**Silikon nitrida** adalah senyawa kimia dari unsur silikon dan nitrogen, dengan rumus Si. Ini adalah padatan putih dengan titik lebur tinggi yang relatif inert secara kimiawi. Ia dapat diserang oleh HF encer dan H panas. Si sangat keras (8,5 pada skala Mohs). Ini adalah nitrida silikon yang paling stabil secara termodinamika dari. Oleh karena itu, Si adalah nitrida silikon yang paling penting secara komersial dan umumnya dipahami sebagai apa yang disebut di mana istilah "silikon nitrida" digunakan.

Produksi
--------

Material ini disiapkan dengan memanaskan silikon bubuk antara 1300 °C dan 1400 °C dalam atmosfer nitrogen:

{\displaystyle {\ce {3Si + 2N2 -> Si3N4}}}
Bobot sampel silikon meningkat secara progresif karena kombinasi kimia antara silikon dan nitrogen. Tanpa katalis besi, reaksinya selesai setelah beberapa jam (~7), bila tidak terdeteksi kenaikan berat lebih lanjut akibat penyerapan nitrogen (per gram silikon). Selain Si, beberapa fase nitrida silikon lainnya (dengan rumus kimia yang sesuai dengan berbagai tingkat nitratasi/keadaan oksidasi Si) telah dilaporkan dalam literatur. Misalnya, gas disilikon mononitrida (Si); silikon mononitrida (SiN), dan silikon seskuinitrida (Si), yang masing-masing merupakan fase stoikiometri. Seperti halnya refraktori lainnya, produk yang diperoleh melalui sintesis suhu tinggi ini bergantung pada kondisi reaksi (misalnya waktu, suhu, dan bahan awal termasuk reaktan dan bahan wadah), serta cara pemurnian. Namun, keberadaan seskuinitrida sejak itu mulai dipertanyakan.

Ini juga bisa disiapkan melalui jalur diimida:

{\displaystyle {\ce {SiCl4{}+6NH3->Si(NH)2{}+4NH4Cl\_{(s)}\ {\mathit {pada}}\ {\mathit {0^{o}C}}}}}
{\displaystyle {\ce {3Si(NH2)->Si3N4{}+N2{}+3H2\_{(g)}\ {\mathit {pada}}\ {\mathit {1000^{o}C}}}}}
Reduksi karbotermal silikon dioksida dalam atmosfer nitrogen pada 1400-1450 °C juga telah diteliti:

{\displaystyle {\ce {3SiO2 + 6C + 2N2 -> Si3N4 + 6CO}}}
Nitridasi serbuk silikon dikembangkan pada tahun 1950an, mengikuti "penemuan kembali" silikon nitrida dan merupakan metode berskala besar pertama untuk produksi bubuk. Namun, penggunaan silikon mentah dengan kemurnian rendah menyebabkan silikon nitrida terkontaminasi dengan silikat dan besi. Dekomposisi diimida menghasilkan silikon nitrida amorf, yang memerlukan penguatan lebih lanjut di bawah nitrogen pada 1400-1500 °C untuk mengubahnya menjadi bubuk kristal; ini sekarang merupakan rute terpenting kedua untuk produksi komersial. Reduksi karbotermal adalah metode yang paling awal digunakan untuk produksi silikon nitrida dan sekarang dianggap sebagai rute industri yang paling hemat biaya untuk silikon nitrida dengan kemurnian tinggi.

Film silikon nitrida kelas elektronik dibentuk dengan menggunakan deposisi uap kimia (*chemical vapor deposition*, CVD), atau salah satu variannya, seperti *Plasma-enhanced chemical vapor deposition* (PECVD):

{\displaystyle {\ce {{3SiH4\_{(}g)}+4NH3\_{(}g)->{Si3N4\_{(}s)}+{12H2\_{(}g)}\ {\mathit {pada}}\ {\mathit {750-850^{o}C}}}}}
{\displaystyle {\ce {{3SiCl4\_{(}g)}+{4NH3\_{(}g)}->{Si3N4\_{(}s)}+{12HCl\_{(}g)}}}}
{\displaystyle {\ce {{3SiCl2H2\_{(}g)}+{4NH3\_{(}g)}->{Si3N4\_{(}s)}+{6HCl\_{(}g)}+{6H2\_{(}g)}}}}
Untuk pengendapan lapisan silikon nitrida pada substrat semikonduktor (biasanya silikon), digunakan dua metode:

1. Teknologi deposisi uap kimia bertekanan rendah (*Low pressure chemical vapor deposition*, LPCVD), yang bekerja pada suhu agak tinggi dan dilakukan baik dalam tungku tabung vertikal atau horizontal, atau
2. Teknologi *plasma-enhanced chemical vapor deposition* (PECVD), yang bekerja pada kondisi suhu dan vakum yang agak rendah.

