艾司摩尔

艾司摩尔控股（ASML Holding N.V.，ASML意即“先进半导体材料微影”〔Advanced Semiconductor Materials Lithography〕）是一家总部位于荷兰费尔德霍芬的跨国公司，专门研发与制造用于生产积体电路的微影设备。艾司摩尔于1984年由荷兰的飞利浦与ASM国际合资成立，1988年由飞利浦全资持有，1995年于阿姆斯特丹与那斯达克两地挂牌上市。它是半导体产业规模最大的微影设备供应商，也是制造最先进芯片所需的极紫外光微影（EUV）设备的唯一供应商。其设备被用于几乎所有积体电路的制造，台积电、三星电子、英特尔、SK海力士、美光科技等主要晶圆代工厂与整合元件制造商（自行设计、自行生产芯片的公司）皆为其客户。

艾司摩尔的微影设备利用光学成像，将电路图案投射到涂有光阻的硅晶圆上；所用光的波长越短，可印制的电路元件就越小。其产品涵盖使用193奈米深紫外光的浸润式微影设备，以及使用波长更短、须以特殊方式产生的13.5奈米极紫外光的系统，后者是制造7奈米以下先进制程不可或缺的工具。其最新一代的高数值孔径（High-NA，即镜头聚光能力更强）极紫外光设备，单次曝光分辨率可达8奈米。不同于传统设备商，艾司摩尔自身仅负责设备的整合与组装，将逾10万个零组件外包给全球约5,000家一级供应商，是唯一能将这些零件整合为完整可运作系统的企业。其极紫外光设备被形容为“世界上最复杂的机器”，含逾10万个零件，售价最高逾4亿美元。

艾司摩尔成立初期历经产品失败与资金危机，直到1991年藉PAS 5500系列打开市场，并于2005年超越尼康成为全球最大的微影设备供应商。2012年，艾司摩尔推出客户共同投资计划，将部分股权售予英特尔、台积电与三星电子以分摊极紫外光的研发成本；历经逾20年开发，极紫外光技术终于在2010年代末进入量产。2025年，在人工智能带动的需求推升下，艾司摩尔净销售额达327亿欧元、净利96亿欧元，双双创下历年新高；其营收高度集中于台湾、韩国等东亚芯片制造重地，并于2026年接获SK海力士金额近70亿欧元的单笔最大订单。

艾司摩尔总部位于荷兰恩荷芬，当地也是其最大的研发、制造与组装基地，容纳逾半数员工。艾司摩尔在全球逾60个据点营运，员工来自143个国籍，总数约4.4万人。受人工智能带动的芯片需求推升，2026年6月，艾司摩尔市值一度达约6,740亿美元，成为欧洲史上市值最高的上市公司。随着全球对芯片技术的战略重视升高，美国与荷兰政府陆续对艾司摩尔向中国大陆销售技术的个案实施审查与限制，使其成为美中科技角力的焦点之一。也由于在芯片制造供应链中的独特地位，艾司摩尔被分析师形容为“你从未听过的最重要公司”，并被视为欧洲技术主权的象征。

## 历史

### 创立与早期挣扎（1984年–1990年）

艾司摩尔源自1970年代的荷兰电子公司飞利浦。1971年，飞利浦研究实验室（Natlab）的工程师提出一套被命名为“硅重复曝光机”（Silicon Repeater，SIRE）的设计构想，首部原型机SIRE I于1973年底完成。当时整个电子业在缩小元件尺寸的同时，难以兼顾精度并抑制污染与瑕疵，飞利浦遂运用自身在光学与精密机械领域的既有知识，开始研发微影设备的原型机。1980年代初，飞利浦评估完成该项开发尚需投入可观资金，但当时正力图缩减支出，因此至1984年4月1日，飞利浦将微影设备业务分拆出去，与另一家专营半导体设备供应的荷兰公司ASM国际共组合资企业，命名为“ASM Lithography”，即“艾司摩尔”，由天文学电浆物理博士出身的高贾特·斯密特（Gjalt Smit）出任首任总经理；飞利浦贡献技术（其PAS 2000步进机原型；步进机是把图案逐区曝光、再移到下一区的设备），ASM国际则出资并提供行销专业。

艾司摩尔起步艰难，最初由47名飞利浦员工转入，栖身于恩荷芬一座飞利浦办公室外的数栋木造小屋，由于缺乏足够的资本、时间与专业，无力推动垂直整合，合资公司选择将马达、光学元件等主要零组件外包给其他厂商，自身则集中资源于最终设备的组装与最佳化；这项决策也形塑了设备的特性，使其采用模组化设计与界定清晰的子系统。艾司摩尔于成立当年推出首款产品PAS 2000步进机，1986年再推出PAS 2500，并自此与德国光学企业蔡司展开长期合作。然而PAS 2000在商业与技术上皆告失败：该机在曝光时以油压而非电动马达移动晶圆，却有漏油的毛病，往后艾司摩尔的微影设备改用传统电动马达。到1988年，受半导体业景气下滑影响，股东ASM国际无力继续投入而于同年将其持有的50%合资股份全数出售给飞利浦，公司由飞利浦掌控。当时艾司摩尔由于资金消耗过快，一度命悬一线，后因高层亨克·博特（Henk Bodt）说服飞利浦执行长扬·提默作出最后一笔约3,000万荷兰盾的投资，才得以完成PAS 5500的开发。

