ジェイ・ラスト
1956年4月から1957年9月まで、ベックマン・インスツルメンツの一部門であるショックレー半導体研究所で働いた。ショックレーは、科学者一人一人を監督することにこだわり、グループメンバー間のコミュニケーションはほとんどない状態であった。
ラストは、材料の基本的な表面特性の研究に多くの時間を費やし、4層シリコンダイオードの異常な結果を説明しようと試みた。
ラストは、ショックレーを「非凡で輝かしい人物」と評価した。「彼は正しい決断をした。彼は優秀な人材を雇った... 。正しい技術、正しい材料、それを実現するための適切なグループ、そしてドカンと来た」
しかし、ショックレーは人と接するのが苦手で、社内の社員との関係はどんどん悪くなっていった。1957年1月、ラストを含む7人のグループは、ベックマンに、ショックレーの経営に介入してほしいと訴えた。ベックマンは当初、グループに同情的に見えたが、結局ショックレーを支持することとなった。
不満を持つ科学者、ジュリアス・ブランク、ヴィクター・グリニッチ、ジャン・ヘルニ、ユージーン・クライナー、ゴードン・ムーア、ロバート・ノイス、ジェイ・ラストの7人 は、当初は他の会社を探していたが、ウォール街の投資家の支援を受けながら、自分たちの会社を作ることを考え始めた。
彼らは最終的にシェルドン・ロバーツも加わり、「8人の反逆者」と呼ばれることになる。また、「シリコンバレーの父」とも呼ばれている。投資家との仲立ちをしたのは、後年、高名なベンチャーキャピタリストとなるアーサー・ロックである。
1929年のウォール街大暴落の年に、ペンシルベニア州 バトラーで生まれ、大恐慌時代に育った。両親ともに教師であったが、父はより良い生活を求めて、教師をやめて製鉄所で働いていた。しかし、大恐慌の時期には製鉄所には仕事がなかったのを、一家は自分たちの食料を育て、保存することで何とかしのいだ。
第二次世界大戦中には、父は過酷で危険な条件下で、一日12時間、週6~7日、過酷で危険な肉体労働に従事した。
ジェイ・ラストは、ハイキング、ウォーキング、探検を楽しみながら成長した。16歳の時、彼は友人と一緒にヒッチハイクでカリフォルニア州サンノゼに行き、夏の間、果物収穫の仕事をした。
読書家であった彼は、学校の勉強を他の生徒よりかなり早く終わらせていた。化学の教師であったルシール・クリッチローの勧めで、地元の工業化学者でガラスやガラスの破壊を研究していたフランク・W・プレストンの研究室で働くことになった。ラストは高校生の時にプレストンの研究室で働き始め、大学生になっても休みがあればプレストンのもとで働き続けた。
1947年にバルター高校を卒業してロチェスター大学で光学を学ぶための奨学金に応募した。ラストは父親からこのプログラムのことを聞き、これ以外のどこにも応募しなかった。厳しいプログラムであったため、入学した学生の4分の3がプログラムを終えるまでに脱落してしまった。
このプログラムは、イーストマン・コダック社やボシュロム社と深いつながりがあった。最後の光学設計の授業は、コダックのルドルフ・キングスレイクが担当した。
大学4年の夏、コダック社の光学機器工場のトラブル対応部門で働いた。
1959年、ジャン・ヘルニは、1957年の時点で考えていたアイデアを発展させ、「プレーナープロセス」を説明する2つの特許出願を行った。ベル研究所時代に考案した、シリコン半導体集積回路の製造方法を提示したのである。 プレーナープロセスでは、絶縁性の二酸化ケイ素の層で保護された平らな表面構造が作られる。ロバート・ノイスは、ヘルニのプレーナープロセスが集積回路のコンポーネントを電気的に相互接続するためにどのように利用できるかを示した。
1960年2月12日、ラスト、ロバート・ノーマン、アイシー・ハースの3人は、IRE Solid State Conferenceにおいて、「Solid-State Micrologic Elements」という論文で最初の集積回路について報告した。この中で、フリップフロップ、 論理回路、加算器、シフトレジスタなどのハイブリッド型シリコン集積回路を開発したことを紹介した。また、小型化された集積論理回路の実現性についても議論した。
しかし、その改良と商業的な生産には、まだ多くの課題が残っていた。1960年の夏までに、ラストのフェアチャイルドセミコンダクターのチームは、初めて実用的なプレーナー集積回路を作り、実証することに成功した。