The iridium layer, which had to be smooth to within a few atoms, was applied by depositing iridium vapor under high vacuum on a base layer of chromium.
Слој на иридиум, кој мораше да биде мазен во рамките на неколку атоми, беше нанесен со депонирање на пареата на иридиум под висок вакуум на база на слој на хром.