デザインルールチェック
デザインルールチェック(英: design rule check、DRC)は、半導体プロセスにおいて使用するマスクパターンや、プリント基板の設計データがデザインルール(設計規則)に違反していないかを検証するためのCADツール(プログラム)、もしくはその工程のことを言う。このデザインルールは、半導体プロセスの各工程や、プリント基板の加工精度から制限を受け定められる場合が多い。半導体プロセスの場合とプリント基板作成の場合では、それぞれ専用のツールも存在するが、同じツールを使用することも可能である。
DRCと言う概念が出来る前は、人間が目視でマスクデータのチェックを行っていた。しかし、チェック項目が数百項目にわたると、目視によるチェックは不可能となり、機械的に行う方法が開発された。