shopkeeper/korean_wiki_content_only_120125 huggingface dataset:
2013년 WWDC에서 개발자 버전의 IOS 7이 출시되면서 게임 컨트롤러에 대한 새로운 MFi 승인이 포함되었다. 이는 iOS 장치에 클립되는 랩어라운드 디자인이거나 완전히 분리된 무선 모델을 모두 포함한다.
자신의 장치와 애플리케이션을 HomeKit과 통합하려는 개발자는 사양에 접근하고 제품을 인증하기 위해 MFi 프로그램의 회원이어야 한다.
지니어스 바(Genius Bar)는 애플이 애플 스토어 내에서 자사 제품 및 서비스 사용을 지원하기 위해 제공하는 기술 지원 서비스이다. 이 서비스는 애플이 특별히 교육하고 인증한 "지니어스"가 고객에게 컨시어지 스타일의 대면 지원을 제공하며, 서비스되는 제품에 따라 여러 수준의 인증이 있다. 하드웨어 수리가 필요한 문제의 경우, 대부분의 작업은 고객이 기다리는 동안 현장에서 완료될 수 있다.
애플 스토어의 지니어스 바는 화면 및 리튬 이온 전지 교체에 대한 당일 서비스를 제공한다. 만약 사내 기술자가 해당 장치를 애플 수리 센터로 보내야 하는 경우, 대부분 수리되거나 교체된 아이폰은 약 3일 이내에 반환되거나 수령 준비가 완료된다.
소매 부문 전 수석 부사장이었던 론 존슨 (애플)은 지니어스 바를 애플 스토어의 "심장과 영혼"이라고 자주 언급했다.
매장 배치.
이전의 지니어스 바는 최소 두 대의 15인치 또는 17인치 당시 최신형 파워북 또는 맥북 프로로 구성되었으며, 종종 "떠다니는" 스탠드에 장착되었다. 직원들은 이제 수리할 기계를 확인하기 위해 유사한 소프트웨어가 설치된 아이패드를 사용한다. 아이팟/아이폰 문제 해결을 위한 다른 노트북이 있을 수 있으며, 이를 종종 "플로터(floaters)"라고 부른다. 바 뒤의 LCD 화면은 도움을 기다리는 고객에게 팁을 제공하는 반복적인 비디오를 재생한다. 바 앞에는 사람들이 앉아 서로 또는 직원들과 대화할 수 있는 의자가 있다.
지니어스 바 뒤에 가끔 보이는 "빨간 전화"는 애플 제품 전문가와 직접 연결되는 전화선으로, 매장 직원이 답변하기에는 너무 복잡한 문제와 질문을 해결할 수 있게 해주었다. 2009년 8월 현재, 이 전화는 더 이상 새로운 애플 스토어에 설치되지 않고 다른 매장에서도 제거되었다.
직원들은 애플케어의 현지 대표자로 볼 수도 있다. 고객이 애플 제품과 관련하여 문제나 질문이 있을 때 개인적인 지원을 제공한다. 지니어스 바에서 수행되는 대부분의 서비스는 무료이다. 비보증 서비스(수리 완료 시 고객이 비용을 지불하는 경우)도 일상적으로 수행된다. 일부 국가에서는 애플이 휴대용 수리(우발적 손상과 같은 문제)를 정액 요금으로 완료할 수 있는 서비스 창고를 운영한다. 대부분의 휴대용 컴퓨터 수리와 모든 데스크톱 수리는 매장 내에서 수행되며 밤샘 또는 며칠 이내에 완료된다.
2009년 9월, 패밀리 룸 스페셜리스트들이 아이팟 및 아이폰 문제 해결을 담당하도록 통합되었다. 2010년 아이패드 출시 후, 아이패드 예약 또한 패밀리 룸 스페셜리스트의 업무가 되었다. 애플은 현재 맥과 모바일 장치라는 두 가지 지니어스 바 대기열을 유지하고 있다.
더 큰 지원팀은 지니어스 바에서 고객 서비스 문제를 처리하는 "리드 지니어스"가 이끈다. 리드 지니어스는 행정 서류를 관리하고, 지니어스의 업무를 조직하며, 수리에 대해 고객과 연락하는 "지니어스 관리자"의 도움을 받는다.
지니어스 트레이닝 학생 워크북.
지니어스 트레이닝 학생 워크북은 애플의 기술 지원 직원인 지니어스를 위한 직원 교육 매뉴얼이다. 이 매뉴얼은 상품 판매라는 최종 목표를 중심으로 한 다양한 마케팅 기법을 담고 있다. 훈련 중인 직원들에게 가르치는 기본 원칙 중 하나는 "애플 스토어의 모든 사람은 판매 사업에 종사한다"는 것이다.
기본 판매 전략은 니모닉 장치를 사용하여 Approach(접근), Probe(탐색), Present(제시), Listen(경청), End(마무리) (APPLE)로 요약된다.
고객이 우려 사항을 가질 때, 매뉴얼에 명시된 권장 응답은 "세 가지 F"인 공감(Feel), 느꼈다(Felt), 발견했다(Found) 기법이다.
모든 지니어스는 "진단 서비스 사용" 및 "공감의 힘"과 같이 다양한 프로그램을 의무적으로 이수하는 2주간의 신입 교육을 받아야 한다.
지니어스는 또한 매뉴얼에 명확히 금지된 단어 목록을 가지고 있는데, "폭탄(bomb)", "충돌(crash)", "멈춤(hang)"과 같은 단어는 "응답하지 않음(does not respond)" 또는 "예기치 않게 종료됨(unexpectedly quits)"으로 대체되어야 한다. 매뉴얼은 또한 직원들에게 고객이 지루해하거나 좌절하고 있음을 나타낼 수 있는 테이블을 두드리거나 목 뒤에 손바닥을 대는 것과 같은 감정적 신호를 읽는 방법을 가르친다. 지니어스 역할이 아닌 직원들은 이 매뉴얼을 받거나 이 훈련을 받지 않는다.
이 매뉴얼은 2012년 8월 사본이 유출되어 기즈모도의 선임 작가 샘 비들(Sam Biddle)의 손에 들어가기 전까지는 잘 보관된 비밀이었다. 비들은 "이것은 애플 내부를 깊이 들여다보는 것입니다. 심리적 지배, 금지된 단어, 역할극—이런 것은 한 번도 본 적이 없을 겁니다"라고 말했다. 크리스천 사이언스 모니터 기사는 매뉴얼의 내용과 애플이 고객을 매료시키는 효과를 나타내는 용어인 "현실왜곡장"의 개념을 연결했다.
파생/분점.
현재 애플은 기술 지원을 위한 지니어스 바를 제공하며, 기술적인 질문이 아닌 소프트웨어 교육을 담당하는 크리에이티브 팀을 항상 배치해두고 있다.
수년 동안 애플은 지니어스 바를 보완하는 서비스 및 지원 방식을 실험해 왔다. 현재는 모두 중단된 몇 가지 예시는 다음과 같다.
프로 랩과 오픈 랩은 뉴욕, 뉴욕주 웨스트 14번가의 애플 스토어 개장과 함께 도입되었으며, 프로 랩은 오스트레일리아 시드니 애플 스토어와 중화인민공화국 푸둥 신구 애플 스토어에서도 제공된다. 오픈 랩은 현재 웨스트 14번가 지점에서만 제공된다.
애플은 또한 아이튠즈 애플리케이션에 사용자의 관찰된 취향을 기반으로 음악을 추천하는 "지니어스" 기능을 브랜드화했다.
키르기스스탄 육군(; )은 키르기스스탄군의 육상 업무 부서이다.