1990年，飞利浦延揽威廉·马里斯 (网球)出任首席执行官，其首要任务是让艾司摩尔撑过1990年代初的景气低谷。1991年推出的PAS 5500很快成为艾司摩尔首个商业上的成功之作，这套被称为艾司摩尔“成名之作”、寿命最长的微影平台陆续涵盖i线、氟化氪（KrF）与氟化氩（ArF）等不同光源，这些光源的波长依序缩短，可印出越来越细的线路。相较于竞争对手尼康更为精密的同期设备，艾司摩尔的模组化设计让机台得以在现场快速维修，缩短停机时间并延长使用寿命；这项可维修性的优势，据称正是IBM舍日本同类产品而订购PAS 5500的关键，艾司摩尔并陆续签下英特尔等大客户。首套PAS 5500出货给美国IBM位于菲什基尔的厂房；全球最大内存制造商之一的美光科技则为早期重要客户，并一度是艾司摩尔最大客户。

1995年，艾司摩尔成为完全独立的上市公司，于阿姆斯特丹与那斯达克两地证券交易所挂牌，筹资约1.7亿美元；飞利浦在首次公开发行时出售半数持股，并在其后数年陆续减持，至2000年仅余约6.7%。PAS 5500系列的成功，使艾司摩尔与当时微影市场的领导者佳能和尼康展开激烈竞争。1997年，艾司摩尔开始研究转向极紫外光技术；两年后加入由英特尔等三家美国芯片商组成的联盟，以运用美国能源部的基础研究成果。

### 跃居龙头（2000年代）

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2000年，威廉·马里斯退休，前飞利浦主管道格·邓恩（Doug Dunn）接任首席执行官。2001年，艾司摩尔以约16亿美元的全股票交易收购陷入困境的美国微影设备制造商硅谷集团（Silicon Valley Group，SVG），使艾司摩尔跃居全球最大的微影设备供应商。然而受互联网泡沫破裂冲击，艾司摩尔的2001年营收由31亿欧元骤降至18.4亿欧元并转为亏损，全年先后分两波裁员，总数达约2,000人，约占总人力的23%。

2004年，艾瑞克·穆里斯（Eric Meurice）接任首席执行官。凭借双工作台TWINSCAN架构减少闲置时间，其设备每小时可生产的芯片数量超越任何竞争对手；这项竞争优势之强，使艾司摩尔即便以较高价格出售设备，仍能持续扩大市占。

这段期间最具决定性的转折来自浸润式微影之争。当时业界原本寄望以157奈米干式微影接替193奈米制程，却遭遇瓶颈：该波长须改用氟化钙晶体镜片，但此材料有一种无法靠制程消除的光学缺陷（本质双折射），使既有设计难以运作。2002年7月，时任台积电研发人员林本坚在SEMATECH主办的157奈米论坛向逾200名与会者主张，在镜头与晶圆间注入纯水的193奈米浸润式技术成功几率更高，更具延伸至未来节点的潜力，扭转业界技术走向。艾司摩尔抢先把握此一路线，于2004年推出首部浸润式微影系统TWINSCAN AT:1150i，其后再以TWINSCAN XT:1700i推出业界首部浸润量产机台。凭借率先量产优势，艾司摩尔在浸润市场开展首年（2006年）市占率即达72.4%，尼康为27.6%，佳能则尚未推出浸润机台。2006年12月，艾司摩尔宣布以2.7亿美元（约2.03亿欧元）收购计算式微影厂商博锐恩科技（Brion Technologies），其技术可模拟积体电路成像，并修正光罩（印有电路图样、供光线投影到晶圆的母版）上的图案以提升良率。据艾司摩尔向美国证券交易委员会提交的投资人简报，至2007年其全球微影设备市占率达65%，领先尼康的24%与佳能的11%。2008年经济大衰退爆发后，艾司摩尔销售大幅下滑、裁员约1,000人，但至2011年已复苏并缔造当年的营收新高。

### 共同投资计划与EUV量产（2010年代）

2010年代初，艾司摩尔大幅提高年度研发预算，从2010年不足5亿美元增至2015年的10亿美元，以完成新一代极紫外光设备的开发。为筹措庞大资金，艾司摩尔于2012年推出“客户共同投资计划”，将其23%的股份以38.5亿欧元出售给三大客户，并另获13.8亿欧元的研发资助：英特尔取得15%股权、台积电以8.38亿欧元取得5%、三星电子以5.03亿欧元取得3%。这些客户其后陆续退出持股，台积电于2015年、英特尔自2017年起、三星于2023年底（2024年初揭露）先后出清。

EUV研发长年最大的瓶颈在于光源功率。Cymer采用以二氧化碳激光轰击高速熔锡液滴、使其电浆化以发出极紫外光的技术，但其功率长期远低于量产所需：由于光源越亮、晶圆曝光越快，达到每小时125片晶圆的量产门槛需要250瓦，而2011年该光源仅能输出约十余瓦，距此尚远，艾司摩尔工程师当时坦言“各部件的运转速度都已达标，但我们的光还不够”。为将光源开发纳入内部以降低风险、加速整合，艾司摩尔于2012年10月宣布以19.5亿欧元的现金加股票交易收购Cymer，该交易于2013年5月完成。

这条研发之路一度不被看好。微影专家克里斯·麦克多次公开质疑EUV的前景，曾将其比作协和式客机：技术上虽令人惊艳，却永远无法在量产市场符合经济效益；他更于2009年与业界同行就EUV能否量产打赌，双方直至2015年方告和解。即便外界普遍存疑，技术长马丁·范登布林克（Martin van den Brink）仍主导艾司摩尔持续投入，将EUV视为延续摩尔定律的决定性赌注。

