熱CVD
熱CVD法の用途は多彩であり、下記のような様々な薄膜の形成に用いられる。
PSG (phospho silicate glass)、BPSG (boron phospho silicate glass)、シリコン酸化膜など
タングステン、MoSi、窒化シリコン
化合物半導体 - SiGeなど
カーボンナノチューブの生成