Chất tẩy xạ

Chất tẩy xạ là hóa chất dùng để tẩy hoàn toàn bụi phóng xạ khỏi đối tượng bị nhiễm xạ. Việc nghiên cứu, sản xuất các chất tẩy xạ bắt đầu từ cuối Chiến tranh Thế giới lần thứ 2, sau khi vũ khí hạt nhân được sử dụng trong chiến tranh. Ban đầu, chủ yếu chất tẩy xạ sử dụng ở dạng lỏng; công nghệ vật liệu mới phát triển đã cho ra đời chất tẩy xạ sử dụng ở dạng rắn, sử dụng đơn giản, giảm ô nhiễm môi trường.
Chất tẩy xạ chuyên dùng ở dạng lỏng.
Thành phần chất tẩy xạ chuyên dụng ở dạng lỏng thường gồm: chất hoạt động bề mặt, chất tạo phức và phụ gia. 
Khi đưa vào đối tượng nhiễm xạ, do chất hoạt động bề mặt làm giảm sức căng bề mặt nên dung dịch chất tẩy xạ dễ dàng thấm ướt bề mặt bụi phóng xạ và bề mặt cần tẩy xạ, tạo màng bao quanh và tách bụi phóng xạ khỏi bề mặt nhiễm, đồng thời đưa vào trong dung dịch; tại đây, các ion và phân tử chất tạo phức sẽ liên kết với bụi phóng xạ, giữ không cho bám trở lại; sau đó, dòng dung dịch sẽ chuyển các bụi phóng xạ chảy ra ngoài bề mặt vừa được tẩy rửa. Để bảo đảm an toàn cho đối tượng cần tẩy xạ, dung dịch tẩy xạ phải được sử dụng kịp thời; tỉ lệ pha chế phải chính xác theo tiêu chuẩn quy định cho từng chất tẩy xạ và phù hợp với phương tiện dùng tiêu tẩy.
Chất hoạt động bề mặt.
Chất hoạt động bề mặt là hợp chất hữu cơ, có cấu tạo phân tử gồm 2 phần: ưa nước và kị nước; hòa tan vào nước làm giảm sức căng bề mặt của nước; dựa theo cấu tạo hóa học và bản chất trong dung dịch nước, chia làm 2 loại: chất hoạt động bề mặt ion và không ion. 
Chất hoạt động bề mặt ion (xà phòng béo, sunfonol, hardinol...) khi hòa tan vào nước phân li thành các ion. 
Chất hoạt động bề mặt không ion là các chất khi hòa tan vào nước không phân li thành các ion; đây là các polyglicolete, có công thức chung RR1C6H3O(C2H4O)nH (R là gốc hiđrôcacbon, trong đó số nguyên tử C là 8-10, R1 có thể là gốc hiđrôcacbon hoặc H); trong kĩ thuật các chất hoạt động bề mặt không ion có kí hiệu OP (OP-7 khi n = 7, OP-10 khi n = 10), sử dụng nhiều nhất là OP-10.
Chất tạo phức.
Chất tạo phức là chất làm tăng hiệu ứng tẩy rửa khi kết hợp với các ion âm của bụi phóng xạ tạo thành phức chất trong nước; gồm: hexametaphotphat, tripolyphotphat natri và pyrophotphat natri. 
Chất phụ gia.
Chất phụ gia gồm các chất có đặc tính kiềm và các chất điện li.
Chất tẩy xạ ứng dụng.
Chất tẩy xạ ứng dụng có các loại dung dịch xà phòng, bột giặt dân dụng để tẩy xạ; cồn, xăng, dầu để lau rửa bụi phóng xạ trên bề mặt vật thể dính nhiều dầu mỡ; dùng tro than, đất cát xoa lên bề mặt bê tông, sắt thép, dùng tinh bột xoa lên da và quân trang bị nhiễm để hấp thụ chất phóng xạ, sau đó quét sạch, vùi lấp kĩ.
Sử dụng.
Quân đội các nước sử dụng nhiều loại chất tẩy xạ, như Quân đội Nga có SF-2 và SF-2U. SF-2 ở dạng bột mịn màu kem hay vàng sẫm, dễ tan trong nước (kể cả nước cứng, với nhiệt độ 10-15oC); dung dịch 0,3% có pH = 11,6; SF-2 được điều chế bằng cách trộn dung dịch nước sunfonol và trinatri photphat (theo tỉ lệ 1:2), sau đó sấy khô; thành phần sản phẩm: 18% sunfonol, 30% trinatri photphat, 16% sunphat natri, còn lại là nước. 
SF-2U, dạng bột nhìn bên ngoài giống SF-2, dễ tan trong nước ở nhiệt độ 10-15oC; dung dịch 0,3% có pH = 9,5; thành phần: 25% sunfonol, 50% tripolyphotphat natri, 18% sunphat natri; tẩy rửa và tạo bọt tốt hơn SF-2. 
Quân đội Mĩ sử dụng CTX PS-751, là hỗn hợp các muối photphat, silicat, xút... có thành phần tương tự SF-2U. 
Quân đội Đức sử dụng Colla decohtacoll, là chất tẩy xạ sử dụng ở dạng thể rắn. 
Từ năm 1958, bộ đội hóa học QĐNDVN đã sử dụng CTX SF-2 và SF-2U; năm 1993, nghiên cứu sản xuất chất tẩy xạ TX-93, sản phẩm dạng bột màu trắng hay vàng nhạt, có tính tẩy rửa gần như SF-2U; thành phần: 20% sunfonol, 40% tripolyphotphat natri, 22% sunphat natri, 10% natrisilicat Na2SiO3, 6% soda Na2CO3, 2% chất thơm, chất màu và tạp chất.