中华人民共和国北京知识产权法院行 政 判 决 书（2016）京73行初3658号原告：株式会社杰希优，住所地日本国东京都台**东上野四丁目8番**。法定代表人：小泽惠二，董事长兼首席执行官。(未到庭)委托诉讼代理人：李慧惠，中国专利代理（香港）有限公司专利代理人，中华全国专利代理人协会推荐。（到庭）委托诉讼代理人：陈巍，中国专利代理（香港）有限公司专利代理人，中华全国专利代理人协会推荐。（到庭）被告：中华人民共和国国家知识产权局，住所地中华人民共和国住所地北京市海淀区蓟门桥西土城路**。法定代表人：申长雨，局长。(未到庭)委托诉讼代理人：孙玉静，中华人民共和国国家知识产权局审查员。（到庭）委托诉讼代理人：刘洪尊，中华人民共和国国家知识产权局审查员。（到庭）案由：发明专利申请驳回复审行政纠纷。被诉决定：原中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会（简称专利复审委员会）作出的第106043号复审请求审查决定（见附件）。被诉决定作出时间：2016年2月23日。本院受理时间：2016年7月18日。开庭审理时间：2019年3月26日。被诉决定系被告针对原告就申请号为200980149178．X的发明专利申请（简称本申请）所提复审请求而作出。被告在该决定中认为：权利要求1-4相对于对比文件1-2和本领域公知常识的结合不具备《中华人民共和国专利法》（简称《专利法》）第二十二条第三款规定的创造性，据此，维持于2014年6月13日对本申请作出的驳回决定。原告诉称：一、根据2006年版《专利审查指南》的规定，在复审程序中，合议组一般仅针对驳回决定所依据的理由和证据进行审查，“驳回决定所依据的理由和证据”应理解为不仅包括法律法规，还包括具体证据以及证据结合方式。在创造性评价中，即使具体证据相同，但选择不同的证据作为最接近现有技术，属于不同的证据结合方式。本申请的复审程序中，合议组不应将最接近的现有技术从驳回决定中的对比文件1变更为复审决定中的对比文件2进行创造性评价，无论是否给予听证机会，均应认定被诉决定的理由超出《专利审查指南》所规定的范围，复审程序不当。二、被告没有对被诉决定中的本领域公知常识进行举证，被诉决定证据不足。三、被告错误地认为对比文件2公开在聚酰亚胺基材上的镍等的导电性金属籽晶层上，不进行作为触击镀铜的一次镀铜就进行酸性镀铜，然而对比文件2中未公开对表面形成有金属被覆的树脂膜进行镀敷的方法的实施例。根据本领域公知常识，对比文件2应理解为在聚酰亚胺树脂膜的表面形成的镍等的第一溅射层上形成包含铜或铜合金的第二溅射层，在进行了这种一次镀铜之后，再进行酸性镀铜处理。本申请中，不进行作为触击镀铜的一次镀铜就可以在聚酰亚胺的基板上的导电性金属籽晶层上通过酸性镀铜，进行耐剥离性、耐热性等都优异的铜镀敷膜的厚镀敷，对比文件2以及其结合对比文件1、本领域公知常识均未给出相关的技术启示，故本申请具备创造性。综上，被告复审程序不当，认定事实和适用法律错误，请求法院依法判决撤销被诉决定，并责令被告重新作出决定。被告辩称：一、被告是在职权范围内进行审查，审查指南没有限定证据的组合方式，可以在对比文件中改变作为最接近的现有技术的对比文件，因此被告复审程序合法。二、对比文件2公开了在镍等金属的溅射层上直接进行酸性镀铜并得到了优异外观的镀覆效果，本领域技术人员能够确定本发明与对比文件2客观上可以用于相同的技术领域，解决相同的技术问题，并获得相同的技术效果，因此本发明不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。综上，被诉决定认定事实清楚，适用法律法规正确，审理程序合法，审查结论正确，原告的诉讼理由不能成立，请求法院驳回其诉讼请求。本院经审理查明：一、本申请（一）申请人：原告。（二）发明创造名称：双层挠性覆铜层叠基材及其制造方法。（三）申请号：200980149178．X。（四）申请日：2009年12月4日。（五）优先权日：2008年12月8日；2009年2月3日。（六）公开日：2011年11月16日。（七）复审决定针对的是原告于2015年6月4日修改的权利要求：1．双层挠性覆铜层叠基材，其特征在于，在经亲水化表面改性的树脂薄膜基板上预先以无电镀法所形成的、被覆厚度为10～300nm范围的Ni、Ni-P、Ni-B或Ni-Cr的导电性金属籽晶层上，使用酸性镀铜浴组合物，不经由作为触击镀铜的1次镀铜，而以镀铜为0．05～50μm范围的被覆厚度进行厚镀敷，其中，所述树脂薄膜基板是以无电镀法预先实施了导电性金属籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由(A)铜离子成分、(B)有机酸和/或无机酸成分、(C)氯离子成分、(D)有机聚合物成分、(E)光亮剂成分、及(F)作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与(甲基)丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成。2．双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其是使用酸性镀铜浴组合物和被覆了导电性金属作为籽晶层的树脂薄膜，进行湿式厚镀敷的双层挠性覆铜层叠基材(双层FCCL)的制造方法，其特征在于，该方法包括：在实施了亲水化表面改性的树脂薄膜面上以无电镀法形成被覆厚度为10～300nm范围的Ni、Ni-P、Ni-B或Ni-Cr的导电性金属籽晶层的工序；在所述酸性镀铜浴组合物中，不经由作为触击镀铜的1次镀铜而进行湿式电镀处理，在所述籽晶层上以0．05～50μm范围的被覆厚度厚镀敷铜导电层的工序，其中，所述树脂薄膜是以无电镀法预先实施了导电性金属籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由(A)铜离子成分、(B)有机酸和/或无机酸成分、(C)氯离子成分、(D)有机聚合物成分、(E)光亮剂成分、及(F)作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与(甲基)丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成。”3．根据权利要求2所述的双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其中，所述（D）有机聚合物成分为选自聚乙二醇、聚丙二醇、普卢兰尼克型表面活性剂、铁妥尼克型表面活性剂、聚乙二醇??甘油醚、聚乙二醇??二烷基醚中的至少1种。4．