在量产化方面，艾司摩尔于2010年向三星出货首台预量产EUV系统NXE:3100，2013年出货首台量产系统NXE:3300B；随着光源功率逐步提升至量产所需的250瓦，EUV于2019年进入大量生产。2016年，艾司摩尔以新台币1,000亿元（约27.5亿欧元）收购台湾的汉微科（Hermes Microvision），跨入电子束晶圆与光罩检测市场；同年并以10亿欧元收购蔡司旗下半导体制造技术部门（Carl Zeiss SMT）24.9%股权，深化EUV光学合作。

### 人工智能热潮与地缘政治（2020年代）

2020年7月，艾司摩尔收购德国光学玻璃制造商柏林玻璃集团（Berliner Glas），约1,600名员工随之并入，该据点后称“艾司摩尔柏林”。2024年4月，克里斯多福·富凯接替届退的执行长彼得·温尼克与技术长范登布林克出任执行长；该交接早在2023年11月即由监事会宣布。

技术上，艾司摩尔于2020年代将次世代“高数值孔径”极紫外光微影推向商用。2023年底，首部高数值孔径系统EXE:5000装入逾250个木箱、以43个货柜运抵英特尔位于俄勒冈州希尔斯伯勒的研发据点，并于2024年4月完成装机；该机每台造价约3.5亿欧元（约3.8亿美元），远高于前代约1.7亿欧元的机种。2025年，艾司摩尔进一步出货首部供量产使用的机台EXE:5200B。

2020年代，受人工智能资料中心建置带动，艾司摩尔营收与订单迭创新高：2025年净销售额达327亿欧元，第四季净订单更达创纪录的132亿欧元。德语财经媒体称艾司摩尔为“AI热潮背后的隐形巨头”，指出“没有艾司摩尔，就没有NVIDIA的AI加速器、英特尔的现代处理器、台积电的芯片”。2025年9月，艾司摩尔以13亿欧元领投法国人工智能公司Mistral AI的C轮募资，取得约11%股份、成为其主要股东之一，此举被法、德、西语媒体普遍解读为强化欧洲数位主权的指标性投资。法语评论认为，此举“为欧洲在技术主权与强化人工智能能力上的雄心，标志着重要的一步”。2025年12月，路透社报导，中国大陆在前艾司摩尔工程师协助下，已于深圳秘密建造一台极紫外光设备原型机，预计于2028年至2030年间生产出可用的芯片，此事获多家媒体转述路透报导。2026年3月底，SK海力士向艾司摩尔下达金额69.13亿欧元（约80亿美元）、相当于约30台EUV系统的设备订单，为艾司摩尔有史以来公开的最大单笔订单，预定2027年底前交付。

## 产品与技术

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### 产品族谱

艾司摩尔制造的设备统称微影设备。所谓“微影”，就是以光把芯片的电路图案“印”到硅晶圆上的制程。其产品的演进主线，正是不断缩短波长、强化镜头的聚光能力：从1980年代的步进机，到2000年代的双工作台扫描机与浸润式系统，再到2010年代以后的极紫外光与高数值孔径系统，历经数个世代。各代代表机型如下：

世代｜代表机型｜光源（波长）｜分辨率｜推出时间

步进机｜PAS 2000、PAS 5500｜i线、氟化氪（248奈米）、氟化氩（193奈米）｜1984年起

双工作台浸润式深紫外光｜TWINSCAN NXT:2000i｜氟化氩浸润式（193奈米）｜40奈米｜2000年代起

极紫外光（数值孔径0.33）｜TWINSCAN NXE:3600D｜极紫外光（13.5奈米）｜13奈米｜2010年代起

高数值孔径极紫外光（数值孔径0.55）｜TWINSCAN EXE:5200B｜极紫外光（13.5奈米）｜8奈米｜2023年起

1986年问世的PAS 2500被芯片史料形容为“打造这家公司的系统”，2001年首度出货的双工作台机型TWINSCAN AT:750则开创了一片晶圆曝光、另一片同时对准的并行架构。

### 微影原理

这类微影设备在业界称为“扫描机”（scanner），运作时将图案经由光学成像投射到覆有一层感光材料（光阻）的硅晶圆上，此一程序在单一晶圆上重复数十次，逐层堆叠出芯片结构，其后光阻再经显影、蚀刻等步骤，形成实际的电子电路。能印出多细的线条，取决于两个关键，光的波长越短、镜头的数值孔径（即镜头收聚光线的能力）越大，可印制的元件就越小；这层关系即由瑞利公式（CD = k1·λ/NA，其中CD为可印出的线宽、λ为波长、NA为数值孔径、k1为制程系数）量化。前述TWINSCAN平台采用两组独立的晶圆台，让量测与曝光同时进行，大幅提升每小时可处理的晶圆数，此后成为艾司摩尔各代设备的共通架构。

### 深紫外光微影

深紫外光（DUV）微影是数十年来应用最广的技术，以波长248奈米的氟化氪（KrF）与193奈米的氟化氩（ArF）准分子激光为光源。为了用同一个193奈米波长印出更细的线路，工程师想出一招绕道：在镜头与晶圆之间注入一层纯水取代空气，藉水较高的折射率提高数值孔径与成像品质，这就是“浸润式”微影。该技术由林本坚在台积电任职期间提出并推动成熟；台积电并率先以艾司摩尔的浸润式微影设备导入量产，首个采用的制程节点为45奈米（制程节点的数字越小，代表电路越精密、芯片性能越好）。其代表机型TWINSCAN NXT:2000i采用1.35数值孔径的193奈米镜头，分辨率可达40奈米。在此之前，2008年推出的NXT:1950i已采用1.35数值孔径、达38奈米分辨率与每小时逾200片晶圆的产能，2015年的NXT:1980Di更将产能提升至每小时275片。

