マスクレス リソグラフィ
集束イオンビームシステムはイオン注入用や他の形式では対応できない用途において現在一般的に使用される。
IBMは原子間力顕微鏡の技術を元にした代替マスクレスリソグラフィーを開発した。参照. さらにディップ・ペン・ナノリソグラフィー(英語版)がサブマイクロメートル用の課題解決策として検討される。
マスクレス・リソグラフィは感光性乳剤(又はフォトレジスト)に投影を用いない又は、フォトマスクを透過せずに露光する。 代わりに一般的には露光には焦点を合わせた細いビームを用いる。ビームはフォトレジストに直接描画する為に用いられ、1度に単一又は複数の画素を露光する。マイクロニック・レーザーシステムやハイデルベルグ・インスツルメンツ・ミクロテクニック社によって開発された代替方法はフォトレジスト上にプログラム可能な反射式フォトマスクで走査する事によって描画する。この方式の高い生産性と柔軟性において利点を有する。両方式はフォトマスクのパターンの製造法として認識される。
マスクレスリソグラフィーの利点はリソグラフィーのパターンを新しいフォトマスクの製造費用を伴わずに変更できる事である。これはマルチパターニング(英語版)にも利便性をもたらす。