江苏省高级人民法院
民 事 判 决 书
（2011）苏知民再终字第0001号
申请再审人（一审被告、二审上诉人）：爱蓝天高新技术材料（大连）有限公司［原名英可高新技术材料（大连）有限公司］，住所地辽宁省大连市大连保税区111B-6号。
法定代表人：颜毅，该公司董事长。
委托代理人：刘永全、蒋洪义，北京市联德律师事务所律师。
被申请人（一审原告、二审被上诉人）：湖南科力远新能源股份有限公司，住所地湖南省长沙市经济技术开发区桐梓西路348号。
法定代表人：钟发平，该公司董事长。
委托代理人：王瑞明，北京市泽和律师事务所律师。
委托代理人：唐铁军，北京北翔知识产权代理有限公司专利代理人。
原审被告：湖南凯丰新能源有限公司，住所地湖南省长沙市经济技术开发区寿昌路1号。
法定代表人：武卫，该公司总经理。
申请再审人爱蓝天高新技术材料（大连）有限公司（以下简称爱蓝天大连公司）与被申请人湖南科力远新能源股份有限公司（以下简称科力远公司）、原审被告湖南凯丰新能源有限公司（以下简称凯丰公司）侵犯发明专利权纠纷一案，不服湖南省高级人民法院（2010）湘高法民三终字第1号民事判决，向最高人民法院申请再审。最高人民法院于2011年4月14日作出（2011）民申字第1373号民事裁定，指定本院再审本案。本院依法组成合议庭，于2011年10月26日、2012年3月14日公开开庭审理了本案。爱蓝天大连公司委托代理人刘永全、蒋洪义，科力远公司委托代理人王瑞明、唐铁军到庭参加诉讼。凯丰公司经传票传唤未到庭，本院依法缺席审理。爱蓝天大连公司专家辅助人吴锦雷，科力远公司专家辅助人贺跃辉、谭晓华，法庭专家辅助人黄晓华、梅天庆、宋风麒参加了2011年10月26日的庭审并发表技术意见。本案现已审理终结。
2008年11月3日，一审原告科力远公司起诉至湖南省长沙市中级人民法院称，其合法拥有“一种海绵状泡沫镍的制备方法”发明专利权，爱蓝天大连公司未经许可，为生产经营目的长时间、大规模地使用涉案专利方法生产泡沫镍产品并在国内外大量销售，侵犯其发明专利权。凯丰公司未经许可，为生产经营目的，从爱蓝天大连公司处直接购买依照专利方法直接获得的产品并生产镍氢电池，亦侵犯其发明专利权。请求判令爱蓝天大连公司、凯丰公司立即停止侵权；爱蓝天大连公司赔偿其经济损失4990万元；爱蓝天大连公司、凯丰公司承担全部诉讼费用。爱蓝天大连公司答辩称，其已就涉案专利提出无效宣告请求，本案应予中止；其生产泡沫镍产品的方法未落入涉案发明专利权的保护范围；科力远公司要求赔偿4990万元无事实和法律依据。凯丰公司答辩称，其能够提供所使用的泡沫镍产品的合法来源，且对该产品或生产该产品的方法是否侵权并不知情，不应承担赔偿责任。
湖南省长沙市中级人民法院一审查明：
1995年3月11日，吉林大学申请了“一种海绵状泡沫镍的制备方法”发明专利，专利申请号为95102640.2。该发明专利公开日为1995年10月11日，授权日为1998年9月12日。ZL95102640.2号发明专利（以下简称涉案专利）的专利权人变更情况为：2002年3月28日变更为石殿普、张丽芳、李文明；2003年3月19日变更为沈阳天润化工有限公司（以下简称天润公司）；2007年6月1日变更为长沙力元新材料股份有限公司（以下简称长沙力元公司）；2008年7月16日，长沙力元公司更名为科力远公司，2008年8月15日涉案专利的专利权人变更为科力远公司。涉案专利权利要求1记载的内容为：一种海绵状泡沫镍的制备方法，使用经过粗化的聚醚聚胺酯作基底，制作电镀用阴极；经镀镍，水洗干燥等后处理过程，制备出海绵状泡沫镍，所说的镀镍是在含镍离子的电镀液中进行，时间为（40～50分钟）；本发明的特征在于所说的制作电镀用阴极是用磁控溅射的方法进行的，在镀膜机中，以纯镍为靶，在氩气气氛中，控制电流密度在（0.1～1.5）×10-2A／cm2范围，控制溅射时间在（20～100）S，两电极间距离在（10～30）cm之间，溅射前先抽真空，真空度为（0.8～3.5）×10-5毫米汞柱，充入氩气后真空度在（2～3.5）×10-4毫米汞柱；通电后，在基底表面和孔隙内生长镍，形成含金属镍的电镀用阴极；所说的后处理是在（800～900）℃温度下保温1小时，烧掉聚醚聚胺酯基底。
在涉案专利说明书中对本发明的背景技术、发明目的、采用的技术手段进行了以下介绍：①海绵状泡沫镍是由金属镍构成的有许多较小孔隙的一片镍网板。②已有的海绵状泡沫镍的制备方法，主要包括基底粗化，制作电镀用阴极（泡沫金属化），镀镍，后处理等过程；与本发明最接近的现有技术是申请号为93200510.1、公开号为0558142的欧洲专利，该现有技术公开了以阴极溅射法对聚氨酯等有机泡沫基体镀覆导电金属制作电镀用阴极，再经电镀制得金属泡沫；在电镀中，以镍为镀液，并加具有光亮剂性能的化合物。③本发明的目的在于改进已有技术的制备工艺过程，以克服已有技术的不足，制备出大面积的均匀的纯度高的海绵状泡沫镍，并且基底不变形，提高成品率。④本发明的海绵状泡沫镍制备方法，其主要过程包括：基底粗化或选用粗化过的聚醚聚胺酯作基底，用磁控溅射方法制作电镀用阴极、镀镍、热处理等。基底粗化过程与已有技术是相同的，也可直接使用经过粗化的聚醚聚胺酯作基底制作电镀用阴极。⑤所说的后处理是热处理，即是在（800～900）℃温度下保温1小时，烧掉聚醚聚胺酯基底而成为海绵状泡沫镍。
