アルキル置換ビアリールホスフィン配位子
有機化学および有機金属化学において、アルキル置換ビアリールホスフィン配位子(アルキルちかんビアリールホスフィンはいいし、英: Dialkylbiaryl phosphine(またはdialkylbiarylphosphine)ligand)は、リンを含む配位子であり、パラジウムなどの遷移金属触媒の活性を高めるのに用いられる。炭素-炭素結合を形成するパラジウム触媒カップリング反応や、炭素-窒素結合を形成する バックワルド・ハートウィッグアミノ化などに応用するため、ステファン・バックワルドによって1998年に合成された。これらの配位子が開発される前は、パラジウム触媒を用いるC-Nクロスカップリングには第1世代(トリス(o-トルイル)ホスフィン(英語版))・第2世代(BINAPなど)のホスフィン配位子が用いられていたものの、激しい反応条件が必要であり、基質適用範囲が限られるなど制限が厳しかった。鈴木・宮浦カップリングや根岸カップリングはPd(PPh3)4を触媒として用いることが多いが、塩化アリールの反応性が低いため基質が臭化アリールやヨウ化アリールに限られており、新しい配位子の合成が求められていた。
1999年に最初に報告され、パラジウムを触媒とする鈴木・宮浦カップリング反応においてDavePhosやJohnPhosなどと同様のはたらきをしている。アリールケトンの生成反応において触媒活性をもつ。tert-BuMePhosなどの誘導体も販売されている。
アムジェンでのバックワルドの同僚が新しいp38分裂促進因子活性化タンパク質キナーゼ阻害剤を研究していた際、Pd2(dba)3/MePhosによって鈴木・宮浦クロスカップリングの後半がよく触媒されることがわかった。この反応はキログラムスケールで行うことができ、最終生成物のアミド中に過剰に存在するイミダゾールがパラジウムに配位して副生成物となるため、パラジウムを除去する必要もない。