상의 도핑영역에 소정각도로 입사하여 이온주입되는 반도체의 얕은 접합 형성방법에 관한 것으로 종래의 이온 주입법은 10KeV 보다 낮은 에너지에서의 이온 주입시 에너지에 대한 조절이 어렵고 얕은접합 형성을 할 때 단결정체의 중심각이나 면에 따라 투사되는 이온입자의 주입깊이가 달라지는 채널링 현상을 최대한 억제하기 위해서는 투사되는 이온입자의 입사각도를 용이하게 조절하여야 하나 이를 조절하기가 어려운 문제점이 있었던바 본 발명은 반도체 기판의 이온 주입영역에 얕은 접합을 형성하기 위해서 이온 입자를 회전시켜 입사각을 임의로 조절가능토록하므로써 적절한 각도로 원하는 깊이만큼 이온 입자를 주입하여 채널링 현상을 방지하는 한편 이온 주입시의 에너지를 전·자기장의 세기로 조절하여 10KeV 보다 낮은 에너지에서의 이온 주입을 가능케하는 잇점이 있는 반도체의 얕은접합 형성 방법이다.
Patent KR-100280315-B1 (KR)
Title: 고화소의디지탈스틸카메라의영상데이터처리장치및그방법
Filed: 1997-12-24
Granted: 2001-02-01
Abstract: 이 발명은 고화소의 디지탈 스틸 카메라의 영상 데이터 처리 장치에 관한 것으로, 광학적으로 결상된 피사체 상에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 촬상 수단과; 상기 촬상 수단에서 출력되는 전기적인 신호를 처리하여 1프레임에 해당하는 영상 데이터를 생성하는 신호 처리 수단과; 상기 1프레임에 해당하는 영상 데이터가 저장되는 메모리와; 동영상 출력시에 상기 메모리에 저장된 1프레임의 영상 데이터중 짝수 필드 또는 홀수 필드 중 한 필드에 해당하는 영상 데이터의 일부를 샘플링하고, 샘플링된 데이터를 홀수 필드 주사시 및 짝수 필드 주사시에 억세스하여 출력하는 제어 수단과; 상기 제어 수단에서 출력되는 영상 데이터에 따라 1프레임의 영상을 디스플레이 하는 영상 출력 수단을 포함하여 이루어지며,  촬영된 동영상을 바로 디스플레이하지 않고 해당 영상 데이터를 메모리에 저장한 다음, 저장된 영상 데이터를 적절하게 샘플링하여 샘플링된 영상 데이터를 디스플레이 함으로써, 실시간으로 촬영된 동영상을 디스플레이할 수 있다.
Patent KR-100277261-B1 (KR)
Title: 왕복동형 엔진의 실린더 벽 오일 제어장치
Filed: 1997-12-31
Granted: 2001-02-01
Abstract: 본 발명은 왕복동형 엔진의 실린더 벽 오일 제어장치에 관한 것으로서, 오일 제어 기능의 저하를 방지하여 공해 요인을 저감함과 동시에 오일 소모량을 절감할 수 있도록 한 것이다. 
     본 발명은 실린더 블록(1)에 형성된 실린더(2)에 피스톤(3)을 삽입함과 동시에 실린더 블록(1)에 결합된 실린더 헤드(4) 사이에 연소실(4′)을 형성한 엔진에 있어서, 상기 피스톤(3)에 내부 공동(4)과 흡입통로(5)로 연통된 에러 챔버(6)를 형성하여 그 상하부벽과 일정간격을 두고 피스톤(3)의 승강에 의하여 선택적으로 개폐되는 밸브(7)(7′)를 설치하여 상부 챔버(8)와 하부 챔버(8′)를 형성하고, 상기 밸브(7)(7′) 사이에 판상 피스톤(9)을 삽입하며, 상기 상하부 챔버(8)(8′)에 토출통로(10)(10′)를 형성하여 통합한 후 압축 링 홈(3′)과 오일 링 홈(3″) 사이를 통하여 실린더(2)벽에 개구되는 분출 통로(11)에 연결하여서 된 것이며, 상기 분출통로(11)의 개구는 하향 경사지게 형성하는 것이다.
Patent KR-100375154-B1 (KR)
IPC: C08F10/00
Filed: 1995-09-26
Granted: 2003-05-22
Abstract: The invention is directed toward polymerizing or copolymerizing alpha-olefins either alone or in combination with one or more other alpha-olefins in a gas phase reactor having a fluidized bed and a fluidizing medium such that the fluidizing medium entering the reactor comprises a gas and a liquid phase.
