RCA洗浄
第1段階 (SC-1, SCはStandard Cleanの意) は、75または80 °C で約10分間、以下の比率の混合液で洗浄する(比率を変えることもある)。
5 :脱イオン水
1 :NH4OH (水酸化アンモニウム, 29% NH3) 水溶液
1 :H2O2 (過酸化水素, 30%) 水溶液
この塩基-過酸化物の混合物が有機残留物を除去する。 またSC-1は表面と粒子のゼータ電位を調整するため、非溶解性のパーティクルも効果的に除去する。 SC-1によってシリコン表面に約10オングストロームの薄い二酸化ケイ素層が形成し、ある程度の金属汚染(特に鉄)が起こるため、その後の段階で除去する必要がある。