Fotoelastisitas

Fotoelastisitas dapat diterapkan baik untuk polas tres tiga dimensi dan dua dimensi . Namun penerapan photoelastisitas ke pola stres tiga-dimensi lebih sulit dibandingkan dengan keadaan sistem dua dimensi atau 'Plane Stress'. Jadi bagian ini berkaitan dengan penerapan fotoelastisitas dalam penyelidikan dari sistem 'Plane Stress'. Kondisi ini dicapai ketika ketebalan prototipe jauh lebih kecil dibandingkan dengan dimensi di 'Plane'. Jadi satu hanya berkaitan dengan tekanan yang sejajar dengan bidang model, sebagai komponen stres lainnya adalah nol. Pengaturan eksperimental bervariasi dari percobaan untuk bereksperimen. Dua jenis dasar pengaturan yang digunakan adalah pesawat polariskop dan polariskop lingkaran.