Patent KR-100250073-B1 (KR)
Inventor: UCHUKA LYUICH
IPC: H05B3/26
Filed: 1995-09-13
Granted: 2000-03-15
Abstract: 본 발명은 제판기, 팩시밀리 및 비디오 프린터 등의 감열기록장치에 이용되는 서멀헤드 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 지지기체, 상기 기체상에 형성된 글레이즈층, 상기 글레이즈층상에 형성되고 Si, O 및 잔부가 실질적으로 금속으로 구성된 발열저항체 및 상기 발열저항체와 접속되어 있는 전극으로 이루어진 서멀헤드가 제공되며, 발열저항체는 부대전자 밀도가 1×10 19 ㎤이며, 덧붙여 글레이즈층과 발열저항체의 반응으로 형성된 반응층이 글레이즈층과 저항체 사이에 형성되는 것을 특징으로 한다.
Patent KR-100253967-B1 (KR)
Title: 탄성적으로연장가능한랜딩부재를갖는흡수제품
Inventor: SCHMITZ CHRISTOPH JOHANN
IPC: A61F13/62
Filed: 1996-01-30
Granted: 2000-04-15
Abstract: 흡수 제품(20)에 랜딩 부재(64)가 루프형 물질을 포함하는 기계적 고착 시스템(24)을 제공한다.  랜딩 부재(64)는 적어도 5%, 바람직하게는 30% 정도 전방 횡방향 가장자리 방향으로 탄성적으로 연장가능하여 전방 허리 영역(94)의 탄성 수축 및 팽창이 허용된다.  랜딩 부재(64)는 연장가능한 물질로 제조할 수 있으며 배면 시이트(30)의 전방 횡방향 가장자리너머로 돌출되는 상부시이트(26) 또는 전방 허리 영역(94)에서 겹쳐지는 상부시이트 물질(26)에 의해 형성될 수 있다.  양자택일적으로, 배면시이트(30)은 후방 허리 섹션(98)과 상이한 물질의 전방 허리 섹션(30)을 포함한다.  변도의 탄성 허리 요소를 랜딩 부재와 결합할 수 있거나, 또는 랜딩 부재 자체가 연신가능한 루프형 물질일 수 있다.  또다른 태양에서, 랜딩 부재는 랜딩 부재(64)의 루프형 물질을 노출시키는, 배면시이트(30)에 적어도 하나의 절단 섹션(90,99,100,101,102)을 포함한다.
Patent KR-100282388-B1 (KR)
IPC: H04L25/03
Filed: 1998-01-12
Granted: 2001-02-15
Abstract: 적응형 등화장치는 서로 다른 채널에 대해 시스템의 성능을 효과적으로 만족시키도록 성능을 개선하고 적응시 걸리는 수렴시간을 단축시키기 하기 위한 것으로서, 제 1 펄스 슬리밍 등화부와 제 3 지연부를 구비한 적응형 등화장치에 있어서, 상기 제 1 펄스 슬리밍 등화부에서 왜곡 보상된 신호 또는 제 3 지연부에서 일정 시간 지연된 신호를 스위칭하는 스위칭수단과, 상기 스위칭수단의 스위칭에 따라 상기 제 3 지연부의 신호로부터 에러를 추출하는 에러 신호 추출수단과, 상기 제 1 펄스 슬리밍 등화부의 신호와 에러 신호 추출수단에서 추출된 에러 신호의 계수를 계산한 후 이에 따라 업데이트하는 계수 계산 및 업데이트수단으로 구성됨에 그 요지가 있다.
Patent KR-100311083-B1 (KR)
Title: 문서처리장치
IPC: G06F17/24
Filed: 1998-01-30
Granted: 2002-02-28
Abstract: 본 발명은 문서데이터에 소정의 수식을 실시하는 문서처리장치 및 프로그램기록매체에 관한 것으로서, 
     CPU(1)는 문서단위마다 문서 전체의 문서구조를 해석하고, 그 각 구성요소 중 미리 결정되어 있는 구성요소를 디자인화대상의 디자인요소로서 추출하고, 그 속성을 기초로 하여 RAM(2)내의 테이블을 검색하며, 이 테이블은 디자인요소의 속성마다 고유의 수식정보를 기억하는 것으로 CPU(1)는 추출한 디자인요소의 속성에 대응하는 수식정보를 검색하고, 그를 기초로 하여 디자인요소를 수식가공하고, 따라서 문서데이터에 소정의 수식을 실시할 수 있는 것을 특징으로 한다.
