中华人民共和国北京知识产权法院行 政 判 决 书（2018）京73行初9854号原告：卡伯特微电子公司，住所地美利坚合众国伊利诺斯州奥罗拉康莫斯街870号。法定代表人：H.卡罗尔·伯恩斯坦，副总裁、秘书及总法律顾问。委托诉讼代理人：宋莉，北京市柳沈律师事务所律师。委托诉讼代理人：詹承斌，男，北京市柳沈律师事务所专利代理人，中华全国专利代理人协会推荐。被告：中华人民共和国国家知识产权局，住所地中华人民共和国北京市海淀区蓟门桥西土城路6号。法定代表人：申长雨，局长。委托诉讼代理人：胡杨，中华人民共和国国家知识产权局审查员。委托诉讼代理人：刘洪尊，中华人民共和国国家知识产权局审查员。第三人：罗门哈斯电子材料CMP控股公司，住所地美利坚合众国特拉华州纽瓦克市19713贝勒由路451号。法定代表人：布莱克·T.比德曼，总裁。委托诉讼代理人：陈文平，北京市金杜律师事务所律师。委托诉讼代理人：王晓东，北京市金杜律师事务所律师。原告卡伯特微电子公司（简称卡伯特公司）因发明专利权无效行政纠纷一案，不服原中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会（简称专利复审委员会）作出的第35437号无效宣告请求审查决定（简称被诉决定），于法定期限内向本院提起行政诉讼。本院于2018年9月21日受理本案后，依法组成合议庭，并依法通知被诉决定的利害关系人罗门哈斯电子材料CMP控股公司（简称罗门哈斯公司）作为本案第三人参加诉讼。2020年11月6日，本院对本案公开开庭进行了审理。原告的委托诉讼代理人宋莉、詹承斌，被告的委托诉讼代理人胡杨、刘洪尊，第三人的委托诉讼代理人陈文平、王晓东到庭参加了诉讼。本案现已审理终结。被诉决定认为：名称为“含有鎓的CMP组合物及其使用方法”的第200780033428.4号发明专利（简称本专利）权利要求1-12不符合《中华人民共和国专利法》（简称专利法）第二十二条第三款的规定。故在卡伯特公司于2018年3月2日提交的权利要求第1-12项基础上，宣告本专利权全部无效。原告诉称：一、被告在被诉决定中拒绝接受原告2017年12月7日提交的修改文本违反听证原则，存在严重的程序错误。二、原告2017年12月7日提交的修改文本符合审查指南的相关规定，应当被接受。三、被告将证据1的权利要求5作为与本专利最接近的现有技术是事实认定错误。四、被告认定证据3-5没有排除二氧化硅磨粒与鎓盐的组合是事实认定错误。五、被告在认定证据1和本专利权利要求1的区别技术特征时事实认定错误。本专利权利要求1与证据1的区别至少在于：a.证据1中没有公开权利要求1中胶态二氧化硅和鏻盐的组合；b.证据1中没有公开所述至少一种鎓化合物以在0.04至200微摩尔每克组合物的范围内的浓度存在于该组合物中。六、被告在分析本专利图1-7的技术效果时事实认定错误。七、被告在分析证据1实施例1-4的技术效果时事实认定错误。八、被告在确定本专利相对于证据1取得的技术效果和相应地本专利实际要解决的技术问题时事实认定错误。九、被告在确定证据1给出的教导时事实认定错误。十、被告在评价权利要求3时采用了第三人在无效程序中从未使用的新理由，造成程序错误。十一、被告在评价权利要求3时违背了听证原则，造成程序错误。十二、被告在评价权利要求3的创造性时事实认定错误。综上所述，被诉决定认定事实不清，适用法律错误，审查结论有误。故请求法院依法撤销被诉决定，并判令被告重新作出决定。被告辩称：一、被诉决定对于审查文本的认定并未违反听证原则。对于原告2017年12月7日提交的修改文本，在口头审理中，第三人认为该修改文本不符合审查指南规定，并陈述相应理由，被告已当庭向原告释明所述文本的修改不符合审查指南的规定。原告于口审当庭在授权公告文本的基础上进行删除式修改，并于庭后2018年3月2日提交了与当庭修改完全相同的修改文本，后被告以该修改文本作为审查文本并未违反听证原则。二、被诉决定在创造性评价中最接近现有技术的确定，是依据第三人提出的无效宣告理由确定的。第三人在2017年10月12日提出无效宣告请求时，在请求书中明确记载“以证据1权利要求5作为最接近的现有技术”，且第三人当庭对此予以确认。