光罩護膜
光罩護膜（Pellicle），即表示是光罩上的膜或薄膜的意思，結構為一薄膜展開在框架上，以免於光罩受到微塵或揮發性氣體的汙染。自 1970 年代後期即開始發展，早期的保護膜大都使用硝化纖維素，其波長在 350～450nm，折射率約為 1.5，厚度則 2.85 mm。因為硝化纖維素在小於 350nm 的波長有明顯的吸收能力，所以 KrF (248nm)、ArF (193nm) 的保護膜則使用非結晶之氟聚合物材質（如鐵氟龍、Cytop），但是上述的兩個材料的折射率皆很低，248nm 的折射率約為 1.34，193nm 則約 1.40，因此很難找到效果良好的抗反射塗層，因此單層薄膜在這些波長下是最常見的。
「抗反射塗層」（成份為氟化鈣或氟碳化合物），通常會塗在保護膜的一側或兩側，以提高透光率之用。
在目前逐步踏入 EUV 的世代，因為其波長僅有 13.5nm，以往所使用的「光罩護膜」將會吸收此光源的波長，然而據報導指出 ASML 是唯一成功開發出商用的「EUV 保護膜」的製造商，也在 2019 年與日本三井化學公司簽署 EUV 光罩護膜組裝技術的授權。