アリルオキシカルボニル基
触媒量のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)存在下、過剰量の二級アミン(モルホリンなど)または β-ジケトン類をアリル基の捕捉剤として加えておくことにより脱保護できる。
Alloc基は、塩基性条件、弱いヒドリド還元などに対しては安定であるが、Boc基を切断する強酸性条件、Z基を切断する接触還元条件でも切断されてしまう。ただしBoc基やZ基の切断されない中性条件下脱保護できることから、酸性や水素化条件に弱い不安定な基質の保護に向いている。