涉案专利在申请阶段所公开的说明书中对本发明的背景技术、发明目的、采用的技术手段均进行了介绍。在该公开说明书中有以下内容的描述：①海绵状泡沫镍是由金属镍构成的有许多较小孔隙的一片镍网板。②已有的海绵状泡沫镍的制备方法，主要包括基底粗化、制作电镀用阴极、镀镍、热处理等过程。其中基底粗化是选用聚醚聚胺酯作基底，通过粗化使其孔隙变大，增加表面粗糙程度；其中的制作电镀用阴极是用导电胶方法制作；将制作好的电镀用阴极装夹放入含镍离子的电镀液中，对浸有水溶性的导电胶的基底通电镀镍，镀镍时间约（40～50分钟）；热处理过程是将镀镍后的基底水洗干燥后，在（800～900）℃温度下保温1小时，烧去聚醚聚胺酯；上述过程制备的海绵状泡沫镍，只能制备出小块的海绵状泡沫镍，且镀层不均匀。③本发明的目的在于改进已有技术的制备工艺过程，以克服已有技术的不足，制备出大面积的均匀的纯度高的海绵状泡沫镍，并减少电镀液的损耗和对环境的污染。④本发明的海绵状泡沫镍制备方法，其主要过程包括：基底粗化或选用粗化过的聚醚聚胺酯作基底，用磁控溅射方法制作电镀用阴极、镀镍、热处理等。基底粗化过程与已有技术是相同的，也可直接使用经过粗化的聚醚聚胺酯作基底制作电镀用阴极。⑤本发明可以制备大块的海绵状泡沫镍，每块面积可达1m2以上，且整块是连续的。
1998年1月1日，国家专利局对涉案专利申请作出第一次审查意见通知书，1998年4月14日，专利申请人根据专利局的审查意见进行了答复。在专利申请人的意见陈述书中，引用的对比文献系审查意见通知书所列的对比文献，专利申请人对本发明的创造性进行了如下阐述：本发明跟对比文献比较，其创造性体现在如下几方面：首先是在诸多的泡沫金属化制作电镀阴极方法中，优选了最佳的磁控溅射的方法；其次是总结出了磁控溅射的工艺条件，最后是热处理方法。并称与对比文献相比，本发明权利要求的重点是电镀用阴极的制备方法，且电镀用阴极采用的磁控溅射法可以制成金属化的多孔平板形泡沫，也可以制成卷材。
2003年11月19日，爱蓝天大连公司成立，其经营范围为发泡镍制造、销售，新材料研发，技术咨询，售后服务，国际贸易，该公司的外资投资方为英可亚洲控股有限公司、韩国镍业公司。
2007年5月，在深圳举办的CVRDInco公司第二届（中国）能源材料研讨会上，爱蓝天大连公司孙国江总经理对其公司生产泡沫镍的情况进行了介绍，其会议材料CVRDInco大连公司“工艺路线”显示，其生产泡沫镍的工艺包括PVD、电镀、热处理、裁剪四个步骤。爱蓝天大连公司生产了海绵状泡沫镍产品，在其生产泡沫镍的PVD真空镀工序中，使用“IMG-1000型真空磁控溅射镀膜机”，使用的基材是聚酯聚氨酯软泡沫，如INOAC公司的MF-45LE型软泡沫，BRIDGESTONE公司的HHWR-46型软泡沫。对基材进行镀膜的真空磁控溅射镀膜机内基材两侧对称平行设置一对上下错位相向的镍靶，形状为长方形，镍靶长145cm，镍靶宽为25.1cm，使用的靶材为纯镍，两镍靶上靶的上沿和下靶的下沿之间的垂直距离为850mm，两镍靶之间的垂直距离为25.5cm，基材在上下胶辊间的距离为1570mm。镀膜电流为10～30A，镀膜速度为0.4～0.9m／min，本底真空度为≤2.0×10-2Pa；工作真空度为（2.0～2.5）×10-1Pa。具体操作时的工艺参数为：基材厚度分别是1.7mm、1.71mm、1.73mm，阴极镍靶镀膜电流分别为26A、25A，镀膜速度为0.8m／min，起靶前真空度2.0×10-2Pa，选择氩气气氛，工作真空度为2.1×10-1Pa、2.2×10-1Pa、2.3×10-1Pa、2.5×10-1Pa。镀膜后基材在电镀工序中完成镍的沉积，所得产品具有不同面密度。该工序预镀时间16分22秒53，主镀时间52分40秒。对电镀后产品经过水洗干燥后送至热处理工序进行处理。热处理工艺中，烧结焚烧炉长度是6.7米，氧化处理温度为（400～650）℃，烧结还原炉长度是6.0米，还原段炉温（820～950）±20℃，走速为25米／小时。
2007年至2008年间，凯丰公司从爱蓝天大连公司购进“英可泡沫镍”，并使用其生产电池。
爱蓝天大连公司2006年至2008年的财务报表记载：该公司2006年11月产品销售收入24762099.21元、产品销售毛利4160736.27元、产品销售利润2824475.52元；2006年12月产品销售收入15368228.46元、产品销售毛利－799406.68元，产品销售利润-2919588.27元。2007年全年的产品销售收入347806114.8元、产品销售毛利24903085.82元、产品销售利润15043725.96元。2008年1月至10月31日期间的产品销售收入189796804.1元、产品销售毛利19746497.8元、产品销售利润14865584.75元。以上2006年11月至2008年10月的产品销售收入共为577733246.57元、产品销售毛利共为48010913.21元、产品销售利润共为29814197.96元，且从该公司的财务报表中可知，产品销售毛利系从产品销售收入中减去了产品销售成本后的余额，而产品销售利润系从产品销售毛利中扣除了销售费用、管理费用、财务费用后的余额。
