ピラニア溶液
ピラニア溶液はマイクロエレクトロニクス産業において、例えばシリコンウェハーからフォトレジストの残渣を除去する際などに頻繁に用いられる。
電子工作愛好家が回路基板を自作する場合にもピラニア溶液が用いられることがある。マスクを施した銅張積層板にピラニア溶液を作用させると、露出している銅が速やかに除去される。
実験室では、ガラス器具の洗浄に用いられることがあるが、危険なので多くの研究機関では非推奨とされており、日常的に使うべきではない。クロム酸溶液とは異なり、ピラニア溶液はガラス器具を重金属イオンで汚染することがない。
ピラニア溶液は焼結ガラス(英語版)器具の洗浄において特に有用である。 焼結ガラス器具の細孔のサイズはその機能性に直結しており、塩基性の洗浄剤は焼結体を徐々に溶解させてしまうため用いることができない。加えて、焼結ガラスはその構造の深部に物質を捕捉する性質があり、除去を困難にする。あまり強くない洗浄剤では洗浄できない場合でも、ピラニア溶液を用いればあまり細孔に損傷を与えることなく焼結体を清浄な状態にすることができる。通常は、焼結ガラスに逆向きにピラニア溶液を浸透させることにより洗浄を行う。
ピラニア溶液は、ガラス表面を水酸化してシラノール基の数を増やし、親水性を向上させるために用いられることもある。