回転円盤電極
円盤の回転は通常角速度により記述する。円盤が回転すると、溶液のうち円盤にひきずられる部分が「水力学的境界層」となり、遠心力により円盤の中心から溶液は吹き飛ばされる。これを補償するため、溶液がバルクから「境界層」へと電極に対して垂直に流れこむことになる。総体として、溶液の層流が電極に向う方向と電極表面に沿う方向に形成されることとなる。この溶液の流れの速度は電極の角速度によって制御することができ、数理モデルにより扱うことができる。この流れによって、定常電流を決める反応の律速段階を拡散ではなく溶液の流量により支配することが速やかに達成できる。これは、サイクリックボルタンメトリーなどの静的で攪拌を伴わない実験において定常電流が溶液中の化学種の拡散律速となることと対照的である。
線形掃引ボルタンメトリー(英語版)などの実験を様々な回転速度において行うことで、多電子移動反応や低速電子移動反応、表面吸着・脱離段階の速度論、電気化学反応機構(英語版)などの様々な電気化学的現象を研究することができる。