光ファイバー
MBEで作った新素子は寿命100万時間を達成した。
これらの技術により、光ファイバーのレーザー光源の技術が確立された。
1974年、ベル研究所のジョン・マクチェスニーはMCVD(内付気相堆積)法での光ファイバーの製法を編み出した。 この結果、損失率は1.1 dB/kmに低下した。
1977年、日本電信電話公社(電電公社、現在のNTT)の茨城電気通信研究所の伊澤達夫が、VAD(気相軸付け)法による光ファイバーの製造方法を発明した。
1980年には、VAD法によって、損失値は0.20 dB/kmに達した。 現在、VAD法の製造スピードはMCVD法の約100倍となっている。
1985年、サザンプトン大学のプール(S. B. Poole)が、エルビウムという元素を光ファイバーのガラスに少量加えると、光だけで動作する増幅器を作れることを発見した。この発見をもとに、サザンプトン大学のペイン(David Payne)とミアーズ(P. J. Mears)、ベル研究所のドゥスルヴィルが、エルビウム添加ファイバー増幅器(EDFA; Erbium Doped Fiber Amplifier)を開発した。これにより、レーザー中継による光信号増幅器よりも効率の良い伝送を行うことが可能となった。
同年、連邦通信委員会は国際回線における光ファイバーの私的所有を認可した。
同年2月、日本では電電公社が北海道旭川市と鹿児島県鹿児島市間をつなぐ日本縦貫光ファイバーケーブル網を完成させた。
2000年代にかけて日本国内では光ファイバを採用するブロードバンドインターネット接続が各地で広がった。
1,310 nm帯よりも伝送損失が低い1,550 nm帯を零分散波長とし、より長距離伝送を可能にしたもの。
ガラス製・光ファイバー(Glass optical fiber)は、コア、クラッド共に石英ガラス(シリカ・ガラス)が用いられる。光を閉じこめて伝播させるにはコアとクラッドに屈折率差が必要なため、コアには屈折率を上げるためにGe(ゲルマニウム)やP(リン)、クラッドには屈折率を下げるためにB(ホウ素)やF(フッ素)などが添加される。プラスチック製・光ファイバよりも伝送損失が小さいため、長距離伝送用の光ファイバーとしてよく用いられる。通信に用いる場合、伝送損失を下げる必要があるため、コア材料は最大の透明度が得られるように高純度のシリカ・ガラスが使われている。特に含水量(OH基)は数ppmまでに低減させている。これにより、伝送損失は0.3 dB/km以下に抑えられている。
ただし、海底ケーブルは長距離であるため、シリカ・ガラスよりもさらに伝送損失が小さいフッ化物ガラスが用いられる。
プラスチック製光ファイバーに比べて以下の特徴がある。
伝送損失が小さく特性が良いので、長距離高速伝送に適合する。
コア径が細く曲げに弱い。
光ファイバー同士や光ファイバーと機器との接続に、正確な軸あわせのできる特殊工具や機械的強度のある接続器具が必要である。
比重が大きく重い。
高価である。
製造された母材を縦方向にして約2000°Cにした電気炉にいれ、石英が溶けて自重で糸状に引き伸ばされて垂れてきたものを、保護樹脂で被覆して巻き取り、光ファイバー素線とする。