二硅化钼
二矽化鉬（Molybdenum disilicide， MoSi2 ）是一種鉬的矽化合物，由於兩種原子的半徑相差不大，電負性比較接近，所以其具有近似於金屬與陶瓷的性質。熔點高達 2030℃，具有導電性，在高溫下表面能形成二氧化矽鈍化層以阻止進一步氧化，其外觀為灰色金屬色澤，源於其四方 α- 型晶體結構，也存在六角形但不穩定的 β- 改性晶體結構  。不溶於大部分酸，但可溶於硝酸和氫氟酸。
雖然二矽化鉬在大於 1000℃的高溫下具有極高的抗氧化性和楊氏模量，但低溫時易脆；另外在超過 1200℃的高溫下會喪失抗蠕變能力。這限制了其作為結構材料的應用，但可以通過與其他材料複合來彌補。
二矽化鉬及以其為基礎的材料通常由燒結製得。通過電漿噴塗可用以生產緻密的整體式和複合形式製作的材料，為了快速冷卻，通常還會包含少量 β- 改性的二矽化鉬。
二矽化鉬製得的加熱元件可以在 1800℃高溫運作，因此可用於實驗室和生產環境中使用的電熔爐，生產玻璃、鋼、電子元件、陶瓷等，以及對材料進行熱處理。二矽化鉬雖然具有脆性，但可以在高功率操作下不老化，其電阻率不隨時間改變。在低氧環境下，由於鈍化層不易形成，所以最大工作溫度要有所降低。
除了二矽化鉬，碳化矽、鈦酸鋇、鈦酸鉛等複合材料也可作為電熱陶瓷材料。
此外，在微電子工業中，也可以添加到多晶矽中作為分流器來提升導電性，提升信號傳播速率。