baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent TW-I644338-B (TW)
Inventor: CHEN CHUN LIN
IPC: H01H13/26
Filed: 2017-06-12
Granted: 2018-12-11
Abstract: 本發明提供一種鍵盤，其包括數個按鍵模組，每一按鍵模組包括一底座、一置於底座上的電路薄膜、一置於電路薄膜頂面的金屬彈片、一置於金屬彈片上的彈性觸發件、及一設置於彈性觸發件上方的鍵帽。其中彈性觸發件及剪刀型元件構成一升降觸發模組。電路薄膜具有一導通電路；金屬彈片具有一中央開孔，中央開孔的位置對應於電路薄膜的導通電路；彈性觸發件的底面突出一觸發柱，觸發柱穿過金屬彈片的中央開孔。當鍵帽被按壓時，彈性觸發件的觸發柱向下位移以抵接於導通電路而產生一導通訊號。上述升降觸發模組可以是以雙料射出成型方法製造。
Patent TW-I717525-B (TW)
Inventor: KAMIYA KAZUNOBU
IPC: C08G59/20
Filed: 2017-06-13
Granted: 2021-02-01
Abstract: 一種熱硬化型環氧基樹脂組成物，其含有：環氧基樹脂；潛在性硬化劑，其係以聚脲樹脂所構成，且保持鋁螯合物的多孔質粒子；及硼酸。
Patent TW-I656686-B (TW)
Title: 天線結構及具有該天線結構的無線通訊裝置
Inventor: CHIH JUNG-SHENG
IPC: H01Q1/24
Filed: 2017-07-20
Granted: 2019-04-11
Abstract: 一種天線結構包括金屬件、第一饋入部及接地部，金屬件包括金屬前框、金屬背板及金屬邊框，金屬邊框上開設有開槽，金屬前框上開設第一斷點及第二斷點，其與開槽連通並延伸至隔斷金屬前框，第一斷點與第二斷點之間的金屬前框形成第一輻射段，第一斷點與開槽的一個末端之間對應的金屬前框形成第三輻射段，第一饋入部饋入電流至第一輻射段並沿第一輻射段分別流向第一斷點及第二斷點以分別激發第一頻段與第二頻段的輻射訊號，電流還耦合至第三輻射段以激發第四頻段的輻射訊號。還提供一種具有該天線結構的無線通訊裝置。
Patent TW-I633464-B (TW)
Inventor: CHIU WEI CHENG
IPC: G01P15/00
Filed: 2017-08-31
Granted: 2018-08-21
Abstract: 一種處理方法包含獲取由設置於實體物件上之攝影機所拍攝的即時影像；獲取實體物件之移動方向、實體物件之速度以及實體物件之加速度中的一或多個；以及控制顯示裝置顯示對應於第一事件之即時影像，以響應依據實體物件之移動方向、實體物件之速度以及實體物件之加速度中的一或多個而被觸發之第一事件。
Patent TW-I804473-B (TW)
Title: 氯丁二烯橡膠乳膠接著劑組合物
Inventor: ONOZUKA MASAO
IPC: C09J111/02
Filed: 2017-09-01
Granted: 2023-06-11
Abstract: 本發明提供一種初期接著強度、常態接著強度優異，且與被黏著體之耐熱蠕變性優異之氯丁二烯橡膠乳膠接著劑組合物。 本發明係以如下之氯丁二烯橡膠乳膠接著劑組合物作為構成，該氯丁二烯橡膠乳膠接著劑組合物含有：含有氯丁二烯單體與乙烯性不飽和羧酸之共聚物、及聚乙烯醇的羧基改性氯丁二烯系共聚物乳膠(A)、含有氯丁二烯均聚物或氯丁二烯單體與其他單體之共聚物、及松脂酸金屬鹽的氯丁二烯系聚合物乳膠(B)、及氯化聚烯烴樹脂乳液(C)；且上述羧基改性氯丁二烯系共聚物乳膠(A)與上述氯丁二烯系聚合物乳膠(B)之含量以固形物成分換算比計為80：20～20：80。
Patent TW-I720249-B (TW)
Title: A method and system of monitoring and controlling deformation of a wafer substrate
Inventor: ASHRAF HUMA
IPC: H01L21/67
Filed: 2017-09-05
Granted: 2021-03-01
Abstract: A method and system are disclosed for monitoring and controlling deformation of a wafer substrate during a plasma etching of the wafer substrate. The method comprises the steps of: disposing a wafer substrate on a platen assembly within a process chamber so that an entire upper surface of the wafer is exposed; passing a process gas into the process chamber; applying a radio frequency bias voltage to the platen assembly; generating a plasma within the process chamber; monitoring a voltage difference between the platen assembly and the process chamber, during the etch process; attenuating or extinguishing the plasma to prevent further etching once a threshold monitored voltage is reached.