2007年4月，长沙力元公司与案外人天润公司签署一份《专利转让与合作合同》。该合同第一条约定：“本合同项下所指目标专利分别是：1、《一种海绵状泡沫镍的制备方法》，专利号ZL95102640.2；2、《泡沫金属化的连续进料生产装置》，专利号ZL98219558.3”，其中第1项目标专利即本案涉案专利；第二条约定：“乙方（即天润公司）同意将本合同项下的两项目标专利的所有权以人民币260万元转让给甲方（即长沙力元公司）。乙方保证对该两项目标专利的所有权是合法有效和完整的”；第三条约定：“乙方同意将转让生效前所拥有的基于目标专利所产生的权利和利益一并转让给甲方”；第四条约定：“乙方保证与目标专利有关的权益方广西梧州三和新材料科技有限公司（以下简称三和公司）放弃对本合同项下目标专利的权属要求，以确保本合同所述的目标专利转让合法有效”；第五条约定了甲方与三和公司另行签订专利排他性使用许可合同，且许可合同的效力是本合同成立并生效的前提条件；第十五条约定，本合同以双方正式签署并在甲方支付第一批转让款之日起生效。合同中还对转让金额及支付时间进行了约定，该《专利转让与合作合同》上加盖有甲乙双方的单位公章，且天润公司签字代表是穆俊江。长沙力元公司与天润公司进行专利转让时，还签署了一份《专利转让协议》，双方以该份协议到国家知识产权局进行备案。在该份协议中，双方约定：涉案专利的转让金额是130万元，天润公司同意将转让生效前所拥有的基于目标专利所产生的权利和利益一并转让给长沙力元公司。2007年4月29日，长沙力元公司与案外人三和公司签署《专利实施许可合同》。其主要内容为：长沙力元公司同意无偿授予三和公司在国内对包括涉案专利在内的两项专利的排它性使用许可权。
2007年5月10日，长沙力元公司向天润公司电汇50万元专利转让款；2007年5月29日，天润公司向长沙力元公司出具一张项目名称为“转让费”，金额为“伍拾万元整”的发票。经向天润公司调查了解到：天润公司与长沙力元公司签订的《专利转让与合作合同》已经生效并履行，且天润公司承认在该合同中约定的“基于目标专利所产生的权利和利益”包括其作为专利权人期间追究侵权行为人责任的权利。代表天润公司签署该份《专利转让与合作合同》的是其公司总经理穆俊江，穆俊江现在还是三和公司法定代表人，并称三和公司对涉案专利不享有任何权属权利。
2009年2月20日，案外人常德力元新材料有限责任公司（以下简称常德力元公司）向湖南省知识产权局提交一份《专利纠纷调解请求书》，请求裁决请求人为目标专利即“一种海绵状泡沫镍的制备方法”的共有权人，并要求被请求人科力远公司依约到国家知识产权局办理专利所有权人变更手续。
2003年4月8日，案外人金昌普公司与天润公司签订《专利技术合作合同》，双方鉴于：天润公司拥有的两项用磁控溅射方法生产泡沫镍的专利以及金昌普公司是目前国内唯一采用磁控溅射工艺生产泡沫镍的厂家并申请了该工艺的专利，两公司达成了合作事项。双方还约定：双方有义务利用各种方式禁止专利技术的外流，并承诺不得向任何第三方转让该专利技术。2007年4月16日，天润公司向金昌普公司发出“关于解除《专利技术合作合同》通知”，天润公司以金昌普公司已将该合同中所指专利技术转让给英可高新技术材料（沈阳）有限公司，且该违约行为已经法院认定，违反了合同约定为由，通知解除与金昌普公司之间的《专利技术合作合同》。天润公司于2007年4月16日向金昌普公司送达了该通知。
《沈阳工业大学学报》1991年12月版文献《高孔隙度金属－泡沫镍的研制》一文记载：泡沫镍完全保持着泡沫树脂的结构特征；泡沫镍的孔径大小和分布，原则上都是由泡沫树脂所决定；不同孔径泡沫镍的生产，应从原始骨架材料选用上解决；聚酯型和聚醚型同为制造泡沫镍的基材。根据1989年我国轻工业部批准的《软质聚氨酯泡沫塑料》国家标准，聚醚型与聚酯型聚氨酯在表观密度、拉伸强度、伸长率等物理机械性能指标上有不同。根据中国有色金属工业总公司期刊《稀有金属》1997年第6期中文献《泡沫镍制备方法》的介绍，在我国泡沫塑料生产厂均未制定出泡沫塑料基体孔径的大小和开孔率等参数的考核指标，也就是说，国内还没有为制备泡沫镍用泡沫塑料基体的专业生产厂家。而根据2001年7月发表于《电镀与精饰》期刊上的“用电沉积方法制备泡沫镍材料”一文的介绍，泡沫镍性能直接影响电池的性能，泡沫镍技术指标中相当一部分取决于泡沫基体材料……泡沫基体材料选择考虑以下几个参数：厚度……孔径……孔率……通孔率。而依据我国《电池用泡沫镍》（国家标准），泡沫镍按生产方式不同分为卷式带状和片式块状两种；而影响泡沫镍物理性能的是面密度、面密度允许偏差、孔数、孔数允许偏差、孔隙率等指标，并对上述技术指标范围有明确要求，如要求孔数在（60～140）PPI、孔隙率在95%以上等。根据1989年10月东北工业学院出版社出版的《真空镀膜技术与设备》一文：制备高质量的薄膜，首先必须具备高纯度的靶材和清洁的靶表面。真空溅射中溅射原子的自由程为1～10cm，因此，靶与基片的空间距离应与该值大致相等；否则，粒子在迁移过程中将发生多次碰撞，既降低溅射原子的能量又增加靶材的散射损失。