イオンプレーティング
加工装置チャンバー内に蒸着金属と被加工物を入れ、内部を10 Pa~10 Pa程度の高真空状態にしてから不活性ガス(アルゴン)もしくは反応性ガス(窒素、炭化水素など)を注入する。 加工装置の熱電子発生陰極(電子銃)から電子ビームを蒸着材に向けて放電を行い、イオンと電子に分離したプラズマを発生させる。 電子ビームにより、金属を高温に加熱・蒸発させる。 蒸発した金属粒子は、正の電圧をかけることによりプラズマ中で電子と金属粒子と衝突して金属粒子がプラスイオンとなり、被加工物に向かって進むとともに金属粒子と反応性ガスが結びついて化学反応が促進される。 蒸着金属がチタン、反応性ガスが窒素の場合、 Ti+N → TiN 化学反応が促進された粒子は、マイナス電子の加えられた被加工物へ向かって加速され、高エネルギーで衝突し、金属化合物として表面へ堆積される。