baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent WO-2011081087-A1 (WO)
Title: Scanning electron microscope
Inventor: KANNO SEIICHIRO
IPC: H02N13/00
Filed: 2010-12-24
Abstract: A technology capable of suctionally attaching a sample without needlessly increasing the voltage applied to an electrostatic chuck is provided. An inspection sample having a known warp size and a known warp pattern is used to conduct a suctional-attachment test with respect to an electrostatic chuck to determine the critical applied voltage when the suctional-attachment state changes from "unsatisfactory" to "satisfactory". When the target inspection sample is measured, the flatness of the target inspection sample is measured and the warp size and the warp pattern of the target inspection sample are detected. The voltage applied to the electrostatic chuck is set in accordance with the warp size and the warp pattern of the target inspection sample, and in accordance with the known critical applied voltage.
Patent JP-WO2009110253-A1 (JP)
Title: 情報推薦システム、情報推薦サーバ装置および情報推薦方法
IPC: G06F13/00
Filed: 2009-01-21
Abstract: 本発明は、全利用者から見た個々の利用者の相対的な閲覧傾向を利用して情報の絞り込みを行えるようにすることを目的とする。情報指標計算手段１２は、複数の利用者による情報の閲覧履歴から、個々の情報ごとに、その情報の閲覧のされ方である被閲覧傾向に基づく指標である情報指標を計算する。利用者指標計算手段１３は、利用者ごとに、その利用者が閲覧した情報について計算された情報指標から、その利用者の情報の閲覧の仕方である閲覧傾向に基づく利用者指標を計算する。指標マッチング手段１６は、利用者について計算された利用者指標に類似する情報指標を持つ情報を推薦対象情報群から抽出する。
Patent JP-WO2009125573-A1 (JP)
Title: 送信装置および受信装置
IPC: H04N7/173
Filed: 2009-04-06
Abstract: 映像・音声伝送用の送信装置（１０１）において、分周パラメータ制御部（１５）は、映像データ用のピクセルクロック（周波数ｐｃｌｋ）と音声データ用の音声クロック（周波数ｆｔ）とを関連付けるための分周パラメータＰｔ，Ｑｔを出力する。映像・音声・パケット多重部（１１）は、音声データと分周パラメータＰｔ，Ｑｔとをパケット化し、映像データのブランキング期間に重畳して送信データを生成する。分周パラメータＰｔ，Ｑｔは、ｐｃｌｋ／Ｐｔ ＝ ｆｔ／Ｑｔ ＝ ｆｐｔの関係を満たし、かつ、ｆｐｔが音声データの帯域として定めた所定の帯域外となるような値である。
Patent JP-WO2009153834-A1 (JP)
Title: 半導体装置とその製造方法
IPC: H01L21/28
Filed: 2008-06-18
Abstract: 【課題】抵抗値の増加を抑制しつつ、マイグレーションを抑制して信頼性を向上することのできる配線を備えた半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置は、複数個の半導体素子が形成された半導体基板上方に積層された複数の層間絶縁膜を備え、複数の層間絶縁膜の１つである第１レベルの層間絶縁膜に形成された第１レベルの第１の配線用トレンチと、第１の配線用トレンチの側面と底面を覆って形成され、第１の主配線用トレンチを画定する、拡散防止機能を有する第１のバリアメタル膜と、第１の主配線用トレンチを埋め、銅で形成され、マイグレーション抑制機能を有する添加金属元素が場所的に異なる濃度で添加された第１の主配線層とを含む第１レベルの第１のダマシン配線と、を有する。
Patent JP-WO2010001930-A1 (JP)
Title: 固形内服製剤
IPC: A61K9/16
Filed: 2009-07-01
Abstract: （Ａ）スクラルファートと、（Ｂ）スクラルファート以外の薬物が水難溶性担体粒子に担持された薬物粒子とを含有する固形内服製剤。
Patent JP-WO2010038465-A1 (JP)
Title: ８位置換イソキノリン誘導体及びその用途
IPC: C07D409/14
Filed: 2009-10-01
Abstract: 本発明は、下記式（１）：［式（１）中、Ｄ１、Ａ１、Ｄ２、Ｒ１、Ｄ３及びＲ２は、それぞれ、本明細書中で定義される通りである］で示される化合物又はその塩に関する。式（１）で示される化合物又はその塩は、ＩＫＫβ阻害活性等を有し、ＩＫＫβに関連する疾患又は症状の予防及び／又は治療等に有用である。【化１】
Patent JP-WO2010038731-A1 (JP)
Title: プロジェクタ用絞り装置
IPC: G03B21/14
Filed: 2009-09-29
Abstract: ステッピングモータによって回転部材が時計方向へ回転させられると、一方の主作動部材は、リンク部材を介して反時計方向へ回転させられ、他方の主作動部材は、リンク部材を介して、前記一方の主作動部材によって時計方向へ回転させられるようになっている。また、一方の副作動部材は、リンク部材を介して、一方の主作動部材によって反時計方向へ回転させられ、他方の副作動部材は、リンク部材を介して、他方の主作動部材によって時計方向へ回転させられるようになっている。それにより、前記一方の主作動部材に取り付けられている主分割羽根と、前記一方の副作動部材に取り付けられている副分割羽根との重なり量が大きくなり、また、前記他方の主作動部材に取り付けられている主分割羽根と、前記他方の副作動部材に取り付けられている副分割羽根との重なり量も大きくなってゆき、二つの主分割羽根の間に形成される絞り開口が大きくなっていくようになっている。
Patent JP-WO2010044337-A1 (JP)
Title: スライド装置
IPC: H04M1/02
Filed: 2009-09-15
