誘電加熱
誘電加熱の特徴として、均質加熱、迅速(高速)加熱、選択加熱が挙げられる。電磁波に暴露された物質が、単位体積あたりに得るエネルギーWは、以下の式に従う。
W = 1 2 ω ε ′′ ∣ E ∣ 2 + 1 2 ω μ ′′ ∣ H ∣ 2 {\displaystyle W={\frac {1}{2}}\omega \epsilon ^{''}\mid E\mid ^{2}+{\frac {1}{2}}\omega \mu ^{''}\mid H\mid ^{2}}
ここで、 ε ′′ {\displaystyle \epsilon ^{''}} : 複素誘電率、 μ ′′ {\displaystyle \mu ^{''}} : 複素透磁率、E: 電界強度、H: 磁界強度である。誘電加熱は、外部熱源による加熱と異なり、熱伝導や対流の影響がほとんど無視できる。上式のE, Hを増加させることで、被加熱物質を均一に高速で加熱できるので、この特徴を指して均質加熱、迅速(高速)加熱と呼ぶ。電磁波は電界と磁界成分で構成されているが、電界は誘電体を、磁界は導体や磁性体を加熱できる。物質ごとに上式の複素誘電率、複素透磁率が違うことを利用すれば、加熱対象を電磁波の照射法で選択できる。この特徴を指して選択加熱と呼ぶ。