北京知识产权法院行 政 判 决 书(2020)京73行初3715号原告林博强，男，1959年9月15日出生，汉族，住北京市东城区。被告国家知识产权局，住所地北京市海淀区蓟门桥西土城路**。法定代表人申长雨，局长。委托诉讼代理人纪海燕，国家知识产权局审查员。委托诉讼代理人杨静，国家知识产权局审查员。原告林博强因发明专利复审行政纠纷一案，不服被告国家知识产权局(简称国家知识产权局)于2020年1月17日作出的第200470号复审决定(简称被诉决定)，于法定期限内向本院提起行政诉讼。本院于2020年4月15日受理后，依法组成合议庭，并于2020年10月12日公开开庭审理了本案。原告林博强、被告国家知识产权局的委托诉讼代理人纪海燕与杨静到庭参加了诉讼。本案现已审理终结。2020年1月17日，被告依原告针对发明名称为“真空管道安装支架的利用方法”的第201410390830.X号发明专利（简称本申请）所提复审请求，作出被诉决定认定：一、审查文本的认定林博强于复审阶段未对申请文件进行修改，因此，本复审决定所针对的文本与驳回决定针对的文本相同，即：申请日提交的说明书附图图1（第1页）、说明书摘要及摘要附图；2018年1月26日提交的说明书第1-12段（第1-2页）以及2018年8月30日提交的权利要求第1-5项。二、关于《中华人民共和国专利法》（简称《专利法》）第三十三条林博强于2018年8月30日提交的权利要求1中记载了如下内容“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”，使得权利要求1限定的技术方案排除了“制造设备的主机台不需要外接真空泵的场所”的情形，上述技术特征并未明确记载在原说明书和权利要求书中，同时，原说明书第[0002]段中相应的记载为“机台的真空泵大多安装在机台的下一层，即下夹层”，可见真空泵的安装场所并不必然为制造设备的主机台需要外接真空泵的场所，本领域技术人员根据原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图也不能够直接地、毫无疑义地得到包含上述技术特征的技术方案，因此，权利要求1的修改超出了原说明书和权利要求书记载的范围，不符合《专利法》第三十三条的规定。三、对林博强相关意见的答复林博强认为：根据说明书第[0002]段记载的“在半导体芯片和硅基光伏太阳能电池的制造过程中，有多道工序需要在真空条件下进行，如半导体芯片制造中的刻蚀、CVD、注入等工序，需要使用较多台的真空泵，有时一部机台就要使用两至四台的真空泵。为了节约有限的洁净空间，机台的真空泵大多安装在机台的下一层，即下夹层”。本领域技术人员可以认为：权利要求1中的技术特征“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”的存在。对此，合议组认为：原说明书和权利要求书中并未明确记载本申请的真空管道安装支架应用的场所为“制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”，说明书第[0002]段中记载的上述内容中“机台的真空泵大多安装在机台的下一层”，由此仅能得到机台与真空泵的空间位置，不能确定真空泵是外接于机台的，因而并不能够直接地、毫无疑义地确定本申请的真空管道安装支架应用的场所为“制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”。本领域技术人员根据原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图也不能够直接地、毫无疑义地确定本申请的真空管道安装支架的适用场所为“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”。据此，合议组对林博强的意见陈述不予支持。根据以上事实和理由，被告作出被诉决定：维持国家知识产权局于2018年10月8日对本申请作出的驳回决定。原告林博强诉称：本申请说明书［0002］段“在半导体芯片和硅基光伏太阳能电池的制造过程中，有多产工序需要在真空条件下进行，如半导体芯片制造中的刻蚀、CVD、注入等工序，需要使用较多台的真空泵，有时一部机台就要使用两至四台的真空泵。为了节约有限的洁净空间，机台的真空泵大多安装在机台的下一层，即下夹层”，及说明书［0003］段在一般情况下，真空泵的安装位置要与机台的真空接口有一段距离，所以真空泵的进气管道和排气管道需要管道支架进行固定。本领域技术人员都知道，芯片制造设备的主机安装在净化条件最好的洁净室，而把真空泵等辅机安装到净化条件差一点或没有净化条件的下夹层，也就是说芯片制造设备的主机台需要外接两台到四台的真空泵。从引号中的文字，本领域技术人员可以认为：本申请权利要求1中的技术特征“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵地场所”的存在。