Patent TW-I634050-B (TW)
Inventor: FU CHI-YI
IPC: B65B13/02
Filed: 2017-09-11
Granted: 2018-09-01
Abstract: 一種綑綁輔助裝置包括底板、第一遮牆、第一暫時固定元件、第二遮牆、第二暫時固定元件以及第三暫時固定元件。底板包括相接之第一側邊與第二側邊。第一遮牆設置於底板之第一側邊，第一暫時固定元件設置於第一遮牆與底板相接處。第二遮牆設置於底板之第二側邊，且第二遮牆與第一遮牆相連接。第二暫時固定元件設置於第二遮牆與底板相接處。第三暫時固定元件設置於第一遮牆與第二遮牆相連接處，且第三暫時固定元件的設置位置高於該第一暫時固定元件及該第二暫時固定元件的設置位置。以方便利用綑綁輔助裝置來進行紙箱等物品的綑綁打包。
Patent TW-I625968-B (TW)
Inventor: SHIN SEUNG CHUL
IPC: G03B29/00
Filed: 2017-09-20
Granted: 2018-06-01
Abstract: 本發明涉及具有21度水平視角之長波長紅外線攝影機及攝影機用鏡頭，其中，由模製成型用光學材料形成，包括：凹面(R2)，用於對從被拍攝體入射的光進行第一次折射；以及凸面(R3)，用於對穿過上述凹面(R2)的光進行第二次折射，上述凹面(R2)和凸面(R3)根據以下式1、表1及表2的關係而定：
       
     
       
         
       
     
     其中，k為圓錐曲面係數，A4、A6、A8及A10為非球面係數，h為從光軸至凹面或凸面的距離，c表示中心曲率，
       
     其中，曲率半徑和面厚度具有±0.5%的公差，(凹面(R2)的直徑)/(凸面(R3)的直徑)為0.57(±0.5%的公差)。
Patent TW-I643326-B (TW)
Title: 攝像裝置之製造方法及攝像裝置
Inventor: KAMINO TAKESHI
IPC: H01L27/146
Filed: 2013-09-23
Granted: 2018-12-01
Abstract: 以覆蓋住光二極體(PD)所被配置之領域的態樣，在閘極電極(NLGE、PLGE)的側壁面，形成偏置填充物膜(OSS)。接著，將偏置填充物膜等當作佈植遮罩，形成延伸領域(LNLD、LPLD)。接著，實施去除覆蓋住光二極體所被配置之領域的偏置填充物膜的處理。接著，在閘極電極的側壁面，形成側牆絕緣膜(SWI)。接著，將側牆絕緣膜等當作佈植遮罩，形成源極‧汲極領域(HPDF、LPDF、HNDF、LNDF)。
Patent TW-I672751-B (TW)
Inventor: WANG SHENG HSIUNG
IPC: H01L21/60
Filed: 2017-10-17
Granted: 2019-09-21
Abstract: 本揭示內容提供一種製造積體電路(IC)之方法，其包含接收具有多個主動區域之IC佈局、落在上述多個主動區域上之多個導電接觸特徵，及要落在上述多個導電接觸特徵之第一子集上及與上述多個導電接觸特徵之第二子集分隔的導電通孔特徵；評估上述導電通孔特徵至上述多個導電接觸特徵之空間參數；以及根據上述空間參數更改IC佈局使得上述導電通孔特徵具有S形曲線形狀。
Patent TW-I677895-B (TW)
Inventor: Chen yi jie
IPC: H01J37/32
Filed: 2017-10-30
Granted: 2019-11-21
Abstract: 本揭露提供一種電漿設備及及電漿設備監測方法，其中電漿設備包括：一製程腔，具有一通孔；一晶圓座，設置於製程腔內；一透光元件，設置於通孔內；以及一遮光裝置，設置於透光元件上。電漿設備更包括一光學偵測器，設置於遮光裝置上；以及一光譜分析裝置，耦接於光學偵測器。
Patent TW-I647048-B (TW)
Inventor: LIAO PO-JUNG
IPC: B23P15/00
Filed: 2017-11-08
Granted: 2019-01-11
Abstract: 本發明一種扳手工具成型方法，其主要針對備置之圓形狀線材的金屬胚料進行加熱(即備料步驟與加熱步驟)，以使該金屬胚料經高溫加熱後呈現軟化態樣，而後再針對該金屬胚料整體於塑型機上進行塑型調整，亦即該金屬胚料受到推移件於模具上呈漸進式推移，以使該金屬胚料形成一握持區，以及一位於該握持區兩端之頭部區，最後趁該金屬胚料仍在高溫軟化下進行沖壓成型步驟，以將該握持區呈現出扁平狀，而該等頭部區分別成型出鎖合部(槽、孔)形態，而形成一板手之外觀輪廓，如此不但可減化加工流程與廢料降低，達到快速成型外，並且更可大幅降低機械及機械加工等成本支出，有效提升扳手工具成型效益。
Patent TW-I746699-B (TW)
Title: Computational memory cell and processing array device using the memory cells for xor and xnor computations
Inventor: SHU LEE-LEAN
IPC: G11C11/409
Filed: 2017-11-15
Granted: 2021-11-21
Abstract: A memory cell and processing array that has a plurality of memory are capable of performing logic functions, including an exclusive OR (XOR) or an exclusive NOR (XNOR) logic function. The memory cell may have a read port in which the digital data stored in the storage cell of the memory cell is isolated from the read bit line.
