Porównanie właściwości cienkich warstw TiO2 i HfO2 wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego w procesach ciągłych i sekwencyjnych
Authors: Poniedziałek Agata, Mazur Michał, Wojcieszak Damian, Kaczmarek Danuta, Kotwica Tomasz
Published in: Komputerowe wspomaganie badań naukowych XXIII
Publication type: book