被告在权利要求3的创造性评述中未引入新理由，也未违反听证原则。尽管第三人认为权利要求3的附加技术特征已被证据1公开，但是关于上述附加技术特征并未在最接近的现有技术即证据1权利要求5中公开，原告在书面意见以及口审中已经充分发表意见。故被告依据原告的意见作出权利要求3不具备创造性的被诉决定并未违反听证原则。三、被告在评价权利要求1的创造性时，确实存在对于区别技术特征认定错误的问题，但并不影响创造性评价的结果。首先，被告对于证据1是否公开鎓化合物在组合物中的浓度认定错误，证据1没有公开鎓盐在组合物中的浓度。但是证据1对于该区别技术特征给出了技术启示。其次，本专利图6-7不能反映区别技术特征带来的技术效果。再次，证据1与本专利的发明构思相同，均是通过在研磨剂浆料中加入鎓盐，提高研磨速度，其实施例1-4也证明了所述技术效果。如被告所述证据1的研磨浆料具有更高的钨对二氧化硅除去的选择性，对钨、钛的研磨速度提高。由此说明，证据1关注的是其研磨浆料对钨和钛具有更高的研磨去除选择性，能够提高上述两者的研磨速度。而对于二氧化硅而言，证据1的研磨浆料对其是低选择性的，采用原告所述的计算方式证明加入鎓盐后的浆料对二氧化硅去除速率的影响是不科学也不合适的。由于数值基础较小，而实验过程中会存在误差，将误差范围内的数值微小变化方达为较大比例的波动，对于化学领域而言不符合科学规律。被告对于原告的其他诉讼理由均不予认可，详见被诉决定。综上，被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，审查程序合法，原告的诉讼理由不能成立，请求法院驳回原告的诉讼请求。第三人述称：被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，审查程序合法，原告的诉讼理由不能成立，请求法院驳回原告的诉讼请求。本院经审理查明：本专利系名称为“含有鎓的CMP组合物及其使用方法”的第200780033428.4号发明专利，申请日为2007年9月7日，优先权日为2006年9月8日，授权公告日2013年1月16日，专利权人为卡伯特公司。针对本专利，罗门哈斯公司于2017年10月12日向专利复审委员会提出了无效宣告请求，并提交了如下证据：证据1：JP2000144109A，公开日为2000年05月26日，及其中文译文；证据2：TW593647B，公开日为2004年06月21日，及其部分简体中文；证据3：Encyclopediaofchemicaltechnology，Johnwiley＆Sons，Inc.第17卷，1982年，封面页，出版信息页，目录页，第527-529页，复印件，及其部分中文译文；证据4：化学化工大辞典，化学工业出版社，2003年1月第1版，出版信息页，第1471页。经形式审查合格，专利复审委员会于2017年10月23日受理了上述无效宣告请求并将无效宣告请求书及证据副本转送给卡伯特公司，同时成立合议组对本案进行审查。卡伯特公司针对上述无效宣告请求于2017年12月7日提交了意见陈述书以及权利要求书全文替换页，其在授权公告文本的基础上删除了原权利要求2-4、9和14，在原权利要求1中删除了组分（b）中“鋶盐、及其组合”，将原权利要求3和9中鎓化合物包括的鏻盐通式中R1、R2、R3及R4取代基限定为“各自独立地为选自如下的烃基：直链C1-C16烷基和C6芳基”，并分别将所述鎓化合物限入修改后的权利要求1和3中。同时提交了如下反证：反证1：US6530968B2，公开日为2003年03月11日，及其部分中文译文；反证2：US5234493A，公开日为1993年08月10日，及其部分中文译文；发证3：CN1609156A，公开日为2005年04月27日。罗门哈斯于2018年1月4日提交了意见陈述书，并提交以下证据：证据5：化学机械抛光（CMP）技术，王相田，上海化工，1999年第19期，第4-7页；证据6：高速发展的化学机械抛光技术，李兴，半导体杂质，第24卷3期，1999年7月，第31-34页；证据7：半导体芯片化学机械抛光过程中材料去除机理研究进展，赵永武，刘家浚，摩擦学学报，第24卷第3期，2004年5月，第283-287页。