Konstanta kisi silikon nitrida dan silikon berbeda. Oleh karena itu, ketegangan atau stres dapat terjadi, tergantung pada proses pengendapan. Apalagi bila menggunakan teknologi PECVD, ketegangan ini bisa dikurangi dengan menyesuaikan parameter deposisi.

Kawat nano silikon nitrida juga dapat diproduksi dengan metode sol-gel yang menggunakan reduksi karbotermal diikuti dengan nitridasi silika gel, yang mengandung partikel karbon ultra halus. Partikel dapat diproduksi dengan dekomposisi dekstrosa pada kisaran suhu 1200-1350 °C. Reaksi sintesis yang mungkin terjadi adalah:

{\displaystyle {\ce {SiO2\_{(s)}{}+ C\_{(s)}-> SiO\_{(g)}{}+ CO\_{(g)}}}}
{\displaystyle {\ce {\mathit {dan}}}}
{\displaystyle {\ce {3 SiO\_{(g)}{}+ 2N2\_{(g)}{}+ 3CO\_{(g)}-> Si3N4\_{(s)}{}+ 3CO2\_{(g)}}}}
{\displaystyle {\ce {\mathit {atau}}}}
{\displaystyle {\ce {3SiO\_{(g)}{}+ 2N2\_{(g)}{}+ 3C\_{(s)}-> Si3N4\_{(s)}{}+ 3CO\_{(g)}}}}

Pengolahan
----------

Silikon nitrida sulit diproduksi sebagai material curah—ia tidak dapat dipanaskan di atas 1850 °C, yang jauh di bawah titik lebur, karena disosiasi dengan silikon dan nitrogen. Oleh karena itu, penerapan teknik pelengketan tekanan panas konvensional bermasalah. Ikatan bubuk silikon nitrida dapat dicapai pada suhu yang lebih rendah dengan menambahkan bahan tambahan (zat pelengket atau "pengikat") yang biasanya menginduksi tingkat sintering fase cair. Alternatif yang lebih bersih adalah dengan menggunakan sintering percikan plasma di mana pemanasan dilakukan dengan sangat cepat (hitungan detik) dengan melewatkan pulsa arus listrik melalui bubuk yang dipadatkan. Silikon nitrida padat telah diperoleh dengan teknik ini pada suhu 1500-1700 °C.

Struktur dan sifat kristal
--------------------------

Atom biru adalah nitrogen dan abu-abu adalah atom silikon* trigonal α-Si3N4.trigonal α-Si3N4.
* heksagonal β-Si3N4heksagonal β-Si3N4
* kubik γ-Si3N4kubik γ-Si3N4

Terdapat tiga struktur [kristalografi] silikon nitrida (Si), yang ditetapkan sebagai fase α, β dan γ. Fase α dan β adalah bentuk yang paling umum dari Si, dan dapat dibuat di bawah kondisi tekanan normal. Fase γ hanya bisa disintesis di bawah tekanan dan suhu tinggi dan memiliki kekerasan 35 GPa.

α- dan β-Si3N4 memiliki struktur trigonal (simbol Pearson hP28, kelompok ruang P31c, No. 159) dan heksagonal (hP14, P63, No. 173), yang dibangun berdasarkan pembagian sudut tetrahedra SiN. Mereka dapat dianggap terdiri dari lapisan atom silikon dan nitrogen dalam urutan ABAB... atau ABCDABCD... masing-masing pada β-Si3N4 dan α-Si3N4. Lapisan AB sama pada fase α dan β, dan lapisan CD dalam fase α berhubungan dengan AB oleh bidang *c-glide*. Tetrahedra Si3N4 dalam β-Si3N4 saling berhubungan sedemikian rupa sehingga terbentuk terowongan, berjalan sejajar dengan sumbu c sel satuan. Karena bidang *c-glide* yang menghubungkan AB dengan CD, struktur α mengandung rongga dan bukan terowongan. γ-Si3N4 kubik sering disebut sebagai modifikasi c dalam literatur, analog dengan modifikasi kubik boron nitrida (c-BN). Ini memiliki struktur tipe spinel di mana dua atom silikon masing-masing mengkoordinasikan enam atom nitrogen secara oktahedral, dan satu atom silikon mengkoordinasikan empat atom nitrogen secara tetrahedral.

