中华人民共和国北京知识产权法院行 政 判 决 书（2017）京73行初4943号原告：北京北方华创微电子装备有限公司，住所地中华人民共和国北京市北京经济技术开发区文昌大道**。法定代表人：赵晋荣，董事长。委托诉讼代理人：马佑平，女，1980年8月26日出生，北京博雅睿泉专利代理事务所（特殊普通合伙）专利代理人，中华全国专利代理人协会推荐，住中华人民共和国北京市西城区。委托诉讼代理人：杨国权，男，1978年7月31日出生，北京博雅睿泉专利代理事务所（特殊普通合伙）专利代理人，中华全国专利代理人协会推荐，住中华人民共和国北京市朝阳区。被告：中华人民共和国国家知识产权局，住所地中华人民共和国北京市海淀区蓟门桥西土城路**。法定代表人：申长雨，局长。委托诉讼代理人：黄道许，中华人民共和国国家知识产权局审查员。委托诉讼代理人：袁丽颖，中华人民共和国国家知识产权局审查员。第三人：LPE公司（LPES.p.A.），住所地意大利共和国米兰省巴兰扎特法兰扎莱格大街**。法定代表人：马西莫·索尔蒂（MassimoSordi），董事会主席。委托诉讼代理人：王淼，上海恒峰律师事务所律师。委托诉讼代理人：周世亮，男，1988年3月16日出生，上海衡方知识产权代理有限公司专利代理人，中华全国专利代理人协会推荐，住中华人民共和国山东省济南市历下区。原告北京北方华创微电子装备有限公司（简称北方华创公司）因发明专利权无效行政纠纷一案，不服原中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会（简称专利复审委员会）于2017年4月6日作出的第31869号无效宣告请求审查决定（简称被诉决定），于法定期限内向本院提起行政诉讼。本院于2017年7月7日受理本案后，依法组成合议庭，于2018年7月25日公开开庭审理了本案。原告北方华创公司的委托诉讼代理人马佑平、杨国权，被告中华人民共和国国家知识产权局（简称国家知识产权局）的委托诉讼代理人黄道许、袁丽颖，第三人LPE公司的委托诉讼代理人王淼、周世亮到庭参加了诉讼。本案现已审理终结。被诉决定系专利复审委员会针对北方华创公司（变更名称前为北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司）就LPE公司所拥有的第02818934．5号、名称为“传送晶片的工具和外延生长台”的发明专利（简称本专利）所提无效宣告请求而作出的，该决定认定：一、本专利权利要求1的修改符合2001年实施的《中华人民共和国专利法》（简称专利法）第三十三条的规定；相应的，引用权利要求1的从属权利要求2、5、7-22不符合专利法第三十三条规定的理由也不成立。二、本专利的说明书已对发明作出清楚、完整的说明，符合专利法第二十六条第三款的规定。三、权利要求1符合2003年实施的《中华人民共和国专利法实施细则》（简称专利法实施细则）第二十条第一款的规定；北方华创公司主张的“由于权利要求1不清楚，直接或间接引用它的权利要求2-22也没有克服所述的缺陷，故权利要求2-22也不清楚”的理由亦不成立；此外，权利要求3、4、13、15、17亦符合专利法实施细则第二十条第一款的规定。四、权利要求1符合专利法实施细则第二十一条第二款的规定；相应地，北方华创公司基于“独立权利要求9引用独立权利要求1，并且也没有克服权利要求1的上述缺陷”的理由也不成立。五、（1）以对比文件1作为最接近的现有技术评价权利要求1的创造性。权利要求1相对于对比文件1分别与对比文件2、对比文件3、对比文件4、对比文件5、对比文件6、公知常识的结合具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。（2）以对比文件2作为最接近的现有技术评价权利要求1的创造性。权利要求1相对于对比文件2分别与对比文件1、对比文件5、对比文件6、公知常识的结合均具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。（3）在独立权利要求1具备创造性的情况下，从属权利要求2-8也具备创造性。（4）独立权利要求9相对于北方华创公司主张的证据结合方式也具备创造性。（5）从属权利要求10-22直接或间接引用权利要求9，故相对于上述现有技术也具备创造性。综上所述，北方华创公司提出的全部无效宣告理由均不成立，据此专利复审委员会作出被诉决定，维持本专利权有效。原告北方华创公司诉称：一、被诉决定中关于本专利权利要求符合专利法实施细则第二十一条第二款的规定，主要证据不足，事实不清、适用法律错误。