专利复审委员会于2018年2月28日举行口头审理，口头审理过程中，双方就无效宣告理由涉及的事实、理由和证据逐一发表意见，在此基础上，专利复审委员会记录了如下重要事实：（1）罗门哈斯不认可权利要求的修改方式，尤其是删除权利要求3中部分基团的修改方式，不属于并列技术方案的删除。合议组告知双方当事人，卡伯特公司于2017年12月7日提交的修改文本不符合无效程序中权利要求修改方式的规定，不予接受。卡伯特公司当庭提出，在授权公告文本的基础上删除权利要求1中“鋶盐、及其组合”的技术方案，删除权利要求4和14，将权利要求13的引用关系改为引用权利要求1-4，并相应修改其他权利要求的编号和引用关系。国家知识产权局接受卡伯特公司的上述修改，并告知卡伯特公司在口审结束后三个工作日内提交书面的修改文本。口头审理结束后，卡伯特公司于2018年3月2日提交了庭后代理词以及权利要求书全文替换页，其修改方式与口头审理当庭所述修改方式完全相同，修改后的权利要求书如下：“1.一种化学-机械抛光(CMP)组合物，包含：(a)胶态二氧化硅，该胶态二氧化硅以在0.05重量％至35重量％范围内的量存在于该组合物中；(b)选自鏻盐的至少一种鎓化合物，所述至少一种鎓化合物以在0.04至200微摩尔每克组合物的范围内的浓度存在于该组合物中；(c)为此的含水载体；该组合物具有5或更小的pH值。2.权利要求1的CMP组合物，其中至少一种鎓盐以在0.04至200微摩尔每克组合物的范围内的量存在于该组合物中。3.权利要求1的CMP组合物，其中所述至少一种鎓化合物包括具有下式的鏻盐：其中R1、R2、R3及R4各自独立地为选自如下的取代或未取代的烃基：直链C1-C16烷基、支链C3-C16烷基、C6-C10芳基、经直链C1-C16烷基取代的C6-C10芳基、以及经支链C3-C16烷基取代的C6-C10芳基，其中该烃基可任选地被一个或多个选自羟基取代基、卤取代基、醚取代基、酯取代基、羧基取代基、以及氨基取代基的官能取代基取代；任选地，R1与R2可一起形成具有磷P的饱和杂环、不饱和杂环或芳族杂环，条件为当该杂环为芳族杂环时，R4不存在；且X-为无机酸或有机酸的共轭碱。4.权利要求1的CMP组合物，其中该pH值在2至5的范围内。5.一种化学-机械抛光(CMP)组合物，包含：(a)0.1重量％至10重量％的胶态二氧化硅；(b)0.4至20微摩尔每克的至少一种鏻盐；(c)为此的含水载体；该组合物具有5或更小的pH值。6.权利要求5的CMP组合物，其中该胶态二氧化硅以在1重量％至6重量％范围内的量存在于该组合物中。7.权利要求5的CMP组合物，其中至少一种鏻盐以在1至10微摩尔每克组合物的范围内的量存在于该组合物中。8.权利要求5的CMP组合物，其中所述至少一种鏻盐具有下式：其中R1、R2、R3及R4各自独立地为选自如下的取代或未取代的烃基：直链C1-C16烷基、支链C3-C16烷基、C6-C10芳基、经直链C1-C16烷基取代的C6-C10芳基、以及经支链C3-C16烷基取代的C6-C10芳基，其中该烃基可任选地被一个或多个选自羟基取代基、卤取代基、以及氨基取代基的官能取代基取代；且X-为无机酸或有机酸的共轭碱。9.权利要求5的CMP组合物，其中该pH值在2至5的范围内。10.一种用于抛光基板的化学-机械抛光(CMP)方法，该方法包括用权利要求1的CMP组合物研磨该基板的表面，其中任选地，所述至少一种鎓化合物包括至少一种鏻盐。11.一种用于抛光基板的化学-机械抛光(CMP)方法，该方法包括用权利要求5的CMP组合物研磨该基板的表面。12.一种用于抛光半导体基板的化学-机械抛光(CMP)方法，该方法包括以下步骤：(a)使半导体基板的表面与抛光垫及根据权利要求1～4中任一项的含水CMP组合物接触；及(b)使该抛光垫与该基板之间发生相对运动，同时保持该CMP组合物的一部分与在该垫和该基板之间的该表面接触一段足以磨除该半导体表面的至少一部分的时间，其中任选地，该基板包含二氧化硅。”2018年3月29日，专利复审委员会作出被诉决定。庭审中，原告明确表示：本专利权利要求2-12具备创造性的前提是基于权利要求1具备创造性，权利要求3的附加技术特征并未在证据1中给出启示。