中华人民共和国北京知识产权法院行 政 判 决 书（2018）京73行初3897号原告得凯莫斯公司弗罗里达有限公司，住所地美利坚合众国特拉华州威尔明顿市市场街1007号。法定代表人帕特丽夏M.斯科特，助理法律总顾问兼首席知识产权顾问。委托代理人柴丽敏，北京市永新智财律师事务所律师。委托代理人杨仁海，男，汉族，1981年11月3日出生，住北京市丰台区，永新专利商标代理有限公司专利代理师。被告中华人民共和国国家知识产权局，住所地中华人民共和国北京市海淀区蓟门桥西土城路6号。法定代表人申长雨，局长。委托代理人刘鹏，中华人民共和国国家知识产权局审查员。委托代理人赵鑫，中华人民共和国国家知识产权局审查员。原告得凯莫斯公司弗罗里达有限公司（简称得凯莫斯公司）因发明专利驳回复审纠纷一案，不服中华人民共和国国家知识产权局原专利复审委员会（专利复审委员会）于2017年10月27日作出的第131965号复审决定书（简称被诉决定），于法定期限内向本院提起行政诉讼。本院于2018年4月20日受理后，依法组成合议庭，并于2019年7月24日公开开庭进行了审理。原告得凯莫斯公司的委托代理人柴丽敏、杨仁海，被告国家知识产权局的委托代理人刘鹏、赵鑫，到庭参加了诉讼。本案现已审理终结。被诉决定系原专利复审委员会针对得凯莫斯公司就其名称为“蚀刻切割玻璃基材的方法”的第201210369577.0号的发明专利申请（简称本申请）所提复审请求而作出。该决定以本申请的权利要求1-18不具备《中华人民共和国专利法》（简称《专利法》）第二十二条第三款规定的创造性为由维持国家知识产权局作出的驳回决定。得凯莫斯公司不服该决定，向本院提起行政诉讼，认为：一、被诉决定将对比文件1作为最接近的现有技术存在错误。本申请要求保护的是切割玻璃的方法，而对比文件1公开的是蚀刻玻璃的方法，蚀刻玻璃的深度未超过玻璃整体厚度的一半。因此，对比文件1与本申请在发明目的上存在实质差别，不适宜作为最接近现有技术。二、被诉决定认定区别特征有遗漏。本申请是切割玻璃基材的方法专利，而对比文件1仅仅公开了在玻璃上蚀刻出一个凹槽的方法。切割意味着将玻璃彻底切断，与仅仅蚀刻出一个凹槽存在区别。将“切割”与在玻璃基材上形成一定深度的划痕、凹槽或切断等同，是对“切割”一词的扩大理解，被诉决定遗漏了切割玻璃这一区别特征。三、被诉决定基于区别特征所认定的本申请权利要求1实际解决的技术问题存在错误。本申请说明书第十页明确记载本申请公开的方法能够提高蚀刻速率，降低侧蚀，增大棱角，而非被诉决定笼统概括的如何提高蚀刻切割效果。四、对比文件1与对比文件2结合并未带来任何技术启示，被诉决定在显而易见性的判断上是“事后诸葛亮”。具体而言，首先，对比文件1为了在玻璃基材上蚀刻出一个凹糟而非切割玻璃，即便结合对比文件2中的蚀刻液制备方法也无法达到本申请切割玻璃的效果。其次，对比文件2说明书中描述了要解决的技术问题是提高蚀刻玻璃的透明度、减少表面粗糙度、提高蚀刻液使用寿命等，并没有涉及本申请要解决的提高蚀刻速率、侧蚀减小、棱角增大的技术问题。即便本申请与对比文件2的蚀刻液组分相似也无法当然得出对比文件2能够得到与本申请相同侧蚀和棱角的结论。因此，对比文件2并没有给出任何技术启示去解决本申请欲解决的问题。第三，本申请公开的蚀刻液与对比文件2公开的蚀刻液配方相比，对比文件2中存在无机硝酸盐作为添加剂起到产生气泡、防止淤渣的作用而本申请不含有无机硝酸盐。无机硝酸盐是对比文件2中明确记载的组分，本领域技术人员没有动机将其从组合物中剔除。另外，修改后的权利要求1仅涵盖实施例8-10的技术方案，其对应的蚀刻速率均在12.1μm/min以上，最高为23.9μm/min,均显著高于对比文件2图5实施例显示的蚀刻速率。即便考虑累积蚀刻量，对比文件2实施例的蚀刻速率也低于本申请。基于目前的数据对比，可以证明本申请通过不添加无机硝酸盐加之使用权利要求1中限定的特定组分和含量组合获得了更好的蚀刻速率，属于“要素省略发明”的创造性判断规定，因此具备创造性。在引用的权利要求1具备创造性的情况下，从属权利要求2-17及方法延及的产品发明权利要求18也具备创造性。因此，本申请权利要求1-18均符合《专利法》第二十二条第三款的规定，请求法院判决撤销被诉决定，并判令被告重新作出决定。被告国家知识产权局辩称：一、切割是一种物理操作，对于本领域技术人员来说，切割玻璃仅仅是在玻璃基材上形成一定深度的划痕、凹槽或者切断，本申请权利要求1的切割玻璃与对比文件1中将玻璃蚀刻出凹槽相比仅仅是程度差别。对比文件1也强调了蚀刻时间是从1分钟到120分钟之间，也就是说如果蚀刻时间较长就会得到切割玻璃的效果，二者不能割裂开来。因此，本申请与对比文件1的发明目的与技术领域相同，可以作为最接近的现有技术。也未存在遗漏“切割玻璃”这一区别特征。二、原告所提及的本申请解决的实际技术问题是断章取义，混淆概念的结果。本专利说明书明确记载蚀刻速率增大、侧蚀小、棱角大这个技术效果是相比于仅含氢氟酸的蚀刻溶液相比产生的具体效果，而非与对比文件1作为最接近现有技术相比产生的区别特征而得到的解决的技术问题，被诉决定对解决技术问题的认定时基于本申请与对比文件1比较得到的，不存在错误。三、对于显而易见性的判断，首先，本申请配方中的的乙醇酸、硝酸、氢氟酸和水成分已经被对比文件2公开，其中硝酸与乙醇酸的配比范围上二者存在交叉，本申请虽然相比于对比文件对氢氟酸的范围进行了缩小，但在大范围中选取效果更好的小范围是本领域技术人员能够轻易得到的结果。其次，对比文件2相比于本申请多了无机硝酸盐作为第一添加剂，无机硝酸盐起到了防止淤渣堆积的作用，其中其重要作用的是无机硝酸盐中的硝酸根离子。而本申请由于采用了5%-15%的硝酸，其也包含了硝酸根离子，与对比文件2中的无机硝酸盐起到了相同的作用。因此，在采用硝酸的情况下省略无机硝酸盐作为添加剂是本领域技术人员能够想到的。且省略掉硝酸盐后其带来的增强蚀刻作用也随之消失。