baber/WOPTO huggingface dataset:
Patent TW-I642052-B (TW)
Inventor: ATTI VENKATRAMAN
IPC: G10L19/16
Filed: 2016-08-15
Granted: 2018-11-21
Abstract: 本發明提供一種用於產生一高頻帶目標信號之方法，該方法包括在一編碼器處接收一輸入信號，該輸入信號具有一低頻帶部分及一高頻帶部分。該方法亦包括比較該輸入信號之一第一自相關值與該輸入信號之一第二自相關值。該方法進一步包括按一縮放因數縮放該輸入信號，以產生一經縮放輸入信號。基於該比較之一結果而判定該縮放因數。該方法亦包括基於該輸入信號而產生一低頻帶信號及基於該經縮放輸入信號而產生該高頻帶目標信號。
Patent TW-I699554-B (TW)
Inventor: SPRING NICOLA
IPC: B81B7/02
Filed: 2016-08-24
Granted: 2020-07-21
Abstract: An optical device (1) includes two prism bodies (41, 42) and four side panels (71-74) attached to both prism bodies (41, 42). A cavity (9) is thereby enclosed. A first reflector (81) can be present at a first side face (81) of the first prism body (41), and a second reflector (82) can be present at a second side face (82) of the second prism body (42). At least one of the prism bodies (41, 42) and/or at least one of the side panels (71-74) can be at least in part made of a non-transparent dielectric material such as a printed circuit board. In some implementations, an optoelectronic component (90) can be attached to the respective constituent of the optical device (1).
Patent TW-I613057-B (TW)
Title: 基板分斷裝置
Inventor: NISHIO YOSHITAKA
IPC: C03B33/033
Filed: 2016-08-29
Granted: 2018-02-01
Abstract: 本發明之基板分斷裝置，在將貼合基板分斷時，壓入量之最佳範圍較寬，能夠確實地形成良好的裂紋，並且尤其能夠容易去除端材。
 
     該裝置，分斷貼合基板G，該貼合基板G具有表面形成有用以切掉端部之刻劃線S的第1基板G1、與貼合於第1基板G1背面的第2基板G2。該分斷裝置，具備具有按壓部11與吸附部12之頭部1。按壓部11從第1基板G1側按壓成為端材之端部GL，以沿刻劃線S分斷端部GL。吸附部12吸附以按壓部11分斷之端部GL，並從第1基板G1取出端部GL。
Patent TW-I612586-B (TW)
Inventor: KOYAMA JUN
IPC: G02F1/1368
Filed: 2011-09-08
Granted: 2018-01-21
Abstract: 省略形成島形半導體層之光刻及蝕刻步驟，並以四光刻步驟製造液晶顯示裝置：形成閘極電極之步驟(包括使用與該閘極電極相同層形成之佈線)、形成源極及汲極電極之步驟(包括使用與該源極及該汲極電極相同層形成之佈線)、形成接觸孔之步驟(包括移除非該接觸孔之區域中絕緣層等)、及形成像素電極之步驟(包括使用與該像素電極相同層形成之佈線)。藉由減少光刻步驟數量，可以低成本及高生產力配置液晶顯示裝置。藉由改進佈線之形狀及電位，避免寄生通道形成。
Patent TW-I618786-B (TW)
Inventor: KLASEN-MEMMER MELANIE
IPC: C09K19/44
Filed: 2012-03-28
Granted: 2018-03-21
Abstract: 本發明係關於一種液晶介質，其包含至少一種如式I之化合物，
     
其中R 1 、R 1* 、環A及B、Z 1 、L 1 、L 2 、a及b具有技術方案1中所指出之含義，及關於其等於主動矩陣顯示器，特定言之，基於VA、PSA、PS-VA、PALC、FFS、PS-FFS、IPS或PS-IPS效應之主動矩陣顯示器之用途。
Patent TW-I610127-B (TW)
Inventor: TEN BERGE PETER
IPC: G03F1/72
Filed: 2016-10-18
Granted: 2018-01-01
Abstract: 一種方法，其包括：基於關於一圖案化系統中之一圖案化器件之一量測及/或模擬結果而識別出一第一基板之一區域包括一熱點；判定該熱點處之第一誤差資訊；及由一電腦系統基於該第一誤差資訊而產生用於修改該圖案化器件之第一修改資訊以獲得一經修改圖案化器件。
Patent TW-I723105-B (TW)
Title: Process and device for the cryogenic separation of synthesis gas
Inventor: LANG MARTIN
IPC: C07C1/04
Filed: 2016-12-22
Granted: 2021-04-01
Abstract: The invention relates to a process and also a device for the cryogenic separation of a methane-containing feed gas (1) predominantly consisting of hydrogen and carbon monoxide, that is partially condensed in this case by cooling, in order to obtain a hydrogen-containing first liquid phase (5) predominantly consisting of carbon monoxide and methane, from which first liquid phase, in an H 2 
separation column (T1) that is heated via a circulation heater (8), a second liquid phase (11) is generated by separating off hydrogen (9), from which second liquid phase, in a CO/CH 4 
separation column (T2), a carbon monoxide-rich gas phase (28) is obtained having a purity that permits release thereof as carbon monoxide product (29). It is characteristic in this case that a low-methane material stream (26, 34) is withdrawn from the H 2 
separation column (T1) and is then applied to the CO/CH 4 
separation column (T2) as reflux.
