ナノフォトニクス
ナノフォトニクスの1つの目的は、回折限界(ディープサブ波長)よりも精密な像を生成するためにメタマテリアル(下記参照)や他の技術を用いる所謂「スーパーレンズ」を作成することである。
走査型近接場光顕微鏡 (NSOMもしくはSNOM) は、波長よりはるかに小さい解像度で像を得るという同じ目的を達成する全く異なるナノフォトニクスの技術である。撮影する表面を非常に鋭い先端もしくは非常に小さい開口でラスタ走査することもこれに含まれる。
近接場顕微鏡法(near-field microscopy)は、より一般的にはナノスケールのサブ波長分解能を達成するために近接場(下記参照)を使用する任意の技術を指す。例えば、二面偏波式干渉は導波路表面上の垂直面においてピコメートルの解像度を有する。
メタマテリアルは、自然界には見られない特性を持つように設計された人工物質である。これらは波長よりはるかに小さい構造のアレイを作製することにより実現される。構造のサイズが小さい(ナノサイズ)ことが重要である。そうすることで光は個々の構造から散乱することなく、あたかも均一な連続媒質を形成しているかのように相互作用する。