Abstract: 本発明の目的は、トーションバネを隠蔽しながらも、スライドの開閉を行うことができる、スライド装置を提供することである。本発明のスライド装置は、第１の筐体と、第２の筐体と、第１の筐体と第２の筐体との間に設けられた、第１及び第２の筐体の開閉を補助するバネと、バネを隠蔽する遮蔽部材と、を有し、遮蔽部材は、第１の筐体と第２の筐体とが開状態にある場合には、バネを隠蔽する位置に配置され、第１の筐体と第２の筐体とが閉状態にある場合には、第１の筐体と第２の筐体との間に配置されるように、変形する。
Patent JP-WO2010050092-A1 (JP)
Title: 情報処理システム
IPC: G06F11/16
Filed: 2009-07-14
Abstract: 他の機器から送信された所定の処理要求に応じて処理を実行する複数の演算装置と、当該各演算装置と上記他の機器との間におけるデータ転送を行うスイッチ装置と、当該スイッチ装置に接続され上記各演算装置とデータ転送可能な記憶装置と、を備え、少なくとも一の上記演算装置は、当該演算装置に対する上記他の機器からの処理要求データを上記記憶装置にデータ転送して格納する処理要求格納手段を備えると共に、少なくとも他の上記演算装置は、上記記憶装置に格納された上記処理要求データを当該記憶装置からデータ転送にて読み取る処理要求読取手段を備える。
Patent JP-WO2010067438-A1 (JP)
Title: 内燃機関の過給機制御装置
IPC: F02B37/007
Filed: 2008-12-11
Abstract: 内燃機関の過給機制御装置は、第１の過給機と第２の過給機とを具備するシステムに好適に適用される。切り替え過給圧設定手段は、目標過給圧と実過給圧との偏差に基づいて、第１の過給機と第２の過給機とを作動させるモードを切り替える場合に用いられる切り替え過給圧を設定する。切り替え制御手段は、実過給圧が切り替え過給圧に達した際に、当該モードを切り替える制御を行う。これにより、モードの切り替え時において、過給圧のオーバーシュートを適切に抑制することが可能となる。
Patent JP-WO2010067803-A1 (JP)
Title: フッ素樹脂フィルム及びその使用
IPC: H01L31/042
Filed: 2009-12-08
Abstract: 充分な量の酸化チタンを含有させても、フィルムに発泡スジが形成されず、フッ素樹脂が劣化することが抑制され、波長３６０ｎｍ以下の紫外線の透過率が低く、優れた耐候性、耐熱性を有するフッ素樹脂フィルム、その使用方法、太陽電池モジュール用バックシート、および太陽電池モジュールを提供することを目的とする。太陽電池モジュールのバッククシートの最外層に用いる、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体を主成分とするフッ素樹脂フィルムであって、特定の酸化チタン複合粒子を含み、外気に接するフィルム表面の算術平均粗さＲａが３μｍ以下であるフッ素樹脂フィルム、およびその使用方法。また、フッ素樹脂フィルム１１を備えた積層体からなるバックシート１、および該バックシートを備えた太陽電池モジュール。
Patent JP-WO2011058632-A1 (JP)
Title: 内燃機関の排気浄化システム
IPC: F01N3/28
Filed: 2009-11-12
Abstract: ＮＳＲ触媒とＳＣＲとを備える内燃機関において、ＮＯｘの吹き抜けによるエミッション悪化を抑制することのできる内燃機関の排気浄化システムを提供することを目的とする。リーンバーン運転が可能な内燃機関１０の排気浄化システムであって、内燃機関１０の排気通路１２に配置されたＮＳＲ触媒１６と、ＮＳＲ触媒１６の下流に配置されたＳＣＲ１８と、リーンバーン運転中に所定のインターバルでリッチスパイクを実行するリッチスパイク手段と、を備える。インターバルは、リッチスパイク時にＮＳＲ触媒１６において生成されるＮＨ３の生成量とインターバルとの関係（第１規則）と、リッチスパイク時にＮＳＲ触媒１６の下流へ吹き抜けるＮＯｘの吹き抜け量とインターバルとの関係（第２規則）と、に基づいて、ＮＯｘ吹き抜け量の全量が、ＳＣＲ１８において還元浄化される期間に設定する。好ましくは、ＮＯｘ吹き抜け量に対するＮＨ３生成量の比率が所定の比率より大きくなるように、インターバルを設定する。
Patent JP-WO2010087204-A1 (JP)
Title: 情報表示装置、移動量表示方法及び移動量表示プログラム
IPC: G06F3/0485
Filed: 2010-02-01
Abstract: 情報表示手段は、情報を表示する。移動指示検知手段は、情報表示手段に表示された情報を移動させるための指示を検知する。移動領域数算出手段は、情報表示手段に表示された情報を移動させる移動量である移動領域数をその指示に基づいて算出する。移動量表示線決定手段は、情報表示手段に表示された情報を移動させる際に基準とする基準位置からの移動領域数に応じて、予め定められた線である移動量表示線を決定する。移動量表示手段は、移動量表示線決定手段が決定した移動量表示線を、情報表示手段に表示させる。
Patent JP-WO2010089966-A1 (JP)
Title: 組合せ鋼矢板、組合せ鋼矢板を利用した連続壁、及び組合せ鋼矢板の圧入方法
IPC: E02D5/04
Filed: 2010-01-22
Abstract: 本発明の組合せ鋼矢板は、ウェブ部と、このウェブ部の両端部に設けられる一対のフランジ部と、この一対のフランジ部の端部にそれぞれ設けられる一対のアーム部と、この一対のアーム部の端部にそれぞれ形成される一対の継手部と、を有する第１のハット形鋼矢板と；前記第１のハット形鋼矢板の長さ方向の少なくとも一部に取り付けられる閉合部材と；を有し、前記第１のハット形鋼矢板と前記閉合部材とにより形成される閉合断面形状が、前記一対の継手部間を結ぶ線を直径として有する円の内部に含まれる。
Patent WO-2011102117-A1 (WO)
Inventor: NAKAJIMA TOYOAKI
IPC: H01J41/04
Filed: 2011-02-15
Abstract: Disclosed is a quadrupolar mass spectrometer used to analyze the gas component within a test piece, said quadrupolar mass spectrometer being configured so that the energization and heating of a grid can be realized; the sensitivity can be prevented from decreasing to analyze the gas component at a high accuracy; and a low cost can be realized. A quadrupolar mass spectrometer (MA1) is provided with a sensor portion (M1) which can be detachably attached to a test piece (TP). If the direction that the sensor portion is attached to the test piece is defined as the upward direction, the sensor portion has a support (1) which has a predetermined shape and is