堀場エステック
1974年(昭和49年)1月19日 株式会社スタンダードテクノロジ設立(本社・工場:堀場製作所内)
1983年(昭和58年)3月 久世工業団地に分工場開設
1984年(昭和59年)1月 19日株式会社エステックに社名変更
1988年(昭和63年)9月 阿蘇工場竣工
1991年(平成 3年)2月 米国現地法人SII設立(Stec Instruments Inc.)
1994年(平成 6年)12月 韓国現地法人エステックコリア(SKL)設立
1996年(平成 8年)11月 台湾支店設立
1997年(平成 9年)8月 新本社完成
2003年(平成15年)3月 米国ベンチャー企業より真空計のIP権を取得
2003年(平成15年)4月 米国ベンチャー企業よりマスフローコントローラ関連技術.製品を導入
2004年(平成16年)7月 1日 株式会社堀場エステックに社名変更
2005年(平成17年)1月 堀場製作所の完全子会社となる
2005年(平成17年)10月 HORIBAグループの量産工場として阿蘇新工場が竣工
2005年(平成17年)11月 米国ベンチャー企業より四重極質量分析計のIP権を取得
2007年(平成19年)7月 米国シリコンバレーにハイテク産業に対応した「テクノロジーセンター」を開設