三臭化ホウ素
三臭化ホウ素は強いルイス酸であり、医薬品合成などにおいてエーテルの脱メチル化、脱アルキル化反応に用いられる。またルイス酸触媒としてオレフィン重合反応やフリーデル・クラフツ反応に用いられる。また半導体の製造時にドーピングのホウ素源として用いられる。