Patent TW-I699419-B (TW)
Title: 膜狀接著劑用組成物、膜狀接著劑、膜狀接著劑之製造方法、使用膜狀接著劑之半導體封裝及其製造方法
Inventor: MORITA MINORU
IPC: C09J7/10
Filed: 2016-12-29
Granted: 2020-07-21
Abstract: 一種膜狀接著劑用組成物、膜狀接著劑、膜狀接著劑之製造方法、半導體封裝及其製造方法，該膜狀接著劑用組成物含有環氧樹脂、環氧樹脂硬化劑、苯氧樹脂及氮化鋁填充劑各成分，其中氮化鋁填充劑之含量相對於環氧樹脂、環氧樹脂硬化劑、苯氧樹脂及氮化鋁填充劑之合計量，為30~60體積%，將利用該膜狀接著劑用組成物所獲得之膜狀接著劑自25℃以5℃/分鐘之升溫速度升溫時，於80℃以上達到200~10000Pa‧s之範圍之最低熔融黏度，於熱硬化後提供導熱率為1.0W/m‧K以上之硬化體，且於熱硬化後經121℃、20小時於純水中萃取而獲得之萃取液之導電率為50μS/cm以下。
Patent TW-I720143-B (TW)
Title: Projection exposure apparatus and method for measuring a projection lens
Inventor: FOCA EUGEN
IPC: G01M11/02
Filed: 2017-03-02
Granted: 2021-03-01
Abstract: Microlithographic projection exposure apparatus (100), having a projection lens (150) for imaging an object plane (155) onto an image plane (156), wherein an immersion liquid is at least temporarily provided during operation of the projection exposure apparatus (100) between the projection lens (150) and the image plane (156), wherein a measurement structure (121) is arranged in the immersion liquid, wherein the measurement structure (121) is configured to generate a measurement pattern, having a measurement device (130, 160) for measuring the measurement pattern, and wherein the measurement structure (121) has an absorption layer (125) (125) comprising silicon oxide and/or silicon oxynitride and/or nitride.
Patent TW-I681461-B (TW)
Inventor: MATSUMOTO SHINJI
IPC: H01L21/786
Filed: 2017-03-15
Granted: 2020-01-01
Abstract: 一種製造場效電晶體的方法，該場效電晶體包括第一氧化物層及第二氧化物層，且在第一氧化物層及第二氧化物層彼此相鄰的區域中形成前通道或後通道，該方法包括：形成為第二氧化物層的前驅體的第二前驅體層以與為第一氧化物層的前驅體的第一前驅體層接觸，然後分別將第一前驅體層及第二前驅體層轉化為第一氧化物層及第二氧化物層，該形成包括以下處理(I)及(II)的至少一種：處理(I)，塗佈能形成第一氧化物的前驅體且含有溶劑的第一氧化物前驅體形成用塗佈液；然後移除溶劑以形成為第一氧化物層的前驅體的第一前驅體層；及處理(II)，塗佈能形成第二氧化物的前驅體且含有溶劑的第二氧化物前驅體形成用塗佈液；然後移除溶劑以形成為第二氧化物層的前驅體的第二前驅體層。
Patent TW-I634953-B (TW)
Inventor: FANG YEN BOR
IPC: B05C5/02
Filed: 2017-03-28
Granted: 2018-09-11
Abstract: 一種點膠裝置，使用在於點膠過程中鍵結強化與防止膠品溢流，其包括一擴散裝置及防止溢流裝置，該防止溢流裝置係在於一承載板上之基板上，於光學元件之周圍設置一孔穴或溝槽，限制膠品溢流。擴散裝置在於一承載板內設置一流道，並於基板與光學元件接觸之部位設置一小孔與該流道相通，當氣體通入流道內，將改變控制膠液流場變化，達到可以將膠品擴散與增加光學元件接觸長度，提升光學元件與基板點膠定位鍵結的強度，及確保點膠防止溢流與元件構裝製程品質良率。
Patent TW-I642773-B (TW)
Inventor: SHIN DONG MOK
IPC: C09K9/02
Filed: 2017-04-17
Granted: 2018-12-01
Abstract: 在本說明書中所述的本發明是有關於一種色彩轉換薄膜、包其的背光單元以及包括所述背光單元的顯示器件，所述色彩轉換薄膜包括：色彩轉換層，包含樹脂基質及有機螢光物質，所述有機螢光物質分散於樹脂基質中，且當以波長為450奈米的光照射時發出波長與所照射光的波長不同的光，其中色彩轉換薄膜在色彩轉換層中或在設置於色彩轉換層上的附加層中包含色移補償聚合物，當以亮度為600尼特的藍色光在60℃下照射色彩轉換薄膜的整個表面達1,000小時時所述色移補償聚合物能夠使所發出的白色光的色差變化處於0.05以內。
Patent TW-I801337-B (TW)
Title: Glutarate compounds for treating ischemia-reperfusion injuries
Inventor: HUANG JING
IPC: A61K31/225
Filed: 2017-05-01
Granted: 2023-05-11
Abstract: Disclosed herein are methods of preventing, inhibiting, reducing, or treating ischemia and reperfusion injury to tissues with glutarate compounds such as α-ketoglutarate.
