藤岡慎介
EUVによる次世代半導体技術―波長従来の1/10以下―、日刊工業新聞、2014年12月
ブラックホール周辺環境 レーザー「激光12号」で再現,読売新聞、2009年11月
ブラックホール周辺の環境を再現、日本放送協会 (NHK)、2009年10月
大阪大がブラックホール"再現" 高出力レーザー装置使い、共同通信社、2009年10月
実験室で模擬ブラックホール 高出力レーザーで実現 大阪大、時事通信社、2009年10月
ブラックホール周辺の環境を再現 阪大 レーザーでX線放出、朝日新聞、2009年10月
ブラックホール 高輝度X線放射を再現 阪大、天文学研究へ応用、日刊工業新聞、2009年10月
ブラックホール「超ミニ版」再現,日本経済新聞,2009年10月
ブラックホール周辺環境再現 阪大チーム、強力レーザーで成功、産経新聞,2009年10月
メモリー容量4倍に 次世代半導体 短い波長の光 実用化に、毎日新聞,2008年02月
次々世代半導体製造向けEUV光源技術を開発,日刊工業新聞、2008年02月
Izawa, K. Mima,Applied Physics Letters,Vol. 92, No. 24, p. 241502,2008年06月,http://scitation.aip.org/getabs/servlet/GetabsServlet?prog=normal&id=APPLAB000092000024241502000001&idtype=cvips&gifs=yes,学術論文
Absolute evaluation of out-of-band radiation from laser-produced tin plasmas for extreme ultraviolet lithography,H. Sakaguchi, S. Fujioka, S. Namba, H. Tanuma, H. Ohashi, S. Suda, M. Shimomura, Y. Nakai, Y. Kimura, Y. Yasuda, H. Nishimura, T. Norimatsu, A. Sunahara, K. Nishihara, N. Miyanaga, Y. Izawa, K. Mima,Applied Physics Letters,Vol. 92, p. 111503,2008年03月,http://scitation.aip.org/getabs/servlet/GetabsServlet?prog=normal&id=APPLAB000092000011111503000001&idtype=cvips&gifs=Yes&type=ALERT,学術論文