中华人民共和国 北京知识产权法院 行 政 判 决 书 （2015）京知行初字第5713号 原告索尼株式会社，住所地日本国东京都港区港南1-7-1。 法定代表人平井一夫，董事兼首席执行官。 委托代理人潘树志，北京康信知识产权代理有限责任公司专利代理人。 委托代理人田喜庆，北京康信知识产权代理有限责任公司专利代理人。 被告中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会，住所地中华人民共和国北京市海淀区北四环西路**银谷大厦**。 法定代表人葛树，主任。 委托代理人李晓艳，中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会审查员。 委托代理人朱明雅，中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会审查员。 原告索尼株式会社因专利申请驳回复审行政纠纷一案，不服被告中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会（简称专利复审委员会）于2015年6月9日作出的第90882号复审请求审查决定（简称被诉决定），于法定期限内向本院提起行政诉讼。本院受理后，依法组成合议庭，公开开庭审理了本案。原告索尼株式会社的委托代理人潘树志、田喜庆，被告专利复审委员会的委托代理人李晓艳、朱明雅到庭参加了诉讼。本案现已审理终结。 2015年6月9日，被告专利复审委员会依索尼株式会社的专利复审申请，对申请日为2004年5月28日的200910001357.0号发明专利（简称本申请）作出被诉决定认定： （一）审查基础 被诉决定以索尼株式会社于2015年4月13日提交的权利要求第1-19项，分案申请递交日2009年1月7日提交的说明书第1-130段、说明书附图图1-21、说明书摘要、摘要附图等文本作为审查基础。 （二）关于证据 对比文件1：CN1504014A，公开日为2004年6月9日； 对比文件2：CN201048354Y，公告日为2008年4月16日。 （三）关于创造性 关于《中华人民共和国专利法》（简称专利法）第二十二条第三款。专利法第二十二条第三款规定，创造性，是指同申请日以前已有的技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步。 如果一项权利要求所要求保护的技术方案与最接近的对比文件相比存在区别技术特征，该区别技术特征的一部分被另一篇对比文件公开，且该另一篇对比文件给出了将上述区别技术特征的一部分应用到最接近的对比文件以解决其存在的技术问题的启示，而区别技术特征的另一部分为本领域的公知常识，在所述最接近的对比文件基础上结合该另一篇对比文件和本领域公知常识得到该项权利要求所要保护的技术方案对于本领域技术人员而言是显而易见的，那么该项权利要求所要保护的技术方案不具备创造性。 1、独立权利要求1不具备创造性，不符合专利法第二十二条第三款的规定。 权利要求1请求保护一种层叠反射结构，对比文件2公开了一种多层导电膜，并具体公开了以下技术特征（见说明书第4栏第21-60行、第5栏第7-31行、第6栏第5-27行、第7栏第21-33行、第7栏第56-67行、第8栏第32-40行、以及附图1-2）：该多层导电膜10（相当于本申请的层叠反射结构）提供在具有平坦表面的基板SUB的表面上；该多层导电膜10通过层叠三个层来形成，包括由银基金属材料所形成的银基薄层11、提供在基板SUB和银基薄层11之间的第一透明氧化物薄层12（相当于本申请的粘合层）和保护银基薄层11的第二透明氧化物薄层13（相当于本申请的阻挡层），第二透明氧化物薄层13提供在银基薄层11的表面上；第一透明氧化物薄层12和第二透明氧化物薄层13抑制银的移动，并增加多层导电膜的时间稳定性和防潮性；银基薄层11厚度可以为50nm、75nm、100nm或者200nm，当银基薄层11的厚度为50nm或更大时，多层导电膜主要表现为光反射模式；第一透明氧化物薄层12由氧化物材料形成，该氧化物主要是金属氧化物氧化铟，并含有次级金属氧化物，该次级金属氧化物的金属元素在银内实质上没有固体溶解度，少量的元素，例如锡、锌的氧化物可引入到第一透明氧化物薄层12以调整导电性、密度和强度；次要金属氧化物中金属部分，即在银内实质上没有固体溶解度的金属元素，占主要金属氧化物的铟元素和次要金属氧化物的金属元素的总原子数量的50个原子百分率或更低，如果在银内实质上没有固体溶解度的金属元素高于50个原子百分率，那么合成的氧化物薄层和银基薄层11之间的粘合性有降低的趋势（见说明书第5栏第7-16行），可见第一透明氧化物薄层12可以起到粘合的作用；包含蚀刻侧边的多层导电膜10被电绝缘抗湿透明薄层21（相当于本申请的绝缘层）覆盖；第一透明氧化物薄层12和第二透明氧化物薄层13厚度为30-100nm。 由此可见，对比文件2已经公开了权利要求1中的大部分技术特征。权利要求1相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在层叠方向上它的横截面形状是一个圆角凸起；（2）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌；（3）所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。基于上述区别特征可知，权利要求1相对于对比文件2实际所要解决的技术问题是：改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的粘合作用。 对于区别技术特征（1），对比文件1公开了一种液晶显示器用的层叠电极结构，并具体公开了以下的技术特征（见说明书第[0014]、[0040]-[0043]、[0077]段、以及附图3、5、7A-9）：在具有平坦表面的基板100上设置有下层200和覆盖层300，其在层叠方向上是向前的锥形；而且该特征在对比文件1中所起的作用是用于改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的阶梯覆盖。根据对比文件1的启示，本领域技术人员很容易想到对层叠结构的横截面形状进行调整，将层叠结构的侧壁面的平面形状调整为圆角凸起的形状，圆角凸起形状的侧壁面的面积大于平面形状的侧壁面的面积，所以当后续沉积的绝缘层或保护层覆盖在层叠结构上时，由于接触面积增大使得层叠结构和后续沉积的绝缘层或保护层之间的粘合力增大，而这种调整是不需要付出创造性的劳动，并且也没有带来预料不到的技术效果。 对于区别技术特征（2），在半导体领域，透明导电氧化物薄膜属于半导体光电子材料，由于其具有较高的禁宽宽度，可见光高度透明、红外区的高度反射及较低的电阻率等特性，被广泛应用在显示器、太阳能电池等领域。铟锡氧化物ITO、铟锌氧化物IZO、氧化锌ZnO、氧化锡SnO2用作透明导电氧化物薄膜材料是很公知的。ITO薄膜具有优良的导电性、高可见光透过率、高红外区反射率、与玻璃基底结合牢固、易刻蚀形成电极图形、抗擦伤、良好的化学稳定性等优点。