ケック不斉アリル化
類似のBINOL-Ti(IV) 錯体を用いた不斉アリル化を行っていたTagliaviniグループは、様々なエナンチオ純粋な置換ビナフチル配位子の合成によって初期の成功に続いた。これらの置換ビナフチルで最も成功したもの(右図)は Ti(Oi-Pr)2Cl2錯体を用いたアルデヒドへのアリルトリブチルスズの付加においてエナンチオマー過剰率92%の生成物を与えた。
Brennaグループは新しいBINOLアナログ(右図)を開発した。このアナログはかなり簡単にエナンチオマーに分割して、立体選択的ケックアリル化のための不斉補助基として使用することができ、一部の例では (R)-BINOLを用いたアリル化よりも最大4%までエナンチオマー過剰率が向上した。加えて、開発された補助基も古典的BINOLと同様にNLEを示した。
Fallerのグループはキラル被毒戦略における酒石酸ジイソプロピルの使用を開発した。酒石酸ジイソプロピル、ラセミBINOL、Ti(OiPr)4、ベンズアルデヒド、アリルトリブチルスズを使って、最大91%のエナンチオマー過剰率が得られた。
吉田潤一らは均一で、容易に回収可能な触媒系として働くデンドリマービナフトール類を開発し、それらがケックのアリル化条件を用いたホモアリルアルコールの形成に適していることを明らかにした。
丸岡啓二と木井敏は、エナンチオマー過剰率を向上させるためにルイス酸とアルデヒドとの間のM-O結合回転を制限することを目指して、アルデヒドのアリル化のための二点配位型Ti(IV) BINOL配位子を開発した。この二点配位型配位子は2つのチタン、BINOL、芳香族ジアミンを含み、最大99%のエナンチオマー過剰率を与えた。