北京知识产权法院行 政 判 决 书（2018）京73行初5694号原告:奥蒂玛光学科技（深圳）有限公司，住所地广东省深圳市龙岗区。法定代表人:GilladGalor（纪其乐），总经理。委托诉讼代理人:佘轶峰，上海市方达律师事务所律师。委托诉讼代理人：蔡杰赟，上海市方达律师事务所律师。被告：国家知识产权局，住所地北京市海淀区蓟门桥西土城路**。法定代表人：申长雨，局长。委托诉讼代理人：扈燕，国家知识产权局审查员。委托诉讼代理人：袁丽颖，国家知识产权局审查员。第三人：何羽立，男，1981年1月9日出生，住台湾地区桃园市。委托诉讼代理人：田元媛，女，1976年12月22日出生，中国国际贸易促进委员会专利商标事务所专利代理人，住北京市海淀区。委托诉讼代理人：沈英莹，男，1976年6月9日出生，中国国际贸易促进委员会专利商标事务所专利代理人，住北京市西城区。原告奥蒂玛光学科技（深圳）有限公司（简称奥蒂玛公司）因实用新型专利权无效行政纠纷一案，不服原国家知识产权局专利复审委员会（简称专利复审委员会）于2018年3月5日作出的第35077号无效宣告请求审查决定（简称被诉决定），于法定期限内向本院提起行政诉讼。本院于2018年6月6日受理本案后，依法组成合议庭，并通知何羽立作为第三人参加诉讼，于2020年5月19日公开开庭进行了审理。原告奥蒂玛公司的委托诉讼代理人佘轶峰、蔡杰赟，被告国家知识产权局的委托诉讼代理人扈燕、袁丽颖，第三人何羽立的委托诉讼代理人田元媛、沈英莹到庭参加了诉讼。本案现已审理终结。被诉决定系专利复审委员会针对奥蒂玛公司的专利号为201420037297．4号、名称为“一种电路板光学检测机”的实用新型专利（简称本专利）所提无效宣告请求而作出的，该决定认定：本专利权利要求1-10不具备《中华人民共和国专利法》（简称专利法）第二十二条第三款规定的创造性。据此作出被诉决定，宣告本专利全部无效。原告诉称：第一，本专利权利要求2具备创造性。对于权利要求2的理解，应首先考虑本专利的发明目的，其次应当适当考虑语言文字表达的局限性，再就需要考虑该技术特征是否取得技术效果，在此基础上，权利要求2中的上侧应理解为正上方，下侧应理解为正下方。第二，本专利权利要求4具备创造性。本专利权利要求4要求上光路盒与下光路盒之间错开设置，而证据4对电路板的检测分为两种：通孔检测和图案检测，证据4为了实现通孔检测，不可能将上下光路盒进行错开设置。第三，本专利权利要求9具备创造性。证据3中的成像装置被排列在传输机构的长度方向而非宽度方向。本专利所定义的长度方向和宽度方向是明确不变的，即分别为电路板输送的方向和与该方向垂直的方向。证据3并未公开权利要求9的技术方案。第四，本专利权利要求10具备创造性。本领域技术人员基于证据3无法获得本专利权利要求10的技术方案，上光源位置和成像装置的位置的对调不属于本领域的公知常识。证据4和权利要求10的发明构思不同，证据4无法给出技术启示。综上，请求人民法院依法判决撤销被诉决定，判令被告重新作出决定。被告辩称：被诉决定认定事实清楚，适用法律法规正确，审理程序合法，审查结论正确，原告的诉讼理由不能成立，请求法院驳回其诉讼请求。第三人述称：被诉决定认定事实清楚，适用法律法规正确，审理程序合法，审查结论正确，原告的诉讼理由不能成立，请求人民法院驳回其诉讼请求。本院经审理查明：本专利系专利号为201420037297．4号、名称为“一种电路板光学检测机”的实用新型专利，申请日为2014年1月21日，授权公告日为2014年8月20日，专利权人为奥蒂玛公司。本专利授权公告的权利要求如下：“1．一种电路板光学检测机，其特征在于，包括：密闭的机身，所述机身内设置有大流量风扇、管道以及空气过滤器；其中，至少所述空气过滤器的进风口设置于所述机身外部，所述大流量风扇、所述管道以及所述空气过滤器依次连通以将经过所述空气过滤器过滤后的清洁、无腐蚀性的空气抽进所述机身内使得所述机身内部的气压大于所述机身外部的气压。2．