애플 팟캐스트(Apple Podcasts, 애플 운영체제에서는 간단히 팟캐스트로 호칭)는 애플이 팟캐스트 재생을 위해 개발한 오디오 스트리밍 서비스이자 미디어 플레이어 애플리케이션이다. 애플은 2005년 6월에 출시된 아이튠즈 4.9부터 팟캐스트를 지원하기 시작했으며, 2012년 첫 단독 모바일 앱을 출시했다. 이 앱은 2014년 10월부터 iOS에 사전 설치되었다. 애플 팟캐스트 디렉토리에는 2백만 개 이상의 쇼가 있다. 애플 팟캐스트는 IOS, IPadOS, MacOS, WatchOS, TvOS, 카플레이, VisionOS, 마이크로소프트 윈도우 운영 체제, 웹 브라우저, 아마존 알렉사 장치에서 사용할 수 있다.
애플은 팟캐스트(이 용어는 애플의 아이팟 음악 플레이어와 "방송"의 혼성어)의 초기 홍보자였으며, 2005년 6월에 출시된 아이튠즈 4.9에 재생 기능을 추가하고 아이튠즈 스토어에 3,000개의 항목으로 시작하는 쇼 디렉토리를 구축했다. 2020년 4월, 애플 팟캐스트는 1백만 개 이상의 쇼를 넘어섰다. 2021년 6월, 애플은 팟캐스트 제작자들이 팟캐스트 채널을 통해 유료 구독을 구현할 수 있는 옵션을 출시했다.
애플 팟캐스트는 2021년 3월에 미국에서 팟캐스트 플랫폼 1위였던 스포티파이 팟캐스트에 뒤처진 첫 달에 약 2천8백만 명의 미국 월별 청취자와 23.8%의 시장 점유율을 기록했다. 이는 2018년 애플의 시장 점유율 34%에서 감소한 수치이다.
2025년에 애플 팟캐스트는 미국 내 상위 250개 팟캐스트의 조회수와 다운로드를 기준으로 37.4%의 시장 점유율을 기록하며 시장 점유율을 회복했다고 보고되었다. 이는 유튜브(23.2%)와 스포티파이(15.2%)를 앞서는 수치이며, 세 플랫폼을 합치면 75.8%의 시장 점유율을 가진다. 그러나 애플 팟캐스트는 기본적으로 자동 다운로드된다는 점도 언급되었다.
애플리케이션 플랫폼.
iOS, tvOS, watchOS 및 visionOS 버전.
독립형 애플 팟캐스트 앱은 2012년 세계 개발자 회의에서 IOS 6의 기능으로 발표되었다. 애플은 2012년 6월 26일 앱 스토어 (애플)에 이 앱을 조기에 출시했다. 이 앱은 새로운 팟캐스트를 찾기 위한 "스테이션" 기능을 추가했다. 이 앱은 카플레이의 표준 앱이다.
독립형 애플 팟캐스트 앱은 2012년 9월 24일 소프트웨어 6.0 업데이트와 함께 2세대 및 3세대 Apple TV에 적용되었다. 2015년 10월에 출시된 TvOS 기반 4세대 Apple TV는 팟캐스트를 재생할 수 없었다. 이는 광고, 매장 데모 루프, 개발자 문서에 홈 화면에 팟캐스트 아이콘이 나타났음에도 불구하고 발생했다. 애플 팟캐스트는 2016년 1월 26일에 출시된 tvOS 9.1.1과 함께 추가되었다.
애플 팟캐스트는 2018년 9월 17일 watchOS 5와 함께 애플 워치에 추가되었다.
WWDC 2023 (2023년 6월 5일)에서 애플 비전 프로가 발표되었고, 이와 함께 visionOS 1과 Apple Podcast도 발표되었다.
2024년 3월 5일, 애플은 iOS 17.4 및 iPadOS 17.4와 함께 아이폰과 아이패드의 팟캐스트 앱에 대본 기능을 추가했다. 대본은 영어, 프랑스어, 스페인어, 독일어 팟캐스트에서 사용할 수 있다.
macOS 및 Windows 버전.
MacOS 및 마이크로소프트 윈도우용 애플 팟캐스트는 처음에는 iTunes 앱의 일부로 제공되었으며, 2005년 6월 버전 4.9에서 팟캐스트 지원이 추가되었다.
애플은 2019년 WWDC에서 MacOS 카탈리나 출시와 함께 macOS용 아이튠즈가 음악, TV 및 팟캐스트 앱으로 분리되어 대체될 것이라고 발표했다. 애플 팟캐스트는 마이크로소프트 윈도우의 iTunes를 통해 계속 사용할 수 있다.
웹 버전 및 기타 플랫폼.
2024년 8월 19일, 애플의 팟캐스트 디렉토리가 아이튠즈에서 처음 출시된 지 19년 만에 애플은 마침내 애플 팟캐스트용 웹 인터페이스를 출시하여 컴퓨터에 아이튠즈가 설치되어 있지 않거나 애플 macOS 및 마이크로소프트 윈도우 이외의 운영 체제를 실행하는 사용자들도 접근할 수 있도록 했다.
애플 뮤직과는 달리 현재 안드로이드용 애플 팟캐스트 앱은 제공되지 않는다.
스마트 스피커.
애플의 홈팟 제품군은 음성 사용자 인터페이스를 사용하여 팟캐스트를 지원한다. 애플 팟캐스트 지원은 2019년 12월에 아마존 에코 라인에 추가되었다.
애플 팟캐스트 앱에 대한 비판적 평가는 일반적으로 엇갈렸다. 2012년에 엔가젯은 이 앱이 "아이튠즈의 혼란을 뚫고 나갈 기회를 제공한다"고 평가했다. 2017년에 슬레이트는 이 앱이 결함과 낮은 음질 때문에 비판했다. 2019년에 벌처는 이 앱을 "실망스럽다"고 평가하며 "구독과 같은 기본적인 기능에서도 미흡하고 상당히 투박하다"고 말했다.
사진(Photos)은 애플이 개발한 사진 관리 및 편집 응용 프로그램이다. 아이폰 OS 1에 번들 앱으로 처음 출시되었으며, 2015년 4월 8일 10.10.3 업데이트를 통해 OS X 요세미티 사용자에게 번들 앱으로 출시되어 아이포토와 애퍼처를 대체했다. TvOS 10용으로는 2016년 9월 13일에 출시되었다. 2023년 6월 5일 WWDC 2023에서 애플 비전 프로가 발표되면서 사진 앱이 VisionOS에 탑재되었다.
2014년 6월, 애플은 아이포토와 애퍼처를 2015년에 새로운 응용 프로그램인 사진으로 대체할 계획을 발표했다. 이 앱은 2015년 4월 8일 사용자에게 무료 업데이트로 배포된 OS X 요세미티 10.10.3에 포함되었다.
2016년 9월 13일, 이 앱은 TvOS 10에 포함되었다.
2023년 6월 5일 WWDC 2023에서 애플 비전 프로가 공개되면서 사진 앱이 VisionOS에 탑재되었다.
iOS 18 및 iPadOS 18과 함께, 사진 앱은 WWDC 2024에서 대대적인 재설계를 거쳤으며, 이는 출시 이후 가장 큰 기능 업데이트였다. 재설계의 목표는 사용성을 개선하고, 라이브러리 구성을 단순화하며, 새로운 AI 기반 기능을 제공하는 것이었다. 이전의 "라이브러리", "앨범", "추천"과 같은 별도의 탭 구조는 통합된 스크롤 가능한 뷰로 대체되었다. 사용자가 앱을 열면 먼저 전체 라이브러리가 압축된 그리드 형태로 표시된다. 더 아래로 스크롤하면 사람, 애완동물, 위치 또는 이벤트별로 주제별로 자동 생성된 컬렉션이 나타난다. 이러한 컬렉션은 개별적으로 맞춤 설정, 정렬 또는 고정할 수 있다. 검색 기능은 크게 개선되어 이제 "아이스크림을 먹는 나" 또는 "상자 안의 고양이"와 같은 자연어 입력을 지원한다. 사진과 비디오를 모두 검색하며, 비디오 내의 특정 장면도 식별할 수 있다. 애플 인텔리전스와의 통합으로 향상된 편집 도구를 사용할 수 있다. 여기에는 이미지에서 주의를 산만하게 하는 개체를 제거하는 새로운 "정리" 도구와 간단한 설명 텍스트를 기반으로 사진과 비디오에서 자동으로 추억을 생성하는 기능이 포함된다.
