RCA洗浄
最終段階となる第3段階(SC-2)では75または80 °Cで約10分間、以下の洗浄をする(比率を変えることもある)。
6 :脱イオン水
1 :HCl (塩化水素, 37%) 水溶液
1 :H2O2 (過酸化水素, 30%) 水溶液
SC-2では残った微量金属イオン汚染やSC-1で混入した金属イオン汚染を効果的に除去する。 またSC-2では薄い不動態化層を作り、その後の汚染を防いでくれる(ベアシリコンでは直ちに汚染されてしまう)。