Patent KR-100300195-B1 (KR)
Title: Apparatus for setting pll control data
Inventor: KIM SEUNG JUNG
IPC: H04L7/033
Filed: 1998-02-20
Granted: 2001-10-27
Abstract: PURPOSE: A PLL(Phase Locked Loop) control data setting apparatus is provided to reduce the manufacturing costs and improve the convenience in designing a circuit by integrating elements in order to set PLL control data. CONSTITUTION: A PLL control data recording unit(200) records and outputs control data for setting frequency bands of a plurality of external PLL circuits in order to generate a frequency having a predetermined band. A control data distribution unit(300) selects a PLL circuit among the plurality of external PLL circuits to send the outputted control data. A control circuit(100) controls that the control data distribution unit(300) selects a destination to send the data, and the data record and a sending operation of the PLL control data recording unit(200).
Patent KR-100500176-B1 (KR)
Title: 레이저조사장치및레이저조사방법
IPC: H01L21/268
Filed: 1998-02-27
Granted: 2005-09-30
Abstract: 선형의 레이저 광을 주사해서 조사한 경우에 있어서의 조사 얼룩을 억제한다. 
     선형의 레이저 펄스를 경사로 주사해서 조사한다.   이런 경우, 선형 레이저 빔의 세로 방향에 주기적으로 존재하는 피크가 겹치지 않은채 조사가 행해지므로 조사 얼룩을 억제할 수 있다.
Patent KR-100187484-B1 (KR)
Inventor: TOKI HITOSHI
IPC: C09K11/84
Filed: 1998-02-27
Granted: 1999-04-01
Abstract: (목적) Ｌa 2 Ｏ 2 Ｓ를 모체로 하는 형광체에 방습처리를 하여 내습성을 향상시키고, 전자선 여기 형광체로서 사용하도록 한다. 
     (구성) Ｌa 2 Ｏ 2 Ｓ로 표시되는 형광체 모체의 입자표면에 금속산화물로부터 형성된 투명보호막을 형성한다. 상기 금속산화물로는 Ａｌ 2 Ｏ 3 , ＳｉＯ 3 , ＴｉＯ 2 , ＧｅＯ 2 로부터 선택된 1 내지 2이상의 물질이 바람직하고, 상기한 형광체 모체에 대해 상기 금속산화물을 50∼2000ppm 첨가하여 상기 투명보호막을 형성시키면, 양호한 결과가 얻어질 수 있다. 각 형광체에서, 보호막의 피복량이 40ppm 이상이 되면 휘도가 신속하게 상승되기 시작하고, 3000ppm 부근을 넘으면 종래예 보다도 저하하게 된다. 상대휘도가 110 보다 높은 것을 양호한 범위라고 고려하면, 형광체에 대한 보호막의 양은 50∼2000ppm이 바람직하다.
Patent KR-100323600-B1 (KR)
Title: 적응형송신다이버시티장치및적응형송신다이버시티방법
IPC: H04B7/06
Filed: 1998-04-02
Granted: 2002-03-08
Abstract: 본 발명의 무선 송신 다이버시티 장치는 스펙트럼 확산 방식을 이용하며, 수신 방사 패턴 제어 장치에 의해 시간적으로 어긋나게 도달된 직접 및 간접파의 방사 패턴(radiation pattern)을 검출하여, 수신 방사 패턴 제어 장치에 의해 얻어진 송신 방사 패턴들중 하나를 선택하거나 이들 방사 패턴을 합성함으로써 결정된 송신 방사 패턴에 따라 송신 방사 패턴 제어 장치를 동작시킨다.  이에 의해, 보다 높은 송신 성능을 실현할 수 있다.
Patent KR-100532168-B1 (KR)
IPC: G01R19/00
Filed: 1998-04-23
Granted: 2006-01-27
Abstract: 전류를 높은 정밀도로 정확하게 검출한다.  간단한 연산으로 연산 처리를 간단하며 또한 고속으로 전류치를 계산한다.   
