Pressures of a few torr and small electrode spacings, and/or dual frequency deposition, are helpful to achieve high deposition rates with good film stability.
Tlaky od niekoľkých torrov a malé vzdialenosť medzi elektródami alebo nanášanie dvoma frekvenciami je užitočné na dosiahnutie vysokých rýchlostí nanášania vrstiev s dobrou stabilitou filmu.