Patent TW-I698921-B (TW)
Title: 配線基板之加工方法
Inventor: SATO MUNEYUKI
IPC: H01L21/30
Filed: 2017-12-01
Granted: 2020-07-11
Abstract: 本發明之配線基板之加工方法係包含局部地配置於基板上之導體部由形成填料之無機構件分散於有機構件中而成之樹脂部被覆之構成的配線基板之加工方法，該加工方法使用灰化法，而自上述樹脂部之表層側去除上述有機構件，且使用濕式清洗法，將殘存於去除了上述有機構件之樹脂部之表層側之上述無機構件去除。
Patent TW-I701168-B (TW)
Title: 高流量二階段氣嘴
Inventor: MOORE WAYNE-IAN
IPC: F16K15/20
Filed: 2017-12-01
Granted: 2020-08-11
Abstract: 本發明一種高流量二階段氣嘴，包括在外導管小徑氣孔段的內導槽導
引組合該外導套的外導部，據以在該調節套的內導螺紋與外導螺紋的螺旋操作形成軸向位移，藉該外導套套組於閥桿的外環槽以避免佔據閥桿進氣道的內部空間，使閥桿的進氣道能以大出口面積以形成較大氣流量，於第一階段充氣(或洩氣)時以較大氣出口面積以放大氣流量而達到加快充氣速度，而第二階充氣(或洩氣)時透過高壓小流量的微幅調節，能精準控制充氣(或洩氣)到預期壓力值，而提供較佳的品質的充氣與使用進步性。
Patent TW-I656518-B (TW)
Inventor: CHAN SHENG-WEI
IPC: G08G1/14
Filed: 2017-12-05
Granted: 2019-04-11
Abstract: 本發明揭示一種停車格辨識系統及其方法，其中，該方法包括：接收第一停車格標線影像；辨識該第一停車格標線影像中的複數角；選擇兩個相鄰之該角配對成為一停車角組；以及利用該停車角組，辨識出第一標示停車格。
Patent TW-I649613-B (TW)
Inventor: LIU TZU-HAN
IPC: G03F1/82
Filed: 2017-12-15
Granted: 2019-02-01
Abstract: 一種光罩承載盒用以承載一光罩裝置，光罩承載盒包括一殼體以及一抽氣裝置。殼體包括一容置空間、一進氣孔以及一抽氣口，光罩裝置適於設置於容置空間內，且進氣孔經配置以將一清潔氣體注入殼體的容置空間內。抽氣裝置設置於殼體上，以對容置空間進行抽氣。本發明實施例更提供一種光罩裝置的承載及清潔方法。
Patent TW-I636221-B (TW)
Title: Cooking machine
Inventor: CHANG HONG-I
IPC: F24C7/02
Filed: 2018-01-09
Granted: 2018-09-21
Abstract: 本創作包含一微波半腔體、一第一、二移載元件與一盛裝一受熱物的烹煮載具，其中該微波半腔體相對該烹煮載具上下移動並與該烹煮載具對應組合形成一加熱腔體，該烹煮載具可翻轉的樞設於該第一移載元件上，且藉由該第一移載元件的移載而具有一初始位置與一加熱位置，一清洗元件與一出菜元件設置於該第二移載元件上，且藉由該第二移載元件的移載而輪流進入該烹煮載具的下方，據此盛裝該受熱物的烹煮載具藉由該第一移載元件的移載可進入該加熱位置而進行烹煮，並在烹煮後，該烹煮載具可移動至該初始位置並翻轉讓該受熱物掉落至該出菜元件上，且可藉由該清洗元件對該烹煮載具進行清洗，其為自動化完成烹煮與清洗作業，因而相當適合商業上大量應用。
Patent TW-I673481-B (TW)
Inventor: Huang cheng sheng
IPC: G01J3/18
Filed: 2018-02-02
Granted: 2019-10-01
Abstract: 本發明揭示一種共振波長量測裝置，包含光源以及量測單元。量測單元具有導模共振濾波器及感光元件。其中，導模共振濾波器具有複數個共振區，每一共振區具有彼此相異之濾波特性，用以接收由感測器所透射之光源中之第一光線；或接收由感測器所反射之光源中之第二光線。第一光線於感光元件上具有對應之第一對應像素，第二光線於感光元件上具有對應之第二對應像素，並且第一對應像素及第二對應像素對應相同之共振波長。
Patent TW-I650701-B (TW)
Title: 適用於窄邊框觸控面板的線路佈局裝置
Inventor: LI XUAN-YUN
IPC: G06F3/047
Filed: 2018-02-12
Granted: 2019-02-11
Abstract: 本發明提供了一種適用於窄邊框觸控面板的線路佈局裝置，其利用邊框油墨區與可視區(觸控功能區)之間的緩衝區域設置透明電路走線，並揭示於可視區設置透明電路走線的技術，以減少邊框油墨區金屬電路走線的數量。本發明改變原有觸控面板的電路走線設計，有效減少邊框油墨區金屬電路走線的數量，可降低製造成本且具有窄邊框效果的觸控面板。
Patent TW-I751310-B (TW)
Title: 環氧樹脂、製造方法、環氧樹脂組成物及其硬化物
Inventor: YAMOTO KAZUHISA
IPC: C08J5/24
Filed: 2018-03-22
Granted: 2022-01-01
Abstract: 本發明的課題在於提供流動性、硬化性優異，且所得硬化物之耐濕性、機械強度也良好，可適用在半導體密封材料、電路基板等之環氧樹脂、其製造方法、及含有該環氧樹脂之環氧樹脂組成物與其硬化物。具體來說，一種環氧樹脂，其係以可具有碳數1~8之烷基作為芳香環上之取代基之二羥苯之環氧化物為主要成分的環氧樹脂(A)，其特徵係GPC測定之最大波峰之面積比率為90%以上的環氧樹脂；其製造方法、使用此之環氧樹脂組成物、及其硬化物。
Patent TW-I658896-B (TW)
Title: 門型加工中心機之刀庫旋轉機組
Inventor: CHANG CHING-SAN
IPC: B23Q3/157
Filed: 2018-04-03
Granted: 2019-05-11
Abstract: 一種門型加工中心機之刀庫旋轉機組，係應用於加工中心機，其包括基座、圓盤式刀庫與馬達。其中圓盤式刀庫受馬達驅使而可轉動地連接於基座的一端，圓盤式刀庫係以第一軸線為轉動中心，馬達呈橫向擺設於圓盤式刀庫上，且馬達的動力輸出軸以第二軸線為轉動中心，其中第一軸線與第二軸線呈垂直向設置。如此，可以減縮馬達占用空間，亦使檢修更為方便、容易。
Patent TW-I751329-B (TW)
Inventor: SUMAN SHISHIR
IPC: G06Q50/04
Filed: 2018-04-25
Granted: 2022-01-01
Abstract: Methods and systems for transforming positions of defects detected on a wafer are provided. One method includes aligning output of an inspection subsystem for a first frame in a first swath in a first die in a first instance of a multi-die reticle printed on the wafer to the output for corresponding frames, swaths, and dies in other reticle instances printed on the wafer. The method also includes determining different swath coordinate offsets for each of the frames, respectively, in the other reticle instances based on the swath coordinates of the output for the frames and the corresponding frames aligned thereto and applying one of the different swath coordinate offsets to the swath coordinates reported for the defects based on the other reticle instances in which they are detected thereby transforming the swath coordinates for the defects from swath coordinates in the other reticle instances to the first reticle instance.
