高屈折率高分子
高屈折率高分子は液浸リソグラフィへの応用が期待されている。液浸リソグラフィは半導体素子等を製造する技術で、フォトレジストと高屈折率の液体を用いる。 フォトレジストには屈折率が1.90より高い材料が求められており、非芳香族で硫黄を含有する高分子材料が最適と考えられている。