溅射原子能量比蒸发原子能量高1～2个数量级，高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高的多，产生较高热能，增强了溅射原子与基片的附着力；在成膜过程中，基片始终在等离子区被清洗和激活，清除了附着力不强的溅射原子，净化且激活基片表面；对于一般的溅射装置，溅射膜的形成是利用真空辉光放电，等离子区中的正离子由于被阴极靶前的阴极电位降所加速而轰击阴极靶，从而使靶材产生溅射；用膜材制成的靶为阴极，亦称阴极靶，其上通以负高压，为了在辉光放电中使靶面保持可以控制的负电压，靶材必须是导电体；被荷能粒子轰击的靶材处于较高负电位；基片接地，则处于阳极电位，受到等同的电子轰击；基片悬浮，在辉光放电空间取得相对于地电位稍负的悬浮电位，基片周围的等离子体电位高于基片电位，引起一定程度的电子和正离子的轰击，导致膜厚、成分或其它特性的变化；基片有目的地施加偏压，使其按电的极性接收电子或离子，可以净化基片增强薄膜附着力；与直流二级溅射相比较，磁控溅射的区别仅在于正交电磁场对电子的束缚效应；为提高对电子的束缚效应，磁控溅射装置中应当尽可能满足磁场与电场相互垂直；偏压溅射与直流二级溅射的区别在于基片上施加一固定直流偏压；高密度等离子体被电磁场束缚在靶面附近，电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面；溅射率主要与下述因素有关：靶材、入射离子的能量、入射离子的种类、入射离子的入射角、靶材温度；沉积速率是指从靶材上溅射出来的材料，在单位时间内沉积到基片上的厚度，是用来表征成膜速度的物理量，该速率与溅射率成正比；为尽可能地提高沉积速率，在不影响辉光放电的前提下，基片应该尽量靠近溅射靶；为降低残余气体压力，提高沉积薄膜的纯度，可以通过提高本底真空度和氩气量来解决，为此，在提高真空系统抽气能力的同时，提高本底真空度和加大送氩量是确保薄膜技术纯度必不可少的两项措施，就溅射镀膜装置而言，真空室本底真空度应为10-3～10-4Pa；当工作气体压力增高到一定值时，溅射率开始明显下降，其原因在于靶材粒子的背反射和散射增大，导致溅射率下降，溅射率下降直接影响溅射粒子在基体上的成膜效果下降；为获得好的镀膜质量，优选真空度10-3～10-4Pa，当本底真空度降低时，直接影响镀膜质量。1992年7月化学工业出版社出版的《化工辞典》（第三版）记载的电流密度的定义为：电路中某点电流强弱和电流方向的物理量，等于单位时间内通过垂直于电流方向单位面积的电量。1991年3月机械工业出版社出版的《薄膜科学与技术手册》（上册）中记载：在平面磁控溅射中，电子受到有效的收聚作用，电离碰撞的频率极高，因此容易获得非常大的轰击靶的电子流密度；除高速磁控溅射方式之外，在其它所有溅射方式中，靶的平均离子电流为1mA／cm2左右，在高速磁控溅射方式中，很容易达到10～100mA／cm2。在高速磁控电极中，采用的是不均匀磁场，因此会使等离子体产生局部收聚效应。溅射粒子达到基片时所具有的能量直接决定于靶和基片之间的距离，以及溅射气压；为获得好的镀膜质量，优选真空度10-3～10-4Pa，当本底真空度降低时，直接影响镀膜质量。1993年电子科技大学出版的《薄膜物理与技术》高等学院教材中记载：随着电源功率的增大，轰击区逐渐扩大，直到阴极面上的电流密度几乎均匀为止。由于溅射镀膜时的放电电流和靶电流可以控制，通过控制靶电流则可控制膜厚度。由于溅射粒子到达基片时所具有的能量直接决定于靶和基片之间的距离，以及溅射气压。薄膜的均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一个重要指标，为了提高薄膜厚度均匀性，可采取优化靶基距。1989年3月机械工业出版社出版的《表面沉积技术》、1989年5月上海交通大学出版社出版的《金属真空表面强化的原理与应用》、2007年10月化学工业出版社出版的《薄膜材料与薄膜技术》（第二版）中均记载了真空镀膜溅射中靶面的电流密度作为镀膜质量控制参数之一。而在该《表面沉积技术》一书中，还记载了：对于磁控溅射镀膜，由于存在着电磁场的不均匀分布，所造成的不均匀的等离子体密度，导致靶原子的不均匀溅射和不均匀沉积。
爱蓝天大连公司还以其使用的技术分别被以下技术资料公开为由进行现有技术抗辩，所述现有技术分别为：①1988年6月8日申请的美国第4882232号“多孔金属结构及其制造方法”发明专利，在该专利说明书中记载：本发明的目的是产生一种制造多孔金属结构，特别是网状或纤维结构的新型方法；本方法可应用于由网状或编织结构，或者毡所构成的基体，包括以下几个步骤：a对上述基体进行预镀金属，b需要的话进行化学和（或）电化学镀金属，c必要时除去上述基体。该方法因上述镀金属步骤a包含了真空镀金属这一事实而独具特色；真空镀金属可以通过目前已知的、在其他应用中的任何一种方法来进行，特别是阴极溅射、气体扩散或离子沉积；当所用的基体是泡沫型或者多孔型时，在真空镀步骤a之前，要进行所谓的“开孔”操作，开孔操作旨在打开孔隙以取得网状结构；组成网状基体材料，尤其可以是聚合物，如聚酯、聚酰胺、聚亚安酯、聚醚和树脂；同时在该发明说明书中还对真空镀使用的金属、真空镀工艺的优点及优选的实施例等进行了说明。②1989年10月东北工业学院出版社出版的《真空镀膜技术与设备》中提及，中国自1980年后就开始发展磁控溅射技术，目前在磁控溅射装置和相应的镀膜工艺研究上已出现工业性生产的局面；且在介绍溅射理论时称之为阴极溅射，溅射方式包括二极溅射、高速低温溅射（磁控溅射）、偏压溅射等；溅射气体应当具备溅射率高、对靶材呈惰性、价格便宜、来源方便、易于得到高纯度的气体等特点，一般选择氩气；平面磁控溅射的工作条件为阴极电压300～600V，电流密度4～60mA／cm2，氩气压力为0.13～1.3Pa；一般以膜的平均厚度除以沉积时间所定义的平均沉积速率来表征沉积率，为了尽可能地提高沉积速率，基片应尽量靠近溅射靶，但必须保证稳定地异常辉光放电，通常，其最小间距为5～7cm；靶-基距对沉积速率、膜厚均匀度都有影响。