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问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿某些所谓业内人士的冷嘲热讽，让我想起飞驰而过的马车嘲笑着又笨又重的蒸汽机，而且他们还用着只是国外的马车，就看不起国内科研的一点进步。我曾有幸在光电所读三年硕士，虽然不在做光刻机的开放室和四室，但也算了解光电所的科研氛围和条件。国内有很多研究所应该都是这样，不以盈利为目的，接国家项目，专心于打破国外垄断的技术。大家都知道突破的难度，靠私企前期开始投资几乎不可能，只能依赖国家科研基金。研究所科研人员并不像外传的所谓一个人干活，五个人领导。中科院至少光电所每个研究员包括所长都亲自带学生，有科研任务的。他们的能力与付出不说远超他们的待遇，至少也是与之相匹配的。私以为，在地处西南的光电所取得光刻机的实质进展，实属不易。也许我们短时间甚至未来很长一段时间内都无法打破ASML的垄断。但在冷静看待成果的同时，不忘为取得的实质进步鼓掌。另外，在此说明，我完全赞同SP光刻应用场景有限等分析的观点。我说的冷嘲热讽仅针对某些“略懂”的业内人士。希望表达的是，国内有些科研院所，是在比国外落后很多的条件下不断努力突破，不只是光刻机方向。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿中科院是最牛逼的研发机构，没有之一。2018自然指数年度榜单（NatureIndex2018AnnualTables）显示，美国仍是世界上高质量科研论文的最大贡献国，中国和德国位居其后。在自然指数十大贡献国中，中国是唯一实现指数值正增长的国家。中国科学院位列该榜单全球十大科研机构首位。此前，中科院已连续6年位列自然指数全球首位。不否认中科院机构大人多，但从0到1的科研上，拼的是高投入高产出，拼的是时间，拼的是建立专利壁垒。讲人均不是不对，但不是最重要的。ASML肯定要降价促销了，资本主义的老套路，但对着国家意志是不会得逞的。业内人士指出这个技术自身的局限性，以目前的技术能力，只能做周期的线条和点阵。希望能通过积累实际加工产品的经验，能想到创新性的使用方法，突破这个局限。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿为何可以深入讨论这些尖端设备，难道不会泄密？
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿等28NM浸没式光刻机通过验收大家再欢呼，光电所这款目前主要是应用于纳米光学器件，这也是我们的弱项之一
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿中国都是在西方的逼迫下发展起来的，中国正在一步步走向正轨，唯一遗憾的是，中国还太穷！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿曝光机应用市场大且广，不是要做到nm级别，即使um级别也有上千亿的国内市场。做好一个再往里面吃嘛
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿国产造假蔚蓝成风，信也好不信也罢，反正作为屁民，跟你又没一毛钱关系
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿意味着光刻机退出高科技行列（滑稽）
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿每天都在见ASML的光刻机，很多台，偶尔还操作一下删了job，想想玩几千万美金的机台还是小开心一下，哈哈，但我不是做光刻scanner，我是光刻前面的那一道工艺涂胶显影track的，看到这个消息还是很为中国自豪，不指望弯道超车，希望一步一步往前推进，总有一天回到积累的爆发点
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿反正不会民用，脖子还是被卡着。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿如果这种国产光刻机量产，相对于现在的asml有很大的优势。利用老式的光源，省去一大块光源高昂的采购费用，却能实现比其大部分先进光源还高的分辨率，可以预见会打破现有的半导体设备市场的游戏规则。中国造的光刻机说不定和其他被中国攻克的高科技设备一样，以后也成了白菜价。。这台设备牛逼之处不在于“光刻分辨力达到22，因为结合多重曝光技术后，可以用于制造10纳米级别的芯片。”而在于“该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米”。asml的193nmArF也被称为申紫外光源。使用193nmArF光源的干法光刻机，其光刻工艺节点可达45nm，采用浸没式光刻、光学邻近效应矫正等技术后，其极限光刻工艺节点可达28nm。中国科学院光电技术研究所通过通过验收的自主知识产权的光刻机，在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可以用于制造10纳米级别的芯片，如果用193光源会有什么水平？超级大本营军事论坛-​lt.cjdby.net中科院成都光电所的自主知识产权的22nm精度的光刻机，是有很清晰的发展脉络的，将近七年的时间，一步一个脚印。超级大本营军事论坛-​lt.cjdby.net中芯国际最新的14nmFinFET制程已接近研发完成的阶段，试产的良率已达到了95%的水准。中国的晶圆制造产业和三星台积电英特尔相比，现在差距还是很大，但是制程工艺上来了，半导体制造设备突破了，以中国这个将近占比全世界60%的半导体市场为突破口，相信未来中国的晶圆制造企业也能像京东方，长江存储，合肥长鑫，甚至华为一样，打破发达国家的垄断局面，占领世界产业链的高端地位。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个嘛，先解决有没有的问题，如果有了，不错，有了，水平一般，好，有了，水平中上，非常好，有了，高水平的那就是相当好
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿向默默无闻科技工作者致敬！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿荷兰未来几年是不是要出现gdp负增长了(狗头）
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿你在
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿相当于有了最好的厨具，就缺最好的厨子和食材了
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿稳住，大量做实验，不要给外国人任何机会来偷窥。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿估计主要是航天用光学芯片能自主吧，涉及其他领域还早。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿做不了芯片，能做光学元件不，能比thorlab不？能比不怕丢饭碗了哈哈哈哈
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿用365纳米的光源，搞出了22纳米的分辨力的光刻机，很牛了。明显是绕过了比较困难的缩短波长和增加孔径的老技术路线。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿感觉是不留活路的节奏。。。。新开科技树，虽然基片尺寸是1~4英寸吧，但是隐隐感觉马上也能达到8英寸，如果架构设计再给点力，估计在不久并且可见的将来，国外只能封锁自己了的进口了。。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿能给别人留点活路不？可怜的老外只能眼睁睁的看着我兔一个领域一个领域的超越过去
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿成果可喜，但也不要骄傲，离应用还有很远的路。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿请问连题目都看不懂的是不是没救了╮（╯＿╰）╭