Urutan susunan yang lebih panjang menghasilkan fase α yang memiliki kekerasan lebih tinggi daripada fase β. Namun, fase α secara kimia tidak stabil dibandingkan dengan fase β. Pada suhu tinggi ketika terdapat fasa cair, fase α selalu berubah menjadi fase β. Oleh karena itu, β-Si3N4 adalah bentuk utama yang digunakan pada keramik Si3N4.

Aplikasi
--------

Secara umum, isu utama dengan aplikasi silikon nitrida bukan kinerja teknis, tapi biaya. Seiring turunnya biaya, jumlah aplikasi produksi semakin cepat.

### Industri otomotif

Salah satu aplikasi utama silikon nitrida adalah pada industri otomotif sebagai bahan untuk bagian-bagian mesin. Itu termasuk, mesin diesel, sumbat bara untuk start-up lebih cepat; ruang bakar muka (ruang pusaran) untuk emisi yang lebih rendah, start-up lebih cepat dan kebisingan yang lebih rendah; pengisi turbo untuk mengurangi kelambatan mesin dan emisi. Pada mesin penyalaan busi, silikon nitrida digunakan untuk bantalan pelatuk klep untuk keausan yang lebih rendah, pengisi turbo untuk inersia yang lebih rendah dan sedikit kelambatan mesin, serta dalam katup pengendali gas buang untuk meningkatkan akselerasi. Sebagai contoh level produksi, diperkirakan ada lebih dari 300.000 *turbocharger* silikon nitrida yang dibuat setiap tahunnya.

### Bantalan (*Bearing*)

Beragam bearing Si3N4
Bantalan silikon nitrida keduanya merupakan bantalan *full* keramik dan bantalan hibrida keramik dengan gotri terbuat dari keramik dan bantalan pacu terbuat dari baja. Keramik silikon nitrida memiliki ketahanan kejut yang baik dibandingkan dengan keramik lainnya. Oleh karena itu, bantalan gotri yang terbuat dari keramik silikon nitrida digunakan dalam *bearing* berkinerja tinggi. Contoh yang representatif adalah penggunaan bantalan silikon nitrida dalam mesin utama Pesawat ulang-alik NASA.

Oleh karena bantalan gotri silikon nitrida lebih keras daripada logam, maka ini mengurangi kontak dengan jalur bantalan. Hal ini menghasilkan gesekan berkurang 80%, 3 sampai 10 kali lebih tahan lama, kelajuan 80% lebih tinggi, bobot 60% lebih rendah, kemampuan beroperasi dalam kondisi pelumasan kurang, ketahanan korosi yang lebih tinggi dan suhu operasi yang lebih tinggi, dibandingkan dengan bantalan logam tradisional. Gotri silikon nitrida berbobot 79% lebih rendah daripada gotri tungsten karbida. Bantalan gotri silikon nitrida dapat ditemukan di bantalan otomotif *high end*, bantalan industri, turbin angin, motor sport, sepeda, *rollerblade* dan papan luncur. Bantalan silikon nitrida sangat berguna dalam aplikasi dimana korosi, medan listrik atau medan magnet menghindari penggunaan logam. Misalnya, pada meter arus pasang surut, dimana serangan air laut menjadi masalah, atau pada pencari medan listrik.

Si3N4 pertama kali didemonstrasikan sebagai bantalan superior pada tahun 1972 namun tidak mencapai produksi sampai hampir tahun 1990 karena tantangan yang terkait dengan pengurangan biaya. Sejak tahun 1990, biaya telah berkurang secara substansial karena volume produksi meningkat. Meskipun bantalan Si3N4 masih 2-5 kali lebih mahal daripada bantalan baja terbaik, kinerja dan daya tahan superior mereka membenarkan adopsi yang cepat. Sekitar 15-20 juta bantalan gotri Si3N4 diproduksi di A.S. pada tahun 1996 untuk peralatan mesin dan banyak aplikasi lainnya. Pertumbuhannya diperkirakan mencapai 40% per tahun, namun bisa lebih tinggi lagi jika bantalan keramik terpilih untuk aplikasi konsumen seperti sepatu roda *in-line* (*rollerblade*) dan *disk drive* komputer.

### Bahan suhu tinggi

Pendorong silikon nitrida. Kiri: Dipasang pada panggung uji. Kanan: diuji dengan propelan H2O2
Silikon nitrida telah lama digunakan pada aplikasi suhu tinggi. Secara khusus, ia diidentifikasi sebagai salah satu dari beberapa bahan keramik monolitik yang mampu bertahan dari sengatan termal yang parah dan gradien termal yang dihasilkan pada mesin roket hidrogen/oksigen. Untuk menunjukkan kemampuan ini dalam konfigurasi yang kompleks, ilmuwan NASA menggunakan teknologi prototip canggih yang canggih untuk membuat komponen ruang bakar/nosel (pendorong) tunggal berdiameter satu inci. Pendorongnya adalah api panas yang diuji dengan propelan hidrogen/oksigen dan bertahan selama lima siklus termasuk siklus 5 menit sampai suhu material 1320 °C.