③1989年3月机械工业出版社出版的《表面沉积技术》中提及：各种溅射镀膜运行参数中磁控溅射的电流密度是3～50mA／cm2；为保证涂层质量，尽量减少残余空气的污染，物理气相沉积技术要求有较高的本底真空度，均需采用高真空机组抽至10-2～10-3Pa；磁控溅射时的工作气压是10-1～101Pa。④1991年3月机械工业出版社出版的《薄膜科学与技术手册》（上册）提及：无论哪一种溅射方式，由于放电特性受到电极的几何形状、靶材质、放电气压、磁场强度及分布特性等因素的影响；除高速磁控溅射方式之外，在其它所有溅射方式中，靶的平均离子电流密度为1mA／cm2左右，而在高速磁控溅射方式中，很容易达到10～100mA／cm2；在靶厚﹤1.6mm时，平面磁控溅射时镍的沉积速率实验值是3000A／min（即50埃／秒），其中1A（埃）是10-4微米；对向靶溅射的氩气压力为10-2～10-1Pa。⑤1989年5月上海交通大学出版社出版的《金属真空表面强化的原理与应用》中提及：对向靶溅射的氩气压力为10-2～10-1Pa。⑥1974年5月出版的《粉末冶金原理》中提及：镍粉还原温度为700～750℃，时间1～2小时。
庭审中，科力远公司根据现有证据进行了技术比对，爱蓝天大连公司未举证证明其公司生产泡沫镍的完整工艺方法，但针对科力远公司的技术比对意见一一予以了反驳，并称其同意进行技术比对并不意味着认同科力远公司所引证的数据或事实。凯丰公司未对被控生产方法与涉案专利进行技术比对。
湖南省长沙市中级人民法院一审认为：
（一）科力远公司是否具有2006年11月至2008年10月期间内的诉讼主体资格及相关程序性问题。
1、科力远公司自2007年6月1日起享有涉案专利的权利。涉案专利的专利权人现为科力远公司且其自2007年6月1日起即享有涉案专利权并持续至今。依据法律规定，专利权人在发现侵权事由时享有要求行为人停止侵权、赔偿损失等诉讼权利，这些权利并不因许可等事实的存在而受到限制，故科力远公司自2007年6月1日起具有本案适格原告主体资格。
2、科力远公司享有自2006年11月至2007年6月1日期间涉案专利的相关权利。（1）科力远公司自天润公司处受让涉案专利权业经国家知识产权局备案并公告。《专利转让与合作合同》约定在转让涉案专利的同时，将转让生效前所拥有的基于目标专利所产生的权利和利益一并转让给科力远公司。本案中，天润公司总经理穆俊江（系代表天润公司签订《专利转让与合作合同》的签字代表）认可该权利包含追究天润公司作为专利权人期间向侵权人要求停止侵权和赔偿损失的权利；同时双方当事人的约定不违反法律规定。因此，科力远公司经受让取得了涉案专利的专利权及前专利权人对被控侵权行为的追索权，该授权行为并未违反我国强制性法律规定，属有效民事行为。（2）转让合同条款只对合同当事人有约束力，不对第三人产生效力，但合同一方当事人通过合同取得的权利，特别是作为对世权的物权和知识产权，当然对权利人和利害关系人之外的人产生效力。科力远公司通过天润公司履行合同义务而取得的专利权是对世权，对于非专利利害关系人未经许可实施其专利的行为有权以专利权人的身份予以制止。其并非以合同对抗合同当事人以外的其他人，而是通过合同履行取得了相应的权利，并以此为基础行使追索权。爱蓝天大连公司抗辩称转让合同不能对抗第三人，混淆了合同的履行和合同履行的结果之间的区别，该主张不能成立。（3）依据《专利转让与合作合同》的约定，该合同生效的条件是长沙力元公司与三和公司另行就包括涉案专利在内的两项专利签订排他许可合同以及支付第一批转让款，根据现已查明的事实，此两项条件均已成就，涉案专利已实际转让并经国家知识产权局登记备案，故《专利转让与合作合同》已经生效并履行。此外，对天润公司总经理穆俊江的调查结果表明，穆俊江是天润公司上述《专利转让与合作合同》的签订代表，其签字代表天润公司，而不是个人行为，并承认《专利转让与合作合同》已经生效。故爱蓝天大连公司关于转让合同无签署日期、合同是否生效的抗辩理由不能成立。（4）爱蓝天大连公司认为科力远公司专利权存在不完整受限制，还提出关于穆俊江与三和公司的关系不能确定、穆俊江是否存在其个人与科力远公司之间签订的损害第三人利益的合同的情况无法判定、许可实施合同因此无效等主张，但对这些主张未举证证明。综上，科力远公司合法拥有的涉案发明专利权及相关权益受法律保护，爱蓝天大连公司就科力远公司的诉讼主体资格问题的辩论意见不予采信。
3、本案未缺少必要的诉讼当事人。（1）天润公司自2007年6月1日专利转让并经国家知识产权局备案后便不再是涉案专利的专利权人；而2007年6月1日前基于涉案专利权产生的权利和利益已一并转让给了科力远公司，天润公司也不具备专利转让前基于涉案专利产生的权利和利益的权利人资格。依照《中华人民共和国民事诉讼法》（2012年修订前）第一百零八条之规定，它与本案诉讼结果无利害关系，不应追加其为本案当事人。（2）专利权专属于专利权人，专利实施许可关系的存在，并不影响专利权人的诉权。专利权人为维护专利权而进行诉讼，并不影响被许可人实施专利，相反有益于被许可人。三和公司与本案处理结果不具有利害关系，同时三和公司不参加诉讼也不影响本案事实的认定，不是本案必要共同诉讼参与人，无需追加三和公司参加诉讼。（3）常德力元公司现虽与科力远公司就涉案专利存在共有权纠纷，但目前专利权人仍是科力远公司，本案不解决权属纠纷，没有证据证明该权属纠纷足以影响到专利权属的稳定性。且即使权属发生变化，随该专利权产生的所有权益包括诉讼利益也会随专利权转移，因此本案的审理不会损及他人利益，不需要追加常德力元公司为本案当事人。