     오프셋의 자동 보정 회로를 구비하는 전류 검출 회로는 전류 검출 저항(3)과 이 전류 검출 저항(3)의 전압이 검출 전압 입력 단자(8)에 입력되며, 다른 쪽의 기준 전압 단자(9)에 기준 전압이 입력되는 차동 증폭기(1)와, 차동 증폭기(1)의 출력 전압으로부터 전류 검출 저항(3)에 흐르는 전류를 검출하는 검출 회로(7)를 구비한다.  또한, 전류 검출 회로는 전류 검출 저항(3)의 전압에 차동 증폭기(1)의 출력 전압을 크게 하는 미소 바이어스 전압을 더하여 차동 증폭기(1)의 기준 전압 단자(8)에 입력함과 함께, 검출 회로(7)가 차동 증폭기(1)의 출력 전압을 검출하여 차동 증폭기(1)의 기준 전압 단자(9)에 입력하는 기준 전압을 보정해서 전류 검출 저항(3)의 전류를 0으로 하는 상태에서 차동 증폭기(1)의 출력을 0V로 보정한다.
Patent KR-100304781-B1 (KR)
Title: Cdma핸드오프방법및그것을이용한이동통신셀룰러시스템과그기지국
IPC: H04W36/18
Filed: 1998-05-28
Granted: 2001-09-24
Abstract: 우선 주파수밖에 통신할 수 없는 기지국의 서비스 영역에 우선 주파수이외에 통신하고 있는 이동국이 이동해도, 이종 주파수 핸드 오프를 실현시키고, 기지국과 상위국사이의 전송로의 압박을 해소하고, 이동국의 송신기 규모를 작게 하고, 주파수의 이용 효율을 올리는 CDMA 핸드 오프 방식 및 그것을 이용한 이동 통신 셀룰러 시스템과 그 기지국을 제공한다. 
     제1 기지국(14)과 통신하는 이동국(22)은 기지국(14) 및 인접한 각 기지국(16, 18, 20)의 파일럿 신호의 수신 수단과, 제1 기지국(14)의 파일럿 신호 수신 레벨이 임계치보다 낮은 것을 검출했을 때에 핸드 오프 요구를 하는 수단을 구비한다.  제1 기지국(14)은 이동국(22)으로부터의 제1∼2기지국(14, 16)의 파일럿 신호 수신 레벨에 의해 제2 기지국(16)이 현재 이동국(22)의 통신 주파수를 갖고 있지 않다고 판단되었을 때에 이동국(22)과 제1 기지국(14) 사이의 통신의 우선 주파수로의 이종 주파수 핸드 오프 명령을 내리는 수단과, 이동국(22)으로부터의 제1∼2 기지국(14, 16)의 파일럿 신호 수신 레벨에 의해 가장 근접한 기지국에 핸드 오프시키는 수단과, 핸드 오프 시에 그 기지국으로 이동국 할당을 지시하는 수단을 구비한다.
Patent KR-100529267-B1 (KR)
IPC: H03M7/38
Filed: 1998-07-03
Granted: 2006-01-27
Abstract: 링 메모리(2)의 최종 어드레스로부터 제1 어드레스로 복귀해서 부호 L n 을 계속해서 기록한 후에 일시 중단(퍼즈)해서 이 링 메모리(2)의 임의의 어드레스 이후의 어드레스에 기록한 부호 L n '를 판독하여 재생 출력하는 것은 불가능하였다. 
     제1 기억 수단으로부터 부호를 판독하여 음성 복호화 처리하는 음성 부호화 복호화 방법에서 상기 제1 기억 수단의 임의의 어드레스에 기억되어 있는 부호를 상기 음성 복호화 처리하는 경우, 내부 상태 조정 수단은 상기 음성 복호화 처리에 의해 얻어진 재생 출력 신호의 출력 파라메터의 값과 미리 설정된 임계치를 비교하는 제1 스텝 및 상기 제2 스텝에서의 비교 처리의 결과, 상기 출력 파라메터의 값이 미리 설정된 임계치 이하인 경우, 상기 음성 복호화 처리 시에 이용한 양자화폭의 초기치를 조정하는 제2 스텝을 행한다.
Patent KR-100271434-B1 (KR)
Inventor: KIM SIUNG
IPC: B09B5/00
Filed: 1998-07-23
Granted: 2000-11-15
Abstract: 본 발명은 페트(PET)병 재생칩 생산자동화 기계(products index elevater식)에 관한 것이다. 