provided on the bottom end of the sensor portion; an ion source (2) having a filament (22) and a grid (21) and ionizing the gas, said filament and said grid being provided on the support; a quadrupolar portion (3) provided on the ion source, wherein four columnar electrodes (31) are circumferentially arranged at predetermined intervals; and an ion detection portion (4) provided on the quadrupolar portion, said ion detection portion collecting predetermined ions passing through the quadrupolar portion by applying direct voltage and alternating voltage to opposite electrodes.
Patent WO-2011129090-A1 (WO)
Title: Encoding distortion removal method, encoding method, decoding method, encoding distortion removal device, encoding device and decoding device
Inventor: SASAI HISAO
IPC: H04N7/26
Filed: 2011-04-11
Abstract: Disclosed is an encoding distortion removal method which removes encoding distortion occurring between a first processing boundary and a second processing boundary where each is a processing boundary for an image signal and both are processing boundaries for a different direction. The method comprises: a first determination step (S11) wherein a first subject pixel to undergo encoding distortion removal processing from a first processing boundary is determined based on at least the pixel value of a first adjacent pixel adjacent to the first processing boundary; a first removal step (S13) wherein the first subject pixel is subject to encoding distortion removal processing; a second determination step (S12) wherein a second subject pixel to undergo encoding distortion removal processing from a second processing boundary is determined based on at least the pixel value of a second adjacent pixel adjacent to the second processing boundary; and a second removal step (S14) wherein the second subject pixel is subject to encoding distortion removal processing. In the second determination step (S12), the second subject pixel is determined based on the pixel value of the second adjacent pixel before encoding distortion removal processing in the first removal step (S13).
Patent WO-2011158458-A1 (WO)
Title: Charged particle beam device and soundproofing cover
Inventor: MUTO DAISUKE
IPC: G10K11/162
Filed: 2011-06-03
Abstract: Disclosed is a soundproofing cover that encloses apparatuses (20; 70) including charged particle beam devices, which are used in a clean room. The soundproofing cover comprises lateral walls (11-14) and a ceiling face (15) that enclose the space wherein the apparatuses are positioned and where soundproofing is desired; a sound absorbing structure part (40), further comprising a plurality of apertures (41a; 46a), facing into the space where soundproofing is desired, and hollow parts (41d; 46d; 46c) that are joined to the plurality of apertures, is disposed in the bottom of the ceiling face; and the sound absorbing structure part has a structure that is specialized to the frequency of a standing wave that arises in the space that is enclosed with the lateral walls and the ceiling face. The sound absorbing structure part employs a member that does not produce dust. Thus, it is possible to provide a soundproofing cover that is capable of efficacious soundproofing and that minimizes the production of dust.