### 极紫外光微影

即便用上浸润式等技巧，193奈米的光终究有其极限；要再印出更小的线路，最根本的办法就是大幅缩短波长。极紫外光微影（EUV）便把波长一举压到13.5奈米，仅及深紫外光193奈米的约十四分之一，是制造最先进芯片不可或缺的技术，艾司摩尔在此市场近乎独占。其光源运作极为复杂：每秒约有5万颗直径约25微米的熔融锡液滴自产生器喷出，先以一道低强度激光脉冲压扁，再以高功率二氧化碳激光主脉冲将其汽化，产生温度高达近摄氏22万度、约为太阳表面40倍的电浆，从而发出极紫外光。

由于极紫外光会被空气与几乎所有材料吸收，整套系统必须在高真空中运作，并以反射光学取代传统透镜。光线由蔡司制造的反射镜反射成像；这些反射镜在玻璃基板上交替镀上多达约100层仅数个原子厚的钼与硅薄膜，每面镜的反射率仅约70%，光线通过整套光学系统后仅余不到2%。蔡司形容其为“世界上最精密的反射镜”，若放大到德国国土大小，最大的起伏（如楚格峰）也仅约0.1毫米高。光罩端也面临多重挑战：保护膜（pellicle）须耐受600至1,000度高温、光罩基板须近乎零缺陷；此外光阻剂在分辨率、线条边缘的平整度与感光度之间难以兼顾，这类随机性的良率问题业界称为“随机效应”。极紫外光微影历经逾20年开发，业界一度多次宣告其不可行，直到2018年前后才真正商业化。2009年，比利时的微电子研究中心（IMEC）曾以极紫外光微影原型机，制造出全球首批可运作的22奈米CMOS静态随机存取内存记忆单元。意大利数位媒体形容极紫外光微影是“未来芯片背后的欧洲技术”。

NXE系列极紫外光设备的数值孔径为0.33，可印制13奈米分辨率。其畅销机型TWINSCAN NXE:3600D每小时可处理约160片晶圆、售价高达2亿美元，运送需动用三架波音747。

NXE系列的量产化长年受制于光源功率：Cymer虽于2009年宣布75至100瓦的功率纪录，量产所需的250瓦则迟至2017年方告达成。极紫外光微影亦面临光罩基板须近乎零缺陷等难题，无缺陷基板被视为仅次于光源功率的关键挑战。NXE:3400B（2017年）每小时可处理逾125片晶圆，其后的NXE:3400C再提升至逾170片。光阻的剂量与随机缺陷亦是持续课题：每片晶圆每减少1毫焦耳的曝光剂量，每台扫描机每年可省下约百万美元，使剂量、分辨率与缺陷率的取舍成为量产经济的关键。

### 高数值孔径极紫外光微影

把波长压到13.5奈米后，EUV要再印出更小的线路，便轮到瑞利公式中的另一个变数，也就是数值孔径。新一代平台代号“High-NA”（高数值孔径）即把数值孔径由0.33提升至0.55，使单次曝光的分辨率推进到8奈米。为将更大角度的光成像，新系统采用“变形”（anamorphic）投影光学，在单一方向把缩小倍率加倍至8倍，代价是每次曝光能涵盖的面积（曝光场）缩小为一般EUV系统的一半。西班牙科技媒体形容这款最先进机型的复杂度“重量相当于两架空中客车A320，内含逾10万个零件、3,000条缆线与4万颗螺栓”。蔡司称其为High-NA系统打造的光学系统装载了“世界最精密的反射镜”。供研发用的首批EXE:5000设备已于2023年12月交付英特尔、2024年下半年交付台积电。2025年12月，英特尔安装了首套商用High-NA机型EXE:5200B，用于其次世代的14A制程，每套售价逾3亿欧元、每小时处理175片晶圆；台积电则因成本过高而暂缓导入，其资深副总裁张晓强表示“我喜欢High-NA EUV的能力，但我不喜欢它的标价”。

### 整体微影、量测与计算式微影

芯片并非把图案印上去就完工，印制前需以软件预先修正图样、印制后需量测检查并回馈校正，才能维持良率。艾司摩尔自2009年起提倡“整体微影”（Holistic Lithography）理念，将计算式微影（以软件预修图案）、晶圆微影（实际曝光）与制程控制三者整合，以最佳化生产良率。在量测方面，其YieldStar系统以绕射光学量测线宽、套刻精度（上下层电路对齐的准度）与侧壁角度，并将资料即时回馈给微影设备以调校制程；源自汉微科的电子束检测技术（如单束的eP5与多电子束系统）则提供晶圆与光罩缺陷检测，并为计算式微影模型提供精确的图案化资讯；其中eP5的像素达1奈米，而采25道电子束的eScan系统检测速度也较单束快约15倍。计算式微影产品则源自博锐恩科技的Tachyon平台，提供光学邻近修正与光源-光罩协同最佳化。

## 设施与厂区

艾司摩尔在全球逾60个据点营运，涵盖研发、制造、组装、客户支援与训练；其设备制造高度集中于荷兰、美国、德国与台湾，客户支援与维修据点则遍布主要芯片制造国；大体而言，整机在恩荷芬完成最终组装，光源、光学与机构组件等关键子系统则分由圣地亚哥、威尔顿、柏林等海外据点供应。