IZO具有高迁移率和较好的化学透明性，易于低温制备。ZnO薄膜具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质，薄膜生长温度低、电子迁移率较高、易于刻蚀、对衬底要求不高，在可见光范围有很高的透光率。SnO2薄膜具有高导电率、高投射率、以及较好的化学和热稳定性。根据对比文件2的启示，即第一和第二透明氧化物薄层为透明的、导电的、主要含有氧化铟、少量含有氧化锌的薄层以及第一和第二透明氧化物薄层分别起到粘合和阻挡的作用，结合本领域公知的透明导电氧化物薄膜材料，本领域技术人员很容易想到选择应用较为广泛的铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化锡和氧化锌中的一种或多种作为氧化物薄层，设置在银层和基板之间，起到粘合银层和基板的作用，这些是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。 对于区别技术特征（3），在半导体领域，为了提高光引出率，将阻挡层的膜厚度设置为3-15nm是本领域技术人员的常规选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。 由此可知，在对比文件2的基础上结合对比文件1和公知常识得出该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备创造性。 2、独立权利要求8不具备创造性，不符合专利法第二十二条第三款的规定。 对比文件2已经公开了权利要求8中的大部分技术特征。权利要求8相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻；在所述多个层上形成包括发光层的有机层；（2）以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面；（3）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物和氧化锌；（4）所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。基于上述区别特征可知，权利要求8相对于对比文件2实际所要解决的技术问题是：改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的阶梯覆盖以及粘合作用。 对于区别技术特征（1），通过利用掩膜来对多个层同时进行全部蚀刻是本领域的常规技术手段，是本领域技术人员容易想到的常规操作。在使用有机发光元件的有机发光显示器领域中，在层叠结构上形成包括发光层的有机层也是本领域的常规技术手段，是本领域技术人员容易想到的常规操作。 对于区别技术特征（2），已被对比文件1公开，而且该特征在对比文件1中所起的作用与其在本申请中为解决其技术问题所起的作用相同，都是用于改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的阶梯覆盖，也就是说对比文件1给出了将该技术特征用于该对比文件2以解决其技术问题的启示。 对于区别技术特征（3），在半导体领域，透明导电氧化物薄膜属于半导体光电子材料，由于其具有较高的禁宽宽度，可见光高度透明、红外区的高度反射及较低的电阻率等特性，被广泛应用在显示器、太阳能电池等领域。铟锡氧化物ITO、铟锌氧化物IZO、氧化锌ZnO、氧化锡SnO2用作透明导电氧化物薄膜材料是很公知的。ITO薄膜具有优良的导电性、高可见光透过率、高红外区反射率、与玻璃基底结合牢固、易刻蚀形成电极图形、抗擦伤、良好的化学稳定性等优点。IZO具有高迁移率和较好的化学透明性，易于低温制备。ZnO薄膜具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质，薄膜生长温度低、电子迁移率较高、易于刻蚀、对衬底要求不高，在可见光范围有很高的透光率。SnO2薄膜具有高导电率、高投射率、以及较好的化学和热稳定性。根据对比文件2的启示，即第一和第二透明氧化物薄层为透明的、导电的、主要含有氧化铟、少量含有氧化锌的薄层以及第一和第二透明氧化物薄层分别起到粘合和阻挡的作用，结合本领域公知的透明导电氧化物材料，本领域技术人员很容易想到选择应用较为广泛的铟锌氧化物和氧化锌中的一种或两种作为氧化物薄层，设置在银层和基板之间，起到粘合银层和基板的作用，这些是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。 对于区别技术特征（4），在半导体领域，为了提高光引出率，将阻挡层的膜厚度设置为3-15nm是本领域技术人员的常规选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。 由此可知，在对比文件2的基础上结合对比文件1和公知常识得出该权利要求所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的，因此该权利要求所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，因而不具备创造性。 3、权利要求2和9不具备创造性，不符合专利法第二十二条第三款的规定。 权利要求2和9的附加技术特征已被对比文件1公开（见说明书第[0077]段、以及附图3）：下层的夹角θ1可以是50°，而且该特征在对比文件1中所起的作用与其在本申请中为解决其技术问题所起的作用相同，都是用于改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的阶梯覆盖。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2和9也不具备创造性。 4、权利要求3和10-11不具备创造性，不符合专利法第二十二条第三款的规定。 权利要求3和10-11的附加技术特征已被对比文件2公开（见对比文件2说明书第4栏第21-60行、第7栏第21-33行、以及附图1-2）：第二透明氧化物薄层13由氧化物材料形成，该氧化物主要是金属氧化物氧化铟，并含有次级金属氧化物，该次级金属氧化物的金属元素在银内实质上没有固体溶解度，少量的元素，例如锡、锌的氧化物可引入到第一透明氧化物薄层13以调整导电性、密度和强度；在基板SUB的表面上形成第一透明氧化物薄层12，在第一透明氧化物薄层12的表面上形成银基薄层11，在银基薄层11的表面上形成第二透明氧化物薄层13。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求3和10-11也不具备创造性。 5、权利要求4-7、12-13和15不具备创造性，不符合专利法第二十二条第三款的规定。 