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿昨天晚上这篇新闻一出，圈子就有强烈反响。我虽然不是光刻机的研发人员，但也算是半导体圈内人士，我第一感觉也是不可思议，365nm做出22nm的投影效果，就算理论上能通，这光学系统必定复杂到连ASML都不一定能搞定。今天早上看到几篇论文之后终于明白这个技术的含义，和现在的光刻机技术完全不一样。第一，这是一个另类的光刻技术，和现在晶圆工厂用的光刻机是两条技术路线。类似大家的汽车都是平行四个轮子，它搞个菱形的！他也说自己是汽车！对于现在大规模集成电路工艺来讲没有任何商用的可能，也许未来在某个领域会用到这个技术。第二、这几个军报的小编，不专业且不负责，在文中有意夸大扭曲实际，因此造成圈内的强烈质疑。在咨询行业专业人士之后，我最后总结：SMEE（上微）做的是大规模成像的设备。而这台做的是近场曝光设备，不能用来做大规模生产，与SMEE做的28nm光刻机完全不是一个层面上的东西。目前主流商用的各类投影光刻机在视场、成品率、套刻精度以及产率，都有较高的要求，缺一样不行。文中所写的光刻机，除了投影精度之外，其他没有一个性能指标能满足现在晶圆工厂使用要求。因此这台样机仅仅可以在小批量、小视场（几平方毫米）、工艺层少且套刻精度低、低成品率、小基片尺寸（4英寸以下）且产率低（每小时几片）的一些特殊纳米器件加工领域使用。IC领域是不可能的。换言之，该技术和设备仅仅是一个储备技术，并不是基于现在芯片生产所需环境开发的。这个新闻有误导公众的嫌疑，媒体仅看到了线宽分辨力优势，没有把其在视场、成品率、套刻精度及产率等劣势交待清楚。就敢写用于芯片生产是极其不负责任的说法。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿个人觉得是里程碑式的革命！！！感觉到国产芯片离我们越来越近啦。厉害啦！我的国。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿能读出来，但连在一起就不知道是啥意思了！是不是以后可以论斤买沙子了，不对是论斤买内存和cpu了！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿所有的技术都是一点一点积累成长下来的。对于无视我国高端产业一步步发展的洋奴们我只有一句话送给你们：你妈生你也是要怀胎10个月的！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿说吹牛的都是不懂技术的，懂技术的就觉得很有突破，虽然该光刻机还不能做出7nm的芯片出来，但至少中国在追了。我们虽然很慢，但从没有原地踏步。
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回答：﻿意味着我国未来的超算又可以牛逼好久了。所以，x86架构的授权到底啥时候能拿到啊？
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个是激光雕刻机，不能叫光刻机，这个所谓的光刻机只能划线，这个在光刻里面没什么用，没法对准，即使是第一层也没法用。偷梁换柱，偷换概念。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿最近『落后技术』出现的有点多啊
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个算低频光波激发高频近场波来进行雕刻，类似非线性效应，和材料关系很大。在以后分辨率升级上，非常依赖材料
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿有没有这个方面的大拿出来冒个泡，普及一下知识点，前一阵asml卖给国内时候想法是国内应该有了差半代或者一代的相关产品，可这新闻一出来云里雾里了，画红线部分什么意思？是跟asml结构不同吗？处于什么地位？
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这只是第一步，以后还有更多。至少给了大家信心，我们还是能搞出东西的嘛。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿g20前扔出这个消息，摆明了是一个谈判的筹码，到底有多大威力，后天看谈判结果就是了。
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回答：﻿这个技术是不是类似于拿个铡草刀来搞米上刻字，刻的还不错？
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回答：﻿之前在长光所听过成光的事，我还问长光的老师为什么你们不搞，结果他说他不会
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回答：﻿我想知道这台机器会被哪家公司采用了
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个设备实现了激光束22纳米，可以做简单的线，点，光栅部件，拿来做刻芯片这种超级复杂的ic制造目前很困难，那个难度是画简单线的十万倍。不过能做到这一步已经非常不容易了。不积跬步，无以至千里。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿芯片就像人的大脑，提供人体基本信息量，传递接受某种信号，信号强弱意味着潜能意识的存在，而芯片的强弱决定质量原版的好坏，这就是区分芯片强弱的生存方式方法。
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回答：﻿意味着世界上又少了一个先进技术。
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿从无到有至少有进步如果事实回答报道还没有什么，关键的是媒体常年夸大事实，拿部分成果来掩盖其余部分依旧落后的情况或者压根无视。这种做法其实很误国。从大跃进开始这种做法耽误了国家高层领导人进行国事决策也不是一次两次了。上次报寒武纪就有这个嫌疑，当时寒武纪是一块单AI单元芯片加一块GPU芯片进行的AI算力测试跑分，比NV的整芯片（GPU+AI单元）跑分要高，但是单比AI单元的话寒武纪的整块AI单元芯片比NV的整只能AI芯片只小百分之30，更不提本身NV的芯片中的AI单元比寒武纪这块要小的多。媒体报道就是寒武纪的AI芯片比NV的小算力还更高。你一个单单元芯片跟对方一个整智能AI芯片比算力就已经很搞了，还要比面积。英伟达搞AI芯片搞了这么多年全世界的智能驾驶医疗AI芯片都是NV在供应，我们突然间也有了一个性能算例上还不错的AI单元构架就已经是很大的突破了，但是那种夸大事实，胡乱吹嘘的的报道实在让人很愤慨。这次同样是一个套路的报道。科研产品弯道超车的可能性是很低的不到万分之一的几率，国内多数的科研人员还是按照之前的道路在进行技术更替，有了前车之鉴跟一批素质优良的科研人员在更替速度上有着长足的发展。钱学森等一批科学家当年刚回国，钱学森当年在美国都是研究第3代第4代的火箭推进系统，到国内还不是从第一代开始，仗着丰富的经验快速的更替推进系统代数来的。这种胡乱的乱吹报道，不仅会让部分行内科研人员丧失信心（卧槽他们弯到超车了，我现在还做的这些研究有个屁用）也会让国家对策高层面对国际问题上出错牌。对于国家科研报道就要请专门懂行的记者编辑来报道，并且要终身责任制。误国误民通常就是这些报道害的
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿那么看起来这个和传统技术不是同一科技树？那么也就是我们有了完全知识产权的全新技术吗？？？！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿意味着光刻机被开除高科技籍了。坐等恨国党喷造假→证实后喷面子工程。军报比较权威，再加上年初那个所谓的荷兰光刻机厂对中国解禁，我觉得是做出来了，一贯的套路。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿片面追求各种技术都国产化，只能像日本人一样蠢，最后死的跟日本人一样惨。平成以来的日本，什么都想造，什么都造不好。而川普之前的美国，从不高喊什么都要美国造，可事实是美国基本上造了世界上所有最先进的产品。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个领域最牛的公司大概就是荷兰那家了，产品不愁卖，intel三星台积电都入股了。为啥是荷兰，可能荷兰是世界上最商业化的国家。拿破仑锁欧洲，照样和英国做生意。这个领域是天坑，天坑到intel都合资。扯远了，回归正题。这是我国工业体系，综合实力完整的标志。不过大概率是赔钱的买卖。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿意味着22纳米的光刻机，很快就会被西方解禁，中国可以进口了
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿看了很多评论了解到这台光刻机是不同于传统光刻机的等离子光刻机，在传统光刻方面和国外的差距还是很大的，短期内很难实现超越，等离子光刻算是另辟蹊径，虽然现在的成果与国外还是有一定的差距，但是原理性的优势可以在短时间内实现隧道超车。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿如果属实那中国芯片将看到星光
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿Asml应该要提议和中国共同研发了，双赢嘛！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿22nm家庭设备用芯片应该没啥问题吧！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿1-4英寸现在还没法曝光逻辑电路还是等AD2020上线测试单次曝光28纳米的深紫外双工件台光刻机再厉害了吧在AD2016我就看见65纳米干式深紫外光刻机的PPT了在2017就有国产双工件台浸没式光刻机的消息与验证机的照片了然而SMEE现在可以量产的还是SSB600老家伙……浸没式光刻机双工件台参数最早看见的相关设备目前好像是20W还是60W去了不清楚PS到时候谁还说落后国际先进水平我就咬谁
