レイテックス
ウェーハ検査装置 - シリコンウェーハのエッジ(端面)、裏面のキズ等の有無を独自のレーザースキャン方式を用いて検査する装置。
エッジ検査装置「Edge Scan」、裏面検査装置「Back Scan」、エッジ裏面複合検査装置「EdgeScan B+plus」等
ウェーハ測定装置 - シリコンウェーハ表面の凹凸を測定する装置
360度のウェーハロールオフ測定が可能な「DynaSearch XP」、ウェーハの両面を非接触で測定できる「NanoPro NP2」等
表面粗さ計 - 測定物の粗さやうねりなどの表面形状を解析する装置
1988年7月 - 東京都八王子市に資本金3,000千円で株式会社レイテックスを設立。
1994年1月 - 本社を東京都国分寺市に移転。
1995年6月 - 本社を東京都多摩市に移転。
2003年3月 - 福島県福島市に福島オフィスを開設。
2003年6月 - 福岡県福岡市中央区に九州オフィスを開設。
2003年7月 - 米国オレゴン州に RAYTEX USA CORPORATION を設立。
2004年4月22日 - 株式会社東京証券取引所マザーズに株式上場。
2004年8月 - 台湾台北市に台湾オフィスを開設。
2004年10月 - 韓国京畿道龍仁市に韓国オフィスを開設。
2006年7月 - 東京都多摩市・落合(多摩センター地区)の新社屋に本社移転。
2007年3月 - 株式交換により、株式会社ナノシステムソリューションズを完全子会社化。
2008年10月 - Deep Photonics Corporation(米国)と販売代理店契約締結により太陽電池市場に参入。
2011年3月1日 - 東京証券取引所を上場廃止。
2011年3月1日 - 日本証券業協会フェニックス銘柄に指定。
2013年6月3日 - 連結子会社である株式会社ナノシステムソリューションズの全株式を譲渡。
2014年2月7日 - 本社を東京都渋谷区に移転。
2014年2月28日 - 日本証券業協会フェニックス銘柄の指定取消。
2017年3月8日 - 東京地方裁判所から破産手続開始決定を受ける。
2020年4月20日 - 法人格消滅。