根据对比文件2的启示，即第一和第二透明氧化物薄层为透明的、导电的、主要含有氧化铟、少量含有氧化锌的薄层以及第一和第二透明氧化物薄层分别起到粘合和阻挡的作用，结合本领域公知的透明导电氧化物材料，本领域技术人员很容易想到选择应用较为广泛的铟锡氧化物、铟锌氧化物和氧化锌中的一种或多种作为氧化物薄层，设置在银层和基板之间，起到粘合银层和基板的作用，这些是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，并且也没有带来预料不到的技术效果；同时本领域技术人员也很容易想到选择应为较为广泛的铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化铟、氧化锡和氧化锌中的一种或多种作为氧化物薄层，设置在银层的表面上，起到阻止银与空气中的氧或硫反应的作用，这些是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求4-7、12-13和15也不具备创造性。 6、权利要求16-17不具备创造性，不符合专利法第二十二条第三款的规定。 权利要求16-17的附加技术特征都是本领域的常用技术手段，本领域的技术人员能够在现有技术的基础上，根据实际需要采用刻蚀的步骤、刻蚀的方法以及刻蚀的气体，这些常用技术手段对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求16-17也不具备创造性。 7、权利要求18-19不具备创造性，不符合专利法第二十二条第三款的规定。 权利要求18-19的附加技术特征都是本领域的常用技术手段，本领域的技术人员能够在对比文件2和对比文件1的基础上得到具有层叠有粘合层、银层和阻挡层的多层反射结构，并且在层叠方向上的横截面形状是一个锥形。因此，本领域的技术人员能够知晓利用本领域的常用技术手段制造该结构的方法，并且形成锥形形状的过程可以是先对下层进行蚀刻，然后再依次层叠上层，或者是选择合适的蚀刻比，利用它们的蚀刻速率不同而形成锥形结构，这些常用技术手段都是本领域的技术人员容易想到的，而这并没有产生预料不到的技术效果。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求18-19也不具备创造性。 8、对索尼株式会社相关意见的评述 索尼株式会社认为本申请具备创造性的理由是：对比文件1和2均没有披露修改后的独立权利要求1的区别技术特征：由绝缘层覆盖的圆角凸起形状，所述银层具有50nm到200nm的厚度，所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm，所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm；以及修改后的独立权利要求8的区别技术特征：在所述多个层上形成包括发光层的有机层，所述银层具有50nm到200nm的厚度，所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm，所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。且这些区别技术特征起到更容易增加后续沉积的膜层的粘附性的作用。 对此，专利复审委员会认为：独立权利要求1的技术特征“绝缘层”和独立权利要求1、8的“所述银层具有50nm到200nm的厚度，所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm”已被对比文件2公开。对于独立权利要求1的区别技术特征“圆角凸起形状”而言，根据对比文件1的启示，本领域技术人员很容易想到对层叠结构的横截面形状进行调整，将层叠结构的侧壁面的平面形状调整为圆角凸起的形状，具有圆角凸起形状的侧壁面的面积大于具有平面形状的侧壁面的面积，所以当后续沉积的绝缘层或保护层覆盖在层叠结构上时，由于接触面积增大会使得层叠结构和后续沉积的绝缘层或保护层之间的粘合力也增大，而这种调整是不需要付出创造性的劳动，并且也没有带来预料不到的技术效果。对于独立权利要求8的区别技术特征“在所述多个层上形成包括发光层的有机层”而言，在使用有机发光元件的有机发光显示器领域中，在层叠结构上形成包括发光层的有机层也是本领域的常规技术手段，是本领域技术人员容易想到的常规操作。对于独立权利要求1、8的区别技术特征“所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm”而言，在半导体领域，为了提高光引出率，将阻挡层的膜厚度设置为3-15nm是本领域技术人员的常规选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。 综上所述，索尼株式会社所陈述的本申请具备创造性的理由不能被接受。本申请的权利要求1-13、15-19仍然不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。专利复审委员会作出被诉决定：维持中华人民共和国国家知识产权局（简称国家知识产权局）于2013年3月29日对本申请作出的驳回决定。 索尼株式会社不服被诉决定，向本院提起行政诉讼称：本申请权利要求相对于所引用的对比文件1和对比文件2以及公知常识的结合具备创造性。一、本申请权利要求1相对于最接近的现有技术对比文件2的区别技术特征为：（1）在层叠方向上它的横截面形状是一个圆角凸起；（2）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌；（3）所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。关于区别技术特征（1），索尼株式会社认为：第一，对于本领域技术人员而言，将对比文件1与对比文件2相结合本身是非显而易见的。尽管专利复审委员会认为“根据对比文件1的启示，本领域技术人员很容易对层叠结构的横截面形状进行调整”，但专利复审委员会的认定和假设是建立在一个不合理的基础之上。因为本领域技术人员不可能会将对比文件1的方法应用于对比文件2的层叠结构，也得不到具有“向前的锥形”的横截面，更谈不上对其横截面形状进行调整。对比文件1公开了一种利用不同层之间的电解反应，使得覆盖层的侧面蚀刻过程及下层上部侧面蚀刻过程快于下层下部的侧面蚀刻过程，从而形成向前锥形的横截面形状的方法。而对比文件2所公开的层叠结构通过湿式蚀刻法最终得到侧面平齐的横截面形状的方法。对比文件1与对比文件2的层数量、各层的材料、蚀刻层叠结构所采用的蚀刻剂及横截面形状均不相同。本领域技术人员不可能想到将对比文件1所公开的用于形成横截面为向前的锥形形状的层叠结构的蚀刻方法应用于对比文件2。另外对比文件2的层叠结构甚至不像对比文件1那样采用金属材料制成，因此即使本领域技术人员尝试采用对比文件1的方法来蚀刻对比文件2公开的层叠结构，也难以预测其横截面形状。因此本领域技术人员不会想到使对比文件2中的层叠结构得到向前的锥形的横截面形状，而将对比文件1与对比文件2结合。在层叠结构的蚀刻加工中，对于特定材料、特定结构，要产生特定的横截面形状，需要特定物质成分的蚀刻液。但对比文件1、2均未公开将横截面加工成向前的锥形时，该采用何种蚀刻液，对本领域技术人员而言，这显然也不是公知常识。