ASML
1984年 フィリップス社とASMインターナショナル社がそれぞれ50%ずつ出資する合弁会社ASM Lithographyとして設立
1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
1995年 アムステルダム証券取引所およびナスダックに上場
2000年 アメリカの同業SVGを買収した事によって、それまでにアジア新興勢を取引先としていたASMLが最大の半導体メーカー米インテルへのアクセスを確保、一気にシェアを拡大
2001年 エーエスエムエル・ジャパン株式会社を設立。同年12月ニコンが特許侵害でASMLを提訴(2004年に和解)
2004年8月にArF液浸露光装置の第1世代機(試作機)「AT:1150i」出荷
2004年 第2世代機(先行量産機)「XT:1250i」出荷
2004年 第3世代機(量産機)「XT:1400i」出荷
2006年 第4世代機(量産機)「XT:1700i」出荷
2012年 次世代露光技術の一つである極端紫外線の開発の加速化のため、世界半導体大手の3社インテル、サムスン、TSMCから約50億ドルの投資を受け入れる。ニコンと長いパートナー関係のインテルが6割の30億ドルを担う事になる。ニコンは同技術の普及が起こる可能性が低いと判断し、2010年代初頭に開発から撤退した
同年 アメリカのサイマーを買収
2016年 台湾の漢民微速科技を買収
2017年 ニコンがASMLを再び特許侵害で提訴
2018年 極端紫外線初の量産機「NXE:3400B」の本格的な出荷と使用の開始
2019年 ニコンとの和解成立
2020年 ドイツのベルライナー・グラス・グループを買収