사진은 전문적인 이전 버전인 애퍼처보다 덜 복잡하게 만들어졌다. 버전 4.0(2018년 macOS 10.14 모하비와 함께 출시됨)까지 사진 앱은 사진에 첨부된 시간 및 위치 메타데이터의 조합을 사용하여 결정된 "모멘트"별로 사진을 정리했다. 버전 5.0(2019년 macOS 10.15 카탈리나와 함께 출시됨)부터는 사진을 연, 월, 일별로 탐색할 수 있다.
사진 형식.
기본적으로 아이폰은 .heic 파일 확장자를 가진 공간 절약형 형식인 HEIF (고효율 이미지 파일) 형식으로 사진을 저장한다. HEIF는 더 작은 파일 크기와 높은 품질을 제공하는 반면, JPEG는 구형 장치 및 소프트웨어와의 더 넓은 호환성을 제공한다. HEIF 사진은 JPEG 파일로 내보낼 수 있다.
사진에는 원클릭 자동 향상 버튼과 같은 간단한 컨트롤을 사용하여 활용되는 강력한 편집 기능이 포함되어 있다.
iCloud 사진 보관함.
아이클라우드 사진 보관함은 앱에 깊이 통합되어 사진과 비디오를 사용자 지정 Mac, 아이폰, 아이패드와 같은 다양한 애플 기기와 동기화하여 편집 및 앨범 구조를 유지한다. 아이클라우드 통합은 여전히 선택 사항이지만, 아이포토에 비해 사진에서는 훨씬 더 핵심적인 역할을 한다.
전문 인쇄.
이전 버전과 마찬가지로, 사진은 초기에는 사진의 전문적인 인쇄를 위한 여러 옵션을 포함했으며, 이를 책이나 달력으로 만들어 주소로 우편 발송할 수도 있었다. 사진과 함께 애플은 정사각형 크기 및 파노라마 인쇄 기능 등 새로운 유형의 인쇄물을 추가했다. 2018년 7월, 애플은 사진 앱의 팝업 메시지를 통해 이 서비스를 중단할 것이며, 사용자들에게 2018년 9월 30일까지 최종 주문을 제출해야 한다고 발표했다.
iCloud 사진 공유를 통해 다른 사람들과 사진을 공유할 수 있다. 다른 사람들은 기존 공유 사진을 보거나, 좋아요를 누르거나, 댓글을 달거나, 공유 앨범에 새 사진을 추가할 수 있다. 다른 공유 방법으로는 이메일, iOS 확장 기능을 통해 통합되는 소셜 플랫폼, 또는 애플의 피어투피어 에어드롭 기술이 있다.
비평가들은 사진 앱이 이전 버전들에 비해 기능이 상실되었다고 지적했다. 예를 들어, 이미지를 더 이상 이벤트로 정렬할 수 없으며, 자동으로 시간 순서대로 모멘트로 정렬되거나 앨범에 넣어 관리해야 했다. 앨범은 자동 정렬을 허용하지 않았고 이를 위해서는 사용자 정의 규칙으로 스마트 앨범을 구성해야 했다. 사진 앱 출시와 함께 애플이 포기한 애퍼처 응용 프로그램을 사용하던 고객들은 특히 전문 표준 기능의 상실에 분노했다. 2015년에 출시된 OS X 10.11 엘 캐피탄으로 업그레이드한 애플 고객들은 업그레이드 전에 최신 버전의 아이포토를 먼저 얻지 못했다면 경고 없이 응용 프로그램에서 잠기는 것을 발견했다. 아이포토는 맥 앱 스토어에서 제거되었기 때문에 사진 앱을 사용하는 것 외에는 다른 대안이 없었다.
연락처는 다음 뜻이 있다.
연락처(Contacts)는 애플의 iOS, iPadOS, watchOS, macOS 운영체제에 포함된 컴퓨터용 주소록 소프트웨어이다. 다양한 클라우드 동기화 기능을 포함하며 iMessage, FaceTime, iCloud 서비스(이전에는 모바일미)를 비롯한 다른 애플 애플리케이션 및 기능과 통합된다.
주소록(Address Book)으로 알려진 애플리케이션은 2001년 출시된 Mac OS X과 이전 베타 버전에 포함되었다. 주소록은 맥 OS X 10.2 (2002)를 위해 다시 작성되었고, 2020년 현재까지 거의 동일한 형태를 유지하고 있다.
아이폰도 출시 당시부터 연락처 저장 기능을 포함했으며, 아이폰 OS 2 (2008)부터는 독립형 애플리케이션으로 분리되었다. 2010년에는 iOS 3.2를 탑재한 아이패드가 스콧 포스톨의 지휘 아래 당시 애플에서 유행했던 스큐어모피즘 디자인 스타일을 특징으로 하는 새로운 두 개의 창으로 구성된 연락처 앱을 도입했다.
맥 OS X 라이언 (2011)은 아이패드 연락처 앱 스타일로 재설계된 주소록 애플리케이션을 선보였으며, 이 역시 두 개의 창으로 구성되었다. 2012년 OS X 마운틴 라이언에서는 세 개의 창으로 구성된 디자인으로 돌아왔고, iOS에 맞춰 이름이 변경되었다.
다음 해에 두 버전의 연락처는 부모 운영체제와 함께 더욱 플랫 디자인 스타일로 변경되었으며, 이는 2012년 가을 포스톨의 애플 퇴임과 관련된 변화로 여겨진다. 2013년 iOS 7 전체와 함께 iOS 연락처가 새로운 UI로 전환되었고, OS X 매버릭스에서는 스큐어모피즘 디자인이 제거되어 기본적인 UI만 남게 되었다. OS X 요세미티 (2014)에서는 OS X 연락처 앱이 운영체제 나머지 부분과 함께 iOS 7 스타일 UI로 전환되었다.
2021년에 애플은 watchOS 8에서 애플 워치에 연락처를 도입했다.
연락처는 보기 카드 및 열 보기와 카드만 보기 두 가지 보기 모드가 있다. 사용자는 닫기 상자 아래 창의 왼쪽 상단에 있는 컨트롤로 모드 간을 전환할 수 있다.
라이언 이전 버전에서는 카드 및 열 보기에서 연락처 창이 세 개의 창으로 나뉜다. 첫 번째 창의 제목은 그룹이다. 이 창에는 모두, 디렉토리 및 각 사용자 생성 그룹이 나열된다. 사용자는 파일 메뉴를 새 그룹으로 내리거나 Command-Shift-N을 입력하여 새 그룹을 추가할 수 있다.
모두 또는 사용자 생성 그룹을 선택하면 두 번째 열의 제목은 이름이다. 이 열에는 해당 그룹의 카드에 있는 사람들의 이름 또는 선택된 그룹이 모두인 경우 모든 이름이 사용자 기본 설정에 따라 이름 또는 성을 기준으로 알파벳순으로 나열된다.