Pada tahun 2010 silikon nitrida digunakan sebagai bahan utama dalam pendorong wahana luar angkasa JAXA, Akatsuki.

### Medis

Silikon nitrida memiliki banyak aplikasi ortopedi. Bahan ini juga merupakan alternatif dari PEEK (polieter eter keton) dan titanium, yang digunakan untuk perangkat fusi spinal. Permukaan mikrotekstur dan hidrofilik silikon nitrida berkontribusi pada kekuatan, daya tahan, dan ketangguhan bahan dibandingkan PEEK dan titanium.

### Alat pengolah dan pemotong logam

Aplikasi besar pertama dari Si3N4 adalah alat abrasif dan pemotong. Silikon nitrida monolitik banyak digunakan sebagai bahan untuk alat pemotong, karena kekerasannya, stabilitas termal, dan ketahanannya terhadap keausan. Hal ini terutama direkomendasikan untuk permesinan besi tuang berkecepatan tinggi. Kekerasan saat dipanaskan, ketangguhan terhadap keretakan dan ketahanan terhadap sengatan termal berarti bahwa silikon nitrida disinter dapat memotong besi tuang, baja keras dan paduan berbasis nikel dengan kecepatan permukaan hingga 25 kali lebih cepat daripada yang diperoleh dengan bahan konvensional seperti tungsten karbida. Penggunaan alat pemotong Si3N4 berdampak dramatis pada output manufaktur. Misalnya, penggilingan muka besi cor abu-abu dengan sisipan silikon nitrida menggandakan kecepatan pemotongan, meningkatkan umur alat dari satu bagian menjadi enam bagian per tepi, dan mengurangi biaya sisipan rata-rata hingga 50%, dibandingkan dengan alat tungsten karbida tradisional.

### Elektronik

Contoh oksidasi silikon lokal melalui penopengan Si3N4
Silikon nitrida sering digunakan sebagai isolator dan penghalang kimiawi di bidang manufaktur sirkuit terpadu, untuk mengisolasi secara elektrik struktur yang berbeda atau sebagai masker etsa dalam permesinan mikro curah. Sebagai lapisan pasivasi, silikon nitrida lebih unggul daripada silikon dioksida, karena ia lebih baik secara signifikan sebagai penghalang difusi terhadap molekul air dan ion natrium, dua sumber utama korosi dan ketidakstabilan dalam mikroekektronika. Ia juga digunakan sebagai dielektrik antara lapisan polisilikon pada kapasitor dalam chip analog.

Penopang Si3N4 yang digunakan dalam mikroskop daya atom
Silikon nitrida yang diendapkan oleh LPCVD mengandung hidrogen hingga 8%. Ia juga menunjukkan kuat tarik, yang dapat memecahkan film yang lebih tebal dari 200 nm. Namun, ia memiliki resistivitas dan kekuatan dielektrik yang lebih tinggi daripada kebanyakan isolator yang biasa digunakan dalam mikrofabrikasi (masing-masing 1016 Ω·cm dan 10 MV/cm).

Tidak hanya silikon nitrida, tapi juga berbagai senyawa terner dari silikon, nitrogen dan hidrogen (SiNxHy) digunakan untuk lapisan isolasi. Mereka adalah plasma yang diendapkan dengan menggunakan reaksi berikut:

{\displaystyle {\ce {2SiH4\_{(g)}{}+ N2\_{(g)}-> 2SiNH\_{(s)}{}+ 3H2\_{(g)}}}}
{\displaystyle {\ce {SiH4\_{(g)}{}+ NH3\_{(g)}-> SiNH\_{(s)}{}+ 3H2\_{(g)}}}}
Film-film SiNH ini memiliki kuat tarik yang jauh lebih sedikit, namun sifat listrik yang lebih buruk (resistivitas 106 sampai 1015 Ω·cm, dan kekuatan dielektrik 1 sampai 5 MV/cm).

Silikon nitrida juga digunakan dalam proses xerografi sebagai salah satu lapisan drum foto. Silikon nitrida juga digunakan sebagai sumber pengapian untuk peralatan gas rumah tangga. Karena sifat elastisnya yang baik, silikon nitrida, bersama dengan silikon dan silikon oksida, adalah bahan yang paling populer untuk kantilever — unsur penginderaan pada mikroskop gaya atom.