Patent WO-2012029271-A1 (WO)
Title: Method for regulating viscosity of polypropylene using kneading extruder, and kneading extruder
Inventor: HOTANI SHIN
IPC: B29C48/395
Filed: 2011-08-26
Abstract: A method is provided in which polypropylene and a peroxide are kneaded using a kneading extruder equipped with a barrel, a screw having a first kneading blade part located most upstream and a second kneading blade part located downstream therefrom, a first throttling mechanism capable of changing the degree of filling with the polypropylene being kneaded in the first kneading blade part, and a second throttling mechanism capable of changing the degree of filling with the polypropylene being kneaded in a kneading blade part located downstream therefrom. When the polypropylene and the peroxide are thus kneaded, the degree of filling with the polypropylene is heightened by means of a gate device, and in the case where the polypropylene that has been kneaded in the most downstream kneading blade part has a temperature lower than a given temperature, the degree of filling with the polypropylene is heightened by means of a butterfly valve to thereby regulate the temperature of the polypropylene that has been kneaded in the most downstream kneading blade part to the given temperature or higher. Thus, polypropylene and a peroxide having a half-life period at 200ºC of 10 seconds or longer can be kneaded while regulating the viscosity of the polypropylene and inhibiting the peroxide from remaining therein, without considerably increasing the size of the kneading extruder.
Patent WO-2013057766-A1 (WO)
Title: Thin-film transistor device and method for producing same
Inventor: UKEDA TAKAAKI
IPC: H01L29/786
Filed: 2011-10-20
Abstract: This organic thin-film transistor device (10) is provided with: gate electrode wiring (102a) formed in a first region on a substrate (101); a first signal wiring layer (102b) formed in a second region; a gate insulation film (103) formed in such a manner as to cover the gate electrode wiring (102a) and the first signal wiring layer (102b); a partition layer formed on the gate insulation film (103); a second signal wiring layer (110) formed on the partition layer above the first signal wiring layer (102b); a drain electrode (108) and source electrode wiring (109) formed in the partition layer and openings where at least part of the partition layer above the second region is open; an organic semiconductor layer formed in at least an opening, as a partition for the partition layer, drain electrode (108) and source electrode wiring (109); and a protective film (112) formed in such a manner as to cover the organic semiconductor layer (111), as a partition for the drain electrode (108) and the source electrode wiring (109).
Patent WO-2012066752-A1 (WO)
Title: サセプタ及びエピタキシャルウェーハの製造方法
Inventor: OHNISHI MASATO
IPC: H01L21/683
Filed: 2011-11-10
Abstract: 本発明は、サセプタの厚さを増大させることによって、サセプタ外周部の熱容量を増大させ、ウェーハ外周部と内周部とにおける熱的条件を等しくすることができるサセプタであり、さらにそのサセプタを用いてエピタキシャル層の気相成長を行うエピタキシャルウェーハの製造方法である。本発明者は、これまでの実験結果や経験から、裏面デポはウェーハとサセプタに生じる熱伝達に密接な関係が有ると推察し、すなわち、ウェーハ外周部は、ウェーハとサセプタとが接触し、あるいはウェーハとサセプタとが近接しているため、ウェーハ内周部よりも温度が高くなることによって裏面デポが発生しやすくなると推察し、ウェーハ裏面における、ウェーハ外周部と内周部との熱的条件を一定にすることで問題の解決を試みた。
Patent WO-2012095958-A1 (WO)
Title: 電力開閉制御装置およびその閉極制御方法
Inventor: MORI TOMOHITO
IPC: H01H33/59
Filed: 2011-01-12
Abstract: 電流遮断後の負荷側電圧の変動に起因して起こり得る過渡的な電圧、電流の発生を抑制可能とする電力開閉制御装置およびその閉極制御方法を得ること。現在時刻以降における電源側電圧推定値および負荷側電圧推定値に基づいて、現在時刻以降の遮断器極間電圧推定値を算出し、この遮断器極間電圧推定値に基づいて、遮断器極間電圧推定値の絶対値が予め設定した許容範囲内となるタイミングで遮断器を投入可能な閉極制御可能時刻から閉極制御限度時刻までの目標閉極時刻領域を算出し、第２投入相以降の後続投入相である場合には、予め設定した遅延時間分だけ閉極制御可能時刻を遅らせるようにした。
Patent WO-2011087030-A1 (WO)
Title: 二次元コード、コード生成システム、プログラム、印刷物
Inventor: HAGIWARA MANABU
IPC: G06K19/06
Filed: 2011-01-13
Abstract: 構造的連接の形で連結されて符号化された二次元符号を構成する複数の構成要素のそれぞれの識別機能を高めた構造とした二次元コードを提供する。　情報領域とイラスト領域とパリティ領域から構成される構造的連接の形で符号化された複数の二次元コードのセットにおいて、前記複数の二次元コードのセットの要素となるそれぞれの二次元コードは、前記イラスト領域に同一のイラスト図形が描画されている二次元コードとする。
Patent WO-2011114820-A1 (WO)
Inventor: OBA KENJI
IPC: A61F13/15
Filed: 2011-02-07
Abstract: An absorptive article manufacturing device is configured by combining processing units (2) with each other. Spacers (6) are provided to the bottom of the processing units (2) to form a lower space (SL) between the processing units (2) and the installation surface (PI) in which the processing units (2) are installed. A product-related article such as a material is moved within the lower space (SL). Alternatively, a production-related article such as electric wiring is disposed within the lower space (SL).