4、本案不应中止审理。（1）本案处理不需以专利权属纠纷的处理结果为依据，因此不适用《中华人民共和国民事诉讼法》（2012年修订前）第一百三十六条之规定，不应依此中止侵权诉讼；（2）根据《最高人民法院关于审理专利纠纷案件适用法律问题的若干规定》第十一条的规定，本案也无需中止审理；（3）本案是专利侵权民事纠纷，与爱蓝天大连公司所称侵犯商业秘密刑事犯罪案件虽有牵连，但不是同一法律关系，该刑事案件的调查不影响本案审理，本案的处理不需要以刑事案件的审理结果为依据。
5、本案未超过诉讼时效。本案起诉时间为2008年11月10日，专利权人有权就2006年11月10日之后的侵权行为主张权利。从现有证据来看，爱蓝天大连公司使用被控侵权方法生产销售泡沫镍产品的被控侵权行为一直在继续，故科力远公司主张起诉之日前两年的侵权行为责任并未超出诉讼时效。
6、本案无需委托技术鉴定。爱蓝天大连公司还以诉讼当事人对专利相关技术问题争议很大为由，要求对科力远公司就专利所做的技术特征的解释、确定的被控侵权技术相应的技术特征，如何认定技术效果、手段、功能是否显而易见等技术事实进行鉴定。我国专利法及相关法律已对如何解释专利权利要求，如何适用法律作出了明确规定。技术鉴定只解决某技术事实存在与否的问题，不能解决如何认定某一事实的方法问题，这是判断是否需要鉴定的原则。本案中，爱蓝天大连公司并没有提供完整技术方案，而科力远公司要求以其现有证据中确定的整体技术方案认定爱蓝天大连公司构成侵权，并为此对其专利进行的技术解释、确定爱蓝天大连公司方法的技术特征均属于对专利语言的界定问题，而关于技术手段是否显而易见的认定也是对事实的一种认定，上述权力属于专利授权机构、专利复审机构和人民法院，不属于技术鉴定范围。
（二）被控侵权的生产方法与涉案专利权利要求的必要技术特征构成相同或等同。
科力远公司将涉案专利独立权利要求1拆分为以下14个技术特征：（1）一种海绵状泡沫镍的制备方法；（2）使用经过粗化的聚醚聚氨酯作基底；（3）在镀膜机中，使用磁控溅射方法，形成含金属镍的电镀用阴极；（4）该镀膜机中以纯镍为靶；（5）镀膜机内为氩气气氛；（6）电流密度在（0.1～1.5）×10－2A／cm2范围；（7）溅射时间在20～100S；（8）两电极间距离在10～30cm之间；（9）9-1：溅射前抽真空至真空度（0.8～3.5）×10－5毫米汞柱，9-2：充入氩气后真空度为（2～3.5）×10-4毫米汞柱；（10）通电后，在基底表面和孔隙内生长镍；（11）将上述电镀用阴极在含镍离子的电镀液中镀镍；（12）镀镍时间为40～50分钟；（13）将镀镍所得产品水洗干燥；（14）后处理，即在800～900℃下保温1小时，烧掉聚醚聚氨酯基底。
本案中，根据涉案专利权利要求1的记载，结合说明书中对该发明的背景技术、发明目的、采取的技术手段等的介绍，涉案专利涉及的海绵状泡沫镍为一种已知产品，其主要用途之一是用于制造高效能蓄电池的电极基板。科力远公司据以主张权利的独立权利要求1保护一种海绵状泡沫镍的制备方法，该方法包括以下三个工艺步骤：一是真空磁控溅射工艺步骤，进行基材的导电化处理，该步骤包括拆分特征（2）至（10）；二是电镀工艺步骤，在经导电化处理后的基材上电镀沉积镍，该步骤包括拆分特征（11）至（13）；三是热处理工艺步骤，去除基材并改善最终产品泡沫镍的物理性能，该步骤包括拆分特征（14）。拆分的技术特征（1）一种海绵状泡沫镍的制备方法，系该发明专利的技术名称，不应单独作为一个比对的技术特征。根据双方提交的证据及当庭陈述可以确定，将真空磁控溅射技术应用于泡沫镍生产工艺中进行基材的导电化处理，系涉案专利与现有技术的根本区别所在。至于电镀工艺和热处理工艺，申请日前即已用于泡沫镍制造领域，非涉案专利对于现有技术的贡献，这一点可以从涉案专利公开文本说明书第1页的相应记载得以确认，该文件中所述现有技术内容与拆分特征（11）至（14）完全相同。因此，涉案专利的保护范围应该限定于其权利要求1中进行基材导电化处理的真空磁控溅射工艺，即包含以下技术特征：（1）使用经过粗化的聚醚聚氨酯作基底；（2）在镀膜机中，使用磁控溅射方法，形成含金属镍的电镀用阴极；（3）该镀膜机中以纯镍为靶；（4）镀膜机内为氩气气氛；（5）控制电流密度在（0.1～1.5）×10－2A／cm2范围；（6）控制溅射时间在20～100S；（7）两电极间距离在10～30cm之间；（8）溅射前先抽真空至真空度（0.8～3.5）×10－5毫米汞柱，充入氩气后真空度为（2～3.5）×10-4毫米汞柱；（9）通电后，在基底表面和孔隙内生长镍。将被控侵权方法的技术特征与以上（1）至（9）中全部技术特征进行技术比对，结合双方技术比对意见，分别认定如下：