Sejarah
-------

Preparasi silikon nitrida pertama dilaporkan pada tahun 1857 oleh Henri Etienne Sainte-Claire Deville dan Friedrich Wöhler. Dalam metode mereka, silikon dipanaskan dalam krus yang dimasukkan ke dalam krus lain yang dikemas dengan karbon untuk mengurangi permeasi oksigen ke krus bagian dalam. Mereka melaporkan produk yang mereka sebut silikon nitrida namun tanpa menentukan komposisi kimianya. Paul Schuetzenberger pertama kali melaporkan sebuah produk dengan komposisi tetranitrida, Si3N4, pada tahun 1879 yang diperoleh dengan memanaskan silikon dengan *brasque* (pasta yang dibuat dengan mencampur arang, batubara , atau kokas dengan tanah liat yang kemudian digunakan untuk mencocokkan krus lebur) pada tanur tinggi. Pada tahun 1910, Ludwig Weiss dan Theodor Engelhardt memanaskan silikon di bawah nitrogen murni untuk menghasilkan Si3N4. E. Friederich dan L. Sittig membuat Si3N4 pada tahun 1925 melalui reduksi karbotermal di bawah kondisi nitrogen, yaitu, dengan memanaskan silika, karbon, dan nitrogen pada suhu 1250–1300 °C.

Silikon nitrida tetap menjadi keingintahuan kimia selama beberapa dekade sebelum digunakan dalam aplikasi komersial. Dari tahun 1948 sampai 1952, Perusahaan Carborundum, Niagara Falls, New York, mengajukan beberapa paten untuk pembuatan dan aplikasi silikon nitrida. Pada tahun 1958 Haynes (Union Carbide) silikon nitrida diproduksi secara komersial untuk tabung termokopel, nozel roket, dan kapal serta krus untuk mencairkan logam. Karya bangsa Inggris pada silikon nitrida, dimulai pada tahun 1953, menyasar pada bagian suhu tinggi turbin gas dan menghasilkan pengembangan silikon nitrida *reaction-bonded* dan silikon nitrida *hot-pressed*. Pada tahun 1971, *Advanced Research Project Agency* Departemen Pertahanan AS menempatkan kontrak senilai 17 juta dolar AS dengan Ford dan Westinghouse untuk dua turbin gas keramik.

Meskipun sifat silikon nitrida dikenal dengan baik, keterjadian alaminya hanya dijumpai pada tahun 1990an, sebagai inklusi renik (ukurannya sekitar 2 µm × 0.5 µm) dalam meteorit. Mineral itu dinamai nierite sesuai nama pelopor spektrometri massa, Alfred O. C. Nier. Mineral ini mungkin telah terdeteksi lebih awal, lagi-lagi eksklusif dalam meteorit, oleh geolog Soviet