Patent TW-I754756-B (TW)
Title: 感放射線性樹脂組成物及抗蝕劑圖案形成方法
Inventor: KANEKO Tetsurou
IPC: H01L21/027
Filed: 2018-06-05
Granted: 2022-02-11
Abstract: 一種感放射線性樹脂組成物，其包含：第1聚合物，具有含有酚性羥基的第1結構單元及含有酸解離性基的第2結構單元；第2聚合物，具有氟原子及矽原子的至少一者，且具有含有鹼解離性基的第3結構單元；第1化合物，藉由放射線的照射而產生使所述酸解離性基於80℃以上且130℃以下的溫度T X ℃及1分鐘的條件下發生解離的酸；以及第2化合物，藉由放射線的照射而產生使所述酸解離性基於所述溫度T X ℃及1分鐘的條件下實質上不發生解離的羧酸、使所述酸解離性基於所述溫度T X ℃及1分鐘的條件下實質上不發生解離的磺酸或該些的組合。
Patent TW-I690244-B (TW)
Title: 電漿處理裝置
Inventor: YAMAZAKI KOJI
IPC: H01J37/34
Filed: 2018-06-26
Granted: 2020-04-01
Abstract: 電漿處理裝置，係具備：    　　具有第1不平衡端子、第2不平衡端子、第1平衡端子及第2平衡端子的第1巴倫；    　　具有第3不平衡端子、第4不平衡端子、第3平衡端子及第4平衡端子的第2巴倫；    　　被接地的真空容器；    　　被電性連接至前述第1平衡端子及第3平衡端子的第1電極；    　　被電性連接至前述第2平衡端子的第2電極；及    　　被電性連接至前述第4平衡端子的第3電極。
Patent TW-I778090-B (TW)
Inventor: CHIN CHUN-CHIEH
IPC: B05D3/06
Filed: 2018-06-27
Granted: 2022-09-21
Abstract: 一種發光裝置、其製造方法及應用其之燈條。發光裝置包括透光蓋板、第一基板、第二基板及發光二極體。第二基板配置於透光蓋板與第一基板之間。發光二極體用以發出一不可見光且配置於第二基板上。
Patent TW-I682709-B (TW)
Title: 具接種孔保持器之菇類栽培單元的菇類培育方法
Inventor: Lin jun-yi
IPC: A01G18/00
Filed: 2018-07-02
Granted: 2020-01-21
Abstract: 一種具接種孔保持器之菇類栽培單元的菇類培育方法，首先取一裝填有培養基質之菇類栽培單元，並以一工具插入於培養基質中以形成有一接種孔，接著將一接種孔保持器插設於接種孔中，接種孔保持器呈中空管狀，並於其管壁上開設有數個貫穿之透孔，最後對插設有接種孔保持器之菇類栽培單元進行一滅菌處理後，將菌種接種於接種孔保持器中。藉由接種孔保持器使接種孔可獲得有效支撐，進而確保其接種孔不會崩落，使後續接種菌種時，菌種可確實被植入培養基質中快速同時生長，而可有效縮短其後續之走菌時程，並可達成整包同時出菇之功效。
Patent TW-I680484-B (TW)
Inventor: NAGAHATA KAZUHIRO
IPC: H01H73/20
Filed: 2018-08-03
Granted: 2019-12-21
Abstract: 本發明提供一種電路遮斷器，係具備：異常檢測部，係組入於基底構件(21)的開閉機構部與負載端子(82)之間，且具有計測流通於負載配線之電流的感測器，及基於感測器所計測之信號來檢測負載配線之異常發生的異常檢測電路；以及電磁跳脫裝置(61)，係具有相應於從異常檢測部所輸出之電流而動作的電磁致動器，且設置於基底構件(21)中的開閉機構部與電源端子(81)之間，藉由電磁致動器來進行開閉機構部之跳脫動作；在基底構件(21)係設置有縱貫軌道槽(21c)的背面開口(21a)，以便能從背面側組入形成有異常檢測電路的基板(41)、以及電性連接基板(41)與電磁跳脫裝置(61)的配線(42)。
Patent TW-I713191-B (TW)
Title: Semiconductor device
Inventor: KATSUKAKE HIROYUKI
IPC: H01L27/10
Filed: 2018-08-21
Granted: 2020-12-11
Abstract: A semiconductor device according to an embodiment includes a semiconductor substrate of a first conducting type. A pad is provided on the semiconductor substrate. An internal circuit is provided on the semiconductor substrate. An electrostatic discharge protection element is provided between the pad and the internal circuit. The electrostatic discharge protection element comprises a first well of a second conducting type, a second well of a first conducting type, and a first electrode layer of a second conducting type. The first well of a second conducting type is provided in a surface region of the semiconductor substrate. The second well of a first conducting type is provided inside the first well in the surface region of the semiconductor substrate. The first electrode layer of a second conducting type is provided inside the second well in the surface region of the semiconductor substrate.
