プラズマCVD
成膜速度が速く、処理面積も大きくできる、凹凸のある表面でも満遍なく製膜できるなど、化学気相成長の主な長所を多く有する。
さらにプラズマを援用することで、熱CVDなどに比較すると下記のような長所を有する。
低い温度でも、より緻密な薄膜を形成できる。
熱によるダメージや層間での相互拡散を抑制できる。
熱分解しにくい原料でも、実用的な堆積速度が得られやすい。
熱分解温度の異なる原料同士を用いても、様々な組成比の薄膜を形成できる。