根据权利要求3所述的双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其中，所述（E）光亮剂成分为选自磺基烷基磺酸盐、有机二硫醚化合物及二硫代氨基甲酸衍生物中的至少1种。（八）关于本申请的其他事实本申请说明书第17段载明：“本发明的目的在于：近年来，对于各种电子仪器，使用部件的高密度化及小型化不断发展，安装有它们的印刷基板等上设置的安装电路也要求进一步的高密度化、更为小径化、高长径比化，在具有这样倾向的情况下，提供了一种金属被覆树脂薄膜基材，其使用新开发的酸性镀铜浴组合物、在聚酰亚胺薄膜等树脂薄膜上不经由1次镀铜而湿式厚敷得到双层挠性覆铜层叠基材（双层FCCL），其镀层平滑且呈现光泽外观，并且其镀铜层的耐剥离性优异，且容易进行精细图案化。”二、对比文件（一）对比文件1公开日期为2008年10月2日，公布号为JP特开2008-231459A的专利文件。对比文件1公开了一种使用与以往使用的无电解镀铜液相比安全性更高的无电解镀敷液，从而可以对聚酰亚胺树脂形成兼具良好的密合性和优异的蚀刻性的导电性覆膜。根据说明书第11-12、26-30、35段，对比文件1公开的镀敷覆膜的形成步骤如下：采用挠性聚酰亚胺树脂膜做基板，清洗指纹、油脂等有机物、因静电作用而导致的附着物等后，实施作为前处理的聚酰亚胺树脂表面的亲水化处理和赋予催化剂处理，然后在聚酰亚胺树脂上形成无电解镀铜-镍覆膜，在制作印刷电路板的情况中，可以例如通过无电镀法在形成0．05-1μm左右的镀铜-镍合金覆膜之后，使用电镀铜液形成5-30μm左右的镀铜覆膜即可。（二）对比文件2公开日期为2008年3月21日，公布号为JP特开2008-63624A的专利文件。对比文件2公开了一种层叠基材的制造方法，具有可以在酸性镀铜处理中可以赋予盲孔、全通导孔的内部、角落部的镀敷均镀性和镀敷面的流平性等镀敷外观均优异的特性，并且还能应对基质不良的新型镀敷用流平剂，并且还公开了具有上述优异特性的流平剂、具有上述优异特性的酸性镀铜浴用添加剂组合物、酸性镀铜浴和使用该镀铜浴的镀敷方法。使用上述酸性镀铜浴的镀敷方法之一为首先采用真空蒸镀、溅射等方法在树脂膜表面镀覆一层铜、镍或铬金属导电籽晶层，然后置于酸性镀铜浴组合物中进行直接厚镀覆镀铜。三、其他事实诉讼阶段，原告除被诉决定、本申请、对比文件1、对比文件2之外还提交了如下证据材料：1．2014年6月13日作出的驳回决定；2．2014年9月28日提交的申请请求书；3．2015年2月17日被告作出的复审通知书；4．2015年6月4日原告提交的意见陈述书；5．2015年9月14日被告作出的复审通知书；6．2015年12月29日原告提交的意见陈述书；上述证据1-6用以证明被告复审程序不当，于2015年9月14日作出的复审通知书中将最接近的现有技术由对比文件1变更为对比文件2。7．《精细镀敷》（2007年8月15日发行）第39页及其译文；8．《镀敷技术便览》（1971年7月20日发行）第664页及其译文；9．《入门新镀敷技术》（2007年1月20日发行）第256-257页及其译文；10．JP特开2006-278371A及其译文；11．JP特开平8-332697及其译文；12．《在塑料上镀敷的现状和未来》，刊登在《表面技术》2008年59（5）第285页及其译文；13．日本特许3166868号及其译文；上述证据7-13用以证明对比文件2的技术方案和本领域的现有技术，以证明被诉决定对主要事实认定错误。原告在庭审中明确表示，对被诉决定对于区别特征1、2的认定、其公开的技术内容和非显而易见性的评价没有异议。另查，根据中央机构改革部署，原中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会的相关职责由中华人民共和国国家知识产权局统一行使。上述事实，有被诉决定、本申请公开文本、对比文件1-2、原告提交的证据材料以及双方当事人陈述等证据在案佐证。本院认为：结合双方当事人诉辩主张，本案的争议焦点在于被告作出被诉决定是否程序违法、本申请权利要求1-4是否具备创造性。一、关于被诉决定是否存在程序违法2006版《专利审查指南》第四部分第二章第4．1节“复审请求的合议审查”之“理由和证据的审查”规定了“在复审程序中，合议组一般仅针对驳回决定所依据的理由和证据进行审查”。原告主张其中“合议组一般仅针对驳回决定所依据的理由和证据进行审查”不仅包括法律法规，还包括具体的证据以及证据的结合方式，而被告在复审程序中改变了驳回决定所使用的最接近现有技术以及证据的组合方式，导致被诉决定的理由超出《专利审查指南》规定的范围，复审程序不当。对此，本院认为，一方面，《专利审查指南》规定在复审程序中，合议组一般仅针对驳回决定所依据的理由和证据进行审查。本案中，驳回决定作出的依据为对比文件1、对比文件2以及公知常识，被告作出被诉决定的依据同样为对比文件1和对比文件2，并未超出审查范围。另一方面，在被告第二次复审通知中已告知原告将对比文件2作为最接近的现有技术，并给予原告答辩机会，原告已于2015年12月29日提交意见陈述书，被告作出驳回决定时，驳回所依据的事实、理由和证据已经在之前的审查意见通知书中告知过原告，未违反《专利审查指南》规定的听证原则。综上，被告作出被诉决定未违反法定程序，原告的相关主张缺乏法律依据，本院不予支持。二、关于本申请是否具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性《专利法》第二十二条第三款规定：“创造性，是指与现有技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型有实质性特点和进步。”判断发明是否具有突出的实质性特点，一般应当确定最接近的现有技术，分析要求保护的发明与最接近的现有技术相比有哪些区别特征，根据该区别特征所能达到的技术效果确定发明实际解决的技术问题，继而判断要求保护的发明对本领域技术人员来说是否显而易见，即现有技术是否给出将区别特征应用到最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示。本案中，以对比文件2作为最接近的现有技术，本申请权利要求1与对比文件2进行对比，原告主张除被诉决定认定的两个区别特征外，遗漏了一个区别特征，即：本申请权利要求1在镍或镍合金的导电性金属籽晶层上，采用特定的酸性镀铜浴组合物，不经由作为触击镀铜的一次镀铜，而以镀铜为0．05-50μm范围的被覆厚度进行厚镀敷。首先，对比文件2公开了一种层叠基材的制造方法，采用真空溅射、蒸镀等方法镀覆一层镍金属导电籽晶层，然后置于酸性镀铜浴组合物中进行直接厚镀覆镀铜，具有镀敷均镀性和镀敷面的流平性等镀敷外观均优异的特性。