化学気相成長
供給する化学種や求める特性などによって、様々なバリエーションが存在する。最も基本的なのは、化学反応の制御に熱を用いる熱CVDである。
熱CVD - 熱による分解反応や化学反応を利用する方式。 触媒化学気相堆積法(Cat-CVD) - 高温のフィラメントを用いて原料ガスを分解させる方式。ホットワイヤー型CVD(HWCVD)とも呼ばれる。
光CVD
プラズマCVD - プラズマを用いて原料ガスの原子や分子を励起・反応させる方式。
エピタキシャルCVD
原子層堆積(ALD:Atomic Layer Deposition) - 膜材料を原子層レベルで一層ずつ堆積させる方式。
有機金属気相堆積法(MOCVD) - 原料に有機金属を用いるもの。