第二，对比文件1所公开的层叠结构与对比文件2所公开的层叠结构不是相对应的技术特征。对比文件2中的层叠结构是用于形成直接驱动液晶层的液晶分子的电极。对比文件1的层叠结构是用于TFT12中的栅级线（栅电极）、漏级线（电极）7以及源极线（源电极）8，而不是用于像素电极11的技术特征。因此对比文件1与对比文件2的层叠反射结构存在巨大差异，本领域技术人员不可能将对比文件1的技术方案应用于对比文件2中。即便本领域技术人员将对比文件1与对比文件2相结合，本领域技术人员也不可能会想到将对比文件1所公开的锥形形状改为圆角凸起的形状。本领域技术人员应当知晓对电极图案化的技术是通过蚀刻工艺来完成的。由于蚀刻工艺的复杂性，使得操作者不能随意控制侧壁的形状，而是需要极大地依赖特定的蚀刻条件。考虑到控制侧壁形状的困难，索尼株式会社认为本领域技术人员在没有教导的情况下，不会尝试去改变对比文件1中的侧壁形状，使其成为圆角凸起形状。关于区别技术特征（3），被诉决定认定“将阻挡层的膜厚度设置为3-15nm是本领域技术人员的常规选择，并且也没有带来预料不到的技术效果”，索尼株式会社认为专利复审委员会并没有提供任何证据证明本领域技术人员能够设计出厚度范围在3-15nm的阻挡层。例如对比文件2教导的数值范围是大于30nm。因此本领域技术人员在阅读对比文件2后不会尝试3-15nm的厚度。索尼株式会社第一次提出如果将银层厚度限定在50nm-200nm，则可以使用更薄的阻挡层以提高光引出率，从而带来预想不到的技术效果。综上，权利要求1相比于对比文件1和对比文件2及本领域的公知常识的结合具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。二、关于权利要求2-7。由于权利要求2-7是权利要求1的从属权利要求，因此当权利要求1具备创造性时，权利要求2-7也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。三、关于权利要求8。在被诉决定中，专利复审委员会认为，权利要求8相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻；在所述多个层上形成包括发光层的有机层；（2）以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面；（3）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物和氧化锌；（4）所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。索尼公司认为，权利要求8具备创造性。对于区别技术特征（1），虽然专利复审委员会认为利用掩膜对多个层同时进行全部蚀刻及在多个层上形成包括发光层的有机层是本领域的常规技术手段，是本领域技术人员容易想到的常规操作。但索尼株式会社认为，对比文件2公开的是一种用于液晶显示器的电极的导电多层膜。本领域技术人员在阅读对比文件2后，不可能会想到在液晶显示器的像素电极上再设置包括发光层的有机层。关于区别技术特征（2），专利复审委员会认为其已经被对比文件1公开，且该特征在对比文件1中起到的作用与其在本申请中为解决技术问题所起的作用相同，也就是说对比文件1给出了该技术特征用于该对比文件2以解决其技术问题的启示。索尼株式会社认为，同权利要求1的区别技术特征（1）的理由相同，对本领域技术人员来说，将对比文件1与对比文件2相结合本身是非显而易见的。对于区别技术特征（4），专利复审委员会认为：“为了提高光引出率，将阻挡层的膜厚度设置为3-15nm是本领域技术人员的常规选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。”但索尼株式会社认为，专利复审委员会并没有提供证据证明本领域技术人员能够设计出厚度范围超过3-15nm的阻挡层。例如对比文件2教导的数值范围是大于30nm。因此本领域技术人员在阅读对比文件2后不会尝试3-15nm的厚度。索尼株式会社第一次提出如果将银层厚度限定在50nm-200nm，则可以使用更薄的阻挡层以提高光引出率，从而带来预想不到的技术效果。综上，权利要求8相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识的结合具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。四、关于权利要求9-13、权利要求15-19的创造性。由于上述权利要求是权利要求8的从属权利要求，因此当权利要求8具备创造性时，权利要求9-13、15-19也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。综上所述，索尼株式会社认为专利复审委员会作出的被诉决定违反了相关法律、行政法规的规定，请求法院依法判决撤销被诉决定，并责令专利复审委员会就其复审请求重新作出决定。 被告专利复审委员会答辩称：其作出被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，审理程序合法，审查结论正确。索尼株式会社的诉讼理由不能成立，请求法院依法驳回索尼株式会社的诉讼请求。 本院经审理查明： 本申请的申请号为200910001357.0，名称为“层叠结构及其制造方法及显示元件和显示单元”的发明专利申请。申请人为索尼株式会社。本申请的申请日为2004年5月28日，优先权日为2003年5月28日，公开日为2009年6年17日。 经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2013年3月29日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-19不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。具体为：权利要求1相对于对比文件2的区别技术特征在于：其提供在具有平坦表面的基板的表面上，且在层叠方向上它的横截面形状是一个向前的锥形形状。该区别技术特征已被对比文件1公开，因此权利要求1不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。权利要求2的附加技术特征已被对比文件1公开，权利要求3-7的附加技术特征已被对比文件2公开，因此权利要求2-7也不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。权利要求8相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在基板的平坦表面上顺序层叠多个层，以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面；（2）在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻。