E-B対応とE-H対応
E-B対応では、磁化に空間的分布があるとき、そこに巨視的電流密度 j m {\displaystyle {\boldsymbol {j}}_{\mathrm {m} }} が現れる。一方のE-H対応では磁化に空間分布があるとき、そこに巨視的磁荷密度 ρ m {\displaystyle \rho _{\mathrm {m} }} が現れる。
E-B対応 : j m = rot  M ∼ S I {\displaystyle {\boldsymbol {j}}_{\mathrm {m} }=\operatorname {rot} {\boldsymbol {M}}\ {\stackrel {SI}{\sim }}} A/m
E-H対応 : ρ m = − div  P m ∼ S I {\displaystyle \rho _{\mathrm {m} }=-\operatorname {div} {\boldsymbol {P}}_{\mathrm {m} }\ {\stackrel {SI}{\sim }}} Wb/m
そして、この電流または磁荷が磁性体に反磁界(英語版)を生じさせる。
ここで述べた「磁化」、「磁化率」の定義と次元は一例に過ぎない。E-H対応の電磁気学でも
E-B 対応とE-H 対応は、磁場に関する歴史的経緯からくる現在も使われる二種類の流派のこと。
E-B 対応は、全ての磁場 H {\displaystyle {\boldsymbol {H}}} は電流から発し、電流は磁束密度 B {\displaystyle {\boldsymbol {B}}} から力を受けるとし、基本公式を d F = I d l × B , H = I 2 π r e φ {\displaystyle \mathrm {d} {\boldsymbol {F}}=I\mathrm {d} {\boldsymbol {l}}\times {\boldsymbol {B}}\ ,\quad {\boldsymbol {H}}={\frac {I}{2\pi r}}{\boldsymbol {e}}_{\phi }}
とする。つまり、磁束密度 B {\displaystyle {\boldsymbol {B}}} を電流素片 I d l {\displaystyle I\mathrm {d} {\boldsymbol {l}}} に力を及ぼす場として定義し、磁場 H {\displaystyle {\boldsymbol {H}}} は、電流が作り出す場として定義する。