第三，对于技术效果而言，虽然对比文件2没有特别强调侧蚀与棱角的效果，但蚀刻速率直接影响侧蚀与棱角的大小，对比文件2能够获得相似的蚀刻速率解决侧蚀与棱角的问题，是本领域技术人员能够想到的。关于蚀刻速率的效果，由于本申请实施例的表1、2与对比文件2实施例图5一个测量平均蚀刻速率一个测量蚀刻液的使用寿命，二者不能直接比较。对比文件2已经公开相比仅使用氢氟酸蚀刻玻璃产生温度过高或影响蚀刻速率的问题，对本申请存在启示作用。因此，本领域技术人员在对比文件1基础上结合对比文件2和本领域常规技术手段能够显而易见的获得本申请的技术方案。因此，在权利要求1不具备创造性的前提下，本申请权利要求2-18均不符合《专利法》第二十二条第三款的规定，被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，应予以维持。本院经审理查明：本申请系名称为“蚀刻切割玻璃基材的方法”的201210369577.0号发明专利申请，申请日为2012年9月27日，公开日为2014年4月2日，申请人为得凯莫斯公司。经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2016年7月21日以权利要求1-21不符合《专利法》第二十二条第三款的规定为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为申请日提交的说明书摘要、摘要附图、说明书附图图1-图2（第1页）；2014年7月17日提交的说明书第1-136段（第1-16页）；2016年5月10日提交的权利要求第1-21项（第1-3页）。驳回决定引用的对比文件为：对比文件1：CN1631828A，公开日为2005年6月29日；发明名称为有机电致发光显示器玻璃后盖的制作方法。对比文件2：CN101481215A，公开日为2009年7月15日；发明名称为构成平板显示器的玻璃的蚀刻液组合物对比文件3：CN1763988A，公开日为2006年4月26日；发明名称为用于有机电子设备的制造方法。对比文件4：CN101071830A，公开日为2007年11月14日。发明名称为染料敏化太阳电池电极的制备方法。驳回决定所针对的权利要求书如下：“1.用于切割玻璃基材的方法，该方法包括：(i)提供玻璃基材；(ii)用保护膜覆盖所述玻璃基材；(iii)图案化所述保护膜以得到部分覆盖的玻璃基材，其中所述部分覆盖的玻璃基材是包含遮蔽区域和暴露区域；(iv)用蚀刻切割溶液在10℃～90℃下接触所述部分覆盖的玻璃基材1分钟～120分钟；(v)用水清洗经接触的玻璃基材；(vi)干燥经清洗的玻璃基材；和(vii)移除步骤(vi)的所述玻璃基材上的保护膜；其中，步骤(iv)中所述的蚀刻切割溶液由以下组分组成：(a)10.1重量％～20重量％的氢氟酸；(b)5重量％～20重量％的乙醇酸；(c)0重量％～30重量％的硝酸；和(d)30重量％～84.9重量％的水；其中，所述重量百分含量是基于所述蚀刻切割溶液的总重量，并且所述蚀刻切割溶液基本上不含氟化铵，与仅包含相同浓度的氢氟酸的蚀刻切割溶液相比，所述蚀刻切割溶液的蚀刻速率提高，使经切割的玻璃棱角增大和侧蚀减少。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述蚀刻切割溶液包含(a)12重量％～18重量％的氢氟酸。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述蚀刻切割溶液包含(b)5重量％～15重量％的乙醇酸。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述蚀刻切割溶液包含(c)5重量％～15重量％的硝酸。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述接触是通过浸没、浸入或喷淋进行。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述干燥是用风刀进行。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述干燥是在10～200℃下进行至少0.5分钟。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是选自钠钙硅玻璃、硅酸盐玻璃、氟硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、硼磷硅酸盐玻璃、氟锆酸盐玻璃和铅玻璃。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述玻璃基材是经强化的玻璃。10.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是平整的玻璃片材。11.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是厚度为300μm～2000μm的单层玻璃片材。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是厚度为900μm～6000μm的多层玻璃片材。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜是由耐氢氟酸的聚合物材料制成。14.根据权利要求13所述的方法，其中所述聚合物材料是选自聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚(氯乙烯)、聚(对苯二甲酸乙二醇酯)、聚丙烯、全氟磺酸聚合物和聚乙烯。15.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜的厚度为0.01mm～0.8mm。16.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜在其面向玻璃基材的一面上具有耐氢氟酸的粘合剂，所述粘合剂是选自橡胶、聚氨酯、聚丙烯酸酯、聚环氧化物及其混合物。