세 번째 창에는 선택된 이름에 해당하는 카드가 있다. 이 카드에는 사용자 정의 가능한 집 및 직장과 같은 범주로 분류할 수 있는 정보가 포함될 수 있다. 여러 이메일 주소를 가진 사람의 경우와 같이 많은 필드에 중복 항목이 있을 수 있다. 사용자는 세 번째 창의 왼쪽 하단에 있는 편집 버튼을 눌러 필드를 편집할 수 있다. 기본 필드는 다음과 같다:
연락처는 LDAP(네트워크) 디렉토리를 검색할 수 있다. 사용자는 환경 설정의 LDAP 탭에서 이를 사용자 정의한다. 사용자는 첫 번째 창에서 디렉토리를 선택하고, 두 번째 창에서 디렉토리 또는 모두를 선택한 다음, 세 번째 창의 왼쪽 상단 위에 있는 검색 상자에 검색어를 입력하여 이를 검색한다. 결과는 세 번째 창에 나타난다.
키르기스스탄 공군(; )은 키르기스스탄군의 항공전 부서이다.
Apple Remote Desktop(ARD)는 애플에서 제작한 매킨토시 애플리케이션으로, 2002년 3월 14일에 처음 출시되었으며, 이전에 Apple Network Assistant라는 유사한 제품을 대체했다. 수많은 컴퓨터를 관리하는 컴퓨터 관리자와 개인을 지원하거나 그룹 시연을 수행해야 하는 교사를 대상으로 하는 Apple Remote Desktop은 사용자가 네트워크를 통해 다른 컴퓨터를 원격으로 제어하거나 모니터링할 수 있도록 한다. Mac Pro (2019), 10Gb 이더넷 카드가 장착된 Mac mini (M1, 2020), Mac Studio (2022)는 Lights Out Management 기능을 가지고 있으며 Apple Remote Desktop을 통해 전원을 켤 수 있다.
사용자 데이터그램 프로토콜(UDP)을 포트 3283에서 사용했던 원래 릴리스는 맥 OS X 10.1을 실행하는 컴퓨터에서 원격 컴퓨터(Mac OS 8.1 이상 실행)를 관찰하거나 제어할 수 있도록 했다. 또한 원격으로 컴퓨터를 재시작하거나 종료하고, 화면을 잠그거나 잠금 해제하며, 잠자기 모드로 전환하거나 깨울 수 있도록 했다. 버전 1에는 관리자가 간단한 애플리케이션을 원격으로 설치할 수 있는 간단한 파일 전송 기능도 포함되었다. 그러나 설치 프로그램 사용을 요구하는 애플리케이션을 설치하려면 관리자가 클라이언트 시스템의 인터페이스를 통해 설치 프로그램을 수동으로 실행해야 했다.
버전 1.1(2002년 8월 20일 출시)은 원격 작업을 예약하는 기능을 도입했다.
버전 1.2(2003년 4월 2일 출시)는 많은 수의 컴퓨터 관리를 용이하게 하도록 설계된 여러 기능을 추가했다. 이제 클라이언트 시스템의 인터페이스를 사용하지 않고도 여러 컴퓨터에 소프트웨어를 원격으로 동시에 설치할 수 있었다. 원격 컴퓨터의 시동 디스크도 NetBoot 서버, 네트워크 설치 이미지 또는 자체 드라이브의 파티션에서 부팅하도록 변경할 수 있다. 클라이언트 ARD 소프트웨어는 관리자가 각 개별 컴퓨터를 방문할 필요 없이 새로운 기능을 활용할 수 있도록 원격으로 업그레이드할 수도 있었다.
애플은 2003년 12월 16일 ARD를 1.2.4로 업데이트하는 마이너 업데이트를 출시했다. 이 업데이트는 보안, 성능 및 안정성에 중점을 두었다.
2004년 6월 21일, 애플은 VNC 프로토콜을 사용하도록 설계된 Apple Remote Desktop 2(7월 출시)를 발표했다. 이는 ARD 관리 소프트웨어가 맥뿐만 아니라 VNC 호환 서버 소프트웨어(윈도우 및 유닉스 시스템 등)를 실행하는 모든 컴퓨터를 관찰하고 제어할 수 있도록 하며, 반대로 표준 VNC 보기 소프트웨어가 ARD 2 소프트웨어가 설치되고 VNC 액세스가 활성화된 모든 맥에 연결할 수 있도록 한다. 이 버전은 또한 대부분의 기능(전송 제어 프로토콜(TCP), 포트 5900 및 5988 사용)에 TCP를 사용하는데, 이는 ARD 1에서 사용된 UDP보다 더 안정적이다. ARD 2에 추가된 또 다른 중요한 기능은 원격 작업을 대기열에 넣고 모니터링하여 상태(성공 또는 실패 등)를 보고할 수 있는 작업 목록이다. 이 릴리스는 또한 이전 버전의 Mac OS 지원을 중단하여 10.2.8 이상을 요구했다.
2004년 10월 11일, 애플은 버전 2.1을 출시했는데, 이는 여러 기존 기능을 개선하면서 전체 화면 모드에서 관찰되거나 제어되는 컴퓨터를 볼 수 있는 기능, 두 개 이상의 모니터를 가진 컴퓨터의 디스플레이를 볼 수 있는 기능, 마우스 오른쪽 클릭 및 스크롤 휠 지원을 추가했다.
2005년 4월 29일, 애플은 Mac OS X 10.4 지원 및 여러 버그 수정과 안정성 개선 사항을 추가한 버전 2.2를 출시했다.
2006년 4월 11일, 애플은 버전 3.0을 출시했는데, 이는 유니버설 바이너리이며 향상된 소프트웨어 업그레이드 기능, 스포트라이트 검색, 파일 전송을 위한 처리량 및 암호화 증가, 오토메이터 지원을 특징으로 한다.
2006년 11월 16일, 애플은 새로운 인텔 기반 Xserve Lights Out Management 기능에 대한 지원을 제공하는 버전 3.1을 출시했다.
2007년 10월 18일, 애플은 Mac OS X 10.5 지원 및 타사 VNC 뷰어 및 서버 호환성을 도입한 버전 3.2를 출시했다.
2009년 8월 20일, 애플은 많은 버그를 수정하고 기능 키 및 키 조합을 로컬 머신 대신 원격 컴퓨터로 보낼 수 있도록 허용한 버전 3.3을 출시했다.
2011년 1월 6일, 애플은 맥 앱 스토어와의 호환성을 제공하는 버전 3.4를 출시했다.
2011년 7월 20일, 애플은 Mac OS X 10.7과의 호환성을 제공하는 버전 3.5를 출시했다.
2013년 10월 22일, 애플은 OS X 10.9와의 호환성, 다중 모니터, 원격 복사/붙여넣기 개선 기능을 제공하는 버전 3.7을 출시했다.
2015년 1월 27일, 애플은 주로 OS X 10.10 지원을 추가하고 다양한 사용자 인터페이스 개선, 새로운 아이콘, 안정성 개선, 애플리케이션이 원래 맥 앱 스토어에서 설치되지 않았더라도 맥 앱 스토어를 사용하여 업데이트할 수 있는 기능을 포함한 버전 3.8을 출시했다. 이 버전은 이제 OS X 10.9 이상을 요구한다.
2017년 2월 21일, 애플은 버전 3.9를 출시했는데, 이는 로컬 및 원격 컴퓨터 간의 통신 보안을 강화하고(3.9 이전 클라이언트와의 통신을 허용하는 환경설정 체크박스 포함), MacBook Pro 터치 바 지원을 추가하고, 다양한 안정성 문제를 해결했으며, 사용자 자격 증명과 함께 암호화된 컴퓨터 목록을 내보내고 가져올 수 있도록 했고, 원격 사용자를 위한 항목에 주의를 환기시키는 "어시스턴스 커서" 기능을 선보였다. 이 버전은 이제 OS X 10.10.5 이상을 요구한다.