Patent TW-I759532-B (TW)
Title: 結晶化玻璃基板
Inventor: YAGI TOSHITAKA
IPC: C03B27/03
Filed: 2018-08-22
Granted: 2022-04-01
Abstract: 一種結晶化玻璃基板，表面具有壓縮應力層，將前述壓縮應力層最表面的壓縮應力設為CS(MPa)、前述壓縮應力層之壓縮應力是0MPa時之應力深度設為DOL zero (μm)、藉由曲線分析所求得的中心應力設為CT(MPa)、前述基板之厚度設為T(μm)時，前述結晶化玻璃基板之CS是400MPa至1400MPa，CT×(T-2×DOL zero )/CS×DOL zero 是0.60以上。
Patent TW-I669703-B (TW)
Inventor: YU TZU-YI
IPC: G02B27/22
Filed: 2018-08-28
Granted: 2019-08-21
Abstract: 一種適於多人觀看的資訊顯示方法，適用於包括透明顯示器及處理器的電子裝置。所述方法包括下列步驟：偵測觀看透明顯示器的多個使用者，並計算各使用者觀看透明顯示器的凝視範圍；計算使用者的凝視範圍的交集範圍，並判斷交集範圍佔凝視範圍的比例是否超過預設交集比例；若不超過預設交集比例，依據各凝視範圍顯示出現在凝視範圍內的目標物的物件資訊；以及若超過預設交集比例，依據交集範圍顯示出現在凝視範圍內的目標物的物件資訊。
Patent TW-I769307-B (TW)
Inventor: FRANCISQUINI MELQUISEDEC
IPC: H01R43/16
Filed: 2018-09-11
Granted: 2022-07-01
Abstract: 用於匯流排之結構配置，係指一種匯流排以及其結構變形，其具有基
於單、雙及三重壁的封閉管狀形式，以提供給本案匯流排與傳統的實心匯流排相比之下具有較佳機械阻力以及同等的導電性，且本案匯流排可藉由擠壓、塑形或折彎製程來製造。
Patent TW-I808993-B (TW)
Title: 光硬化性樹脂組成物及接著片
Inventor: SATO NOBUYUKI
IPC: C09J7/30
Filed: 2018-09-19
Granted: 2023-07-21
Abstract: 本發明提供一種光硬化性樹脂組成物，係即使在高溫高濕環境下使用樹脂製構件作為黏著體時，仍可抑制發泡並防止黏著體與接著片的界面剝離，並且即使在常溫貼附時之貼合步驟中，仍具有追蹤性。本發明之光硬化性樹脂組成物含有：(A)胺酯(甲基)丙烯酸酯系聚合物、(B)含羥基之(甲基)丙烯酸酯系單體及(C)光聚合起始劑；其中，(A)胺酯(甲基)丙烯酸酯系聚合物之重量平均分子量係30,000至150,000，相對於(A)胺酯(甲基)丙烯酸酯系聚合物之100質量份，含有40質量份以上之(B)含羥基之(甲基)丙烯酸酯系單體，使組成物光硬化而獲得的硬化物之於100℃的拉伸儲存彈性模數(E’)係1.0×10 6 Pa以上。
Patent TW-I789435-B (TW)
Title: 化學增強型正型感光性樹脂組成物、感光性乾薄膜、感光性乾薄膜之製造方法、圖型化阻劑膜之製造方法、附膜具基板之製造方法，及鍍敷造形物之製造方法，及氫硫化合物
Inventor: KAWAUE AKIYA
IPC: G03F7/039
Filed: 2018-09-27
Granted: 2023-01-11
Abstract: [課題]本發明提供一種化學增強型正型感光性樹脂組成物，其於具有金屬表面之基板的金屬表面上形成作為鍍敷造形物的模具之阻劑圖型時，可抑制相較於非阻劑部中的頂部(Top)(阻劑層之表面側)的寬度，底部(支撐體之表面側)之寬度為更狹窄的「腳化(footing)」之發生的化學增強型正型感光性樹脂組成物，與感光性乾薄膜、該感光性乾薄膜之製造方法，及圖型化阻劑膜之製造方法，及前述之附模具基板之製造方法，及使用該附模具基板的鍍敷造形物之製造方法。
[解決手段]一種包含經由活性光線或輻射線之照射而產生酸的酸產生劑(A)，與經由酸之作用而增大對鹼之溶解性的樹脂(B)的化學增強型正型感光性樹脂組成物中，含有特定之構造的氫硫化合物。
Patent TW-I786205-B (TW)
Inventor: MERCER GRAHAM PETER FRANCIS
IPC: G02B21/22
Filed: 2018-10-09
Granted: 2022-12-11
Abstract: 一種在具有包括孔徑的物鏡配件的顯微鏡中使用的配件。該配件包括透鏡和分光器。該透鏡和分束器被配置成在兩條光學路徑中的每一條路徑上形成相應的孔徑圖像。該配件進一步包括位於每一條光學路徑上的光闌結構。每一個光闌結構都位於相應孔徑圖像的皮康面上，由此將會阻擋相應孔徑圖像的一部分，以便提供出射光瞳，由此可以通過組合可通過每一個出射光瞳看到的物體圖像來產生通過顯微鏡查看的物體的立體圖像。該配件進一步包括兩個圖像感測器以及數字圖像處理器。每一個圖像感測器都被配置成捕獲可通過相應出射光瞳看到的圖像並輸出數字圖像。該數字圖像處理器被配置成對由每個圖像感測器輸出的相應數字圖像應用校正, 校正基於相應光闌結構的位置。
Patent TW-I685654-B (TW)
Title: Detecting method and detecting device with compensation function
Inventor: CHEN YING-TING
IPC: G01N35/00
Filed: 2018-10-15
Granted: 2020-02-21
Abstract: A detecting method with compensation function includes the following steps. After a sample is added to a first cartridge, a triggering instruction is provided to define a first time point. A start position of a reaction area of the first cartridge is detected, and a second time point is defined when a first light detecting signal greater than or equal to a predetermined value is obtained. After a predetermined time, a second light detecting signal is obtained from a color rendering band of the reaction area. A time difference between the first time point and the second time point is calculated as a first retention time. A compensation value is obtained in a lookup table according to the first retention time and the second detecting signal and the compensation value is used to compensate the second detecting signal.