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个消息我很高兴！但有个问题始终不明白，光刻机为什么荷兰最牛，印象里的荷兰，更象农村呀！我只明白一个道理，有了22纳米才会有7纳米，只要上道，对于中国人，再难都是早晚的事，只要保持现在这样的稳定。对于中国，重点是驶上车道，例如电子支付，不也是外来的事物，依托于自己庞大的市场与考场，和中国人自古以来所有的智慧方式以及学习精神，只要上道，就没有拿不下来的，清朝的人，恐怕你把他放在开水中煮，他都不可能想到，自己的子孙能把月球车放在月球背面，这才百年不到，也许现在还有清朝出生的老人，所以，任何时代环境，人都不要被时代束缚，不要被自己与时代共同的背景束缚。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿借一张别的答案的图，其实新闻写的很清楚了。优点：用白菜价的光源只用单次曝光实现了22nm级的光刻。走了和ASML完全不同的技术道路。缺点：目前还不能用于生产IC。只能用于制造超材料和光学器件。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿总结起来就是一句话：ASML，我劝你善良(๑•́ωก̀๑)
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿相关意义大佬们说明的很清楚了@yswyx，那我就试着用尽量通俗的语言来解释一下相关的概念吧，如有理解不当之处也请诸位指正。1.什么是光刻光刻，顾名思义，就是用光去雕刻。光相当于一把极其精细的小刀。通常，我们会在芯片上盖一层叫做光刻胶的东西（掩膜），它的主要特点就是能被特定波长的光源刀划开。我们在光刻胶上划出缺口之后，我们就可以对缺口进行“染色”，再把光刻胶“撕掉”，那么芯片上就会出现一块被染色的区域。如此反复多次，就可以在芯片上不同区域“染出”各种不同的“颜色”。（实际情况比较复杂，有些区域会叠加多层“染色”，有些是往下挖坑，有些是往上堆砖等等）至此，我们就能在芯片上画出我们需要的各种图案，实现相应的功能。可以说，光刻是芯片制造中最为关键的一步，你要画出怎样的图案，是由光刻决定的。2.22nm意味着什么简单来说，就是它能在芯片上画出的最细线条是22nm宽。（多次曝光可以画出10纳米）。线条越细，能画出来的图案也就越精细，越复杂，功能也就越强大。（另外说一下，这个跟集成电路22nm，14nm工艺的概念虽关联，但并不一致，那个相当于相邻两幅图中心间距的一半。）3.技术难点在哪？这里使用的紫外光源是365纳米的，相当于这把刀的刀刃厚度是365纳米，那么怎么用它来划出22纳米的线条呢？（这里说的不太准确，姑且这么粗略理解吧）这应该是这台光刻设备的主要技术突破吧。而asml等使用EUV深紫外光的波长更小，也就是相当于刀刃更薄。相对而言更容易做出精细的图案。我们相当于绕开了特定的技术限制另辟蹊径了吧。4.对国内ic产业影响这个我不是太了解。根据点赞第一的解释，目前它还不适用于CPU，gpu等复杂结构的芯片。这个应该不是图案精细程度的限制，更多的是图案形状的影响。该设备能画出一排排密集的平行线，但不一定能画出一个“五角星★”，所以应该还是用于特定的光学器件等应用上吧。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿从今天起，光刻机变成了没什么了不起，大家想搞都能搞起来的落后产能了
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿不要说麒麟980，就是几年前的K3V2它也无法生产，离超越ASML还有十万八千里，不要盲目自嗨。都知道中国的半导体产业落后，中兴事件更刺痛国人的心，光刻机甚至可以说是半导体产业链上最耀眼的明珠，目前世界上先进的光刻机厂家只有ASML一家，说是人类智慧的结晶也不为过。我们能追赶上ASML吗？只有两条路，一条是沿着ASML走过的路，目前看是完全看不到追赶上的希望，如果不走这条路就只能另辟蹊径了，这个“超分辨光刻装备“就算是另辟蹊径。表面等离子体（SP）进行光刻有人提出来过，但是似乎并没有验证，这个光刻机就是个很好的验证，看介绍这个光刻机目前只能加工一些光学器件，离大家想想的生产麒麟980这样的芯片还很远。从实验室走向工业界，这是很难的一步，需要能够平衡成本和收益实现量产，现在的情况是实验室还只是完成了第一步。任重而道远呀，当然这个新闻还是可喜可贺的，但是不要盲目自嗨，我是希望早日成功的。更详细的内容请参考其它大V的回答，我这个计算机系的劣等生是无法深入回答这个光学问题的，有点高深。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个新闻出来以后，舆论出现了两个极端，一堆人说很牛，一堆人说吹牛。说很牛的外行居多，说吹牛的业内人士居多（但不是最专业的）。实际上这两种说法都对，又都不对。我来具体分析一下。说很牛的，的确是世界级的工作，这一点毋庸置疑。超分辨力光刻技术有很多种，等离子激元只是其中一种，技术的提出已经有十几年了，其它的还有泰伯光学，全息，双光子，光子能量叠加等技术，而且已经有了商业化设备。针对等离子激元，真正做成一个成型的设备，这是我第一次见到。这是非常了不起的。而且，做到波长十分之一以下的分辨力，并且是大面积的实现，也是其它技术很难实现的。这是国内光刻领域非常重要的技术突破，而且是在很艰苦的条件做出的，很不容易。说吹牛的，很多国内产业届的人士，限于对最新技术的了解，认为365nm无法获得超分辨力结构，甚至有人拿新闻中的照片说没戴口罩来说事儿，是很不负责任的。要说吹牛，实际要指出的是这个技术自身的局限性。以目前的技术能力，只能做周期的线条和点阵，是无法制作复杂的IC需要的图形的。更进一步，以光电所目前的实力，IC制造需要的超高精度对准技术，也是无法实现的。因此这项技术在短期内是无法应用于IC制造领域的，是无法撼动ASML在IC制造领域分毫的。它所面向的应用领域，是光学器件，比如高精密光栅，光子晶体阵列等等，虽然狭小，但需求仍然非常高端和强烈。从这一点上说，新闻报道的某些方面是有吹牛的成分的，但以目前的形势，可以理解。只是那些所谓的专业人士没黑到点子上。综合来看，这项技术在很关键的领域实现了突破，至少获得了和欧美技术交换的基础，这是非常重要的事情。虽然短期无法实现在IC领域的应用，但形成了一定的威胁，长期还是有可能取得更重要的突破的。而这项技术最可贵的是，可以在光学器件制造领域迅速的得到应用，具有现实的商业化意义，和巨大xx价值。在这里，请记住几个人的名字，杜春雷，罗先刚，胡松，叶甜春。没有他们的引领，创造，坚持和支撑，就没有取得成果的今天。还有那些在为中国半导体事业奋斗在一线的人们，致敬！有个细节请各位注意，这篇文章是军报记者报道的，信息量很大。不是直写不是直写不是直写！不能做IC不能做IC不能做IC!批评的和赞的都别盲目，成果很好，但是和工业量产做IC的不是一回事儿。谢绝转载（自己知道就行了），谢绝技术提问（太专业，解释起来太费劲），谢绝八卦（答主还要混圈子）。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿工业设备的研制成功，以卖出去为标准。不以发新闻为标准。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿原理不太懂，但应该算是弯道超车吧，举个不恰当的例子，类似于新能源汽车之于传统汽车。微妙的是这条消息的发布时间，这两天G20，那贸易战还要不要继续打呢？从航展到现在国家出的牌很多啊。
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回答：﻿商用是种子，是大树，科研是大地。有了大地不一定有果实。但是有大地才能种地
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回答：﻿猜测简单的组合方式应该是spp+metamaterial，但是没看到有关于metamaterial的回答啊。
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回答：﻿突破是有的，进步是巨大的。但是，我还想说但是，一个表面上看着简单的高科技产品其实是一个巨大的由千千万万个待突破点组成的，而且这些中间的好多点，有一个没有搞定，你就做不出来。饭要一口一口吃，大部分科研工作者都是深刻体会的，希望用词准确，但是总有一小撮没有下限的媒体工作者总想搞个大新闻，弄得全国上下整体膨胀，更重要是打草惊蛇，弄得现在如此被动，弄不好对国运都有影响。
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回答：﻿如果消息属实，这绝对是今年中国一大突破，芯片再想卡脖子没那么容易了。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿我是外行，但是我知道以前国产手机3千万像素被iTouch70万像素完爆。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿https://mp.weixin.qq.com/s/OtTaNp53Ma7S11m4O-gy_g
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿意味着光刻机这种东西在未来几年里，媒体对它的形容会经历“技术封锁的高科技”——“自主研发的新装备”——“世界先进的‘面子工程’”
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿现在的科研圈浮躁之风盛行啊，随便取得了一些小成果，媒体就各种夸张报道。做科研还是应该多脚踏实地一点，少一些浮躁，多一些实干。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿有一点我不太明白，为什么资本主义国家要对中国封锁技术。毕竟都是地球科技，又不是说掌握了外星科技，封锁技术后中国绝对不会开发出来。宏观上来说，在几千年的历史长河中，中国必然能开发出被封锁的技术。如果一直提供廉价的产品给我们，我们就没有动力研发新产品了。这才能长久拖延科技树的发展。直接封锁反而会加大某项技术的投入……最后全世界都买中国的产品……
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿恭喜光刻机及相关技术产业步入落后产业行业!