17.根据权利要求1所述的方法，其中通过机器压合或人工将所述保护膜粘附在所述玻璃基材的两面上。18.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜的图案化是通过切割和移除该区域之上的保护膜，或通过光刻工艺形成图案；其中所述保护膜的切割是通过刀具、辊刀、激光切割/雕刻机或CNC等离子体切割机进行。19.根据权利要求18所述的方法，其中在所述保护膜上的图案在所述玻璃基材的两面上是对称和对齐的。20.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(iii)和/或步骤(vii)之后，任选地，用溶剂清除残余的粘合剂，所述溶剂选自甲醇、乙醇、丙酮或甲苯中的一种或多种。21.玻璃基材，其为通过权利要求1-20任一项所述的方法而制得的经切割玻璃基材。”得凯莫斯公司不服驳回决定于2016年11月7日向原专利复审委员会提出了复审请求，其中未提交修改文件。得凯莫斯公司认为：1.本申请切割玻璃基材的方法，能够提高蚀刻速率，不过度产生热量，能够制备较大棱角和较小侧蚀的强化玻璃制品，而对比文件1-4中均没有提到玻璃产品的棱角和侧蚀性能；2.对比文件2蚀刻组合物中的无机硝酸盐提高溶液的氧化能力，提高蚀刻能力，产生微小气泡，防止淤渣附着在玻璃表面，能够将指纹和其他有机物溶解，提高药液寿命，因此，本领域技术人员没有动机去除对比文件2蚀刻组合物中的无机硝酸盐；3.对比文件2中笼统地公开了大量的无机酸和羧酸，本申请通过具体的选择硝酸和乙醇酸，得到本申请的蚀刻液，提高蚀刻速率，能够制备较大棱角和较小侧蚀，获得了意料不到的技术效果。因此，本申请具有创造性。经形式审查合格，原专利复审委员会依法受理了该复审请求，并于2016年12月7日发出复审请求受理通知书，同时将其转送至原审查部门进行前置审查。原审查部门在前置审查意见书中认为权利要求不具备创造性，坚持驳回决定。随后，原专利复审委员会成立合议组对本案进行审理，并于2017年4月7日向的得凯莫斯公司发出复审通知书，指出：在对比文件1的基础上结合对比文件2及本领域常规技术手段得到权利要求1的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。从属权利要求2-12,15,17-21的附加技术特征或者被对比文件1公开或被对比文件2公开，或者是本领域的常规技术手段；从属权利要求13-14的附加技术特征被对比文件3公开或是本领域的常规技术手段；从属权利要求16的附加技术特征被对比文件4公开或是本领域的常规技术手段，因此也具备创造性。得凯莫斯公司于2017年7月24日提交了意见陈述书和权利要求书修改替换页（共3页18项），修改方式是将权利要求2-4的附加技术特征并入权利要求1中，同时对权利要求重新编号。修改后的权利要求书如下：1.用于切割玻璃基材的方法，该方法包括：(i)提供玻璃基材；(ii)用保护膜覆盖所述玻璃基材；(iii)图案化所述保护膜以得到部分覆盖的玻璃基材，其中所述部分覆盖的玻璃基材是包含遮蔽区域和暴露区域；(iv)用蚀刻切割溶液在10℃～90℃下接触所述部分覆盖的玻璃基材1分钟～120分钟；(v)用水清洗经接触的玻璃基材；(vi)干燥经清洗的玻璃基材；和(vii)移除步骤(vi)的所述玻璃基材上的保护膜；其中，步骤(iv)中所述的蚀刻切割溶液由以下组分组成：(a)12重量％～18重量％的氢氟酸；(b)5重量％～15重量％的乙醇酸；(c)5重量％～15重量％的硝酸；和(d)30重量％～84.9重量％的水；其中，所述重量百分含量是基于所述蚀刻切割溶液的总重量，并且所述蚀刻切割溶液基本上不含氟化铵，与仅包含相同浓度的氢氟酸的蚀刻切割溶液相比，所述蚀刻切割溶液的蚀刻速率提高，使经切割的玻璃棱角增大和侧蚀减少。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述接触是通过浸没、浸入或喷淋进行。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述干燥是用风刀进行。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述干燥是在10～200℃下进行至少0.5分钟。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是选自钠钙硅玻璃、硅酸盐玻璃、氟硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、硼磷硅酸盐玻璃、氟锆酸盐玻璃和铅玻璃。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述玻璃基材是经强化的玻璃。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是平整的玻璃片材。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是厚度为300μm～2000μm的单层玻璃片材。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是厚度为900μm～6000μm的多层玻璃片材。10.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜是由耐氢氟酸的聚合物材料制成。11.根据权利要求10所述的方法，其中所述聚合物材料是选自聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚(氯乙烯)、聚(对苯二甲酸乙二醇酯)、聚丙烯、全氟磺酸聚合物和聚乙烯。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜的厚度为0.01mm～0.8mm。