二フッ化キセノン
二フッ化キセノンは加圧条件下300°Cでキセノンと二フッ化酸素をニッケルチューブ中で化合させることで初めて作られた。現在、二フッ化キセノンはキセノンとフッ素から作ることが可能である。
合成は単純な反応式 Xe + F2 → XeF2 で進行し、反応を進めるには熱、放射線または電気放電を必要とする。生成するのは気体であるが、-30°Cで液化させることができる。それは分留、またはバキュームラインによる選択的液化によって精製される。
XeF2 の合成法はアルゴンヌ国立研究所の Weeks、Cherwick、Matheson によって1962年に報告された。彼らはサファイア窓とオールニッケルシステムを使った。低圧条件下、紫外線を照射することにより Xe と F2 ガスを等量反応させると XeF2 が得られる。1968年にWilliamson は、大気圧条件下かつパイレックス製のガラスフラスコ内で単なる太陽光に当てただけでも合成できると報告した。曇りの日でも合成できる。
先の合成では、反応に使う F2 は HF を除く為に精製されたが、Šmalc と Lutar はこのステップを飛ばすと反応速度がもとの4倍になることを発見した。
還元的フッ素化の例
2 CrO 2 F 2 + XeF 2 ⟶ 2 CrOF 3 + Xe + O 2 {\displaystyle {\ce {2CrO2F2\ + XeF2 -> 2CrOF3\ + Xe\ +O2}}}