Patent WO-2008036415-A2 (WO)
Title: Source compacte de faisceau d'électrons utilisée pour produire des rayons x
Inventor: OREPER BORIS
IPC: H01J35/14
Filed: 2007-09-21
Abstract: La présente invention concerne plusieurs nouveaux appareils et procédés permettant de produire des rayons X. Dans certains modes de réalisation, les appareils peuvent, par exemple, être configurés et conçus de sorte qu'au moins un des critères suivants soit rempli: (A) pour au moins un point d'interception situé sur un segment particulier d'un trajet de balayage sur une surface d'une cible sur laquelle un élément de commande pilote un faisceau d'électrons accélérés (faisceau électronique), à la fois un angle et son complément entre une ligne correspondant à une direction dans laquelle le faisceau d'électrons accélérés se déplace au niveau du point d'interception et une ligne orientée perpendiculairement à la surface de la cible au niveau dudit point d'interception sont supérieurs à quarante cinq degrés; (B) pour au moins un point d'interception situé sur le segment particulier du trajet de balayage sur la surface de la cible sur laquelle l'élément de commande dirige le faisceau d'électrons accélérés, soit un angle soit son complément entre une ligne correspondant à une direction dans laquelle le faisceau d'électrons accélérés se déplace au niveau du point d'interception et une ligne qui est tangente au trajet de balayage au niveau dudit point d'interception est inférieur à quarante cinq degrés; (C) pour au moins un point d'interception situé sur un segment particulier du trajet de balayage sur la surface de la cible sur laquelle l'élément de commande pilote le faisceau d'électrons accélérés, un angle et son complément entre une ligne correspondant à une direction dans laquelle le faisceau d'électrons accélérés se déplace au niveau d'un point de départ du faisceau d'électrons de l'élément de commande et une ligne orientée perpendiculairement à une surface de la cible au niveau dudit point d'interception sont supérieurs à quarante cinq degrés; (D) pour au moins un point d'interception situé sur le segment particulier du trajet de balayage sur la surface de la cible sur laquelle l'élément de commande pilote le faisceau d'électrons accélérés, soit un angle soit son complément entre une ligne correspondant à une direction dans laquelle le faisceau d'électrons accélérés se déplace au niveau d'un point de départ du faisceau d'électrons de l'élément de commande et une ligne qui est tangente au trajet de balayage au niveau dudit point d'interception est inférieur à quarante cinq degrés; (E) une distance minimale entre le point de départ du faisceau d'électrons de l'élément de commande et le segment particulier du trajet de balayage sur la surface de la cible sur laquelle l'élément de commande pilote le faisceau d'électrons accélérés est inférieure à cinquante pour cent d'une distance maximale entre le point de départ du faisceau d'électrons de l'élément de commande et le segment particulier du trajet de balayage sur la surface de la cible sur laquelle l'élément de commande pilote le faisceau d'électrons accélérés; (F) pour chaque point d'interception sur le segment particulier du trajet de balayage sur la surface de la cible sur laquelle l'élément de commande pilote le faisceau d'électrons accélérés, une dimension maximale de la cavité interne de la chambre à vide, mesurée dans un plan qui contient ledit point d'interception et pour x qui est une ligne qui est tangente au trajet de balayage au niveau dudit point d'interception est perpendiculaire, est inférieure à cinquante pour cent d'une distance de balayage de faisceau d'électrons totale le long du segment particulier du trajet de balayage de la cible le long duquel l'élément de commande pilote le faisceau d'électrons accélérés; et (G) pour chaque point d'interception sur le trajet de balayage sur la surface de la cible, une dimension maximum de la cavité interne de la chambre à vide, mesurée dans un plan qui contient ledit point d'interception et à