Patent WO-2011129435-A1 (WO)
Title: 陥入爪矯正具、陥入爪矯正具の製造方法、および陥入爪矯正具の耐久性と矯正力の向上方法
Inventor: TANAKA TOYONOBU
IPC: A61F5/11
Filed: 2011-04-15
Abstract: 冷間加工板材１１の長手方向（圧延方向）をＬ、幅方向をＷとする。この場合、陥入爪矯正具素材１３の地取り方向は、本体部素材１３ａ（矯正具本体３に対応）の長手方向が、幅方向Ｗと略一致し、爪保持部素材１３ｂ（爪保持部５に対応）の形成方向が冷間加工板材の加工方向と略一致する方向とする。すなわち、陥入爪矯正具１の矯正具本体３の長手方向が冷間加工板材１１の加工方向に対して略垂直（Ｗ方向）であり、爪保持部５の形成方向が冷間加工板材１１の加工方向と略一致（Ｌ方向）するように、冷間加工板材１１から陥入爪矯正具素材１３が一体で切り出されて加工される。
Patent WO-2012096008-A1 (WO)
Title: 有機ｅｌ素子の製造方法
Inventor: YANAGI YUJI
IPC: H05B33/10
Filed: 2011-05-12
Abstract: 安定した発光特性を有し、且つ、リーク電流や短絡を生じにくい照明用に適した有機ＥＬ素子を、高価なフォトリソグラフィを使用することなく、レーザ加工により製造する有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。有機ＥＬ素子の製造方法は、第１電極（２）が分割して形成された基板（１）上に、有機発光層（３）を形成する工程と、有機発光層（３）の上のみに所定厚さの下部第２電極（４ｂ）を形成する工程と、第１電極（２）上に積層された有機発光層（３）／下部第２電極（４ｂ）を分割する第１分割溝（８）をレーザ加工により形成する工程と、第１分割溝（８）を埋め、且つ、複数の有機発光層（３）／下部第２電極（４ｂ）上を覆うよう上部第２電極（４ｃ）を形成する工程と、第１電極（２）上に積層された有機発光層（３）／下部第２電極（４ｂ）／上部第２電極（４ｃ）を分割する第２分割溝（１１）をレーザ加工により形成する工程とを備える。
Patent WO-2011145590-A1 (WO)
Inventor: OHZEKI AYA
IPC: A41D25/00
Filed: 2011-05-16
Abstract: 従来のネクタイは全長が長いために風になびいた際にだらしないイメージを与え且つ作業上で機械などに巻き込まれる危険性を持っていた。更に結び目を作る際の上手下手の個人差が生じるばかりかネクタイ装着完了までに相応の時間を要していた。一方で、地球温暖化が叫ばれクールビズ運動が起きているがワイシャツ開襟状態に適応するネクタイがない。これらの課題を解決することを目的とした。　縦方向上部で左右４５°から１４０°に開いている左右タイ翼部と左右タイ翼部から下部垂直方向に伸びる剣先部の３方向に伸びるＹ字型の形状を成すネクタイであり、前記ネクタイの左右タイ翼部又は、前記ネクタイの剣先部の双方又は、いずれかがネクタイ縦方向中心部から左右後方への反り又は折り、又は反りと折りをもって成形を成すネクタイを提供する。
Patent WO-2011158684-A1 (WO)
Title: 知的生産性計測装置、知的生産性計測方法および記録媒体
Inventor: KAWAI HIDEKI
IPC: G06Q10/00
Filed: 2011-06-06
Abstract: 知的生産性計測装置（１００）の活動情報取得部（１０ａ）は、活動を表す活動情報を取得する。事象情報取得部（１０ｂ）は、生起する時間の情報を含めた事象を表す情報を取得する。評価取得部（４）は、主観的評価を取得する。短期的コンテキスト入力部（１１ａ）は、短期的コンテキストを活動情報から生成する。長期的コンテキスト入力部（１１ｂ）は、長期的コンテキストを事象情報から抽出する。モデル生成部（５）は、短期的コンテキストの空間と長期的コンテキストの空間の直和空間から主観的評価の空間への写像関数を用いて、短期的コンテキストおよび長期的コンテキストを写像した値が主観的評価の範囲に入るように、写像関数のパラメータである推定モデルを生成する。知的生産性演算部（６）は、推定モデルを用いて知的生産性を演算する。
Patent WO-2012002528-A1 (WO)
Inventor: MIZOKAMI YOUSUKE
IPC: F01D25/00
Filed: 2011-07-01
Abstract: Disclosed is a shroud segment producing method having a molding process wherein the cylindrical surface of a cylindrical fiber fabric (10) is molded into a shroud segment shape by pressing, and a matrix forming process wherein a matrix is impregnated and formed in the fiber fabric molded into the shroud segment shape.