2019년 10월 7일부터 버전 3.9.x에 대한 다음 몇 가지 업데이트는 사소한 사용자 인터페이스 및 성능 개선과 버그 수정을 도입했다. Apple Silicon이 장착된 맥 및 MacOS 세쿼이아까지의 macOS 버전에 대한 호환성이 추가될 것이다. 버전 3.9.9는 macOS Sonoma 14.5 이상을 요구한다.
버전 3 이전에는 ARD가 암호, 마우스 이벤트 및 키스트로크만 암호화했으며 데스크톱 그래픽이나 파일 전송은 암호화하지 않았다. 따라서 애플은 ARD 세션에 대한 도청 가능성을 피하기 위해 공용 네트워크를 통과하는 ARD 트래픽은 VPN을 통해 터널링되어야 한다고 권장했다.
ARD 3.0은 기본 SSH 서버와 동일한 AES 128비트 암호화를 사용할 수 있는 옵션이 있다.
ARD 3.9는 이전 버전 클라이언트와 호환되지 않는 미지정된 통신 보안 개선 사항을 포함했다. 애플 리모트 데스크톱 앱에 이전 클라이언트와의 통신을 명시적으로 허용하는 환경설정 체크박스가 제공되었다. ARD 3.9.2는 목록에서 클라이언트를 보기 위해 이 체크박스 사용을 선택 사항으로 만들었다.
2017년 11월, 미국 국제무역위원회는 애플의 원격 데스크톱 기술과 관련하여 특허 침해 주장에 대한 조사를 발표했다. 원격 데스크톱 소프트웨어를 개발하는 회사인 Aqua Connect는 애플이 자사의 두 가지 특허를 침해했다고 주장했다.
4000 시리즈 집적 회로(4000-series integrated circuits)는 1968년 RCA에서 처음 선보인 CMOS 논리 계열의 집적 회로(IC)이다. 약 1975년 이후 4000B 버퍼링 시리즈로 천천히 전환되었다. 이는 당시 어떤 논리 계열보다 훨씬 넓은 공급 전압 범위(B 시리즈의 경우 3V ~ 18V 권장 범위)를 가졌다. 이 초기 시대에 활동했던 거의 모든 IC 제조업체들이 이 시리즈의 모델을 제작했다. 이 명명 규칙은 오늘날에도 여전히 사용되고 있다.
4000 시리즈는 1968년 RCA에 의해 CD4000 COS/MOS 시리즈로 도입되었으며, 이는 7400 시리즈의 트랜지스터-트랜지스터 논리(TTL) 칩에 대한 저전력 및 더 다재다능한 대안이었다. 논리 기능은 새로 도입된 상보형 금속 산화물 반도체 (CMOS) 기술로 구현되었다. 처음에는 RCA에서 "COS/MOS" 라벨링(이는 "상보형 대칭 금속 산화물 반도체"를 의미)으로 판매되었지만, 더 짧은 CMOS 용어가 기술을 지칭하는 업계 선호 용어로 부상했다. 이 시리즈의 첫 칩들은 앨버트 메드윈이 이끄는 그룹에 의해 설계되었다.
초기에는 TTL 기반 설계에 비해 상대적으로 낮은 속도 때문에 광범위한 채택이 방해받았다. 속도 제한은 결국 새로운 제조 방법(금속 대신 폴리실리콘의 자기 정렬 게이트 등)으로 극복되었다. 이 CMOS 변형은 당시의 TTL과 동등한 성능을 보였다. 1970년대 후반과 1980년대에 이 시리즈는 45xx 및 45xxx 명칭을 부여받은 새로운 모델들로 확장되었지만, 엔지니어들은 보통 여전히 4000 시리즈의 일부로 간주한다. 1990년대에는 일부 제조업체(예: 텍사스 인스트루먼트)가 더 빠른 속도를 제공하기 위해 4000 시리즈를 새로운 HCMOS 기반 설계로 포팅했다.
설계 고려사항.
4000 시리즈는 TTL에 비해 상대적으로 낮은 전력 소비, 넓은 공급 전압 범위, 그리고 대폭 증가된 부하 구동 능력(팬아웃)을 통해 더 간단한 전자 회로 설계를 가능하게 한다. 이로 인해 이 시리즈는 LSI 설계 프로토타이핑에 이상적이다. TTL IC도 비슷하게 모듈러이지만, CMOS의 대칭적 구동 강도를 보통 갖지 못하므로 출력에 적용되는 부하를 더 많이 고려해야 할 수 있다.
TTL과 마찬가지로 버퍼링된 모델은 더 높은 전류를 구동할 수 있지만(주로 옥탈 래치 및 3상 드라이버와 같은 I/O 장치에 사용 가능) 올바르게 댐핑되거나 종단되지 않으면 기생 진동을 유발할 위험이 약간 더 높다. 많은 모델에는 완전히 통합된 7세그먼트 표시 장치 카운터, 워킹 링 카운터, 전가산기를 포함한 높은 수준의 통합이 포함되어 있다.
RCA 세정 또는 RCA 클린(RCA clean)은 반도체 제조에서 실리콘 웨이퍼의 고온 처리 단계(산화, 확산, CVD) 전에 수행해야 하는 표준 웨이퍼 클리닝 단계이다.
베르너 컨은 1965년 RCA에서 근무하면서 기본적인 절차를 개발했다. 다음 화학 공정을 순서대로 포함한다.
표준 레시피.
웨이퍼는 탈이온수에 담가 준비한다. 만약 심하게 오염된 경우 (육안으로 보이는 잔류물), 피라냐 용액으로 예비 세척이 필요할 수 있다. 웨이퍼는 각 단계 사이에 탈이온수로 철저히 헹군다.
이상적으로는, 아래 단계들은 웨이퍼를 석영유리 또는 용융 석영 용기에 준비된 용액에 담가 수행한다 (붕규산 유리 제품은 불순물이 침출되어 오염을 유발할 수 있으므로 사용하지 않아야 한다). 마찬가지로, 사용되는 화학물질은 웨이퍼를 재오염시킬 불순물을 피하기 위해 전자 등급 (또는 "CMOS 등급")이어야 한다.
첫 번째 단계 (SC-1): 유기물 제거 + 입자 제거.
첫 번째 단계 (SC-1이라고 하며, SC는 표준 세척을 의미)는 다음 용액으로 수행된다 (비율은 다를 수 있다)
75 또는 80 °C에서 일반적으로 10분 동안. 이 염기-과산화물 혼합물은 유기 잔류물을 제거한다. SC-1이 표면 및 입자의 제타 전위를 수정하고 서로 반발하게 하므로, 불용성 입자까지도 매우 효과적으로 제거된다. 이 처리는 실리콘 표면에 얇은 이산화 규소층 (약 1 nm)을 형성하며, 일정량의 금속 오염 (특히 철)이 발생하는데, 이는 다음 단계에서 제거될 것이다.
두 번째 단계 (선택 사항): 산화물 박리.
선택 사항인 두 번째 단계 (베어 실리콘 웨이퍼의 경우)는 얇은 산화물 층과 일부 이온 오염 물질을 제거하기 위해 25 °C에서 수성 HF (플루오린화 수소산) 1:100 또는 1:50 용액에 약 15초 동안 짧게 담그는 것이다. 이 단계가 초고순도 물질과 초청정 용기 없이 수행되면, 베어 실리콘 표면이 매우 반응적이므로 재오염으로 이어질 수 있다. 어쨌든 다음 단계 (SC-2)에서 산화물 층이 용해되고 재성장된다.