被告明确表示：修改其在答辩状中关于区别技术特征认定错误的相关意见，被诉决定对于本专利权利要求1与证据1权利要求5之间的区别技术特征的认定无误。坚持被诉决定的具体评述意见。另查，根据中央机构改革部署，原中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会的相关职责由中华人民共和国国家知识产权局行使。上述事实，有被诉决定、被诉决定所依据的审查文本、各方当事人提交的证据及当事人陈述等在案佐证。本院认为，根据各方当事人的诉辩主张，本案存在以下争议焦点：一、被诉决定的作出程序是否合法原告认为，被告在被诉决定中拒绝接受原告2017年12月7日提交的修改文本时违反听证原则，存在程序错误，该修改文本符合相关规定，应当被接受。对此本院认为，原告于2017年12月7日提交的修改文本涉及对原权利要求3、9即马库什权利要求的修改。马库什权利要求是化学发明专利申请中一种特殊的权利要求撰写方式，即在一个权利要求中限定多个并列的可选择要素概括的权利要求，其产生是为了解决化学领域中多个取代基基团没有共同上位概念可概括的问题，其本身一直被视为结构式的表达方式，而非功能性的表达方式。马库什权利要求限定的是并列的可选要素而非权利要求，其所有可选择化合物具有共同性能和作用，并且具有共同的结构或者所有可选择要素属于该发明所属领域公认的同一化合物。因此，马库什权利要求应当被视为马库什要素的集合，而不是众多化合物的集合。对于马库什权利要求技术方案保护范围的理解，应当基于各马库什要素构成的技术方案所限定的范围。各马库什要素构成的技术方案应当是独立的完整的技术方案。此时马库什要素变更，其构成的技术方案所限定的范围也会发生变化。由于一项马库什权利要求中的可选择要素具有相类似的性质，这些可选择要素在技术上相互关联，因此马库什要素变更后的技术方案应当是并列的技术方案，产生相类似的技术效果。如果是一个已知的马库什型化合物，各马库什要素变更后，其组成的马库什型化合物也具有相类似的性能。本专利原权利要求3为马库什权利要求，其限定的鏻盐是一种马库什型化合物，其限定的马库什要素包括“其中R1、R2、R3及R4各自独立地为选自如下的取代或未取代的烃基：直链C1-C16烷基、支链C3-C16烷基、C6-C10芳基、经直链C1-C16烷基取代的C6-C10芳基、以及经支链C3-C16烷基取代的C6-C10芳基，其中该烃基可任选地被一个或多个选自羟基取代基、卤取代基、醚取代基、酯取代基、羧基取代基、以及氨基取代基的官能取代基取代；任选地，R1与R2可一起形成具有磷P的饱和杂环、不饱和杂环或芳族杂环，条件为当该杂环为芳族杂环时，R4不存在；且X-为无机酸或有机酸的共轭碱”。具体地，马库什要素（1）R1为选自如下的取代或未取代的烃基：直链C1-C16烷基、支链C3-C16烷基、C6-C10芳基、经直链C1-C16烷基取代的C6-C10芳基、以及经支链C3-C16烷基取代的C6-C10芳基，其中该烃基可任选地被一个或多个选自羟基取代基、卤取代基、醚取代基、酯取代基、羧基取代基、以及氨基取代基的官能取代基取代；（2）R2为选自如下的取代或未取代的烃基：直链C1-C16烷基、支链C3-C16烷基、C6-C10芳基、经直链C1-C16烷基取代的C6-C10芳基、以及经支链C3-C16烷基取代的C6-C10芳基，其中该烃基可任选地被一个或多个选自羟基取代基、卤取代基、醚取代基、酯取代基、羧基取代基、以及氨基取代基的官能取代基取代；（3）R3为选自如下的取代或未取代的烃基：直链C1-C16烷基、支链C3-C16烷基、C6-C10芳基、经直链C1-C16烷基取代的C6-C10芳基、以及经支链C3-C16烷基取代的C6-C10芳基，其中该烃基可任选地被一个或多个选自羟基取代基、卤取代基、醚取代基、酯取代基、羧基取代基、以及氨基取代基的官能取代基取代；（4）R4为选自如下的取代或未取代的烃基：直链C1-C16烷基、支链C3-C16烷基、C6-C10芳基、经直链C1-C16烷基取代的C6-C10芳基、以及经支链C3-C16烷基取代的C6-C10芳基，其中该烃基可任选地被一个或多个选自羟基取代基、卤取代基、醚取代基、酯取代基、羧基取代基、以及氨基取代基的官能取代基取代；（5）R1与R2可一起形成具有磷P的饱和杂环、不饱和杂环或芳族杂环，条件为当该杂环为芳族杂环时，R4不存在；（6）X-为无机酸或有机酸的共轭碱。