フォトリソグラフィ
縮小露光系において分解能は、使用する光源の波長に依存する。縮小レンズの性能によってマスクの回折限界まで露光できるかが決まる。波長248~193nmの深紫外線を使用した場合は50nmの線幅まで露光できる。
露光系の最小線幅は以下の式で求まる:
F = k ⋅ λ N A {\displaystyle F=k\cdot {\frac {\lambda }{N_{A}}}}
ここで、各々の定数や変数の定義は以下のとおりである:
F {\displaystyle \,F} は最小線幅(一般に目標デザインルールと呼ばれる)。通常は2を掛ける 2 ハーフピッチにおける回数
k {\displaystyle \,k} (一般に k1 ファクターと呼ばれる)は、プロセスに関連するファクターをあらわす係数(通常は 0.5 で近似される)
λ {\displaystyle \,\lambda } は光源の波長
N A {\displaystyle \,N_{A}} はウェハーに対する開口率
最小線幅は波長に依存すると同時に開口率にも依存する。開口率が大きくなるとレンズは大きくなり、ウェハーに接近する。これらの要素は互いに牽制する。現在では以下のようになる:
D F = 0.6 ⋅ λ N A 2 {\displaystyle D_{F}=0.6\cdot {\frac {\lambda }{{N_{A}}^{2}}}}
被写界深度はフォトレジストの断面の厚みに影響される。高分解能を得る為の前提として、化学的研磨によってウェハーの表面を平坦に磨き平面度を高める必要がある。
レジストを塗布したウェハーを加熱し、レジストを固化する。