东京应化工业

东京应化工业株式会社（东京応化工业株式会社，Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.，简称“TOK”）是一家总部位于日本神奈川县川崎市的化学公司，于东京证券交易所Prime市场上市。公司专营半导体制造所需的电子功能材料与高纯度化学品，核心产品为光阻剂，即半导体制造不可或缺的感光性化学材料。据公司资料，2024年其半导体光阻剂的整体市占率约为24.7%，居全球之首；其中准分子激光用的KrF光阻剂与汞灯用的g/i线光阻剂市占率皆为全球第一，极紫外光（EUV）光阻剂则居全球第二。

公司前身为1936年成立的东京应化研究所，1940年改组为株式会社。其产品涵盖光阻剂、显影液、稀释液与剥离液等电子功能材料与高纯度化学品。1968年起，公司开发并销售日本首款国产半导体光阻剂，逐步确立其在感光性材料领域的地位。

自1980年代起，东京应化在日本国内陆续扩建宇都宫、阿苏、御殿场与郡山等量产厂；1993年于美国俄勒冈州设立首座海外工厂，其后在台湾、韩国与中国等地布局生产与销售据点。2025年12月期，公司合并营业收入约2,370亿日圆、净利约333亿日圆。

半导体光阻剂市场高度集中于日本厂商，东京应化与JSR、信越化学工业等公司合计囊括全球大部分产能。2019年日本对韩国实施出口管制，光阻剂为受限材料之一；东京应化透过与三星物产合资的韩国子公司于当地生产EUV光阻剂因应，并持续扩大海外产能。

## 历史

### 创立与早期

东京应化工业的前身为创办人向井繁正于1936年4月在东京市品川区成立的“东京应化研究所”，1940年10月改组为“东京应化工业株式会社”。1962年，公司开始制造印刷电路板用光阻剂TPR，跨入感光性材料领域。

### 半导体光阻剂国产化

1968年，公司开始制造半导体用负型光阻剂OMR-81，并开始开发、销售日本首款国产半导体光阻剂。1972年，公司开发出日本首款半导体用正型光阻剂OFPR-2。随着积体电路微缩化推进，曝光所用的光源波长不断缩短，公司亦相应开发对应更短波长的光阻剂：1995年开发出准分子激光中KrF（氟化氪）激光用的高分辨率正型光阻剂TDUR系列，2001年再开发出ArF（氟化氩）激光用的TARF-P系列。

公司于1986年7月在东京证券交易所市场第二部上市，1990年9月升至市场第一部；2022年4月东京证券交易所市场重组后，改列Prime市场。2000年，公司于旧川崎工场原址竣工新总部大楼并迁入，确立现今位于川崎市中原区的总部。

### 海外扩张与先进制程

1987年，公司于美国加州设立子公司奥卡美国（现TOK America），并于1993年5月在俄勒冈州希尔斯伯勒（Hillsboro）启用首座海外工厂，生产i线半导体光阻剂与高纯度化学品。其后公司分别于1998年设立台湾子公司、2012年于韩国设立合资公司，逐步建立跨国生产与供应网络。

进入2010年代后，半导体制程推进至EUV极紫外光微影世代，光阻剂成为先进芯片量产的关键材料之一。据东洋经济报导，东京应化在对应EUV制程的光阻剂领域居于领先。为因应先进制程对光阻剂的需求，公司近年投入次世代2奈米制程所需材料的研发，并扩充韩国等地的产能。

公司近年亦调整事业布局与技术合作。2023年7月，公司将与台湾长春集团合资、生产半导体与显示器用高纯度化学品的中国子公司长春应化（常熟）的全部持股转让予长春集团，退出该合资事业。2024年6月，公司与新创企业Carbon Xtract缔结共同开发协议，合作开发以气体分离膜从大气中捕集二氧化碳的直接空气捕集（Direct Air Capture，DAC）技术，由东京应化负责分离膜的开发与量产。2025年2月，公司将位于德国柏林、专长感光性光阻与奈米压印材料的micro resist technology收为全资子公司，以强化欧洲市场布局。2026年2月，公司宣布对英国Irresistible Materials进行策略性投资并共同开发，取得其多重触发光阻（MTR）技术。

## 产品与技术

### 光阻剂

光阻剂是半导体制造不可或缺的感光性化学材料。制造芯片时，光阻剂先涂布于晶圆表面，再透过曝光将光罩上的电路图案转印至晶圆，并经显影、蚀刻等步骤形成电路。随着电路线宽持续微缩，曝光光源的波长必须越来越短才能印出更细的线路，因而依序发展出g线、i线（汞灯）、KrF与ArF准分子激光，以及极紫外光（EUV）等不同世代的光阻剂。

东京应化的光阻剂产品涵盖上述各个世代，包括g/i线光阻剂、KrF光阻剂、ArF光阻剂与EUV光阻剂，以及湿式蚀刻与深堀干式蚀刻用的专用光阻剂。据公司资料，2024年其半导体光阻剂整体市占率约24.7%，居全球首位；分项中KrF光阻剂约32.4%、g/i线光阻剂约22.7%皆为全球第一，EUV光阻剂约28.0%居全球第二，ArF光阻剂约15.9%居全球第四。

EUV制程所用的光阻剂主要分为化学增幅型光阻剂（Chemically Amplified Resist，CAR）与金属氧化物光阻剂（Metal Oxide Resist，MOR）两种技术路线，东京应化与JSR主要供应化学增幅型的EUV光阻剂。由于EUV曝光波长极短、抵达晶圆的光子数远少于既有的深紫外光（DUV）制程，光阻剂须精确调配光酸产生剂等成分，技术门槛甚高。2026年，公司对英国Irresistible Materials策略投资并共同开发，取得可同时对应低数值孔径与高数值孔径EUV的多重触发光阻技术，作为化学增幅型与金属氧化物光阻之外的补充。