1、关于特征（1）“使用经过粗化的聚醚聚氨酯作基底”。专利技术申请日前现有技术中已公开泡沫镍的基材可以选择聚酯型或聚醚型聚氨酯，而至1997年国内尚无泡沫镍用基材的专业生产厂家。电池用泡沫镍国家标准中泡沫镍物理性能只对泡沫镍的孔隙率有明确要求，而泡沫基体材料影响泡沫镍产品性能的只是基体材料中厚度、孔径、孔率、通孔率等物理结构参数。由此，生产泡沫镍的基材对于最终泡沫镍产品的影响主要体现在基材形态结构特别是基材孔隙，而非化学组成。爱蓝天大连公司又未举证说明因聚氨酯材料化学成分的差异必然会影响后续电镀或热处理工艺参数，从而影响最终产品泡沫镍的质量。因此，爱蓝天大连公司以此主张聚酯聚氨酯基材因不同于聚醚型聚氨酯基材化学性能而导致后续的电镀、热处理工艺参数匹配差异很大的辩论意见没有证据支持。另外，根据涉案专利申请公开文本中背景技术部分的描述，粗化的目的即是在真空镀膜前进行开孔处理。这一点从爱蓝天大连公司进行现有技术抗辩中引用的美国4882232专利说明书中也可得知，开孔操作是为了打开泡沫型或者多孔型基体的孔隙以取得网状结构。在聚醚型聚氨酯和聚酯型聚氨酯均可用作泡沫镍基材这一现有技术的教导下，爱蓝天大连公司选择符合生产条件的聚酯型聚氨酯基材，与涉案专利中“使用粗化的聚醚聚氨酯”这一技术手段系以基本相同的手段，实现基本相同的功能，达到基本相同的效果，且本领域技术人员无需创造性劳动就能联想到的等同特征。
2、关于特征（3）该镀膜机中以纯镍为靶。根据我国《专利法》和《专利法实施细则》的要求，权利要求书应当说明发明的技术特征，清楚、简要地表述请求保护的范围。因此要求专利权利要求中不得使用含义不确定的用语，如“厚”、“薄”、“强”、“弱”等，除非这种用语在特定技术领域中具有公认的确切含义。根据1989年东北工业学院出版社出版的《真空镀膜技术与设备》高等学校教材的记载，磁控溅射镀膜技术本身要求磁控溅射工序中使用高纯度靶材。而“纯镍”对于本领域技术人员而言，能够确定其在磁控溅射方法中具有何种确切的含义，即用作溅射靶材的高纯度的镍。实际上，根据爱蓝天大连公司生产现场工作人员的回答可知，其生产人员也毫无疑义地认同在其生产工序中所选用的靶材为纯镍。此亦证明了磁控溅射镀膜技术中的高纯度的镍，就是本技术领域的普通技术人员认知的纯镍。涉案专利权利要求中的“纯镍”清楚地限定了其保护范围，爱蓝天大连公司的生产方法中具有与专利技术相同的特征。
3、关于特征（4）在氩气气氛中。鉴于爱蓝天大连公司认同科力远公司的上述技术比对，故其技术特征与专利技术特征（4）相同。
4、关于特征（5）控制电流密度在（0.1～1.5）×10－2A／cm2范围。（1）因为涉案专利说明书中没有就该电流密度的计算方法进行说明，则就电流密度的解释，①双方的现有证据表明：在平面磁控溅射镀膜工艺中，靶上的电流密度是重要工艺参数之一。科力远公司引入的《真空镀膜技术与设备》、《薄膜物理与技术》等文献中关于直流平面二极溅射放电原理的说明亦是对磁控溅射中普遍适用的溅射镀膜原理的解释。②由于磁控溅射中磁场的不均匀性，会使等离子体产生局部收聚效应，电子受到有效的收聚效应，电离碰撞的频率极高，因此容易获得非常大的轰击靶的电子流密度。未产生收聚效应的局部，则相应电离碰撞频率要低，获得的电子流密度相对要小。不均匀的电子流密度，导致靶原子的不均匀溅射和不均匀沉积，不均匀的溅射在靶上产生了显著的不均匀刻蚀：在电子流密度大的区域形成明显的环形跑道状刻蚀区，而电子流密度小的区域则无明显的刻蚀痕迹。磁场形状决定了异常辉光放电等离子区的形状，导致整个阴极平面靶上放电电流不是均匀覆盖整个靶面，故科力远公司将靶上电流密度限定为平均电流密度具有现实含义。③1991年3月机械工业出版社出版的《薄膜科学与技术手册》（上册）中使用了平均离子电流密度的概念，这也证明了科力远公司主张的平均电流密度并非其自创的新概念，而是现有技术领域中已有的科学术语。故将电流密度解释为镍靶上的平均电流密度具有理论与事实依据。（2）关于镍靶上放电面积的计算。工艺参数必须具有可控性和可测量性，平均电流密度作为磁控溅射镀膜方法中最重要的控制参数之一，也必须符合这一要求。鉴于现有技术中并没有具体介绍电流密度的定义和计算方法，而双方均认同平均电流密度为镍靶电流强度与放电面积的比值，按照此定义，镍靶电流强度是可控制和可测量的，要使平均电流密度可控制和可测量，放电面积也必须是可控制和可测量的。爱蓝天大连公司主张放电面积为镍靶环形刻蚀区面积，而在磁控溅射中不均匀的溅射在靶上产生了显著的不均匀刻蚀，溅射的不均匀性导致刻蚀区难以满足可控性要求，因此爱蓝天大连公司所述电流密度中对应放电电流面积应以镍靶环形刻蚀区面积来计算不具有工艺控制意义。科力远公司将放电面积解释为镍靶面积，因镍靶电流强度和镍靶面积都是可控和可测量的，而二者的比值，即平均电流密度也满足可控性和可测量性的要求，符合现有技术领域的理解方式并具有工艺上的可控性。本案中，爱蓝天大连公司所选工艺中电流密度为（0.27～0.82）×10-2A／cm2，落入专利技术特征的保护范围之内。