Patent TW-I741223-B (TW)
Inventor: KWON YOUNG-SOO
IPC: G02B5/20
Filed: 2018-10-16
Granted: 2021-10-01
Abstract: 本發明提供著色感光性樹脂組合物、使用該著色感光性樹脂組合物而製造的圖案層、包含該圖案層的彩色濾光片、以及包含該彩色濾光片的顯示裝置。上述著色感光性樹脂組合物包含著色分散液、鹼溶性樹脂、光聚合性化合物、光聚合起始劑及溶劑，上述著色分散液包含含有有機黑色顏料、藍色顏料、紫色顏料及碳黑的著色劑、分散樹脂以及溶劑，該分散樹脂含有下述化學式1的共聚物，化學式1中，R 1 及R 2 各自獨立為氫或甲基，a單體與b單體的莫耳比為1：20至20：1。
Patent TW-I689325-B (TW)
Inventor: CHEN TAI-YI
IPC: A61M5/31
Filed: 2018-10-25
Granted: 2020-04-01
Abstract: 一種免針連接器，包括一導流座、一連接座、一閥構件
以及一密封件。導流座具有一導管。導管沿一軸向朝下延伸。連接座設置在導流座上且具有一螺合部及一貫穿螺合部的通道。導流座與連接座之間形成一腔室，且導管與通道分別沿軸向連通於腔室。閥構件設置在導流座與連接座之間，且可移動地位於該腔室內。密封件設置在閥構件遠離導管的一端，且適於在一製程中連結為一體。
Patent TW-I793210-B (TW)
Inventor: DEO HAMMOND
IPC: F04B41/00
Filed: 2018-11-13
Granted: 2023-02-21
Abstract: A module for a vacuum pumping and/or abatement system. The module comprises a frame defining a space, a plurality of facilities inputs configured to receive facilities from a facilities supply, a plurality of facilities outputs configured to output the received facilities out of the module, and a plurality of facilities connection lines located at least partially within the space defined by the frame. The plurality of facilities connection lines connect the facilities inputs to the facilities outputs. The module further comprises a controller configured to control supply of facilities received at the facilities inputs out of the facilities outputs; and control operation of one or more vacuum pumping and/or abatement apparatuses remote from the module.
Patent TW-I693743-B (TW)
Inventor: CHOU JUI HUNG
IPC: H01Q21/00
Filed: 2018-11-23
Granted: 2020-05-11
Abstract: 本發明公開一種高頻天線裝置，包含適用在介於20GHz~45GHz的操作頻段，所述高頻天線裝置包含基板、設置於基板相反兩側的天線陣列與處理晶片、及安裝於基板的兩個連接器。天線陣列包含有間隔設置且排成M列的多個天線，M為正整數，並且每個天線為能夠水平極化與垂直極化的雙極化金屬片。所述操作頻段的中心頻率對應於一波長，並且任兩個相鄰天線的中心點間隔有介於0.25~0.75倍波長的間距。處理晶片電性耦接於多個天線與兩個連接器。兩個連接器分別於電性上對應於每個天線的所述水平極化與垂直極化。此外，本發明也公開一種高頻天線裝置的天線陣列。
Patent TW-I673196-B (TW)
Inventor: WEI CHIA-LIANG
IPC: B62K25/00
Filed: 2018-11-27
Granted: 2019-10-01
Abstract: 本發明係有關於一種機車結構，包括有一車架以及一懸吊組。車架具有一第一定位點及一第二定位點，懸吊組包括一連結支撐桿、一懸吊臂以及一避震器，連結支撐桿係以一第一轉軸樞設於車架上，懸吊臂係以一第二轉軸樞設於連結支撐桿上，而避震器連接連結支撐桿及懸吊臂。當懸吊組於展開狀態時，連結支撐桿卡扣第一定位點，可供騎乘者騎乘行駛；當懸吊組於收折狀態時，懸吊臂卡扣第二定位點，可供騎乘者攜帶收折。藉此，本發明之機車結構經由收折調整後可有效縮短整車軸距，使車體可輕易置放於有限空間裡並可載運至各樓層，增進使用者攜帶時之便利性。
Patent TW-I703529-B (TW)
Title: A method for calculating a growth stage of a crop and computer program product
Inventor: WU CHUN-HSIAO
IPC: G16B40/00
Filed: 2018-12-27
Granted: 2020-09-01
Abstract: A method for calculating a growth stage of a crop includes: establishing a basic growth model including a plurality of environmental ecological data and a number of days required for a crop in a growth stage; using a machine learning algorithm using a plurality of historical data corresponding to the plurality of environmental ecological data and the number of days in the growth stage, a plurality of features of the basic growth model are automatically adjusted, and an optimized growth model is established; and a predicted number of days of the growth stage of the crop is calculated by the optimized growth model based on a plurality of current data corresponding to the plurality of environmental ecological data.