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回答：﻿如果我没记错原理。单光子检测是量子通信和量子雷达的关键技术。意味着大规模保密通信网络的建立，和反隐形雷达的广泛应用。这玩意能造出来的东西，比你刷知乎用的手机CPU牛逼多了。
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回答：﻿我早就料道了，当我好久之前看到好多人黑中国没有高精尖技术，尤其是什么芯片加工时，早晚会有个大新闻。
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回答：﻿先说结论目前还看不到应用在芯片制造的可能性。最困难的地方在于mask。spp是倏逝波，电场强度随距离呈指数式衰减。这就决定了mask必须离光刻胶非常近。mask上的任何particles都将对光刻产生灾难性影响。相反目前商用的光刻机采用的是远场夫琅和费衍射和双远心光学系统，因此mask上可以加一层pellicle来阻挡污染。pellicle上的小颗粒在wafer上是虚焦的，因此对成像质量几乎没影响。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿专业相关，回答一下吧。如有疏漏，欢迎补充。好处：1、当然是很振奋人心的新闻，是一个很大的突破。比起我们做实验分辨率只有0.5微米的国产光刻机好的太多了；2、用大刀刻小字，给研究人员的巧思点赞。因为做的方向和plasmonic相关，说一些缺点吧：1、plasmonic不能直接像传统光刻一样做芯片，实在有些遗憾。2、对于“快的弓箭和慢的枪”这个比喻，我觉得可能不太妥当。因为用plasmonic突破衍射极限，其实也有下限在的。比如用近红外光，可能极限就是50~100nm的分辨率；也就是说减少为原来的几十分之一。而365的紫外，可能22nm确实是到底了。再往下还是要开发深紫外光源，这一步跳不过去的。共勉！
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿因为工作中涉及到极紫外光刻机的部件，对这个设备所涉及的技术略知一二。我国这台光刻装备让我想起了当年的大飞机C919项目，使我国成为可以自主生产大飞机的几个国家之一。有技术含量吗？当然，没几个国家能生产光刻装备，即使采购欧美的核心部件，能设计、集成、生产也是一件了不得的事情。另一方面，我们还没能力自主研发核心部件，仍受制于人。我所知道的光刻机中部件：激光种子源，激光放大器,精密碳化硅陶瓷,聚焦光学器件,光束传输系统等高端零器件或原料被国外垄断.比如，该设备光路必需的ZnSe（硒化锌）原料，反映烧结SiC（碳化硅）等主要由美国提供。路是一步一步走出来的，我们可以先行采购国外的部件，先量产，推向中低端市场，然后带动整个产业链，完成核心零部件的替代和升级。一句话：希望该设备能够奔着产业化方向走，真正的走向市场，而不是变成一个形象工程。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿“科学是无国界的，但技术是有国界的！”所以技术上的每一步积累都值得我们为之欢呼！另外感谢@看风景的蜗牛君的回答，看完后学到很多知识，我就在想，这项技术能不能用在望远镜上，以突破天文观测中同样会遇到的衍射极限问题~
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿怪不得ASML，进中国了，估计是看到国内快研制出来了
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿落后技术！跟航空母舰、隐身战机、矢量发动机、眼镜蛇机动、落叶飘、核武器、ICBM、载人航天、空间站、软着陆登月技术一样。只要是中国掌握的，一定是落后技术！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿仔细一想不对啊，这是i-line啊，还不到krf，用来做22nm的结构，太夸张了吧！厉害厉害，希望早日商用以下原答案用KRF做22，很厉害了。不知道能不能再往ARF推广
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿意味着违反广告法了，老兄弟。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿对民用的影响比较小，毕竟还没有最出实验室，但是对pla好处大大的有！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿说明有了可以加工芯片的机器，但是设计芯片的能力还是看工程师们。比如苹果自己没有生产，和研发光刻机设备能力，但是他能设计出芯片的电路图。实现各种功能。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿额看到了这么多回答想歪个楼。今年夏天正好参加成光所夏令营，有幸听了相关讲座。也参观了一架貌似是光刻机的仪器？？？其实早就研发出来啦，只是刚刚通过验收。精度上确实还没办法和国际先进水平相比（国际上最先进的好像是10nm的，可能有误差，记不太清楚了）。负责讲解的老师和学长也承认还存在一定差距，不过从无到有，希望能够越来越好。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿众所周知这东西从今以后就成为发达国家不屑于研发的落后技术了。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿就是365nm光源用这个边际超分辨率可以到36nm分辨率，再双重曝光就下到19-20nm了。如果改用193nm光源，这个技术还能适用的话双重曝光直接降到10nm以下了，未来可期。如果有euv那样13.4nm波长光源，还能适用这个技术的话.......商用暂时还是asml，而且这玩意真的能做芯片？门外汉存疑。总之就是意味着小作坊(高校实验室)可以做到以更低的成本流片了...量产用恐怕还是问题，但不管怎么说是个很大的进步。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿建议大家别问一些更加深层次的原理技术问题，国家重大科研项目（973等）是有保密协定，脱密期一般在3年左右。感谢大家对于科研成果的关心和提问。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿在一般的论坛，很多人还都欣喜若狂的样子，在知乎马上就能知道真相了。不过报道说去年前年极紫外光源和高精度光刻双工作台有了突破，相信国产极紫外光刻机很快会有让人惊喜的一天吧。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿西方不卖我们自力更生另辟蹊径禁运协议遇到中国这种人口大国15亿人还怕找不出几个做光刻机的
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿说两个问题，第一，必须要接触光刻，掩膜版怎么做？只能用ebl这么小的线宽100pA的电流写一个芯片大小的面积要几百个小时。第二容忍度太低了，要求掩膜版粗糙度极高。第三只能画线条有什么用？也就做做存储和芯片有什么关系。最后07年张翔早就发过这个原理的文章了，在science上，早就成冷饭了，现在又炒？当时只做到了6nm的焦深，那么这个是多少了？光刻胶刻透了吗？
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿新闻要连着看:今年5月ASML历史首次卖设备给中芯国际了……还不赶紧出就得积压库存了……
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿意味着前久唱衰中国芯片的人被打脸。总有一群人在别人，谈待遇不好，谈钱少的时候，用心工作，向这群人致敬！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿当你发现有些很贵的高科技产品忽然降价或者XX对中国禁运的时候。你应该明白，这个东西能国产了。然后，要过好久中国才能报道出来，这个东西实现了关键技术突破。国外资本家的嗅觉比本国媒体要敏锐多了
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿我觉得编辑们语文没学好，什么叫“首台”“最高”？这俩词搁一起很尴尬，所以被部分网友讽刺了，科技进步是好，但是要客观谦逊一些都做不到吗？
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个太棒了如果相似的技术可以用euv的source那岂不是。。。哈哈爽的同学们刷一波爽就完事了奥asml你给我装!
