ENEOS室蘭事業所
製油装置
ナフサ水素化精製装置(64,000バレル/日)
接触改質装置(PL装置)(36,000バレル/日)
ベンゼン抽出装置(9,000バレル/日)
粗キシレン製造装置(20,000バレル/日)
キュメン製造装置(4,200バレル/日)
灯油水素化精製装置(45,000バレル/日)
流動接触分解装置(FCC装置)(30,000バレル/日)
減圧軽油水素化脱硫装置(MHC装置)(45,000バレル/日)
水素化分解装置(HDC装置)(30,000バレル/日)
水素製造装置(1,230,500 Nm3/日)
硫黄回収装置(250トン/日)
貯油設備
半製品・製品タンク(97基、1,450,700 kl)
LPGタンク(8基、20,250 kl)
硫黄タンク(4基、22,400トン)
付帯設備
インラインブレンダー(5基、8,000 kl/時)
ボイラー(3基、830トン/時)
“室蘭製造所” (PDF). JXTGエネルギー. 2017年4月16日時点のオリジナルよりアーカイブ。2019年4月1日閲覧。