Wpływ parametrów technologicznych procesu impulsowego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości na właściwości warstw Cu2Se
Authors: E. Godlewska, K. Mars, M. Sałęga-Starzecki
Published in: III Ogólnopolska Konferencja Naukowa Kierunek NANO – badania i osiągnięcia z obszaru nanotechnologii
Publication type: conference