Patent WO-2012005375-A1 (WO)
Inventor: SATO TAKAHIRO
IPC: B01J23/63
Filed: 2011-07-11
Abstract: ホウ酸アルミニウムの質量を基準にして０．３～２質量％となる量のＬａ ２ Ｏ ３ で修飾された式９Ａｌ ２ Ｏ ３ ・２Ｂ ２ Ｏ ３ で表わされるホウ酸アルミニウムを含む排気ガス浄化用触媒のための担体、該担体と該担体に担持されたＰｄ又はＰｄ＋Ｂａとを含む排気ガス浄化用触媒、セラミックス又は金属材料からなる触媒支持体と、該触媒支持体上に担持されている該排気ガス浄化用触媒の層とを含むか、更に該排気ガス浄化用触媒の層の上に担持されているＲｈ触媒層とを含む排気ガス浄化用触媒構成体、及び排気ガス浄化用触媒の製造方法。
Patent WO-2012043469-A1 (WO)
Title: 治療用処置装置
Inventor: YASUNAGA SHINJI
IPC: A61B18/12
Filed: 2011-09-26
Abstract: 治療用処置システム（２１０）は、少なくとも一方が他方に対して相対的に移動して生体組織を保持する１対の保持部材（２６２，２６４）と、保持部材（２６２，２６４）の少なくとも一方に配設され、且つ互いに離散するように配設される複数のヒータ部材（３００）とを有している。また治療用処置システム（２１０）は、生体組織に熱を伝える抵抗パターン（３１３）と、抵抗パターン（３１３）の両端に配設され、エネルギを基に熱を生成し、熱を抵抗パターン（３１３）に供給する一対の電極３１５と、一方の発熱部材（３００）と他方の発熱部材（３００）とを接続するワイヤー（３５１，３５３）と、ワイヤー（３５１，３５３）とエネルギ源（２１４）とに接続し、エネルギ源（２１４）からワイヤー（３５１，３５３）を介して電極（３１５）にエネルギを供給するヒータ部材用通電ライン（２６８ａ）とをさらに有する。
Patent WO-2012053420-A1 (WO)
Title: Child seat
Inventor: YAMAGUCHI ISAO
IPC: B60N2/28
Filed: 2011-10-13
Abstract: The present invention provides a child seat (10) which is placed on a vehicle seat (5) provided with a seat belt (7). The child seat (10) comprises: a seat main body (20) which includes a seat part (30) and a back part (40); a strap member (60) which includes an attachment part (61a) attached to the seat main body (20); and a guide member (50) which is held in a position spaced apart from the attachment part (61a) of the strap member (60), and can engage a shoulder belt (9a) of the vehicle seat belt (7). A through-hole (46) is formed in the back part (40), and the guide member (50) which is held by the strap member (60) can pass through the through-hole (46).
Patent WO-2013069088-A1 (WO)
Title: Wafer storage container
Inventor: OYAMA TAKAHARU
IPC: H01L21/673
Filed: 2011-11-08
Abstract: Wafer support shelves (10, 10) placed on the left and right sides inside a container body (1) are each provided with wafer support projections (A, B1, B2) on which parts of the outer edge portion of a semiconductor wafer (W) are to be placed. In each case, one of the support projections (A, B1, B2) is provided on the far side of the center position of the semiconductor wafer (W), and two of the support projections (A, B1, B2) are provided on the near side of the center of the semiconductor wafer (W). By means of this structure, in a state in which a lid body (3) is not attached to a wafer extraction/insertion opening (2), the flexure amount of the semiconductor wafers (W) placed on the support projections (A, B1, B2) of multiple locations in the wafer support shelves (10, 10) can be reduced with a minimal number of projections, so that a hindrance is not created to an operation such as extraction by a robot arm.
