baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent DE-112012006680-B4 (DE)
Title: Kartusche und bilderzeugende Vorrichtung
Inventor: MORI HIROKI
IPC: G03G21/18
Filed: 2012-11-29
Granted: 2022-07-07
Abstract: Kartusche (19), welche konfiguriert ist, um Entwickler aufzunehmen, die Folgendes aufweist:ein erfasstes Element (96), konfiguriert um sich in einer ersten Richtung um eine erste Drehachse zu drehen, welche sich in axialer Richtung erstreckt, wobei das erfasste Element (96) konfiguriert um von einem externen ersten Sensor (140) erfasst zu werden; undein Antriebskraftübertragungselement (94), konfiguriert um eine Antriebskraft bei Aufnahme der Antriebskraft von außerhalb auf das erfasste Element (96) zu übertragen,wobeidas erfasste Element (96) Folgendes aufweist:einen Aufnahmeteil (110), welcher konfiguriert ist um das Antriebskraftübertragungselement (94) zu berühren, um die Antriebskraft davon aufzunehmen; undeinen ersten erfassten Teil (114), wobei ein Abschnitt des ersten erfassten Teils (114) und ein Abschnitt des Aufnahmeteils (110) an derselben Position wie der andere in der axialen Richtung angeordnet sind,und wobei die Kartusche (19) weiterhin aufweist:ein Gehäuse (25), welches konfiguriert ist, um den Entwickler aufzunehmen; undein Abdeckelement (84), welches konfiguriert ist um das erfasste Element (96) zu bedecken (96),wobei:das erfasste Element (96) ferner einen ersten eingreifenden Teil (115) aufweist;das erfasste Element (96) so konfiguriert um sich in eine dritte Position zu drehen,nachdem der erste erfasste Teil (114) von dem ersten Sensor (140) erfasst ist,wobei der Aufnahmeteil (110) von dem Antriebskraftübertragungselement (94) an der dritten Position getrennt ist; unddas Abdeckelement (84) mit einem ersten in Eingriff stehenden Teil (134) vorgesehen ist, der mit dem ersten eingreifenden Teil (115) des erfassten Elements (96) an der dritten Position in Eingriff bringbar ist, wobei der erste in Eingriff stehende Teil (134), der mit dem ersten eingreifenden Teil (115) in Eingriff gebracht ist, verhindert, dass sich das erfasste Element (96) in einer zweiten Richtung entgegengesetzt zu der ersten Richtung dreht.
Patent DE-112013003058-B4 (DE)
Title: Tandem Flugzeitmassenspektrometer mit ungleichmässiger Probennahme
Inventor: VERENCHIKOV ANATOLY N
IPC: H01J49/00
Filed: 2013-06-18
Granted: 2021-10-28
Abstract: Verfahren zur Tandem Flugzeit-Massenspektrometrie-Analyse, wobei das Verfahren umfasst:Extrahieren einer Vielzahl von Stammionenspezies mit verschiedenen m / z-Werten aus einer gepulsten Ionenquelle (15) oder einem gepulsten Konverter,die/der durch einen Zyklus von Quellenpulsen getriggert wird;zeitliches Trennen der Stammionen nach m / z-Wert innerhalb eines mehrfachreflektierenden elektrostatischen Feldes mit isochroner und räumlicher Fokussierung;Auswählen und Probenehmen von einer oder mehreren Stammionenspezies durch ein elektrisches Impulsfeld mit einem Zeittor (16), das relativ zu dem Zyklus von Quellenpulsen verzögert ist;Fragmentieren der durch das Zeittor (16) durchgelassenen Stammionen durch Kollisionen mit einem Gas und/oder einer Oberfläche;Extrahieren von Fragmentionen durch das mehrfach reflektierende elektrische Feld mit einer Verzögerung relativ zu dem Zeittor (16);zeitliches Trennen der Fragmentionen innerhalb des mehrfach-reflektierenden elektrostatischen Feldes; undAufzeichnen eines Signalverlaufs der Fragmentionen von einem Detektor (18), wobei:das Auswählen der Stammionenspezies das Probenehmen von Stammionenspezies mehrerer Stammmassen während eines Intervalls zwischen Quellenpulsen des Zykluses von Quellenpulsen umfasst;Torzeiten und Extraktionsverzögerungen in einer nicht-redundanten Weise kodiert werden, die innerhalb eines Zyklus von mehreren Quellenimpulse variiert; wobei ein Datensystem (20) die nicht-redundante Kodierung von Torzeiten und Extraktionsverzögerungen bereitstellt, derart, dass ein beliebiges Paar von Torzeiten und Extraktionsverzögerungen innerhalb eines Intervalls zwischen Quellenpulsen nur einmal während der Dauer des Zyklus von Quellenpulsen auftritt, undüberlappende Fragmentspektren für die Vielzahl von Stammionenspezies decodiert werden basierend auf der Analyse einer Übereinstimmung zwischen einem bestimmten Signalpeak und der Stammmasse, wobei sowohl Zeittrennungen von Stamm- als auch von Fragmentionen innerhalb desselben mehrfach-reflektierenden elektrostatischen Feldes in entgegengesetzte Richtungen auftreten.