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜在其面向玻璃基材的一面上具有耐氢氟酸的粘合剂，所述粘合剂是选自橡胶、聚氨酯、聚丙烯酸酯、聚环氧化物及其混合物。14.根据权利要求1所述的方法，其中通过机器压合或人工将所述保护膜粘附在所述玻璃基材的两面上。15.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜的图案化是通过切割和移除该区域之上的保护膜，或通过光刻工艺形成图案；其中所述保护膜的切割是通过刀具、辊刀、激光切割/雕刻机或CNC等离子体切割机进行。16.根据权利要求15所述的方法，其中在所述保护膜上的图案在所述玻璃基材的两面上是对称和对齐的。17.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(iii)和/或步骤(vii)之后，任选地，用溶剂清除残余的粘合剂，所述溶剂选自甲醇、乙醇、丙酮或甲苯中的一种或多种。18.玻璃基材，其为通过权利要求1-17任一项所述的方法而制得的经切割玻璃基材。得凯莫斯公司认为：本申请的蚀刻切割溶液是特定含量范围的氢氟酸、乙醇酸、硝酸和水，本领域技术人员没有动机省去对比文件2蚀刻液组合物中的必要组分，如无机硝酸盐、氟系表面活性剂，对比文件2实施例1-6中无机酸没有使用硝酸；对比文件2中的无机硝酸盐回增大溶液的盐含量，导致更多沉淀并减小蚀刻速率，添加表面活性剂会产生气泡，降低对侧蚀和棱角的控制；而且对比文件1-4均未提及侧蚀和蚀刻角的技术问题，利用本申请的蚀刻液能够获得具有较大的棱角和较小的侧蚀的强化玻璃产品。在上述程序的基础上，原专利复审委员会认为本案事实已经清楚，于2017年10月27日作出被诉决定。决定理由如下：1、关于审查文本复审程序中复审请求人于2017年7月24日答复复审通知书时提交了权利要求书修改替换页（共3页18项）。符合《专利法实施细则》及《专利审查指南》对权利要求书修改时间的规定，因此，复审请求审查决定所针对的文本为：复审请求人在申请日提交的说明书摘要、摘要附图、说明书附图图1-图2（第1页）；2014年7月17日提交的说明书第1-136段（第1-16页）；以及2017年7月24日提交的权利要求第1-18项（第1-3页）。2、关于《专利法》第二十二条第三款《专利法》第二十二条第三款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。如果要求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，且现有技术中给出了将上述区别技术特征应用到该最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示，这种启示会使本领域技术人员在面对所述技术问题时，有动机改进该最接近的现有技术并获得要求保护的技术方案，则该技术方案是显而易见的，不具备创造性。本复审请求审查决定引用对比文件如下：对比文件1：CN1631828A，公开日为2005年6月29日；对比文件2：CN101481215A，公开日为2009年7月15日；对比文件3：CN1763988A，公开日为2006年4月26日；对比文件4：CN101071830A，公开日为2007年11月14日。本申请权利要求1要求保护用于切割玻璃基材的方法。对比文件1是最接近的现有技术，公开了有机电致发光显示器玻璃后盖的制作方法，具体公开了以下技术特征：A、选择适当大小的平面玻璃板10并进行清洗（相当于权利要求1中“(i)提供玻璃基材”）；B、在清洗干净的平面玻璃板10的正面粘附上一层单面有粘性的抗蚀刻保护膜7（相当于权利要求1中“(ii)用保护膜覆盖所述玻璃基材”），例如可采用普通的透明胶，其厚度在0.1微米-500微米之间，视保护膜7抗蚀刻能力而定，采用300微米的厚度；该保护膜7主要起抗蚀刻的作用，有保护膜7的部分能够抵挡玻璃蚀刻液的蚀刻，而没有保护膜7的部分将会被蚀刻，形成所需的凹槽；C、在抗蚀刻保护膜7上用激光切割出需要蚀刻的所述凹槽21和用于与显示器平面玻璃前盖1对位贴合用的对位标的外形图案，并用机械方法撕掉图案内的抗蚀刻保护膜7（相当于权利要求1中“(iii)图案化所述保护膜以得到部分覆盖的玻璃基材，其中所述部分覆盖的玻璃基材是包含遮蔽区域和暴露区域”）；D、把两片经步骤C形成蚀刻图案的玻璃板背靠背贴合在一起，对有贴缝的四周边缘采取密封连接措施；E、将上述步骤D中背靠背贴合在一起的两玻璃板10使用含有氟离子的酸性蚀刻液进行蚀刻，直至蚀刻出所需的深度，根据需要的蚀刻的深度、蚀刻液浓度和蚀刻方式的不同，刻蚀的时间在1分钟至2个小时之间（相当于权利要求1中“(iv)用蚀刻切割溶液接触所述部分覆盖的玻璃基材1分钟-120分钟”）；蚀刻的方法可以是浸泡蚀刻，也可以是喷淋蚀刻；F、用有机溶剂或机械方法将玻璃板10表面这层有粘性的抗蚀刻保护膜7去除干净（相当于权利要求1中“(vii)移除所述玻璃基材上的保护膜”），并把背靠背贴合在一起的两玻璃板10分离开并按显示器的设计尺寸进行切割，即成所述有机电致发光显示器的玻璃后盖2（参见说明书第3-4页具体实施方式，图1-3）。本申请权利要求1要求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比，区别特征在于：（1）步骤(iv)中所述的蚀刻切割溶液包含：(a)12重量%-18重量%的氢氟酸；(b)5重量%-15重量%的乙醇酸；(c)5重量%-15重量%的硝酸；和(d)30重量%-84.9重量%的水；其中，所述重量百分含量是基于所述蚀刻切割溶液的总重量，并且所述蚀刻切割溶液基本上不含氟化铵，与仅包含相同浓度的氢氟酸的蚀刻切割溶液相比，所述蚀刻切割溶液的蚀刻速率提高，使经切割的玻璃棱角增大和侧蚀减少；（2）蚀刻切割溶液与玻璃基材在10℃-90℃下接触；用水清洗经接触的玻璃基材；干燥经清洗的玻璃基材。