세 번째 단계 (SC-2): 이온 제거.
세 번째이자 마지막 단계 (SC-2라고 함)는 다음 용액으로 수행된다 (비율은 다를 수 있다)
75 또는 80 °C에서 일반적으로 10분 동안. 이 처리는 SC-1 세척 단계에서 도입된 일부 금속 (이온) 오염 물질의 남아있는 흔적을 효과적으로 제거한다. 또한 웨이퍼 표면에 얇은 부동태 층을 남겨 표면을 이후 오염으로부터 보호한다 (노출된 베어 실리콘은 즉시 오염된다).
네 번째 단계: 헹굼 및 건조.
RCA 세정이 고순도 화학 물질과 깨끗한 유리 제품으로 수행되면, 웨이퍼가 물에 잠겨 있는 동안에도 매우 깨끗한 웨이퍼 표면을 얻을 수 있다. 표면이 물 표면에 떠다니는 유기물과 입자에 의해 쉽게 재오염될 수 있으므로, 헹굼 및 건조 단계는 올바르게 수행되어야 한다 (예: 흐르는 물 사용). 웨이퍼를 효과적으로 헹구고 건조하는 데 다양한 절차가 사용될 수 있다.
현장 외 세척 공정의 첫 번째 단계는 트라이클로로에틸렌, 아세톤 및 메탄올에서 웨이퍼를 초음파로 탈지하는 것이다.
배후가 강하면 강행하고 약하면 피하라는 배경이 되는 돌의 강약에 따라 진퇴를 결정하라는 뜻의 격언이다. 배경이 강할수록 강하게 싸울 수 있으므로 도전을 강행할 수 있으며, 배경이 약할 때는 싸움을 피하고 최우선적으로 안전을 도모하는 것이 올바른 행마법이다.
물리화학 및 공학에서 부동태화 또는 패시베이션(passivation)은 재료를 "수동적인" 상태, 즉 환경에 덜 쉽게 영향을 받거나 부식되지 않도록 코팅하는 것이다. 부동태화는 마이크로코팅으로 적용되거나, 기본 재료와의 화학 반응으로 생성되거나, 공기 중에서 자연스러운 산화에 의해 생성되는 외부 보호막 층을 만드는 것을 포함한다. 기술적으로 부동태화는 금속 산화물과 같은 보호 재료의 얇은 코팅을 사용하여 부식에 대한 보호막을 만드는 것이다. 규소의 부동태화는 마이크로전자 장치 제조에 사용된다. "오염"이라고 불리는 전극의 원치 않는 부동태화는 회로 저항을 증가시켜 폐수 처리를 위한 전기응고, 전류 측정 화학 센서 및 전기합성과 같은 일부 전기화학 공학 응용 분야를 방해한다.
공기에 노출되면 많은 금속은 일반적으로 산화물("자연 산화물 층"이라고 함) 또는 질화물의 단단하고 비교적 불활성 표면층을 자연적으로 형성하며, 이는 부동태층 역할을 한다. 즉, 이러한 금속은 "자체 보호"된다. 은의 경우, 어두운 변색은 환경의 황화 수소와 반응하여 형성된 황화은의 부동태층이다. 알루미늄도 마찬가지로 안정적인 보호 산화물 층을 형성하기 때문에 "녹슬지" 않는다. (대조적으로, 일부 비금속, 특히 철은 쉽게 산화되어 느슨하게 달라붙고 원래의 변위 금속보다 부피가 크며 쉽게 벗겨지는 거친 다공성 녹 코팅을 형성한다. 이 모든 것은 추가 산화를 허용하고 촉진한다.) 산화물 부동태층은 알루미늄, 베릴륨, 크로뮴, 아연, 타이타늄 및 규소의 실온 공기 중 추가 산화 및 부식을 현저히 늦춘다. 공기와의 반응으로 형성된 불활성 표면층은 규소의 경우 약 1.5 nm, 베릴륨의 경우 1–10 nm, 타이타늄의 경우 초기 1 nm이며, 수년 후 25 nm로 성장한다. 마찬가지로, 알루미늄의 경우 수년 후 약 5 nm로 성장한다.
실리콘 MOSFET 트랜지스터 및 태양 전지와 같은 반도체 장치 제조의 맥락에서 표면 부동태화는 표면의 화학적 반응성을 줄이는 것뿐만 아니라 장치의 성능을 저해하는 전자 표면 상태를 형성하는 끊어진 결합 및 기타 결함을 제거하는 것을 의미한다. 실리콘의 표면 부동태화는 일반적으로 고온 열 산화로 구성된다.
시간이 지남에 따라 산화물 층의 두께 증가를 지배하는 메커니즘을 결정하는 데 많은 관심이 있었다. 중요한 요인 중 일부는 모금속 부피에 대한 산화물 부피, 금속 산화물을 통한 산소 확산 메커니즘, 산화물의 상대적인 화학적 전위이다. 산화물 층이 결정질인 경우, 미세 결정립 사이의 경계는 산소가 아래의 비산화 금속에 도달하는 중요한 경로를 형성한다. 이러한 이유로 유리 산화물 코팅(결정립계가 없음)은 산화를 지연시킬 수 있다. 부동태화에 필요한 조건(충분하지는 않지만)은 푸르베 다이어그램에 기록되어 있다. 일부 방청제는 적용되는 금속 표면에 부동태층 형성을 돕는다. 용액에 용해된 일부 화합물(크로뮴산염, 몰리브덴산염)은 금속 표면에 비반응성 및 저용해성 막을 형성한다.
전기화학 주사 터널링 현미경을 사용하여 철 부동태화 동안 n형 반도체 Fe(III) 산화물이 금속과의 계면에서 성장하여 전자 흐름을 방해하는 전자 장벽과 추가 산화 반응을 방지하는 전자 결핍 영역이 형성됨이 밝혀졌다. 이러한 결과는 "전자 부동태화"의 메커니즘을 나타낸다. 이 반도체 산화물 막의 전자적 특성은 염화 이온에 의해 매개되는 부식에 대한 기계적 설명을 제공하는데, 염화 이온은 산화물 표면에 표면 상태를 생성하여 전자적 돌파, 양극 전류의 복구, 그리고 전자적 부동태화 메커니즘의 붕괴("초부동태화")를 초래한다.
발견과 어원.
철이 농축된 질산과 반응하지 않는다는 사실은 1738년 미하일 로모노소프가 발견했고, 1790년 제임스 케어가 재발견했는데, 그는 또한 미리 침지된 철이 더 이상 질산 은에서 은을 환원시키지 않는다는 점을 지적했다. 1830년대에 마이클 패러데이와 크리스티안 쇤바인은 그 문제를 체계적으로 연구하여 철 조각을 묽은 질산에 넣으면 용해되어 수소를 생성하지만, 철을 농축 질산에 넣었다가 다시 묽은 질산에 넣으면 거의 또는 전혀 반응이 일어나지 않는다는 것을 보여주었다. 1836년에 쇤바인은 첫 번째 상태를 활성 상태, 두 번째 상태를 비활성 상태라고 명명했으며, 패러데이는 위에서 설명한 산화물 막에 대한 현대적 설명을 제안했다(쇤바인은 이에 동의하지 않았다). 이는 1927년에야 울릭 리처드슨 에반스에 의해 실험적으로 입증되었다. 1955년에서 1957년 사이에 칼 프로슈와 링컨 데릭은 이산화 규소를 이용한 실리콘 웨이퍼의 표면 부동태화를 발견했으며, 부동태화를 사용하여 최초의 이산화 규소 전계 효과 트랜지스터를 제작했다.