Patent DE-112013005512-B4 (DE)
Title: Herstellung von Wafern mit hoher Präzipitatdichte durch Aktivierung von inaktiven Sauerstoffpräzipationskeimen durch Hitzebehandlung
Inventor: FALSTER ROBERT J
IPC: C30B29/06
Filed: 2013-11-19
Granted: 2019-03-28
Abstract: Ein Verfahren zur Hitzebehandlung eines aus einem nach dem Czochralski-Verfahren gewachsenen Einkristall geschnittenen Einkristall-Siliciumwafers, um das Präzipitationsverhalten von Sauerstoff in diesem Wafer während eines anschließenden thermischen Weiterverarbeitungsschrittes zu beeinflussen,wobei der Siliciumwafer eine Vorderseite, eine Rückseite, eine zentrale Mittelebene zwischen der Vorder- und der Rückseite, eine Vorderseitenschicht, welche den Bereich des Wafers beinhaltet, der sich in axialer Richtung von der Vorderseite in Richtung der Mittelebene über eine Distanz D ausgehend von der Vorderseite erstreckt, und eine Innenschicht, welche den Bereich des Wafers zwischen der zentralen Mittelebene und der Vorderseitenschicht beinhaltet, hat,wobei das Verfahren umfasst:eine Hitzebehandlung des Wafers bei einer Temperatur von wenigstens 1100°C für einen Zeitraum von 1 Sekunde bis 60 Sekunden, um im Wafer eine Konzentration von Kristallgitter-Leerstellen-haltigen Sauerstoffpräzipitationskeimen in der Vorderseitenschicht und in der Innenschicht des Wafers zu erzeugen, wobei wenigstens ein Teil der Sauerstoffpräzipitationskeime inaktive Sauerstoffpräzipitationskeime und ein Teil aktive Sauerstoffpräzipitationskeime sind, und wobei die Sauerstoffpräzipitationskeime dadurch charakterisiert sind, dass bei Behandlung mit einer Sauerstoffpräzipitations-Hitzebehandlung bei einer Temperatur von 800°C für vier Stunden und dann bei einer Temperatur von 1000°C für sechzehn Stunden aktive Sauerstoffpräzipitationskeime zu Sauerstoffpräzipitaten umgewandelt werden und inaktive Sauerstoffpräzipitationskeime keine Sauerstoffpräzipitate bilden;eine Einstellung der Abkühlungsrate des hitzebehandelten Wafers, wobei die durchschnittliche Abkühlungsrate wenigstens 5°C pro Sekunde beträgt und der Wafer auf eine Temperatur von 700°C oder weniger abgekühlt wird, so dass ein Wafer produziert wird, der ein Konzentrationsprofil von Sauerstoffpräzipitationskeimen hat, in welchem die maximale Konzentration sich im inneren Bereich befindet und die Konzentration in Richtung der Vorderseite des Wafers generell abnimmt, und die Konzentrationsdifferenz der Sauerstoffpräzipitationskeime zwischen der Vorderseitenschicht und der Innenschicht so groß ist, dass sich eine Sauerstoffpräzipitat-freie Zone in der Vorderseitenschicht bildet und Sauerstoffpräzipitate in der Innenschicht entstehen, wenn der Wafer einer anschließenden Hitzebehandlung zur Sauerstoffpräzipitation unterzogen wird, wobei die Konzentration der Sauerstoffpräzipitate in der Innenschicht hauptsächlich von den Sauerstoffpräzipitationskeimen abhängt; undeine Hitzebehandlung des Wafers bei einer Temperatur von wenigstens 400°C und nicht mehr als 600°C für wenigstens 1 Stunde, um wenigstens einen Teil der inaktiven Sauerstoffpräzipitationskeime im Wafer zu aktivieren.