基于上述区别特征，权利要求1实际所解决的技术问题是如何提高刻蚀切割的效果。针对上述区别特征（1），对比文件2公开了一种构成平板显示器的玻璃的蚀刻液组合物，具体公开了以下技术特征：该蚀刻液组合物由如下部分组成：5重量％-20重量％的HF；10重量％-50重量％（与本申请限定的硝酸含量5-15重量％范围交叉）的一种以上的无机酸，上述无机酸从由H2SO4、H3PO4、HCl、H2CO3、HNO3和HClO4组成的组中选出；0.5重量％-10重量％的（与本申请限定乙醇酸的含量5-15重量％范围交叉）羧酸；0.01重量％-5重量％的作为第一添加剂的无机硝酸盐；以及余量的水；上述羧酸是从由甲酸、乙酸、枸橼酸、乙二酸、马来酸、丙二酸、丁二酸、苹果酸、甲基丙烯酸、丙酸、山梨酸、柠檬酸、十一碳烯酸、新癸酸、油酸、葡萄糖酸、乙醇酸和它们的混合物组成的组中选出的羧酸（参见权利要求1和4）；并且在实施例中进一步记载了蚀刻液组合物中羧酸为乙醇酸。由此可见，对比文件2公开了一种蚀刻切割液的组成及含量，该蚀刻切割液在对比文件2中的作用与本申请中相同，对玻璃基材进行刻蚀，并且具有蚀刻能力强、蚀刻效率提高的技术效果，对比文件2给出了将蚀刻切割液应用于对比文件1解决其技术问题的启示。而且，本领域技术人员在对比文件2公开的HF含量宽范围内通过有限的试验容易确定HF的合适添加量；无机硝酸盐在对比文件2中是作为一种添加剂，其作用是用来产生微小气泡，防止微渣附在玻璃表面，从而能够进一步提高蚀刻能力，无机硝酸盐和无机酸硝酸在刻蚀溶液中的作用类似对于所属领域的技术人员而言是已知的，当蚀刻溶液中省略掉无机硝酸盐时，其带来的增强蚀刻作用也随之消失，因此，本领域技术人员根据蚀刻溶液具体应用的需要，有动机不添加作用已知的无机硝酸盐添加剂，其技术效果也是本领域技术人员可以预料的。针对上述区别特征（2），在已知刻蚀液的组成成分的情况下，本领域技术人员有动机根据刻蚀玻璃的需要调整刻蚀液刻蚀时的温度，而用水清洗经接触的玻璃基材、干燥经清洗的玻璃基材也是所属领域的常规技术手段。综上所述，在对比文件1的基础上结合对比文件2以及本领域的常规技术手段得到权利要求1的技术方案对于本领域技术人员来说是显而易见的，权利要求1所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求2引用权利要求1。对比文件1公开了以下技术特征：蚀刻的方法可以是浸泡蚀刻，也可以是喷淋蚀刻（参见说明书第4页第1段）。当其引用的权利要求1不具备创造性时，权利要求2不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求3-4引用权利要求1。风刀进行干燥是所属领域常见的干燥方式，在干燥过程中，选择合适的干燥温度及时间也是所属领域的常规技术手段，其技术效果是可以预料的。当其引用的权利要求1不具备创造性时，权利要求3-4不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求5引用权利要求1。其限定的玻璃种类是本领域常见的玻璃基材。当其引用的权利要求1不具备创造性时，权利要求5不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求6引用权利要求5。在实际应用中，当对玻璃的强度有特别的需要时，本领域技术人员有动机对将玻璃基材进行强化处理。当其引用的权利要求5不具备创造性时，权利要求6不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求7-9引用权利要求1。根据实际应用的需要，本领域技术人员有动机选择所述玻璃基材是平整的玻璃片材，并对其基材的厚度及层数进行调整和选择，其技术效果也是本领域技术人员能够预料得到的。当其引用的权利要求1不具备创造性时，权利要求7-9不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求10-11是从属权利要求。对比文件3公开了一种用于有机电子设备的制造方法，具体公开了以下技术特征：打磨基底第一表面的第一步骤；在第一表面上施加保护性聚合物层的第二步骤；通过蚀刻去除基底第一表面背面的第二表面使得基底变薄的第三步骤；在蚀刻的第二表面上施加含有聚合物材料的聚合物层的第四步骤；去除保护性聚合物层的第五步骤；和在去除保护性聚合物层的第一表面上形成有机电子设备的第六步骤。保护性聚合物膜含有作为其主要成分的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚砜、聚砜、聚醚酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰胺、环烯烃聚合物或其共聚物、热固性乙烯基酯树脂、热固性双酚A树脂、丙烯酸树脂和苯酚酚醛清漆树脂中的任一种（参见权利要求1和4）。由此可见，对比文件3公开了聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺等作为基板刻蚀用保护材料，上述特征在对比文件3中的作用与本申请中相同，都是为了在刻蚀过程中对基板进行保护且耐氢氟酸腐蚀。本领域技术人员根据上述启示，有动机选择其他相似的聚合物材料，如：聚四氟乙烯、聚(氯乙烯)、聚丙烯、全氟磺酸聚合物和聚乙烯来对刻蚀的基材进行保护，并且其技术效果也是可以预料得到的。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求10-11不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求12是从属权利要求。对比文件1公开了以下技术特征：普通的透明胶，其厚度在0.1微米-500微米之间，视保护膜7抗蚀刻能力而定，采用300微米的厚度（参见说明书第3页倒数第4段）。