依据对比文件2的说明书，其中，第87段中对发明的镀敷方法进行说明，使用方法之一为“在表面形成有金属覆膜的树脂膜进行镀敷”，第94、95段中进一步描述上述方法的过程，首先在树脂膜的表面上形成金属覆膜，此时可以在树脂膜上通过真空蒸镀、溅射以100-500nm左右的厚度用铜、镍、铬等金属形成覆膜，然后采用通常的硫酸铜镀敷的条件进行10-20分钟镀敷，通过该方法，可以得到平滑的光泽镀敷表面，得到以高可靠性进行镀铜的结果。由此可见，对比文件2在描述使用酸性镀铜液的镀敷方法时，在形成铜、镍、铬等金属覆膜步骤与在酸性镀铜液镀敷步骤之间未描述作为触击镀铜的一次镀铜的过程，根据文义解释，可以理解为在对比文件2中不需要一次镀铜而直接进行酸度镀铜。虽然对比文件2未给出具体的实施例，但对比文件2中发明所公开的内容并非仅限于具体实施例公开的范围。其次，对比文件2与本申请应用场景基本相同，其使用的酸性镀铜浴组合物与本申请所提到的新型酸性镀铜浴组合物的构成相同，且在对比文件2说明书中第96、97段中已经公开了采用该组合物可以获得平滑的光泽镀敷表面、镀覆外观优异、高可靠性镀覆等技术效果，与本申请所声称的得到“平滑且具有光泽外观、耐剥离性优异、且易精细图案化”的技术效果基本一致。尽管对比文件2未提及该铜浴组合物提高镀层质量的内在机制，也未提及与是否进行触击镀铜的对比，但对于本领域技术人员来说，对比文件2与本申请解决的是基本相同的技术问题，可以提供不进行触击镀铜而直接采用酸性镀铜浴组合物制造高质量双层覆铜层叠基材的技术方案。原告提出对比文件2解决的是均镀性和平流性问题，而不涉及本申请考虑的在镍或镍合金上镀铜时铜镍耐剥离性的技术效果的主张缺乏依据，本院不予支持。此外，原告提交的用以证明需先进行一次镀铜，然后再进行厚镀铜的现有技术及公知常识的证据与对比文件2没有直接关联，不能证明对比文件2需要进行作为触击镀铜的一次镀铜才能实现发明效果。因此，在酸性镀铜时不需要作为触击镀铜的一次镀铜的特征已被对比文件2公开，不构成本申请权利要求1与对比文件2的区别技术特征。被诉决定对本申请权利要求1与对比文件2的区别技术特征认定正确，本院予以确认。即：1．权利要求1限定树脂薄膜经过亲水化表面改性处理，对比文件2并没有限定树脂薄膜是否经过改性处理；2．权利要求1限定镍层采用无电镀法进行镀覆，对比文件2镍层的镀覆方式不同。发明实际解决的技术问题应当基于区别技术特征所能达到的技术效果确定。基于被诉决定认定的两个区别技术特征，本申请权利要求1实际解决的问题为如何提高树脂基材与金属镀层的结合力。鉴于原告在庭审中明确表示对被告关于区别特征1、2的非显而易见性评述没有异议，本院对被诉决定的相关认定予以确认。综上，本申请权利要求1相对于比对文件2结合对比文件1及本领域公知常识是显而易见的，本申请权利要求1不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。本申请权利要求2请求保护双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，与权利要求1请求保护的双层挠性覆铜层叠基材相对应，基于权利要求1相对于对比文件2结合对比文件1及本领域公知常识不具备创造性，故权利要求2也不具备《专利法》第二十二条第三款规定的创造性。权利要求3是权利要求2的从属权利要求，其进一步限定了有机聚合物成分的种类。权利要求4是权利要求3的从属权利要求，其进一步限定了光亮剂的成分种类。对比文件2说明书第17段已经公开了权利要求3的有机聚合物成分的种类以及权利要求4中的光亮剂的成分种类。因此，在其引用的权利要求不具备创造性的前提下，权利要求3-4也不具备创造性。综上所述，被诉决定认定事实清楚，适用法律正确，审理程序合法。原告主张撤销被诉决定，本院不予支持。依照《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定，本院判决如下：驳回原告株式会社杰希优的诉讼请求。案件受理费人民币一百元，由原告株式会社杰希优负担（已交纳）。如不服本判决，原告株式会社杰希优可在本判决书送达之日起三十日内，被告中华人民共和国国家知识产权局会可在本判决书送达之日起十五日内向本院递交上诉状及副本，并交纳上诉案件受理费人民币一百元，上诉于中华人民共和国最高人民法院。审 判 长  张晓津人民陪审员  窦玉莲人民陪审员  张一凡二〇一九年六月二十七日法官 助理  吴瑛曼技术调查官肖纳敏书记员张秋影附件：中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会复审请求审查决定(第106043号)一、案由本复审请求涉及申请号为200980149178．X，发明名称为“双层挠性覆铜层叠基材及其制造方法”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为荏原优莱特科技股份有限公司，申请日为2009年12月4日，最早优先权日为2008年12月8日，进入中国国家阶段日期为2011年6月8日，公开日为2011年11月16日。经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2014年6月13日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求1-4相对于对比文件1与对比文件2及本领域公知常识的结合不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为：申请人于2011年6月8日本申请进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文文本的说明书第1-115段（第1-21页）、说明书摘要；2013年8月15日提交的权利要求第1-4项（第1页）。驳回决定中引用了以下对比文件:对比文件1：JP特开2008-231459A，公开日为2008年10月2日；对比文件2：JP特开2008-63624A，公开日为2008年3月21日。驳回决定所针对的权利要求书如下：“1．双层挠性覆铜层叠基材，其特征在于，在经亲水化表面改性的树脂薄膜基板上预先以无电镀法所形成的、被覆厚度为10～300nm范围的Ni或其合金的导电性金属籽晶层上，使用酸性镀铜浴组合物，不经由作为触击镀铜的1次镀铜，而以镀铜为0．05～50μm范围的被覆厚度进行厚镀敷，其中，所述树脂薄膜基板是以无电镀法预先实施了导电性金属镍??籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由（A）铜离子成分、（B）有机酸和/或无机酸成分、（C）氯离子成分、（D）有机聚合物成分、（E）光亮剂成分、及（F）作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成。