SU-8
SU-8は、もともとマイクロエレクトロニクス業界における、半導体デバイス製造のための高分解能のマスクを形成するためのフォトレジストとして開発された。現在では、主に、マイクロ流体デバイス(主にソフトリソグラフィ(Soft Lithography)が用いられるが、ナノインプリント・リソグラフィ(Nanoimprint Lithography)のような他のインプリント技術も使われる)や、MEMSの構成要素の製造に使用されている。また、生体適合性もあるため、Bio-MEMSの分野でも多く用いられている。
SU-8は紫外光領域で高い透過性を示すため、高さ数百μmでほぼ垂直の側壁をもつ構造の形成を可能にする。露光・PEB、そして現像を経たSU-8は、高度に架橋されているため、薬品や放射線に対する高い耐性を示す。また、架橋したSU-8は、真空中において非常に低いアウトガス性を示すが、露光されていない状態では、ガスを放出する傾向がある。