フォトレジスト
フォトレジストは光反応を利用してパターニングするが、その光の種類(光源の種類)によっても分類される。
半導体レーザー(波長 830nm、532nm、488nm、405nm etc.)
メタルハライドランプ
高圧水銀灯
g線(波長 436nm)
h線(波長 405nm)
i線(波長 365nm)
ブロード(g,h,i線の3波長)
エキシマレーザー
KrFエキシマレーザー(波長 248nm)
ArFエキシマレーザー(波長 193nm)
F2エキシマレーザー(波長 157nm)
極端紫外線;EUV(波長 13.6nm)
電子線
エキシマレーザーおよびEUVは、もっぱら半導体素子の製造に用いられる。 電子線は主に、半導体素子の製造の露光の際に用いられるマスクの製造に用いられる。 半導体レーザーは、例えば平版印刷版 (830nm、532nm、488nm、405nm etc.) やプリント基板 (405nm) のためのデジタルイメージングの走査露光用に用いられる。