Patent TW-I633605-B (TW)
Inventor: AKIMOTO KENGO
IPC: H01L21/28
Filed: 2009-10-20
Granted: 2018-08-21
Abstract: 本發明提供一種半導體裝置及其製造方法。本發明的一個目的在於改善使用氧化物半導體的薄膜電晶體的場效應遷移率。另一個目的在於即使在具有改善了場效應遷移率的薄膜電晶體中也能夠抑制在截止電流上的增加。在使用氧化物半導體層的薄膜電晶體中，藉由將具有比氧化物半導體層更高導電率和更小厚度的半導體層形成於氧化物半導體層和閘極絕緣層之間，可以改善薄膜電晶體的場效應遷移率，並且可以抑制截止電流上的增加。
Patent TW-I731084-B (TW)
Title: Production of n-pentanal from low-butene feedstock mixtures
Inventor: FRANKE ROBERT
IPC: C07C47/02
Filed: 2017-05-18
Granted: 2021-06-21
Abstract: The invention is concerned with the issue of how to produce n-pentanal by hydroformylation from feedstock mixtures comprising a small proportion of n-butene and a large proportion of n-butane. Specifically, solutions for further optimizing 
established processes for hydroformylation of such low-butene mixtures in terms of material utilization are sought. The present invention has for its object to enhance the material utilization of the feedstock mixture in the production of n-pentanal from feedstock mixtures having a small proportion of n-butene and a large proportion of n-butane. The process shall be capable of economic operation on an industrial scale. In particular an existing oxo plant shall be honed to achieve better raw material utilization. This object is achieved by a combination of a hydroformylation and a dehydrogenation, wherein said combination has the special feature that the dehydrogenation is arranged after the hydroformylation in the downstream direction and is thus markedly smaller than conventional dehydrogenations provided upstream. A skillful product removal effectively removes contaminants formed in the process.
Patent TW-I711713-B (TW)
Title: 濺鍍靶材
Inventor: HASEGAWA HIROYUKI
IPC: C23C14/34
Filed: 2017-05-25
Granted: 2020-12-01
Abstract: 本發明提供一種濺鍍靶材，其特徵為，不使用純Ta來提升濺鍍靶材的強度，並可防止濺鍍時的龜裂及微粒，及防止濺鍍膜的組成不均。並且，本發明為，提供一種濺鍍靶材，其特徵為，於at.%下，含有35~50%的Ta，剩餘為Ni及不可避之雜質組成之濺鍍靶材，且僅由Ni 2  Ta化合物相及NiTa化合物相所組成，而前述Ni 2  Ta化合物相及前述NiTa化合物相之微組織的最大內接圓徑在10μm以下者。
Patent TW-I705156-B (TW)
Title: 發熱構件
Inventor: ABUKAWA SHIKOU
IPC: H05B3/20
Filed: 2017-06-02
Granted: 2020-09-21
Abstract: 提供一種即使重複高溫且長時間的使用，體積電阻率也難以變化之發熱構件。藉由形成於基材部12上之薄膜加熱器部13由包含Ti x O y (其中滿足0<y/x<2.0)的熔射塗膜構成，當作具有適合當作加熱器使用的體積電阻率，且即使重複規定的溫度變化或溫度保持，體積電阻率也難以變化之發熱構件11。
Patent TW-I690908-B (TW)
Title: 隨機浮凸與間隙的防偽標籤結構與製造方法
Inventor: BAO FU-BI
IPC: B41M3/14
Filed: 2017-06-09
Granted: 2020-04-11
Abstract: 一種隨機浮凸與間隙的防偽標籤結構與製造方法，在基材上塗佈膠合層，將複數凸點元件隨機分佈於基材上並以膠合層黏合，而後以可透光之外覆層為覆蓋於基材與複數凸點元件表面，則每一個凸點元件與外覆層相鄰處形成對應的接合區，以及外覆層在相鄰膠合層並鄰近每一個凸點元件處形成間隙區，且因複數凸點元件的相互鄰近，而由多個凸點元件共同產生前述間隙區，藉此，達到隨機分佈具觸覺與視覺辨識與具有不規則變形識別區域的目的。
Patent TW-I635430-B (TW)
Title: Pressure sensing touch device
Inventor: YEH SHANG TAI
IPC: G06F3/044
Filed: 2017-06-15
Granted: 2018-09-11
Abstract: 本發明係提供一種壓力感測觸控裝置，包括控制單元及感壓觸控板，該感壓觸控板依序包含基板、第一感測層、第一絕緣層、驅動層、第二絕緣層及第二感測層，並由第一感測層、驅動層與第二感測層電性連接於控制單元上，當外部物體觸碰於感壓觸控板之基板表面上時，可由控制單元根據第一感測層與驅動層之間產生的電容耦合量變化偵測出觸碰的位置，以及驅動層與第二感測電極之間產生的另一電容耦合量變化偵測出觸碰位置的壓力，且因第二絕緣層受力時產生之變形量為大於第一絕緣層，可使驅動層與第二感測層之間距離接近而電容耦合量改變更為明顯，以準確的計算出外部物體施加在感壓觸控板上受到的壓力，也可透過壓力感測提升觸控的應用與效果。
Patent TW-I614891-B (TW)
Inventor: LIN SHIN CHENG
IPC: H01L29/76
Filed: 2017-07-03
Granted: 2018-02-11
Abstract: 本揭露提供一種高壓半導體裝置。此裝置包括具有不同導電型的第一井區及第二井區形成於一半導體層內。源極區及汲極區分別位於第一井區及第二井區內。一閘極結構位於半導體層上，且覆蓋位於源極區及汲極區之間的第二井區內的場絕緣層。一隔離溝槽結構設置於半導體層內且圍繞第一井區及第二井區。隔離溝槽結構包括：填入於隔離溝槽結構的溝槽內的多晶矽層、形成於多晶矽層的上部的重摻雜區以及設置於溝槽的側壁上且圍繞多晶矽層的絕緣襯層。