5、关于特征（6）控制溅射时间在20～100S。关于溅射时间的解释。爱蓝天大连公司认为溅射时间应是靶材原子沉积到基片上并获得需要的膜层的时间，该理解与科力远公司主张的基材的一个面（即由无数个单点组成）达到所需导电性能经历的有效溅射时间应当是一致的。至于连续式和片式镀生产工艺的分别，对于基材上每个点所需达到的溅射效果而言并无差别。科力远公司在上述概念的大框架下针对爱蓝天大连公司的工艺对其专利权利要求中的溅射时间进行上述功能性的解释并无不妥。而且在爱蓝天大连公司使用的连续化镀膜工艺中，由于基材在真空镀膜机内接受溅射的距离是固定的，可以通过控制镀膜速度达到控制溅射时间的目的，因此爱蓝天大连公司辩称其该工序中控制参数是镀膜速度，其最终目的还是控制溅射时间，与科力远公司所述对溅射时间的控制具有同一性。关于有效溅射距离的解释。依据溅射理论及溅射薄膜的形成过程原理，溅射原子从镍靶逸出后，在真空溅射中溅射原子的自由程为1～10厘米，超过该距离，溅射原子将会在迁移过程中因为与其他粒子发生碰撞，既降低靶材原子的能量又增加靶材的散射损失。高能量的溅射原子沉积在基片上进行能量转换比蒸发原子高的多，产生较高热能，增强了溅射原子与基片的附着力，据此可知，溅射原子的附着力高低主要取决于溅射原子的能量高低，而溅射距离较远的溅射原子会因为碰撞次数的增多而经历多次运动方向改变和能量损耗，能量的过多损耗直接导致其附着力降低，不能有效地沉积于基材之上。即只有那些与基材牢固结合，不会被其它溅射镍原子击落或在电镀过程中物理脱落的溅射才是有效的溅射。在溅射成膜过程中，基材正对镍靶或距离镍靶较近的区域镍沉积最为有效，而基材距离镍靶较远的区域镍原子沉积明显降低，距离镍靶越远的区域镍原子沉积越不明显。故此，在镍原子有效溅射事实上存在一定范围限制的情况下，科力远公司主张的“有效溅射距离”是有实际意义和合理性的。因此，依据溅射理论及溅射薄膜的形成过程原理，在真空镀膜机中基材上某点接受溅射的最大距离应是整个镀膜机的高度。而依据溅射原理，只有靶上的镍离子最终能牢固沉积在基片上才称之为有效溅射。爱蓝天大连公司提交的其进行真空镀膜时溅射空间示意图，可见基材溅射后的实际溅射效果：距镍靶不同距离处的基材所发生的镍沉积具有目视即可明显识别的差异，最为有效的沉积发生在与镍靶正对的浅色区域，随后是在该浅色区域的上方或下方的深色区域，上方或下方的深色区域基本与正对镍靶区域等宽，超出此深色区域后的镍沉积则明显降低，很难识别。根据沉积区域的分布比例可以大致测算出镍靶的有效溅射区域，镍靶的靶宽（高）为25cm，测算出来的有效溅射距离约为三个靶宽即75cm。而在与本案案情基本相同的（2008）长中民三初字第0502号案件中，爱蓝天高新技术材料（沈阳）有限公司提供了与本案相同的实际溅射效果图，该照片展示的基材溅射后的结果清楚地显示，基材一侧的镍靶的溅射距离大约为上下胶辊间距离157cm的一半785mm。由于两案中爱蓝天大连公司与爱蓝天高新技术材料（沈阳）有限公司提供的证据关联性非常紧密，证明相同技术工艺的关联证据可以相互对比印证。从两案中提供的相同溅射示意图所反映的有效溅射距离来看，科力远公司所述两种计算方式得到的实际溅射距离的数值基本吻合，证明本案爱蓝天大连公司生产工艺中实际溅射距离为75cm基本可信。因此，根据爱蓝天大连公司真空镀工艺规范中镀膜速度0.4～0.9m／min，提取的实际镀膜速度0.8m／min，分别计算得到的溅射时间为50～112.5s和56.25s，两种溅射时间数值均落入了专利特征的数值范围。因此，爱蓝天大连公司真空镀工艺中溅射时间技术特征与专利技术特征相同。
6、关于特征（7）两电极间距离在10～30cm之间。
溅射的基本原理在于控制阴阳极之间形成电位降，等离子区域的正离子被电压降加速而轰击阴极靶，从而使阴极溅射靶产生溅射。通常，在溅射装置中，阴极指溅射靶，将溅射靶接在外接电源负极上，使其在辉光放电中保持可以控制的负电压。阳极在直流二级溅射装置中为接地的放置被镀件的基片架。阳极基片架和阴极溅射靶之间的电位降使得正离子高速轰击阴极溅射靶，从而产生镀膜所需的溅射条件。磁控溅射与二极直流溅射相比较，区别只在于增加了正交电磁场对电子的束缚效应，在磁控溅射装置中磁场和电场相互垂直（即正交）。由此可以推出，在磁控溅射装置中，阴极为溅射靶，阳极为基片架及基片架上放置的基片。为得到不同的基片电位，基片可以有三种设置方式：接地、悬浮、施加偏压。从上面分析可知，在磁控溅射中，阴极为溅射靶，接在外接电源负极上；作为阳极的基片，可以有接地、悬浮、施加偏压三种方式。爱蓝天大连公司称其镀膜机中的阳极设置方式如其提交的证据1989年3月机械工业出版社出版的《表面沉积技术》第171页图2-55所示的偏压溅射模式。而该图示明确标明了偏压溅射模式下基片上加有50～200V偏压，爱蓝天大连公司工艺中基片是悬浮设置，基片上没有任何外加电压，与偏压溅射完全不同，故爱蓝天大连公司的工艺技术明显不属于偏压溅射。爱蓝天大连公司在庭审中承认其溅射过程中阴极为溅射靶，而实际工艺中其基片处于悬浮状态，符合前述磁控溅射装置阳极的设置方式；此时，基片具有比零电位稍低的电位，但较之镍靶的电位高，基片与镍靶之间存在较大电位差，符合电位差对正离子加速形成溅射的相关溅射理论，这也从另外一个角度印证了此装置中基片即为阳极的分析。由此可以认定爱蓝天大连公司的工艺中阴极为溅射靶，阳极为基片。本领域技术人员对“两极间距离”通常的理解是阴阳极间距离，在爱蓝天大连公司工艺中，两镍靶间距离为25.5cm，基片在两镍靶垂直距离中间，去除靶材厚度1.7mm后，溅射靶（阴极）与基片（阳极）的距离为12.7cm，落入专利特征10～30cm范围内。因此，爱蓝天大连公司该工艺特征与专利特征（7）是相同的技术特征。
7、关于特征（8）溅射前抽真空至真空度（0.8～3.5）×10－5毫米汞柱，充入氩气后真空度为（2～3.5）×10-4毫米汞柱。
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