### 高纯度化学品

除光阻剂外，公司亦生产半导体制程所需的高纯度化学药品，包括显影液与润洗液、稀释液（thinner）与剥离液（stripper），以及密著性提升材料、反射控制的多层膜材料等先进制程材料。这些产品运用公司在光阻剂领域累积的高纯度化技术。

## 研究与开发

东京应化的研发以机能性高分子材料及其应用技术为核心，并将生成式人工智能与5G带动的先进电子材料列为重点领域，藉以强化其微细加工的核心技术。公司采行销售工程师、制造技术人员与研发人员三位一体的研发体制；主要研发据点为位于神奈川县寒川町的TOK技术革新中心（前身为1967年设立的相模工场），另在美国、台湾与韩国的子公司设有研发机能。2024年12月期，公司研发费用总额为14,519百万日圆。

## 设施与厂区

### 日本国内

公司总部位于神奈川县川崎市中原区。国内主要生产与研发据点包括设于神奈川县高座郡寒川町的技术革新中心（含相模工场）、栃木县宇都宫市的宇都宫工场（1981年）、熊本县阿苏市的阿苏工场（1984年，以显示器用光阻剂为主）、静冈县御殿场市的御殿场工场（1987年），以及福岛县郡山市的郡山工场（1994年，生产KrF与ArF高分辨率光阻剂）。

### 海外

东京应化的海外据点包括美国的TOK America（1987年设立，俄勒冈州希尔斯伯勒厂1993年投产）、台湾的TOK Taiwan（1998年设立，总部设于新竹市、并于苗栗县铜锣乡设厂）、与三星物产合资、2012年成立的韩国TOK Advanced Materials（厂房位于仁川广域市松岛），以及2002年起设于上海的中国据点。除生产基地外，公司在美国加州米尔皮塔斯与亚利桑那州凤凰城设有销售与技术支援据点，在德国柏林拥有专长微影材料的子公司micro resist technology，并于荷兰与新加坡设有分公司以服务欧洲与东南亚市场。2025年8月，公司于韩国平泽市的新厂动工，投资约1,010亿韩元兴建高纯度化学品与光阻剂制造设施，以扩充当地产能。

## 市场与竞争

半导体光阻剂市场长期由少数日本厂商主导。据市场研究机构集邦科技（TrendForce）2025年的资料，东京应化与JSR等日本厂商合计约占全球91%的市场。乔治城大学安全与新兴技术中心（CSET）的供应链分析亦将东京应化与JSR、信越化学工业同列为全球主要的EUV光阻剂供应商。东京应化依2024年出货量自陈其半导体光阻剂整体市占约24.7%、居全球之首；另据市场调查公司富士Chimera（Fuji Chimera）一份2023年报告所引的2022年数据，其整体市占约为26.1%。在EUV光阻剂方面，东京应化自陈居全球第二，并与JSR同为该类光阻剂的主要供应商。

公司的主要竞争对手包括日本的JSR、信越化学工业、住友化学与富士软片等。其中JSR曾于2017年与2020年参与美国Inpria公司的募资，其后将其完全收购，藉以取得金属氧化物光阻（MOR）技术。东京应化韩国新厂的主要客户则包括三星电子与SK海力士。

2019年，日本对输往韩国的数项半导体与显示器材料实施出口管制，其中包括光阻剂、蚀刻气体与聚酰亚胺，东京应化为光阻剂的主要供应商之一。为维持对韩国客户的供应，东京应化与三星物产合资的TOK Advanced Materials自2020年起在仁川松岛当地生产EUV光阻剂。

## 公司事务

东京应化采监查等委员会设置会社制，董事会设有数名社外取缔役；代表取缔役社长为种市顺昭，自2019年起任职。

公司的营收以光阻剂与高纯度化学品等电子材料为主，并以海外市场为主要销售地，2025年12月期海外客户销售约占85%；在财务报告上，公司列为单一营运分部。公司营收于2020年代持续成长，合并营业收入由2020年12月期的117,585百万日圆增至2025年12月期的237,029百万日圆。2025年12月期，合并营业收入较前一年度成长17.9%，营业利益为47,386百万日圆，净利33,345百万日圆；同期末总资产335,292百万日圆，净资产242,299百万日圆，自有资本比率67.9%。以产品别观之，公司2024年的电子功能材料营收以KrF光阻剂、含ArF与EUV光阻剂的先进材料，以及封装制程材料为主要构成。截至2024年12月底，公司合并员工数为1,996人。

## 永续发展

东京应化以2050年达成范畴一与范畴二的碳中和为长期目标。公司于2024年2月制定中期目标，计划将集团整体的二氧化碳排放量在2030年较2019年减少30%，以对齐《巴黎协定》的1.5°C目标。公司并就范畴一、范畴二与范畴三的温室气体排放进行盘查与揭露。

## 基本资料

- 日语原文：东京应化工业株式会社
- 说明：位于神奈川县川崎市中原区中丸子的总部
- 公司类型：上市公司
- 股票代号：东证Prime：4186
- 产业：化学工业、半导体材料
- 成立：1936年（东京应化研究所）
- 创办人：向井繁正
- 总部：神奈川县川崎市
- 总部：日本
- 业务范围：全球
- 代表人物：种市顺昭（代表取缔役社长）
- 产品：光阻剂、高纯度化学品
- 营收：约2,370亿日圆（2025年12月期）
- 息税前利润：约474亿日圆（2025年12月期）
- 净利润：约333亿日圆（2025年12月期）
- 总资产：约3,353亿日圆（2025年12月）
- 资产净值：约2,423亿日圆（2025年12月）
- 员工人数：1,996名（2024年12月，合并）