2．双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其是使用酸性镀铜浴组合物和被覆了导电性金属作为籽晶层的树脂薄膜，进行湿式厚镀敷的双层挠性覆铜层叠基材（双层FCCL）的制造方法，其特征在于，该方法包括：在实施了亲水化表面改性的树脂薄膜面上以无电镀法形成被覆厚度为10～300nm范围的Ni或其合金的任一者的导电性金属镀敷籽晶层的工序；在所述酸性镀铜浴组合物中，不经由作为触击镀铜的1次镀铜而进行湿式电镀处理，在所述籽晶层上以0．05～50μm范围的被覆厚度厚镀敷铜导电层的工序，其中，所述树脂薄膜是以无电镀法预先实施了导电性金属镍??籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由（A）铜离子成分、（B）有机酸和/或无机酸成分、（C）氯离子成分、（D）有机聚合物成分、（E）光亮剂成分、及（F）作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成。3．根据权利要求2所述的双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其中，所述（D）有机聚合物成分为选自聚乙二醇、聚丙二醇、普卢兰尼克型表面活性剂、铁妥尼克型表面活性剂、聚乙二醇??甘油醚、聚乙二醇??二烷基醚中的至少1种。4．根据权利要求3所述的双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其中，所述（E）光亮剂成分为选自磺基烷基磺酸盐、有机二硫醚化合物及二硫代氨基甲酸衍生物中的至少1种。”申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2014年9月28日向专利复审委员会提出了复审请求，并提交了权利要求书全文的修改替换页（共1页4项），修改方式为：在权利要求1、2中均增加技术特征“其中所述Ni合金为选自Ni-P、Ni-B、Ni-Cr中的至少一种”。复审请求人认为：①无电镀镍或镍合金被膜的薄层电阻高，和电镀铜被膜之间容易产生剥离和外观不良的问题，采用本申请的酸性镀铜浴组合物则能够解决上述技术问题。对比文件1中的无电镀合金层薄层电阻低，不存在上述技术问题，因而没有改进动机。复审请求人还给出体积电阻率计算公式：体积电阻率ρv＝表面电阻率ρs×膜厚t用以说明本申请的镍籽晶层薄膜电阻比对比文件1的铜-镍合金层要高。②本申请通过使用含有成分(F)的酸性镀铜浴组合物，“不经由作为触击镀铜的1次镀铜”，直接在籽晶层上形成电镀铜层简化了镀敷处理工艺。③对比文件1中公开的“铜镍合金被膜”是镍含量少、铜含量多的富铜的铜镍合金镀敷被膜。复审请求人提交的参考文献共三份25页，具体如下：参考文献3：《フマィンプレティンヴ》，ゎたなぺとぉる编著，2007年8月15日第一版，第39页右栏倒数第3-4段记载了在Cu上电镀镍的密合性良好，但在Ni上电镀铜则容易产生剥离，在无电解镍·籽晶层(镀Ni)和电镀铜被膜(电镀Cu膜)的界面形成氢键，因此电镀铜被膜容易从无电解镍·籽晶层剥离。该参考文献用以说明在无电解镍·籽晶层和电镀铜被膜之间容易产生剥离的原因和这种现象。参考文献4：《めっき技術便覽》，めっき技術編集委員会编著，昭和46年（1971年）7月20日第一版，第644页记载了在以化学镀Ni(无电解镀Ni)形成的0.2-1μm的Ni薄膜上进行硫酸铜镀敷，形成铜镀层时，在硫酸铜镀敷之前需要使用焦磷酸铜浴进行触击镀铜；参考文献5：《入門新めっき技術》，小岩一郎等編著，2007年1月20日第1版，第256-257页记载，在设置于塑料表面的无电解Ni镀层上进行电镀铜时，因为无电解Ni镀层的厚度非常薄，因此在电镀铜之前，需要进行触击镀铜。参考文献4、5用于证明在无电镀形成的镍薄镀层上镀铜层时，需要进行触击镀铜。提出复审请求时新修改的权利要求1、2如下：“1．双层挠性覆铜层叠基材，其特征在于，在经亲水化表面改性的树脂薄膜基板上预先以无电镀法所形成的、被覆厚度为10～300nm范围的Ni或其合金的导电性金属籽晶层上，使用酸性镀铜浴组合物，不经由作为触击镀铜的1次镀铜，而以镀铜为0．05～50μm范围的被覆厚度进行厚镀敷，其中，所述树脂薄膜基板是以无电镀法预先实施了导电性金属镍??籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由(A)铜离子成分、(B)有机酸和/或无机酸成分、(C)氯离子成分、(D)有机聚合物成分、(E)光亮剂成分、及(F)作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与(甲基)丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成，其中所述Ni合金为选自Ni-P、Ni-B和Ni-Cr中的至少一种。2．双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其是使用酸性镀铜浴组合物和被覆了导电性金属作为籽晶层的树脂薄膜，进行湿式厚镀敷的双层挠性覆铜层叠基材(双层FCCL)的制造方法，其特征在于，该方法包括：在实施了亲水化表面改性的树脂薄膜面上以无电镀法形成被覆厚度为10～300nm范围的Ni或其合金的任一者的导电性金属镀敷籽晶层的工序；在所述酸性镀铜浴组合物中，不经由作为触击镀铜的1次镀铜而进行湿式电镀处理，在所述籽晶层上以0．05～50μm范围的被覆厚度厚镀敷铜导电层的工序，其中，所述树脂薄膜是以无电镀法预先实施了导电性金属镍??籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由(A)铜离子成分、(B)有机酸和/或无机酸成分、(C)氯离子成分、(D)有机聚合物成分、(E)光亮剂成分、及(F)作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与(甲基)丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成，其中所述Ni合金为选自Ni-P、Ni-B和Ni-Cr中的至少一种。”经形式审查合格，专利复审委员会依法受理了该复审请求，于2014年10月30日发出复审请求受理通知书，并将其转送至原审查部门进行前置审查。