次世代リソグラフィ
半導体の集積度はムーアの法則に従って年々高まっていったが、それを支えるのは露光技術だった。1990年代には次世代リソグラフィとして放射光、電子線描画装置、X線リソグラフィ等が候補として挙げられたが、現時点では極端紫外線リソグラフィが次世代リソグラフィとして目されている。
集積回路の製造