Patent DE-112014001967-B4 (DE)
Title: Steuervorrichtung für einen Ottomotor
Inventor: YASUDA KYOHEI
IPC: F02D19/08
Filed: 2014-04-03
Granted: 2019-03-21
Abstract: Steuervorrichtung für einen Ottomotor, bestehend aus:einem Motor, der für einen Kraftstoff, einschließlich einen unkonventionellen Kraftstoff ausgelegt ist, dessen Verdampfungsrate bei oder unterhalb einer bestimmten Temperatur niedriger ist als die von Benzin;einem Brennstoffzuteiler, der für die Zuführung des Kraftstoffs in einen Zylinder des Motors ausgelegt ist; undeiner Steuerung, die für die Steuerung des Motors ausgelegt ist, indem sie mindestens den Brennstoffzuteiler regelt, wobeidie Steuerung so ausgelegt ist, dass sie folgendes ausführt, wenn der Motor einer größeren als vorbestimmten Last ausgesetzt ist:einen ersten Kraftstoff-Einspritzmodus wählen, bei dem im Kompressionshub eine größere Menge an Kraftstoff als beim Ansaughub zugeführt wird, vorausgesetzt der Motor weist eine Temperatur auf, die gleich oder niedriger als eine vorbestimmte Temperatur ist; undeinen zweiten Kraftstoff-Einspritzmodus wählen, bei dem im Ansaughub eine größere Menge an Kraftstoff als beim Kompressionshub zugeführt wird, vorausgesetzt der Motor weist eine Temperatur auf, die höher als die vorbestimmte Temperatur ist,die dem Motor zugeführte Kraftstoffmenge wird durch eine Korrektur der grundlegenden Kraftstoffeinspritzmenge geregelt, die entsprechend dem Betriebszustand des Motors unter Verwendung eines Korrekturfaktors geregelt wird, der im Voraus entsprechend der Verdampfungsrate des Kraftstoffs bestimmt wird, wobei die Verdampfungsrate ein Verhältnis zwischen dem Gewicht des Kraftstoffs, der zur Verbrennung beiträgt und dem Gewicht des dem Zylinder zugeführten Kraftstoffs ist, undals Reaktion auf ein Sinken der Verdampfungsrate unmittelbar nach dem Wechsel vom ersten Kraftstoff-Einspritzmodus zum zweiten Kraftstoff-Einspritzmodus, wenn die Temperatur des Motors so stark ansteigt, dass die vorbestimmte Temperatur überschritten wird, ist die Steuereinheit konfiguriert, den Korrekturfaktor unmittelbar nach dem Umschalten größer einzustellen, als er vor dem Wechsel war.