Referensi
---------

1. 1 2 3 4  Haynes, William M. ed. (2011). *CRC Handbook of Chemistry and Physics* (edisi ke-92). Boca Raton, FL: CRC Press. hlm. 4.88. ISBN 1439855110.
2. ↑  Refractive index database. refractiveindex.info
3. ↑  ITEM # SI-501, SILICON NITRIDE POWDER MSDS. metal-powders-compounds.micronmetals.com
4. ↑  Mellor, Joseph William (1947). *A Comprehensive Treatise on Inorganic and Theoretical Chemistry*. **8**. Longmans, Green and Co. hlm. 115–7. OCLC 493750289.
5. ↑  Carlson, O. N. (1990). "The N-Si (Nitrogen-Silicon) system". *Bulletin of Alloy Phase Diagrams*. **11** (6): 569. doi:10.1007/BF02841719.
6. 1 2 3 4 5 6 7  Riley, Frank L. (2004). "Silicon Nitride and Related Materials". *Journal of the American Ceramic Society*. **83** (2): 245. doi:10.1111/j.1151-2916.2000.tb01182.x.
7. 1 2 3 4 5  Nishi, Yoshio; Doering, Robert (2000). *Handbook of semiconductor manufacturing technology*. CRC Press. hlm. 324–325. ISBN 0-8247-8783-8.
8. ↑  Morgan, D. V.; Board, K. (1991). *An Introduction To Semiconductor Microtechnology* (edisi ke-2nd). Chichester, West Sussex, England: John Wiley & Sons. hlm. 27. ISBN 0471924784.  Parameter `|access-date=` membutuhkan `|url=` (bantuan)
9. ↑  "Crystec Technology Trading GmbH, Comparison of vertical and horizontal tube furnaces in the semiconductor industry". *crystec.com*. Diakses tanggal 2009-06-06.
10. ↑  "Crystec Technology Trading GmbH, deposition of silicon nitride layers". Diakses tanggal 2009-06-06.
11. ↑  Ghosh Chaudhuri, Mahua; Dey, Rajib; Mitra, Manoj K.; Das, Gopes C.; Mukherjee, Siddhartha (2008). "A novel method for synthesis of α-Si3N4 nanowires by sol-gel route". *Science and Technology of Advanced Materials*. **9** (1): 5002. Bibcode:2008STAdM...9a5002G. doi:10.1088/1468-6996/9/1/015002. PMC 5099808 alt=Dapat diakses gratis. PMID 27877939.
12. 1 2 3 4  "Silicon Nitride – An Overview". *azom.com*. Diakses tanggal 2009-06-06.
13. ↑  Nishimura, T.; Xu, X.; Kimoto, K.; Hirosaki, N.; Tanaka, H. (2007). "Fabrication of silicon nitride nanoceramics—Powder preparation and sintering: A review". *Science and Technology of Advanced Materials*. **8** (7–8): 635. Bibcode:2007STAdM...8..635N. doi:10.1016/j.stam.2007.08.006.
14. ↑  Peng, p. 38
15. ↑  "Crystal structures of Si3N4". *hardmaterials.de*. Diakses tanggal 2009-06-06.
16. ↑  Jiang, J.Z.; Kragh, F.; Frost, D.J.; Ståhl, K.; Lindelov, H. (2001). "Hardness and thermal stability of cubic silicon nitride". *Journal of Physics: Condensed Matter*. **13** (22): L515. Bibcode:2001JPCM...13L.515J. doi:10.1088/0953-8984/13/22/111.
17. ↑  "Properties of gamma-Si3N4". Diarsipkan dari versi asli tanggal July 15, 2006. Diakses tanggal 2009-06-06.
18. ↑  Peng, pp. 1-3
19. ↑  Zhu, Xinwen; Sakka, Yoshio (2008). "Textured silicon nitride: Processing and anisotropic properties". *Science and Technology of Advanced Materials*. **9** (3): 3001. Bibcode:2008STAdM...9c3001Z. doi:10.1088/1468-6996/9/3/033001. PMC 5099652 alt=Dapat diakses gratis. PMID 27877995.
20. 1 2 3 4 5  Richerson, David W.; Freita, Douglas W. "Ceramic Industry". *Opportunities for Advanced Ceramics to Meet the Needs of the Industries of the Future*. Oak Ridge National Laboratory. OCLC 692247038.
21. ↑  "Ceramic Balls Increase Shuttle Engine Bearing Life". NASA. Diarsipkan dari versi asli tanggal 2009-06-12. Diakses tanggal 2009-06-06.
22. ↑  "Space Shuttle Main Engine Enhancements". NASA. Diakses tanggal 2009-06-06.
23. ↑  Eckel, Andrew J. (1999). "Silicon Nitride Rocket Thrusters Test Fired Successfully". NASA. Diarsipkan dari versi asli tanggal April 4, 2009.
24. ↑  Orbit Control Maneuver Result of the Venus Climate Orbiter 'AKATSUKI'. JAXA (2010-07-06)
25. ↑  Olofsson, Johanna; Grehk, T. Mikael; Berlind, Torun; Persson, Cecilia; Jacobson, Staffan; Engqvist, Håkan (2012). "Evaluation of silicon nitride as a wear resistant and resorbable alternative for total hip joint replacement". *Biomatter*. **2** (2): 94–102. doi:10.4161/biom.20710. PMC 3549862 alt=Dapat diakses gratis. PMID 23507807.
26. 1 2  Mazzocchi, M; Bellosi, A (2008). "On the possibility of silicon nitride as a ceramic for structural orthopaedic implants. Part I: Processing, microstructure, mechanical properties, cytotoxicity". *Journal of Materials Science: Materials in Medicine*. **19** (8): 2881–7. doi:10.1007/s10856-008-3417-2. PMID 18347952.
27. 1 2  Webster, T.J.; Patel, A.A.; Rahaman, M.N.; Sonny Bal, B. (2012). "Anti-infective and osteointegration properties of silicon nitride, poly(ether ether ketone), and titanium implants". *Acta Biomaterialia*. **8** (12): 4447–54. doi:10.1016/j.actbio.2012.07.038. PMID 22863905.
28. ↑  Anderson, MC; Olsen, R (2010). "Bone ingrowth into porous silicon nitride". *Journal of biomedical materials research. Part A*. **92** (4): 1598–605. doi:10.1002/jbm.a.32498. PMID 19437439.
29. ↑  Arafat, Ahmed; Schroën, Karin; De Smet, Louis C. P. M.; Sudhölter, Ernst J. R.; Zuilhof, Han (2004). "Tailor-Made Functionalization of Silicon Nitride Surfaces". *Journal of the American Chemical Society*. **126** (28): 8600–1. doi:10.1021/ja0483746. PMID 15250682.
30. ↑  Pierson, Hugh O. (1992). *Handbook of chemical vapor deposition (CVD)*. William Andrew. hlm. 282. ISBN 0-8155-1300-3.
31. ↑  Sze, S.M. (2008). *Semiconductor devices: physics and technology*. Wiley-India. hlm. 384. ISBN 81-265-1681-X.
32. ↑  Schein, L.B. (1988). *Electrophotography and Development Physics, Springer Series in Electrophysics*. **14**. Springer-Verlag, Berlin. ISBN 978-3-642-97085-6. [*halaman dibutuhkan*]
33. ↑  Levinson, L. M. *et al.* (17 April 2001) "Ignition system for a gas appliance" U.S. Patent 6.217.312
34. ↑  Ohring, M. (2002). *The materials science of thin films: deposition and structure*. Academic Press. hlm. 605. ISBN 0-12-524975-6.
35. ↑  "Ueber das Stickstoffsilicium". *Annalen der Chemie und Pharmacie*. **104** (2): 256. 1857. doi:10.1002/jlac.18571040224.
36. ↑  Weiss, L. & Engelhardt, T (1910). "Über die Stickstoffverbindungen des Siliciums". *Z. Anorg. Allg. Chem*. **65** (1): 38–104. doi:10.1002/zaac.19090650107.
37. ↑  Carter, C. Barry & Norton, M. Grant (2007). *Ceramic Materials: Science and Engineering*. Springer. hlm. 27. ISBN 0-387-46270-8.
38. ↑  Lee, M. R.; Russell, S. S.; Arden, J. W.; Pillinger, C. T. (1995). "Nierite (Si3N4), a new mineral from ordinary and enstatite chondrites". *Meteoritics*. **30** (4): 387. Bibcode:1995Metic..30..387L. doi:10.1111/j.1945-5100.1995.tb01142.x.
39. ↑  "Nierite". Mindat. Diakses tanggal 2009-08-08.