区别技术特征（1）已被对比文件1公开，区别技术特征（2）是本领域的常用技术手段，因此权利要求8不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。权利要求9的附加技术特征已被对比文件1公开，权利要求10-15的附加技术特征已被对比文件2公开，权利要求16-19的附加技术特征是本领域的常用技术手段，因此权利要求9-19也不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。 驳回决定所依据的文本为：2012年11月14日提交的权利要求第1-19项，分案申请递交日2009年1月7日提交的说明书第1-130段、说明书附图图1-21、说明书摘要、摘要附图。驳回决定所针对的权利要求书如下： “1.一种层叠反射结构，其提供在具有平坦表面的基板的表面上，其通过层叠多个层来形成，且在层叠方向上它的横截面形状是一个向前的锥形形状，所述的多个层包括一由银或含银合金制成的银层、一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到150nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌。 2.一种依照权利要求1的层叠反射结构，其中由所述多个层的侧壁面与基板的所述平坦表面构成的锥度角在10°到70°的范围内。 3.一种依照权利要求1的层叠反射结构，其中所述阻挡层由金属化合物或导电氧化物制成，所述导电氧化物包括从由铟、锡和锌构成的组中选出的至少一种成分。 4.一种依照权利要求3的层叠反射结构，其中所述阻挡层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化铟；氧化锡和氧化锌。 5.一种依照权利要求3的层叠反射结构，其中所述阻挡层由含有铟，锡和氧的化合物制成。 6.一种依照权利要求3的层叠反射结构，其中所述粘合层由含有铟、锡和氧的化合物制成，所述阻挡层由含有铟、锌和氧的化合物制成。 7.一种依照权利要求3的层叠反射结构，其中所述粘合层和阻挡层由含有铟、锌和氧的化合物制成。 8.一种制造层叠反射结构的方法，包括下述步骤：在基板的平坦表面上顺序层叠多个层；在所述多个层上形成掩模；和通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻，以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面，形成一个由银或含银合金制成的银层作为所述的多个层之一，其中所述的多个层包括一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层，和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到150nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌。 9.一种依照权利要求8的制造层叠反射结构的方法，其中由所述多个层的侧壁面与基板的所述平表面构成的锥度角在10°到70°的范围内。 10.一种依照权利要求8的制造层叠反射结构的方法，其中顺序形成所述多个层的步骤包括下面的步骤：在所述基板的表面上形成一粘合层；在所述粘合层表面上形成所述的银层；和在所述银层的表面上形成保护银层的阻挡层。 11.一种依照权利要求10的制造层叠反射结构的方法，其中所述阻挡层由金属化合物或导电氧化物制成，所述导电氧化物包括从由铟、锡和锌构成的组中选出的至少一种成分。 12.一种依照权利要求11的制造层叠反射结构的方法，其中所述阻挡层的至少其中一个由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟，锡和氧的化合物；含有铟，锌和氧的化合物；氧化铟；氧化锡和氧化锌。 13.一种依照权利要求11的制造层叠反射结构的方法，其中所述阻挡层由含有铟、锡和氧的化合物制成。 14.一种依照权利要求11的制造层叠反射结构的方法，其中所述粘合层由含有铟、锡和氧的化合物制成，所述阻挡层由含有铟、锌和氧的化合物制成。 15.一种依照权利要求11的制造层叠反射结构的方法，其中所述粘合层和阻挡层由含有铟、锌和氧的化合物制成。 16.一种依照权利要求11的制造层叠反射结构的方法，其中同时将所述多个层全部蚀刻的步骤，通过使用含有一种成分的气体执行干式蚀刻的步骤，所述成分能够与所有多个层形成易挥发的化合物。 17.一种依照权利要求16的制造层叠反射结构的方法，其中所述蚀刻气体包含甲烷。 18.一种依照权利要求10的制造层叠反射结构的方法，其中通过下述步骤所述侧壁面形成向前的锥形的形状：首先通过有选择地移除所述阻挡层和银层来检测所述粘合层的暴露区，然后改变蚀刻条件，与在同时蚀刻所有多个层的所述步骤中的粘合层的蚀刻步骤一致，在所述侧壁面上形成一沉积保护膜。 19.一种依照权利要求10的制造层叠反射结构的方法，其中通过下述步骤所述侧壁面形成向前的锥形的形状：首先通过有选择地移除所述阻挡层和银层来检测所述粘合层的暴露区，然后改变蚀刻条件，在同时蚀刻所有多个层的所述步骤中，提高所述粘合层和所述基板之间的蚀刻选择比。” 索尼株式会社对上述驳回决定不服，于2013年7月1日向专利复审委员会提出了复审请求，同时提交了权利要求书的修改替换页（共19项），其修改在于：删除了权利要求1、8中的技术特征“含有铟、锡和氧的化合物；氧化锡”。索尼株式会社认为：本申请权利要求1、8中的粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物和氧化锌，该粘合层的材料和作用与对比文件2中第一透明氧化物薄层12的材料和作用均不相同。因此，本申请的权利要求1、8具有突出的实质性特点和显著的进步，具备创造性。索尼株式会社在复审请求时修改的权利要求1、8如下： “1.一种层叠反射结构，其提供在具有平坦表面的基板的表面上，其通过层叠多个层来形成，且在层叠方向上它的横截面形状是一个向前的锥形形状，所述的多个层包括一由银或含银合金制成的银层、一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到150nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物和氧化锌。 8.一种制造层叠反射结构的方法，包括下述步骤：在基板的平坦表面上顺序层叠多个层；在所述多个层上形成掩模；和通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻，以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面，形成一个由银或含银合金制成的银层作为所述的多个层之一，其中所述的多个层包括一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层，和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到150nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物；氧化锌。” 