ジクロロシラン
マイクロエレクトロニクスに使用される半導体エピタキシャルシリコン層の製造に使用するには、ジクロロシランを超精製して濃縮する必要がある。シリコン層の積層により、厚いエピタキシャル層が生成され、強固な構造が作成される。
StockとSomieskiは、H2SiCl2のベンゼン溶液を大過剰の水と短時間接触させることにより、加水分解に成功した。大規模な加水分解は、0 °Cのエーテル/アルカン混合溶媒システムで行われ、揮発性と不揮発性の[H2SiO]nの混合物が得られた。FischerとKiegsmannは、水供給源としてNiCl2・6H2Oを使用して、ヘキサン中のジクロロシランの加水分解を試みたが、この系は失敗した。しかし、彼らは、−10 °Cで希薄なEt2O/CCl4を使用して加水分解に成功した。ジクロロシランの加水分解を完了する目的は、濃縮された加水分解生成物を収集し、溶液を蒸留し、ジクロロメタン中の [H2SiO]nオリゴマーの溶液を回収することである。これらの方法を使用して、環状ポリシロキサンを得た。
ジクロロシランを加水分解する別の目的は、線状ポリシロキサンを得ることであり、多くの異なる複雑な方法で行うことができる。ジエチルエーテル、ジクロロメタン、またはペンタン中でのジクロロシランの加水分解により、環状および線状のポリシロキサンが得られる。