東京應化工業

東京應化工業株式會社（東京応化工業株式會社，Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.，簡稱「TOK」）是一家總部位於日本神奈川縣川崎市的化學公司，於東京證券交易所Prime市場上市。公司專營半導體製造所需的電子功能材料與高純度化學品，核心產品為光阻劑，即半導體製造不可或缺的感光性化學材料。據公司資料，2024年其半導體光阻劑的整體市占率約為24.7%，居全球之首；其中準分子雷射用的KrF光阻劑與汞燈用的g/i線光阻劑市占率皆為全球第一，極紫外光（EUV）光阻劑則居全球第二。

公司前身為1936年成立的東京應化研究所，1940年改組為株式會社。其產品涵蓋光阻劑、顯影液、稀釋液與剝離液等電子功能材料與高純度化學品。1968年起，公司開發並銷售日本首款國產半導體光阻劑，逐步確立其在感光性材料領域的地位。

自1980年代起，東京應化在日本國內陸續擴建宇都宮、阿蘇、御殿場與郡山等量產廠；1993年於美國俄勒岡州設立首座海外工廠，其後在台灣、韓國與中國等地布局生產與銷售據點。2025年12月期，公司合併營業收入約2,370億日圓、淨利約333億日圓。

半導體光阻劑市場高度集中於日本廠商，東京應化與JSR、信越化學工業等公司合計囊括全球大部分產能。2019年日本對韓國實施出口管制，光阻劑為受限材料之一；東京應化透過與三星物產合資的韓國子公司於當地生產EUV光阻劑因應，並持續擴大海外產能。

## 歷史

### 創立與早期

東京應化工業的前身為創辦人向井繁正於1936年4月在東京市品川區成立的「東京應化研究所」，1940年10月改組為「東京應化工業株式會社」。1962年，公司開始製造印刷電路板用光阻劑TPR，跨入感光性材料領域。

### 半導體光阻劑國產化

1968年，公司開始製造半導體用負型光阻劑OMR-81，並開始開發、銷售日本首款國產半導體光阻劑。1972年，公司開發出日本首款半導體用正型光阻劑OFPR-2。隨著積體電路微縮化推進，曝光所用的光源波長不斷縮短，公司亦相應開發對應更短波長的光阻劑：1995年開發出準分子雷射中KrF（氟化氪）雷射用的高解析度正型光阻劑TDUR系列，2001年再開發出ArF（氟化氬）雷射用的TARF-P系列。

公司於1986年7月在東京證券交易所市場第二部上市，1990年9月升至市場第一部；2022年4月東京證券交易所市場重組後，改列Prime市場。2000年，公司於舊川崎工場原址竣工新總部大樓並遷入，確立現今位於川崎市中原區的總部。

### 海外擴張與先進製程

1987年，公司於美國加州設立子公司奧卡美國（現TOK America），並於1993年5月在俄勒岡州希爾斯伯勒（Hillsboro）啟用首座海外工廠，生產i線半導體光阻劑與高純度化學品。其後公司分別於1998年設立台灣子公司、2012年於韓國設立合資公司，逐步建立跨國生產與供應網路。

進入2010年代後，半導體製程推進至EUV極紫外光微影世代，光阻劑成為先進晶片量產的關鍵材料之一。據東洋經濟報導，東京應化在對應EUV製程的光阻劑領域居於領先。為因應先進製程對光阻劑的需求，公司近年投入次世代2奈米製程所需材料的研發，並擴充韓國等地的產能。

公司近年亦調整事業布局與技術合作。2023年7月，公司將與台灣長春集團合資、生產半導體與顯示器用高純度化學品的中國子公司長春應化（常熟）的全部持股轉讓予長春集團，退出該合資事業。2024年6月，公司與新創企業Carbon Xtract締結共同開發協議，合作開發以氣體分離膜從大氣中捕集二氧化碳的直接空氣捕集（Direct Air Capture，DAC）技術，由東京應化負責分離膜的開發與量產。2025年2月，公司將位於德國柏林、專長感光性光阻與奈米壓印材料的micro resist technology收為全資子公司，以強化歐洲市場布局。2026年2月，公司宣布對英國Irresistible Materials進行策略性投資並共同開發，取得其多重觸發光阻（MTR）技術。