2013年7月22日，专利复审委员会依法受理了该复审请求。 专利复审委员会于2014年8月4日向索尼株式会社发出复审通知书，指出：权利要求6、14中限定的粘合层的成分与其引用的权利要求中限定的粘合层的成分相矛盾，所以导致权利要求6、14的保护范围不清楚，不符合《中华人民共和国专利法实施细则》（简称专利法实施细则）第二十条第一款的规定。权利要求1相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在层叠方向上它的横截面形状是一个向前的锥形形状；（2）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物和氧化锌。区别技术特征（1）已被对比文件1公开，区别技术特征（2）是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，因此权利要求1不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。权利要求8相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻；（2）以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面；（3）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物和氧化锌。区别技术特征（1）是本领域的常规技术手段，区别技术特征（2）已被对比文件1公开，区别技术特征（3）是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，因此权利要求8不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。权利要求2、9的附加技术特征已被对比文件1公开，权利要求3、10-11的附加技术特征已被对比文件2公开，权利要求4-5、7、12-13、15的附加技术特征是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，权利要求16-19的附加技术特征是本领域的常用技术手段，因此权利要求2-5、7、9-13、15-19也不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。此外，在复审通知书中还指出：假设索尼株式会社将技术特征“所述粘合层由含有铟、锡和氧的化合物制成”删除，那么修改后的权利要求6、14的附加技术特征是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，因此修改后的权利要求6、14也不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。 索尼株式会社于2014年11月19日提交了意见陈述书，同时提交了权利要求书的修改替换页（共19项），其修改在于：将权利要求1中的技术特征“一个向前的锥形形状”修改为“一个由绝缘层覆盖的圆角凸起形状”，权利要求1中增加了技术特征“含有铟、锡和氧的化合物；氧化锡”；权利要求8中增加了技术特征“在所述多个层上形成包括发光层的有机层”。索尼株式会社认为：对比文件1和2均没有披露修改后的独立权利要求1的区别技术特征：由绝缘层覆盖的圆角凸起形状，以及修改后的独立权利要求8的区别技术特征：在所述多个层上形成包括发光层的有机层。索尼株式会社在答复复审通知书时修改的权利要求1、8如下： “1.一种层叠反射结构，其提供在具有平坦表面的基板的表面上，其通过层叠多个层来形成，且在层叠方向上它的横截面形状是一个由绝缘层覆盖的圆角凸起形状，所述的多个层包括一由银或含银合金制成的银层、一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到150nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌。 8.一种制造层叠反射结构的方法，包括下述步骤：在基板的平坦表面上顺序层叠多个层；在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻，以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面，在所述多个层上形成包括发光层的有机层；和形成一个由银或含银合金制成的银层作为所述的多个层之一，其中所述的多个层包括一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层，和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到150nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物；氧化锌。” 专利复审委员会于2014年12月29日向索尼株式会社发出复审通知书，指出：权利要求14中限定的粘合层的成分与其引用的权利要求中限定的粘合层的成分相矛盾，所以导致权利要求14的保护范围不清楚，不符合专利法实施细则第二十条第一款的规定。权利要求1相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在层叠方向上它的横截面形状是一个圆角凸起形状；（2）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌。区别技术特征（1）已被对比文件1公开，区别技术特征（2）是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，因此权利要求1不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。权利要求8相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻；在所述多个层上形成包括发光层的有机层；（2）以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面；（3）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌。区别技术特征（1）是本领域的常规技术手段，区别技术特征（2）已被对比文件1公开，区别技术特征（3）是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，因此权利要求8不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。