ヘリオス テクノ ホールディング
1976年10月 - フェニックス電機株式会社を設立。
1989年12月 - 株式を店頭公開。
1995年11月 - 会社更生法適用申請。
1996年5月 - 株式店頭登録取消。
1997年 - 「二重シール構造」開発
1998年7月 - 会社更生手続終結。
2002年12月 - JASDAQ市場上場。
2004年 - 第4回ポーター賞受賞。
2005年4月 - 東京証券取引所2部上場。第2工場を新設。
2006年 - 国際規格ISO14001を取得。東京証券取引所1部指定替え。
2009年4月 - 現在のヘリオス テクノ ホールディング株式会社に商号変更。事業分割により新たにフェニックス電機株式会社を設立。
2009年5月 - 株式会社日本技術センターを完全子会社化。
2009年6月 - ナカンテクノ株式会社を設立。
2009年7月 - 子会社のナカンテクノ株式会社がナカン株式会社より事業譲渡を受け事業開始。
2013年5月 - 子会社の株式会社日本技術センターが株式会社関西技研を完全子会社化。
2013年10月 - 子会社の株式会社日本技術センターが株式会社関西技研を吸収合併。株式会社テクノ・プロバイダーを完全子会社化。
2015年4月 - 子会社の株式会社日本技術センターが株式会社テクノ・プロバイダーを吸収合併。
2016年10月 - 子会社のナカンテクノ株式会社が株式会社リードテックを完全子会社化。
2018年12月 - 子会社の株式会社日本技術センターが株式会社テクノリンクを完全子会社化。
2020年1月 - NTホールディングス株式会社に子会社の株式会社日本技術センター及び株式会社テクノリンクの全株式を譲渡。
2020年12月 - 本社所在地を兵庫県姫路市より東京都中央区へ移転