二、被诉决定中关于本专利权利要求的修改符合专利法第三十三条规定的认定，主要证据不足，适用法律、法规错误，并且明显不当。三、被诉决定中关于说明书符合专利法第二十六条第三款的认定，主要证据不足，适用法律、法规错误，并且明显不当。四、被诉决定中关于本专利权利要求书符合专利法实施细则第二十条第一款的认定事实不清、适用法律错误。五、被诉决定中关于本专利权利要求1具备创造性的认定，主要证据不足，事实不清、适用法律错误。六、被诉决定中关于本专利权利要求2-8具备创造性的认定，主要证据不足，事实不清、适用法律错误。七、被诉决定中关于本专利权利要求9具备创造性的认定，主要证据不足，事实不清、适用法律错误。八、被诉决定中关于本专利权利要求10-12、16-22具备创造性的认定，主要证据不足，事实不清、适用法律错误。九、被诉决定中关于本专利权利要求13-15具备创造性的认定，主要证据不足，事实不清、适用法律错误。综上所述，原告请求人民法院依法撤销被诉决定。被告专利复审委员会辩称：被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，请求人民法院依法判决驳回原告的诉讼请求。第三人LPE公司述称：被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，请求人民法院依法判决驳回原告的诉讼请求。本院经审理查明：本案涉及国家知识产权局于2007年11月14日授权公告的、名称为“传送晶片的工具和外延生长台”的第02818934．5号发明专利，其申请日为2002年9月20日，优先权日为2001年9月27日，专利权人为LPE公司。本专利授权公告的权利要求书如下：“1．在外延生长台(1)中传送晶片(100)的工具(7)，工具(7)适于应用到用于自动地把晶片放入台(1)的反应室(2)内/从反应室(2)取出的自动装置(4)的臂(5)上，臂(5)设置有连接到抽气系统(3)的抽气管道(6)，工具(7)包括具有上面(21)和下面(22)的盘(20)，下面(22)的形状被加工成仅沿着晶片(100)的边缘(103)与晶片(100)接触，盘(20)内部设置有经由一个或多个抽气孔(25)与盘(20)的外部联通并用于经由抽气口(26)与抽气管道(6)联通的抽气室(24)，其特征在于盘(20)整个覆盖晶片(100)，抽气孔(25)通向盘(20)的下面(22)，由此当晶片(100)与盘(20)的下面(22)接触且抽气系统(3)工作时，经由抽气由工具(7)固定晶片(100)；其中，盘(20)设置有抽气腔(27)，所述抽气腔(27)处在盘(20)的中心部分处并处在盘(20)的下面(22)上，抽气孔(25)通到盘(20)的下面(22)并通到抽气腔(27)；其中，抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁。2．按照权利要求1的工具，其中抽气口(26)通到盘(20)的上面(21)。3．按照权利要求1或2的工具，其中盘(20)包括壳(28)和盖(29)，壳(28)具有基本上为环形的轮廓和基本上为U形的截面，盖(29)基本上是平整的且基本上为圆形，盖(29)与壳(28)以这样的方式连接：形成对应抽气室的封闭室(24)和基本上为圆柱形且对应抽气腔的腔(27)，其中壳(28)的形状被加工成使其仅沿着晶片(100)的边缘(103)与晶片(100)接触。4．按照权利要求3的工具，其中由沟槽构成抽气孔(25)，所述沟槽在壳(28)的内凸边上且在与盖(29)的边界处制出。5．按照权利要求1或2的工具，其中盘(20)设置有把工具(7)应用到自动装置(4)的臂(5)的板(23)，其中抽气口(26)通向或邻近板(23)。6．按照权利要求3的工具，其中盖(29)设置有把工具(7)应用到自动装置(4)的臂(5)的板(23)，其中抽气口(26)通向或邻近板(23)。7．按照权利要求1或2的工具，其中所述外延生长台(1)为具有盘形基座的类型的生长台。8．按照权利要求1或2的工具，其中所述晶片(100)为半导体材料晶片。9．用于晶片的外延生长处理的台，包括反应室(2)、抽气系统(3)和用于自动地把晶片放入到反应室(2)内/从反应室(2)内取出的自动装置(4)，自动装置(4)设置有具有连接到抽气系统(3)的抽气管道(6)的臂(5)，其特征在于它包括按照前述任一项权利要求的工具(7)，工具(7)设置有抽气室(24)并适于传送晶片(100)，工具(7)施加到自动装置(4)的臂(5)上，并且抽气室(24)与抽气管道(6)联通。10．按照权利要求9的台，其中反应室(2)是具有盘形基座(9)的类型。11．按照权利要求9或10的台，其中自动装置(4)的臂(5)由也用作抽气管道的管(6)构成。