     이러한 본 발명의 페트병 재생침 생산 자동화 기계는, 수거한 페트(PET)병을 저장하는 제1저장호퍼(10)와; 제1저장호퍼의 페트병을 낱개로 이송시키는 버킷컨베이어(12)와; 낱개별로 이송되는 페트병이 일방향으로만 향하도록 정렬시키는 정렬기(16)와; 정렬기에서 공급되는 페트병의 뚜껑을 제거하는 병뚜껑제거기(20)와; 병뚜껑이 제거된 페트병의 병목에 남아있는 링을 제거하는 링제거기(25)와; 뚜껑과 링이 제거된 페트병에 열을 가하는 열풍덕트(30)와; 열에 의해 라벨에 붙은 접착제가 접착력을 약화시키고, 나이프와 스크레이퍼를 구비한 스크레이퍼장치로 병을 훑어내려가면서 라벨과 베이스컵을 제거하는 라벨 및 베이스컵 제거기(40)와; 라벨 및 베이스컵 제거기를 통과한 페트병을 센서를 통해 페트병을 색상별로 구분하는 분리슈트(50)와; 각각 색상별로 구분된 페트병의 병목을 절단하는 병목 절단기(60)와; 병목이 절단된 페트병을 일단저장하는 제2저장호퍼(70)와; 제2저장호퍼의 페트병을 잘게 분쇄시키는 파쇄기(80)와; 파쇄기로 분쇄된 페트병칩을 포장대로 이송시키는 스프링피더(90)들로 구성하여 페트병 재생에 필요한 전 공정을 자동화하므로써 페트병 재생사업을 경제성있는 사업으로 활성화되도록 하는 효과가 있다.
Patent KR-100292259-B1 (KR)
IPC: B66B5/00
Filed: 1998-07-29
Granted: 2001-06-01
Abstract: 본 발명은 엘리베이터의 안전 장치에 관한 것으로, 종래의 엘리베이터는 비상 사태가 발생하여 비상 정지수단이 작동하지 않게 되므로 인해 카가 자유 낙하하는 경우에는 승강로의 바닥에 설치된 완충기의 충돌 에너지 소산 능력에 의지할 수 밖에 없고, 베이스는 충돌시 소성 변형이 발생되지 않도록 견고하게 제작하므로 카프레임 자체에서는 충돌 에너지를 흡수할 메커니즘이 없이 완충기에 충돌할 때 가속도 지연 성능에 따라 충돌 즉시 받는 최대 가속도가 바로 카로 전달되어 승객의 안전을 위협하게 되는 등의 많은 문제점이 있었던 바, 본 발명은 엘리베이터의 카가 비상 사태에서 자유 낙하하여 승강로 바닥에 설치된 완충기에 충돌할 때 초기 최대 감가속도에 의한 승객의 상해치를 경감시키는 한편, 감속되는 동안에 지속적으로 다단 충돌 에너지를 베이스의 하단부에 설치된 충돌 에너지 흡수부재가 효율적으로 흡수하므로써 카 바닥을 통해 승객으로 전달되는 충돌 에너지를 최대 한도로 줄여 승객의 안전성을 확보할 수 있으며, 베이스의 설계시 완충기의 충돌을 받는 부분이 충분하게 충돌 에너지를 흡수하여 베이스의 강도를 정상 운전시에 가깝게 설계할 수 있어서 베이스 전체가 과도하게 견고한 상태로 설계되지 않아도 됨에 따른 베이스의 제작비용 및 중량을 줄일 수 있게 된다.
Patent KR-100289480-B1 (KR)
IPC: H01J31/12
Filed: 1998-08-06
Granted: 2001-06-01
Abstract: 본 발명은 화상 형성 장치의 제조 방법을 제공한다.  본 발명의 화상 형성 장치는 용기와, 용기 내에 배치되고 한 쌍의 전극들 사이에 전자 방출부를 갖고 한 쌍의 전극들 사이에 전압을 인가하여 전자들을 방출하기 위해 채택된 전자 방출 소자와, 전자 방출 소자로부터 방출된 전자들의 조사에 의해 화상를 형성하기 위한 화상 형성 부재를 포함한다.  화상 형성 장치의 제조 방법은 전자 방출 소자로부터 방출된 전자들로 화상 형성 부재를 조사하는 단계를 포함하되, 화상 형성 부재를 조사하는 전자들은 화상 형성 장치의 화상 형성을 위해 구동하는 동안 전자 방출 소자의 한 쌍의 전극들 사이에 인가된 전압의 극성과 반대인 극성의 전압을 전자 방출 소자에 인가함으로써 방출된 전자들이다.