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿继矢量发动机之后的又一落后科技，有什么好吹的。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿国外的狗鼻子比媒体还灵。灵是灵，就是交货时间有点晚。生产一代、试制一代、预研一代、探索一代，既然爆料出来，真实情况可能不止如此。国外狗鼻子再灵，实际上也至少是二手消息。郭靖的武学水平​www.zhihu.com由双雕五绝分析金书武学体系兼论武学最高境界​www.zhihu.com
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这应该只是开始。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿距离白菜价格买电脑的距离又近了一步，我很期待我主板插满单根16gb内存的样子。三星，你还能在中国活多久？
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿国内目前IC设计已经可以说跻身世界前列了，但是受制于其他当面，发展也的确困难，没有企业愿意花大量人力，物力，财力再去做一些基础性工作，但是国外企业又何尝不是花费了几十年做技术上的沉淀了？没有人愿意改善这方面，现在有人在做这方面的事，抛开产品不说，无论目前怎样，这种行为，我认为就值得敬佩！为了这份担当，也为了这份不知结果的付出，前赴后继，未来可期罢了，所以，依旧为他们点赞！哪有什么岁月静好，不过有人替你负重前行！
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回答：﻿意味着之前没有而且很落后！
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿有幸目前从事的研究方向就是和表面等离激元相关的，刚看到我也是懵的。看到新闻之后查了一下他们写的一篇综述和文章，涉及到22nm工艺的就是一篇APLAppliedPhysicsLetters106,093110(2015);doi:10.1063/1.4914000文献中DMD结构和模式图文献中的刻蚀过程最顶层红色的即时第一张图MDM结构的间隔层D截下两张上面文章中的附图，以作讨论之用。文章，其实看看图写的也能弄懂个大概的。如果这就是这次样机的方案的话，那思路很好理解啊，先用高分辨的办法制作一个纳米尺度的mask，然后压在MDM结构上开始光刻，中间的D就是光刻胶，两层M都是银。光刻胶刻完之后移走掩膜，再去掉第一层M，再显影，得到D的光栅。需要注意在MDM结构和下面的目标结构间还有一层硬掩模，因为最终刻蚀的物质用的也是光刻胶。再用这个光栅作掩模刻蚀出下面的目标的硬掩模上的图案，刻完之后再以硬掩模用氧气刻蚀下面最后的厚光刻胶，得到目标结构，用这个目标结构做掩模就可以刻蚀硅啊氧化硅这些东西了。至于为啥前有光刻胶后又有光刻胶的，是因为前面MDM中的光刻胶其厚度需要严格控制并且往往很薄以耦合sp的模式。但这么薄肯定不利于加工啊，所以需要先转移到更厚的光刻胶上，实际上转移到其他物质上也可以。结合文章图就很好理解了，其实麻烦是麻烦，但是结构光路容易很多啊，并且是大面积近场光刻里精度和实用性都最高的了吧。。缺点就是近场光刻该有的缺点，需要一个mask离得很近，对准也很难，效率比高数值孔径短波长肯定低很多。但是这是一个合格的初级方案啊，很值得探索，并且我觉得这不应该是套样机，而更应该是一套工艺。至于图形，和第一层高精度mask相关，我不觉得不能刻复杂图形啊？超表面本来就是离散的图形各不相同的结构，所以往往用ebl加rie做，这个能做，复杂图形应该也可以吧。工艺和技术总是需要发展的嘛，天纵奇才只是第一步，万一有机会大规模商用是好事呀。如有问题，请批评指正
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿经过前段时间的中兴被美国禁运事件之后，很多人都知道了中国的芯片产业和美国相比还有不小的差距。简单来说，芯片的生产流程可以分为设计、制造、封测三个环节，现在中国最弱的就是制造这一环。制造之所以弱是因为很多用来制造芯片的装备中国都无法生产，或者是中国只能生产一些中低端装备，大部分高端装备还是依赖进口。这其中最要命的是有些装备中国自己无法生产，你有钱想买还买不到，人家不卖给你，对中国实行技术封锁，光刻机就是其中一种。光刻机是芯片制造的核心装备，也是现在中国芯片制造技术的主要瓶颈。现在中国能自己生产的都是一些中低端光刻机，用来生产工艺精度不那么高的芯片。现在全球范围内，能生产高端光刻机的厂商只有一家，就是荷兰的ASML，台积电、三星、英特尔这三巨头的高端光刻机都是从ASML进货，而且越是高端的产量越低，比如用来生产7nm芯片的光刻机，一个月产量就1台，售价1亿美金，想多买还没有，三巨头都得排队买。而且三巨头既是ASML的大客户也是ASML的股东，三巨头的芯片主要销售市场之一就是中国，他们当然不希望中国掌握光刻机技术，特别是尖端光刻机技术，自然也不会对中国出售高端光刻机。中国现在面临的困境就是买不到高端光刻机，自己研发制造难度也很大，越是高端研发难度越大。中科院研制的这个光刻机和ASML的高端光刻机相比差距还是不小，和之前的国产光刻机来说，技术上还是有突破，也算是国产光刻机技术又往前走了一步，但是要想赶上ASML的话还是任重而道远。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿没什么影响，由于众所周知的原因，等离子光刻机只是一项落后而低端的技术。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿感谢很多专业人士的科普。也看到很多回答在说业内人士发来一堆冷嘲热讽，漠视国内科研成果。仔细思考一下，真的是漠视科研成果吗？突破衍射分辨率极限和应用于IC光刻真的是两码事，报道还说上多重曝光可以用于10nm芯片制作，多重曝光要求的套刻精度之高达到了吗？更何况目前这项技术能做的图样太简单，远远达不到IC制作的要求。媒体自嗨式的报道侮辱的不是IC业内人士，恰恰侮辱了从事这项科研工作的人员。夸大其词的报道就像是在说，我家的婴儿今天学会了走路，十年后他就能超越波尔特。作为入行不久的菜鸟从业人员，我当然希望我们的技术超越波尔特，超越asml，超越台积电，可是如果不能认清现状，弯道超车怕是会撞山。最后，致敬这些兢兢业业做着基础研究的科研人员。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿看来不用知乎儿动手，我们也能做出像样的东西来啊
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿装个B。“超分辨光刻装备项目”通过国家验收可加工22纳米芯片-新华网​www.xinhuanet.com胡松一个弟子是我的铁哥们！以前只知道他称他老板为“胡老板”。
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿因为众所周知的原因，现在22nm级分辨率光刻机是低端的将被淘汰的技术，是毫无用处的面子工程。
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿不太了解这方面的研究，老师在朋友圈转了一篇推文，看了评论后有一种说不出的感觉
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿看了一圈就是无法做芯片，无法超越ASML，距离甚远。但是，我们这项技术理论上可以突破ASML现在量产的光刻机的极限。诚然吧，国内自己和自己比还是真的技术进步，而且挺厉害的。不过用自己实验室技术和人家量产的技术比，说会超过ASML，这脸也是不小了，人家实验室在做啥呢，我们也不知道啊
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回答：﻿西电集成电路设计学生极度舒适.
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿意味着什么。。。意味着自媒体又有了材料可写，还一下可以写两个方向，先捧后摔，人家光电所又没说可以立马用来造芯片，可把一帮喷子给乐坏了。
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回答：﻿都是大山里的孩子吃不起饭才会搞的这些，凡是吃的起饭的人都不会无奈去科研。
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿虽然知道不能马上用来造芯片，但是不管怎么说还算是开了一个新的技能点吧，星星之火，可以燎原，至少多了一个技术储备，以後不用那么担心卡脖子了。新生事物往往是脆弱的，但也蕴含着无限潜力，14-15世纪的大明神机营士兵们拿着二十米外就能听个响、最原始的手铳和蒙古鞑子拼杀的时候，是否能想到500年后的今天，他们的后代正在用着高精度的狙击枪，2000m开外取敌首级呢