Patent DE-112014005960-B4 (DE)
Title: Adaptiver Scheinwerfer für ein Kraftfahrzeug mit optoelektronischen Halbleiterbauteilen
Inventor: GRÖTSCH STEFAN
IPC: F21S41/141
Filed: 2014-12-04
Granted: 2020-01-02
Abstract: Adaptiver Scheinwerfer (10) mit einer Montageplattform (11) und mit mehreren optoelektronischen Halbleiterbauteilen (1), wobei die Halbleiterbauteile (1) je umfassen:- einen Träger (2) mit einer Trägeroberseite (23) und mit einer Trägerunterseite (24),- mehrere aktive Zonen (33), die an der Trägeroberseite (23) angebracht sind und die zur Emission von Strahlung eingerichtet sind,- mindestens drei elektrische Kontaktstellen (4) an der Trägerunterseite (24), die zumindest zu einem elektrischen Anschließen des entsprechenden Halbleiterbauteils (1) eingerichtet sind, und- mindestens einer Ansteuereinheit (5) zum elektrischen Adressieren des entsprechenden Halbleiterbauteils (1) und zu einem elektrischen Ansteuern der aktiven Zonen (33) , und wobei- die aktiven Zonen (33) in einem regelmäßigen Raster an der Trägeroberseite (23) der Halbleiterbauteile (1) angebracht sind, in Draufsicht gesehen,- das Raster ein Rastermaß (M) aufweist,- geometrische Mittelpunkte (P) von Strahlungshauptseiten (30) der aktiven Zonen (33) innerhalb der Halbleiterbauteile (1) je auf Rasterpunkten des Rasters liegen, in Draufsicht gesehen und mit einer Toleranz von höchsten 20 % des Rastermaßes (M),- ein Abstand (D) der geometrischen Mittelpunkte (P) von randständigen aktiven Zonen (33) zu einer nächstgelegenen Kante des Trägers (2) des zugehörigen Halbleiterbauteils (1) höchstens 50 % des Rastermaßes (M) beträgt,- die Halbleiterbauteile (1) derart auf der Montageplattform (11) angeordnet sind, sodass alle aktive Zonen (33) der Halbleiterbauteile (1), mit einer Toleranz von höchstens 20 % des Rastermaßes (M), auf den Rasterpunkten des regelmäßigen Rasters liegen,- sich das Raster gleichbleibend über alle Halbleiterbauteile (1) erstreckt,- die Halbleiterbauteile (1) über genau eine gemeinsame Datenleitung (8) miteinander verbunden sind,- über die Ansteuereinheit (5) einzelne der aktiven Zonen (33) oder Gruppen von aktiven Zonen (33) des Scheinwerfers (10) unabhängig voneinander ansteuerbar sind,- die Halbleiterbauteile (1) über eine gemeinsame Spannungsleitung (VCC) und über eine gemeinsame Masseleitung (GND) verfügen, und- sich die gemeinsame Datenleitung (8), die gemeinsame Spannungsleitung (VCC) und die gemeinsame Masseleitung (GND) an einer den Halbleiterbauteilen (1) zugewandten Seite der Montageplattform (11) befinden.
Patent DE-112015001615-B4 (DE)
Title: Bauteilelement für eine Co-Extrusionsdüse mit rechteckigem Zufuhrkanal und Co-Extrusionsdüse
Inventor: PLANETA MIROSLAV
IPC: B29C48/10
Filed: 2015-04-02
Granted: 2018-04-12
Abstract: Bauteilelement für eine Extrusionsdüse für Mehrschichtfolie, wobei: das Bauteilelement (302; 304) eine kanalbildende Oberfläche (332; 334) aufweist; das Bauteilelement (302; 304) wenigstens einen offenen Zufuhrkanal (342; 344), ausgebildet in der kanalbildenden Oberfläche (332; 334) aufweist; jeder Zufuhrkanal (342; 344) von einem Zufuhrkanaleinlass (346; 348) kontinuierlich in Tiefe abnimmt; wobei jeder Zufuhrkanal (342; 344) von im Wesentlichen konstanter Breite und im Wesentlichen rechteckigem Querschnitt entlang im Wesentlichen der ganzen Ausdehnung des jeweiligen Zufuhrkanals (342; 344) ist.