Patent WO-2012073854-A1 (WO)
Inventor: KASASHIMA MASAKI
IPC: B24D3/06
Filed: 2011-11-28
Abstract: 超硬合金で形成され、円形リング状薄板の台板の外周縁部上に、切り刃部を有する超硬合金台板外周切断刃であって、切り刃部が、予め磁性体がコーティングしてなるダイヤモンド砥粒及び／又はｃＢＮ砥粒と、砥粒間及び砥粒と台板との間を連結する電気メッキ又は無電解メッキにより形成された金属又は合金と、砥粒間及び砥粒と台板との間に含浸させた融点が３５０℃以下の金属及び／又は合金とを含む超硬合金台板外周切断刃、及びその製造方法を提供する。
Patent WO-2012086680-A1 (WO)
Title: Soundproofing plate which does not obstruct airflow
Inventor: KITAMURA YOSHIHARU
IPC: E06B5/20
Filed: 2011-12-21
Abstract: Provided is a soundproofing plate, comprising: a substrate wherein a plurality of through holes are formed; and sound collecting parts, further comprising through holes in the center thereof, which approximately match the through holes of the substrate, said collecting parts having a shape wherein the diameter increases as the distance from the substrate increases. The sound collecting parts are disposed on both faces of the substrate. Or, provided is a soundproofing plate, comprising: a substrate wherein a plurality of through holes are formed; and attenuation elements. The attenuation elements further comprise: hollow shaft members; and sound collecting parts which are anchored on the end parts of the hollow shaft members. The sound collecting parts: further comprise through holes in the centers thereof which approximately match hollow parts in the hollow shaft members; and have a shape wherein the diameter increases as the distance from the hollow shaft member increases. The hollow shaft members are disposed in the substrate so as to approximately match the through holes in the substrate.
Patent WO-2012086711-A1 (WO)
Inventor: MATSUO SHIGEAKI
IPC: C08L9/00
Filed: 2011-12-21
Abstract: 天然ゴム及び合成ジエン系ゴムの少なくとも１方のゴムからなるゴム成分（Ａ）１００質量部に対して、１千～３０万の重量平均分子量（ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算）を有する低分子量芳香族ビニル化合物－ジエン化合物共重合体（Ｂ）を５～１２０質量部を含んでなり、前記共重合体（Ｂ）が０～８０質量％の芳香族ビニル化合物からなり、ジエン化合物の部分のビニル結合量が０～８０質量％であって、その末端に架橋性官能基を少なくとも１つ有する共重合体であるゴム組成物、さらにそのゴム組成物を用いてタイヤを製造する。
Patent WO-2012090829-A1 (WO)
Title: ヒータ及びその製造方法
Inventor: IIDA KENJI
IPC: H05B3/06
Filed: 2011-12-21
Abstract: 本発明は、発熱体と、金属板からなり、被加熱体の両側に配置される一対の長手部位を有する第１部材と、第１部材とともに発熱体を挟持する一対の第２部材とを有する、ヒータに関する。
Patent JP-WO2010095557-A1 (JP)
Title: 画像処理装置および方法
IPC: H04N19/593
Filed: 2010-02-12
Abstract: 本発明は、少ない制御情報で、精度の高い予測画像を生成することができる画像処理装置および方法に関する。動き補償回路５１は、予測モード決定回路４１より供給される動きベクトルを用いて、一部の参照フレームにおいて予測画像に対応するマクロブロックを特定し、その画像をフレームメモリ１９より読み出し、動き補償画像として抽出する。動き予測回路５２は、残りの参照フレームのうち、少なくとも１枚以上の参照フレームをフレームメモリ１２２より読み出し、各フレームにおいて、動き補償回路５１より供給された動き補償画像MC0の動き予測を行い、動き補償画像MC0に一致または近似するマクロブロックの画像をフレームメモリ１２２より読み出し、動き補償画像として抽出する。本発明は、例えば、符号化装置および復号装置に適用することができる。
Patent JP-WO2010110335-A1 (JP)
