化学発光
OHラジカルは炭化水素が酸素と反応して燃焼する領域で少量が生じるため、反応初期の領域か希薄混合気の領域での発光が多い。OHラジカルの発生反応を以下に示す。
CH + O 2 ⟶ CO + OH ⋅ {\displaystyle {\ce {CH + O_2 -> CO + OH^.}}}
CHラジカルの発生反応は、C2ラジカルとOHラジカルの濃度の積に比例する。OHラジカルが火炎中に広く分布するのに対して、C2ラジカルは炭化水素の反応領域にだけ発生するのでCHラジカルの発光も特定の領域となる。CHラジカルの発生反応を以下に示す。
C 2 + OH ⟶ CO + CH ⋅ {\displaystyle {\ce {C_2 + OH -> CO + CH^.}}}
C2ラジカルの発光は、炭化水素の反応領域にだけ発生し、その発光強度はOHラジカルやCHラジカルと比べて相対的に、希薄火炎では弱く濃厚火炎では強くなる。