Patent KR-0178885-B1 (KR)
Inventor: NAKADA TOSHIHIKO
IPC: H01L21/66
Filed: 1998-08-26
Granted: 1999-04-15
Abstract: 반도체소자 제조용 실리콘웨이퍼 등의 고체표면의 온도를 측정하는 방법 및 그 방법을 실행하기 위한 온도측정장치를 이용하여 온도를 제어하는 반도체성막방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 비접촉 측정방식에 있어서 고체시료표면의 마이크로미터 치수의 영역을 갖는 측정미소점의 온도를 정확하게 측정하여 제어할 수 있는 반도체성막방법 및 장치를 제공하기 위해, 반도체웨이퍼 표면상에 박막을 형성하도록 반도체웨이퍼를 처리하는 동안 반도체웨이퍼의 온도를 측정하기 위해, 시료표면의 적어도 1개의 측정점을 적어도 1개의 광빔으로 조사하여 시료를 가열하고,그 위에 1개의 광빔을 충돌시켜 시료를 가열하는 것에 의해서 시료의 열팽창에 의한 시료표면의 적어도 1개의 측정점의 변위량을 검출하고 이 변위량을 나타내는 신호를 생성하고, 신호에서 시료의 적어도 1개의 측정점의 온도를 구하여 온도를 측정하는 방법을 이용하는 스텝 및 반도체웨이퍼상에 형성된 박막의 양과 두께를 제어하도록 측정된 온도에 따라 반도체웨이퍼의 온도를 제어하는 스텝을 포함하는 것으로 하였다. 
     이와 같이 하는 것에 의해, 마이크로미터치수 영역을 갖는 미소점온도는 비접촉온도측정에 의해 정확히 결정될 수 있다는 등의 효과가 얻어진다.
Patent KR-100276852-B1 (KR)
IPC: G03F7/20
Filed: 1998-08-28
Granted: 2001-01-15
Abstract: 마이크로 전자 장치를 제조하기 위한 리소그래픽 프로세스(lithographic process)에서, 기판상의 레지스트막(resist film)에 형상(shapes) 및 공간(spaces)의 상보형 톤 패턴(complementary tone pattern)을 생성함으로써, 초점 및 노출 파라미터를 제어할 수 있다.   레지스트 형상 및 공간의 대응하는 치수를 측정하고, 초점 또는 노출량의 적절성(adequacy)을 측정된 치수의 함수로서 결정한다.   또한, 에칭된 형상 및 공간의 상보형 톤 패턴을 기판상에 생성함으로써, 에칭 파라미터를 제어할 수 있다.   에칭된 형상 및 공간의 대응하는 치수를 측정하고, 에칭 파라미터의 적절성을 측정 치수의 함수로서 결정한다.
Patent KR-100327560-B1 (KR)
Inventor: LEE SIL GEEN
IPC: D06B23/24
Filed: 1998-09-07
Granted: 2002-11-30
Abstract: PURPOSE: A device and a method for separating-exhausting cold and hot water during dyeing process are characterized by using an ejecting principle, removing condensate water rapidly and separating condensate water and cold-hot water exactly. The device and the method are capable of preventing water hammer, preventing damage of a heat exchanger and appendixes, reducing heating hours of dyeing water and reducing water and energy. CONSTITUTION: A device for separating-exhausting cold and hot water during dyeing process comprises: a main body(10) containing a cold and hot water inlet(11), a cold and hot water outlet(12), a dividing plate(13) for shutting the inside and a shielding plate(14); a temperature sensor(20) sensing temperature of the cold and hot water; a water level sensor(30) sensing the water level of the cold and hot water; an orifice body containing an inlet set on an upper part of the cold and hot water inlet(11), an outlet connected with the cold and hot water outlet(12), a first orifice nozzle(41), a second orifice nozzle(42), a first absorbing nozzle(43) and a second absorbing nozzle(44); a driving water inlet pipe(50) connected to the inlet of the orifice body; an outlet pipe connected to the cold and the hot water outlet(12); and a controller determining if water is hot or cold water by signals of the temperature sensor(20) and the water level sensor(30), driving a driving valve of the driving water inlet pipe(50) or a driving valve of the outlet pipe selectively and controlling collection of cold and hot water.
Patent KR-100320748-B1 (KR)
Title: 듀얼밴드 단말기에서의 저잡음증폭기 공용을 위한 회로
IPC: H04B7/26
Filed: 1998-09-10
Granted: 2002-03-08
Abstract: 본 발명은 듀얼밴드 단말기의 첫단에 위치한 저잡음증폭기 이용에 관한 것으로, 각 밴드마다 따라 사용하던 저잡음증폭기를 바랙터다이오드를 포함하는 매칭회로를 이용하여 밴드별 매칭회로를 조정하므로 공통으로 사용할 수 있게 한다. 본 발명은 셀룰라 밴드 및 PCS밴드 서비스를 동시에 사용하는 무선단말에 이용된다.
