パナソニック フォト・ライティング
1997年10月 - シンガポールWEST電気株式会社(現パナソニック フォト・ライティングシンガポール株式会社)を設立。
2000年8月 - デジタルスチルカメラを開発。
2001年1月 - 長田野工場に冷陰極蛍光灯専用工場を増設。
2003年9月 - 長田野工場に冷陰極蛍光灯専用工場を増設。
2005年4月 - 長田野工場に冷陰極蛍光灯専用工場を増設。
2006年 4月 - パナソニック フォト・ライティング株式会社と改称。本社を大阪府高槻市(ライティング社構内)に移転。 10月 - 中国・杭州市に冷陰極蛍光灯専用工場を新設。
2007年7月 - ライティング社構内に冷陰極蛍光灯専用工場を新設。
2009年4月 - バックライト事業をライティング社に移管。
2014年6月 - 深紫外線LED(UV-LED)モジュールの製造販売を開始
2015年5月 - UVキセノンの製造販売を開始
2015年7月 - PM2.5センサーの販売を開始
2017年12月 - TOFカメラの製造販売を開始
2022年4月1日 - パナソニック ライティングデバイス株式会社に吸収合併される予定