イオンプレーティング
宇宙開発技術の一環として、アメリカで発明された技術である。いわゆる鍍金の一種である。従来の鍍金が被加工物を電解溶液に浸し、表面に異種金属の皮膜を重ねるのに対し、イオンプレーティングはプラズマにより金属が蒸発して周囲の反応性ガスと反応・化合して被加工物に蒸着させる。なお、従来の鍍金に比べると、密着性、表面耐久性、工程の安全性は飛躍的に向上している。
蒸着金属、被加工物とともにあらゆる金属が用いられるが、よく用いられる金属としてチタンが挙げられる。表面処理が施されていない純チタンは表面硬度は低く、傷が付きやすいため、チタンの表面硬化処理としてショットブラストや本技術が用いられるが、本技術はプロセスの調整を行うことで装飾性のある表面処理が行え(後述)、腕時計外装など装飾性が必要となる製品の加工に用いられる。