Patent KR-100272767-B1 (KR)
Title: Compression of log processing method
Inventor: SEMENOVA NATALLYA GLEBOVNA
IPC: B27M1/02
Filed: 1998-09-09
Granted: 2000-12-01
Abstract: PURPOSE: A compression processing method is provided to increase hardness and strength of a log by forcibly pushing the log into a compressor with a smaller diameter to decrease the volume of the log and increase the density of fiber textures. CONSTITUTION: A log(10) is pushed into a piston(4) in the axial direction of a compressor frame(2) by holding the end of the log(10) with a jaw(9). A vibration from an ultrasonic wave generator(15) is applied to the log(10) through an ultrasonic concentrator(16). A vibrating force is divided into V1, V2 and V3, wherein V1 is in the axial direction of a forming dice(3), V2 is perpendicular to the forming dice(3), and V3 is in the tangential direction of the forming dice(3). Static pressure and vibration compress the log(10) to have the same strength and hardness. Fiber density and strength of the log(10) are changed while log texture is not fractured. A cam guide(13) assists the log(10) to be inserted easily without damage.
Patent KR-100268863-B1 (KR)
Inventor: PARK SYUNG HYUN
IPC: H01L21/28
Filed: 1998-09-12
Granted: 2000-10-16
Abstract: 본 발명은 노드 콘택홀 내벽의 절연막 측벽을 제거하여 노드 콘택홀의 크기증가에 따른 저항을 감소시키고, 노드 전극만이 기판과 접촉되도록 함으로써, 정션 리키지가 발생하지 않도록 하는데 적당한 반도체 소자 제조방법을 제공하기 위한 것으로써, 필드산화막이 형성된 반도체 기판상에 선택적으로 워드라인들을 형성하는 공정과, 상기 워드라인들과 절연되고, 상기 기판과 전기적으로 연결되는 데이터라인들을 형성하는 공정과, 상기 데이터 라인들을 포함한 기판상에 산화막과, 질화막을 적층하고, 상기 질화막상에 다시 산화막을 증착하는 공정과, 상기 산화막들과 질화막을 선택식각하여 노드 콘택홀을 형성하는 공정과, 상기 노드 콘택홀을 포함한 기판 전면에 산화막을 증착한 후, 이온주입을 실시하고, 전면 건식식각을 통해 상기 노드 콘택홀의 내벽에 산화막 측벽을 형성하는 공정과, 세정공정을 통해 상기 노드 콘택홀 내벽의 산화막 측벽을 제거하는 공정과, 상기 노드 콘택홀을 포함한 전면에 폴리실리콘을 증착한 후, 패터닝하여 노드 콘택홀을 통해 기판과 연결되는 노드전극을 형성하는 공정과, 상기 노드전극상에 유전체막과 플레이트 전극을 형성하는 공정을 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.
Patent KR-100524676-B1 (KR)
Title: 반도체 소자의 트렌치형 소자 분리막 형성방법
IPC: H01L21/76
Filed: 1998-10-13
Granted: 2006-01-12
Abstract: 본 발명은 반도체 기술에 관한 것으로, 특히 소자간의 전기적 분리를 위한 소자 분리막 형성 공정에 관한 것이며, 더 자세히는 트렌치형 소자 분리막 형성방법에 관한 것이다. 본 발명은 트렌치 매립 산화막의 CMP 공정시 기계적인 충격에 의해 활성 영역에 발생하는 결함을 최소화하는 반도체 소자의 트렌치형 소자 분리막 형성방법을 제공하고자 한다. 본 발명은 트렌치 마스크층으로 사용되는 패드 열산화막과 패드 질화막 사이에 슬러리 연마제에 의한 기계적인 충격을 완화시킬 수 있는 충격 완충막을 삽입하여 공정을 진행한다. 이 경우, 후속 CMP 공정시 슬러리 연마제 입자에 의한 기계적 충격이 산화 방지막에 가해지며, 그에 따른 2차 충격이 충격 완충막에 의해 완화되므로 활성 영역에 유발되는 스크래치, 균열 등의 결함을 최소화할 수 있다. 충격 완충막으로는 화학기상증착(CVD) 산화막을 사용한다.
Patent KR-100598181-B1 (KR)
Title: 플라즈마 표시 패널의 구동방법
IPC: G09G3/292
Filed: 1998-10-14
Granted: 2006-09-20
Abstract: 본 발명은 플라즈마 표시 패널(PDP)의 패널의 온도에 따라 초기 구동시의 리세트 전압을 조절함으로써, 화면의 균일성이 향상되도록 한 PDP 의 구동방법에 관한 것이다. 
