ナノトランスファープリンティング
マイクロコンタクトプリンティング等と同様にボトムアップ方式のナノテクノロジーの基盤技術として期待される。
メタマテリアルの作成に使用が検討される。
マイクロコンタクトプリンティング、ナノインプリント、ディップペン・ナノリソグラフィ等と並ぶソフトリソグラフィの一種で金属を含有するインクの転写によって微細構造を形成する。
従来の高額な露光装置を使用せずに微細構造をシリコンウエハー上に作成できるとされる。
2002年にルーセント・テクノロジーズのベル研究所のYueh-Lin Looのグループによって開発された。転写型の材料は弾性的な高分子素材からヒ化ガリウム(GaAs)のような硬質の素材まで使える。実験では線幅500nmのラインパターンや、直径130nmのドットパターンなどが試作され、有機トランジスタや相補性インバーター回路の配線などに成功した。