Patent TW-I629526-B (TW)
Inventor: CHANG MINGSHUN
IPC: G02B13/00
Filed: 2016-03-23
Granted: 2018-07-11
Abstract: 一種成像鏡頭，包含雙色模造鏡筒及至少一透鏡。雙色模造鏡筒包含透光部及光線吸收部。透光部包含光學有效區。光線吸收部與透光部連接，光線吸收部的塑膠材質及顏色與透光部的塑膠材質及顏色不同，且光線吸收部包含鏡筒區。透鏡設置於鏡筒區之內。藉此，有助於維持成像鏡頭的小型化及提升成像品質。
Patent TW-I677062-B (TW)
Inventor: HONG SUK CHANG
IPC: H05K1/18
Filed: 2013-10-24
Granted: 2019-11-11
Abstract: 本發明係揭露一種晶片埋入式印刷電路板、與應用印刷電路板之半導體封裝以及晶片埋入式印刷電路板之製造方法。
 
     利用晶片埋入式印刷電路板之半導體封裝係包括上與下半導體封裝，具有堆疊式封裝層疊結構，其中下半導體封裝包括基底基材，基底基材包括預定的電路圖案形成於其中；電子元件，電性連接於電路圖案且埋入於基底基材之中，使得電子元件之一表面曝露於基底基材之上表面；以及散熱體，設置於電子元件之曝露表面上，以消散由電子元件所產生的熱至外部。
 
     本發明可製造出具有優異的散熱功能之半導體封裝，且可增加產品之可靠度。
Patent TW-I670952-B (TW)
Inventor: CHIANG HUNG-HSIANG
IPC: H04L29/02
Filed: 2017-08-14
Granted: 2019-09-01
Abstract: 一種網路切換控制系統，係用於對在線設備的硬體單元的工作電壓、運行於該在線設備中的作業系統以及運行於該作業系統中的至少一應用程式的運作狀態進行監控，俾於偵測硬體單元的工作電壓、作業系統或應用程式中的任一者的運作狀態出現異常時，即控制該在線模組由一般模式切換至旁路模式，藉此以確保第一、第二網路設備之間的通訊暢通。
Patent TW-I642269-B (TW)
Inventor: LIN CHIEN-CHENG
IPC: H03D7/16
Filed: 2017-08-22
Granted: 2018-11-21
Abstract: 本發明提供一種補償電路，該補償電路適用於功率放大器，以及，補償電路包括變容二極體、電壓感測器和控制電路。變容二極體耦接於功率放大器的輸入端。電壓感測器用於檢測該功率放大器的輸入訊號的幅度，以產生檢測結果。控制電路耦接于變容二極體和電壓感測器，用於根據檢測結果控制變容二極體的偏置電壓，以調整變容二極體的電容。相應地，本發明還提供了一種補償方法及放大電路。採用本發明，能夠提高功率放大器的線性度。
Patent TW-I653680-B (TW)
Title: 基板洗淨裝置、基板處理裝置及基板洗淨方法
Inventor: MURACHI HIROMI
IPC: H01L21/304
Filed: 2017-09-08
Granted: 2019-03-11
Abstract: 本發明係藉由研磨頭及洗淨刷洗淨旋轉之基板。藉由使研磨頭沿第1路徑移動而形成第1軌跡。藉由使洗淨刷沿第2路徑移動而形成第2軌跡。將第1及第2路徑之重疊區域規定為干涉區域。使研磨頭自基板之中心朝向外周端部移動，並且判定研磨頭是否已離開干涉區域。於判定為研磨頭已離開干涉區域之時間點，開始洗淨刷自基板之外周端部朝向中心之移動。
Patent TW-I730172-B (TW)
Title: Retransmission techniques for encoded transmissions
Inventor: XU CHANGLONG
IPC: H04L1/18
Filed: 2017-09-14
Granted: 2021-06-11
Abstract: Various aspects of the disclosure relate to retransmission techniques for communication of information (e.g., for wireless communication). In some aspects, if a device’s first transmission including encoded data and parity information (subject to puncture) fails, the device’s retransmission (e.g., in response to a NAK) involves transmitting the parity information that was punctured. In some aspects, the coding rate used for encoding the data for the first transmission is selected to meet an error rate (e.g., a block error rate) for the second transmission. The second transmission may also include repetition information that includes the encoded data. The repetition information could also include at least a portion of the encoded parity information.
Patent TW-I646947-B (TW)
Inventor: AKIHIRO TAKASHI
IPC: A61C19/00
Filed: 2017-10-06
Granted: 2019-01-11
Abstract: 一種口內置入訓練器，設置有以撓性材質所製成之本體、上推動片以及下推動片，本體係呈中空環形狀，其上下兩側分別形成有上基部與下基部，上基部與下基部兩側分別以連接部相互連接；上推動片係呈弧形狀，其一端連接於本體上基部朝向凸出方向之表面，另端朝向下基部延伸；下推動片係呈弧形狀，其一端連接於本體下基部朝向凸出方向之表面，另端朝向上基部延伸，利用上、下推動片產生彈性推動力，讓上、下推動片可於使用時受擠壓變形，產生彈性回復力對口輪匝肌與其他臉部肌肉連結處頂推施加壓力。
Patent TW-I720263-B (TW)
Title: Transistor structure and method for fabricating the same
Inventor: Wu shao-hui
IPC: H01L21/336
Filed: 2017-10-30
Granted: 2021-03-01
Abstract: A transistor structure includes a first oxide semiconductor (OS) layer doped with sulfur. A source structure and a drain structure are disposed on the first OS layer, wherein a region of the first OS layer between the source structure and the drain structure forms a channel region. A second OS layer doped with sulfur is at least disposed on the channel region of first OS layer.