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求12不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求13是从属权利要求。对比文件4公开了一种染料敏化太阳电池电极的制备方法，具体公开了以下技术特征：在电极上或者电极两侧覆盖一层高分子粘合剂或者低温玻璃粉、陶瓷膜等绝缘材料，所述的高分子粘合剂是指：环氧树脂、酚醛树脂、聚氨脂、聚丙烯酸酯类树脂、各种有机硅胶、聚乙烯类，聚丙烯类，或聚甲基丙烯酸类等烯烃类聚合物薄膜材料。化学刻蚀方法是指采用氢氟酸、或氢氧化钠、或氢氧化钾在在染料敏化太阳电池的基底上腐蚀出凹槽（参见权利要求1、3和9）。由此可见，对比文件4公开了高分子粘合剂环氧树脂、聚氨脂、聚丙烯酸酯类树脂能够耐氢氟酸腐蚀，上述技术特征在对比文件4中的作用与本申请中相同，都是为了在氢氟酸刻蚀过程中起保护作用，本领域技术人员根据对比文件4的启示，有动机使用上述具有耐氢氟酸腐蚀作用的粘合剂将保护膜材料粘合在待刻蚀的玻璃基板上，其技术效果也是可以预料得到的。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求13不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求14是从属权利要求。通过机器压合或人工将所述保护膜粘附在所述玻璃基材的两面上是所属领域的常规技术手段。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求14不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求15是从属权利要求。对比文件1公开了以下技术特征：在抗蚀刻保护膜7上用激光切割出需要蚀刻的所述凹槽21和用于与显示器平面玻璃前盖1对位贴合用的对位标的外形图案，并用机械方法撕掉图案内的抗蚀刻保护膜7（参见说明书第3页倒数第3段）。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求15不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求16是从属权利要求。根据实际的需要，本领域技术人员有动机控制所述保护膜上的图案在所述玻璃基材的两面上是对称和对齐的。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求16不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求17是从属权利要求。对比文件1公开了以下技术特征：用有机溶剂或机械方法将玻璃板10表面这层有粘性的抗蚀刻保护膜7去除干净（参见说明书第4页第2段）。甲醇、乙醇、丙酮或甲苯也是所属领域的常规溶剂，本领域技术人员有动机选择上述溶剂中的一种或多种来清除残余的粘合剂。当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求17不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求18请求保护玻璃基材，其通过权利要求1-17任一项所述的方法而制得的经切割玻璃基材。对比文件1公开了以下技术特征：选择适当大小的玻璃板(10)并进行清洗，把背靠背贴合在一起的两玻璃板(10)分离并按显示器的设计尺寸进行切割即成所述有机电致发光显示器的玻璃后盖(2)（参见说明书第3-4页具体实施方式）。权利要求18要求保护的技术方案与对比文件1公开的内容相比区别在于权利要求18采用的是权利要求1-17任一项所述的方法而制得。而权利要求1-17任一项所述的方法不具备创造性（参见上述意见）。综上所述，权利要求18所要求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。3、关于得凯莫斯公司的意见陈述得凯莫斯公司认为：本申请的蚀刻切割溶液是特定含量范围的氢氟酸、乙醇酸、硝酸和水，本领域技术人员没有动机省去对比文件2蚀刻液组合物中的必要组分，如无机硝酸盐、氟系表面活性剂，对比文件2实施例1-6中无机酸没有使用硝酸；对比文件2中的无机硝酸盐回增大溶液的盐含量，导致更多沉淀并减小蚀刻速率，添加表面活性剂会产生气泡，降低对侧蚀和棱角的控制；而且对比文件1-4均未提及侧蚀和蚀刻角的技术问题，利用本申请的蚀刻液能够获得具有较大的棱角和较小的侧蚀的强化玻璃产品。对此，专利复审委员会认为：1、评述本申请的方案时考虑的是对比文件2公开的全部内容而不是仅考虑对比文件2实施例1-6公开的内容；对比文件2公开了无机酸可以选择硝酸（参见说明书第2页倒数第2段），本领域技术人员有动机选择硝酸作为蚀刻液的具体组分；2、对比文件2公开了以下技术特征：无机酸作用是与玻璃成分中的阳离子结合，形成水溶性淤渣，防止淤渣再附着在玻璃表面，提高溶液的氧化能力，提高蚀刻能力；作为添加剂的无机硝酸盐能够提高溶液的氧化能力，提高蚀刻能力，产生微小气泡，防止淤渣附着在玻璃表面，能够将指纹和其他有机物溶解，提高药液寿命（参见说明书第2页倒数第2段，第3页第2段），由此可见，对比文件2中的无机硝酸盐的作用和无机酸的作用类似，无机硝酸盐是作为添加剂加入蚀刻组合物中，其目的是进一步提高蚀刻能力，其中本申请实施例3的蚀刻速率是6.4μm/min，对比文件2图5中显示的蚀刻速率能够在10-12μm/min，因此，在不要求过高蚀刻速率的条件下，本领域技术人员根据需要蚀刻能力的需求，有动机选择不添加能够提高蚀刻速率的无机硝酸盐，而本申请和对比文件1-2的均是原理相同的湿法刻蚀，刻蚀包括各向同性蚀刻和各向异性蚀刻，而侧蚀是由于各向同性刻蚀时各个方向的刻蚀速率几乎相同，导致掩膜下方的材料也被刻掉，同时形成相应的棱角，由此可知，刻蚀液的刻蚀速率直接影响侧蚀的大小和棱角的大小，而在对比文件2公开了本申请相应含量的乙醇酸、硝酸和氢氟酸的刻蚀切割溶液情况下，能够获得相似的刻蚀速率，因此，采用对比文件2的蚀刻液进行玻璃基材切割时会获得侧蚀小，棱角大、不过度产生热量的技术效果。