权利要求2、9的附加技术特征已被对比文件1公开，权利要求3、10-11的附加技术特征已被对比文件2公开，权利要求4-7、12-13、15的附加技术特征是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，权利要求16-19的附加技术特征是本领域的常用技术手段，因此权利要求2-7、9-13、15-19也不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。此外，在复审通知书中还指出：假设索尼株式会社将技术特征“所述粘合层由含有铟、锡和氧的化合物制成”删除，那么修改后的权利要求14的附加技术特征是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，因此修改后的权利要求14也不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。 索尼株式会社于2015年4月13日提交了意见陈述书，同时提交了权利要求书的修改替换页（共19项），其修改在于：将权利要求1、8中的技术特征“所述银层具有50nm到150nm的厚度”修改为“所述银层具有50nm到200nm的厚度”，权利要求1、8中增加了技术特征“所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm，所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm”。索尼株式会社认为：对比文件1和2均没有披露修改后的独立权利要求1的区别技术特征：由绝缘层覆盖的圆角凸起形状，所述银层具有50nm到200nm的厚度，所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm，所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm；以及修改后的独立权利要求8的区别技术特征：在所述多个层上形成包括发光层的有机层，所述银层具有50nm到200nm的厚度，所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm，所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。索尼株式会社在答复复审通知书时修改的权利要求1、8如下： “1.一种层叠反射结构，其提供在具有平坦表面的基板的表面上，其通过层叠多个层来形成，且在层叠方向上它的横截面形状是一个由绝缘层覆盖的圆角凸起形状，所述的多个层包括一由银或含银合金制成的银层、一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到200nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌，所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm，所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。 8.一种制造层叠反射结构的方法，包括下述步骤：在基板的平坦表面上顺序层叠多个层；在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻，以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面，在所述多个层上形成包括发光层的有机层；和形成一个由银或含银合金制成的银层作为所述的多个层之一，其中所述的多个层包括一提供在所述平坦表面与所述银层之间的粘合层，和一保护所述银层的阻挡层，所述阻挡层提供在所述银层的表面上，其中所述银层具有50nm到200nm的厚度，所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物；氧化锌，所述粘合层的膜厚度为从5nm到50nm，所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。” 2015年6月9日，专利复审委员会作出被诉决定。 诉讼中，索尼株式会社补充提交了证据1：《用于平板显示器的具有低电阻的基于银的多层涂覆的电极的发展》，载于《日本应用物理期刊》第39卷（2000），第1部分，第8号，第4484-4489页，2000年8月。 索尼株式会社补充提交了证据2：中国专利公开CN1502722A，说明书第1页倒数第4段至第2页第4段。 索尼株式会社补充提交了证据3：中国专利公开CN1484778A，说明书第9页第1-3段。 索尼株式会社提交的上述证据用于说明，无论从银层本身的角度出发，还是从包括第一和第二透明氧化层及银层的层状结构的角度出发，本领域技术人员都不可能想到将对比文件1的技术方案与对比文件2中的技术方案相结合。因此，对比文件1的方法应用于对比文件2中的层叠结构并不是显而易见的。 诉讼中，索尼株式会社表示对于被诉决定认定本申请权利要求14的保护范围不清楚，不符合专利法实施细则第二十条第一款规定的结论不持异议；对于本申请的各项权利要求是否具有创造性，索尼株式会社对被诉决定认定的本申请的权利要求1的区别技术特征（1）、（3），权利要求8的区别技术特征（1）、（2）、（4）以及权利要求4-7、12-13、15-19的结论有异议，对其他权利要求或区别技术特征的认定结论均不持异议。 以上事实，有被诉决定、对比文件1、对比文件2、补充证据1-3、当事人陈述等证据在案佐证。 本院认为： 根据各方当事人的诉辩主张，本案争议焦点在于本申请是否符合专利法第二十二条第三款关于创造性的规定。 根据专利法第二十二条第三款的规定，创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。 首先，对于权利要求1是否具有创造性，本院认为：各方认可本申请权利要求1相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在层叠方向上它的横截面形状是一个圆角凸起；（2）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锡和氧的化合物；含有铟、锌和氧的化合物；氧化锡和氧化锌；（3）所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。且基于上述区别特征可知，权利要求1相对于对比文件2实际所要解决的技术问题是：改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的粘合作用。对于区别技术特征（1），对比文件1公开了一种液晶显示器用的层叠电极结构，并具体公开了如下的技术特征：在具有平坦表面的基板100上设置有下层200和覆盖层300，其在层叠方向上是向前的锥形；而且该特征在对比文件1中所起的作用是用于改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的阶梯覆盖。