REBCO
PLD法はPVD(物理気相蒸着)法の一種で、装置自体は他のPVD薄膜作製技術と比べ、最も単純で薄膜作製も容易で堆積させた薄膜の組成がターゲットに近く、レーザ光を吸収する物質であれば高融点の物質でも容易に薄膜化できるという利点を有する方法で、真空チャンバー内の焼結体ターゲットにパルスレーザを断続的に照射してターゲットをアブレーションすることにより放出されるフラグメント(イオン、クラスタ、分子、原子)をターゲットと対向して配置された基板上に薄膜を堆積させる。