ケトンの不斉還元
キラルなアルコキシド配位子によって修飾された水素化アルミニウムリチウム(LAH)は、高い収率と立体選択性を示すため、不斉合成に用いられる。これには不均化やLAHが起こす余計な還元反応を抑制するため、BINOLなどが使用される。キラルなジアミンやアミノアルコールが不斉還元のためのLAHの修飾に用いられる。
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キラルに修飾されたヒドロホウ素化物(英語版)もケトンの不斉還元に有用である。アミノ酸の誘導体である安価な配位子がヒドロホウ素化物の修飾に用いられ、高い立体選択性を実現している。
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キラルなアルキル水素化ホウ素化物は、キラルなアルケンをジアステレオ選択的にヒドロホウ素化することが可能である。ピネンから得られるボランは、この場合では不斉還元に利用されてきた。中性のアルコキシボランは、この還元によって生じる。
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