ナノインプリント・リソグラフィ
マイクロレンズ、反射防止膜、LED等に応用されている。
太陽電池の表面にナノインプリントで凹凸を持たせることで効率をあげることが期待される。
透明性の優れたアクリル(PMMA)は、光学部品への応用が考えられている。
体内で分解するポリ乳酸は、長期間放置すると環境を損なわずに分解されるため使い捨てのバイオチップや環境測定チップなどへの応用が図られている。
回折格子やフレネルレンズをナノインプリント技術で製作することにより、大きな屈折角や短い焦点距離を実現可能である。
ナノインプリント・リソグラフィとは現在開発が進められている半導体の微細パターン転写技術である。
従来のパターン作成には縮小投影型露光装置(ステッパー)が使用されていたが、微細化に伴い、極端紫外線露光装置の価格とパターンマスクの価格が高騰していて、導入に躊躇する半導体メーカーが続出しており、普及の妨げになっていた。ナノインプリント・リソグラフィが普及すれば生産性が向上し、半導体の製造コストの低減に大きく貢献する事が予想される。
一方、インプリント・リソグラフィには『パーシャルフィールド』という特有の問題もある。