综上所述，得凯莫斯公司的意见陈述不具有说服力。综上，专利复审委员会以本专利权利要求1-18不符合《专利法》第二十二条第三款的规定为由，维持国家知识产权局于2016年7月21日对本申请作出的驳回决定。本院庭审中，原告得凯莫斯公司明确表示2-17的从属权利要求的创造性是基于独立权利要求1具备创造性，不涉及从属附加特征的创造性审查。本申请说明书中记载有如下内容：“技术领域：本发明涉及使用氢氟酸、乙醇酸和人选存在的硝酸的蚀刻切割溶液来蚀刻切割玻璃基材的方法”“化学蚀刻是将大尺寸的玻璃切割成小块的应用前景的选择”“与用于切割玻璃的其他使用仅含氢氟酸的蚀刻溶液的蚀刻方法相比，本发明的方法使经切割玻璃基材具有三个主要的益处。首先，本发明的方法具有提高的蚀刻速率，并且不会突然产生过多的热量而且蚀刻制程失去控制。第二，本发明的方法产生具有降低侧蚀的玻璃基材。第三，本发明的方法产生具有更大棱角的玻璃基材，通过将上述玻璃基材与蚀刻切割液接触足够长的时间，就可将暴露区域的玻璃基材蚀刻溶解而分开。”对比文件1说明书中记载有如下内容：“本发明涉及一种有机电致发光显示器的制作方法，尤其涉及其玻璃后盖的制作方法。”“根据需要的蚀刻的深度、蚀刻液浓度和蚀刻方式的不同，蚀刻的时间在1分钟至2个小时之间”“对这种玻璃后盖的要求是要在平面玻璃上蚀刻底部平整的凹槽”。对比文件2说明书中记载有如下内容：“本发明的目的还在于，提供一种构成平板显示器的玻璃的蚀刻液组合物，其使得淤渣产生量减少，废水处理费用降低，被蚀刻的玻璃的透明度和均匀度良好，蚀刻效率（蚀刻张数）有所提高。”“减少氢氟酸的使用量，又具有强而稳定的蚀刻能力，且蚀刻质量良好。”另查，根据中央机构改革部署，原专利复审委员会的相关职责由国家知识产权局统一行使。上述事实，有被诉决定、得凯莫斯公司于2017年7月24日提交的权利要求书修改替换页1-18项、2014年7月17日提交的说明书1-136段、说明书附图、摘要附图、说明书附图、对比文件1-4以及本院庭审笔录等证据在案佐证。本院认为：本案的焦点问题在于本申请权利要求1是否符合《专利法》第二十二条第三款规定的创造性要求。《专利法》第二十二条第三款规定，发明的创造性是指同申请日以前现有的技术相比具有突出的实质性特点和显著的进步。《专利审查指南》将创造性判断划分为三个步骤，即三步法：确定最接近的现有技术；确定发明的区别特征和发明实际解决的技术问题；判断要求保护的发明对本领域的技术人员来说是否显而易见。结合本案，具体阐述如下：一、被诉决定将对比文件1作为最接近现有技术是否正确“三步法”的第一步便是确定作为创造性判断“出发点”的最接近现有技术。依据《专利审查指南》第二部分第四章3.2.1.1的规定，“最接近现有技术可以是与要求保护的发明技术领域相同，所要解决的技术问题、技术效果或者用途最接近或公开了发明的技术特征最多的现有技术，或者虽然与要求保护的发明技术领域不同，但能够实现发明的功能，并且公开发明的技术特征最多的现有技术。”也就是说，判断一项现有技术可否作为最接近的对比文件使用，需要从所述技术领域、所解决的技术问题、技术效果或者用途、以及是否能够实现发明的功能、公开发明的技术特征的多少等多方面进行判断。本案中，本申请的说明书记载技术领域为“本发明涉及使用氢氟酸、乙醇酸和任选存在的硝酸的蚀刻切割溶液来蚀刻切割玻璃基材的方法”。对比文件1公开了“有机电致发光显示器玻璃后盖的制作方法”，记载技术领域为“本发明涉及一种有机电致发光显示器的制作方法，尤其涉及其玻璃后盖的制作方法”。说明书同时记载：“使用含有氟离子的酸性蚀刻液进行蚀刻，直至蚀刻出所需的深度，但蚀刻深度不能超过玻璃一半。”可见，二者均涉及蚀刻玻璃基材，属于相同技术领域。追求的蚀刻深度虽不同，但均针对为蚀刻液湿蚀问题。如被诉决定所述，对比文件1中公开的提供玻璃基材、粘附保护膜、制造需蚀刻图案、采用蚀刻液蚀刻，去除保护膜等技术特征与本申请相当，对比文件1较大程度的公开了本申请的技术特征。因此，被诉决定将对比文件1作为最接近现有技术对本申请进行评价并无不当。二、被诉决定确定的区别特征及实际解决的技术问题是否正确在“三步法”的第二步中，主要分析发明与最接近的现有技术相比存在哪些区别特征，然后根据这些区别特征所能达到的技术效果确定发明实际解决的技术问题。其中，区别特征是通过比较本专利和最接近现有技术而得来的。本案中，原告对于被诉决定认定的权利要求1与对比文件1的区别特征（1）、（2）没有异议，但认为遗漏了“切割玻璃基材”这一区别特征。判断“切割玻璃基材”是否为区别特征不能仅仅根据技术方案的文字记载，而应该站在本领域技术人员的角度审视技术方案本身。本申请发明目的在于切割、切断玻璃，对比文件1公开的是蚀刻玻璃凹槽，旨在不切断玻璃的前提下将玻璃蚀刻出一定深度，二者使用的文字描述虽然存在差别，但对本领域技术人员来说从开始蚀刻出一定深度到最终切断仅仅是蚀刻时间长短的差异，相同的蚀刻深度对厚度较小的玻璃而言是切断，对厚度较大的玻璃而言则是蚀刻一定的凹糟。因此，切割玻璃与蚀刻玻璃实质相同。被诉决定未将“切割玻璃基材”作为区别特征，认定正确。在确定了区别特征后，就要根据该区别特征所能达到的技术效果确定发明实际解决的技术问题，即应当基于区别特征使本申请技术方案相对于最接近现有技术所带来的改进的技术效果确定实际解决的技术问题。本案中，如被诉决定所述本申请与最接近现有技术相比有两个区别特征，包括：“（1）步骤(iv)中所述的蚀刻切割溶液包含：(a)12重量%-18重量%的氢氟酸；(b)5重量%-15重量%的乙醇酸；(c)5重量%-15重量%的硝酸；和(d)30重量%-84.9重量%的水；其中，所述重量百分含量是基于所述蚀刻切割溶液的总重量，并且所述蚀刻切割溶液基本上不含氟化铵，与仅包含相同浓度的氢氟酸的蚀刻切割溶液相比，所述蚀刻切割溶液的蚀刻速率提高，使经切割的玻璃棱角增大和侧蚀减少；（2）蚀刻切割溶液与玻璃基材在10℃-90℃下接触；用水清洗经接触的玻璃基材；干燥经清洗的玻璃基材。”