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿从另一个角度说一点可能不关的问题。利益相关，做过类似项目。通过验收，并不代表各项验收指标实现了。更不代表能实际应用。真正的性能可能比验收指标低数量级。这都是技术之外的事了。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿新出现的最高紫外超分辨光刻装备，我觉得是科技突破。但是新研发的产品还是有待质量的提升。希望对行业内的芯片研究有贡献。但我们还是要理智的看待事情。不能夸大，也不能贬低。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿你要知道这个世界上从0到1是最难的。还有，氪金真的能让人变强
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿可喜可贺的科研进展可惜不是集成电路生产用的光刻机不过这个领域任何的进步都是好事情
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿如果报道里边有吊打秒杀这样的字样，说明产品跟asml的还有一拼，没有的话，说明是还没有达到
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿前一阵ASML还来我们学校careerfair招聘……后来听说核心部门不招中国人，瞅了两眼就走了çßœ∑®ƒç©˙∆˚∆©
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿先看看能不能用？是不是汉芯，红心这种骗子
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿那个。。。小白在这里说个题外话。可能真的是题外话，因为评论区一直有人讲这个回答和题目无关，也不知道是不是没看仔细，我第一句就讲了是题外话啦，想看专业人士分析未来芯片行业发展走势，我不行的。。。专业回答那么多，我是真的想讲一点点我对这个事件的感触。求各位轻喷。11月30号，马航MH370调查组正式解散了。对于这个事情网上一直充斥着各种阴谋论。比如飞机上有4位研究“微芯”的中国科学家，还有一些去马来竞标的华为、中兴工作人员。157名中国同胞失联的第1728天，真心希望，未来，我们还能相见。有言论说马航失事，是因为芯片。不管是不是阴谋论。从之前美国制裁中兴一事，确实可以看出，中国芯片一直被欧美垄断，非常被动。昨天11月29日，军报记者就出了报道：国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。这个时间点挨得很近，我不知道这两者是否有千丝万缕的联系。我想，超分辨光刻装备的问世至少是我国在芯片事业上的一个突破口，一个与欧美之间的谈判筹码。这一天实在来之不易。为这一天，好多人一定憋着一口气。希望中国科学家都有一片纯净的科研空间，有人民群众最真切的支持。高考那年，作文材料里一直讲屠呦呦耗费毕生心血，提取青蒿素，获得诺奖，报酬不如明星们上一期综艺。那是正值ah结婚，天价婚礼的出现，一直引人思考，这其中包含太多娱乐圈背后的乱象，社会价值观的扭曲。也许三言两语无法解释出屠呦呦的贡献是否体现在奖金数额，明星艺人为大众到来的欢乐和作品又配不配得上那些天价片酬。但从范冰冰缴纳天价罚金开始，我总觉得背后有只无形的手整顿着娱乐圈的乱象。所以不要执着于陈羽凡为什么吸毒，薛之谦和李小璐到底如何。罗先刚，胡松，杜春雷，叶甜春，还有那些始终奋斗在中国半导体事业一线的人们，他们才真的需要我们铭记与关注。如果真要说，我的回答，和问题有什么关系，我就必须要讲到马航370。那上面有60位中国通讯领域华为、中兴、中国电信的高级专家，还有四位从美国打算归国携带发明的顶级军用微型芯片并拥有专利权的顶级科学家。马航失事是因为芯片暗战的话，30号解散调查组，这个事件欠大众一个真相。29号就公布我国在“微芯”行业取得进展。算不算给那些想用芯片制约中国的那些国家的警告？我们终究会有自己的芯片，脱离垄断。至于为什么提那些明星，把他们和科研人员比较。我是想说，为了国家以后科研事业，是应该把经济和国民关注往这边带。好了解释到这里吧，反正芯片暗战已经开始了，芯片，芯片，未来一切芯片都是重点。也许这个回答和其它答案比起来，质量不高。感谢大家看到这里。
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿东方时事解读qq群之前的记录：【群主】东方时事解读【3154679861】8:28:7@致良知惜花主人上午10:28:27http://www.guancha.cn/economy/2018_05_17_457038.shtml今天据荷兰媒体报道，全球最大的芯片机器制造商荷兰AMSL，中芯国际向其发出了第一张订单，买了一台最新的EUV（极紫外线）技术光刻机，机器价格是1.2亿欧元，2019年交货。东方＃另外，这份合同交货的时间，其实可以提供一个有用的信息，即：西方怀疑，中国的光刻机，差不多在2019年时，就可以取得全面突破！【群主】东方时事解读【3154679861】10:52:17东方#显然，这对那些对美国“封芯”立刻表现得“哀哀欲绝”的人与观点，可以说是个极大的讽刺！【群主】东方时事解读【3154679861】10:53:16东方#而之前，东方时事解读的观察与评估，是中国大约需要３年时间，彻底解决芯片问题西风上午10:50:53瓦森纳协议随便找个理由就可以废了这个合同东方＃是的，比如，所谓的人权问题致良知上午10:55:06最担心的就是有些企业还没有吸取教训东方#现在是国家战略，这种担心，已经没有必要，今天之所以再次讨论这事，是提醒网友们注意这个教训，并告知自己身边的人西风上午10:56:27反正听到业内人士对阿斯麦公司的顶礼膜拜，相比10多年前思科，那是不可攀登的珠穆朗玛峰东方＃许多所谓的“业内人士”，都是“业外人士”假装的，其实，很多情况下，一个高技术公司的“会计”，也将自己算成一个行业的“业内”【群主】东方时事解读【3154679861】10:59:12东方＃而对有些立场有问题的所谓“业内人士”，则需要更加警惕【群主】东方时事解读【3154679861】11:2:28东方#所以，东方时事解读，从来没有所谓的“内部消息”，我们唯一能做的，就是基于公开报道的新闻与事实，进行合乎逻辑的分析与推理，再得出自己的结论！日月心动上午10:53:43两条腿走路，我们搞出来数量也不会一下子很多，外购可以补充我们对数量的要求，不过这个是西方芯片业最后的王牌应该不敢轻易卖吧，怕高铁哦，我们怕运十。嘻嘻东方#为你点赞!所以，对这份早不来，晚不来的“光刻机销售合同”，要一边继续中国自己的“中华之星（光刻机项目）”，最好能将它办成“中国高铁模式”，在充分吸取“运十模式”的教训，绝不能再次落入“费尔康模式”的陷阱之中5月17日记录*****东方#谢谢，大家参考
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这次研发成功的工艺有点要一步登天的那个意思吧，想想挺激动的！光刻技术，就好比是理发师在顾客的脑袋上剃出图案的技术。那怎么才能让理发师剃出的图案跟要求的一样呢？我们可以考虑找一块模板，上面刻上所要求的图案，把需要留住头发的地方用板子盖住，这样只要把板子扣在脑袋上，然后用理发器在整个脑袋上走一遍，模板上的图案就留在脑袋上了，我们就大功告成了。而光刻技术也就是在一块板上，例如硅片上面刻上图案的技术。硅片是制造集成电路的最重要部分，然而你从硅片生产厂家那里拿到的硅片上面就像一张白纸一样什么也没有，我们需要在上面搞建设，才能拿去用来实现集成电路的各种功能。就像在头上剃出世界地图，功能是方便其他人学地理。这时候就需要我们的光刻工艺出场。硅片上通过光刻刻上图案之后，我们便可以对图案进行各种操作，例如向图案中掺入一些其他物质。反复在一块硅片上重复上百次光刻，并对每次的图案进行不同的工艺处理，便得到了我们所需要的成品了。然而上面我为了方便说明而把光刻工艺简单化了。实际上，光刻工艺非常繁琐，需要很多其他科技树的支持。光刻工艺需要通过特定波长的光通过掩模板照射光刻胶来形成图案。而这里面，如何获得完美的特定波长的激光光源，如何制备光刻胶，以及制作光学系统需要的镜头等等难题，各各都是大BOSS。而这些技术我们是落后（于世界最先进水平）的。没有这些技术，我们造不出国外那样的芯片。落后这些光刻技术，就好比一个你理发师手里的理发器，理发师的手艺，理发师手里用的染发剂等等都落后于隔壁的理发师。隔壁理发师能够在头小的人的头上刻出一个世界地图，但你只能在头大的人头上刻出一个亚洲地图，而且还不好看。然而点亮科技树的苦差不是一蹴而就的，这些技术壁垒大BOSS之前还有成千上万的小BOSS，也必须攻克。但好消息是我们正在加速追赶。而这次基于表面等离子体共振研制出的光刻工艺则很了不起。它摆脱了波长对分辨率的局限性。就好比那位理发师研制出了利用头皮上的纹理刻出精细的斑马线的技术，这项技术不需要理发师功底有多好，也不需要太好的理发器，并且还便宜，有的需要剃斑马线的人都选择了这家理发师，已经抢走了隔壁理发师的一部分饭碗！虽然它现在可能还是不能在头上刻出世界地图来，但并不代表以后不会！这意味着，这位理发师以后可能不需要去花大价钱升级理发器了，也不用刻苦研究以前的老手艺了，因为这项新工艺一旦有所突破，可以剃出跟隔壁理发店一样的世界地图来，隔壁以前的技术优势也就全部丧失了。
