Tytuł projektu: HP. Uzycie wysokich cisnien do modyfikacji stechiometrii, struktury krystalicznej, elektronowej i magnetyzmu zwiazkow funkcjonalnych
Instytucja: Uniwersytet Warszawski, Centrum Nowych Technologii Uniwersytetu Warszawskiego
Miasto: Warszawa
Województwo: mazowieckie
Kierownik projektu: prof. Wojciech Rafał Grochala
Panel: ST5 (obszar: ST)
Liczba wykonawców: 13
Finansowanie: 846000 PLN
Okres realizacji: 2013-04-09 00:00:00 – 2017-04-08 00:00:00 (48 miesięcy)