EDA (半導体)
論理回路設計用のCAEシステムとしてメンター・グラフィックス、デイジー、バリッドなどが登場する。プラットフォームには汎用のエンジニアリングワークステーション(EWS)を使用したもの(メンター)と専用のハード・OSを使用していたものがあった(後の2社)が、その後UNIXベースのEWSとOSが一般的になった。
これらのツールは論理回路入力をするエディターとその動作検証をシミュレータなどを一体としたものである。またこのあたりから設計者一人ひとりが占有して使うという形態が一般的になってくる。
レイアウトCADで作成データと論理設計ツールのデータを比較するツールも登場する(ECAD社、後にケイデンス社)。 回路図をもとにレイアウトデータの自動配置配線を行うツールも出てきた。当初はゲートアレイなどのセミカスタム半導体を対象にしたが、より汎用性の高いものへと進化していった。この種のツールにおいては多数の図形データを処理する必要があるが、計算幾何学の成果も取り入れ性能の向上が図られていった。
複数のベンダーが各種ツールを発表した結果、データの互換がとれない等の問題も生じている。当時2大ベンダーであったケイデンス社とメンター社がそれぞれフレームワークという枠組みに他社製品を取り込んで統合しようとの動きもあったが成功していない。またデータを交換する共通フォーマットとしてEDIFの研究が始まった。
実際の設計フローにしたがって各製品の種別と守備範囲を示す。
配置配線、マスク作成 デジタル系の場合、回路ブロックの配置決定と自動配線を行う。アナログ系回路の場合、高周波になるほど完全な自動配置配線は困難であるため、手作業でのマスク作成が生じる。
物理検証 設計が回路図と一致するか、あるいは物理的な設計基準を満たしているかの検証。前者はLVS、後者をDRCという。
寄生素子抽出、再シミュレーション 作成したマスクにおける寄生素子(容量、抵抗、インダクタ等)の抽出を行いその情報を元の回路に付加し、再度回路、論理シミュレーションを行い、正常に動作し目的の性能を満たすか確認する。この寄生素子抽出と付加作業をバックアノテーションと呼ぶ。
マスクデータ生成 設計データから実際に半導体チップを製造するためのフォトマスク用データに変換する。近年の微細化プロセスでは、この時点で光の干渉による影響のシミュレーションを行い、マスクデータの補正を行う。