     이러한 본 발명은, 패널의 온도를 감지하는 온도 검출부(101)와, 상기 온도 검출부(101)의 감지 온도와 기 설정된 기준 온도를 비교 판정하는 온도 판정부(102)와, 상기 온도 판정부(102)의 비교 결과에 따라 PDP 의 초기 구동시 리세트 펄스의 전압을 조절하는 타이밍부(103)와, 상기 타이밍부(103)의 출력에 따라 스캔 전극과 서스테인 전극에 리세트 펄스를 포함한 각종 구동펄스를 공급하는 스캐닝 및 서스테인 구동부(30)로 구성된다.
Patent KR-100273322-B1 (KR)
Inventor: HWANG JUNG-MO
IPC: H01L21/336
Filed: 1998-11-12
Granted: 2000-12-15
Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조방법에 관한 것으로, 종래에는 반도체소자의 디자인 룰이 엄격해지고, 감소하면서 게이트전극의 저항증가 및 배선을 형성하기 위하여 게이트전극과 금속을 접촉시킬 경우에 접촉저항에 따른 기생저항의 증가로 인해 소자의 안정적인 동작에 영향을 미치는 문제점이 있었다. 따라서, 본 발명은 분리영역이 형성된 반도체기판의 상부에 게이트산화막, 폴리실리콘층, 버퍼산화막 및 질화막을 순차적으로 형성하는 공정과; 사진식각공정을 통해 게이트가 형성될 영역의 질화막 및 버퍼산화막을 식각하여 폴리실리콘층을 노출시키는 공정과; 상기 구조물의 상부전면에 코발트층를 증착하고 열처리를 통해 코발트와 실리콘을 반응시켜 상기 폴리실리콘층 상에 실리사이드층을 형성하는 공정과; 상기 코발트층을 제거하여 실리사이드층을 노출시킨 후, 그 구조물의 상부전면에 캡산화막을 증착하고 화학기계적 연마를 통해 평탄화하는 공정과; 상기 질화막과 버퍼산화막을 제거하고, 상기 캡산화막을 마스크로 하여 노출된 폴리실리콘층을 식각하는 공정과; 상기 캡산화막 하부의 폴리실리콘층 측면에 열산화막을 형성하는 공정으로 이루어지는 반도체소자의 제조방법을 통해 게이트전극의 상부에 금속층과 실리콘의 반응특성을 이용한 실리사이드층을 형성하여 게이트전극의 저항 및 게이트전극과 금속의 접촉저항을 감소시킴으로써, 소자 동작의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Patent KR-100329423-B1 (KR)
Title: 전자동세탁기의운반손잡이
IPC: D06F39/00
Filed: 1998-11-24
Granted: 2002-09-05
Abstract: 본 발명은 전자동 세탁기에 관한 것으로 특히, 톱커버의 배면에 운반손잡이를 형성하여 세탁기의 운반이 간편하게 이루어질수 있도록 하는 동시에 부품수의 절감효과 및 제작공정의 단축효과 등에 의해 원자재 및 제작비 등의 낭비를 막을수 있도록 안출된 것으로, 
     세탁기를 운반하기 위한 운반손잡이를 톱커버에 일체로 형성시킨 것을 특징으로 하는 전자동 세탁기의 운반손잡이를 제공한다.
Patent KR-100289772-B1 (KR)
IPC: H05K13/02
Filed: 1998-11-25
Granted: 2001-10-20
Abstract: 본 발명은 스마트 카드의 삽입 및 추출을 위한 하우징 구조장치에 관한 것이다. 본 발명은 스마트 카드의 삽입 및 추출을 용이하게 할 수 있도록 상부 하우징, 하부 하우징, 카드 출납부, 내부 구동하우징, 구동중계부 및 회전구동부로 구성하여, 스마트 카드를 내부 구동하우징내에 삽입한 후, 회전구동부의 피니언을 회전시키는 경우, 이 회전력에 의해 구동중계부와 내부 구동하우징이 일체로 전진하여 카드 리더에 삽입되는 반면, 상기 피니언을 반대로 회전시키는 경우, 구동중계부와 내부 구동하우징이 일체로 후퇴됨으로써, 손쉽게 카드를 추출할 있을 뿐만 아니라 외관 형상의 제한이 극복되고, 카드 취출시 취부공간의 넓힐 수 있는 스마트 카드의 삽입 및 추출을 위한 하우징 구조장치를 제시하고 있다.