Patent TW-I647801-B (TW)
Title: 熱處理方法
Inventor: KITAZAWA TAKAHIRO
IPC: G01J5/08
Filed: 2017-11-10
Granted: 2019-01-11
Abstract: 本發明提供一種可準確地測定基板之上表面之溫度之熱處理裝置及熱處理方法。 本發明於對面方位為(100)面之單晶矽之半導體晶圓W照射閃光時，半導體晶圓W以沿著＜100＞方向之直徑為軸而翹曲。以半導體晶圓W之沿著＜100＞方向之直徑與上部輻射溫度計25之光軸一致之方式調整半導體晶圓W之朝向而載置於基座74，藉此沿著於閃光照射時半導體晶圓W之翹曲成為最小之方向之直徑與上部輻射溫度計25之光軸一致。其結果，於閃光照射時，在上部輻射溫度計25之光軸方向上亦幾乎不會於半導體晶圓W產生翹曲，因此，輻射率亦幾乎未變化，而可準確地測定半導體晶圓W之上表面之溫度。
Patent TW-I664442-B (TW)
Inventor: GONG JINHUI
IPC: G02B7/04
Filed: 2017-11-15
Granted: 2019-07-01
Abstract: 一種光學透鏡組，用於由一多光源之結構光產生單元所發出之多個近紅外光經該光學透鏡組產生多個光束。朝向多光源之結構光產生單元的方向為一入光側，且相對的另一側為一出光側。光學透鏡組從出光側至入光側沿一光軸依序包括第一、第二、第三及第四透鏡。第一透鏡是從入光側至出光側算起具有屈光率的第四個透鏡。第二透鏡是從入光側至出光側算起具有屈光率的第三個透鏡。第三透鏡是從入光側至出光側算起具有屈光率的第二個透鏡。第四透鏡是從入光側至出光側算起具有屈光率的第一個透鏡。
Patent TW-I717572-B (TW)
Title: Bicycle sprocket
Inventor: AKANISHI KENICHI
IPC: F16H55/30
Filed: 2017-11-27
Granted: 2021-02-01
Abstract: A bicycle sprocket comprises a sprocket body and chain-driving teeth. The chain-driving teeth comprises at least one first tooth and at least one second teeth. The at least one first tooth has a first circumferential tooth-length defined in a circumferential direction at a radial location defined in vicinity of a reference line. The at least one second tooth has a second circumferential tooth-length defined in the circumferential direction at the radial location. The first circumferential tooth-length is larger than the second circumferential tooth-length. A dimensional difference between the first circumferential tooth-length and the second circumferential tooth-length is equal to or smaller than 1 mm.
Patent TW-I658313-B (TW)
Inventor: CHUANG YUNG-HO
IPC: G02F1/35
Filed: 2012-09-26
Granted: 2019-05-01
Abstract: 本發明包括：一曝露室，其經組態以含有具有一選定氫濃度之一鈍化氣體，該曝露室進一步經組態以含有供曝露於該室內之該鈍化氣體之至少一個非線性光學(NLO)晶體；一鈍化氣體源，其流體連接至該曝露室，該鈍化氣體源經組態以供應鈍化氣體至該曝露室之一內部部分；及一基板，其經組態以將該NLO晶體固持於該室內，該基板進一步經組態以使該NLO晶體之一溫度保持處於或接近一選定溫度，該選定溫度低於該NLO晶體之一熔化溫度。
Patent TW-I660320-B (TW)
Title: 權限等級決策暨分案系統及方法
Inventor: Wang jun-quan
IPC: G06Q40/02
Filed: 2017-12-04
Granted: 2019-05-21
Abstract: 一種權限等級決策暨分案系統包含一儲存一待分案授信申請資料的分案端，以及一電連接該分案端的權限等級決策端。該權限等級決策端自該分案端接收該待分案授信申請資料，並根據其所儲存的一權限等級決策資料，以及該待分案授信申請資料所包含的一待審核額度，產生一指示出多個權限等級其中一目標者的決策結果，並將該決策結果傳送至該分案端。該分案端接收該決策結果後，根據該決策結果產生一分案結果，該分案結果指示多個徵審人員其中一目標者，其中，該目標徵審人員對應之一徵審人員資料所包含的一權限等級參數與該目標權限等級相符。
Patent TW-I671792-B (TW)
Inventor: KIM YOUNG HOON
IPC: H01L21/67
Filed: 2017-12-06
Granted: 2019-09-11
Abstract: 提供一種具有改進的均勻性和反應速度的基板處理設備。一種基板處理設備，包括：主體部分，其包括排放路徑；氣體供應單元，其連接到所述主體部分；第一分隔件，其從所述主體部分延伸；第二分隔件，其從所述主體部分延伸，並且布置在所述氣體供應單元與所述第一分隔件之間；以及基板支撐單元，其被構造為與所述第一分隔件表面密封，其中所述第一分隔件和所述第二分隔件之間的第一區域以及所述氣體供應單元和所述第二分隔件之間的第二區域連接到所述排放路徑。
Patent TW-I683075-B (TW)
Title: 加熱調理器及蒸氣調理方法
Inventor: YASUI Mai
IPC: F24C7/02
Filed: 2018-01-04
Granted: 2020-01-21