根据权利要求1所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述机身内设置有用于传输电路板的传输机构，所述传输机构的上侧设置有上横梁，所述传输机构的下侧设置有下横梁，其中，所述上横梁和所述下横梁均设置于所述机身内；其中，所述上横梁设置有至少一个上光学成像装置，所述下横梁设置有至少一个下光学成像装置，所述上光学成像装置、所述下光学成像装置分别用于对所述传输机构所传输的电路板的上、下两表面进行图像采集；并且，所述上横梁与所述传输机构之间设置有第一照明光源组件，所述下横梁与所述传输机构之间设置有第二照明光源组件。3．根据权利要求2所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述第一照明光源组件包括上光源、上遮光板以及上光路盒；所述第二照明光源组件包括下光源、下遮光板以及下光路盒；所述上光路盒、所述下光路盒分别设置于所述传输机构的上下两侧，其中，所述上光路盒与所述下光路盒之间错开设置，所述上光源与所述上光学成像装置分别设置于所述上光路盒两侧，所述下光源与所述下光学成像装置分别设置于所述下光路盒两侧，所述上遮光板设置于所述上光路盒与所述传输机构上侧之间，所述下遮光板设置于所述下光路盒与所述传输机构下侧之间。4．根据权利要求3所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述上光路盒与所述下光路盒均为反射透射元件；其中，所述上光学成像装置设置于所述上光路盒的透射面一侧，所述上光源设置于所述上光路盒的反射面一侧；所述下光学成像装置设置于所述下光路盒的透射面一侧，所述下光源设置于所述下光路盒的反射面一侧。5．根据权利要求2所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述电路板光学检测机还包括防尘盒，所述防尘盒罩设所述下光学成像装置、并进一步与所述下横梁连接进而将所述下光学成像装置密封于所述防尘盒与所述下横梁之间形成的空间内，其中，至少所述防尘盒的顶部透明。6．根据权利要求5所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述防尘盒呈顶部密闭、底部开口的筒状，所述防尘盒的顶部设置为光学玻璃片以使得所述下光学装置能够穿过所述防尘盒并对所述传输机构所传输的电路板进行图像采集。7．根据权利要求5所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述防尘盒与所述下横梁之间可拆卸连接。8．根据权利要求5所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述防尘盒与所述下横梁的连接处设置有过滤棉。9．根据权利要求2所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述上光学成像装置数量为多个，所述下光学成像装置数量为多个；其中，多个所述上光学成像装置在所述上横梁上均沿所述传输机构的宽度方向排列，多个所述下光学成像装置在所述下横梁上均沿所述传输机构的宽度方向排列。10．根据权利要求2所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述机身内设置有高度调节机构，所述上横梁、所述下横梁两端均设置于所述高度调节机构上以使得设置于所述上横梁的所述上光学成像装置、设置于所述下横梁的所述下光学成像装置能在竖直方向上进行高度调节。”针对本专利，何羽立于2017年9月1日向专利复审委员会提出无效宣告请求，同时提交了如下附件作为证据：证据1：TW200814220A号中国台湾专利文献，其公开日为2008年3月16日。证据1公开了一种基板检查装置及使用于基板检查装置之灯元件，二者属于相同的技术领域。证据1具体公开了如下技术内容（参见说明书第5页第22行-第6页第4行，第9页第7-17行，第15页第20行-第16页第5行，第18页第12-15行，图1）：如图1所示，用以检查半导体晶圆等基板之基板检查装置1具有设置于地面之装置本体2，且于装置本体2之上部区划成高清净部3（检查部）作为用以检查基板W之空间，高清净部3系形成一自装置本体2之顶部2A流入在滤扇单元5生成之清净空气（清净流体），且形成清净度较外部环境高之迷你洁净环境构造，滤扇单元5系一清净流体供给机构，具有：吸入存在于基板检查装置1周围之外气且由形成于天顶部2A之复数孔6喷出到高清净部3内之扇、及设置于扇与孔6之间，并用以除去外气中之尘埃之过滤器。