上述6个马库什要素中，R1、R2、R3、R4、X-都可以任意地在限定范围内进行选择，但马库什要素“R1与R2可一起形成具有磷P的饱和杂环、不饱和杂环或芳族杂环，条件为当该杂环为芳族杂环时，R4不存在”是与其他马库什要素相关联的。因此在修改权利要求时，基于马库什要素R1、R2、R3、R4、X-的选择应当是允许的，但不能删除相关联的马库什要素。在原告2017年12月7日提交的修改文本中，修改后的权利要求1中所增加的“所述至少一种鎓化合物”的特征并不是原权利要求3中记载的一个或者多个技术特征，而是对原权利要求3的马库什要素进行删减后得到的新特征，即将相关联的马库什要素“R1与R2可一起形成具有磷P的饱和杂环、不饱和杂环或芳族杂环，条件为当该杂环为芳族杂环时，R4不存在”删除，这种删除不属于并列技术方案的删除，也不属于补入其他权利要求中记载的一个或者多个技术特征。故被告对原告于2017年12月7日提交的修改文本不予接受并无不妥。原告关于被告违反听证原则的相应理由亦缺乏依据，本院不予支持。此外，原告在书面意见以及口头审理时已针对权利要求3充分发表了意见。被告针对权利要求3作出被诉决定的相应评述在程序上并无不当。原告的相应理由缺乏依据，本院不予支持。二、关于本专利是否符合专利法第二十二条第三款的规定专利法第二十二条第三款规定，创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。本案中，本专利权利要求1请求保护一种化学-机械抛光(CMP)组合物，证据1权利要求5公开了pH1-6的水性研磨剂浆料。被诉决定基于第三人在无效阶段的主张将证据1权利要求5作为本专利权利要求1的最接近的现有技术并无不当，本院予以确认。反证1-3没有排除在CMP组合物领域使用二氧化硅磨粒与鎓盐的组合，而仅是指出使用上述组合时需要额外加入其它组分，例如增稠剂等的选择，尚不能构成本领域技术人员将证据1作为本专利发明起点的阻碍。原告主张，本专利权利要求1与证据1权利要求5的区别技术特征至少在于：a.证据1中没有公开权利要求1中胶态二氧化硅和鏻盐的组合；b.证据1中没有公开所述至少一种鎓化合物以在0.04至200微摩尔每克组合物的范围内的浓度存在于该组合物中。对此本院认为，根据本专利说明书第0029-0033段的记载，氢氧化四丁基鏻及其类似物属于本专利所述的鎓化合物（即鏻盐），故本领域技术人员可以确认证据1中公开的结构类似的四甲基氢氧化鏻也属于本专利所述的鎓化合物。且证据1中的四甲基氢氧化鏻实为权利要求3中X为氢氧根的情况，权利要求1中未对X进行限定，因此证据1中公开的四甲基氢氧化鏻落入本专利所述的鎓化合物的范围内。由于本专利权利要求1与证据1的鏻盐含量采用了不同表示方式，为了进行对比，以四甲基氢氧化鏻或证据1中公开的其他具体物质例如硼酸四甲基氢氧化鏻进行对应换算，或基于以上计算方式得出证据1权利要求8中所列无机酸与四甲基氢氧化鏻反应而得到的鎓盐的含量，均与本专利权利要求1中所记载的0.04-200微摩尔每克组合物的范围重叠或交叉。因此证据1公开了本专利权利要求1组分(b)的鎓化合物含量。被诉决定对于本专利权利要求1与证据1权利要求5之间的区别技术特征认定无误，本院予以确认，即证据1没有公开权利要求1组分(a)磨粒的具体种类。原告认为，被告错误分析本专利图1-7和证据1实施例1-4的技术效果，因而对本专利实际要解决的技术问题认定错误，从而错误认定了证据1可以给出教导启示。对此本院认为，根据本专利图1和图2记载，未显示出本专利含季鏻盐的组合物对二氧化硅的移除速率均高于现有技术中含铵盐的组合物，本领域技术人员无法获得改善的热稳定性和优越的平坦化效率等方面的技术效果。图3-5均仅为本专利权利要求中一个含特定季鏻盐的组合物与现有技术中一个含特定季铵盐的组合物比较的效果，不能表明在整个权利要求范围内含季鏻盐的组合物比含季铵盐的组合物均具有对BPSG移除速率高以及平坦化效率高的技术效果。