Sumber kutipan
--------------


Wikimedia Commons memiliki media mengenai ***Silikon nitrida***.

* Peng, Hong (2004). *Spark Plasma Sintering of Si3N4-based Ceramics: Sintering mechanism-Tailoring microstructure-Evaluating properties* (PhD thesis). Stockholm University. ISBN 978-91-7265-834-9.

  


| * l
* b
* s
Molekul terdeteksi di luar angkasa |
| --- |
| Molekul | 

|  |  |  |
| --- | --- | --- |
| Diatomik | 
* Aluminium monoklorida
* Aluminium monofluorida
* Aluminium monoksida
* Argonium
* Karbon monofosfida
* Karbon monosulfida
* Karbon monoksida
* Karborundum
* Radikal sianogen
* Karbon diatomik
* Fluorometilidinium
* Ion helium hidrida
* Hidrogen klorida
* Hidrogen fluorida
* Hidrogen (molekuler)
* Radikal hidroksil
* Besi(II) oksida
* Kation magnesium monohidrida
* Radikal metilidina
* Nitrogen oksida
* Nitrogen (molekuler)
* Nitrogen monohidrida
* Nitrogen sulfida
* Oksigen (molekuler)
* Fosfor monoksida
* Fosfor mononitrida
* Kalium klorida
* Silikon karbida
* Silikon mononitrida
* Silikon monoksida
* Silikon monosulfida
* Natrium klorida
* Natrium iodida
* Belerang monohidrida
* Belerang monoksida
* Titanium oksida

 |      |
| Triatomik | 
* Aluminium hidroksida
* Aluminium isosianida
* Radikal amino
* Karbon dioksida
* Karbonil sulfida
* Radikal CCP
* Kloronium
* Diazenilium
* Dikarbon monoksida
* Disilikon karbida
* Radikal etunil
* Radikal formil
* Hidrogen sianida (HCN)
* Hidrogen isosianida (HNC)
* Hidrogen sulfida
* Hidroperoksil
* Besi sianida
* Isoformil
* Magnesium sianida
* Magnesium isosianida
* Radikal metilena
* N2H+
* Dinitrogem oksida
* Nitroksil
* Ozon
* Fosfaetuna
* Kalium sianida
* Hidrogem molekuler terprotonasi
* Natrium sianida
* Natrium hidroksida
* Silikon karbonitrida
* c-Silikon dikarbida
* Silikon naftalosianina
* Belerang dioksida
* Tioformil
* Tioksoetenilidena
* Titanium dioksida
* Trikarbon
* Air