对比文件1公开了蚀刻玻璃的具体步骤，但蚀刻液仅使用含有氟离子的酸性蚀刻液，该蚀刻液能够实现玻璃基材的蚀刻，但并未追求蚀刻液能达到更高的蚀刻速率、玻璃基材棱角更大及侧蚀更小的效果。因而，本领域技术人员可以知晓，本申请的方案基于上述区别特征，所产生的效果是使得本申请中蚀刻玻璃速率更高、蚀刻出的玻璃棱角更大、侧蚀更小，这也正是区别特征所要解决的技术问题。被诉决定将实际解决的技术问题归纳为“如何提高蚀刻切割的效果。”该技术问题的归纳相较于区别特征所要解决的蚀刻速率更高、玻璃棱角更大、侧蚀更小的问题，属于上位、宽泛的概念。如果将实际解决的技术问题定位过于宽泛，容易导致在三步法第三步显而易见性的判断中，由于其他现有技术公开了宽泛技术问题中的某一具体效果，而被误认为起到了相同的作用，因此可以很容易地与最接近现有技术结合，据此得到错误的创造性结论，导致“事后诸葛亮”的情形。但是，尽管被诉决定对实际解决的技术问题归纳的较为概括，三步法认定的第三步显而易见性的判断是基于现有技术中是否给出区别特征应用到该最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示。在区别特征归纳正确的前提下，技术问题过于宽泛是否会影响改进现有技术问题的动机的判断结论，法院仍需要进一步作出认定。三、被诉决定在本申请权利要求1创造性认定中关于显而易见性的判断是否正确《专利审查指南》规定，在判断要求保护的发明对本领域的技术人员来说是否显而易见时，要从最接近的现有技术和发明解决的技术问题出发，判断要求保护的发明对本领域的技术人员来说是否显而易见。当所述区别特征为另一份对比文件中披露的相关技术手段，该技术手段在该对比文件中所起的作用与该区别特征在要求保护的发明中为解决该重新确定的技术问题所起的作用相同时通常可以认定存在结合的技术启示。结合本案，对比文件2公开的是“构成平板显示器的玻璃的蚀刻液组合物”，该组合液的作用在于“减少氢氟酸的使用量，又具有强而稳定的蚀刻能力，且蚀刻质量良好。”对比文件2虽然没有将组合液的作用直接表述为蚀刻速率增大、玻璃棱角较大、侧蚀较小的效果，但如被诉决定所述，“对比文件2能够获得与本申请相似的蚀刻速率，蚀刻速率直接影响侧蚀的大小和棱角的大小，因此采用对比文件2的蚀刻液进行玻璃基材切割是会获得侧蚀小、棱角大、不过度产生热量的技术效果。”可见，被诉决定在显而易见性判断时对棱角、侧蚀、蚀刻速率等具体效果进行了考虑，并不是以较为概括的要解决的技术问题作为比对基础。因此，解决技术问题的归纳并未对显而易见性的判断产生误导。对比文件2中披露的蚀刻液作用与区别特征要解决的问题相同，对比文件2存在结合的技术启示。其次，与对比文件2公开的蚀刻液相比，本申请省略了无机硝酸盐作为第一添加剂。对比文件2说明书中记载无机硝酸盐具有“提高溶液的氧化能力、从而提高溶液的氧化能力、从而提高蚀刻能力、产生微小气泡”的作用。本申请是为了将待腐蚀区域通过足够的腐蚀时间将其切开，并不追求腐蚀后玻璃表面的良好状态，因此无机硝酸盐对于本申请来说并无必要。从对比文件2公开的组分含量中看，无机硝酸盐仅占0.01重量%-5重量%，无机酸（硝酸）所占重量为10重量%-50重量%，即便无机硝酸盐与硝酸均含有共同的硝酸根离子，本领域技术人员通常能够想到的也是省略含量较少的添加剂而非硝酸。因此，在本申请无需追求玻璃表面良好效果的前提下，省略无机硝酸盐添加剂是本领域技术人员可以预想到的。尽管省略了无机硝酸盐，但在效果上，本申请修改后的技术方案仅涵盖实施例8-10的方案，其蚀刻速率均在12.1μm/min以上，最高为21.2μm/min，对比文件2的图5是实施例2、实施例4及比较例的使用寿命图，其指以用相同的溶液蚀刻一定量的玻璃之后的蚀刻能力与初期蚀刻能力之比（参见对比文件2说明书第5页最后一段）。因此，对比文件2的图5中显示的蚀刻速率值与本申请的蚀刻速率含义不同，在此前提下无法得出本申请实施例相比于对比文件2蚀刻速率更高的结论。本申请说明书亦没有提供数据证明本申请实施例的侧蚀及棱角效果比对比文件2更好。因此，本申请并不属于省略要素的发明。至于区别特征（2），如被诉决定所述，“在已知蚀刻液组分的情况下，本领域技术人员有动机根据蚀刻玻璃的需求调整温度。使用清水清洗及干燥玻璃基材也属于本领域常规技术手段。”当所述区别特征为公知常识时，通常认为存在技术启示。被诉决定对此认定正确。因原告在庭审中确认，在本申请权利要求1不具备创造性的前提下，不再坚持本申请其他从属权利要求的创造性。故在本申请权利要求1不具备创造性的前提下，对于本申请其他从属权利要求不具备创造性之理由不再赘述。独立权利要求18属于由权利要求1-17制得的玻璃基材，在权利要求1-17任一项所述的方法不具备创造性的情况下，权利要求18所要求保护的技术方案亦不具备创造性。综上所述，本申请权利要求1-18都不具备创造性，专利复审委员会对此认定正确，本院予以确认。综上，原专利复审委员会作出的被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，符合法定程序，本院予以维持。根据《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定，本院判决如下：驳回原告得凯莫斯弗罗里达有限公司的诉讼请求。案件受理费人民币一百元，由原告得凯莫斯弗罗里达有限公司负担（已交纳）。如不服本判决，原告得凯莫斯弗罗里达有限公司可在本判决书送达之日起三十日内，被告中华人民共和国国家知识产权局可在本判决书送达之日起十五日内向本院提交上诉状及副本，并交纳上诉案件受理费人民币一百元，上诉于中华人民共和国最高人民法院。审 判 长  张晓霞人民陪审员  渠继英人民陪审员  张 锋二〇一九年十二月二十七日法官 助理  张嘉艺技术调查官戴年珍书记员刘晓婉