Tytuł projektu: Ultra-płytka plazmowa implantacja jonów na potrzeby technologii zaawansowanych struktur MOS/MOSFET wytwarzanych na krzemie i węgliku krzemu - charakterystyka zjawiska, próby optymalizacji technologicznej
Instytucja: Politechnika Warszawska, Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych
Miasto: Warszawa
Województwo: mazowieckie
Kierownik projektu: dr Małgorzata Jolanta Kalisz
Panel: ST7 (obszar: ST)
Liczba wykonawców: 18
Finansowanie: 822400 PLN
Okres realizacji: 2011-12-07 00:00:00 – 2017-06-06 00:00:00 (66 miesięcy)