原审查部门在前置审查意见书中，认为：原申请中并没有记载无电镀法实施Ni或其合金等的镀敷时采用Ni-Cr合金，从原申请记载的内容也并不能看出Ni-Cr合金能够用于无电镀法以及后续实施的酸性镀铜，因此，对于合金为Ni-Cr的技术方案，修改后的权利要求1、2超过了原说明书和权利要求书记载的范围，不符合专利法第33条的规定。对于合金为选自Ni-P和Ni-B中的至少一种的技术方案，修改后的权利要求1-4仍不具备创造性。对比文件1已经公开了（参见说明书0007段、0011-0012段）镍合金金属层为Ni-Cu-P合金。无电镀Ni合金层时，采用含P或含B物质作为还原剂从而得到Ni-P或Ni-B合金层是本领域的常规技术手段，从节约成本的角度考虑，本领域技术人员容易想到用Ni-P或Ni-B合金层代替Ni-Cu-P合金层，并且本申请也并未表明采用Ni-P或Ni-B合金层能够比Ni-Cu-P合金层带来更好的效果。因而坚持驳回决定。随后，专利复审委员会成立合议组对本案进行审理。合议组于2015年2月17日向复审请求人发出复审通知书，指出：独立权利要求1相对于对比文件1的区别为：①权利要求1限定无电镀被覆层为Ni或其合金层，其中Ni合金为选自Ni-P、Ni-B和Ni-Cr中的至少一种，对比文件1则为Ni-Cu-P合金；②权利要求1限定镀铜工序为一次镀铜；采用酸性镀铜浴组合物进行镀铜，酸性镀铜浴组合物由（A）铜离子成分、（B）有机酸和/或无机酸成分、（C）氯离子成分、（D）有机聚合物成分、（E）光亮剂成分、及（F）作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成；对比文件1没有公开是否为一次镀铜，镀铜液为硫酸铜、焦磷酸铜或醋酸铜。对于区别特征①，对比文件1公开了镍合金为镍-铜-磷。根据镀镍基本知识可知得到镍-硼合金层或镍-磷合金层对本领域技术人员来说是容易实现的。镍-铬合金层或镍层仅是本领域的常规选择。对于区别特征②，对比文件1还公开了其技术方案为直接镀覆得到厚度约25微米的铜膜。对比文件2公开了一种酸性镀铜浴组合物，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第11-20段）：一种为了改善盲孔和贯通孔内部及边角部的匀镀性和电镀表面平整性等外观优异的特性而采用的酸性镀铜浴组合物，该酸性镀铜浴组合物由铜离子成分、有机酸和/或无机酸成分、氯离子成分、有机聚合物成分、光亮剂成分和流平剂成分；所述流平剂是由二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成，这样的镀铜浴组合物使得镀层表现出镀层表面平整并使得盲孔及边角部镀层均匀性优异，并且能够应对基底不良的问题，得到了可靠性更高的镀覆效果。可见，上述区别特征已经被对比文件2公开，且其在对比文件2中所起的作用与其在本申请中所起的作用相同，都是用于使镀铜层平滑光泽，提高镀铜效果，即对比文件2给出了由上述组分构成酸性镀铜浴组合物的技术启示，因而为了使镀铜层平滑光泽，本领域的技术人员有动机采用对比文件2所公开的酸性镀铜浴组合物并将其应用于对比文件1中。因此，在对比文件1的基础上结合对比文件2及本领域公知常识得到权利要求1不具备创造性。独立权利要求2与对比文件1相比，区别特征是：①权利要求2限定无电镀被覆层为Ni或其合金层，其中Ni合金为选自Ni-P、Ni-B和Ni-Cr中的至少一种，对比文件1则为Ni-Cu-P合金；②权利要求2限定镀铜工序为一次镀铜；采用酸性镀铜浴组合物进行镀铜，酸性镀铜浴组合物由（A）铜离子成分、（B）有机酸和/或无机酸成分、（C）氯离子成分、（D）有机聚合物成分、（E）光亮剂成分、及（F）作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成；对比文件1没有公开是否为一次镀铜，镀铜液为硫酸铜、焦磷酸铜或醋酸铜。基于同样的理由，权利要求2不具备创造性。从属权利要求3、4的附加技术特征已经被对比文件2公开，因此，也不具备创造性。对于复审请求人的意见陈述，合议组认为：对于第①点意见，首先，体积电阻率与膜厚有直接的关系，本申请中的镍或镍合金的膜厚范围有交叉的部分。二者膜厚不同时，由于材质不同，表面电阻率不同，难以比较二者体积电阻率高低。膜厚相同时，不同材料的体积电导率由材料本身及实验体系条件所决定，体系条件相同的情况下，材料本身不同对于体积电阻率有直接的影响，需要对材料本身的性质进行分析后决定。其次，由本领域普通技术知识分析可知，复审请求人认为镍的体积电阻率为铜的约4倍，铜镍合金的体积电阻率应当在镍和铜的电阻率之间并不具有说服力，也没有证据证明对比文件1的镍合金的体积电阻率小于本申请的镍合金的体积电阻率。对于第②点意见，对比文件1的技术方案采用无电镀法形成了50-1000nm的镍合金层，然后实施了直接镀铜工艺。可见，对比文件1已经明确公开了在50nm-300nm范围内的镍合金层上进行硫酸铜镀层前，并没有经过焦磷酸铜浴触击镀铜，即不经触击镀铜直接进行一次镀铜。可见，对比文件1也是在无电镀镍合金薄层上不经过触击镀铜进行了一次镀铜。对于第③点意见，对比文件1的技术方案公开了镍含量为20-70重量%的铜-镍合金被膜，包含了镍含量为70重量%，即镍多铜少的富镍合金被膜。关于复审请求人提交的证据：对于参考文献3，对比文件1公开的技术方案为在镍合金层上电镀铜，并对其膜层密着性和电阻值进行了测试，证明在62重量%镍-30重量%铜-8重量%磷合金层上不进行触击镀铜直接一次镀铜得到的双层挠性膜层的密着性和电阻值综合性优异，其他含量的镍-铜-磷合金层上不进行触击镀铜直接镀铜得到的双层挠性膜层的密着性较低。可见，通过对镀覆过程中各层材质的调整或通过其他工艺参数调整在镍合金层上进行镀覆能够得到密着性好的镀层。此外，参考文献3记载了在镍镀层上电镀铜时产生剥离的情况较容易产生，并非在任何条件下，都一定会产生剥离。对比文件1的技术方案与参考文献3给出的技术内容并不完全相同，因此，参考文献3并不能否认对比文件1的技术方案；对于参考文献4、5，首先，参考文献4、5与对比文件1都属于现有技术，也仅是记载了现有技术的一个方面，并不能代表全面的现有技术。其次，参考文献4中的无电解镀层为200-1000nm的镍镀层，参考文献5没有记载无电解镍层的厚度，对比文件1中的无电解镀层则是50-1000nm的镍合金镀层，参考文献4、5与对比文件1中的镀层存在下述不同：①材质不同，②厚度不同，由于镍层的材质和厚度直接影响镍层的体积电阻率，因此，参考文献4、5并不足以证明其给出了与对比文件1的技术方案相反的教导或技术启示。