HfN, HfS, HfSi, HfCl4, HfF4 пайда кылат. Абада окистенүүдөн сырткы бети жука кабыкча менен капталат. Кычкылтек менен ысытуудан Г. оксиди HfO2 пайда болот. Г. [HfO]HPO</nowiki>4, [HfO]Cl2, K2[HfF6] сыяктуу комплекстик бирикмелери белгилүү. Г. цирконий минералдары жана HfCl4 хлоридин калыбына келтирүүдөн алынат. Г. тантал жана вольфрам менен болгон куймасы абсолюттук нөлгө жакын темп-рада 20000С темп-рада да жогорку бекемдигин сактайт. Ошондуктан ядролук энергетика, электрондук техника, авиация, ракеталар жана реактивдүү кыймылдаткычтар тетиктерин жасоодо колдонулат.