根据对比文件1的启示，本领域技术人员很容易想到对层叠结构的横截面形状进行调整，将层叠结构的侧壁面的平面形状调整为圆角凸起的形状，圆角凸起形状的侧壁面的面积大于平面形状的侧壁面的面积，所以当后续沉积的绝缘层或保护层覆盖在层叠结构上时，由于接触面积增大使得层叠结构和后续沉积的绝缘层或保护层之间的粘合力增大，而这种调整是不需要付出创造性的劳动，并且也没有带来预料不到的技术效果。虽然索尼株式会社认为本领域技术人员即使采用对比文件1所述方法蚀刻对比文件2公开的层叠结构，也难以预测横截面形状，因此本领域技术人员不可能想到将对比文件1所公开的向前的锥形横截面方法应用于对比文件2的层叠结构中。但本申请权利要求1所要求保护的系一种结构组成，而非制造方法和工艺。因此，索尼株式会社的该项理由缺乏依据，本院不予支持。对于索尼株式会社认为现有技术中未披露横截面可以采用圆角凸起结构的理由，鉴于权利要求1实际所要解决的技术问题是改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的粘合作用，在索尼株式会社未进一步证明圆角凸起与锥形横截面相比具有更好的改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的粘合作用的情况下，应当认为对比文件1已经给出了相对于对比文件2所要解决问题的技术启示。对于区别技术特征（3），在半导体领域，为了提高光引出率，将阻挡层的膜厚度设置得更薄是本领域技术人员的常规选择。索尼株式会社亦未证明其将阻挡层厚度设置在3nm-15nm带来了预料不到的技术效果。因此，区别技术特征（3）亦属于本领域公知常识。综上，索尼株式会社关于本申请权利要求1具有创造性的主张缺乏事实及法律依据依据，本院不予支持。被诉决定认定结论正确，本院予以支持。 其次，对于权利要求8是否具有创造性，本院认为：各方认可本申请权利要求8相对于对比文件2的区别技术特征在于：（1）在所述多个层上形成掩模；通过利用所述掩模将所述多个层同时全部蚀刻；在所述多个层上形成包括发光层的有机层；（2）以一个向前的锥形形状形成所述多个层的侧壁面；（3）所述粘合层由从下列物质构成的组中选出的至少一种制成：含有铟、锌和氧的化合物和氧化锌；（4）所述阻挡层的膜厚度为从3nm到15nm。且基于上述区别特征可知，权利要求8相对于对比文件2实际所要解决的技术问题是：改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的阶梯覆盖以及粘合作用。虽然索尼株式会社主张区别技术特征（1）、（4）并非本领域公知常识，区别技术特征（2）对于本领域技术人员而言，将对比文件1与对比文件2相结合是非显而易见。但是，对于区别技术特征（1），通过利用掩膜来对多个层同时进行全部蚀刻是本领域的常规技术手段，是本领域技术人员容易想到的常规操作。在使用有机发光元件的有机发光显示器领域中，在层叠结构上形成包括发光层的有机层也是本领域的常规技术手段，是本领域技术人员容易想到的常规操作。对于区别技术特征（2），已被对比文件1公开，而且该特征在对比文件1中所起的作用与其在本申请中为解决其技术问题所起的作用相同，都是用于改善沉积在该层叠结构上的绝缘层或保护层的阶梯覆盖，也就是说对比文件1给出了将该技术特征用于该对比文件2以解决其技术问题的启示。对于区别技术特征（4），在半导体领域，为了提高光引出率，将阻挡层的膜厚度设置为3-15nm是本领域技术人员的常规选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。综上，索尼株式会社的主张没有事实及法律依据，本院不予支持。被诉决定认定结论正确，本院予以支持。 最后，对于权利要求9-13、15-19的创造性，本院认为：根据对比文件2的启示，即第一和第二透明氧化物薄层为透明的、导电的、主要含有氧化铟、少量含有氧化锌的薄层以及第一和第二透明氧化物薄层分别起到粘合和阻挡的作用，结合本领域公知的透明导电氧化物材料，本领域技术人员很容易想到选择应用较为广泛的铟锡氧化物、铟锌氧化物和氧化锌中的一种或多种作为氧化物薄层，设置在银层和基板之间，起到粘合银层和基板的作用，这些是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，并且也没有带来预料不到的技术效果；同时本领域技术人员也很容易想到选择应为较为广泛的铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化铟、氧化锡和氧化锌中的一种或多种作为氧化物薄层，设置在银层的表面上，起到阻止银与空气中的氧或硫反应的作用，这些是本领域技术人员在已知材料范围内的合理选择，并且也没有带来预料不到的技术效果。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求4-7、12-13和15也不具备创造性。权利要求16-17的附加技术特征都是本领域的常用技术手段，本领域的技术人员能够在现有技术的基础上，根据实际需要采用刻蚀的步骤、刻蚀的方法以及刻蚀的气体，这些常用技术手段对本领域的技术人员来说是显而易见的。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求16-17也不具备创造性。权利要求18-19的附加技术特征都是本领域的常用技术手段，本领域的技术人员能够在对比文件2和对比文件1的基础上得到具有层叠有粘合层、银层和阻挡层的多层反射结构，并且在层叠方向上的横截面形状是一个锥形。因此，本领域的技术人员能够知晓利用本领域的常用技术手段制造该结构的方法，并且形成锥形形状的过程可以是先对下层进行蚀刻，然后再依次层叠上层，或者是选择合适的蚀刻比，利用它们的蚀刻速率不同而形成锥形结构，这些常用技术手段都是本领域的技术人员容易想到的，而这并没有产生预料不到的技术效果。因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，从属权利要求18-19也不具备创造性。 综上，被告专利复审委员会作出的被诉决定查明事实清楚，适用法律、法规正确，符合法定程序，本院依法予以维持。原告索尼株式会社的相关诉讼主张均不能成立，本院不予支持。依据《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定，本院判决如下： 驳回原告索尼株式会社的诉讼请求。 案件受理费人民币一百元，由原告索尼株式会社负担（已交纳）。 如不服本判决，索尼株式会社可于本判决书送达之日起三十日内，中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会可于本判决书送达之日起十五日内，向本院递交上诉状，并按对方当事人人数提交副本，预交上诉案件受理费人民币一百元，上诉于中华人民共和国北京市高级人民法院。 审 判 长  袁 伟 人民陪审员  仝连飞 人民陪审员  梁 京 二〇一七年八月十日 法官助理何昊 书记员李晓帆