Patent DE-112015003182-B4 (DE)
Title: Einrichtung und Verfahren zur Erfassung von elektrischen Potentialen
Inventor: SATTLER FRANK
IPC: H03F3/45
Filed: 2015-07-02
Granted: 2018-10-25
Abstract: Einrichtung zur Erfassung von elektrischen Potentialen des Körpers eines Patienten (1) mit einer Mehrzahl von Eingängen (Y, ..., Y) zur Verbindung mit Messelektroden (11), die am Körper des Patienten (1) platziert werden können,undmit einer Vielzahl von Ausgängen (A, ..., A),wobei jeder der Eingänge (Y, ..., Y) mit einem Ausgang (A, ..., A) über einen Verstärker (Op, ..., Op) verbunden ist,wobei eine Summiereinheit (13) vorhanden ist, die mit den Ausgängen (A, ..., A) verbunden ist und die ausgestaltet ist, einen Mittelwert der Signale (E, ..., E) der Ausgänge (A, ..., A) der Verstärker (Op, ..., Op) auszugeben,dadurch gekennzeichnet,dass eine Subtrahiereinheit (19) vorhanden ist, die der Summiereinheit (13) nachgeordnet ist und die ausgestaltet ist, die Ausgabe der Summiereinheit (13) verstärkt um einen Verstärkungsfaktor (1/β) von einer Ausgabe der Subtrahiereinheit (19) zu subtrahieren,dass die Ausgabe der Subtrahiereinheit (19) mit den Eingängen der Verstärker (Op, ..., Op) verbunden ist unddass der Verstärkungsfaktor (1/β) in der Subtrahiereinheit (19) und eine Verstärkung (β') der Verstärker (Op, ...,Opn) für die Ausgabe der Subtrahiereinheit (19) derart angepasst sind, dass der Kehrwert des Verstärkungsfaktors (1/β) der Verstärkung (β') entspricht.
Patent DE-112015003614-B4 (DE)
Title: Schaltstellung-Erfassungsvorrichtung für Fahrzeug und Schaltsteuerungsvorrichtung für Fahrzeug
Inventor: TSUTSUMI TAKAHIKO
IPC: G01D18/00
Filed: 2015-08-03
Granted: 2021-07-01
Abstract: Schaltstellung-Erfassungsvorrichtung für ein Fahrzeug, wobei die Schaltstellung-Erfassungsvorrichtungeinen Wählhebel (32);einen Magneten (62), welcher integral in dem Wählhebel (32) angeordnet ist; vier oder mehr Sensoren (64, 66, 68, 70), welche an dem Magneten (62) zugewandten Positionen angeordnet sind; undeine elektronische Steuerungseinheit (20) umfasst, die dazu ausgelegt ist:(i) eine Schaltstellung des Wählhebels (32) basierend auf Signalen zu bestimmen, die von den vier oder mehr Sensoren (64, 66, 68, 70) ausgegeben werden, wenn der Magnet (62) bezüglich der vier oder mehr Sensoren (64, 66, 68, 70), im Ansprechen auf eine Betätigung des Wählhebels (32), relativ verschoben wird; und(ii) die Schaltstellung basierend auf Signalen zu bestimmen, die von den übrigen drei oder mehr Sensoren der vier oder mehr Sensoren (64, 66, 68, 70) ausgegeben werden, welche als normal bestimmt sind, wenn einer der vier oder mehr Sensoren (64, 66, 68, 70) als abnormal bestimmt ist; dadurch gekennzeichnet, dassdie elektronische Steuerungseinheit (20) ferner dazu ausgelegt ist,(iii) eine Abnormität basierend darauf zu bestimmen, ob oder ob nicht die übrigen drei oder mehr Sensoren während der Fahrt des Fahrzeugs ein Signal ausgeben, das einer Schaltstellung entspricht, welche einen Fall des Fahrens in eine Richtung entgegen einer derzeitigen Fahrtrichtung des Fahrzeugs betrifft.
Patent DE-112015003797-B4 (DE)
Title: Gasturbine
Inventor: SAKAMOTO YASURO
IPC: F23R3/46
Filed: 2015-08-19
Granted: 2022-08-18
Abstract: Gasturbine (10), umfassend:einen Kompressor (11), der konfiguriert ist, um Luft zu verdichten,eine Mehrzahl von Brennkammern (12), die in einer ringförmigen Konfiguration um einen Rotor (32) angeordnet sind, wobei jede der Brennkammern (12) konfiguriert ist, um eine Mischung aus Druckluft, die vom Kompressor (11) verdichtet wird, und Brennstoff zu verbrennen,eine Turbine (13), die konfiguriert ist, um eine Drehkraft vom einem Verbrennungsgas, das von den Brennkammern (12) erzeugt wird, zu beziehen, wobeigeneigte Flächen (64) an Innenflächen von Seitenwänden (62), die in einer Umfangsrichtung (C) an stromabwärtige Endabschnitte von Übergangsstücken (43) der Brennkammern (12) angrenzen, vorgesehen sind, wobei die geneigten Flächen (64) konfiguriert sind, um einen Durchlassbereich der Übergangsstücke (43) zu vergrößern, undein S/P-Verhältnis zwischen 0 und 0,2 ist, wobei P eine Teilungsabstandsabmessung von Flügeln (27) der ersten Stufe der Turbine (13) und S eine Umfangsabmessung von einem Zwischenpunkt (M) zwischen angrenzenden Übergangsstücken (43) der Übergangsstücke (43) zu einem stromaufwärtigen Ende (27a) eines in der Umfangsrichtung (C) nächstliegenden Flügels (27) der Flügel (27) der ersten Stufe ist,dadurch gekennzeichnet, dass ein L/P-Verhältnis zwischen 0,3 und 0,55 ist, wobei P die Teilungsabstandsabmessung ist und L eine Axialabmessung von einem stromabwärtigen Ende des Übergangsstücks (43) zu dem stromaufwärtigen Ende (27a) des nächstliegenden Flügels (27) der ersten Stufe ist.
