トゥオモ・スントラ
1971年にヘルシンキ工科大学においてPhDを取得(半導体物理学)。その後、VTTフィンランド技術開発センターにおいて薄膜湿度センサ「Humicap」をフィンランドの気象測器メーカーであるVaisala社向けに開発した。1974年にフィンランドのInstrumentarium社向けに薄膜ELディスプレイの開発を始め、その製造過程において必要とされる非常に高い絶縁耐力を有する薄膜を形成するために、今日ALDとして知られている技術を導入し、その技術はフィンランドLohja社によりELデバイスの量産向けとして1980年代半ばに採用された。ALDはその後、半導体デバイス製造においてキーとなる重要な工程の一つとなっている。
1987年、薄膜光起電力デバイス、不均一触媒、そして半導体デバイス向けにALD技術を導入するため国営石油会社であるネステの子会社としてMicrochemistry社を立ち上げた。