Cフォント
1960年代に始まった日本の電算写植は、写研の「SAPTON」シリーズが牽引する形で普及したが、感材への露光方法は装置内部で回転するガラス製文字円盤を用いており、印字高速化には限界があった。
このため写研は1977年、内蔵する高解像度CRTにガラス製文字盤の画像または精密ビットマップフォントを投影して露光する方式を採用した「SAPTRON」シリーズの販売を開始したが、さらに文字の拡大縮小に対する自由度を確保するため、輪郭をベクトルデータとして持つフォントとして開発されたものである。レーザー露光方式を採用したSAPLS-N型(1983年)に初搭載されたのち、CRT方式のSAPTRONシリーズにも導入した1985年、"contour"(輪郭)の頭文字を取ってCフォントと命名された。
文字コードは独自のSKコード(SK72/78の2種)で管理され、約2万字を包括した。