复审请求人于2015年6月4日提交了复审无效宣告程序意见陈述书，并提交了权利要求书全文的修改替换页（共1页4项），仅对权利要求1、2做了修改，其修改之处相同，修改方式为：“Ni或其合金”修改为“Ni、Ni-P、Ni-B或Ni-Cr”，删除“其中所述Ni合金为选自Ni-P、Ni-B和Ni-Cr中的至少一种”；将“导电性金属镍·籽晶层”修改为“导电性金属籽晶层”。复审请求人认为：由现有技术可知，聚酰亚胺薄膜基板上形成的Ni、Ni-P、Ni-B、Ni-Cr的导电性金属籽晶层与电镀铜被膜之间容易发生剥离，同时由参考文献4、5的内容可知，在化学镀镍层上进行硫酸铜镀覆形成铜镀层时，需要采用焦磷酸铜浴进行触击镀铜，本发明正是采用了含有成分（F）的酸性镀铜浴组合物，才可以“不经由作为触击镀铜的1次镀铜”，而直接在籽晶层上形成电镀铜层，复审请求人还采用实施例1用于佐证这样的结论，实施例1采用的镀铜浴组合物中含有流平剂，使得镀层得到了良好的外观质量。（参考文献4：《めっき技術便覽》，めっき技術編集委員会编著，昭和46年（1971年）7月20日第一版，第644页记载了在以化学镀Ni(无电解镀Ni)形成的0．2-1μm的Ni薄膜上进行硫酸铜镀敷，形成铜镀层时，在硫酸铜镀敷之前需要使用焦磷酸铜浴进行触击镀铜；参考文献5：《入門新めっき技術》，小岩一郎等編著，2007年1月20日第1版，第256-257页记载，在设置于塑料表面的无电解Ni镀层上进行电镀铜时，因为无电解Ni镀层的厚度非常薄，因此在电镀铜之前，需要进行触击镀铜。参考文献4、5用于证明在无电镀形成的镍薄镀层上镀铜层时，需要进行触击镀铜。）新修改的权利要求1、2如下：“1．双层挠性覆铜层叠基材，其特征在于，在经亲水化表面改性的树脂薄膜基板上预先以无电镀法所形成的、被覆厚度为10～300nm范围的Ni、Ni-P、Ni-B或Ni-Cr的导电性金属籽晶层上，使用酸性镀铜浴组合物，不经由作为触击镀铜的1次镀铜，而以镀铜为0．05～50μm范围的被覆厚度进行厚镀敷，其中，所述树脂薄膜基板是以无电镀法预先实施了导电性金属籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由(A)铜离子成分、(B)有机酸和/或无机酸成分、(C)氯离子成分、(D)有机聚合物成分、(E)光亮剂成分、及(F)作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与(甲基)丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成。2．双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其是使用酸性镀铜浴组合物和被覆了导电性金属作为籽晶层的树脂薄膜，进行湿式厚镀敷的双层挠性覆铜层叠基材(双层FCCL)的制造方法，其特征在于，该方法包括：在实施了亲水化表面改性的树脂薄膜面上以无电镀法形成被覆厚度为10～300nm范围的Ni、Ni-P、Ni-B或Ni-Cr的导电性金属籽晶层的工序；在所述酸性镀铜浴组合物中，不经由作为触击镀铜的1次镀铜而进行湿式电镀处理，在所述籽晶层上以0．05～50μm范围的被覆厚度厚镀敷铜导电层的工序，其中，所述树脂薄膜是以无电镀法预先实施了导电性金属籽晶层的聚酰亚胺薄膜，所述酸性镀铜浴组合物由(A)铜离子成分、(B)有机酸和/或无机酸成分、(C)氯离子成分、(D)有机聚合物成分、(E)光亮剂成分、及(F)作为镀敷用流平剂的二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与(甲基)丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成。”合议组于2015年8月7日发出合议组成员变更通知书，原合议组成员为：合议组组长傅晓亮、主审员李清燕、参审员王涛，现变更为：合议组组长孙玉静、主审员李清燕、参审员王涛。合议组于2015年9月14日向复审请求人发出复审通知书，指出：权利要求1与对比文件2相比，区别特征在于：①权利要求1限定树脂薄膜经过亲水化表面改性处理，对比文件2并没有限定树脂薄膜是否经过改性处理；②权利要求1限定镍层采用无电镀法进行镀覆，对比文件2镍层的镀覆方式不同。对于区别特征①，对比文件1公开了一种含铜和铜镍合金双导电层的挠性聚酰亚胺树脂薄膜，并具体公开了以下内容（参见说明书第11-12、26-30、35段）：采用挠性聚酰亚胺树脂薄膜做基板，经过清洗净化被处理物表面的油脂、指纹等有机物及粉尘等附着物后，进行亲水化处理（即亲水化表面改性），使得聚酰亚胺薄膜层表面的一部分开环，生成酰胺基和羧基，实现亲水化效果，提高与金属离子的结合力；之后实施无电镀法在树脂薄膜上形成一层铜镍磷合金（20-70重量%Ni、2-10重量%P、余量铜）导电金属层（即导电性金属籽晶层），该金属层厚度为0．05-1μm；然后采用硫酸铜电镀液通过电镀铜的方式在上述铜镍金属层上再镀敷一层铜导电层，铜导电层厚度为5-30μm。对比文件1给出了在聚酰亚胺树脂薄膜上镀覆导电性金属层之前先清洗净化树脂薄膜表面，并对其进行亲水化改性处理以改善树脂基材与金属镀层结合力的技术启示。本领域技术人员有动机参考对比文件1的技术内容来改进对比文件2的技术方案。对于区别特征②，对比文件2指出镀覆铜、镍或铬金属层可选的采用真空溅射、真空蒸镀等技术方法。对比文件1给出了采用无电镀法镀覆金属层的技术方案。本领域技术人员容易想到采用无电镀法代替真空溅射、真空蒸镀技术来镀覆铜、镍或铬金属层。因此，在对比文件2的基础上结合对比文件1及本领域公知常识得到权利要求1不具备创造性。对于导电性金属籽晶层为Ni-P、Ni-B或Ni-Cr的并列技术方案，首先，由于对比文件2公开了金属层可以为铜、镍或铬金属层，上述金属构成的合金层代替单一金属层也是本领域技术人员容易想到的，其技术效果可预期。因此，Ni-Cr层的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的。其次，对于常规无电镀镍层来说，无电镀Ni-P、Ni-B层所带来的技术效果与无电镀镍层相似。因此，本领域技术人员也容易想到采用Ni-P、Ni-B层来代替无电镀镍层，其技术效果可预期。可见，权利要求1的上述并列技术方案同样也不具备创造性。权利要求2与对比文件2相比，区别特征在于：①权利要求2限定树脂薄膜经过亲水化表面改性处理，对比文件2并没有限定树脂薄膜是否经过改性处理；②权利要求2限定镍层采用无电镀法进行镀覆，对比文件2镍层的镀覆方式不同。基于同样的理由，权利要求2不具备创造性。从属权利要求3、4的附加技术特征已经被对比文件2公开，因此，也不具备创造性。