アルキル置換ビアリールホスフィン配位子
ジョン・ウォルフ(英語版)にちなんで名付けられた。JohnPhosはもともと1999年にPdを触媒とする塩化アリール・臭化アリールの鈴木・宮浦クロスカップリング反応に使用されていた。この配位子は、かさ高い基質を小さい触媒負荷で、室温にて反応させることができる。このため、この配位子は塩化アリールやトリフラートなど幅広い化合物のアミノ化やチオフェンのアリール化など様々な反応に適用されている。
PhJohnPhosやCyJohnPhosなどの修飾体もPdを触媒とするクロスカップリング反応のために開発されている。
CPhosはPdを触媒とする2級有機亜鉛化合物とハロゲン化アリールの根岸カップリングに高い活性をもつ。
RuPhosは2004年に最初に報告された配位子であり、高いハロゲン化アリールと有機亜鉛化合物をパラジウム触媒下で反応させる根岸カップリングにおいて高い活性を示す。この配位子はきわめてかさ高い基質や、様々な官能基を持った基質を反応させることができる。この配位子は塩化アリールのトリフルオロメチル化やハロゲン化アリールのアミノ化にも活性を示すことがわかっている。
AlPhosは市販されているジアルキルビアリールホスフィン配位子の中では最新の物の1つである。2015年の報告では、この配位子は穏和な条件でのPdを触媒とするアリールトリフラートやヘテロアリールトリフラートのフッ素化で高い活性を示すことがわかっている。