进行检查期间，由上述之滤扇元件5强制喷出清净空气，因此高清净部3内相对于外部为正压，朝巨观检查部14及基板搬运机器人16周围喷出之清净空气系如第1图之箭头E所示，流经检查台52周围之微观检查领域，并由排气用缝隙86排出到外部，又，一部分之清净空气自分隔板71之开口喷入第一领域81内，第一领域81中由滤扇元件5强制喷入清净空气，并由形成于装置本体2之侧部之排气用缝隙85由外部排出，如此，即令高清净部3为正压，可防止来自外部之尘埃的混入，且可藉由清净空气之流动防止尘埃附着于基板W表面。本发明之基板检查装置亦可藉由摄影装置自动拍摄为基板W之检查对象之面者，来取代以目视进行之基板检查与显微镜60之放大观察。证据2：CN1779905A号中国发明专利申请公开说明书，其公开日为2006年5月31日。证据3：CN1808058A号中国发明专利申请公开说明书，其公开日为2006年7月26日。证据3公开了一种被检查体的外观检查装置，并具体公开了如下技术内容（参见说明书第1页倒数两行，第4页第1行-第8页第8行，附图1-3）：所述外观检查装置200用于缩短电子基板的检查时间，包括：基板输送台50，基板输送台50具有支持机架52和两根输送轨54，由支持机架52支持输送轨54，输送轨54具有输送基板2的输送带，将载于输送带上的基板2一直送到检查台10的中央，使输送带上的基板2停止输送，然后使得基板输送台50沿与输送轨54输送基板2的方向垂直的方向运动，将基板2送向摄像系统80；上部摄像系统80a设置在输送轨54的上部，下部摄像系统80b设置在输送轨54的下部；所述上部摄像系统80a包括上部照明单元100a、上部机架36a、第1摄像单元30a、第2摄像单元30b，所述下部摄像系统80b包括下部照明单元100b、下部机架36b、第3摄像单元30c、第4摄像单元30d；上部机架36a上放置并固定着第1摄像单元30a、第2摄像单元30b；结合证据3的附图2可见，下部机架36b上放置并固定着第3摄像单元30c、第4摄像单元30d；在上部摄像系统80a中，第1摄像单元30a及第2摄像单元30b分担对基板2的一个面进行摄像，与基板2的一个面对向并排设置，第3摄像单元30c及第4摄像单元30d分担对基板2的另一个面进行摄像，结合证据3的附图2可见，第1摄像单元30a及第2摄像单元30b对基板2的上表面进行摄像，第3摄像单元30c及第4摄像单元30d对基板2的下表面进行摄像；所述外观检查装置200还包括上部照明单元100a和下部照明单元100b，上部照明单元100a和下部照明单元100b均包括光源102、半透半反镜110，结合证据3的附图1-3可知，在输送轨54的上方还包括光源102和半透半反镜110，在与水平面相垂直的方向上，第1摄像单元30a和第2摄像单元30b位于光源102和输送轨54之间，并且光源102发出的光透过半透半反镜110射向基板2的表面，基板2的反射光经由半透半反镜110的反射射向第1摄像单元30a和第2摄像单元30b，并且输送轨54的下方与上方具有如上的相同设置方式。证据4：JP2001-266127A号日本公开特许公报及其部分中文译文，其公开日为2001年9月28日。证据5：JP2008-66541A号日本公开特许公报及其部分中文译文，其公开日为2008年3月21日。证据6：CN100439862C号中国发明专利说明书，其授权公告日为2008年12月3日。证据7：CN202649656U号中国实用新型专利，其授权公告日为2013年1月2日。证据8：ZL201420037047．0号实用新型专利的第32139号无效宣告请求审查决定书。经形式审查合格，专利复审委员会于2017年9月15日受理上述无效宣告请求，同时成立合议组对本案进行审查。专利复审委员会于2017年12月28日举行口头审理。2018年3月5日，专利复审委员会作出被诉决定。在本案庭审过程中，原告对被诉决定关于证据1、证据3、证据4公开的内容不持异议，原告仅主张本专利权利要求2、4、9、10具备创造性。