開口マスキング干渉法
Tuthill et al. (2000))、あるいは図 1.a) に示すように再画像開口面 (re-imaged aperture plane) に置く方法が取られる (e.g. Haniff et al. (1987); Young et al. (2000); Baldwin et al. (1986))。 マスクは通常、非冗長型と部分的冗長型に種別される。非冗長型は任意の小穴のペアを結ぶ分離ベクトル (小穴の位置ベクトルの差 ; 「基線」と同義 - 開口合成 参照) が全てのペアで異なる小穴の配列で構成される。
この各小穴のペアは、撮像面にユニークな (重複を持たない) 空間周波数を持った干渉縞を発生させる。 部分的冗長型マスクは通常は (干渉縞の) 間隔の冗長性を最小化しながら、光量と測定対象の空間周波数の範囲を最大化するという二律背反に妥協を与えるように設計される (Haniff & Buscher, 1992; Haniff et al. , 1989)。 図 1.b) と 1.c) は、Peter Tuthill と共同研究者によるケック望遠鏡の開口マスクの例を示している。図 1.b) は非冗長マスクであり、1.c) は部分的冗長型マスクである。 高い光度におけるスペックル・マスキングの信号対雑音比は開口マスクにより向上できるのであるが、光子ノイズの限界近くで動作する検出器の限界微光光度は大幅には改善できない (see Buscher & Haniff (1993))。