## 產品與技術

### 光阻劑

光阻劑是半導體製造不可或缺的感光性化學材料。製造晶片時，光阻劑先塗布於晶圓表面，再透過曝光將光罩上的電路圖案轉印至晶圓，並經顯影、蝕刻等步驟形成電路。隨著電路線寬持續微縮，曝光光源的波長必須越來越短才能印出更細的線路，因而依序發展出g線、i線（汞燈）、KrF與ArF準分子雷射，以及極紫外光（EUV）等不同世代的光阻劑。

東京應化的光阻劑產品涵蓋上述各個世代，包括g/i線光阻劑、KrF光阻劑、ArF光阻劑與EUV光阻劑，以及濕式蝕刻與深堀乾式蝕刻用的專用光阻劑。據公司資料，2024年其半導體光阻劑整體市占率約24.7%，居全球首位；分項中KrF光阻劑約32.4%、g/i線光阻劑約22.7%皆為全球第一，EUV光阻劑約28.0%居全球第二，ArF光阻劑約15.9%居全球第四。

EUV製程所用的光阻劑主要分為化學增幅型光阻劑（Chemically Amplified Resist，CAR）與金屬氧化物光阻劑（Metal Oxide Resist，MOR）兩種技術路線，東京應化與JSR主要供應化學增幅型的EUV光阻劑。由於EUV曝光波長極短、抵達晶圓的光子數遠少於既有的深紫外光（DUV）製程，光阻劑須精確調配光酸產生劑等成分，技術門檻甚高。2026年，公司對英國Irresistible Materials策略投資並共同開發，取得可同時對應低數值孔徑與高數值孔徑EUV的多重觸發光阻技術，作為化學增幅型與金屬氧化物光阻之外的補充。

### 高純度化學品

除光阻劑外，公司亦生產半導體製程所需的高純度化學藥品，包括顯影液與潤洗液、稀釋液（thinner）與剝離液（stripper），以及密著性提升材料、反射控制的多層膜材料等先進製程材料。這些產品運用公司在光阻劑領域累積的高純度化技術。

## 研究與開發

東京應化的研發以機能性高分子材料及其應用技術為核心，並將生成式人工智慧與5G帶動的先進電子材料列為重點領域，藉以強化其微細加工的核心技術。公司採行銷售工程師、製造技術人員與研發人員三位一體的研發體制；主要研發據點為位於神奈川縣寒川町的TOK技術革新中心（前身為1967年設立的相模工場），另在美國、台灣與韓國的子公司設有研發機能。2024年12月期，公司研發費用總額為14,519百萬日圓。

## 設施與廠區

### 日本國內

公司總部位於神奈川縣川崎市中原區。國內主要生產與研發據點包括設於神奈川縣高座郡寒川町的技術革新中心（含相模工場）、栃木縣宇都宮市的宇都宮工場（1981年）、熊本縣阿蘇市的阿蘇工場（1984年，以顯示器用光阻劑為主）、靜岡縣御殿場市的御殿場工場（1987年），以及福島縣郡山市的郡山工場（1994年，生產KrF與ArF高解析度光阻劑）。

### 海外

東京應化的海外據點包括美國的TOK America（1987年設立，俄勒岡州希爾斯伯勒廠1993年投產）、台灣的TOK Taiwan（1998年設立，總部設於新竹市、並於苗栗縣銅鑼鄉設廠）、與三星物產合資、2012年成立的韓國TOK Advanced Materials（廠房位於仁川廣域市松島），以及2002年起設於上海的中國據點。除生產基地外，公司在美國加州米爾皮塔斯與亞利桑那州鳳凰城設有銷售與技術支援據點，在德國柏林擁有專長微影材料的子公司micro resist technology，並於荷蘭與新加坡設有分公司以服務歐洲與東南亞市場。2025年8月，公司於韓國平澤市的新廠動工，投資約1,010億韓元興建高純度化學品與光阻劑製造設施，以擴充當地產能。