Abstract: 本態様之加熱調理器可因應調理內容設定目標溫度帶，該目標溫度帶是在執行初期調理階段與正式調理階段時所使用，且具有下限溫度與高於下限溫度之上限溫度。本態様之加熱調理器於加熱室之庫內溫度低於下限溫度時，進行第1輸出的蒸氣加熱，於庫內溫度在下限溫度與上限溫度之間時，進行低於第1輸出之第2輸出的蒸氣加熱，於庫內溫度高於上限溫度時，進行低於第2輸出之第3輸出的蒸氣加熱，來執行初期調理階段與正式調理階段。依據本態様，可將庫內溫度維持在所期望之溫度，來進行最合適的低溫蒸氣調理。
Patent TW-I694516-B (TW)
Title: 基板處理裝置
Inventor: KATO HITOSHI
IPC: C23C16/44
Filed: 2018-01-09
Granted: 2020-05-21
Abstract: 本發明之課題為一邊使旋轉台的一面側所載置之基板(即晶圓)公轉一邊進行成膜處理時，能沿著晶圓的圓周方向來施予均勻的處理。  
     
     
       其解決手段係在旋轉台的一面側設置會因旋轉台而公轉之載置有晶圓之載置台。又，載置台的自轉軸設置有被動齒輪，且沿著該被動齒輪的公轉軌道整周設置有構成該被動齒輪與磁性齒輪機構之驅動齒輪。由於係藉由自轉用旋轉機構來讓驅動齒輪旋轉，且藉由讓驅動齒輪的角速度與被動齒輪的公轉所致之角速度產生速度差來使載置台自轉，故可在晶圓的圓周方向上提高成膜處理的均勻性。又，可藉由驅動齒輪的角速度與被動齒輪的角速度之差值，來容易地調整被動齒輪的自轉速度。
Patent TW-I760436-B (TW)
Title: 催化裂解催化劑及其製備方法
Inventor: ZHOU LINGPING
IPC: C01B39/24
Filed: 2018-02-14
Granted: 2022-04-11
Abstract: 公開了一種催化裂解催化劑及其製備方法，所述催化劑含有含稀土改性Y型分子篩、含添加劑的氧化鋁黏合劑和粘土，所述含稀土改性Y型分子篩的氧化稀土含量為約4-12重量%，磷含量為約0-10重量%，氧化鈉含量不超過約1.0重量%，總孔體積為約0.36-0.48 mL/g，孔徑為2-100 nm的二級孔的孔體積占總孔體積的約20-40%，單元胞穴尺寸為約2.440-2.455 nm，非骨架鋁含量占總鋁含量不高於約10%，晶格崩塌溫度不低於約1060℃，用吡啶吸附紅外法在200℃時測定的該改性Y型分子篩的總酸量中B酸量與L酸量的比值不低於約3.50。該催化劑用於重油催化裂解時，具有更高的重油轉化活性和較低的焦炭選擇性，以及更高的汽油收率、液化氣收率、輕質油收率和總液收。
Patent TW-I759428-B (TW)
Title: Power supply circuits, wearable devices and methods for providing power supply to a wearable device
Inventor: LIEN JIAN YAO
IPC: G06F1/32
Filed: 2018-02-14
Granted: 2022-04-01
Abstract: According to various embodiments, there is provided a power supply circuit including: a power switch configured to activate one of a primary power source or a secondary power source based on a state of charge of the secondary power source; wherein the primary power source is configured to, when activated, power a low power component; and wherein the secondary power source is configured to, when activated, power the low power component and a high power component; and a clock switch configured to provide a clock signal to the high power component based on the state of charge of the secondary power source.
Patent TW-I780129-B (TW)
Inventor: USHIKURA SHINICHI
IPC: H01L27/14
Filed: 2018-03-15
Granted: 2022-10-11
Abstract: 本發明提供一種放射線檢測器以及放射線圖像攝影裝置，於使用支撐體製造且具備具有撓性基材之感測器基板之放射線檢測器之製造步驟中，能從支撐體輕鬆剝離感測器基板，並能抑制撓性基材之防濕性下降，放射線檢測器具備：感測器基板，包含撓性基材、及設置於基材之第1面且形成有蓄積依據從放射線轉換之光而產生之電荷之複數個像素之層；轉換層，設置於形成有像素之層之與基材相反之一側，並將放射線轉換為光；第1保護膜，包含端部在內設置於基材之第1面側，並至少覆蓋整個轉換層；以及第2保護膜，至少覆蓋與第1面相反之一側之第2面。
Patent TW-I659183-B (TW)
Inventor: LIU YEN CHEN
IPC: F24F11/89
Filed: 2018-03-19
Granted: 2019-05-11
Abstract: 本發明有關於一種自動調節室內環境的裝置及方法。此自動調節室內環境的裝置可移動於室內環境中，以調節室內環境中各區域的環境參數。於此自動調節室內環境的方法中，依據所設置之感測模組所傳送的呼叫訊號，此裝置可判斷室內環境之環境狀況，並可移動至相對應的區域，而可調節此區域之環境參數。
Patent TW-I690018-B (TW)
Title: 半導體晶圓表面保護用黏著帶及半導體晶圓之加工方法
Inventor: GOTO YUSUKE
IPC: H01L21/304
Filed: 2018-03-30
Granted: 2020-04-01
Abstract: 本發明係一種半導體晶圓表面保護用黏著帶及使用其之半導體晶圓之加工方法，所述半導體晶圓表面保護用黏著帶係於40℃~90℃之條件下加熱貼合於具有20μm以上之凹凸差的半導體晶圓表面而使用者，上述半導體晶圓表面保護用黏著帶具有基材膜、黏著劑層及位於該基材膜與該黏著劑層間之中間樹脂層，上述中間樹脂層之厚度為上述凹凸差以上，構成該中間樹脂層之樹脂的熔點或菲卡軟化點為40℃~90℃，構成該中間樹脂層之樹脂的熔體質量流率為10g/min~100g/min。