Patent TW-I808116-B (TW)
Title: 高折射率光學硼酸鹽玻璃
Inventor: GUO XIAOJU
IPC: C03C3/155
Filed: 2019-01-17
Granted: 2023-07-11
Abstract: 一種硼酸鹽玻璃包括：從25.0 mol%至70.0 mol% B 2 
O 3 
；從0.0 mol%至10.0 mol% SiO 2 
；從0.0 mol%至15.0 mol% Al 2 
O 3 
；從3.0 mol%至15.0 mol% Nb 2 
O 5 
；從0.0 mol%至12.0 mol%鹼金屬氧化物；從0.0 mol%至5.0 mol% ZnO；從0.0 mol%至8.0 mol% ZrO 2 
；從0.0 mol%至15.0 mol% TiO 2 
；小於0.5 mol% Bi 2 
O 3 
；及小於0.5 mol% P 2 
O 5 
。此光學硼酸鹽玻璃包括B 2 
O 3 
+ Al 2 
O 3 
+ SiO 2 
的總和為從35.0 mol%至76.0 mol%，CaO + MgO的總和為從0.0 mol%至35.5 mol%。此硼酸鹽玻璃具有在587.6 nm量測大於1.70之折射率、小於4.50 g/cm 3 
之密度、及從20.0至47.0之阿貝數(Abbe number)，V D 
。
Patent TW-I692082-B (TW)
Title: 半導體記憶裝置
Inventor: OHTORI HIROYUKI
IPC: H01L27/115
Filed: 2019-01-21
Granted: 2020-04-21
Abstract: 實施形態提供一種可提高動作性能之半導體記憶裝置。  實施形態之半導體記憶裝置具備：複數個第1導電層34、35_0～35_3、36，其等於第1方向上積層，並分別沿著與第1方向交叉之第2方向及第3方向延伸；複數個記憶柱MP，其等設置於複數個第1導電層之矽部，且於矽部分別沿著第1方向延伸；及複數個接觸插塞CP1，其等設置於複數個第1導電層之第2金屬部，並分別沿著第1方向延伸；上述複數個第1導電層34、35_0～35_3、36分別具有：一對第1金屬部，其等分別沿著第2方向延伸且相互隔開地設置，且包含金屬；矽部，其設置於一對第1金屬部之間，且包含矽；及第2金屬部，其設置於矽部之第2方向之至少一端，於一對第1金屬部之間沿著第3方向延伸並電性連接於第1金屬部，且包含金屬。
Patent TW-I680981-B (TW)
Title: 含矽化合物、胺甲酸乙酯樹脂、伸縮性膜、及其形成方法
Inventor: HATAKEYAMA JUN
IPC: C08G18/67
Filed: 2019-02-25
Granted: 2020-01-01
Abstract: 本發明提供有優良的伸縮性及強度且膜表面之撥水性亦優良的伸縮性膜及其形成方法、該伸縮性膜中使用的胺甲酸乙酯樹脂、及成為該胺甲酸乙酯樹脂之材料之含矽化合物。下式(1)表示之含矽化合物。
        [化1]
         式中，R
         1 、R
         2 、R
         3 、R
         4 、R
         5 、及R
         6 為碳數1~6之直鏈狀、分支狀、環狀之烷基、苯基、3,3,3-三氟丙基、或-(OSiR
         7 R
         8 )
         n -OSiR
         9 R
         10 R
         11 表示之基。R
         7 、R
         8 、R
         9 、R
         10 、及R
         11 和R
         1 ~R
         6 的含意相同，n為0~100之範圍之整數。A為碳數3~6之直鏈狀、分支狀之伸烷基，m為1~3之範圍之整數。
Patent TW-I714048-B (TW)
Title: Substrate carrier, method of patterning a plurality of substrates and processing system
Inventor: LAI CHIEN-HUA
IPC: H01L21/67
Filed: 2019-04-08
Granted: 2020-12-21
Abstract: Embodiments herein beneficially enable simultaneous processing of a plurality of substrates in a digital direct write lithography processing system. In one embodiment a method of processing a plurality of substrate includes positioning a plurality of substrates on a substrate carrier of a processing 
system, positioning the substrate carrier under the plurality of optical modules, independently leveling each of the plurality of substrates, determining offset information for each of the plurality of substrates, generating patterning instructions based on the offset information for each of the plurality of substrates, and patterning each of the plurality of substrates using the plurality of optical modules. The processing system comprises a base, a motion stage disposed on the base, the substrate carrier disposed on the motion stage, a bridge disposed above a surface of the base and separated therefrom, and a plurality of optical modules disposed on the bridge.
Patent TW-I798439-B (TW)
Inventor: SYOUGE AKIHIKO
IPC: B62K23/02
Filed: 2019-05-16
Granted: 2023-04-11
Abstract: 一種用於人力車輛（human-powered vehicle）的電開關裝置包含電開關單元及連接部件。電開關單元被建構成回應使用者輸入而產生訊號。連接部件被設置在電開關單元上，以將附加電開關裝置電連接於電開關裝置。電開關裝置被建構成選擇性地將來自電開關單元的訊號及來自附加電開關裝置的附加訊號傳送至被建構成操作電組件的操作裝置。
Patent TW-I705820-B (TW)
Inventor: CORVARI VINCENT JOHN
IPC: A61K47/10
Filed: 2019-06-12
Granted: 2020-10-01
Abstract: A composition of tirzepatide, comprising an agent selected from NaCl and propylene glycol; and dibasic sodium phosphate is provided.