12．按照权利要求11的台，其中自动装置(4)的臂(5)包括板(10)，板(10)连接到管(6)的一端、适于应用到工具(7)并设置有把臂(5)的管(6)与盘(20)的抽气口(26)联通的内部管道(11)。13．按照权利要求9或10的台，其中反应室(2)容纳设置有至少一个凹部(12)的支撑(9)，该凹部(12)用于在台(1)中安置将被处理的晶片(200)，由第一腔(121)和在第一腔(121)内形成并具有基本上平的底部和相应于将被处理晶片的形状和尺寸的第二腔(122)构成该凹部(12)。14．按照权利要求13的台，其中第二腔(122)的深度小于将被处理晶片(200)的宽度。15．按照权利要求13的台，其中第一腔(121)和第二腔(122)的总深度大于将被处理晶片(200)的宽度。16．按照权利要求9或10的台，其中抽气系统(3)适于实现取决于晶片传送阶段的抽气。17．按照权利要求16的台，包括用于将被处理晶片的入口区、用于已经被处理晶片的出口区、和处理区(2)，其中抽气系统(3)适于实现以下方面：-在把晶片从入口区传送到处理区(2)期间和把晶片从处理区(2)传送到出口区期间的第一值抽气，-从入口区拾取晶片阶段期间的第二值抽气，-从处理区(2)拾取晶片阶段期间的第三值抽气；其中第三值大于第二值，且第二值大于第一值。18．按照权利要求9或10的台，其中抽气系统(3)适合于在盘(20)和被传送晶片(100)之间的空间中引起这样的压降以致不对被传送晶片(100)的结构和表面引起损伤。19．按照权利要求9或10的台，其中抽气系统(3)是由文丘里管效应操作的类型。20．按照权利要求19的台，其中抽气系统(3)包括用于控制惰性气体流量的可编程的质量流量控制器。21．按照权利要求9或10的台，其中所述晶片为半导体材料晶片。22．按照权利要求12的台，其中所述板(10)适于应用到工具(7)的板(23)。”针对本专利，北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司（2017年1月3日变更企业名称为北方华创公司，即本案原告）于2016年9月9日向专利复审委员会提出无效宣告请求，请求宣告本专利权全部无效，后其又于2016年10月9日补充无效宣告请求理由。经补充后的无效宣告理由为：权利要求1,2,5,7-22不符合专利法第三十三条的规定；权利要求14、15要求保护的技术方案在说明书中公开不充分，不符合专利法第二十六条第三款的规定；权利要求1-22不符合专利法实施细则第二十条第一款的规定；权利要求1,9不符合专利法实施细则第二十一条第二款的规定；权利要求1-22不符合专利法第二十二条第三款的规定。北方华创公司同时提交了9份对比文件作为证据，其中：对比文件1：美国专利文献US4767142及其中文译文。对比文件1公开了一种用于半导体晶片的镊子，其提供一种用于移动半导体晶片同时吸附所述晶片的真空镊子，对比文件1公开的吸附构件的具体结构如下：真空镊子实质上包括镊子本体11、吸附构件12和双联轴节13。与例如是压缩机或类似的真空源连接的柔性管14与双联轴节13的近端连接；吸附构件12由吸附板32、通风管33和球形阀34组成；吸附板32的吸附凹部35中产生负压，使得硅晶片被吸附在吸附板32的表面上。吸附板32具有形成与其中的吸附凹部35。在吸附板32的近端的侧部设置有沿着其纵向方向延伸的连接管36，该连接管36的内部形成有与吸附凹部35连通的连接孔37中，该连接孔37界定为内螺纹孔。设置在通风管33的末端的外螺纹38被拧入连接孔37中，因此连接通风管33和连接管36。对比文件2：PCT专利文献WO00/48234A1及其中文译文。对比文件2公开了一种外延反应器中抓取和输送半导体片子的装置，其具体公开了以下特征：外延反应器20，它包括配有几个机械手的反应室22以在/从盘状基座26上取去和放入半导体材料片子24a-e。手70由两个焊在一起的圆圈形部件72和74构成。下件74备有与排管82相通的环形腔84，在其对着片子24的边缘有小孔86a-m。而且，此下件74只与片子24有限的边缘部分25接触。管状臂64远离铰链装置62的一端与抓取工具或“手”70相连，其作用是在一个片子24从吹洗室34的片子托盘54输送至盘状基座2期间，和反之，从基座26至托盘54时保持片子24。下件74备有与排管82相通的环形腔84，在其对着片子24的边缘有小孔86a-m。而且，此下件74只与片子24有限的边缘部分25接触。抓取和输送装置60包括与铰链臂8相连的铰链装置62和管状臂64，管状臂64配有连接件66用来与软管68相连，后者作为真空源的气动机构。