Patent DE-112016004824-B4 (DE)
Title: Rohrelement, Wärmerohr und Kühlvorrichtung
Inventor: KODA TAKAHIRO
IPC: F28D15/02
Filed: 2016-08-02
Granted: 2021-08-05
Abstract: Rohrelement (210) für ein Wärmerohr (20, 30) und dazu ausgebildet, ein Arbeitsmittel (220) in seinem Inneren einzuschließen und Wärme durch eine Bewegung des Arbeitsmittels zu übertragen, wobei das Rohrelement aufweist:einen beliebig biegbaren Rohrhauptkörper (211), dessen beide Enden (211a, 211b) verschlossen sind;eine Trennwand (212), die sich so in eine axiale Richtung (D1) des Rohrhauptkörpers erstreckt, dass das Innere des Rohrhauptkörpers in wenigstens vier Durchgänge (213) unterteilt wird, die jeweils als Strömungsweg des Arbeitsmittels ausgebildet sind; undVerbindungswege (214a, 214b), die ermöglichen, dass zumindest einer der Durchgänge mit einem weiteren Durchgang in Verbindung steht, der an den einen der Durchgänge angrenzt,wobei die Verbindungswege in der Nähe der beiden jeweiligen Enden des Rohrhauptkörpers so bereitgestellt werden, dass ein einzelner Schleifendurchgang im Inneren des Rohrhauptkörpers zwischen dessen verschlossenen Enden ausgebildet wird, undwobei es sich bei dem Rohrhauptkörper um ein Rundrohr handelt, dessen Querschnittsform orthogonal zu der axialen Richtung eine Kreisform ist, und die Trennwand eine Vielzahl von Wandabschnitten (212a) umfasst, die sich radial in der Radiusrichtung (D2) von einer Mittelachse des Rohrhauptkörpers zu einer inneren Fläche des Rohrhauptkörpers erstrecken.
Patent DE-112017003117-B4 (DE)
Title: Hydraulische Dehnspanneinrichtung
Inventor: CANTZ NICO
IPC: B23B31/00
Filed: 2017-06-23
Granted: 2022-10-13
Abstract: Hydraulische Dehnspanneinrichtung (1), insbesondere zum Fixieren eines Werkzeugs an einer Werkzeugmaschine, mit einem eine Spannachse (X) definierenden Grundkörper (2), an dessen vorderem Endbereich ein Spannbereich mit einer zur vorderen Stirnfläche (3) des Grundkörpers (2) hin offenen zentralen Aufnahme (4) ausgebildet ist, wobei die Aufnahme (4) von einer mit einem Hydraulikmittel beaufschlagbaren Druckkammer (5) ringförmig umgeben ist oder von mehreren in Umfangsrichtung nebeneinander liegenden und sich um die Aufnahme (4) erstreckenden Druckkammern umgeben ist, und die Wandung (6) zwischen der Aufnahme (4) und der Druckkammer (5)/den Druckkammern derart ausgebildet ist, dass sie durch eine Druckerhöhung in der Druckkammer (5)/den Druckkammern (5) elastisch nach innen verformbar ist, um ein in die Aufnahme (4) eingesetztes zylindrisches Bauteil kraftschlüssig zu fixieren, dadurch gekennzeichnet, dass in der vorderen Stirnfläche (3) des Grundkörpers eine Ringnut (8) ausgebildet ist, welche sich ringförmig um die Aufnahme (4) erstreckt und radial nach innen zu der Aufnahme (4) hin offen ist und in welcher ein Spannring (9) vorgesehen ist, der an mehreren entlang des Umfangs verteilt angeordneten Verbindungsstellen mit der Umfangsfläche der Ringnut (8) kraftschlüssig oder stoffschlüssig verbunden ist, in den zwischen den Verbindungsstellen liegenden Bereichen jedoch radial von der Umfangsfläche der Ringnut (8) beabstandet ist, wobei der Spannring (9) bei einer Druckerhöhung in der Druckkammer (5)/den Druckkammern an den Verbindungsstellen elastisch nach außen und in den zwischen den Anlagestellen liegenden Umfangsbereichen elastisch nach innen verformt wird und in einem druckentlasteten Zustand der Druckkammer (5)/den Druckkammern eine kreisrunde Innenkontur mit einem zu dem Durchmesser der Aufnahme (4) korrespondierenden Durchmesser besitzt.