Patent TW-I787525-B (TW)
Inventor: TAGAWA YOSHIYUKI
IPC: A61M5/30
Filed: 2019-06-21
Granted: 2022-12-21
Abstract: 本發明提供一種液體射流射出裝置具備：吐出部，其兩端部開口，內部配置至少相對於內面的接觸角小於90度的液體；壓力產生部，其與該吐出部的一端部連通，具有大於該吐出部之剖面積的剖面積，比起從該吐出部中的該一端部至液面的液體射流的射出方向的長度，其在該射出方向上的長度更長，至少在該一端部開口的底面側配置有該液體；及衝擊力賦予機構，賦予該壓力產生部衝擊力。
Patent TW-I729423-B (TW)
Inventor: FUJIWARA NAOZUMI
IPC: H01L21/67
Filed: 2019-06-25
Granted: 2021-06-01
Abstract: 本發明之基板處理方法包含：混合乾燥輔助物質供給步驟，其係將由乾燥輔助物質、第1溶劑、以及與上述乾燥輔助物質及上述第1溶劑不同之藥劑相互混合所得之混合乾燥輔助物質供給至基板之表面；固化膜形成步驟，其係藉由使上述第1溶劑自存在於上述基板之表面之上述混合乾燥輔助物質蒸發且使上述混合乾燥輔助物質中包含之上述乾燥輔助物質固化，而形成包含上述乾燥輔助物質及上述藥劑之固化膜；及去除步驟，其係將上述固化膜中包含之上述乾燥輔助物質去除。
Patent TW-I759612-B (TW)
Title: 電子部件處理設備用拍攝裝置
Inventor: KIM HEE TAE
IPC: G01N21/01
Filed: 2019-07-08
Granted: 2022-04-01
Abstract: 本發明涉及一種電子部件處理設備用拍攝裝置。根據本發明的電子部件處理設備用拍攝裝置包括：雷射照射器，在裝載於載置要素的電子部件與載置要素一同移動的狀態下對電子部件的上表面照射雷射；確認用相機，拍攝通過所述雷射照射器照射的雷射，進而能夠確認裝載於移動的載置要素的電子部件的放置狀態；以及反射板，使得由所述雷射照射器照射的光經過電子部件而入射至所述確認用相機。根據本發明，最小化與其他構成的干涉，從而具有大大提高設置性的效果。
Patent TW-I708937-B (TW)
Title: X射線攝影裝置
Inventor: NIIZAKA TAKUMA
IPC: G01N23/04
Filed: 2019-07-15
Granted: 2020-11-01
Abstract: 在所述X射線攝影裝置中，圖像處理部是以如下的方式構成：在使第一X射線透視圖像與第二X射線透視圖像在X方向上偏離與（X射線的檢測位置的）移動量相對應的程度而重合顯示的情況下，對第一X射線透視圖像的第一畫素的畫素值，基於第二X射線透視圖像中的與第一畫素重疊的兩個畫素的畫素值，在X方向上進行分割，藉此生成超解析圖像，所述超解析圖像的X方向上的解析度高於第一X射線透視圖像及第二X射線透視圖像。
Patent TW-I708324-B (TW)
Title: 互連結構及其製備方法
Inventor: WANG MAO-YING
IPC: H01L21/768
Filed: 2019-07-29
Granted: 2020-10-21
Abstract: 本揭露提供一種互連結構及其製備方法。該互連結構包括一第一連接線、一第二連接以及一連接通孔。該第二連接線設置在該第一連接線的上方。該連接通孔設置在該第一連接線和該第二連接之間的一介電結構內，並且電連接該第一連接線和該第二連接線。該連接通孔包括一頭部和一主體部分，該頭部的一寬度大於該主體部分的一寬度。
Patent TW-I716064-B (TW)
Title: 移動機器人
Inventor: TOMONO MASAHIRO
IPC: G05B19/04
Filed: 2019-08-08
Granted: 2021-01-11
Abstract: 本發明提供一種移動機器人，能夠對應於其他物體或移動體的動作執行各種各樣的動作以能夠擴大利用範圍。移動機器人具備：機器人主體(1)、控制單元(2)、行走單元(3)和檢測單元(4)。控制單元(2)具備：將由檢測單元(4)檢測的檢測資訊按時間序列存儲的存儲部(30)、作成機器人主體(1)的周圍的地圖之地圖作成部(25)、檢測不同於機器人主體(1)的移動體(100)的移動體檢測部(291)、將表示機器人主體(1)的移動路徑的機器人路徑資訊(32)和表示移動體(100)的移動路徑的移動體路徑資訊(33)與地圖相關聯的路徑控制部(26)、基於機器人路徑資訊(32)和移動體路徑資訊(33)協調機器人主體(1)相對於移動體(100)移動的協調移動控制部(28)。
Patent TW-I704291-B (TW)
Inventor: LIN WEN-HSIEN
IPC: F04D13/06
Filed: 2019-08-12
Granted: 2020-09-11
Abstract: A magnetic drive pump includes a bottom case, a separator, a top case, a stator assembly and a rotor assembly. The bottom case has a first space. The separator is mounted on the bottom case and the part of the separator locates in the first space. The separator has a second space and the second space doesn’t connect with the first space. The top case has a first opening and a second opening. The top case is mounted on the bottom case, and the first opening and the second opening connect with the second space. The stator assembly is mounted on the separator and locates in the first space. The rotor assembly includes a shaft, a fan, a magnet set. The opposite two ends of the shaft dispose on the top case and the separator respectively and the fan and the magnetic all fix on the shaft.