对比文件2的圆圈形部件72、74中间都有一个大的通孔，其是通过在环形腔84中形成负压，空气从手70的中心孔流进通孔，使对着片子边缘的通孔来吸附半导体片子。对比文件3：日本专利文献JP特开2001-162575A及其中文译文。对比文件3公开了一种半导体晶圆的输送装置，具体公开了以下特征：在非接触式吸附部件上设置导向件，使导向件与工件侧端部接触限制工件的自由的水平移动，进行输送。对比文件3明确记载“导向件与工件侧端部接触”，因此，可以认为该输送装置也是适用于“在外延生长台中传送晶片的工具，工具适于应用到用于自动地把晶片放入台(1)的反应室(2)内/从反应室(2)取出的自动装置(4)的臂(5)上。对比文件4：日本专利文献JP特开平8-148541A及其中文译文。对比文件4公开了一种晶片输送装置，具体公开了以下特征：晶片保持部7的下面形成圆弧状的凹面7a，在凹面7a的周缘部设有用于嵌入晶片2的缘部的缺口7b，晶片2以仅其缘部接触的方式保持在凹面7a上。对比文件4明确记载“晶片2以仅其缘部接触的方式保持在凹面7a上”，因此，可以认为该输送装置也是适用于“在外延生长台中传送晶片的工具，工具适于应用到用于自动地把晶片放入台(1)的反应室(2)内/从反应室(2)取出的自动装置(4)的臂(5)上。对比文件5：中国发明专利申请公开说明书CN1204141A。对比文件5公开了一种半导体晶片的化学机械抛光衬垫调理装置，具体公开了以下特征：抛光衬垫调理装置60包括与在机器人撑臂68中形成的通道62，64与66中至少一个通道的远端相工作连通的真空源。中间通道64通过撑臂68延伸向由主体部分76的下表面，调理元件80以及抛光衬垫70表面形成的空腔开口。两个外侧通道62和66与主体部分76内的通道72和74，以及在调理元件80内的开口78沟通。这样，真空源与抛光衬垫70的表面工作连通，按图示箭头方向从中除去碎屑与微粒。最好真空力可调整到有效地除去微粒而在抛光衬垫70上留下足够量的抛光液。而且当调理元件80的调理表面82在调理抛光衬垫70的表面时，表面82将在衬垫70的表面上形成密封，使得保持真空力，又可以有效地除去调理过程中形成的碎屑与微粒。对比文件6：美国专利文献US2001/0018322A1及其部分中文译文。对比文件6公开了一种用于微电子基底组件的机械和化学机械平整的支承件，具体公开了以下特征：第二部分352具有被设置为支撑基底组件12的背面15的接触面354。支承件350为圆形，支承件350包括具有一个主管道360的第一部分351（图5A）和具有多个第二管道370的第二部分352。专利复审委员会于2017年2月9日举行了口头审理。并于2017年4月6日作出被诉决定。在本案庭审过程中，北方华创公司明确表示：以对比文件1作为最接近现有技术评价权利要求1创造性时，承认被诉决定认定的区别技术特征②仅被对比文件2公开；以对比文件2作为最接近现有技术评价权利要求1创造性时，被诉决定认定的区别技术特征中除最后一句话“抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁”以外的部分仅被对比文件2公开，而最后一句话被对比文件1、5、6公开；对于权利要求9具有创造性的意见与权利要求1一致；其余相关诉求以庭审时的主张为准。国家知识产权局认可对比文件1、5、6公开了“抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁”，但认为区别技术特征应作为一个整体来看待。另查，根据中央机构改革部署，原国家知识产权局专利复审委员会的相关职责由国家知识产权局统一行使。上述事实，有本专利授权公告文本、对比文件1-6及当事人陈述等证据在案佐证。本院认为：一、关于本案中的法律适用问题2008年12月27日修改的《中华人民共和国专利法》已于2009年10月1日起施行，因此本案审理涉及2001年专利法与2009年专利法之间的选择适用问题。《中华人民共和国立法法》第八十四条规定，法律、行政法规、地方性法规、自治条例和单行条例、规章不溯及既往，但为了更好地保护公民、法人和其他组织的权利和利益而作的特别规定除外。国家知识产权局据此制定了《施行修改后的专利法的过渡办法》，并于2009年10月1日起施行。根据该过渡办法，申请日在2009年10月1日前的专利申请以及根据该专利申请授予的专利权适用2001年专利法的规定。根据相关法律规定，专利法所称申请日，有优先权的，指优先权日。本案属于专利确权行政纠纷，本申请的优先权日在2009年10月1日前，因此依据《中华人民共和国立法法》第八十四条之规定，并参照上述过渡办法的相关规定，本案应审理专利复审委员会作出的被诉决定是否符合2001年专利法及相应的专利法实施细则的规定。