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话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿中科院光电所超分辨光刻装备项目副总设计师杨勇（左）介绍研制成功的装备整机。孙自法摄中新网成都11月29日电(记者孙自法)由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目29日在成都通过验收，作为项目重要成果之一，中国科学家已研制成功世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备，并形成一条全新的纳米光学光刻工艺路线，具有完全自主知识产权。中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家罗先刚研究员介绍说，2012年，该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)。在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了10纳米以下特征尺寸图形的加工。这一世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备是基于表面等离子体超衍射研制而成，它打破了传统光学光刻分辨力受限于光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局，形成了一条全新的超衍射纳米光刻从原理、装备到工艺的技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。验收专家认为，中科光电所研制成功的超分辨光刻装备所有技术指标均达到或优于实施方案规定的考核指标要求，关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平。该项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过了国外高分辨光刻装备技术知识产权壁垒，实现中国技术源头创新，研制出拥有自主知识产权、技术自主可控的超分辨光刻装备，也是世界上首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。同时，利用研制成功的超分辨光刻装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。中科光电所超分辨光刻装备项目已发表论文68篇，目前已获授权国家发明专利47项，授权国际专利4项，并培养出一支超分辨光刻技术和装备研发团队。罗先刚表示，中科院光电所后续将进一步加大超分辨光刻装备的功能多样化研发和推广应用力度，推动国家相关领域发展。(完)
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回答：﻿转我师兄微信里的回答看这个新闻，真是感慨万千。“中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示”院士说话，也不自重，就这么回事，领导看着高兴就行。一个兄弟评价很实在，别忽悠了主席，影响明天同川普的对垒。离我从事光刻机工作已经10年了，我对光刻机下过童子功，其核心指标重要性依次是产能Throughput（产能是挣钱的基本保证）,Overlay（上下层对准才能盖楼），线宽（有很多种技术可以刻窄线宽，老生常谈了）。难度也是以数量级递减。为了保证产能，10年前ASML就得把硅片在10多个重力加速度的连续变速下实现Overlay几个nm。如果不考虑产能，一下子就非常简单了。但从头不考虑产能谈其他，就基本都没可能深入发展了，因为产能一个指标就把所有其他的难度都以指数放大了。习惯了线宽放卫星，就无法回头了。不过现在朋友圈识货的真不少，点个赞。引用几个朋友的考据，此技术的出处：FANGN,LEEH,SUNC.Sub-diffraction-limitedopticalimagingwithasilversuperlens[J].Science,2005,308:534-536.我看此新闻时首先的感叹忽悠。让子弹飞了一会儿，看看几个群和朋友圈的发言，我更大的感慨是中华大地，人才真是熙熙攘攘，见多识广。广开言论，实为真正创新之必要条件。再次更新一下今天几位朋友发了这个知乎链接。请我评价一下。客观的讲，这项表面等离子体（SP）光刻加工成果从科研的角度是非常重要的，是提高光刻分辨率的一项重要尝试。我觉得不足的是宣传上有误导，没有充分反映实际情况，让人有浮夸感，可惜了科研团队的真实努力，他们的工作非常令人尊敬！看光刻技术60年来的演化路径，我们可以看到每个大的节点都有很多竞争性技术出现，但真正能走出来的是要同时能满足线宽和产能的技术路径。能做到20nm以下的E-Beam在几十年前就做了，甚至20多年前还有人做MultiE-Beam，10多年前都出工业设备了，但都因为没能解决产能问题而无法登上主流。光刻机的核心指标重要性依次是产能Throughput（产能是挣钱的基本保证）,Overlay（上下层对准才能盖楼），线宽（有很多种技术可以刻窄线宽，老生常谈了）。难度也是以数量级递减。对于面向半导体量产的光刻机，产能这个最关键的指标把所有其他的难度都以指数放大了。为了保证产能，10年前ASML就得把硅片在10多个重力加速度的连续变速下实现Overlay几个nm。就我的了解，十多年前ASML同时在尝试的其他光刻路径是Maskless,Imprint,SuperNA等等，还考虑并购MultiE-Beam，大部分内部人员对EUV也持怀疑态度。但EUV走出来还是因为产能原因，尽管光源带来了无尽的痛苦。这项表面等离子体（SP）光刻加工成果很重要，但只是光刻技术演化过程中的一个尝试。正确的态度是实事求是，要尊敬，不拔高。如果往主流技术上走，请有关团队向历史学习，产能是最关键的，商用技术客户挣钱是硬道理。对于一个有潜力的新技术，不管什么行业，最重要的是找到自己发展过程中的杀手锏应用，找到一个小点，就我能行。如此就有机会成长，即便成不了主流，也有自己的一席之地。相关团队要在这上下功夫，才是正道。严肃的科技工作者不去博舆论。我特别反对的是总提国外的封锁，做为争取资源的说法可以，但自己不能太当真。我考证了科技界常提到的对中国封锁的瓦森纳协定有西方的眼中钉俄罗斯做为成员，而我们不能成为其成员是因为我们的对外军售自己的控制（不是外部限制）有问题。创新的基石是独立思考。如果我们的社会提倡独立思考，加上法制保障公平，市场经济为主来配置资源。什么东西创造不出来！
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿中国科技战线捷报频传，特别是国家主导的，国营的，研究所性质的成果捷报频传，北斗三代更进一步，人造太阳核心温度达到一亿摄氏度，还有就是现在的超分辨光刻设备。歼10B装矢量发动机，眼镜蛇，j-turn，落叶飘！民营私营则是强烈要求国家出手支援，得到国家正面回应并贷款支援，可是有些企业获得主贷款立马抛售股份！民营私营企业发射火箭失败！美国科技方面则是新的火星探测器登陆成功却没有登陆过程的视频录像。但是中国2013年登陆月球就实现了直播的登陆过程！火星距离远，直播不现实，但是可以做到把视频录下来降落之后再发回地球，美国却没有。美国中期选举期间的外国游民冲击美墨边境事件，美国加州森林大火，享受美国国家补贴的电信运营商大规模裁员，汽车制造商大规模裁员，苹果股票下滑跌破万亿市值被微软超过！美国的油气产量登顶世界，但是中国停止购买美国油气！今天，G20恳谈会，中美宣布停止加征新的关税！是否预示着美国对抗中国的力量在不断衰落？中国超分辨率光刻设备的研发成功是否是压断美国反中势力的最后一根稻草？在资本主义的框架下，美国制造业复兴的机会有多大？特朗普的实践前途未卜，现在的资本主义没有国家优惠补贴是否能够生存?游民冲击美墨边境事件是否预示着美国内乱因素在增长？资本主义能够拯救美国吗？只有中国正真突破了，才能惠及普及普及全世界！通信设备是这样的，移动通信是这样的，4g是这样的，智能手机是这样的！智能时代更是这样！超分辨光刻装备突破意味着芯片研发成本极大降低不远了，以前流片动辄数千万的时代就要结束！想象一下一次流片只需几十万元，甚至只需几万元的时代！意味着像软件那样做硬件的时代即将到来，意味着又一个计算效率数量级提升时代的到来，意味着智能普及时代真正的到来！毛泽东在上世纪60年代曾经讲过，从现在起，五十年内外到一百年内外，是世界上社会制度彻底变化的伟大时代，是一个翻天覆地的时代，是过去任何一个历史时代都不能比拟的。处在这样一个时代，我们必须准备进行同过去时代的斗争形式有着许多不同特点的伟大的斗争。为了这个事业，我们必须把马克思列宁主义的普遍真理同中国社会主义建设的具体实际、并且同今后世界革命的具体实际，尽可能好一些地结合起来，从实践中一步一步地认识斗争的客观规律。要准备着由于盲目性而遭受到许多的失败和挫折，从而取得经验，取得最后的胜利。由这点出发，把时间设想得长一点，是有许多好处的，设想得短了反而有害。毛泽东又曾经讲过，一万年太久，只争朝夕！
