化合物半導体
重要な市販品への導入は1927年の酸化銅整流器と1931年のセレン整流器で両方とも低周波数の電力の整流では優位性を有した。これらの素子は大量生産されたものの、当時は作動原理が解明されていなかった。1950年代初頭までは代替する半導体材料の精製技術が不十分だったので使用され続けた。 1940年代から1950年代にかけて徐々にゲルマニウムとシリコンに転換された。III-V族半導体は高周波の特性が優れていたので1960年代以降、利用が拡大した。ガリウム砒素半導体に関心を持たれるようになったのは1950年代初頭でシリコンやゲルマニウム半導体よりも高周波数で使用できるからだった。ガリウム砒素半導体はIII-V族半導体の中で最初に普及した半導体だった。ガリウム砒素は融点での蒸気圧が大幅に低いため、精製の過程で組成比率が変化したり、結晶成長中に特性が変化する可能性があり、また、不純物の添加が困難だった。