 |
| Empatatom | 
* Asetilena
* Amonia
* Asam sianat
* Sianoetinil
* Siklopropinilidina
* Formaldehida
* Asam fulminat
* HCCN
* Hidrogen peroksida
* Hidromagnesium isosianida
* Asam isosianat
* Asam isotiosianat
* Ketenil
* Metilena amidogen
* Radikal metil
* Propinilidina
* Karbon dioksida terprotonasi
* Hidrogen sianida terprotonasi
* Silikon trikarbida
* Tioformaldehida
* Trikarbon monoksida
* Trikarbon sulfida
* Asam tiosianat

 |
| Limaatom | 
* Ion amonium ion
* Butadiunil
* Karbodiimida
* Sianamida
* Sianoasetilena
* Sianoformaldehida
* Sianometil
* Siklopropenilidena
* Asam format
* Isosianoasetilena
* Ketena
* Metana
* Radikal metoksi
* Metilenimina
* Propadienilidena
* Formaldehida terprotonasi
* Formaldehida terprotonasi
* Silana
* Cluster silikon-karbida

 |
| Enamatom | 
* Asetonitril
* Radikal sianobutadiunil
* E-Sianometanimina
* Siklopropenon
* Diasetlena
* Etilena
* Formamida
* HC4N
* Ketenimina
* Metanatiol
* Metanol
* Metil isosianida
* Pentunilidina
* Propunal
* Sianoasetilena terprotonasi

 |
| Tujuhatom | 
* Asetaldehida
* Akrilonitril
* Sianodiasetilena
* Etilena oksida
* Radikal heksatriunil
* Metilasetilena
* Metilamina
* Metil isosianat
* Vinil alkohol

 |
| Delapanatom | 
* Asam asetat
* Aminoasetonitril
* Sianoalena
* Etanimina
* Glikolaldehida
* Radikal heptatrienil
* Heksapentaenilidena
* Metilsianoasetilena
* Metil format
* Propenal

 |
| Sembilanatom | 
* Asetamida
* Sianoheksatriuna
* Sianotriasetilena
* Dimetil eter
* Etanol
* Metildiasetilens
* Radikal oktatetraunil
* Propena
* Propionitril

 |
| Sepuluhatomatau lebih | 
* Aseton
* Benzena
* Buckminsterfullerene (C60 fullerene, buckyball)
* C70 fulerena
* Sianodekapentauna
* Sianopentaasetilena
* Sianotetra-asetilena
* Etilena glikol
* Etil format
* Metil asetat
* Metil-siano-diasetilena
* Metiltriasetilena
* Propanal
* n-Propil sianida
* Pirimidina

 |

 |
| Molekulterdeuterasi | 
* Amonia
* Ion amonium
* Formaldehida
* Radikal formil
* Air berat
* Hidrogen sianida
* Hidrogen deuterida
* Hidrogen isosianida
* Metilasetilena
* N2D+
* Kation trihidrogen

 |
| Belum dikonfirmasi | 
* Antrasena
* Dihidroksiaseton
* Etil metil eter
* Glisin
* Grafena
* H2NCO+
* Linear C5
* Kation naftalena
* Fosfin
* Pirena
* Sililidina

 |
| Terkait | 
* Abiogenesis
* Astrobiologi
* Astrokimia
* Astrofisika atomik dan molekul
* Rumus kimia
* Sungkup lingkar bintang
* Debu kosmik
* Sinar kosmik
* Kosmokimia
* Pita antarbintang terdifusi
* Kehidupan ekstraterestrial
* Air cairan ekstraterestrial
* Mekanisme terlarang
* Ion helium hidrida
* Homokiralitas
* Debu antargalaksi
* Medium antarplanet
* Medium antarbintang
* Daerah fotodisosiasi
* Teori dunia besi-belerang
* Kerogen
* Molekul pada bintang
* Nexus for Exoplanet System Science
* Senyawa organik
* Ruang angkasa
* Hipotesis dunia PAH
* Panspermia
* Hidrokarbon aromatik polisiklik (PAH)
* Hipotesis dunia RNA
* Spektroskopi
* Tholin

 |
| 
* **Wikipedia book Buku:Kimia**
* **Category Kategori:Astrokimia**
* **Category Kategori:Molekul**
* **Portal Portal:Astrobiologi**
* **Portal Portal:Astronomi**
* **Portal Portal:Kimia**

 |

| * l
* b
* s
 Senyawa silikon |
| --- |
| Si(II) | 
* SiO
* SiS

 |
| Si(IV) | 
* SiBr4
* SiC
* SiCl4
* SiF4
* SiH4
* SiI4
* SiO2
* SiS2
* Si3N4

 |