Patent DE-112018007456-B4 (DE)
Title: Halbleitervorrichtung, Halbleiterwafer und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung
Inventor: TABUCHI SHINICHI
IPC: H01L21/66
Filed: 2018-04-11
Granted: 2024-01-25
Abstract: Halbleitervorrichtung (100, 200, 300, 400), aufweisend:ein Halbleitersubstrat (10), das einen effektiven Bereich (10c), wo ein Hauptstrom fließen soll, und einen ineffektiven Bereich (10d, 210d, 310d, 410d), der den effektiven Bereich (10c) umgibt, aufweist:eine obere Oberflächenelektrodenschicht (40), die auf einer oberen Oberfläche des Halbleitersubstrats (10) vorgesehen ist; undeine rückseitige Oberflächenelektrodenschicht (46), die auf einer rückseitigen Oberfläche des Halbleitersubstrats (10) vorgesehen ist, wobeidas Halbleitersubstrat (10) enthält:eine Lebensdauer-Steuerungsschicht (50), die in dem effektiven Bereich (10c) vorgesehen ist und eine höhere Kristalldefektdichte als deren Umgebung aufweist;eine Messschicht (30, 230, 330, 430), die an einer Seite der oberen Oberfläche des ineffektiven Bereichs (10d, 210d, 310d, 410d) vorgesehen ist; undeine Kristalldefektschicht (51, 52, 351, 352), die in dem ineffektiven Bereich (10d, 210d, 310d, 410d) vorgesehen ist und eine höhere Kristalldefektdichte als deren Umgebung aufweist,die obere Oberflächenelektrodenschicht (40) eine Vielzahl von Messelektroden (44) enthält, die auf der Messschicht (30, 230, 330, 430) vorgesehen sind,die Messschicht (30, 230, 330, 430) eine leitfähige Schicht (28d, 328d) zumindest bei einem Teilbereich enthält, wo die Vielzahl von Messelektroden (44) vorgesehen ist, unddie Kristalldefektschicht (51, 52, 351, 352) wie aus einer zur oberen Oberfläche des Halbleitersubstrats (10) orthogonalen Richtung betrachtet zwischen der Vielzahl von Messelektroden (44) vorgesehen ist.
Patent CZ-281750-B6 (CZ)
Inventor: HORVATH GYORGYI ING
IPC: H01J61/34
Filed: 1992-01-28
Abstract: Vysokotlaká výbojková žárovka, mající  výbojkovou trubici (5), obal (1) a přívodní  vodič (4), přičemž getrový kroužek (6) je  umístěn ve vakuovém prostoru mezi obalem (1) a  výbojkovou trubicí (5) pro vytvoření getrové  vrstvy za účelem udržení vakua ve zmíněném  prostoru, přičemž povrch getrového materiálu (7)  v getrovém kroužku (6) je uložen naproti jedné  straně stisknutí nožky (2), zmíněný povrch svírá  s geometrickou osou žárovky úhel až 90 .sup.o.n.,  především mezi 35-45 .sup.o.n..ŕ