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回答：﻿test这个突破亮点很多，我们来通俗地讲一讲其中最值得关注的有几个点：光源：粗刀刻细线这个国产的光刻机，采用365纳米波长光源，属于近紫外的范围。通常情况下，为了追求更小的纳米工艺，光刻机厂商的解决方案是，使用波长越来越短的光源。ASML就是这种思路。现在国外使用最广泛的光刻机的光源为193纳米波长深紫外激光，光刻分辨力只有38纳米，约0.27倍曝光波长。这台国产光刻机，可以做到22纳米。而且，“结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片”。也就是说，中科院光电所研发的这台光刻机，用波长更长（近紫外）、成本更低（汞灯）的光源，实现了更高的光刻分辨力（0.06倍曝光波长）。项目副总设计师、中科院光电技术研究所研究员胡松在接受《中国科学报》采访时，打了一个比方：“这相当于我们用很粗的刀，刻出一条很细的线。”这就是所谓的突破分辨力衍射极限。因此，它也被称为世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备。成本：高端设备“白菜价”波长越短，成本越高。为获得更高分辨力，传统上采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光刻机，但问题在于不仅技术难度极高，装备成本也极高。ASML最新的第五代光刻机使用波长更短的13.5纳米极紫外光（EUV），用于实现14纳米、10纳米、及7纳米制程的芯片生产。一台这样的光刻机售价1亿美元以上。而中科院光电所这台设备，使用波长更长、更普通的紫外光，意味着国产光刻机使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。有网友评价称，中国造的光刻机说不定和其他被中国攻克的高科技设备一样，以后也成了白菜价。突破：破局禁运，弯道超车这台光刻机的出现，还有另一个重要的意义。这里我们引用央广的报道：超分辨光刻装备项目的顺利实施，打破了国外在高端光刻装备领域的垄断，为纳米光学加工提供了全新的解决途径，也为新一代信息技术、新材料、生物医疗等先进战略技术领域，基础前沿和国防安全提供了核心技术保障。项目副总设计师、中科院光电技术研究所研究员胡松介绍：“第一个首先表现于我们现在的水平和国际上已经可以达到持一致的水平。分辨率的指标实际上也是属于国外禁运的一个指标，我们这项目出来之后对打破禁运有很大的帮助。”“第二个如果国外禁运我们也不用怕，因为我们这个技术再走下去，我们认为可以有保证。在芯片未来发展、下一代光机电集成芯片或者我们说的广义芯片（研制领域），有可能弯道超车走在更前面。”局限当然，我们也不能头脑发热。这个设备的出现，并不意味着我国的芯片制造立刻就能突飞猛进。一方面，芯片制造是一个庞大的产业生态，另一方面中科院光电所的光刻机还有一定的局限。据介绍，目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。不过也要注意，如楼上知友所言“以目前的技术能力，只能做周期的线条和点阵，是无法制作复杂的IC需要的图形的”。—完—了解更多前沿科技，请关注我们的知乎号：量子位
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿在下弱鸡一个，什么都不懂，刚好看到这，分享一下MIT的科技评论，供各位参考。侵删。http://www.mittrchina.com/news/3216日前，中国科学院光电技术研究所的“超分辨光刻装备研制”项目通过验收，宣称成功研制出世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，被众多媒体视为打破芯片制造的核心设备“光刻机”被国际大厂垄断，因此引发高度关注，然隔天，不少专家提出意见，指出这样的技术只是原理机，无法用在IC制造上，只能用在特殊纳米器件的加工，呈现完全不同的看法。根据报导，中科院光电所花了7年时间，突破了多项关键技术，才完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22nm，结合多重曝光技术后，甚至可用于制造10nm级别的芯片，对比现在ASML主流的光刻机技术是193nm波长深紫外光（DUV），光刻分辨力只有38nm，这个“超分辨光刻装备研制”项目仿佛撼动了光刻机巨头ASML，更填补了国内光刻机技术的空白。（来源：麻省理工科技评论）然而，事实上真的如此吗？连日本设备大厂都逐渐被边缘化的光刻机技术，真的被“7年”磨一剑的中科院光电追赶上了吗？答案是否定的。许多研究科学家投入研发各种光刻技术来制作纳米级的芯片，其中近场光刻也是其中一种技术，在光学干涉中所用的金属狭缝为光传播至远场的行为，但当狭缝缩减到奈米时，它将出现不一样的传播现像，因此无光学绕射限制的近场技术被提出，此外，电子束（e-beam）技术也是有不少科学家投入研究，台积电就曾经投入电子束技术的研发。据了解，中科院这次提出的光刻设备是指近场曝光设备，不能用来做大规模生产，且只是原理机，距离主流商用的ArF浸没式投影光刻机在视场、成品率、套刻精度和产率等方面没有可比性，也无法用于IC替代投影光刻，只能用于一些特殊纳米器件的加工。再者，在这台样机或许可以在小批量、小视场（几平方毫米）、工艺层少且套刻精度低、低成品率、小基片尺寸且产率低（每小时几片）的一些特殊纳米器件加工，业界认为，这样的技术虽然对于打破国际市场上光刻机垄断的局面没有帮助，但可以一定程度地替代电子束技术（e-beam）技术。业界认为，“超分辨光刻装备研制”项目用于主流芯片的制造是不可能实现的，然被许多媒体因不解其中技术差异，而误导渲染成该技术已经可以替代既有商用化设备技术，进而打破既有光刻机市场少数厂商独大的局面，这其实与实际状况有相当大的落差。不可否认的是，中科院此次在光刻机技术上的突破确实令外界兴奋，但技术的突破只是第一步，在商用化的进程中，仍有相当长的一段路要走，特别是芯片产业链已然非常成熟，整体生态也已大致底定，新技术或者新设备的出现，除了本身的技术差异性与创新性外，更要考虑到商业化的运作机制能否跟上脚步。中国半导体产业确实即将迎来一个新的拐点，但在实际的突围策略上，则可能需要更缜密的思考。
问题：﻿11月29日宣布研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 新闻资讯 军报记者成都11月29日电（吕珍慧、记者邹维荣）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨…
话题：﻿科技、光学、芯片（集成电路）、激光、光刻机（芯片制程）
回答：﻿这个问题其实适合光刻行业的人来看，他们心里更懂一点，即便是学物理学光学的，都是一脸懵逼。那种高呼厉害了我的X，马上要赶英超美打破技术封锁了；或者说这就是水货，没啥意义之类；都是不可取的。报道当然是有偏差的。可能是宣传大笔子。我还是想从定义说起，我一直认为光刻（Lithography）狭义特指用光来刻蚀生产IC。芯片产业中的光刻机是怎么雕刻出远远小于自己波长的线宽的？​www.zhihu.com但这个新闻中的“光刻”显然是广义的，用光来刻蚀东西，他能做什么呢：为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。利用研制成功的超分辨光刻装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。简单来说，他可以做器件，但是IC不能（很长很长很长很长的路）究其原因，表面等离子激元光刻：表面等离子激元光刻是用接触式光刻，制造一个非常小的探针。就算做成阵列，刻周期图形是可以高效的，但是CPU这种IC，就...我摘抄一段以前的项目介绍，亮点自行标出：光学光刻技术是半导体加工设备的核心，但由于传统光学光刻理论波长和分辨力之间的限制关系，在实现50nm线宽以下光刻技术节点时，业界面临着采用短波长光源技术路线导致极其复杂光学系统、材料、工艺不兼容等诸多技术障碍和高昂的研发成本。因此国际上迫切希望能够寻求一种突破衍射极限对分辨力限制的新概念光学光刻技术，在长波长光源下实现远小于波长的超分辨光学光刻，从而解决当前光学光刻的理论和技术困难。项目完成单位在国家自然科学基金《表面等离子体光学光刻原理和方法研究》、国家863计划《基于SuperLens的纳米光刻技术》等项目的资助下，开展了“表面等离子体超衍射光学光刻基础研究”，原创性提出将表面等离子体引入到光学光刻领域，建立了一条利用长波长光刻光源（i线、g线等）实现超越衍射极限光刻分辨力的崭新光学光刻研究技术路线；发明了表面等离子体超衍射干涉、表面等离子体能量局域结构、表面等离子体缩小倍率超分辨成像等光刻技术，并给出了1/10波长和接近1/20波长的光刻分辨力结果（传统光学理论衍射极限为1/4波长）；国内外搭建了首台SP光刻实验样机和建立了高陡直、高深宽比的配套光刻工艺，在i线365nm波长的汞灯光源下，实验获得50nm的光刻分辨力。该研究成果改变了国际半导体技术蓝图（ITRS）中光学光刻分辨力受光源波长限制的传统路线格局，突破了传统光学光刻方法无法逾越32nm及以下光刻技术节点的原理和技术困境，为实现32nm、22nm甚至10nm以下光刻技术节点提供了全新的理论和技术手段，为光学光刻技术跨越式发展奠定了坚实基础。本项目研究成果表面等离子体光刻技术和样机具有50nm以下的高分辨力，完全填补了我国在高端光刻设备方面的空白，由于无需高昂的光源和投影光学系统，成本相对193nm光刻设备大大降低，一旦实现工程化和技术成熟，即可广泛应用于微电子信息、纳光子电子器件、生物传感器件、光通讯单元器件、超高密度存储等高新技术科学研究和产业领域。简单来说，这个项目是以突破衍射极限多少倍为卖点，并不是对标ASML，不然现在也不用全国号召02专项了，做CPU，还是老老实实的13.5nmEUV吧。我理解宣传报道需要厉害了我的X，毕竟我们都是这么写的。我并不是在黑他，我只是稍微科普一下。想了解技术的话，该在下面这个题讨论：甘棕松的研究成果真能用于高端光刻机的制造么？​www.zhihu.com五分类供浏览&收藏硬货······软货······飚车······观点······其他六专栏供投稿&订阅『科研』···『小组』···『论文』『点子』···『科普』···『教育』