另查，根据中央机构改革部署，原国家知识产权局专利复审委员会的相关职责由国家知识产权局统一行使。上述事实，有本专利授权公告文本、证据1、证据3、证据4及当事人陈述等证据在案佐证。本院认为：本案各方当事人争议的焦点问题在于本专利是否具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。专利法第二十二条第三款规定，创造性是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。一、关于本专利权利要求2是否具备创造性的问题权利要求2为权利要求1的从属权利要求，其载明，“根据权利要求1所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述机身内设置有用于传输电路板的传输机构，所述传输机构的上侧设置有上横梁，所述传输机构的下侧设置有下横梁，其中，所述上横梁和所述下横梁均设置于所述机身内；其中，所述上横梁设置有至少一个上光学成像装置，所述下横梁设置有至少一个下光学成像装置，所述上光学成像装置、所述下光学成像装置分别用于对所述传输机构所传输的电路板的上、下两表面进行图像采集；并且，所述上横梁与所述传输机构之间设置有第一照明光源组件，所述下横梁与所述传输机构之间设置有第二照明光源组件。”首先，根据专利法第五十九条的规定，发明或者实用新型专利权的保护范围以其权利要求的内容为准，说明书和附图可以用于解释权利要求。在确定权利要求保护范围过程中，对于技术术语的理解，一般应当认为其含义与该术语在所属技术领域中通常具有的含义相同，即如果说明书未对权利要求中术语的含义作出特别界定，原则上应采取本领域普通技术人员在阅读权利要求书、说明书和附图之后对该术语所能理解的通常含义。具体到本案，权利要求2中“上侧/下侧”的含义显然包括位于传输机构的正上/下方和侧上/下方的技术内容，故权利要求2限定的范围包括了证据3中所采用的具体实施结构。其次，本案明确记载了采用密闭机身，目的在于使得机身内部的气压大于机身外部的气压避免腐蚀性气体进入机身内部，对机身内部各电气元件进行有效保护。但仅仅依据密闭机身无法确定上侧/下侧即专指正上/下方，且根据本专利说明书的记载，“不需要像现有技术那样左右来回移动成像装置对电路板宽度方向进行采集”，其针对的是电路板的宽度过大的情形，需要设置两个或两个以上的成像装置来覆盖整个电路板的宽度，将成像装置设置于其侧上/下方亦可实现上述功能，由此也无法确定上侧/下侧即专指正上/下方的意义。再次，虽然语言文字的表述存在局限性，但是具体到本案，显然存在合适的技术术语“正上/下方”来实现其真实的意思表达，而上侧和下侧与上述正上/下方的意义确实存在差别。综上，原告主张权利要求2中的上侧/下侧仅仅指正上/下方缺乏依据，本院不予支持。被诉决定的相关认定正确，权利要求2不具备创造性。二、关于本专利权利要求4是否具备创造性的问题权利要求4为权利要求3的从属权利要求，其载明，“根据权利要求3所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述上光路盒与所述下光路盒均为反射透射元件；其中，所述上光学成像装置设置于所述上光路盒的透射面一侧，所述上光源设置于所述上光路盒的反射面一侧；所述下光学成像装置设置于所述下光路盒的透射面一侧，所述下光源设置于所述下光路盒的反射面一侧。”原告主张，证据3中光学成像结构错开设置，而证据4中的光学成像结构为正对设置，二者无法结合。对此，本院认为：首先，证据3已经公开了当对向的照明单元100b有漏光情形时，就产生图像模糊的现象，会给基板2的摄像带来影响，因而相应的采取了使得上下部照明单元偏移长度L进行配置。由此可见，证据3已经公开光学成像结构上下错开设置以避免检测时相互影响产生干涉。其次，证据4公开了在进行图案检测时，上方CCD摄像机10a不仅接收下方半反射镜的反射光而且还接收来自被检查基板表面的反射光。由此可见，半反射镜之落射照明不仅可作为通孔检查用照明来使用，还可作为图案检查用照明来使用，并且证据4中的正对设置是为了实现其对通孔的检测。