图5不能代表在整个权利要求范围内含季鏻盐的组合物比含季铵盐的组合物稳定性更好。图6和图7不能反映出基于本专利相对于证据1的区别特征产生的技术效果。因此，本专利说明书中声称的与含有铵盐的常规胶态二氧化硅浆料相比，本发明的基于鏻盐/胶态二氧化硅的组合物呈现显著更高的BPSG移除速率、改善的热及胶态稳定性及优越的平坦化效率等技术效果不能成立。同时被诉决定对证据1实施例1-4和比较例1对于钨、钛以及二氧化硅的移除速率进行总结分析，数据显示，含鎓盐与不含鎓盐的组合物以及含季鏻盐与含季铵盐的组合物的测试数据差值与含不同结构季铵盐的组合物的测试数据差值相同或接近，说明含鎓盐的组合物与不含鎓盐的组合物，以及含季鏻盐的组合物与含季铵盐的组合物对二氧化硅的移除速率基本处于同一水平。对于钨和钛的移除速率，含鎓盐的组合物高于不含鎓盐的组合物。证据1的发明目的在于提供保存稳定性优异、研磨速度快的水性研磨剂浆料，浆料中加入鎓盐的作用在于提高研磨速度和储藏稳定性，其实施例数据显示加入鎓盐的浆料组合物比不加鎓盐的浆料对钨、钛的移除速率高。证据1和本专利相比，两者均为通过加入鎓盐提高CMP组合物对抛光基底的移除速度，区别在于针对的抛光基底不同。故本专利权利要求1实际解决的技术问题是提供一种针对二氧化硅基底移除速率高的CMP组合物。证据1说明书第0008-0016段公开了研磨金属基底（钨基底）的磨料可以为氧化铝以及氧化硅。第0010段公开了研磨剂浆料中的磨粒优选使用胶态二氧化硅、热解法二氧化硅、勃姆石、氧化铝。由于本领域技术人员公知磨粒是影响抛光速率的重大因素，针对不同的基底需要选择不同的磨料，氧化铝是针对金属基底的有效磨料，氧化硅是针对硅基底的有效磨料。因此在证据1已经公开磨料优选种类的基础上，本领域技术人员有动机选择胶态二氧化硅或热解二氧化硅作为抛光二氧化硅基底的磨料。而本领域技术人员已知胶态二氧化硅和热解二氧化硅仅制备方法不同，化学组成相同，本领域技术人员在进行选择时可以二者择一。可见，在证据1公开的技术方案的基础上，本领域技术人员获得本专利权利要求1请求保护的技术方案是显而易见的，本专利权利要求1相对于证据1不具备突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。本专利权利要求3引用权利要求1，进一步限定了鏻盐的结构。所述权利要求中的鏻盐以马库什化合物的形式表示，其中R1、R2、R3及R4各自独立地为选自取代或未取代的烃基，X-为无机酸或有机酸的共轭碱。证据1公开了作为原料的四甲基氢氧化鏻等鎓化合物，以及无机酸优选氢氟酸等，有机酸可为乙酸等。由于水性浆料组合物中四甲基氢氧化鏻与氢氟酸可以形成如本专利所述结构的鏻盐，因此证据1给出了上述附加技术特征的启示。在权利要求1不具备创造性的基础上，本专利权利要求3也不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。此外，鉴于原告明确表示本专利权利要求2-12具备创造性的前提是基于权利要求1具备创造性，故在本院已认定权利要求1不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性的基础上，本院认定本专利权利要求2-12亦不具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。综上，原告的诉讼理由缺乏事实和法律依据，对其诉讼请求本院不予支持。据此，依照《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定，本院判决如下：驳回原告卡伯特微电子公司的诉讼请求。案件受理费人民币一百元，由原告卡伯特微电子公司负担（已交纳）。如不服本判决，原告卡伯特微电子公司、第三人罗门哈斯电子材料CMP控股公司可在本判决书送达之日起三十日内，被告中华人民共和国国家知识产权局可在本判决书送达之日起十五日内，向本院提交上诉状及副本，并交纳上诉案件受理费人民币一百元，上诉于中华人民共和国最高人民法院。审 判 长  刘仁婧人民陪审员  宋 利人民陪审员  陈月英二〇二〇年十二月二十四日法官 助理  杨恩义技术调查官唐跃强书记员国佳