二、本专利是否符合专利法第三十三条的规定专利法第三十三条规定：“申请人可以对其专利申请文件进行修改，但是，对发明和实用新型专利申请文件的修改不得超出原说明书和权利要求书记载的范围。”原告主张：授权公告文本相对于公开文本，在原权利要求1中增加了原权利要求5的附加技术特征，而原权利要求5引用原权利要求4，原权利要求4引用原权利要求1，权利要求5的限定必须依靠于权利要求4，如果想不超范围必须将权利要求5和权利要求4的附加技术特征都提到权利要求1中。另外，根据说明书记载，该特征“抽气孔通向圆柱形的抽气腔的侧向壁”是针对盘不具有中心孔的技术方案限定的，而权利要求1的盘包括了具有中心孔的盘的情况，因此修改超范围。对此，本院认为：首先，权利要求的修改中并不必然需要将权利要求5所引用的权利要求4的附加技术特征也一并补充到权利要求1中，需要考虑特征之间的关系是否是紧密的，具有协同作用关系等，但是只要修改后的独立权利要求所述的技术方案未超出原说明书和权利要求书记载的范围，这样的修改就应当被允许。其次，在原权利要求1中已经存在关于“抽气孔”和“抽气腔”的描述，将原权利要求5的特征“抽气孔通向圆柱形的抽气腔的侧向壁”补充到权利要求1中是对权利要求1“抽气孔”和“抽气腔”关系的进一步限定，该限定在原权利要求和说明书中也均有记载。此外，根据本专利说明书的记载也可得知，本专利的改进就是避免中心孔带来的缺陷，而且权利要求1中已经限定了“盘整个覆盖晶片”，也就是明确了不包括其背景技术中具有中间孔的情况，所以权利要求1中的盘并不包括原告所说的具有中心孔的情况。综上，在权利要求1中增加原权利要求5的附加技术特征“抽气孔通向圆柱形的抽气腔的侧向壁”的修改并没有超出原权利要求书和说明书记载的范围。因此，本专利权利要求1的上述修改符合专利法第三十三条的规定。相应地，引用权利要求1的从属权利要求2、5、7-22也符合专利法第三十三条的规定。三、本专利是否符合专利法第二十六条第三款的规定专利法第二十六条第三款规定：“说明书应当对发明或实用新型作出清楚、完整的说明，以所属技术领域的技术人员能够实现为准。”原告主张：权利要求14、15的附加技术特征对应的说明书部分记载了：“第二腔122的深度优选比将处理晶片200的宽度小”和“第一腔121和第二腔122的总深度优选比将被处理晶片200的宽度大”。将腔的深度和晶片的宽度比导致该特征含义不清楚。另外，在说明书明确使用了宽度和厚度两个不同的术语来描述晶片的不同方面，因此“晶片的宽度”不能够解释为晶片的厚度。对此，本院认为：首先，“晶片的宽度”不是本领域中的规范用语，本领域中晶片通常成圆形，一般用圆的直径来表示晶片的平面尺寸，而不是用晶片的宽度来表示。其次，对于非规范术语，可以结合本专利说明书整体进行理解，本专利说明书中在“第二腔122的深度优选比将处理晶片200的宽度小”和“第一腔121和第二腔122的总深度优选比将被处理晶片200的宽度大”之后紧接着描述了“与市场上一样存在全然不同宽度的晶片，在这种情况下，‘通用’支撑必须考虑最厚的晶片”。同时说明书也描述了“有凹部12的边缘完全罩住晶片200的边缘”。基于上述描述并参见与之对应的附图8可知，此处对“晶片的宽度”的限定，是为了使凹部能够完全将晶片容纳，对于本领域技术人员而言，可以理解其应当是指晶片的厚度，因而也就不存在说明书违反专利法第二十六条第三款规定的问题。所以，被诉决定对于本专利符合专利法第二十六条第三款规定的认定是正确的。四、本专利是否符合专利法实施细则第二十条第一款的规定专利法实施细则第二十条第一款规定：“权利要求书应当说明发明或者实用新型的技术特征，清楚、简要地表述请求保护的范围。”首先，原告主张：不清楚对于不同形状大小的晶片，使用什么样的技术手段来实现“下面（22）的形状被加工成仅沿着晶片（100）的边缘（103）与晶片（100）接触”，而且本专利说明书中对“下面的形状”也没有相关记载。对此，本院认为：首先，技术特征“下面（22）的形状被加工成仅沿着晶片（100）的边缘（103）与晶片（100）接触”本身的含义是清楚的，使用盘下面与晶片边缘的接触来对盘下部的形状进行限定。其次，其限定的范围也是清楚的，也就是盘的下面沿着晶片（100）的边缘（103）与晶片（100）接触。此外，根据本专利说明书所述，本领域技术人员也能够知晓如何实现该技术特征，且在其背景技术中也已存在相关的技术特征。因此，该技术特征限定的保护范围是清楚的，原告的相关主张不能成立，本院不予支持。