특정 재료.
알루미늄은 산소와 접촉하면 산화 과정을 통해 얇은 산화 알루미늄 표면층을 자연적으로 형성하여 많은 환경에서 부식 또는 추가 산화에 대한 물리적 장벽을 만든다. 그러나 일부 알루미늄 합금은 산화물 층을 잘 형성하지 못하여 부식으로부터 보호되지 않는다. 특정 합금에 대한 산화물 층 형성을 강화하는 방법이 있다. 예를 들어, 과산화 수소를 알루미늄 용기에 보관하기 전에 용기를 묽은 질산 및 과산화물 용액과 탈이온수를 번갈아 헹구어 부동태화할 수 있다. 질산과 과산화물 혼합물은 용기 내부 표면의 불순물을 산화 및 용해시키고, 탈이온수는 산과 산화된 불순물을 씻어낸다.
일반적으로 알루미늄 합금을 부동태화하는 두 가지 주요 방법(도금, 페인팅 및 기타 장벽 코팅 제외)이 있다. 바로 크롬산염 전환 코팅과 양극 산화이다. 알클래딩(Alclading)은 순수 알루미늄 또는 합금의 얇은 층을 다른 기본 알루미늄 합금에 금속학적으로 접합하는 것으로, 기본 합금의 엄밀한 의미의 부동태화는 아니다. 그러나 알클래드 처리된 알루미늄 층은 자연적으로 산화물 층을 발달시켜 기본 합금을 보호하도록 설계되었다.
크롬산염 전환 코팅은 표면 알루미늄을 두께 범위의 알루미늄 크롬산염 코팅으로 변환한다. 알루미늄 크롬산염 전환 코팅은 젤과 같은 조성으로 물로 수화된 비정질 구조를 가지고 있다. 크롬산염 전환은 알루미늄뿐만 아니라 아연, 카드뮴, 구리, 은, 마그네슘, 주석 합금을 부동태화하는 일반적인 방법이다.
양극 산화는 더 두꺼운 산화물 층을 형성하는 전해 공정이다. 양극 코팅은 수화된 산화 알루미늄으로 구성되며 부식 및 마모에 강한 것으로 간주된다. 이 마감은 다른 공정보다 견고하며, 다른 두 공정에서는 제공되지 않을 수 있는 전기 절연 기능도 제공한다.
탄소 퀀텀닷 (CQD) 기술에서 CQD는 일종의 표면 부동태화를 가진 작은 탄소 나노입자 (10 nm 미만 크기)이다.
철 재료.
철 재료, 즉 강철은 산화를 촉진("녹")한 다음 인산을 사용하여 산화를 금속인산염으로 전환하고 표면 코팅을 통해 추가 보호를 제공하여 어느 정도 보호될 수 있다. 코팅되지 않은 표면은 수용성이므로, 일반적으로 파커라이징 또는 인산염 전환으로 알려진 공정을 통해 망가니즈 또는 아연 화합물을 형성하는 것이 바람직한 방법이다. 오래되고 덜 효과적이지만 화학적으로 유사한 전기화학적 전환 코팅에는 블랙 옥사이드가 포함되었으며, 이는 역사적으로 블루잉 또는 브라우닝으로 알려져 있다. 일반 강철은 콘크리트의 철근처럼 알칼리 환경에서 부동태층을 형성한다.
스테인리스강은 부식에 강하지만 녹에 완전히 영향을 받지 않는 것은 아니다. 내식성 강철의 일반적인 부식 모드 중 하나는 표면의 작은 지점이 녹슬기 시작하는 경우인데, 이는 결정립계 또는 이물질(예: 연삭 부스러기)이 물 분자가 합금 크로뮴에도 불구하고 해당 지점의 일부 철을 산화시키는 것을 허용하기 때문이다. 이를 적녹이라고 한다. 일부 등급의 스테인리스강은 적녹에 특히 강하며, 따라서 엔지니어링 결정에 따라 부동태화 단계를 생략할 수 있다.
모든 다양한 사양과 유형 중에서 공통적인 단계는 다음과 같다. 부동태화 전에 물체는 모든 오염물질로부터 세척되어야 하며 일반적으로 표면이 '깨끗하다'는 것을 증명하기 위한 검증 테스트를 거쳐야 한다. 그런 다음 물체는 고객과 공급업체 간에 지정된 방법 및 유형의 온도 및 화학적 요구 사항을 충족하는 산성 부동태화 욕조에 넣는다. 질산은 스테인리스강의 부동태화 산으로 일반적으로 사용되지만, 시트르산은 취급하기 훨씬 덜 위험하고 독성이 적으며 생분해성이어서 폐기가 덜 어렵기 때문에 인기를 얻고 있다. 부동태화 온도는 주변 온도부터 까지 다양하며, 최소 부동태화 시간은 일반적으로 20분에서 30분이다. 부동태화 후 부품은 수산화 나트륨 수용액 욕조를 사용하여 중화한 다음 깨끗한 물로 헹구고 건조한다. 부동태 표면은 습도, 고온, 녹 생성제(염수 분무) 또는 이 세 가지 조합을 사용하여 검증된다. 부동태화 공정은 외부 철을 제거하고, 추가 산화(녹)를 방지하는 부동태 산화물 층을 생성/복원하며, 부품의 먼지, 스케일 또는 기타 용접으로 생성된 화합물(예: 산화물)을 세척한다.
부동태화 공정은 일반적으로 산업 표준에 의해 제어되며, 오늘날 가장 널리 사용되는 것은 ASTM A 967 및 AMS 2700이다. 이러한 산업 표준은 일반적으로 여러 부동태화 공정을 나열하며, 특정 방법의 선택은 고객과 공급업체에 맡겨진다. "방법"은 질산 기반 부동태화 욕조 또는 시트르산 기반 욕조이며, 이러한 산은 표면 철과 녹을 제거하면서 크로뮴을 보호한다. 각 방법 아래에 나열된 다양한 '유형'은 산 욕조 온도 및 농도의 차이를 나타낸다. 다이크로뮴산 나트륨은 특정 '유형'의 질산 기반 산 욕조에서 크로뮴을 산화시키기 위한 첨가제로 종종 필요하지만, 이 화학 물질은 독성이 매우 강하다. 시트르산의 경우, 단순히 부품을 헹구고 건조시켜 공기에 의해 산화되도록 하거나, 경우에 따라 다른 화학 물질을 적용하여 표면의 부동태화를 수행한다.
일부 항공우주 제조업체는 자사 제품을 부동태화할 때 국가 표준을 초과하는 추가 지침 및 규정을 가지고 있는 경우가 드물지 않다. 종종 이러한 요구 사항은 Nadcap 또는 기타 인증 시스템을 사용하여 아래로 전달된다. 스테인리스강의 부동태화(또는 비활성 상태)를 결정하는 데 사용할 수 있는 다양한 테스트 방법이 있다. 부품의 비활성 상태를 검증하는 가장 일반적인 방법은 일정 기간 동안 높은 습도와 열을 조합하여 녹 발생을 유도하는 것이다. 전기화학적 테스터도 상업적으로 부동태화를 확인할 수 있다.
타이타늄 및 타이타늄 풍부 합금의 표면은 공기에 노출되면 즉시 산화되어 얇은 타이타늄 산화물 부동태층(대부분 이산화 타이타늄)을 형성한다. 이 층은 산화물 층의 점진적인 성장(공기 중에서 수년 후 약 25 nm로 두꺼워짐)을 제외하고는 추가 부식에 대한 저항성을 부여한다. 이 보호층 덕분에 해수와 같은 부식성 환경에서도 사용할 수 있다. 타이타늄은 양극 산화 처리를 통해 더 두꺼운 부동태층을 생성할 수 있다. 다른 많은 금속과 마찬가지로, 이 층은 박막 간섭을 일으켜 금속 표면이 색깔을 띠게 하며, 부동태층의 두께가 생성되는 색상에 직접적인 영향을 미친다.