基于证据3、证据4公开的上述内容，为了实现对电路板图案的检测，本领域技术人员在证据3明确给出技术启示的情况下需要极力避免上下光路正对设置，而仅仅将证据4中光学成像的具体结构引入，这对于本领域技术人员而言并不存在障碍。故原告关于证据3与证据4无法结合的主张缺乏依据。因此，在权利要求4的附加技术特征已经被证据4公开的情况下，由于其引用的权利要求不具备创造性，故权利要求4亦不具备创造性。三、关于权利要求9是否具备创造性的问题权利要求9为权利要求2的从属权利要求，其载明，“根据权利要求2所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述上光学成像装置数量为多个，所述下光学成像装置数量为多个；其中，多个所述上光学成像装置在所述上横梁上均沿所述传输机构的宽度方向排列，多个所述下光学成像装置在所述下横梁上均沿所述传输机构的宽度方向排列。”原告主张证据3没有公开多个光学成像装置沿传输机构的宽度方向排列的技术特征。对此，本院认为，传输机构的长度方向为电路板前进方向，而宽度方向则指垂直于该长度方向的方向，并且电路板的宽度方向对应为传输机构的宽度方向。证据3公开了被检测的电路板首先沿导轨54的方向运动，当将基板2沿与输送轨54长度方向垂直的方向进行传送进入摄像单元30a时，此时的电路板前进方向发生了90°的偏转，其宽度方向相应了也发生了90°偏转，根据证据3附图1-2可知，第1、2摄像单元30a和30b在上部机架36a上沿与输送轨54的前进方向垂直的方向（即宽度方向）排列，并且第3、4摄像单元30c和30d在下部机架36b上也是沿与输送轨54的前进方向垂直的方向（即宽度方向）排列的，上述设置方式与本专利对于长度和宽度的定义完全吻合，同样实现光学成像装置覆盖电路板宽度方向的区域。因此，权利要求9的技术特征已被证据3公开。在引用的权利要求不具备创造性的情况下，权利要求9亦不具备创造性。四、关于权利要求10是否具备创造性的问题权利要求10为权利要求2的从属权利要求，其载明，“根据权利要求2所述的电路板光学检测机，其特征在于：所述机身内设置有高度调节机构，所述上横梁、所述下横梁两端均设置于所述高度调节机构上以使得设置于所述上横梁的所述上光学成像装置、设置于所述下横梁的所述下光学成像装置能在竖直方向上进行高度调节。”证据4已经公开了通过固定安装在Z方向步进马达15来调整一次元CCD摄像机10在Z轴20上的位置，这与本专利调节机构通过调节位置来提高成像质量作用相同由此可知，证据4给出了在电路板光学检测机中利用高度调节装置调节第一光学成像装置和第二光学成像装置的高度的技术启示。原告主张，证据4的光路设置与本专利不同，对此，本院认为，本领域技术人员在将证据4与证据3进行结合时，引入的是调节结构的技术内容，而并非将证据4的光学成像结构也完全引入，且本领域技术人员在将调节结构进行具体应用时，会根据预调节对象的结构而进行适应性的调整，这种调整既不存在技术上的困难，也没有产生预料不到的技术效果。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的情况下，权利要求10亦不具备创造性。综上所述，被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，审理程序合法。原告请求撤销被诉决定，缺乏事实及法律依据，本院不予支持。依照《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定，本院判决如下：驳回原告奥蒂玛光学科技（深圳）有限公司的诉讼请求。案件受理费人民币一百元，由原告奥蒂玛光学科技（深圳）有限公司负担（已交纳）。各方当事人如不服本判决，原告奥蒂玛光学科技（深圳）有限公司、被告国家知识产权局可在本判决书送达之日起十五日内，第三人何羽立可在本判决书送达之日起三十日内，向本院提交上诉状，并按对方当事人人数提交副本，预交上诉案件受理费人民币一百元，上诉于中华人民共和国最高人民法院。审 判 长  兰国红人民陪审员  宋 利人民陪审员  白 玲二〇二〇年七月二十八日法官 助理  赵 楠技术调查官师广义书记员刘嘉兴