プラズマCVD
プラズマCVDには励起方法などによって、下記のような分類がある。
高周波プラズマCVD...工業用周波数(13.56)MHzの高周波による放電を用いる。絶縁性の薄膜形成が可能で、もっとも一般的なプラズマCVD。
高密度プラズマ(HDP)CVD...高周波プラズマCVDよりもプラズマ密度を高めたもの。より低い温度でも良質の膜が形成できるなどの利点を持つ。 ECRプラズマCVD...2.45GHzのマイクロ波とECR磁界を印加し、マイクロ波を共鳴吸収させて生じる放電を利用するもの。 誘導結合型プラズマ(ICP)CVD ヘリコン波プラズマCVD UHF,VHFプラズマCVD