## 市場與競爭

半導體光阻劑市場長期由少數日本廠商主導。據市場研究機構集邦科技（TrendForce）2025年的資料，東京應化與JSR等日本廠商合計約占全球91%的市場。喬治城大學安全與新興技術中心（CSET）的供應鏈分析亦將東京應化與JSR、信越化學工業同列為全球主要的EUV光阻劑供應商。東京應化依2024年出貨量自陳其半導體光阻劑整體市占約24.7%、居全球之首；另據市場調查公司富士Chimera（Fuji Chimera）一份2023年報告所引的2022年數據，其整體市占約為26.1%。在EUV光阻劑方面，東京應化自陳居全球第二，並與JSR同為該類光阻劑的主要供應商。

公司的主要競爭對手包括日本的JSR、信越化學工業、住友化學與富士軟片等。其中JSR曾於2017年與2020年參與美國Inpria公司的募資，其後將其完全收購，藉以取得金屬氧化物光阻（MOR）技術。東京應化韓國新廠的主要客戶則包括三星電子與SK海力士。

2019年，日本對輸往韓國的數項半導體與顯示器材料實施出口管制，其中包括光阻劑、蝕刻氣體與聚醯亞胺，東京應化為光阻劑的主要供應商之一。為維持對韓國客戶的供應，東京應化與三星物產合資的TOK Advanced Materials自2020年起在仁川松島當地生產EUV光阻劑。

## 公司事務

東京應化採監查等委員會設置會社制，董事會設有數名社外取締役；代表取締役社長為種市順昭，自2019年起任職。

公司的營收以光阻劑與高純度化學品等電子材料為主，並以海外市場為主要銷售地，2025年12月期海外客戶銷售約占85%；在財務報告上，公司列為單一營運分部。公司營收於2020年代持續成長，合併營業收入由2020年12月期的117,585百萬日圓增至2025年12月期的237,029百萬日圓。2025年12月期，合併營業收入較前一年度成長17.9%，營業利益為47,386百萬日圓，淨利33,345百萬日圓；同期末總資產335,292百萬日圓，淨資產242,299百萬日圓，自有資本比率67.9%。以產品別觀之，公司2024年的電子功能材料營收以KrF光阻劑、含ArF與EUV光阻劑的先進材料，以及封裝製程材料為主要構成。截至2024年12月底，公司合併員工數為1,996人。

## 永續發展

東京應化以2050年達成範疇一與範疇二的碳中和為長期目標。公司於2024年2月制定中期目標，計劃將集團整體的二氧化碳排放量在2030年較2019年減少30%，以對齊《巴黎協定》的1.5°C目標。公司並就範疇一、範疇二與範疇三的溫室氣體排放進行盤查與揭露。

## 基本資料

- 日語原文：東京應化工業株式會社
- 說明：位於神奈川縣川崎市中原區中丸子的總部
- 公司類型：上市公司
- 股票代號：東證Prime：4186
- 產業：化學工業、半導體材料
- 成立：1936年（東京應化研究所）
- 創辦人：向井繁正
- 總部：神奈川縣川崎市
- 總部：日本
- 業務範圍：全球
- 代表人物：種市順昭（代表取締役社長）
- 產品：光阻劑、高純度化學品
- 營收：約2,370億日圓（2025年12月期）
- 息稅前利潤：約474億日圓（2025年12月期）
- 淨利潤：約333億日圓（2025年12月期）
- 總資產：約3,353億日圓（2025年12月）
- 資產淨值：約2,423億日圓（2025年12月）
- 員工人數：1,996名（2024年12月，合併）