### 荷兰总部

全球总部暨最大基地位于恩荷芬的De Run园区，逾半数员工在此工作；艾司摩尔早于1985年即迁入恩荷芬，其最终设备组装亦于此进行。园区内的De Run 1000办公建筑群由四栋办公楼组成。承包商估计，园区内供微影设备组装的洁净室面积约达75,000平方米，并符合ISO 14644洁净室标准；2022年另落成占地30,000平方米的物流枢纽。为因应极紫外光与高数值孔径设备的产能需求，艾司摩尔持续在恩荷芬扩建洁净室。随着规模扩大，艾司摩尔另规划在恩荷芬近郊的智汇港工业园区（Brainport Industries Campus）兴建第二座大型园区，最终可容纳约20,000名员工，首批约5,000人预计于2028年进驻。

### 欧洲其他据点

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德国柏林厂（源自2020年并入的柏林玻璃集团，并购时约1,600名员工）位于诺伊克尔恩区的布里茨，研发制造晶圆台、晶圆夹、光罩夹头与反射镜块等关键组件；其员工数官方称逾1,700人，2026年地方媒体则报导约1,900人，并有一座27,000平方米的新厂房预计2028年完工。柏林据点自2023年起每年获艾司摩尔投资约1亿欧元并持续扩充人力。艾司摩尔另于德国德累斯顿设有约110名员工的据点，1998年设立、负责开发系统的分析与诊断软件并提供德国客户支援，埃尔朗根亦设有据点。在比利时，艾司摩尔与位于鲁汶的微电子研究中心（IMEC）维持逾30年的合作，并于2025年3月签署为期五年的策略伙伴协议，在IMEC的试产线上安装高数值孔径与标准极紫外光、浸润式深紫外光及量测设备，供2奈米以下制程研发。艾司摩尔另在爱尔兰梅努斯、英国拉纳克郡、法国克罗勒、意大利阿韦扎诺等邻近客户晶圆厂的地点设有办公室。

### 美洲

美国康乃狄克州威尔顿厂是艾司摩尔在美最大的研发与制造据点，其渊源可溯至1937年创立的光学仪器商珀金埃尔默。该公司微影部门于1990年售予硅谷集团，再随2001年的收购并入艾司摩尔；威尔顿专长尖端光学元件制造，并生产极紫外光设备的“顶部模组”运回恩荷芬组装，现有逾3,000名员工、其中约1,300人从事制造。2022年，艾司摩尔宣布在威尔顿投资2亿美元、两年内增聘约1,000名员工，此前已投入约1亿美元扩建洁净室、实验室与办公空间，康乃狄克州政府并曾提供最高约1,400万美元补助以留住该厂。加州圣地亚哥厂源自1986年由两名加州大学圣地亚哥分校物理博士创立的Cymer，该公司为准分子激光光源的先驱，其氟化氪光源在1990年代末曾占全球逾九成市占，2013年由艾司摩尔收购；该厂是深紫外光与极紫外光光源的研发制造中心，负责生产每秒供应5万颗熔锡液滴的液滴产生器。2021年，艾司摩尔在圣荷西启用硅谷新园区，员工逾875人，主攻计算式微影软件与电子束量测检测。艾司摩尔另在亚利桑那州钱德勒设有全球支援中心、在俄勒冈州希尔斯伯勒设有美国最大客户支援据点与训练中心。

### 亚洲

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台湾是艾司摩尔在亚洲的重要基地。其新竹总部于2018年底迁入台肥TFC ONE大楼，租用四个楼层、约4,000余坪。林口厂为智慧制造中心，负责经典机型翻新、YieldStar量测设备与光罩传输模组制造并设有培训中心；艾司摩尔自2023年起投资约新台币300亿元于林口新厂，2024年由工程公司洋基工程承揽约98亿新台币的统包工程，预计最快2026年启用，为艾司摩尔在台最大笔投资。台南厂承接汉微科团队，为电子束检测设备制造中心与极紫外光全球培训中心，艾司摩尔另在台中设有办公室。截至2026年，艾司摩尔在台员工逾4,500人（约占全球十分之一），台湾每年贡献约83亿欧元营收、约占全球四分之一；艾司摩尔并于2026年将当年在台招募计划上修至约1,000人。

韩国方面，艾司摩尔自1996年进入，2016年于华城的东滩设立韩国总部与技术支援中心。其华城园区于2022年11月动工、2025年11月启用，约1,500名员工，设有深紫外光与极紫外光的“再利用与维修”（R&R）设施及训练中心，后者每年提供逾百项课程予约2,000名受训者。此外，艾司摩尔与三星电子曾于2023年宣布合资1兆韩元（约7.6亿美元）在华城设立极紫外光研究中心，但该选址计划于2025年取消，改评估设于三星园区内。

在日本，艾司摩尔自1992年进入，以东京为总部，另在广岛、熊本、长崎等地设有多处办公室，当地业务以客户支援为核心。在中国大陆，艾司摩尔计划于2025年在北京开设“再利用与维修”中心；其亚洲维修据点分布于韩国、台湾与中国大陆三地。

## 供应链与合作伙伴

艾司摩尔自身不制造大多数零组件，而是依赖约5,000家一级供应商提供逾10万个零件。其中与德国蔡司的合作最为关键：两家公司自1997年起建立策略伙伴关系，蔡司旗下半导体制造技术部门（Carl Zeiss SMT）为艾司摩尔微影机提供高效能光学系统这一关键子系统，而德国的通快则提供曝光所需的激光，形成“蔡司光学、通快激光、艾司摩尔机台”的三方分工。2016年11月，艾司摩尔以10亿欧元收购Carl Zeiss SMT约24.9%股权，并承诺在未来六年提供约2.2亿欧元研发与约5.4亿欧元资本支出支援，主要投入蔡司位于奥伯科亨的总部。

