アルキル置換ビアリールホスフィン配位子
バックワルド配位子は空気に対して安定な結晶性固体である。多くは市販されているか、安価な試薬から容易に合成できる。これらの配位子においてはワンポット合成が開発されており、>10 kgスケールでの工業的合成が行われている。
他の配位子よりパラジウム触媒カップリング反応における活性が高いのは、これらの配位子が電子豊富で立体的にかさ高いなどの理由がある。リン原子に結合する置換基にシクロへキシル、tert-ブチル、アダマンチル基が用いられるのは以上の理由による。ビフェニル基において、下の環のホスフィノ基に対するオルト位も配位子特性に大きな影響を与える。多くの結晶解析により、バックワルド配位子が半反応性(英語版)配位子であり、触媒サイクルにおいて高い反応性をもつ12電子LPd中間体を安定化すると推測されている。より最近の配位子ではパラジウムによって仲介されるC-H活性化により触媒が分解されるのを防ぐため、2位と6位を置換したものも合成されている。