被诉决定提到：“对比文件2（CN102368475A，公开日期为2012年3月7日）公开了一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置，用于HB－LED的衬底的蚀刻，并具体公开了以下特征（参见说明书0002－0004段、0023－0031段和图1－2），该装置具有主支架3，即公开了一种支架的利用方法，主支架3设置于分子泵6（相当于本申请的真空泵）周围，根据分子泵的功能及其工作原理，结合说明书附图2可以直接地、毫无疑义地确定，分子泵6的进气和排气管道设置于主支架3的内侧。”通过这些文字的描述说明：在分子泵6周围的主支架3就相当于本申请中的真空管道安装支架。由于对比文件2的主支架3是设备支架，不能被认定为真空管道安装支架，所以不存在可比性。因此，原告请求法院撤销被诉决定，并责令被告重新作出决定。被告国家知识产权局辩称：被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，程序合法，被告坚持被诉决定的意见，请求法院判决驳回原告的诉讼请求。本院经审理查明：本申请的申请日为2014年8月11日，公开日为2015年1月21日。经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年10月8日发出驳回决定，驳回了本申请，其针对的权利要求1如下：“1.一种真空管道安装支架的利用方法，属于半导体芯片和光伏太阳能电池板的制造领域，适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所，设置于真空泵(1)周围的真空管道安装支架(2)，将真空泵(1)的进气和排气管道安装到真空管道安装支架(2)内侧或外侧，其特征在于：在真空管道安装支架(2)的前、后两侧，安装其它的动力管道及相应的管件。”林博强对上述驳回决定不服,向国家知识产权局提出了复审请求，未对申请文件进行修改。国家知识产权局依法受理该复审请求后，并将其转送至原审查部门进行前置审查。原审查部门坚持原驳回决定。国家知识产权局于2019年9月17日向林博强发出复审通知书，针对上述复审通知书林博强于2019年10月15日提交了意见陈述书，未对申请文件进行修改。被告作出被诉决定后，原告不服，于法定期限内向本院提起行政诉讼。庭审中，原告明确表示对于被诉决定作出的行政程序、“案由”部分记载的内容、审查文本的认定无异议。上述事实有经庭审质证的本申请的原始申请文本、诉决定确定的审查文本以及各方当事人的陈述等证据在案佐证。本院经审查认为：本案的争议焦点在于本申请是否违反了《专利法》第三十三条的规定。《专利法》第三十三条规定：“申请人可以对其专利申请文件进行修改，但是，对发明和实用新型专利申请文件的修改不得超出原说明书和权利要求书记载的范围，对外观设计专利申请文件的修改不得超出原图片或者照片表示的范围。”本案中，林博强于2018年8月30日提交的权利要求1中记载的如下内容“适用于制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”，使得权利要求1限定的技术方案排除了“制造设备的主机台不需要外接真空泵的场所”的情形。而原说明书和权利要求书中并未明确记载本申请的真空管道安装支架应用的场所为“制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”，本申请原说明书第[0002]段中相应的记载为“机台的真空泵大多安装在机台的下一层，即下夹层”，由此仅能得到机台与真空泵的空间位置，不能确定真空泵是外接于机台的，并不能够直接地、毫无疑义地确定本申请的真空管道安装支架应用的场所为“制造设备的主机台需要外接真空泵的场所”。故可以认定，本领域技术人员根据原说明书和权利要求书文字记载的内容以及说明书附图也不能够直接地、毫无疑义地得到包含上述技术特征的技术方案。因此，被告认定本申请权利要求1的修改超出了原说明书和权利要求书记载的范围从而不符合《专利法》第三十三条的规定并无不当。综上，被诉决定主要证据确凿，适用法律正确，程序合法。原告的诉讼理由缺乏事实及法律依据，其诉讼请求本院不予支持。据此，依照《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定，本院判决如下：驳回原告林博强的诉讼请求。案件受理费一百元，由原告林博强负担（已交纳）。如不服本判决，双方当事人可于本判决书送达之日起十五日内向本院递交上诉状，并按对方当事人人数提出副本，同时预交上诉案件受理费一百元，上诉于中华人民共和国最高人民法院。审 判 长  司品华人民陪审员  周 茹人民陪审员  周 莉二〇二〇年十一月二十四日法官 助理  刘月庆书 记 员  李益晨