薄膜
物理気相成長法(PVD: Physical Vapor Deposition)
-原料の気体を、蒸発やスパッタリングなどの物理的な手法で発生させる方法。 真空蒸着 -物質を真空中で蒸発させて、基板上で薄膜を成長させる方法。 抵抗加熱蒸着 電子ビーム加熱蒸着(英語版) パルスレーザー堆積(PLD)(英語版) 分子線エピタキシー(MBE) イオン/ラジカル蒸着 スパッタリング高エネルギーのイオンや原子をターゲット材料に衝突させることによって、ターゲット材料の表面から原子が叩き出されることを利用する方法。
化学気相成長法(CVD: Chemical Vapor Deposition)
-気体の原料を、基板の近傍で、熱やプラズマによって反応させて薄膜を生成する方法。 熱CVD 有機金属CVD(MOCVD) プラズマCVD 原子層堆積