其次，原告主张，权利要求1中的“盘整个覆盖晶片”含义不清楚。对此，本院认为：首先，特征“盘整个覆盖晶片”本身的用语是清晰的，也具有明确的含义。其次，基于通常的理解，本领域技术人员能够明确，该特征整体上所表达的就是由盘遮盖住整个晶片。因此“盘整个覆盖晶片”含义是清楚的，原告的相关主张不能成立，本院不予支持。第三，原告主张，权利要求1中的“对应抽气室的封闭室”含义不清楚。对此，本院认为：权利要求中用语是否清楚，应当站位本领域技术人员和权利要求的技术方案来考虑，在本专利权利要求的技术方案中，“封闭室”是构成气体通路的一部分，因此应当理解为一个相对封闭的概念，即其可以具有气体出口和入口，只是当在工作时相对于环境空气是封闭的。因此，权利要求1中的“对应抽气室的封闭室”含义是清楚的，原告的相关主张亦不能成立，本院亦不予支持。第四，原告主张，权利要求15包含的特征“第一腔（121）和第二腔（122）的总深度大于将被处理的晶片（200）的宽度”是不清楚的。对此，本院认为：如前所述，“晶片的宽度”不是本领域中的规范用语，本领域中晶片通常成圆形，一般用圆的直径来表示晶片的平面尺寸，而不是用晶片的宽度来表示。其次，对于非规范术语，可以结合本专利说明书整体进行理解，本专利说明书中在“第一腔121和第二腔122的总深度优选比将被处理晶片200的宽度大”之后紧接着描述了“与市场上一样存在全然不同宽度的晶片，在这种情况下，‘通用’支撑必须考虑最厚的晶片”。同时说明书也描述了“有凹部12的边缘完全罩住晶片200的边缘”。基于上述描述并参见与之对应的附图8可知，此处对“晶片的宽度”的限定，是为了使凹部能够完全将晶片容纳，对于本领域技术人员而言，可以理解其应当是指晶片的厚度。基于该种理解，本领域技术人员能够明确权利要求15的保护范围，其符合专利法实施细则第二十条第一款的规定。第五，原告主张，权利要求17中的“第一值”、“第二值”、“第三值”含义不清楚，权利要求17中并没有关于“第一值”、“第二值”、“第三值”是表示压降的描述。对此，本院认为：首先，权利要求17中“第一值”、“第二值”、“第三值”是对传送晶片时抽气的限定，基于该权利要求的技术方案和本领域技术人员对抽气过程的理解，同时结合说明书中的相关描述，可以理解抽气过程的中的“第一值”、“第二值”、“第三值”是用以表征压降大小的参数，因此权利要求17的保护范围是清楚的。综上，原告认为本专利的权利要求不符合专利法实施细则第二十条第一款规定的理由均不能成立，本院均不予支持。五、本专利是否符合专利法实施细则第二十一条第二款的规定专利法实施细则第二十一条第二款规定：“独立权利要求应当从整体上反映发明或者实用新型的技术方案，记载解决技术问题的必要技术特征。”原告主张：权利要求1缺少关于“晶圆以及工具的尺寸和结构”的必要技术特征。原告认为，缺少必要技术特征是与技术问题相对应的，本专利是解决工具对晶片的损伤，仅沿着边沿接触是大家都追求的目标，不能直接把技术效果当成技术特征。对此，本院认为：参照审查指南的规定，必要技术特征是指，发明或者实用新型为解决其技术问题所不可缺少的技术特征；判断某一技术特征是否为必要技术特征，应当从所要解决的技术问题出发并考虑说明书描述的整体内容。本案中，根据说明书的描述，本发明的目的是提供一种替代的工具，能够很好的传递晶片而不损伤它们，尤其是不使它们变形具有不良效果，并且对抽气系统具有更低的要求。本发明通过使用没有孔的中心盘以致不会发生明显的大气抽吸，从而实现不使晶片变形的效果。而通过使传送晶片的工具“下面（22）的形状被加工成仅沿着晶片（100）的边缘（103）与晶片（100）接触”使得工具能够很好的传递晶片而不损伤它们，而权利要求1已经记载了解决上述技术问题，实现其发明目的的相关技术特征。另外，从本发明所要解决的技术问题出发和考虑说明书描述的整体内容来看，“晶圆以及工具的尺寸和结构”并非是本发明为解决其技术问题所不可缺少的技术特征。因此，权利要求1并不缺少必要技术特征，符合专利法实施细则第二十一条第二款规定。在此基础上，本专利权利要求9也符合专利法实施细则第二十一条第二款的规定。六、关于本专利权利要求1的创造性专利法第二十二条第三款规定：“创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型有实质性特点和进步。”