Title: 感光性樹脂組成物及び硬化膜
IPC: G03F7/027
Filed: 2010-03-24
Abstract: アルカリ現像液に対して十分なパターニング性能を有し、線熱膨張係数も十分に低い硬化膜を与えることのできる感光性樹脂組成物を提供する。この感光性樹脂組成物は、ジアミン成分として、4-アミノフェニル-4’-アミノベンゾエートのようなエステル基を有するジアミン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジメチルビフェニルのようなビフェニル型ジアミン及び4,4’-ジアミノ-2,2’-ジビニルビフェニルのような不飽和基を含有するジアミンを使用し、これとピロメリット酸無水物のような酸無水物とを反応させて得られるポリイミド前駆体と、光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、ポリイミド前駆体における不飽和基を含有するジアミン由来の構造単位の含有割合が５〜６０モル％である。
Patent JP-WO2011001560-A1 (JP)
Title: 半導体記憶装置
IPC: G11C11/417
Filed: 2010-02-26
Abstract: トランジスタのゲート破壊に対する耐性を確保しつつ、レイアウトの規則性を損なうことなく、メモリセルの内部データを固定するように、メモリセル（１００）のラッチを構成する２つのインバータ（４０１，４０２）にて、一方の記憶ノード（１０４）に接続されるＰＭＯＳロードトランジスタ（ＰＬ１）のソース又はドレインを切断し、かつ、もう一方の記憶ノード（１０３）に接続されるＮＭＯＳドライブトランジスタ（ＮＤ０）のソース又はドレインを切断する。
Patent JP-WO2011007833-A1 (JP)
Title: タイヤ構成部材の製造装置及び製造方法
IPC: B29D30/30
Filed: 2010-07-15
Abstract: ドラムに配置する複数の短冊状部材の側部同士を、充分な接合強度を確保しつつ互いの位置を正確に合わせて精度よく接合する。配置手段(１０)により短冊状部材(９０)を配置する毎にドラム(２)を回転させ、複数の短冊状部材(９０)をドラム周方向に順に配置する。隣接する短冊状部材(９０)の側部を接合手段(４０)により接合してタイヤ構成部材を製造する。短冊状部材(９０)の一方の側部に相対的に厚さが薄い接合部を設け、配置手段(１０)により、複数の短冊状部材(９０)を、互いに一方の側部の接合部と他方の側部とを重ね合わせて配置する。各短冊状部材(９０)の両側部間の幅を測定し、幅の測定結果に基づいてドラム(２)を回転させて、重ね合わせて配置する側部同士の位置を合わせる。
Patent JP-WO2011052497-A1 (JP)
Title: 溶着方法、溶着装置、及び、光ファイバの製造方法
IPC: C03B37/012
Filed: 2010-10-22
Abstract: 本願発明は、貫通孔（１１）が形成されたプリフォーム（１０）にガラス管を溶着する溶着方法、溶着装置、及び、該溶着方法による溶着工程を含む光ファイバの製造方法に関する。本願発明は、上記プリフォームの端部を予備加熱する第２の加熱工程において、予備加熱する側とは反対側から上記貫通孔内にガスを供給することを特徴とする。
Patent JP-WO2011065061-A1 (JP)
Title: 液晶表示装置、極性反転方法、プログラムおよび記録媒体
IPC: G09G3/20
Filed: 2010-07-23
Abstract: 本発明に係る液晶表示装置（１００）は、液晶表示パネル（１１０）に表示されるフレーム画像が複数回切り替わる間に、液晶表示パネル（１１０）における全ての画素の電極に対して一方の極性の電圧を印加している状態から他方の極性の電圧を印加している状態に遷移するようにソース電圧印加部（１３０）を制御する極性反転制御部（１４１）を備えている。これにより、フリッカの発生を防止しつつ、消費電力の増加を抑制することができる。
Patent JP-WO2011065408-A1 (JP)
Title: 非水電解液二次電池用正極
IPC: H01M4/38
Filed: 2010-11-25
Abstract: 【課題】充放電のサイクル特性が向上した非水電解液二次電池用の正極を提供すること。【解決手段】活物質層に、ＬｉzＮｉ1-x-yＴｉx（ＭpＬｉq）yＯ2（式中、ｘは０．３未満の正数を表し、ｙは０．２５未満の正数を表し、ｚは０．９５以上１．０５以下の数を表す。Ｍは、ｐｒM＋ｑｒL（式中、ｒMはＭのイオン半径を表し、ｒLはＬｉ+のイオン半径を表す）が５４〜６９ｐｍを満たす多価の金属を表す。ｐ及びｑは、ｐ＋ｑ＝１及びｐｖ＋ｑ＝３を満たし、かつｐは正数、ｑは０以上の数である。ｖは金属Ｍの価数を表す。）で表される化合物が含有されている。この化合物は、これをＸＲＤ測定した場合に、（００３）面及び（１０４）面に由来する回折ピークを有し、（００３）面に由来する回折ピークの面積と（１０４）面に由来する回折ピークの面積との比率（前者／後者）が０．５〜０．７５である。【選択図】図２
Patent JP-WO2011090068-A1 (JP)
Title: 癌組織由来細胞塊または癌細胞凝集塊の培養方法、評価方法および保存方法
IPC: C12Q1/68
Filed: 2011-01-19
Abstract: 生体内での癌細胞の挙動を正確に反映できるような新規な癌組織由来細胞塊または癌細胞凝集塊の培養方法を提供することを目的とする。個体から癌組織由来細胞塊または癌細胞凝集塊をまず調製する。このような新規な癌組織由来細胞塊または癌細胞凝集塊を培養し、さらにそれを用いて、性質の評価を行うことができる。性質の評価には、遺伝子評価、培養条件評価などが含まれる。このような癌組織由来細胞塊または癌細胞凝集塊はまた、保存をすることができる。由来する個人の臨床情報や遺伝子情報と保存されている癌組織由来細胞塊または癌細胞凝集塊をリンクさせることで、その個人に最適な治療方法を効率よく確立できる。