历年的重大收购则多围绕价值链展开：除硅谷集团（2001）、博锐恩科技（2006）、Cymer（2012–2013）、汉微科（2016）与柏林玻璃（2020）外，2025年9月又入股法国人工智能公司Mistral AI。

在这套供应网中，德国通快提供驱动极紫外光电浆的高功率二氧化碳激光，每秒对熔锡液滴发射5万次脉冲；荷兰的VDL ETG为极紫外光光源制造真空腔体（vessel），是艾司摩尔最大供应商之一；荷兰应用科学研究组织（TNO）则在极紫外光污染控制上与艾司摩尔及蔡司合作逾20年。蔡司并表示，全球约八成的微影光学系统芯片，系以其与艾司摩尔的合作技术产出。

## 市场与竞争

### 主要客户

艾司摩尔的客户高度集中于少数先进芯片制造商：据CNBC报导，2021年台积电、三星与英特尔三大客户即合计约占其业务的84%；至2024年，最大单一客户仍占当年净销售额16.6%，四家各超过10%的客户合计约占53.8%。其中台积电长期被视为艾司摩尔最大客户，并拥有全球过半的已装机EUV设备；日经中文网报导，“一年才42台的EUV机，几乎全给了台积电”。三星电子亦曾于2023年与艾司摩尔宣布合资在华城设立EUV研究设施，惟选址计划其后生变。英特尔则为High-NA技术的先行者，率先安装商用机台。

### 区域市场

就地区分布而言，艾司摩尔营收高度集中于东亚芯片制造重镇。据其官方投资人简报，以系统净销售按出货地计，2024年中国大陆占41%、韩国21%、美国17%、台湾11%。其中中国大陆市场的占比随出口管制与客户拉货而剧烈波动：以系统销售计，中国大陆占比在管制生效前的拉货效应下大幅升高，2024年各季一度达约47%至49%，其后随拉货潮消退与管制趋紧，占比回落，至2026年第一季已降至19%，韩国则跃居最大市场、台湾居次。

### 竞争格局

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微影设备市场曾由日本厂商主导。尼康于1980年率先将商用步进机投入市场，1990年代尼康与佳能合计握有大半市占。艾司摩尔则凭借浸润式微影与双工作台架构后来居上：据产业分析机构统计，2001年尼康、佳能、艾司摩尔的微影设备出货市占分别约为41.6%、34.8%与22.4%，至2011年艾司摩尔已升至约57%，彻底逆转日本厂商长年的领先。日本经济新闻报导，2023年艾司摩尔的半导体制造设备（前段制程）市占已超越美商应用材料跃居第一，而尼康、佳能均先后退出尖端微影业务。至2020年代，市场分析机构对艾司摩尔整体微影设备市占的估计介于约83%至94%之间（差异源于以出货台数、营收或设备类别计算的口径不同），其在极紫外光设备市场则近乎独占。

面对艾司摩尔的垄断，落后的对手各自另辟蹊径。尼康有意以自制零件的成本优势夺回较低阶的ArF微影市场；佳能则转向奈米压印微影，其2024年交付的FPA-1200NZ2C可达相当于5奈米节点的14奈米线宽，售价据称远低于艾司摩尔的极紫外光设备。中国大陆则发展上海微电子（SMEE）等本土微影设备厂，并有与华为关联、据报寻求约28亿美元募资的新凯来（SiCarrier）力图突破封锁；惟战略暨国际研究中心评估，中国大陆设备商的全球市占仅约4%且限于i线设备，“只有艾司摩尔一家掌握了大规模的EUV技术”。

## 公司事务

### 公司治理

艾司摩尔采荷兰式双层董事会结构，由负责日常经营的管理委员会（Board of Management）与行使监督职能的监事会（Supervisory Board）组成；执行长为管理委员会唯一的主席，委员任期至多四年。现任总裁兼执行长为克里斯多福·富凯，于2024年4月就任。其余管理委员会成员包括财务长罗杰·达森（Roger Dassen）、营运长弗雷德里克·施奈德-莫努里（Frédéric Schneider-Maunoury）、采购长韦恩·艾伦（Wayne Allan）、客户长吉姆·孔门（Jim Koonmen）与技术长马可·彼得斯（Marco Pieters）。监事会至少每年集会四次，下设审计、薪酬、提名、技术与ESG五个委员会，所有成员均符合荷兰公司治理准则的独立性要求，主席自2023年起由尼尔斯·安德森（Nils Andersen）担任；2026年股东年会并确认财务长达森与营运长施奈德-莫努里续任、正式任命彼得斯为技术长。

在资本市场上，艾司摩尔股票于泛欧交易所阿姆斯特丹与那斯达克两地挂牌，并为欧洲斯托克50指数、纳斯达克100指数与AEX指数的成分股。截至2025年底，最大机构股东为贝莱德（持股6.83%）与资本研究与管理公司（5.09%）。

### 财务

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艾司摩尔的营收自2010年代后期起，因极紫外光设备放量、再加上2020年代的人工智能需求而快速成长，合并净销售额由2010年的45.1亿欧元增至2018年的109.4亿欧元，2025年达约327亿欧元、净利约96亿欧元。

