Fotolitografi

Kecepatan perputaran "wafer", waktu, jumlah, dan cara menyemprotkan "photoresist" ke permukaan wafer sangat menentukan kualitas dan ketebalan dari "photoresist" dipermukaan "wafer". Ketebalan "photoresist" diusahakan merata antara bagian tengah dan tepi dari "wafer". Pemutaran "wafer" dan penyemprotan "photoresist" secara otomatis akan meningkatkan kualitas dari penyebaran "photoresist".