니켈은 플루오린 원소를 취급하는 데 사용될 수 있는데, 이는 플루오린화 니켈의 부동태층 형성에 기인한다. 이러한 사실은 물 처리 및 하폐수 처리 응용 분야에서 유용하다.
마이크로일렉트로닉스 및 광전지 태양 전지 분야에서 표면 부동태화는 일반적으로 약 1000°C에서 열 산화를 통해 이산화 규소 코팅을 형성하여 구현된다. 표면 부동태화는 태양 전지 효율에 매우 중요하다. 부동태화가 태양 전지 효율에 미치는 영향은 3–7%이다. 표면 저항률은 &gt; 100 Ωcm으로 높다.
페로브스카이트 태양 전지의 성능을 향상시키는 가장 쉽고 널리 연구된 방법은 부동태화이다. 이러한 결함은 일반적으로 페로브스카이트 필름 표면에 매달린 결합의 존재로 인해 태양 전지에서 깊은 에너지 준위 결함을 초래한다. 일반적으로 작은 분자나 고분자를 도핑하여 매달린 결합과 상호작용하게 함으로써 결함 상태를 줄인다. 이 과정은 테트리스와 유사하다. 즉, 우리는 항상 층이 가득 차기를 원한다. 부동태화 기능이 있는 작은 분자는 빈 공간에 삽입될 수 있는 일종의 사각형으로, 삽입되면 완전한 층이 얻어진다. 이러한 분자들은 일반적으로 단일 전자쌍 또는 파이 전자를 가지고 있어 셀 필름 표면의 결함 상태에 결합하여 재료의 부동태화를 달성할 수 있다. 따라서 카보닐기, 질소 함유 분자, 및 황 함유 분자와 같은 분자들이 고려되며, 최근에는 π 전자가 또한 역할을 할 수 있음이 밝혀졌다.
또한, 부동태화는 페로브스카이트 셀의 광전 변환 효율을 향상시킬 뿐만 아니라 장치 안정성 향상에도 기여한다. 예를 들어, 수 나노미터 두께의 부동태층을 추가하면 수증기 침투를 막는 효과로 효과적인 부동태화를 달성할 수 있다.
하드마스크(hardmask)는 반도체 공정에서 폴리머 또는 기타 유기 "소프트" 레지스트 재료 대신 에칭 마스크로 사용되는 재료이다.
하드마스크는 에칭되는 재료 자체가 유기 고분자일 때 필요하다. 이 재료를 에칭하는 데 사용되는 모든 것은 패터닝을 정의하는 데 사용되는 포토레지스트도 유기 고분자이기 때문에 함께 에칭할 것이다. 이는 예를 들어, VLSI 제작에 사용되는 저유전율 유전체 절연층의 패터닝에서 발생한다. 폴리머는 산소, 플루오린, 염소 (원소) 및 플라즈마 에칭에 사용되는 다른 반응성 가스에 의해 쉽게 에칭되는 경향이 있다.
하드마스크 사용에는 추가 증착 공정이 수반되므로 추가 비용이 발생한다. 먼저, 하드마스크 재료가 증착되고 표준 포토레지스트 공정을 사용하여 필요한 패턴으로 에칭된다. 이어서 하드마스크를 통해 아래 재료를 에칭할 수 있다. 마지막으로 하드마스크는 추가 에칭 공정으로 제거된다.
하드마스크 재료는 금속 또는 유전체일 수 있다. 이산화 규소 또는 탄화 규소와 같은 규소 기반 마스크는 일반적으로 저유전율 유전체를 에칭하는 데 사용된다. 그러나 구리 인터커넥트를 절연하는 데 사용되는 재료인 SiOCH(탄소 도핑된 수소화 이산화 규소)는 규소 화합물을 공격하는 에천트를 필요로 한다. 이 재료의 경우 금속 또는 비정질 탄소 하드마스크가 사용된다. 하드마스크에 가장 일반적인 금속은 질화 티타늄이지만 질화 탄탈륨도 사용되었다.
반응성 이온 에칭(reactive-ion etching, RIE)은 미세가공에 사용되는 에칭 기술이다. RIE는 습식 식각과는 다른 특성을 가진 건식 식각의 일종이다. RIE는 화학적으로 반응하는 플라스마를 사용하여 웨이퍼에 증착된 재료를 제거한다. 플라스마는 낮은 압력(진공)에서 전자기장에 의해 생성된다. 플라스마에서 나오는 고에너지 이온은 웨이퍼 표면을 공격하고 반응한다.
일반적인 (평행판) RIE 시스템은 원통형 진공 챔버로 구성되며, 챔버 하단에 웨이퍼 플래터가 위치한다. 웨이퍼 플래터는 챔버의 나머지 부분과 전기적으로 절연되어 있다. 가스는 챔버 상단의 작은 흡입구를 통해 유입되고 하단을 통해 진공펌프 시스템으로 배출된다. 사용되는 가스의 종류와 양은 에칭 공정에 따라 다르다. 예를 들어, 육플루오린화 황은 일반적으로 규소 에칭에 사용된다. 가스 압력은 일반적으로 가스 유량을 조절하거나 배기 오리피스를 조절하여 몇 밀리토르에서 몇 백 밀리토르 사이로 유지된다.
유도 결합 플라스마(ICP) RIE를 포함한 다른 유형의 RIE 시스템도 존재한다. 이 유형의 시스템에서는 무선주파수(RF) 전력 자기장으로 플라스마가 생성된다. 매우 높은 플라스마 밀도를 달성할 수 있지만, 에칭 프로파일은 더 등방성적인 경향이 있다.
평행판과 유도 결합 플라스마 RIE를 조합하는 것도 가능하다. 이 시스템에서 ICP는 에칭 속도를 높이는 고밀도 이온원으로 사용되는 반면, 기판(실리콘 웨이퍼)에는 별도의 RF 바이어스가 인가되어 기판 근처에 방향성 전기장을 생성하여 보다 비등방성 에칭 프로파일을 얻는다. 기판에 가해지는 RF 전력은 종종 '플래튼 전력'이라고 불리는 조절 가능한 매개변수이며, 표면을 폭격하는 이온의 에너지를 제어한다.
플라스마는 웨이퍼 플래터에 강한 RF(무선주파수) 전자기장을 가하여 시스템에서 시작된다. 필드는 일반적으로 13.56 메가헤르츠 주파수로 설정되며, 수백 와트로 인가된다. 진동하는 전기장은 가스 분자의 전자를 벗겨내어 이온화하여 플라스마를 생성한다.
필드의 각 주기에서 전자들은 챔버 내에서 위아래로 전기적으로 가속되며, 때로는 챔버의 위쪽 벽과 웨이퍼 플래터 모두에 부딪힌다. 동시에 훨씬 더 무거운 이온들은 RF 전기장에 상대적으로 거의 움직이지 않는다. 전자들이 챔버 벽에 흡수되면 단순히 접지로 배출되며 시스템의 전자 상태를 변경하지 않는다. 그러나 웨이퍼 플래터에 증착된 전자들은 DC 절연으로 인해 플래터에 전하를 축적하게 한다. 이 전하 축적은 플래터에 일반적으로 수백 볼트 정도의 큰 음전압을 발생시킨다. 플라스마 자체는 자유 전자에 비해 양이온 농도가 높기 때문에 약간의 양전하를 띠게 된다.