就获利能力而言，艾司摩尔居半导体设备业前列，毛利率长年维持在五成上下；为维持技术领先，其研发投入约占年营收的一成四，2025年研发费用约47亿欧元。其营收除新机台销售外，既有装机的服务、维护与升级亦带来相当比重的经常性收入，使其在设备销售周期波动时仍能维持一定的营收基础。

伴随业绩扩张，艾司摩尔跻身欧洲市值最高的企业之列。2020年10月，其市值首度超越SAP，成为欧洲市值最高的科技公司。2024年6月，其市值约3,770亿欧元，超越LVMH成为欧洲市值第二高的上市公司，仅次于诺和诺德。2026年6月，受人工智能热潮推动，其市值一度达约6,740亿美元，超越诺和诺德于2024年所创的纪录，成为欧洲史上市值最高的上市公司。

### 永续发展

在减碳方面，艾司摩尔设定分阶段温室气体减排目标：自身营运（范畴一与范畴二）、商务差旅与员工通勤于2025年达到温室气体中和，供应链排放以2030年、产品使用排放以2040年达到中和为目标，其制造与建物用电已改采再生能源。艾司摩尔亦以延长设备寿命、零件再利用推动循环经济，提高返还零件的再利用率。在永续评比方面，艾司摩尔曾为道琼斯永续指数（DJSI World）成分股，于2024年12月的年度检讨中遭剔除，仅保留于范围较广的DJSI World Enlarged（标普道琼斯指数未公布个别公司的剔除原因）。

### 员工与企业文化

艾司摩尔是荷兰“智汇港”（Brainport Eindhoven）高科技聚落的核心企业，当地被视为荷兰的“硅谷”。其员工规模自1984年的数十名成长至荷兰境内逾2万人；由于高度仰赖全球技术人才，恩荷芬居民中约四分之一为外籍人士。恩荷芬市长戴塞布隆称，艾司摩尔每聘用一名高学历知识工作者，即为三名中等职业教育程度者创造就业。艾司摩尔并与恩荷芬理工大学合作，十年间投入8,000万欧元支持近百名博士生的研究，校方校刊称其为“与产业伙伴有史以来最大的协议”。截至2024年底，艾司摩尔员工约达44,027人。

2024年初，围绕荷兰拟收紧外籍人才税务优惠（30%规定）与大学英语授课等议题，这家将年营收约18%投入研发的企业一度释出讯息，可能将部分业务移往海外，荷兰媒体视之为对当地科技业的警讯。时任执行长温尼克表示：“我们比较想在这里（荷兰）做。但如果这里不再行得通，我们就会到别的地方去做”。荷兰政府于2024年3月推出投入25.1亿欧元的“贝多芬计划”（Project Beethoven），用于人才教育、基础建设与住房，前提是艾司摩尔须将法定、税务与实际总部留在荷兰并持续投资；时任经济事务大臣米基·阿德里安森斯形容“艾司摩尔是我们的梅西”。在社区参与上，艾司摩尔自2019年起与飞利浦、VDL集团、Jumbo超市等企业以“智汇港恩荷芬”名义共同赞助PSV足球俱乐部，自2022年起冠名赞助恩荷芬马拉松。在地方公益上，艾司摩尔与Trees for All合作造林，并捐助智汇港地区的食物银行等公益对象。

### 荣誉与奖项

艾司摩尔曾获多项产业与创新奖项。2018年，电机电子工程师学会（IEEE）将该年度Spectrum新兴科技奖颁予艾司摩尔，以表彰其极紫外光微影系统。同年，艾司摩尔的瓦迪姆·巴尼内（Vadim Banine）与蔡司的埃里克·卢普斯特拉（Erik Loopstra）以在极紫外光微影上的发明，共同获得欧洲专利局颁发的欧洲发明家奖“大众奖”（Popular Prize）。2019年，艾司摩尔的马丁·范登布林克获颁微电子研究中心终身创新奖。2020年，艾司摩尔因在极紫外光微影上的协作做法，于SEMICON West微电子会议获颁SEMI美洲奖。

## 出口管制与地缘政治

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因掌握尖端微影技术，艾司摩尔长期处于美中科技角力的核心。自2018年起，川普政府施压荷兰，2019年起荷兰不再续发艾司摩尔向中国大陆出口极紫外光设备的许可，使一台价值约1.5亿美元的机台始终未能出货。2022年10月，美国工业安全局（BIS）公布新规，管制16/14奈米以下逻辑、18奈米以下DRAM与128层以上NAND相关设备输往中国大陆。

2023年3月，荷兰政府宣布管制最先进的浸润式深紫外光设备出口，须逐案申请许可，相关规定于9月生效。其后管制范围多次扩大：2024年9月，荷兰政府将NXT:1970i与1980i两款设备的出口管制权从美国收回、改由自身核发许可，自当年9月7日生效，荷兰政府并强调此系基于国家安全考量主动收回管辖；2025年1月，荷兰再收紧管制，部长克列弗强调“我们认为，掌控谁能取得何种技术非常重要……这并非出口禁令”。2026年，美国国会更酝酿MATCH法案，拟禁止深紫外光浸润式设备输往中国大陆并限制既有设备的维护服务。前执行长温尼克曾批评相关讨论“不是基于事实、内容或数据，而是基于意识形态”，并称中国大陆即使拿不到那些设备也能自行研发，物理定律在两地并无不同。荷兰语媒体报导，在禁令生效前，中国大陆客户曾大举“恐慌式”抢购，使中国大陆占艾司摩尔营收比重在2023年内由8%一路升至46%。