（一）以对比文件1作为最接近现有技术评价权利要求1的创造性被诉决定认定本专利权利要求1与对比文件1相比存在两个区别技术特征：①在外延生长台(1)中传送晶片(100)的工具(7)，工具(7)适于应用到用于自动地把晶片放入台(1)的反应室(2)内/从反应室(2)取出的自动装置(4)的臂(5)上下面(22)的形状被加工成仅沿着晶片(100)的边缘(103)与晶片(100)接触；②盘(20)内部设置有经由一个或多个抽气孔(25)与盘(20)的外部联通并用于经由抽气口(26)与抽气管道(6)联通的抽气室(24)；盘(20)整个覆盖晶片(100)；抽气孔(25)通向盘(20)的下面(22)；抽气孔(25)通到盘(20)的下面(22)并通到抽气腔(27)；抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁。原告认为，上述两个区别技术特征均已经被公开。对此，本院认为：首先，关于区别技术特征①。对比文件1从文字上并没有明确公开其所适用的晶片形状以及吸附板32与晶片的接触方式。从附图可以看出，对比文件1的关注点在于吸附板的表面不产生形变、提高吸附效率等，其并不关注吸附板与晶片的接触位置以及其是否减少接触面积。对比文件1的传送过程可能是正面传送，也可能是背面传送；可能边缘接触，也可能正面随意接触。根据对比文件1的技术方案，本领域技术人员无法直接、毫无疑义地得出区别技术特征①已被对比文件1公开。其次，关于区别技术特征②。根据本专利权利要求1中的描述“盘内部设置有经由一个或多个抽气孔（25）与盘的外部联通并用于经由抽气口（26）与抽气管道（6）联通的抽气室（24）”可知，抽气室是位于“抽气孔（25）”和“抽气口（26）”之间的一个部件。虽然说明书中描述了，根据简化的实施例，抽气室24基本上仅由在盘20内部并把孔25连接到口26的抽气通道构成，但是由此描述可知，抽气室24也应当是由孔25和口26之间的单独的抽气通道构成。在对比文件1中，连接管36的内部形成与吸附凹部35联通的连接孔37，连接孔37具有内螺纹，用于与通风管33的外螺纹进行连接，由此可知连接管36整体上为一个部件，其作用主要适用于作为抽气口，并不存在单独的抽气通道部分。因此，权利要求中的“抽气室”并未被对比文件1所隐含公开。因此，本院认为，被诉决定认定的本专利权利要求1与对比文件1存在的两个区别技术特征是正确的。本专利权利要求1相对于对比文件1所要解决的技术问题是（1）在外延反应器中，避免表面接触损伤；（2）降低对抽气系统的要求，同时降低晶片不良形变的风险。对于区别技术特征①。被诉决定认定对比文件2、3、4公开了区别技术特征①，对此原告不持异议，本院予以确认。对于区别技术特征②。原告仅主张对比文件2公开了该区别技术特征。对此，本院认为：对比文件2的圆圈形部件72、74中间都有一个大的通孔，其是通过在环形腔84中形成负压，空气从手70的中心孔流进通孔，使对着片子边缘的通孔来吸附半导体片子。因此，对于对比文件2的盘结构而言，由于中心孔的存在，手70并没有整个覆盖晶片(100)。另外，由于本专利“外(20)整个覆盖晶片(100)”，以及“抽气腔处在盘的中心部分并在盘的下面上”，故抽气腔的上方部分是封闭的，从而通过抽气形成一个负压腔室来吸附晶片。对比文件2的“圆圈形部件72和74”的具有中心通孔的结构，该通孔结构是空气可以流入的开放结构，并不能通过抽气产生负压从而吸附晶片。因此，对比文件2与本专利的抽气腔的结构及吸附原理均不相同，对比文件2无法给出相应的技术启示。因此，权利要求1相对于对比文件1分别与对比文件2、3、4、5、6和本领域的公知常识的结合，具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。（二）以对比文件2作为最接近现有技术评价权利要求1的创造性被诉决定认定本专利权利要求1与对比文件2之间存在区别技术特征：“盘(20)内部设置有经由一个或多个抽气孔(25)与盘(20)的外部联通并用于经由抽气口(26)与抽气管道(6)联通的抽气室(24)；盘(20)整个覆盖晶片(100)，抽气孔(25)通向盘(20)的下面(22)；盘(20)设置有抽气腔(27)，所述抽气腔(27)处在盘(20)的中心部分处并处在盘(20)的下面(22)上；抽气孔(25)通到盘(20)的下面(22)并通到抽气腔(27)；抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁。”原告主张，上述区别技术特征中除“抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁”外，其他技术特征均被且仅被对比文件2所公开。对此，本院认为：首先，关于“盘内部设置有经由一个或多个抽气孔（25）与盘（20）的外部联通并用于经由抽气口（26）与抽气管道（6）联通的抽气室（24）”；“抽气孔（25）通向盘（20）的下面（22）”。