Antiblok (aditif)

Penggunaan antiblok sekaligus memecahkan dua masalah utama yang sering dihadapi dalam industri perfilman (baik selama pembuatan atau penggunaan):
Untuk menghindari risiko lengket saat terjadi kontak, "partikulat" dimasukan kedalam film dengan konsentrasi yang sangat tipis.
Dengan maksud memberikan lapisan pada permukaan, untuk meminimalkan area kontak pada lapisan film; jarak antara lembaran film dimaksimalkan dan elektrostatik dapat ditekan.
Mineral yang digunakan dalam aplikasi ini, harus tidak berdapak terhadap sifat mekanik film itu sendiri; tidak memberi dampak berkabut, warna, sehingga mengurangi kejernihan dan kilau ("glossy") dari lembaran filmnya.
Beberapa mineral yang digunakan untuk tujuan ini seperti: talek, kaolin dikasinasi, kristobalit, endapan silika, tanah diatom ("diatomaceous earth"), mika, kalsium karbonat, kalsium sulfat (anhidrit), magnesium karbonat, magnesium sulfat, dan feldspars.
Alternatif organik yang digunakan untuk anti-blocking atau anti "stick" adalah amida, amida asam lemak, asam lemak, garam asam lemak, Silikon, atau yang lainnya.
Mekanisme kerja "antiblocking" organik, berbeda dengan antiblocking anorganik.
aditif anorganik, bermigrasi ke permukaan film saat proses pendinginan berlangsung dan membentuk lapisan pelepas.
aditive organik memiliki sifat pemblokiran yang kurang bagus dibanding dengan anorganik, tetapi memiliki efek slip yang lebih baik.