超純水
大規模火力発電所や原子力産業向けの需要に応じ、超純水製造技術は向上を続けていたものの、微細な集積回路のパターンを相手とする洗浄装置の開発は多くの課題が有った。なかには水質ではなく水そのものの物理的性質、例えば有機溶剤に比し桁外れに大きな表面張力の克服なども含まれていた(洗浄時にウエハを高速回転させるのはこのため)
洗浄する水に少しでも不純物が残っていると、回路パターンを短絡させたり、不純物半導体の組成を乱すなどの影響を及ぼすため、今日に至るまで、半導体素子の性能向上や回路パターンの微細化に伴って、超純水の不純物を減らし洗浄効果を高めるための様々な研究開発が続けられてきている。
1990年代以降、半導体の集積度は高まり続ける一方、コスト競争激化による製品歩留まりの追求が厳しさを増した。これは、素子自体の大型化・複層化による(微粒子1つによる被害が発生する)単位面積の増大と、(微粒子の直径に対する許容限界を引き下げる)パターン線幅の狭小化に応えつつ、コスト削減(それも劇的な)要求に応えなければならないことを意味する。
2000年代以降、加熱滅菌なしに無菌水を得られるメリットが着目され、バイオテクノロジー分野での利用が拡大した。これに伴い、研究用の小規模かつフレッシュな超純水需要に応える、ラボ用小型超純水製造装置が相次いで市場に登場した。
現在は膜ろ過技術の発達・普及により、さらに利用分野が広まっている。
2010年代前半の技術水準では、最先端の設備で製造されている超純水に含まれる不純物の量は0.001μg/L(1リットル中に10億分の1グラム)程度であり、これは例えば東京ドーム(約124万立方メートル)に対する豆粒1個に相当する。