出口管制屡屡冲击艾司摩尔股价。2024年10月，艾司摩尔提早一日公布财报，当日股价暴跌16%、市值单日蒸发约492亿欧元。台湾国防安全研究院引述台北方面看法指出，由于相关管制主要针对美国设计、台湾代工的高效运算芯片，对身为晶圆代工龙头的台湾影响相对较小。中央社报导，艾司摩尔估计出口管制使中国大陆的芯片制造技术落后西方约10至15年。

正因如此，艾司摩尔虽为公众所较少熟悉，却被广泛视为全球科技供应链中不可或缺的一环。投资银行Evercore ISI的分析师C·J·缪斯（C. J. Muse）形容艾司摩尔是“你从未听过的最重要公司”；IBM资深副总裁达里奥·吉尔则称其极紫外光设备是“人类所造最复杂的机器”。《芯片战争》作者克里斯·米勒写道，艾司摩尔的极紫外光设备“是史上最昂贵的量产机台，复杂到没有艾司摩尔人员长期驻场的广泛训练就无法使用”，并指EUV的制造“不是被全球化，而是被垄断；由单一公司管理的单一供应链将主宰微影的未来”。彭博新闻社指出，艾司摩尔“实际上掌握了生产现代生活一切核心的关键设备市场”，且“实质上被当作美国国家安全的关键基础设施”对待。意大利智库国际政治研究所（ISPI）认为，欧洲半导体战略已“不再谈完全自给自足，而是透过控制供应链中特定关键节点，成为技术上不可或缺”，艾司摩尔“几乎垄断EUV设备市场”正是此一定位的体现。在欧洲，艾司摩尔被视为技术主权的象征：意大利学者形容它是欧洲在半导体领域“保有的根本优势”，西语媒体则称其为欧洲技术主权计划的“矛头”；2026年6月欧盟提出技术主权方案与《芯片法案2.0》时，更被指为全球供应链中最重要的欧洲企业。

## 争议

艾司摩尔曾卷入多起与中国大陆有关的智慧财产争议。2015年，艾司摩尔发现位于硅谷、源自博锐恩部门的软件子公司有前员工窃取机密；2018年加州法院初判竞争对手XTAL须赔偿2.23亿美元，2019年终局判决金额提高至8.45亿美元，惟XTAL已破产。据彭博报导，前艾司摩尔工程师于宗昌于2014年间隔一个月先后创立XTAL与中国大陆的东方晶源两家公司，其试图取得艾司摩尔的技术并转移至中国大陆。2023年2月，艾司摩尔在年报中表示一名中国大陆前员工未经授权挪用专有技术资料，并可能违反出口管制；荷兰《新鹿特丹报》其后报导，该名员工离职后转往遭美国制裁的华为任职。

在专利方面，艾司摩尔与日本对手尼康曾爆发跨国专利诉讼战。2001年12月，尼康指控艾司摩尔及其光学伙伴蔡司侵犯多项微影专利，分别向美国国际贸易委员会（ITC）与加州联邦法院提告，艾司摩尔随后于2002年提出反诉；三方于2004年达成专利交叉授权和解，由艾司摩尔与蔡司合计支付尼康1.45亿美元。双方的互不兴讼期届满后，尼康于2017年再就浸润式微影技术在荷兰、德国、日本与美国发动逾30起专利诉讼，艾司摩尔与蔡司亦提出反诉；三方最终于2019年1月签署全面和解与交叉授权协议，由艾司摩尔与蔡司支付尼康1.5亿欧元，并就浸润式微影设备的销售额互付0.8%、为期10年的权利金。

劳资关系方面，艾司摩尔于2026年1月宣布重组，计划精简管理阶层、裁减约1,700个职位（约占全球员工3.8%），其中荷兰1,400个、美国威尔顿300个。尽管公司2025年缔造创纪录获利，工会仍强烈反对。2026年3月24日，逾1,000名员工于费尔德霍芬总部发动午间罢工。荷兰最大工会FNV的劳资事务负责人雷尼尔斯（Peter Reniers）称，公司坐拥2025年96亿欧元净利与未来三年120亿欧元的股票回购计划，有足够的时间与资源避免强制裁员。2026年5月，劳资双方（含FNV、CNV、De Unie与VHP2四家工会）达成“社会计划”，改以再培训与内部转调缩减强制裁员的规模。

## 基本资料

- 日语原文：艾司摩尔控股
- 原文名：ASML Holding N.V.
- 说明：位于恩荷芬的艾司摩尔总部
- 公司类型：公众公司
- 股票代号：泛欧交易所阿姆斯特丹：ASML、那斯达克：ASML、AEX指数成分股、欧洲斯托克50指数成分股、纳斯达克100指数成分股
- 产业：半导体产业
- 产品：半导体微影设备
- 成立：1984年4月1日（合资企业）、1988年（独立公司）
- 创办人：飞利浦、ASM国际
- 总部：荷兰恩荷芬
- 代表人物：克里斯多福·富凯（执行长）、罗杰·达森（财务长）、尼尔斯·安德森（监事会主席）
- 营收：327亿欧元（2025年）
- 息税前利润：113亿欧元（2025年）
- 净利润：96亿欧元（2025年）
- 总资产：506亿欧元（2025年）
- 资产净值：196亿欧元（2025年）
- 所有权者：贝莱德（6.83%）、资本研究与管理公司（5.09%）（2025年底）
- 员工人数：逾44,000人（2025年）
- 子公司：Cymer、艾司摩尔柏林、汉微科