Fotolitografi

6. Pengembangan
"Photoresist" akan menjadi asam jika terpancar cahaya ("photoresist" positif) dan sebaliknya pada "photoresist" negatif. Untuk menghilangkan "photoresist" yang menjadi asam, digunakan larutan basa seperti NaOH. "Wafer" diputar dan pada saat yang sama "wafer" disemprot dengan NaOH.