Patent TW-I671916-B (TW)
Inventor: CHEN HSUEH-SHIH
IPC: H01L31/18
Filed: 2018-04-24
Granted: 2019-09-11
Abstract: 本發明提供一種具有超寬吸收放射差的奈米晶，包含一由光電半導體化合物所構成的單晶體並包括一摻雜區及至少兩未摻雜區。摻雜區具有A1
         X A2
         1-X B之第一化學結構式，並具有一內部及一包覆內部的外部，且A2為摻雜區中的摻質。未摻雜區是分散於摻雜區內部並具有一A1B之第二化學結構式，且第二化學結構式中的A1相同於第一化學結構式中的A1。A1與A2是選自1價、2價或3價金屬陽離子，B是選自2價或3價陰離子，但有條件的是，A1不等於A2。第一化學結構式的能隙大於第二化學結構式，且摻雜區內部的摻質濃度是低於足以令單晶體具有一至少大於350 nm的吸收放射差。
Patent TW-I670949-B (TW)
Title: 一種傳輸方法、終端設備及基地台
Inventor: GAO XUEJUAN
IPC: H04L1/08
Filed: 2018-04-26
Granted: 2019-09-01
Abstract: 本發明實施例提供一種傳輸方法、終端設備及基地台，用以解決現有技術中沒有支持基於CBG進行重傳和ACK/NACK回饋的方法的技術問題，該傳輸方法包括該終端設備接收下行控制通道；該終端設備從該下行控制通道中獲取第一指示域，該第一指示域用於指示TB的初始傳輸中對應的碼塊群組CBG中的每個CBG是否需要進行重傳。
Patent TW-I661346-B (TW)
Title: 觸控式導光薄膜
Inventor: TSAI CHUNG LIN
IPC: G06F3/041
Filed: 2018-06-12
Granted: 2019-06-01
Abstract: 一種觸控式導光薄膜，包含出光層、導光層、彈性透光層以及至少一個發光源。出光層具有第一電路。導光層位於出光層一側，且導光層具有第二電路以及容置空間。第二電路位置對應前述第一電路。容置空間凹設或貫穿地位於導光層。彈性透光層設於出光層及導光層之間，且彈性透光層具有一貫孔以及一容置孔。貫孔位置對應第一電路以及第二電路，且當彈性透光層受壓時，貫孔可供第一電路與第二電路相接觸。容置孔位置對應容置空間。發光源設於出光層並且貫穿容置孔而突伸至容置空間。藉此，本發明有效降低產品結構複雜度，並省去導光板占用的空間。
Patent TW-I783003-B (TW)
Title: 半導體裝置
Inventor: KAMBARA HITOSHI
IPC: H01L29/872
Filed: 2018-07-06
Granted: 2022-11-11
Abstract: 特別地，提供一種具有用於功率裝置的具優異半導體特性的半導體裝置。  
     
     
       一種半導體裝置至少包括：半導體區域、及設置在該半導體區域上的能障電極，其中，在該半導體區域和該能障電極之間，設有能障高度調節區域，該能障高度調節區域與該能障電極的能障高度，大於該半導體區域和該能障電極的界面處的能障高度，並且多數的該能障高度調節區域被埋入於該半導體區域表面。
Patent TW-I675117-B (TW)
Inventor: LIEN WEN HUA
IPC: H01L21/20
Filed: 2018-07-17
Granted: 2019-10-21
Abstract: 本發明提供在接觸孔或溝槽上方形成阻障層的方法。此方法包括在腔室內產生高密度電漿，以及利用高密度電漿將阻障材料沉積在接觸孔或溝槽上方。阻障材料的沉積至少包括依序的一第一沉積步驟、第二沉積步驟及第三沉積步驟。第一沉積步驟、第二沉積步驟及第三沉積步驟係分別在第一偏功率、第二偏功率及第三偏功率下執行。第三偏功率大於第二偏功率，而第二偏功率大於第一偏功率。本發明亦提供以此方法形成的接觸孔結構。
Patent TW-I751368-B (TW)
Title: 高架搬送車、搬送系統及高架搬送車之控制方法
Inventor: WADA EIJI
IPC: H01L21/67
Filed: 2018-08-10
Granted: 2022-01-01
Abstract: 本發明之課題，在於一邊縮小收納物品之本體部內之空間而謀求本體部以及高架搬送車之小型化，一邊以與移載目的地對應之方式使物品旋轉既定角度以上。  
     本發明之高架搬送車具備有：移行部11；本體部12；具有保持部15、移動機構16及旋轉機構19，並在與移載目的地30之間交接物品M之移載部13；以及控制部14；本體部12於利用旋轉機構19使設為收納位置P1之保持部15旋轉既定角度θ之情形時在由保持部15保持之物品M所抵接之位置具有內壁23a，控制部14於將保持部15設為收納位置P1並利用移行部11使其移行而進行物品M之交接時，藉由移動機構16將保持部15設為脫離位置P2、P3並藉由旋轉機構19使保持部15繞旋轉軸AX旋轉既定角度θ以上，而使物品M與移載目的地30所之規定之朝向一致。
Patent TW-I734928-B (TW)
Title: 用於雷射晶片之發光分布檢測方法以及雷射晶片之發光強度的顯示方法
Inventor: Tsai Chen YANG
IPC: G06T7/90
Filed: 2018-08-16
Granted: 2021-08-01
Abstract: 一種用於雷射晶片之發光分布檢測方法，其步驟包含有：利用一影像擷取裝置拍攝一發光之雷射晶片而取得一第一影像，第一影像中包含有分別對應該雷射晶片之複數出光口的複數第一光點；量測各該第一光點之相對光強度；以及產生一第二影像，第二影像中包含有分別對應該等第一光點之複數第二光點，以及分別框住該等第二光點之複數顏色外框，各該顏色外框之顏色對應其所框住之第二光點所對應之第一光點的相對光強度。藉此，本發明之發光分布檢測方法可供使用者容易地辨別受測之雷射晶片的發光分布是否達到可接受之均勻程度。
Patent TW-I662273-B (TW)
Inventor: CHEN TSUNG-YEN
IPC: H01L21/66
Filed: 2018-08-20
Granted: 2019-06-11
Abstract: 一種缺陷檢測設備及缺陷檢測方法。所述缺陷檢測設備包括螢光檢測裝置以及處理模組。螢光檢測裝置用以激發樣品使其發出螢光，並將螢光分光為一光束，以產生螢光光譜訊號。處理模組用於接收螢光光譜訊號，並選定預先決定的第一波長範圍的螢光強度積分值以及預先決定的第二波長範圍的螢光強度積分值進行數值運算，以得到樣品內預先決定的深度的螢光影像，其中第一波長範圍與樣品內所述預先決定的深度相關聯，且第二波長範圍不等於第一波長範圍。