对于复审请求人的意见陈述，合议组认为：合议组采用对比文件2作为最接近的现有技术，其公开了在聚酰亚胺薄膜基板上形成的导电性金属镍籽晶层上镀覆铜被膜时，采用酸性镀铜浴组合物作为镀液来进行镀铜，这样的镀覆方式带来的技术效果是：本申请的酸性镀铜浴组合物有助于改善盲孔和贯通孔内部及边角部的匀镀性和电镀表面平整性等外观优异的特性，并且能够应对基底不良的问题，得到了可靠性更高的镀覆效果；同时，公开了该酸性镀铜浴组合物由铜离子成分、有机酸和/或无机酸成分、氯离子成分、有机聚合物成分、光亮剂成分和流平剂成分；所述流平剂是由二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成。其中流平剂即为复审请求人认为的重要成分（F）。可见，对比文件2的技术内容正是复审请求人所陈述的在聚酰亚胺薄膜基材上形成的导电性金属镍层上电镀铜层时，采用上述酸性镀铜浴组合物可“不经由作为触击镀铜的1次镀铜”，而直接在籽晶层上形成电镀铜层，并且得到良好外观质量的镀铜层。复审请求人于2015年12月29日提交了复审无效宣告程序意见陈述书，没有修改申请文件。复审请求人认为：①对比文件2的重点在于镀铜用流平剂，其给出的方法为一般性地公开，没有指导意义，也没有公开在聚酰亚胺基板上形成镍等导电性金属籽晶层，然后使用硫酸铜镀覆浴进行镀铜的实施例；②给出三处网络证据，用于证明现有技术中使用硫酸铜镀液不经由触击镀铜的情况下，直接在Ni上电镀厚Cu容易发生Cu-Ni剥离，因此，本领域技术人员没有动机对其直接进行厚镀覆铜；③权利要求1所解决的技术问题应当是提高无电解镀层与酸性镀铜层之间的结合力，并非合议组确定的提高聚酰亚胺膜基材与无电解镀层之间的结合力。合议组于2016年1月12日发出合议组成员变更通知书，原合议组成员为：合议组组长孙玉静、主审员李清燕、参审员王涛，现变更为：合议组组长孙玉静、主审员李清燕、参审员杨慧。在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。二、决定的理由1、关于审查文本复审程序中，复审请求人于2015年6月4日提交了权利要求书的修改替换页（共1页4项）。本复审请求审查决定所针对的审查文本为：复审请求人于2015年6月4日提交的权利要求第1-4项，以及其于2011年6月8日本申请进入中国国家阶段时提交的国际申请文件的中文文本的说明书第1-115段（第1-21页）、说明书摘要。2、关于专利法第22条第3款专利法22条第3款规定：创造性，是指同申请日以前已有的技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步。如果发明要求保护的技术方案相对于最接近的现有技术存在区别技术特征，且现有技术中给出了将上述区别技术特征应用到该最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示，这种启示会使本领域的技术人员在面对所述技术问题时，有动机改进该最接近的现有技术并获得要求保护的发明，则该发明是显而易见的，不具备创造性。（1）权利要求1请求保护双层挠性覆铜层叠材。对比文件2公开了一种酸性镀铜浴组合物镀铜得到的双层挠性覆铜层叠材，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第11-20、94-97段）：一种层叠材，其是在厚度为12-50μm聚酰亚胺薄膜基材上采用真空溅射、真空蒸镀等方法先镀覆一层100-500nm的铜、镍或铬金属层（即导电金属籽晶层），然后将其置于本申请的酸性镀铜浴组合液中进行镀铜（这样的镀铜方式为直接进行厚镀覆，没有作为经过触击镀铜的一次镀铜），本申请的酸性镀铜浴组合物有助于改善盲孔和贯通孔内部及边角部的匀镀性和电镀表面平整性等外观优异的特性，该酸性镀铜浴组合物由铜离子成分、有机酸和/或无机酸成分、氯离子成分、有机聚合物成分、光亮剂成分和流平剂成分；所述流平剂是由二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成，这样的镀铜浴组合物使得镀层表现出镀层表面平整并使得盲孔及边角部镀层均匀性优异，并且能够应对基底不良的问题，得到了可靠性更高的镀覆效果；控制镀铜液液温为23-27℃，阴极电流密度1-3A/dm2，进行10-20分钟的镀覆，得到厚度为2-10μm的镀铜层。权利要求1与对比文件2相比，区别特征在于：①权利要求1限定树脂薄膜经过亲水化表面改性处理，对比文件2并没有限定树脂薄膜是否经过改性处理；②权利要求1限定镍层采用无电镀法进行镀覆，对比文件2镍层的镀覆方式不同。基于上述区别特征，确定权利要求1实际解决的问题是：如何提高树脂基材与金属镀层的结合力。对于区别特征①，对比文件1公开了一种含铜和铜镍合金双导电层的挠性聚酰亚胺树脂薄膜，并具体公开了以下内容（参见说明书第11-12、26-30、35段）：采用挠性聚酰亚胺树脂薄膜做基板，经过清洗净化被处理物表面的油脂、指纹等有机物及粉尘等附着物后，进行亲水化处理（即亲水化表面改性），使得聚酰亚胺薄膜层表面的一部分开环，生成酰胺基和羧基，实现亲水化效果，提高与金属离子的结合力；之后实施无电镀法在树脂薄膜上形成一层铜镍磷合金（20-70重量%Ni、2-10重量%P、余量铜）导电金属层（即导电性金属籽晶层），该金属层厚度为0．05-1μm；然后采用硫酸铜电镀液通过电镀铜的方式在上述铜镍金属层上再镀敷一层铜导电层，铜导电层厚度为5-30μm。对比文件1给出了在聚酰亚胺树脂薄膜上镀覆导电性金属层之前先清洗净化树脂薄膜表面，并对其进行亲水化改性处理以改善树脂基材与金属镀层结合力的技术启示。本领域技术人员有动机参考对比文件1的技术内容来改进对比文件2的技术方案。对于区别特征②，对比文件2指出镀覆铜、镍或铬金属层可选的采用真空溅射、真空蒸镀等技术方法。对比文件1给出了采用无电镀法镀覆金属层的技术方案。本领域技术人员容易想到采用无电镀法代替真空溅射、真空蒸镀技术来镀覆铜、镍或铬金属层。由此可见，在对比文件2的基础上结合对比文件1及本领域公知常识得到权利要求1请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，不具备突出的实质性特点，进而权利要求1不具备创造性。对于导电性金属籽晶层为Ni-P、Ni-B或Ni-Cr的并列技术方案，首先，由于对比文件2公开了金属层可以为铜、镍或铬金属层，上述金属构成的合金层代替单一金属层也是本领域技术人员容易想到的，其技术效果可预期。因此，Ni-Cr层的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的。其次，对于常规无电镀镍层来说，无电镀Ni-P、Ni-B层所带来的技术效果与无电镀镍层相似。因此，本领域技术人员也容易想到采用Ni-P、Ni-B层来代替无电镀镍层，其技术效果可预期。