对比文件2说明书第10页倒数第2段中公开了：上件72带有尾件76以固定于与管状臂64相连的夹钳78，并与下件74的尾件80一起形成与管状臂64相同的排管82。下件74备有与排管82想通的环形腔84，在其对着片子24的边缘有小孔86a-m（小孔是通向了手的下面）。环形腔84（相当于抽气室24）通过排管82（相当于抽气口26）与管状臂64（相当于抽气管道6）相连，并经由小孔86a-m（相当于多个抽气孔25）与外部相连。因此，对比文件2公开了“盘内部设置有经由一个或多个抽气孔（25）与盘（20）的外部联通并用于经由抽气口（26）与抽气管道（6）联通的抽气室（24）”；“抽气孔（25）通向盘（20）的下面（22）”。其次，关于“盘（20）整个覆盖晶片（100）”。由于对比文件2中的手70具有中心通孔的结构，因此在中间部分并没有覆盖晶片，对比文件2并没有公开上述技术特征。第三，关于“盘（20）设置有抽气腔（27），所述抽气腔（27）处在盘（20）的中心部分并处在盘（20）的下面（22）上；抽气孔通到盘（20）的下面（22）并通到抽气腔（27）”。由于对比文件2的手70具有中心通孔的结构，并没有构成抽气腔，因此对比文件2并没有公开上述与抽气孔相关的技术特征。此外，原告主张被诉决定认定的区别技术特征中最后一句“抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁”被对比文件1、5、6公开。对此，被告予以认可，但认为区别技术特征应作为一个整体来看待，本院予以支持。综上所述，本院认为，本专利权利要求1与对比文件2存在的区别技术特征为：“盘(20)整个覆盖晶片(100)；盘(20)设置有抽气腔(27)，所述抽气腔(27)处在盘(20)的中心部分处并处在盘(20)的下面(22)上；抽气孔(25)通到盘(20)的下面(22)并通到抽气腔(27)；抽气孔(25)通向圆柱形的抽气腔(27)的侧向壁。”鉴于在被诉决定认定的区别技术特征中，原告关于部分内容仅由对比文件2公开的主张不能全部成立，故原告据此主张权利要求1不具备创造性的理由不能成立。因此，权利要求1相对于对比文件2分别与对比文件1、5、6、公知常识的结合均具备专利法第二十二条第三款规定的创造性。七、关于本专利权利要求9的创造性鉴于原告对于权利要求9具有创造性的意见与权利要求1一致，故基于相同的理由，权利要求9相对于原告主张的证据结合方式也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。八、关于本专利从属权利要求的创造性从属权利要求2-8引用独立权利要求1，在独立权利要求1相对于原告主张的证据结合方式具备创造性的情况下，从属权利要求2-8相对于现有技术也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。权利要求10-12、16-22直接或间接引用权利要求9。由于权利要求9相对于上述现有技术具备创造性，从属权利要求10-12、16-22相对于上述现有技术也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。权利要求13引用权利要求9或10，在其引用的权利要求9或10具备创造性的情况下，权利要求13也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。权利要求14-15引用权利要求13，在权利要求13相对于上述现有技术具备创造性的情况下，权利要求14-15相对于上述现有技术也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。综上所述，被诉决定认定事实基本清楚，适用法律正确，作出程序合法，本院应予支持。原告的全部诉讼理由缺乏事实及法律依据，其诉讼请求本院不予支持。据此，依照《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定，本院判决如下：驳回原告北京北方华创微电子装备有限公司的诉讼请求。案件受理费人民币一百元，由原告北京北方华创微电子装备有限公司负担（已交纳）。如不服本判决，原告北京北方华创微电子装备有限公司、被告中华人民共和国国家知识产权局可于本判决书送达之日起十五日内，第三人LPE公司可于本判决书送达之日起三十日内，向本院递交上诉状及副本，并预交上诉案件受理费人民币一百元，上诉于中华人民共和国最高人民法院。审 判 长  赵 明人民陪审员  张秋翔人民陪审员  周 平二〇二〇年五月二十七日法官 助理  栾 羚技术调查官郭强书记员梁楠楠