ナノリソグラフィ
ナノリソグラフィ (Nanolithography) はナノテクノロジーの一分野で原子から約100 nmの規模のナノメートルスケールの構造体やパターンの形成に用いられる。ナノリソグラフィは最先端の半導体集積回路(ナノ電子回路(英語版))やナノ電気機械システム (NEMS) の製造で活用される。
2015年時点においてナノリソグラフィは学術と産業分野において活動の盛んな領域である。