Patent TW-I658676-B (TW)
Title: 一種新型電池平衡器
Inventor: WANG SHUN-ZHONG
IPC: H01M10/44
Filed: 2018-09-04
Granted: 2019-05-01
Abstract: 一種新型電池平衡器，具有：一電池組，包含至少一組電池單元，各組所述電池單元包含兩個二次電池；至少一雙向降升壓電路，各具有兩個連接埠以與一組所述電池單元的所述兩個二次電池分別電氣耦接，以及兩個開關以依兩個開關控制信號控制所述兩個二次電池之間的能量轉換；以及一控制單元，用以依所述兩個二次電池的兩個開路電壓及一多項式函數公式進行一責任週期計算以決定所述兩個開關控制信號的責任週期，該多項式函數公式為:
         Duty(V
           OC     ，ΔV) = 0.03313(V
           OC )
           2 + 0.02388(ΔV)
           2 -0.2692(V
           OC ) - 0.352(ΔV) + 0.07974(V
           OC ) (ΔV)+1.2
         其中，
         V
           OC   為所述兩個開路電壓中較低之開路電壓，
         ΔV 為所述兩個開路電壓之電壓差，
         Duty 為所述的責任週期。
Patent TW-I765093-B (TW)
Title: 聚乙烯醇薄膜及其製造方法
Inventor: MORI SHOTARO
IPC: B29C41/24
Filed: 2018-09-14
Granted: 2022-05-21
Abstract: 提供一種聚乙烯醇薄膜，其係寬度3m以上、長度1,000m以上、厚度15~65μm，且將長度方向的節距設為15m、寬度方向的節距設為10mm所測量的遲滯值滿足下述式(1)~(4)。該薄膜即使為薄且寬亦具有優異的拉伸性，並且拉伸後的寬度變動小。因此，藉由使用該薄膜，可以生產性良好地製造光學性能優異之薄且寬的光學薄膜等。  
     A(nm)=Re 最大值 -Re 最小值 ≦10 (1)  
     
       
         
       
     
     2≦Re 總計 ≦20 (3)  
     0.3<A/Re 總計  (4)
Patent TW-I791044-B (TW)
Inventor: ZHANG DAVID
IPC: G02B6/293
Filed: 2018-09-18
Granted: 2023-02-01
Abstract: A light conversion device is disclosed. The light conversion device includes a substrate and a wavelength conversion element. The wavelength conversion element includes an inorganic binder, such as sodium silicate. Also disclosed are phosphor wheels and light engines including such phosphor wheels. Further disclosed are high-power laser projection display systems comprising a laser having a power of from about 60W and about 300W and a light conversion device. The use of an inorganic binder permits high thermal stability at reasonable cost.
Patent TW-I814742-B (TW)
Inventor: HIGANO SATOKO
IPC: C09D1/00
Filed: 2018-09-26
Granted: 2023-09-11
Abstract: The present invention is directed to a liquid composition for forming infrared shielding
film that contains aggregated particles in which single core-shell particles are
aggregated, a binder, and a solvent. The core of the core-shell particle is an ITO particle
having an average particle size of 5 nm to 25 nm. The shell of the core-shell particle is
an insulating substance. The average particle size of the aggregated particle is 50 nm to
150 nm. The binder is one or more compounds selected from the group consisting of
hydrolysate of silica sol, acrylic resin, epoxy resin, polyvinyl acetal resin and polyvinyl
butyral resin.
Patent TW-I681655-B (TW)
Inventor: CHANG CHUNG-YAO
IPC: H04L5/00
Filed: 2018-10-08
Granted: 2020-01-01
Abstract: 本發明提供一種無線區域網路系統中進行位元層級管理之方法。該方法包含：在該無線區域網路系統中之一傳送器中分別計算一封包中之位於一或多個位置之一或多個填充欄位各自的位元數；以及依據該一或多個填充欄位各自的位元數，將對應於至少一預定位元數之一或多組有效資料填入該一或多個填充欄位中以取代一或多組冗餘資料。另外，當該無線區域網路系統中之一接收器接收到具有該一或多組有效資料之該封包時，該無線區域網路系統利用該一或多組有效資料提升該無線區域網路系統的整體效能。