電子線描画装置
スポットビームは熱電子電界放出型(Thermal FEG (T-FEG))としてZrO/W(酸化ジリコニウムタングステン)、矩形ビームはLaB6(6硼化ランタン)単結晶が用いられることが多い。
対物アパーチャーや静電式収差補正電極などにより、各種の収差を補正する。
パターン露光に合わせて一定のステップでステージを動かす。ステージの移動量制御には真空チャンバー外部設置のモーターとレーザー干渉式測長器、或いは 真空チャンバー内部設置の、非磁性・真空モータとリニアスケールが用いられ、数十um~nm単位の移動動作を行う。それ以下の位置制御は偏向器で行うことが多い。非磁性・真空モータとしてはリニア超音波モータが使用される。