可见，权利要求1的上述并列技术方案同样也不具备创造性。（2）权利要求2请求保护一种双层挠性覆铜层叠基材的制造方法。对比文件2公开了一种酸性镀铜浴组合物镀铜得到的双层挠性覆铜层叠材的制备方法，并具体公开了如下技术特征（参见说明书第11-20、94-97段）：一种层叠材的制备方法，其是在厚度为12-50μm聚酰亚胺薄膜基材上采用真空溅射、真空蒸镀等方法先镀覆一层100-500nm的铜、镍或铬金属层（即导电金属籽晶层），然后将其置于本申请的酸性镀铜浴组合液中进行镀铜（这样的镀铜方式为直接进行厚镀覆，没有作为经过触击镀铜的一次镀铜），本申请的酸性镀铜浴组合物有助于改善盲孔和贯通孔内部及边角部的匀镀性和电镀表面平整性等外观优异的特性，该酸性镀铜浴组合物由铜离子成分、有机酸和/或无机酸成分、氯离子成分、有机聚合物成分、光亮剂成分和流平剂成分；所述流平剂是由二烯丙基二烷基烷基硫酸铵与（甲基）丙烯酰胺类与二氧化硫的共聚物成分构成，这样的镀铜浴组合物使得镀层表现出镀层表面平整并使得盲孔及边角部镀层均匀性优异，并且能够应对基底不良的问题，得到了可靠性更高的镀覆效果；控制镀铜液液温为23-27℃，阴极电流密度1-3A/dm2，进行10-20分钟的镀覆，得到厚度为2-10μm的镀铜层。权利要求2与对比文件2相比，区别特征在于：①权利要求2限定树脂薄膜经过亲水化表面改性处理，对比文件2并没有限定树脂薄膜是否经过改性处理；②权利要求2限定镍层采用无电镀法进行镀覆，对比文件2镍层的镀覆方式不同。基于上述区别特征，确定权利要求2实际解决的问题是：如何提高树脂基材与金属镀层的结合力。对于区别特征①，对比文件1公开了一种含铜和铜镍合金双导电层的挠性聚酰亚胺树脂薄膜，并具体公开了以下内容（参见说明书第11-12、26-30、35段）：采用挠性聚酰亚胺树脂薄膜做基板，经过清洗净化被处理物表面的油脂、指纹等有机物及粉尘等附着物后，进行亲水化处理（即亲水化表面改性），使得聚酰亚胺薄膜层表面的一部分开环，生成酰胺基和羧基，实现亲水化效果，提高与金属离子的结合力；之后实施无电镀法在树脂薄膜上形成一层铜镍磷合金（20-70重量%Ni、2-10重量%P、余量铜）导电金属层（即导电性金属籽晶层），该金属层厚度为0．05-1μm；然后采用硫酸铜电镀液通过电镀铜的方式在上述铜镍金属层上再镀敷一层铜导电层，铜导电层厚度为5-30μm。对比文件1给出了在聚酰亚胺树脂薄膜上镀覆导电性金属层之前先清洗净化树脂薄膜表面，并对其进行亲水化改性处理以改善树脂基材与金属镀层结合力的技术启示。本领域技术人员有动机参考对比文件1的技术内容来改进对比文件2的技术方案。对于区别特征②，对比文件2指出镀覆铜、镍或铬金属层可选的采用真空溅射、真空蒸镀等技术方法。对比文件1给出了采用无电镀法镀覆金属层的技术方案。本领域技术人员容易想到采用无电镀法代替真空溅射、真空蒸镀技术来镀覆铜、镍或铬金属层。由此可见，在对比文件2的基础上结合对比文件1及本领域公知常识得到权利要求2请求保护的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的，不具备突出的实质性特点，进而权利要求2不具备创造性。对于导电性金属籽晶层为Ni-P、Ni-B或Ni-Cr的并列技术方案，首先，由于对比文件2公开了金属层可以为铜、镍或铬金属层，上述金属构成的合金层代替单一金属层也是本领域技术人员容易想到的，其技术效果可预期。因此，Ni-Cr层的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的。其次，对于常规无电镀镍层来说，无电镀Ni-P、Ni-B层所带来的技术效果与无电镀镍层相似。因此，本领域技术人员也容易想到采用Ni-P、Ni-B层来代替无电镀镍层，其技术效果可预期。可见，权利要求2的上述并列技术方案同样也不具备创造性。（3）权利要求3是权利要求2的从属权利要求，其进一步限定了有机聚合物成分的种类。对比文件2（参见说明书第17段）已经公开了其酸性镀铜浴组合物中的有机聚合物为选自聚乙二醇、聚丙二醇、普卢兰尼克型表面活性剂、铁妥尼克型表面活性剂、聚乙二醇??甘油醚、聚乙二醇??二烷基醚中的至少1种。权利要求4是权利要求3的从属权利要求，其进一步限定了光亮剂的成分种类。对比文件2（参见说明书第17段）已经公开了其酸性镀铜浴组合物中的光亮剂成分为选自磺基烷基磺酸盐、有机二硫醚化合物及二硫代氨基甲酸衍生物中的至少1种。因此，在其引用的权利要求不具有创造性的前提下，权利要求3-4也不具有创造性。3、关于复审请求人的意见陈述对于复审请求人的上述意见陈述以及提交的证据，合议组认为：①说明书中给出的具体实施例是针对发明重点所给出的优选性实施例，发明公开的内容并非仅限于具体实施例公开的范围。对比文件2公开的全部技术方案均可以作为本申请的现有技术评述本申请的创造性，并非仅限于其公开的重点。②对于复审请求人提交的证据，首先，复审请求人提供的为网络资料，并没有明确、可信的公开日期，即并不能直接认定其为本申请的现有技术。其次，复审请求人提供的三份文件，均属于随时可编辑修改的证据，这样的证据公信力不足。最后，对于第一份证据，给出了焦磷酸铜镀覆液作为触击镀铜的应用；对于第二份证据，该证据为论坛上的发言，其仅给出了某位发言人自己的做法；对于第三份证据，wikipedia上给出了为了提高金属层与基材的附着性，要先沉积触击层，但上述证据均不影响对比文件2已经公开的在镍金属层上直接厚镀覆铜层的事实。③对比文件2公开的技术方案，其采用特定的酸性镀铜浴组合物，可以使得镀镍层与酸性镀铜层之间的结合力提高，镀覆件表面质量良好。因此，本申请所声称的要解决的技术问题实质上在对比文件2中已经得到解决。本申请与对比文件2相比，区别特征是：①权利要求1限定树脂薄膜经过亲水化表面改性处理，对比文件2并没有限定树脂薄膜是否经过改性处理；②权利要求1限定镍层采用无电镀法进行镀覆，对比文件2镍层的镀覆方式不同。非金属膜层不经过处理直接镀覆金属层后，二者的结合力并不是很强，因此，由上述区别特征可确定本申请相对于对比文件2来说实际解决的技术问题是：如何提高树脂基材与金属镀层的结合力。对比文件1给出了对聚酰亚胺树脂材料进行亲水化处理，确保聚酰亚胺树脂薄膜与金属的平滑性及附着性，即给出了相应的技术启示。综上所述，复审请求人的上述意见陈述和/或证据不足以表明本申请具备创造性。基于上述事实和理由，合议组作出如下决定。三、决定维持国家知识产权局于2014年6月13日对本申请作出的驳回决定。如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。合议组组长：孙玉静主审员：李清燕参审员：杨慧专利复审委员会